KR101536725B1 - 세정 유닛, 이를 이용한 세정 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

세정 유닛, 이를 이용한 세정 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 세정액을 공급하여 세정 대상물을 세정하는 세정 유닛, 이를 이용한 세정 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따른 세정 유닛은, 내부에 세정 대상물이 위치되는 배스와; 상기 세정 대상물의 상부에서 세정액을 공급하는 세정 노즐과; 상기 배스 내에서 상기 세정 노즐의 하부에 위치되는 액받이통을 포함하되, 상기 액받이통은 제1 액받이부와 제2 액받이부를 가지고, 상기 제1 액받이부와 상기 제2 액받이부는 서로 조합되어 상기 세정액을 상기 배스 내로 통과시키는 제1상태와 상기 세정액을 받는 제2상태로 변경 가능하게 제공된다.
본 발명의 실시예에 따른 세정 유닛, 이를 이용한 세정 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 의하면 세정액을 공급하여 세정 대상물의 세정시 세정액이 외부로 튀는 것을 방지하고 세정 완료 후 잔류하는 세정액이 외부 장치로 떨어지는 것을 차단할 수 있다.

Description

세정 유닛, 이를 이용한 세정 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{CLEANING UNIT, CLEANING METHOD USING THE SAME AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING THE SAME}
본 발명은 세정액을 공급하여 세정 대상물을 세정하는 세정 유닛, 이를 이용한 세정 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
최근, 잉크젯 프린팅 방식을 이용한 박막 형성 방법이 사용되고 있다. 잉크젯 프린팅 방식은 기판의 특정 위치에 액을 도포하여 박막을 형성하므로, 별도의 식각 공정을 필요로 하지 않는다. 이러한 잉크젯 프린팅 방식은 액정표시장치의 컬러필터 또는 배향막 등을 형성하는 데 사용될 수 있다.
일반적으로, 잉크젯 프린트 장치는 기판 상에 액을 도포하는 헤드 및 헤드를 세정하는 세정 유닛을 구비한다. 헤드는 액을 토출하는 다수의 노즐을 구비하며, 기판의 특정 위치에 액을 도포한다. 일반적으로, 잉크젯 프린트 장치에 사용되는 액은 점성 및 휘발성이 높기 때문에, 응고되기 쉽다. 특히, 액 도포 후, 노즐들의 토출구 주변에는 액이 잔류할 수 있으며, 이러한 잔류액은 토출구 주변에 응고되어 노즐의 토출구를 막거나 이후 액 도포시 기판에 도포되어 불균일한 막을 형성할 수 있다.
헤드 세정 유닛은 여러 방법에 의해 헤드의 액 토출면에 잔존하는 액을 제거한다. 예를 들어, 헤드 세정 유닛은 석션 노즐을 통해 액 토출면의 잔류액을 흡입 세정할 수 있다. 이와 같은 흡입 과정에서 석션 노즐의 석션 헤드부에는 액 토출면의 잉크가 묻는 경우가 빈번히 발생하는 문제가 있다.
도 1은 일반적인 세정 유닛의 일 예를 보여주는 도면이고, 도 2는 도 1의 측면도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 배스(24) 내에 위치되는 세정 대상물 또는 석션 헤드부(21)를 클리닝하기 위해 상부에서 노즐(22)을 통해 세정액을 토출한다. 이때 높이차에 의해 세정액이 외부 혹은 배스(24) 내벽으로 튈 수 있고, 액받이부(23)가 닫힌 후에는 노즐(22)의 잔류액이 액받이부(23)에 떨어지는 현상이 발생한다. 이러한 경우에 드레인을 통해 세정액을 배출해야 하지만 액받이부(23)의 형상 및 처짐 등으로 드레인이 원활하지 않아 사고의 위험이 있다.
특히, 세정액을 공급하는 노즐이 배스(24)로 하강하여 액받이부(23)가 오픈되는 방식으로 세정액이 튀는 것을 방지하기 위해서는 추가적인 커버가 장착되어야 하고 액받이부(23)의 길이가 길어져 처짐이 발생하는 문제가 있다.
