KR20160081263A - 액 토출 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액 토출 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 액 토출 유닛은 복수개의 토출 헤드를 포함한다. 토출 헤드는 상부에서 바라볼 때, 각각 서로 상이하고 서로 평행한 열에 배열된 제 1 토출 헤드 및 제 2 토출 헤드를 가진다. 제 1 토출 헤드 및 제 2 토출 헤드는 각각 배열된 열의 중심선을 기준으로 각각에 직선으로 배열되도록 형성된 복수개의 토출구들이 배열된 열이 서로 반대 방향으로 경사지도록 제공된다.

Description

액 토출 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{LIQUID EJECTION UNIT AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING THE SAME}
본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판에 액을 토출하는 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 잉크젯 프린트 장치는 기판 상에 액을 토출하는 토출 헤드를 포함한다. 토출 헤드는 복수개가 제공될 수 있고, 각 토출 헤드는 그 저면에 액이 토출되는 복수개의 토출구가 형성된다.
도 1은 일반적인 토출 헤드의 저면도이다. 도 2은 일반적인 토출 헤드들이 배열된 모습을 나타낸 도면이다. 도 1 및 도 2를 참고하면, 토출 헤드(1)는 그 저면에 복수개가 일 방향으로 배열된 토출구(2)가 형성된다. 일반적으로, 하나의 토출 헤드(1)의 서로 인접한 두개의 토출구 간의 거리(3)와 서로 인접한 두개의 토출 헤드(1)에 각각 형성되되 가장 인접한 토출구(4) 간의 거리는 서로 상이하다. 따라서, 기판 상에 액을 균일하게 토출시키기 위해서, 토출 헤드들을 2열로 배열하고, 각 열에 놓인 토출 헤드들을 각 열의 중심선(5)을 기준으로 동일한 방향으로 경사지게 제공함으로써, 토출구 간의 거리를 균일하게 제공한다. 그러나, 이 경우, 서로 인접한 토출 헤드 간의 양 끝단 간의 거리가 상이하게 제공되므로 액 토출 시 서로 인접한 토출 헤드간의 끝단들 중 보다 먼 거리의 끝단들에 각각 제공된 토출구 간의 토출 시간 차가 길어짐으로써, 먼저 토출된 액과 나중에 토출된 액간의 경화 정도의 차이가 커짐으로 액이 도포된 기판 상에 얼룩이 발생될 수 있다.
본 발명은 인접하는 토출구 간 액이 토출되는 시간 차이를 최소화 시킬 수 있는 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 액이 도포된 기판 상에 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있는 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 실시예는 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는, 베이스; 상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛; 상기 기판 지지 유닛에 놓인 기판 상에 액을 토출하는 액 토출 유닛;을 포함하되, 상기 액 토출 유닛은, 액을 토출하는 토출 헤드; 및 상기 토출 헤드가 결합된 갠트리;를 포함하고, 상기 토출 헤드는, 제 1 열 상에 위치된 제 1 토출 헤드; 및 상기 제 1 열과 상이하고, 상부에서 바라볼 때 상기 제 1 열과 평행한 제 2 열 상에 위치된 제 2 토출 헤드;를 포함하되, 상기 제 1 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 1 토출구가 형성되고, 상기 제 2 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 2 토출구가 형성되며, 상기 제 1 토출구 및 상기 제 2 토출구는 각각 복수개가 직선으로 배열되고, 상기 제 1 토출 헤드는, 상기 제 1 열 및 상기 제 2 열의 사이를 지나는 중심선을 기준으로 상기 제 1 토출구가 배열된 방향이 양의 제 1 회전 각도로 경사지도록 제공되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선을 기준으로 상기 제 2 토출구가 배열된 방향이 음의 제 2 회전 각도로 경사지도록 제공된다.
상기 제 1 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 1 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 2 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공된다.
상기 제 1 토출 헤드 및 상기 제 2 토출 헤드는 각각 복수개가 제공된다.
