KR20160071578A - Mask frame assembly, manufacturing method of the same and manufacturing method of organic light emitting display device there used - Google Patents

Mask frame assembly, manufacturing method of the same and manufacturing method of organic light emitting display device there used Download PDF

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Abstract

According to an embodiment of the present invention, disclosed is a mask frame assembly which comprises: a mask including a deposition area for passing a deposition material; and a frame including a base unit, a first support unit protruding from the base unit to have an inclined side surface, and a second support unit protruding from the first support unit to support the mask. An edge of the mask is bent toward the base unit. Therefore, the mask frame assembly can accurately deposit the deposition material on a substrate by improving adhesion between the substrate and the mask.

Description

마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 {Mask frame assembly, manufacturing method of the same and manufacturing method of organic light emitting display device there used}[0001] The present invention relates to a mask frame assembly, a manufacturing method thereof, and a manufacturing method of an organic light emitting display device,

본 발명의 실시예들은 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.Embodiments of the present invention relate to a mask frame assembly, a manufacturing method thereof, and a manufacturing method of an organic light emitting display device.

일반적으로 평탄 디스크플레이 중의 하나인 유기 발광 표시 장치는 능동 발광형 표시 소자로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 저전압으로 구동이 가능하며, 경량의 박형이면서 응답 속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어서 차세대 표시 소자로서 주목을 받고 있다. In general, an organic light emitting display device, which is one of flat disk players, is an active light emitting display device having a wide viewing angle, excellent contrast, driving with low voltage, lightweight thin shape and high response speed, Has attracted attention as a device.

이러한 발광 소자는 발광층을 형성하는 물질에 따라 무기 발광 소자와 유기 발광 소자로 구분되는데, 유기 발광 소자는 무기 발광 소자에 비해 휘도, 응답속도 등의 특성이 우수하고, 컬러 디스플레이가 가능하다는 장점을 가지고 있어 최근 그 개발이 활발하게 진행되고 있다.Such a light emitting device is classified into an inorganic light emitting device and an organic light emitting device depending on the material forming the light emitting layer. The organic light emitting device has an advantage of being excellent in characteristics such as luminance and response speed, and capable of color display Recently, the development is progressing actively.

유기 발광 표시 장치는 유기막 및/또는 전극을 진공 증착법에 의해 형성한다. 그러나 유기 발광 표시 장치가 점차 고해상도화 함에 따라 증착 공정시 사용되는 마스크의 오픈슬릿(open slit)의 폭이 점점 좁아지고 있으며 그 산포 또한 점점 더 감소될 것이 요구되어지고 있다. The organic light emitting display device forms the organic film and / or the electrode by a vacuum deposition method. However, as the organic light emitting diode (OLED) display device is gradually increased in resolution, the width of the open slit of the mask used in the deposition process is becoming narrower and the scattering is also being required to be further reduced.

또한, 고해상도 유기 발광 표시 장치를 제작하기 위해서는 궤도우 현상(shadow effect)을 줄이거나 없애는 것이 필요하다. 그에 따라, 기판과 마스크를 밀착시킨 상태에서 증착 공정을 진행하고 있으며, 기판과 마스크의 밀착도를 향상시키기 위한 기술의 개발이 대두되고 있다.In order to manufacture a high-resolution organic light emitting display, it is necessary to reduce or eliminate the shadow effect. Accordingly, a vapor deposition process is being performed in a state in which the substrate and the mask are in close contact with each other, and development of techniques for improving the degree of adhesion between the substrate and the mask is being developed.

전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 실시예들의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 실시예들의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.The background art described above is technical information acquired by the inventor for the derivation of the embodiments of the present invention or obtained in the derivation process and can not necessarily be known technology disclosed to the general public before the application of the embodiments of the present invention none.

본 발명의 실시예들은 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 제공한다.Embodiments of the present invention provide a mask frame assembly, a method of manufacturing the same, and a method of manufacturing an organic light emitting display device.

본 발명의 일 실시예는 증착 물질을 통과시키는 증착 영역을 포함하는 마스크와, 베이스부와 베이스부로부터 돌출되어 측면이 경사지도록 형성되는 제1 지지부와 제1 지지부로부터 돌출되도록 형성되어 마스크를 지지하는 제2 지지부를 포함하는 프레임을 포함하고, 마스크의 모서리가 베이스부를 향해 절곡되어 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 프레임 조립체를 개시한다.One embodiment of the present invention is directed to a mask comprising: a mask including a deposition region through which a deposition material is passed; a base portion; a first support portion protruding from the base portion, And a frame including a second support portion, wherein edges of the mask are formed by being bent toward the base portion.