본 발명은 세정액을 공급하여 세정 대상물의 세정시 세정액이 외부로 튀는 것을 방지하고 세정 완료 후 잔류하는 세정액이 외부 장치로 떨어지는 것을 차단할 수 있는 세정 유닛, 이를 이용한 세정 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 잔류 세정액을 받는 구조물의 처짐 현상을 최소화하고 잔류 세정액에 의한 사고 발생을 미연에 방지할 수 있는 세정 유닛, 이를 이용한 세정 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 세정 유닛을 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 세정 유닛은, 내부에 세정 대상물이 위치되는 배스와; 상기 세정 대상물의 상부에서 세정액을 공급하는 세정 노즐과; 상기 배스 내에서 상기 세정 노즐의 하부에 위치되는 액받이통을 포함하되, 상기 액받이통은 제1 액받이부와 제2 액받이부를 가지고, 상기 제1 액받이부와 상기 제2 액받이부는 서로 조합되어 상기 세정액을 상기 배스 내로 통과시키는 제1상태와 상기 세정액을 받는 제2상태로 변경 가능하게 제공된다.
일 예에 의하면, 상기 제1 액받이부는 제1 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제1 측벽으로부터 상기 제2 액받이부를 향해 연장되는 제1 바닥벽을 가지고, 상기 제2 액받이부는 제2 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제2 측벽으로부터 상기 제1 액받이부를 향해 연장되는 제2 바닥벽을 가진다.
일 예에 의하면, 상기 제1상태에서는 상기 제1 바닥벽과 상기 제2 바닥벽이 상기 배스의 내측벽과 마주보도록 위치된다.
일 예에 의하면, 상기 제2상태에서는 상기 제1 바닥벽과 상기 제2 바닥벽이 동일 평면상에 위치되어 상기 제1 바닥벽의 끝단과 상기 제2 바닥벽의 끝단은 서로 접촉 또는 근접한다.
일 예에 의하면, 상기 제2상태에서는 상기 제1 바닥벽은 상기 제2 바닥벽을 향해 상향 경사지게 위치되고 상기 제2 바닥벽은 상기 제1 바닥벽을 향해 상향 경사지게 위치된다.
일 예에 의하면, 상기 제1 측벽과 상기 제1 바닥벽 및 상기 제2 측벽과 상기 제2 바닥벽은 각각 90도의 각도를 이룬다.
일 예에 의하면, 상기 세정 노즐은 2열로 제공되며, 상기 제2상태에서 상기 제1 액받이부는 상기 세정 노즐의 제1열의 세정액을 받고 상기 제2 액받이부는 상기 세정 노즐의 제2열의 세정액을 받는다.
일 예에 의하면, 상기 세정 대상물은 잉크젯 헤드의 토출면을 흡입 세정하는 석션 노즐의 석션 헤드부일 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 세정액은 상기 석션 헤드부에 묻어 있는 잉크를 녹이는 케미컬을 포함한다.
일 예에 의하면, 상기 제1 액받이부는 상기 제1 측벽과 상기 제1 바닥벽의 연결 부위에 설치되는 제1 회전 구동기를 더 포함하고, 상기 제2 액받이부는 상기 제2 측벽과 상기 제2 바닥벽의 연결 부위에 설치되는 제2 회전 구동기를 더 포함하여, 상기 액받이통이 상기 제1상태와 상기 제2상태 간에 변경 가능하도록 제공된다.
또한, 본 발명은 세정 방법을 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따라 상기 세정 유닛을 이용하여 세정 대상물을 세정하는 세정 방법은, 상기 배스 내의 세정 대상물에 상기 세정 노즐을 통해 세정액을 공급하여 상기 세정 대상물을 세정하되, 상기 액받이통은 상기 세정 대상물의 세정시 상기 제1상태로 제공되어 상기 세정액을 상기 배스 내로 통과시키고 세정 완료시 상기 제2상태로 제공되어 상기 세정액을 받는다.
일 예에 의하면, 상기 제1 액받이부는 제1 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제1 측벽으로부터 상기 제2 액받이부를 향해 연장되는 제1 바닥벽을 가지고, 상기 제2 액받이부는 제2 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제2 측벽으로부터 상기 제1 액받이부를 향해 연장되는 제2 바닥벽을 가지되, 상기 제1상태에서는 상기 제1 바닥벽과 상기 제2 바닥벽이 상기 배스의 내측벽과 마주보도록 위치된다.