상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되며, 상기 제 1 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 2 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열된다.
상기 제 1 회전 각도 및 상기 제 2 회전 각도는, 그 크기가 서로 동일할 수 있다.
상기 갠트리는, 상기 제 1 토출 헤드가 결합된 제 1 갠트리; 및 상기 제 2 토출 헤드가 결합된 상기 제 1 갠트리와 상이한 제 2 갠트리;를 포함한다.
상기 제 1 갠트리의 상기 제 1 토출 헤드가 결합된 면 및 상기 제 2 갠트리의 상기 제 2 토출 헤드가 결합된 면은 서로 마주 보도록 제공된다.
또한, 본 발명의 일 실시 예는 기판 사에 액을 토출하는 액 토출 유닛을 제공한다. 액 토출 유닛은 액을 토출하는 토출 헤드; 및 상기 토출 헤드가 결합된 갠트리;를 포함하고, 상기 토출 헤드는, 제 1 열 상에 위치된 제 1 토출 헤드; 및 상기 제 1 열과 상이하고, 상부에서 바라볼 때 상기 제 1 열과 평행한 제 2 열 상에 위치된 제 2 토출 헤드;를 포함하되, 상기 제 1 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 1 토출구가 형성되고, 상기 제 2 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 2 토출구가 형성되며, 상기 제 1 토출구 및 상기 제 2 토출구는 각각 복수개가 직선으로 배열되고, 상기 제 1 토출 헤드는, 상기 제 1 열 및 상기 제 2 열의 사이를 지나는 중심선을 기준으로 상기 제 1 토출구가 배열된 방향이 양의 제 1 회전 각도로 경사지도록 제공되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선을 기준으로 상기 제 2 토출구가 배열된 방향이 음의 제 2 회전 각도로 경사지도록 제공된다.
상기 제 1 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 1 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 2 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공된다.
상기 제 1 토출 헤드 및 상기 제 2 토출 헤드는, 각각 복수개가 제공된다.
상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되며, 상기 제 1 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 2 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되고, 상기 제 2 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열된다.
상기 제 1 회전 각도 및 상기 제 2 회전 각도는, 그 크기가 서로 동일할 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 본 발명의 장치는 인접하는 토출구 간 액이 토출되는 시간 차이를 최소화 시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 본 발명의 장치는 액이 도포된 기판 상에 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 일반적인 토출 헤드의 저면도이다.
도 2은 일반적인 토출 헤드들이 배열된 모습을 나타낸 도면이다.
도 3는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다.
도 4는 도 3의 기판 처리 장치의 일부를 나타낸 평면도이다.
도 5는 도 4의 제 1 토출 헤드 및 제 2 토출 헤드가 배열된 모습을 나타낸 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
도 3는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다.
도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 베이스(B), 기판 지지 유닛(100) 및 액 토출 유닛(200)을 포함한다.
베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(B)의 상면에는 기판 지지 유닛(100)이 설치된다.
기판 지지 유닛(100)에는 기판(S)이 놓인다. 예를 들면, 기판 지지 유닛(100)은 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(110)에 수직한 회전 중심축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다. 지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다.
제 1 방향(Ⅰ)은 갠트리(210)의 길이 방향이다. 제 2 방향(Ⅱ)은 상부에서 바라볼 때, 제 1 방향(Ⅰ)에 수직한 방향이다. 제 3 방향(Ⅲ)은 제 1 방향(Ⅰ) 및 제 2 방향(Ⅱ)에 수직한 방향이다.
지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 2 방향(Ⅱ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동된다.
액 토출 유닛(200)은 기판 지지 유닛(100)에 놓인 기판(S) 상에 액을 토출한다. 액 토출 유닛(200)은 갠트리(210) 및 토출 헤드(220)를 포함한다.
갠트리(210)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(210)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치되며, 갠트리(210)는 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 배치된다. 토출 헤드(220)는 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(210)에 결합된다.