본 실시예에 있어서, 증착 영역은, 외곽 영역이 제2 지지부에 의해 지지되는 바디부와, 바디부를 관통하도록 형성되어 증착 물질을 통과시키는 하나 이상의 패턴부를 포함할 수 있다.In this embodiment, the deposition area may include a body part in which the outer area is supported by the second support part, and at least one pattern part formed to penetrate the body part and to pass the deposition material.

본 실시예에 있어서, 바디부의 외곽 영역의 모서리가 베이스부를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.In this embodiment, the edge of the outer region of the body portion is formed to be bent in a direction toward the base portion.

본 실시예에 있어서, 제1 지지부 및 제2 지지부 중 적어도 하나에는 오목부가 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.In this embodiment, at least one of the first support portion and the second support portion may be provided with a concave portion.

본 실시예에 있어서, 증착 영역은, 외곽 영역이 제2 지지부에 의해 지지되는 바디부와, 바디부를 관통하도록 형성되어 증착 물질을 통과시키는 하나 이상의 패턴부를 포함할 수 있다.In this embodiment, the deposition area may include a body part in which the outer area is supported by the second support part, and at least one pattern part formed to penetrate the body part and to pass the deposition material.

본 실시예에 있어서, 바디부의 외곽 영역의 모서리가 오목부를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.In this embodiment, the edge of the outer region of the body portion is formed to be bent in the direction toward the concave portion.

본 실시예에 있어서, 마스크와 프레임의 제2 지지부를 결합하는 용접부를 더 포함할 수 있다.In this embodiment, it is possible to further include a weld portion that joins the mask and the second support portion of the frame.

본 발명의 다른 실시예는 베이스부와, 베이스부로부터 돌출되어 측면이 경사지도록 형성되는 제1 지지부와, 제1 지지부로부터 돌출되도록 형성되어 마스크를 지지하는 제2 지지부를 포함하는 프레임을 준비하는 단계와, 증착 물질을 통과시키는 증착 영역과 증착 영역의 외측에 연결되어 형성되는 잉여 영역을 포함하는 마스크를 준비하는 단계와, 프레임에 마스크를 결합하는 단계와, 프레임과 마스크가 접하는 면의 반대측에서 증착 영역의 외곽부를 몰드부로 가압하는 단계와, 잉여 영역을 절삭하는 단계를 포함하는 마스크 프레임 조립체 제조 방법을 개시한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: preparing a frame including a base portion, a first support portion protruding from the base portion so as to be inclined at a side, and a second support portion protruding from the first support portion, Preparing a mask including a deposition area through which the deposition material passes and a surplus area formed in connection with the outside of the deposition area; coupling a mask to the frame; Pressing the outer portion of the region with the mold portion, and cutting the surplus region.

본 실시예에 있어서, 프레임에 마스크를 결합하는 단계는, 증착 영역과 잉여 영역이 접하는 경계면을 제2 지지부의 외곽 영역의 모서리에 대응하도록 위치시키는 것을 특징으로 할 수 있다.In this embodiment, the step of joining the mask to the frame may be characterized in that the interface at which the deposition region and the surplus region are in contact is positioned to correspond to the edge of the outer region of the second support portion.

본 실시예에 있어서, 증착 영역은, 외곽 영역이 제2 지지부에 의해 지지되는 바디부와, 바디부를 관통하도록 형성되어 증착 물질을 통과시키는 하나 이상의 패턴부를 포함할 수 있다.In this embodiment, the deposition area may include a body part in which the outer area is supported by the second support part, and at least one pattern part formed to penetrate the body part and to pass the deposition material.

본 실시예에 있어서, 바디부의 외곽 영역의 모서리가 베이스부를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.In this embodiment, the edge of the outer region of the body portion is formed to be bent in a direction toward the base portion.

본 실시예에 있어서, 제1 지지부 및 제2 지지부 중 적어도 하나에는 오목부가 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.In this embodiment, at least one of the first support portion and the second support portion may be provided with a concave portion.

본 실시예에 있어서, 프레임에 마스크를 결합하는 단계는, 증착 영역과 잉여 영역이 접하는 경계면을 오목부에 위치시키는 것을 특징으로 할 수 있다.In the present embodiment, the step of joining the mask to the frame may be characterized in that the interface, in which the deposition region and the surplus region are in contact, is placed in the concave portion.

본 실시예에 있어서, 증착 영역은, 외곽 영역이 제2 지지부에 의해 지지되는 바디부와, 바디부를 관통하도록 형성되어 증착 물질을 통과시키는 하나 이상의 패턴부를 포함할 수 있다.In this embodiment, the deposition area may include a body part in which the outer area is supported by the second support part, and at least one pattern part formed to penetrate the body part and to pass the deposition material.

본 실시예에 있어서, 바디부의 외곽 영역의 모서리가 오목부를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.In this embodiment, the edge of the outer region of the body portion is formed to be bent in the direction toward the concave portion.