일 예에 의하면, 상기 제1 액받이부는 제1 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제1 측벽으로부터 상기 제2 액받이부를 향해 연장되는 제1 바닥벽을 가지고, 상기 제2 액받이부는 제2 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제2 측벽으로부터 상기 제1 액받이부를 향해 연장되는 제2 바닥벽을 가지되, 상기 제2상태에서는 상기 제1 바닥벽과 상기 제2 바닥벽이 동일 평면상에 위치되어 상기 제1 바닥벽의 끝단과 상기 제2 바닥벽의 끝단은 서로 접촉 또는 근접한다.
일 예에 의하면, 상기 제1 액받이부는 제1 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제1 측벽으로부터 상기 제2 액받이부를 향해 연장되는 제1 바닥벽을 가지고, 상기 제2 액받이부는 제2 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제2 측벽으로부터 상기 제1 액받이부를 향해 연장되는 제2 바닥벽을 가지되, 상기 제2상태에서는 상기 제1 바닥벽은 상기 제2 바닥벽을 향해 상향 경사지게 위치되고 상기 제2 바닥벽은 상기 제1 바닥벽을 향해 상향 경사지게 형성된다.
일 예에 의하면, 상기 세정 대상물은 잉크젯 헤드의 토출면을 흡입 세정하는 석션 노즐의 석션 헤드부이다.
또한, 본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치는, 베이스에 설치되고 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛; 상기 기판 지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 상기 기판 상에 잉크젯 방식으로 액을 토출하는 헤드들이 결합된 갠트리; 및 상기 베이스에 설치되며 상기 헤드의 노즐면을 흡입 세정하는 석션 노즐의 석션 헤드부를 세정하는 세정 유닛을 포함하되, 상기 세정 유닛은, 내부에 상기 석션 헤드부가 위치되는 배스와; 상기 석션 헤드부의 상부에서 세정액을 공급하는 세정 노즐과; 상기 배스 내에서 상기 세정 노즐의 하부에 위치되는 액받이통을 포함하고, 상기 액받이통은 제1 액받이부와 제2 액받이부를 가지고, 상기 제1 액받이부와 상기 제2 액받이부는 서로 조합되어 상기 세정액을 상기 배스 내로 통과시키는 제1상태와 상기 세정액을 받는 제2상태로 변경 가능하게 제공된다.
일 예에 의하면, 상기 제1 액받이부는 제1 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제1 측벽으로부터 상기 제2 액받이부를 향해 연장되는 제1 바닥벽을 가지고, 상기 제2 액받이부는 제2 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제2 측벽으로부터 상기 제1 액받이부를 향해 연장되는 제2 바닥벽을 가지되, 상기 제1상태에서는 상기 제1 바닥벽과 상기 제2 바닥벽이 상기 배스의 내측벽과 마주보도록 위치된다.
일 예에 의하면, 상기 제2상태에서는 상기 제1 바닥벽은 상기 제2 바닥벽을 향해 상향 경사지게 위치되고 상기 제2 바닥벽은 상기 제1 바닥벽을 향해 상향 경사지게 위치된다.
일 예에 의하면, 상기 세정 노즐은 2열로 제공되며, 상기 제2상태에서 상기 제1 액받이부는 상기 세정 노즐의 제1열의 세정액을 받고 상기 제2 액받이부는 상기 세정 노즐의 제2열의 세정액을 받는다.
본 발명의 실시예에 따른 세정 유닛, 이를 이용한 세정 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치는 세정액을 공급하여 세정 대상물의 세정시 세정액이 외부로 튀는 것을 방지하고 세정 완료 후 잔류하는 세정액이 외부 장치로 떨어지는 것을 차단할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 세정 유닛, 이를 이용한 세정 방법 및 이를 포함하는 기판 처리 장치는 잔류 세정액을 받는 구조물의 처짐 현상을 최소화하고 잔류 세정액에 의한 사고 발생을 미연에 방지할 수 있다.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.