도 4는 도 3의 기판 처리 장치(10)의 일부를 나타낸 평면도이다. 도 3 및 도 4를 참고하면, 일 실시 예에 따르면, 갠트리(210)는 제 1 갠트리(211) 및 제 2 갠트리(212)를 포함할 수 있다. 제 1 갠트리(211)에는 제 1 토출 헤드(221)가 결합된다. 제 2 갠트리(212)는 제 1 갠트리(211)와 별개로 제공된다. 제 2 갠트리(212)에는 제 2 토출 헤드(222)가 결합된다. 제 1 갠트리(211)의 제 1 토출 헤드(221)가 결합된 면 및 제 2 갠트리(212)의 제 2 토출 헤드(222)가 결합된 면은 서로 마주 보도록 제공된다. 제 1 갠트리(211) 및 제 2 갠트리(212)는 액 토출 공정 전 또는 후에는 각각 베이스(B)의 서로 다른 양 끝단에 위치된다. 액을 토출하기 위해 제 1 갠트리(211) 및 제 2 갠트리(212)는 제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)가 기판 지지 유닛(10) 상에 놓인 기판(S) 상에 위치되도록 이동된다. 이후, 제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)는 액을 토출하고, 기판 지지 유닛(10)이 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 이동하면서 기판(S) 상에 액을 도포한다. 이와 달리, 기판 지지 유닛(10)은 이동하지 않고, 제 1 갠트리(211) 및 제 2 갠트리(212)가 서로 일정한 간격을 유지하며 제 2 방향(Ⅱ)을 따라 이동하며 기판(S) 상에 액을 도포할 수 있다.
토출 헤드(220)는 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(210)의 길이 방향, 즉 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동하고, 또한 제3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다. 토출 헤드(220)는 기판에 액을 토출한다. 토출 헤드(220)는 복수 개가 제공될 수 있다. 토출 헤드(220)는 제 1 방향(Ⅰ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있다.
도 5는 도 4의 제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)가 배열된 모습을 나타낸 도면이다. 도 4 및 도 5를 참고하면, 토출 헤드(220)는 제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)를 포함한다.
제 1 토출 헤드(221)는 제 1 열(221a) 상에 위치된다. 제 1 토출 헤드(221)에는 액이 토출되는 제 1 토출구(221b)가 형성된다. 제 1 토출구(221b)는 복수개가 직선으로 배열된다. 제 1 토출구(221b)가 배열된 열은 서로 평행하게 복수개가 제공될 수 있다. 제 1 토출 헤드(221)는 제 1 열(221a) 및 제 2 열(222a) 사이를 지나는 중심선(223)을 기준으로 제 1 토출구(221b)가 배열된 방향이 양의 제 1 회전 각도(224)로 경사지도록 제공된다. 제 1 토출 헤드(221)는 중심선(223) 및 제 1 토출구(221b)가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공될 수 있다. 따라서, 제 1 토출 헤드(221)는 액 토출 공정 전 또는 후에는 제 1 토출구(221b)가 배열된 방향이 중심선(223)과 평행하도록 위치되고, 액 토출 공정 시에는 제 1 토출구(221b)가 배열된 방향이 중심선(223)을 기준으로 양의 제 1 회전 각도(224)로 경사지도록 회전된다.
제 2 토출 헤드(222)는 제 2 열(222a) 상에 위치된다. 제 2 열(222a)은 제 1 열(221a)과 상이하고 상부에서 바라볼 때, 제 1 열(221a)과 평행하게 제공된다. 제 2 토출 헤드(222)에는 액이 토출되는 제 2 토출구(222b)가 형성된다. 제 2 토출구(222b)는 복수개가 직선으로 배열된다. 제 2 토출구(222b)가 배열된 열은 서로 평행하게 복수개가 제공될 수 있다. 제 2 토출 헤드(222)는 중심선(223)을 기준으로 제 2 토출구(222b)가 배열된 방향이 음의 제 2 회전 각도(225)로 경사지도록 제공된다. 제 2 토출 헤드(222)는 중심선(223) 및 제 2 토출구(222b)가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공될 수 있다. 따라서, 제 2 토출 헤드(222)는 액 토출 공정 전 또는 후에는 제 2 토출구(222b)가 배열된 방향이 중심선(223)과 평행하도록 위치되고, 액 토출 공정 시에는 제 2 토출구(222b)가 배열된 방향이 중심선(223)을 기준으로 음의 제 2 회전 각도(225)로 경사지도록 회전된다.