본 실시예에 있어서, 잉여 영역을 절삭하는 방법으로, 증착 영역과 잉여 영역의 경계면을 기계식 절단기(mechanical cutter)로 절삭하는 것을 특징으로 할 수 있다.In this embodiment, the method of cutting the excess area may be characterized by cutting the interface between the deposition area and the surplus area with a mechanical cutter.

본 발명의 또 다른 실시예는 기판 및 마스크 프레임 조립체를 챔버 내부로 장입하는 단계와, 기판과 마스크 프레임 조립체를 정렬하는 단계와, 증착원으로부터 분사된 증착 물질을 마스크 프레임 조립체의 패턴부를 통하여 기판에 증착시키는 단계를 포함하고, 마스크 프레임 조립체는, 증착 물질을 통과시키는 증착 영역을 포함하는 마스크와, 베이스부와 상기 베이스부로부터 돌출되어 측면이 경사지도록 형성되는 제1 지지부와 제1 지지부로부터 돌출되도록 형성되어 마스크를 지지하는 제2 지지부를 포함하는 프레임을 포함하고, 마스크의 모서리가 베이스부를 향해 절곡되어 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 표시 장치의 제조 방법을 개시한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: charging a substrate and a mask frame assembly into a chamber; aligning a substrate and a mask frame assembly; Wherein the mask frame assembly comprises a mask including a deposition area through which a deposition material is passed, and a second support part protruding from the base part, the first support part being formed such that a side surface is inclined and the first support part projecting from the first support part. And a second supporting part formed on the first supporting part to support the mask, wherein the edge of the mask is formed to be bent toward the base part.

전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다. Other aspects, features, and advantages will become apparent from the following drawings, claims, and detailed description of the invention.

본 발명의 실시예들에 따르면 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법은 기판과 마스크의 밀착성을 향상시켜 기판에 증착 물질을 정밀하게 증착할 수 있다.According to embodiments of the present invention, a mask frame assembly, a method of manufacturing the same, and a method of manufacturing an organic light emitting display device can improve the adhesion between the substrate and the mask, thereby accurately depositing the deposition material on the substrate.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1의 마스크 프레임 조립체를 제조하는 공정 이전의 마스크와 프레임을 분해하여 나타낸 분해사시도이다.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체의 제조 방법을 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체를 나타내는 사시도이다.
도 8은 도 7의 마스크 프레임 조립체를 제조하는 공정 이전의 마스크와 프레임을 분해하여 나타낸 분해사시도이다.
도 9 내지 도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체의 제조 방법을 나타내는 단면도이다.
도 13은 도 1 및 도 7에 나타난 마스크 프레임 조립체를 이용하여 제조되는 유기 발광 표시 장치를 나타내는 도면이다.1 is a perspective view showing a mask frame assembly according to an embodiment of the present invention.
2 is an exploded perspective view showing a mask and a frame in a disassembled state before the process of manufacturing the mask frame assembly of FIG.
3 to 6 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a mask frame assembly according to an embodiment of the present invention.
7 is a perspective view illustrating a mask frame assembly according to another embodiment of the present invention.
FIG. 8 is an exploded perspective view of the mask and frame prior to the process of manufacturing the mask frame assembly of FIG. 7 in exploded view.
9 to 12 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a mask frame assembly according to another embodiment of the present invention.
FIG. 13 is a view illustrating an organic light emitting display manufactured using the mask frame assembly shown in FIGS. 1 and 7. FIG.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다. 이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. 또한, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. The effects and features of the present invention and methods of achieving them will be apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be implemented in various forms. In the following embodiments, the terms first, second, and the like are used for the purpose of distinguishing one element from another element, not the limitative meaning. Also, the singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. Also, the terms include, including, etc. mean that there is a feature, or element, recited in the specification and does not preclude the possibility that one or more other features or components may be added.

또한, 도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다. 또한, 어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.Also, in the drawings, for convenience of explanation, the components may be exaggerated or reduced in size. For example, the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, and thus the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings. Also, if an embodiment is otherwise feasible, the particular process sequence may be performed differently than the sequence described. For example, two processes that are described in succession may be performed substantially concurrently, and may be performed in the reverse order of the order described.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to like or corresponding components throughout the drawings, and a duplicate description thereof will be omitted .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(10)를 나타내는 사시도이며, 도 2는 도 1의 마스크 프레임 조립체(10)를 제조하는 공정 이전의 마스크(100)와 프레임(200)을 분해하여 나타낸 분해사시도이다.FIG. 1 is a perspective view showing a mask frame assembly 10 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view of a mask 100 and a frame 200 before the process of manufacturing the mask frame assembly 10 of FIG. Fig.