도 1은 일반적인 세정 유닛의 일 예를 보여주는 도면이다.
도 2는 도 1의 측면도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다.
도 4는 도 3의 세정 유닛을 정면에서 도시한 것이다.
도 5는 도 4의 세정 유닛의 제1상태를 도시한 측면도이다.
도 6은 도 4의 세정 유닛의 제2상태의 일 예를 도시한 측면도이다.
도 7은 도 4의 액 받이통의 제2상태에서의 사시도이다.
도 8은 도 6의 제1 액받이부를 도시한 단면도이다.
도 9는 도 6의 제2 액받이부를 도시한 단면도이다.
도 10은 도 4의 세정 유닛의 제2상태의 다른 예를 도시한 측면도이다.
도 11은 도 10의 액받이통의 제2상태에서의 사시도이다.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 각 도면은 명확한 설명을 위해 일부가 간략하거나 과장되게 표현되었다. 각 도면의 구성 요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 도시되었음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다. 도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 베이스(B), 기판 지지 유닛(100), 갠트리(200), 헤드(300), 그리고 세정 유닛(400)을 포함한다. 이하 각 구성에 대하여 상세히 설명한다.
베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 베이스(B)의 상면에는 기판 지지 유닛(100)이 배치된다. 기판 지지 유닛(100)은 기판(S)이 놓이는 지지판(110)을 가진다. 지지판(110)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(110)의 하면에는 회전 구동 부재(120)가 연결된다. 회전 구동 부재(120)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(120)는 지지판(110)에 수직한 회전 중심축을 중심으로 지지판(110)을 회전시킨다. 지지판(110)이 회전 구동 부재(120)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(110)의 회전에 의해 회전될 수 있다.
지지판(110)과 회전 구동 부재(120)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(120)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.
갠트리(200)는 지지판(110)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(200)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치되며, 갠트리(200)는 길이 방향이 제2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다.
헤드(300)는 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리(200)에 결합된다. 헤드(300)는 헤드 이동 유닛(500)에 의해 갠트리의 길이 방향, 즉 제2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 제3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다.
헤드(300)는 기판에 액정의 액적을 토출한다. 헤드(300)는 복수 개가 제공될 수 있다. 본 실시예에서는 3개의 헤드(310,320,330)가 제공된 예를 도시하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 헤드(300)는 제2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 갠트리(200)에 결합된다.
헤드(300)의 저면에는 액정의 액적을 토출하는 복수 개의 노즐들이 제공된다. 예를 들어, 각각의 헤드들에는 128개 또는 256개의 노즐들이 제공될 수 있다. 노즐들은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 각각의 헤드(300)에는 노즐들에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 노즐들의 액적 토출량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.
도 4는 도 3의 세정 유닛을 정면에서 도시한 것이고, 도 5는 도 4의 세정 유닛의 제1상태를 도시한 측면도이고, 도 6은 도 4의 세정 유닛의 제2상태의 일 예를 도시한 측면도이고, 도 7은 도 4의 액 받이통의 제2상태에서의 사시도이다.
도 4 내지 도 7를 참조하면, 세정 유닛(400)은 배스(410), 세정 노즐(420) 및 액받이통(430)을 포함한다. 세정 유닛(400)은 베이스(B)에 설치된다. 세정 유닛(400)은 헤드(300)의 노즐면을 흡입 세정하는 석션 노즐(20)의 석션 헤드부(21)를 세정한다. 석션 노즐(20)의 석션 헤드부에는 헤드(300)의 액 토출면을 흡입 세정하는 과정에서 잉크 등의 잔류액이 묻는 경우가 흔히 발생하기 때문이다.
배스(410)는 내부에 석션 헤드부(21)가 위치된다. 따라서 본 발명의 세정 유닛(400) 또는 이를 포함하는 기판 처리 장치(10)에서는 세정 대상물이 잉크젯 헤드(300)의 액 토출면을 흡입 세정하는 석션 노즐(20)의 석션 헤드부(21)일 수 있다.
세정 노즐(420)은 석션 헤드부(21)의 상부에서 석션 헤드부(21)를 향해 세정액을 공급한다. 이렇게 공급되는 세정액은 석션 헤드부(21)를 클리닝한다. 따라서, 세정액은 석션 헤드부(21)에 묻어 있는 잉크를 녹이는 케미컬을 포함할 수 있다.