제 1 회전 각도(224) 및 제 2 회전 각도(225)는 그 크기가 서로 동일하게 제공될 수 있다.
제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)는 각각 복수개가 서로 일정 간격으로 이격되게 배열된다. 제 1 토출 헤드(221)는 각각 서로 인접하는 2개의 제 2 토출 헤드(222) 간의 사이와 대향되도록 배열된다. 제 2 토출 헤드(222)는 각각 서로 인접하는 2개의 제 1 토출 헤드(221) 간의 사이와 대향되도록 배열된다.
상술한 바와 같이 제 1 토출 헤드(221) 및 제 2 토출 헤드(222)가 중심선(223)을 기준으로 서로 반대 방향으로 경사 지도록 제공됨으로써, 서로 인접한 토출 헤드 간의 양 끝단의 거리의 차이가 최소화 되므로, 토출구 간 액이 토출되는 시간 차이를 최소화 시킬 수 있다. 따라서, 토출된 액의 경화 시간의 차가 최소화 되어 액의 경화된 정도의 차이가 최소화 되므로 액이 도포된 기판 상에 얼룩이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
10: 기판 처리 장치 S: 기판
100: 기판 지지 유닛 200: 액 토출 유닛
210: 갠트리 211: 제 1 갠트리
212: 제 2 갠트리 220: 토출 헤드
221: 제 1 토출 헤드 222: 제 2 토출 헤드
223: 중심선 224: 제 1 회전 각도
225: 제 2 회전 각도

Claims (16)

  1. 베이스;
    상기 베이스에 설치되고, 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛;
    상기 기판 지지 유닛에 놓인 기판 상에 액을 토출하는 액 토출 유닛;을 포함하되,
    상기 액 토출 유닛은,
    액을 토출하는 토출 헤드; 및
    상기 토출 헤드가 결합된 갠트리;를 포함하고,
    상기 토출 헤드는,
    제 1 열 상에 위치된 제 1 토출 헤드; 및
    상기 제 1 열과 상이하고, 상부에서 바라볼 때 상기 제 1 열과 평행한 제 2 열 상에 위치된 제 2 토출 헤드;를 포함하되,
    상기 제 1 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 1 토출구가 형성되고,
    상기 제 2 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 2 토출구가 형성되며,
    상기 제 1 토출구 및 상기 제 2 토출구는 각각 복수개가 직선으로 배열되고,
    상기 제 1 토출 헤드는, 상기 제 1 열 및 상기 제 2 열의 사이를 지나는 중심선을 기준으로 상기 제 1 토출구가 배열된 방향이 양의 제 1 회전 각도로 경사지도록 제공되고,
    상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선을 기준으로 상기 제 2 토출구가 배열된 방향이 음의 제 2 회전 각도로 경사지도록 제공되는 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 1 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되고,
    상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 2 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되는 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 토출 헤드는, 복수개가 제공되는 기판 처리 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고,
    상기 제 2 토출 헤드는, 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되게 제공되는 기판 처리 장치.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 2 토출 헤드는, 복수개가 제공되는 기판 처리 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고,
    상기 제 2 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되며,
    상기 제 1 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 2 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되고,
    상기 제 2 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되는 기판 처리 장치.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 하나에 있어서,
    상기 제 1 회전 각도 및 상기 제 2 회전 각도는, 그 크기가 서로 동일한 기판 처리 장치.