액받이통(430)은 배스(410) 내에서 세정 노즐(420)의 하부에 위치된다. 액받이통(430)은 제1 액받이부(431)와 제2 액받이부(432)를 포함한다. 제1 액받이부(431)와 제2 액받이부(432)는 서로 조합되어 세정 노즐(420)로부터 공급되는 세정액을 배스(410) 내로 통과시키는 제1상태(S1)와 세정액을 받는 제2상태(S2)로 변경 가능하게 제공된다. 제2 상태(S2)에서는 세정 대상물의 세정 완료시 세정 노즐(420)에 잔류하여 떨어지는 세정액을 받는다.
다시 말해, 액받이통(430)은 제1상태(S1)에서는 제1 액받이부(431)와 제2 액받이부(432)가 분리되어 배스(410)를 향해 개방되고, 제2상태(S2)에서는 제1 액받이부(431)와 제2 액받이부(432)가 맞닿거나 근접하여 닫혀진다. 즉, 액받이통(430)은 측면에서 바라볼 때 중앙부가 길이 방향으로 분리 가능하게 제공된다.
도 8은 도 6의 제1 액받이부를 도시한 단면도이고, 도 9는 도 6의 제2 액받이부를 도시한 단면도이다.
도 6 내지 도 8을 참조하면, 제1 액받이부(431)는 제1 측벽(431a)과 제2상태(S2)에서 제1 측벽(431)으로부터 제2 액받이부(432)를 향해 연장되는 제1 바닥벽(431b)을 갖는다.
도 6, 도7 및 도 9를 참조하면, 제2 액받이부(432)는 제2 측벽(432a)과 제2상태(S2)에서 제2 측벽(432a)으로부터 제1 액받이부(431)를 향해 연장되는 제2 바닥벽(432b)을 갖는다.
도시된 바와 같이, 제2상태(S2)에서는 제1 바닥벽(431b)은 제2 바닥벽(432b)을 향해 상향 경사지게 위치되고 제2 바닥벽(432b)은 제1 바닥벽(431b)을 향해 상향 경사지게 위치된다.
도 7에 도시된 바와 같이, 액받이통(430)은 제2상태(S2)에서 V 혹은 W의 통 형상으로 제공될 수 있다. 이러한 형태는 액받이통(430)의 길이가 길어져도 처짐을 최소화하여 드레인을 원활히 할 수 있는 구조이다. 또한, 세정액이 외부로 튀는 것을 방지하여 커버 역할을 동시에 수행할 수 있다. 특히 액받이통(430)은 오픈되는 제1상태(S1)에서, 제2상태(S2)에서 받아 남아있던 잔류 세정액을 모두 배스(410) 내로 떨어뜨릴 수 있어 잔류액에 의한 사고 발생의 여지를 미연에 방지한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 제1상태(S1)에서는 제1 바닥벽(431b)과 제2 바닥벽(432b)이 배스(410)의 내측벽과 마주보도록 위치된다. 이러한 구조는 제1바닥벽(431b)과 제2바닥벽(432b)이 충분히 길게 형성되는 경우 세정액이 배스(410)의 내측벽에 튀는 것을 방지할 수 있다.
도 10은 도 4의 세정 유닛의 제2상태의 다른 예를 도시한 측면도이고, 도 11은 도 10의 액받이통의 제2상태에서의 사시도이다.
도 10 및 도 11을 참조하면, 제2상태(S2)에서는 제1 바닥벽(431b')과 제2 바닥벽(432b')이 동일 평면상에 위치된다. 또한, 제2상태(S2)에서 제1 바닥벽(431b')의 끝단과 제2 바닥벽(432b')의 끝단은 서로 접촉 또는 근접한다. 다만, 이 경우에도 제1상태(S1)에서는 도 5와 같은 형태로 변형되는 것은 동일하다.
도 6 및 도 10의 어느 예에서든, 제1 측벽(431a)과 제1 바닥벽(431b) 및 제2 측벽(432a)과 제2 바닥벽(432b)은 각각 90도의 각도를 이룰 수 있다.
도 5, 도 6 및 도 10을 참조하면, 세정 노즐(420)은 2열로 제공될 수 있으며, 제2상태(S2)에서 제1 액받이부(431)는 세정 노즐(420)의 제1열(R1)의 세정액을 받고 제2 액받이부(432)는 세정 노즐(420)의 제2열(R2)의 세정액을 받을 수 있다.
도시되지는 않았지만, 제1 액받이부(431)는 제1 측벽(431a)과 제1 바닥벽(431b)의 연결 부위에 설치되는 제1 회전 구동기(431c)를 더 포함한다. 또한, 제2 액받이부(432)는 제2 측벽(432a)과 제2 바닥벽(432b)의 연결 부위에 설치되는 제2 회전 구동기(432c)를 더 포함한다. 제1 회전 구동기(431c) 및 제2 회전 구동기(432c)는 액받이통(430)이 제1상태(S1)와 제2상태(S2) 간에 변경될 수 있도록 한다.
따라서, 제1 회전 구동기(431c) 및 제2 회전 구동기(432c)를 통해 액받이통(430)은 제1상태(S1)에서는 제1 액받이부(431)와 제2 액받이부(432)가 각각 하방 회동하여 액받이통(430)의 중앙부가 분리되어 열리게 된다. 또한, 액받이통(430)은 제2상태(S2)에서는 제1 액받이부(431)와 제2 액받이부(432)가 각각 상방 회동하여 액받이통(430)의 중앙부에서 맞닿거나 거의 근접하여 닫힌다.
상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 세정 유닛(400)을 이용하여 세정 대상물을 세정하는 세정 방법에 대하여 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 일실시예에 따른 세정 방법은 배스(410) 내의 세정 대상물(21)에 세정 노즐(420)을 통해 세정액을 공급하여 세정 대상물(21)을 세정한다. 이때, 액받이통(430)은 세정 대상물(21)의 세정시 제1상태(S1)로 제공되어 세정액을 배스(410) 내로 통과시키고 세정 완료시 제2상태(S2)로 제공되어 세정액을 받는다. 여기서 세정 대상물은 헤드(300)의 액 토출면을 흡입 세정하는 석션 노즐(20)의 석션 헤드부(210)일 수 있다.
제1 액받이부(431)는 제1 측벽(431a)과 제2상태(S2)에서 제1 측벽(431)으로부터 제2 액받이부(432)를 향해 연장되는 제1 바닥벽(431b)을 갖는다. 제2 액받이부(432)는 제2 측벽(432a)과 제2상태(S2)에서 제2 측벽(432a)으로부터 제1 액받이부(431)를 향해 연장되는 제2 바닥벽(432b)을 갖는다. 이때, 도 5를 참조하면, 제1상태(S1)에서는 제1 바닥벽(431b)과 제2 바닥벽(432b)이 배스(410)의 내측벽과 마주보도록 위치된다.
일 예로, 도 6 및 도7을 참조하면 제2상태(S2)에서는 제1 바닥벽(431b)은 제2 바닥벽(432b)을 향해 상향 경사지게 위치되고 제2 바닥벽(432b)은 제1 바닥벽(431b)을 향해 상향 경사지게 위치된다.