  8. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 하나에 있어서,
    상기 갠트리는,
    상기 제 1 토출 헤드가 결합된 제 1 갠트리; 및
    상기 제 2 토출 헤드가 결합된 상기 제 1 갠트리와 상이한 제 2 갠트리;를 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 1 갠트리의 상기 제 1 토출 헤드가 결합된 면 및 상기 제 2 갠트리의 상기 제 2 토출 헤드가 결합된 면은 서로 마주 보도록 제공된 기판 처리 장치.
  10. 기판 상에 액을 토출하는 액 토출 유닛에 있어서,
    액을 토출하는 토출 헤드; 및
    상기 토출 헤드가 결합된 갠트리;를 포함하고,
    상기 토출 헤드는,
    제 1 열 상에 위치된 제 1 토출 헤드; 및
    상기 제 1 열과 상이하고, 상부에서 바라볼 때 상기 제 1 열과 평행한 제 2 열 상에 위치된 제 2 토출 헤드;를 포함하되,
    상기 제 1 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 1 토출구가 형성되고,
    상기 제 2 토출 헤드에는, 액이 토출되는 제 2 토출구가 형성되며,
    상기 제 1 토출구 및 상기 제 2 토출구는 각각 복수개가 직선으로 배열되고,
    상기 제 1 토출 헤드는, 상기 제 1 열 및 상기 제 2 열의 사이를 지나는 중심선을 기준으로 상기 제 1 토출구가 배열된 방향이 양의 제 1 회전 각도로 경사지도록 제공되고,
    상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선을 기준으로 상기 제 2 토출구가 배열된 방향이 음의 제 2 회전 각도로 경사지도록 제공되는 액 토출 유닛.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 1 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 1 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되고,
    상기 제 2 토출 헤드는, 상기 중심선 및 상기 제 2 토출구가 배열된 방향에 수직인 축을 중심으로 회전 가능하게 제공되는 액 토출 유닛.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 1 토출 헤드는, 복수개가 제공되는 액 토출 유닛.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고,
    상기 제 2 토출 헤드는, 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되게 제공되는 액 토출 유닛.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 2 토출 헤드는, 복수개가 제공되는 액 토출 유닛.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 1 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되고,
    상기 제 2 토출 헤드는, 서로 일정 간격으로 이격되게 배열되며,
    상기 제 1 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 2 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되고,
    상기 제 2 토출 헤드는, 각각 서로 인접하는 2개의 상기 제 1 토출 헤드 간의 사이와 대향되도록 배열되는 액 토출 유닛.
  16. 제 10 항 내지 제 15 항 중 어느 하나에 있어서,
    상기 제 1 회전 각도 및 상기 제 2 회전 각도는, 그 크기가 서로 동일한 액 토출 유닛.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002273868A (ja) * 2001-01-15 2002-09-25 Seiko Epson Corp 材料の吐出装置、及び吐出方法、カラーフィルタの製造装置及び製造方法、液晶装置の製造装置及び製造方法、ｅｌ装置の製造装置及び製造方法、並びにそれら方法により製造される電子機器
KR20080075739A (ko) * 2007-02-13 2008-08-19 삼성전자주식회사 프린트 헤드 및 이를 포함하는 잉크젯 프린터
KR101053144B1 (ko) * 2010-01-26 2011-08-02 세메스 주식회사 처리액 도포 장치 및 방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002273868A (ja) * 2001-01-15 2002-09-25 Seiko Epson Corp 材料の吐出装置、及び吐出方法、カラーフィルタの製造装置及び製造方法、液晶装置の製造装置及び製造方法、ｅｌ装置の製造装置及び製造方法、並びにそれら方法により製造される電子機器
KR20080075739A (ko) * 2007-02-13 2008-08-19 삼성전자주식회사 프린트 헤드 및 이를 포함하는 잉크젯 프린터
KR101053144B1 (ko) * 2010-01-26 2011-08-02 세메스 주식회사 처리액 도포 장치 및 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220013074A (ko) 2020-07-24 2022-02-04 (주)에스티아이 액적 도포 장치와 액적 가변 도포 방법

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