다른 예로, 도 10 및 도 11을 참조하면, 제2상태(S2)에서는 제1 바닥벽(431b')과 제2 바닥벽(432b')이 동일 평면상에 위치된다. 또한, 제2상태(S2)에서 제1 바닥벽(431b')의 끝단과 제2 바닥벽(432b')의 끝단은 서로 접촉 혹은 근접한다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 세정액을 공급하여 세정 대상물의 세정시 세정액이 외부로 튀는 것을 방지하고 세정 완료 후 잔류하는 세정액이 외부 장치로 떨어지는 것을 차단할 수 있다. 또한, 본 발명은 잔류 세정액을 받는 구조물의 처짐 현상을 최소화하고 드레인을 용이하게 하여 잔류 세정액에 의한 사고 발생을 미연에 방지할 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
10 : 기판 처리 장치 100 : 기판 지지 유닛
200 : 갠트리 300 : 헤드
400 : 세정 유닛 410 : 배스
420 : 세정 노즐 430 : 액받이통
431 : 제1 액받이부 431a : 제1 측벽
431b : 제1 바닥벽 431c : 제1 회전 구동기
432 : 제2 액받이부 432a : 제2 측벽
432b : 제2 바닥벽 432c : 제2 회전 구동기

Claims (19)

  1. 내부에 세정 대상물이 위치되는 배스와;
    상기 세정 대상물의 상부에서 세정액을 공급하는 세정 노즐과;
    상기 배스 내에서 상기 세정 노즐의 하부에 위치되는 액받이통을 포함하되,
    상기 액받이통은 제1 액받이부와 제2 액받이부를 가지고,
    상기 제1 액받이부와 상기 제2 액받이부는 서로 조합되어 상기 세정액을 상기 배스 내로 통과시키는 제1상태와 상기 세정액을 받는 제2상태로 변경 가능하게 제공되는 세정 유닛.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 액받이부는 제1 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제1 측벽으로부터 상기 제2 액받이부를 향해 연장되는 제1 바닥벽을 가지고,
    상기 제2 액받이부는 제2 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제2 측벽으로부터 상기 제1 액받이부를 향해 연장되는 제2 바닥벽을 가지는 세정 유닛.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 제1상태에서는 상기 제1 바닥벽과 상기 제2 바닥벽이 상기 배스의 내측벽과 마주보도록 위치되는 세정 유닛.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 제2상태에서는 상기 제1 바닥벽과 상기 제2 바닥벽이 동일 평면상에 위치되어 상기 제1 바닥벽의 끝단과 상기 제2 바닥벽의 끝단은 서로 접촉 또는 근접하는 세정 유닛.
  5. 제 2항에 있어서,
    상기 제2상태에서는 상기 제1 바닥벽은 상기 제2 바닥벽을 향해 상향 경사지게 위치되고 상기 제2 바닥벽은 상기 제1 바닥벽을 향해 상향 경사지게 위치되는 세정 유닛.
  6. 제 2항에 있어서,
    상기 제1 측벽과 상기 제1 바닥벽 및 상기 제2 측벽과 상기 제2 바닥벽은 각각 90도의 각도를 이루는 세정 유닛.
  7. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 세정 노즐은 2열로 제공되며, 상기 제2상태에서 상기 제1 액받이부는 상기 세정 노즐의 제1열의 세정액을 받고 상기 제2 액받이부는 상기 세정 노즐의 제2열의 세정액을 받는 세정 유닛.
  8. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 세정 대상물은 잉크젯 헤드의 토출면을 흡입 세정하는 석션 노즐의 석션 헤드부인 세정 유닛.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 세정액은 상기 석션 헤드부에 묻어 있는 잉크를 녹이는 케미컬을 포함하는 세정 유닛.
  10. 제 2항 내지 제 6항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 제1 액받이부는 상기 제1 측벽과 상기 제1 바닥벽의 연결 부위에 설치되는 제1 회전 구동기를 더 포함하고,
    상기 제2 액받이부는 상기 제2 측벽과 상기 제2 바닥벽의 연결 부위에 설치되는 제2 회전 구동기를 더 포함하여,
    상기 액받이통이 상기 제1상태와 상기 제2상태 간에 변경 가능하도록 제공되는 세정 유닛.
  11. 제 1항의 상기 세정 유닛을 이용하여 세정 대상물을 세정하는 방법에 있어서, 상기 배스 내의 세정 대상물에 상기 세정 노즐을 통해 세정액을 공급하여 상기 세정 대상물을 세정하되, 상기 액받이통은 상기 세정 대상물의 세정시 상기 제1상태로 제공되어 상기 세정액을 상기 배스 내로 통과시키고 세정 완료시 상기 제2상태로 제공되어 상기 세정액을 받는 세정 방법.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 제1 액받이부는 제1 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제1 측벽으로부터 상기 제2 액받이부를 향해 연장되는 제1 바닥벽을 가지고,
    상기 제2 액받이부는 제2 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제2 측벽으로부터 상기 제1 액받이부를 향해 연장되는 제2 바닥벽을 가지되,
    상기 제1상태에서는 상기 제1 바닥벽과 상기 제2 바닥벽이 상기 배스의 내측벽과 마주보도록 위치되는 세정 방법.
  13. 제 11항에 있어서,
    상기 제1 액받이부는 제1 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제1 측벽으로부터 상기 제2 액받이부를 향해 연장되는 제1 바닥벽을 가지고,
    상기 제2 액받이부는 제2 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제2 측벽으로부터 상기 제1 액받이부를 향해 연장되는 제2 바닥벽을 가지되,
    상기 제2상태에서는 상기 제1 바닥벽과 상기 제2 바닥벽이 동일 평면상에 위치되어 상기 제1 바닥벽의 끝단과 상기 제2 바닥벽의 끝단은 서로 접촉 또는 근접하는 세정 방법.
  14. 제 11항에 있어서,
    상기 제1 액받이부는 제1 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제1 측벽으로부터 상기 제2 액받이부를 향해 연장되는 제1 바닥벽을 가지고,
    상기 제2 액받이부는 제2 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제2 측벽으로부터 상기 제1 액받이부를 향해 연장되는 제2 바닥벽을 가지되,
    상기 제2상태에서는 상기 제1 바닥벽은 상기 제2 바닥벽을 향해 상향 경사지게 위치되고 상기 제2 바닥벽은 상기 제1 바닥벽을 향해 상향 경사지게 형성되는 세정 방법.
  15. 제 11항 내지 제 14항 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 세정 대상물은 잉크젯 헤드의 토출면을 흡입 세정하는 석션 노즐의 석션 헤드부인 세정 방법.
  16. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    베이스에 설치되고 기판이 놓여지는 기판 지지 유닛;
    상기 기판 지지 유닛의 이동 경로 상부에 제공되며, 상기 기판 상에 잉크젯 방식으로 액을 토출하는 헤드들이 결합된 갠트리; 및
    상기 베이스에 설치되며 상기 헤드의 노즐면을 흡입 세정하는 석션 노즐의 석션 헤드부를 세정하는 세정 유닛을 포함하되,
    상기 세정 유닛은,
    내부에 상기 석션 헤드부가 위치되는 배스와;
    상기 석션 헤드부의 상부에서 세정액을 공급하는 세정 노즐과;
    상기 배스 내에서 상기 세정 노즐의 하부에 위치되는 액받이통을 포함하고,
    상기 액받이통은 제1 액받이부와 제2 액받이부를 가지고,
    상기 제1 액받이부와 상기 제2 액받이부는 서로 조합되어 상기 세정액을 상기 배스 내로 통과시키는 제1상태와 상기 세정액을 받는 제2상태로 변경 가능하게 제공되는 기판 처리 장치.
  17. 제 16항에 있어서,
    상기 제1 액받이부는 제1 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제1 측벽으로부터 상기 제2 액받이부를 향해 연장되는 제1 바닥벽을 가지고,
    상기 제2 액받이부는 제2 측벽과 상기 제2상태에서 상기 제2 측벽으로부터 상기 제1 액받이부를 향해 연장되는 제2 바닥벽을 가지되,
    상기 제1상태에서는 상기 제1 바닥벽과 상기 제2 바닥벽이 상기 배스의 내측벽과 마주보도록 위치되는 기판 처리 장치.
  18. 제 17항에 있어서,
    상기 제2상태에서는 상기 제1 바닥벽은 상기 제2 바닥벽을 향해 상향 경사지게 위치되고 상기 제2 바닥벽은 상기 제1 바닥벽을 향해 상향 경사지게 위치되는 기판 처리 장치.
  19. 제 16항에 있어서,
    상기 세정 노즐은 2열로 제공되며, 상기 제2상태에서 상기 제1 액받이부는 상기 세정 노즐의 제1열의 세정액을 받고 상기 제2 액받이부는 상기 세정 노즐의 제2열의 세정액을 받는 기판 처리 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH05269980A (ja) * 1992-03-25 1993-10-19 Dainippon Printing Co Ltd グラビア印刷ユニット
KR20120005309A (ko) * 2010-07-08 2012-01-16 세메스 주식회사 처리액 토출 장치

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