도 1 및 도 2를 참조하면, 마스크 프레임 조립체(10)는 마스크(100)와 프레임(200)을 포함한다. 이러한 마스크(100)와 프레임(200)은 용접부(130)를 통해 일체로 결합되며, 디스플레이 기판(미도시)에 박막(thin film)을 증착하는 공정에서 증착원(미도시)과 디스플레이 기판 사이에 배치되어 디스플레이 기판에 원하는 패턴의 형상에 따라 증착 물질을 통과시키는 역할을 할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2, a mask frame assembly 10 includes a mask 100 and a frame 200. The mask 100 and the frame 200 are integrally coupled to each other through the weld 130 and are formed between the deposition source (not shown) and the display substrate in a process of depositing a thin film on a display substrate And may pass through the deposition material according to the shape of the desired pattern on the display substrate.

마스크(100)는 증착 물질을 통과시키는 증착 영역(110)과, 마스크 프레임 조립체(10)의 제조 과정에서 절삭되는 잉여 영역(120)을 포함한다. 증착 영역(110)은 외곽 영역이 프레임(200)의 제2 지지부(230)에 의해 지지되는 바디부(111)와, 바디부(111)를 관통하도록 홀(hole) 또는 슬릿(slit)의 형상으로 형성되어 증착 물질을 통과시키는 하나 이상의 패턴부(112)를 포함할 수 있다.The mask 100 includes a deposition region 110 through which a deposition material is passed and a surplus region 120 that is cut in the manufacturing process of the mask frame assembly 10. The deposition area 110 includes a body part 111 in which an outer area is supported by the second support part 230 of the frame 200 and a shape of a hole or a slit And may include one or more pattern units 112 for passing the deposition material.

이러한 증착 영역(110)은 프레임(200)의 개구부(240)에 대응하도록 배치되며, 패턴부(112)는 마스크(100)를 관통하는 증착용 패턴을 형성한다. 또한, 바디부(111)는 각 패턴부(112)들 사이와, 증착 영역(110)의 외곽에 형성되어 증착원으로부터 방사되는 증착 물질을 차단한다. 따라서, 증착원으로부터 방사되는 증착 물질은 패턴부(112)를 통과하여 디스플레이 기판에 증착되며, 이는 패턴부(112)의 형상에 따라 디스플레이 기판에 증착되는 증착 물질의 형상도 달라질 수 있음을 의미한다.The deposition region 110 is disposed to correspond to the opening portion 240 of the frame 200 and the pattern portion 112 forms an evaporation pattern passing through the mask 100. The body part 111 is formed between the pattern parts 112 and the outer periphery of the deposition area 110 to block the deposition material emitted from the deposition source. Accordingly, the evaporation material emitted from the evaporation source passes through the pattern unit 112 and is deposited on the display substrate, which means that the shape of the evaporation material deposited on the display substrate may vary depending on the shape of the pattern unit 112 .

즉, 패턴부(112)는 도 1에 나타난 바와 같이 스트라이프(stripe) 모양으로 형성될 수 있으며, 뿐만 아니라 예컨데 복수개의 도트(dot) 모양으로 형성될 수 있다. 아울러, 도 1에 나타난 패턴부(112)의 개수나 위치 또한 하나의 예시로써, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않으며 증착 물질이 증착될 디스플레이 기판의 크기에 따라 다양하게 선택가능하다.That is, the pattern unit 112 may be formed in a stripe shape as shown in FIG. 1, or may be formed in a plurality of dot shapes, for example. In addition, the number and position of the pattern units 112 shown in FIG. 1 are also illustrative, and the embodiments of the present invention are not limited thereto, and various choices can be made according to the size of the display substrate on which the deposition material is deposited.

또한, 마스크(100)는 하나의 큰 부재로 형성되어 프레임(200)에 결합될 수 있으나, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않는다. 예컨데, 마스크(100)는 마스크(100)의 자중을 분산시키는 복수개의 스틱(stick) 모양으로 형성될 수 있다. 다만 이하에서는 설명의 편의를 위하여 도 1에 나타난 바와 같이 원장 모양의 마스크(100)를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.Further, the mask 100 may be formed of one large member and coupled to the frame 200, but the embodiments of the present invention are not limited thereto. For example, the mask 100 may be formed as a plurality of sticks dispersing the self weight of the mask 100. Hereinafter, for convenience of explanation, the mask 100 having a lance-like shape will be described in detail, as shown in FIG.

한편, 용접부(130)는 증착 영역(110)의 외곽에 형성되어 마스크(100)와 프레임(200)을 결합한다. 용접부(130)를 형성하는 방법, 즉 다시 말해 마스크(100)와 프레임(200)을 결합하는 방법에는 일반적으로 용접(welding) 방식이 있으며, 이밖에도 전기주조법(electroforming)이나 무전해도금(electroless plating)과 같이 널리 알려진 여러가지 방법이 사용될 수 있다.The welding portion 130 is formed on the outer periphery of the deposition region 110 to couple the mask 100 and the frame 200 together. A method of forming the welded portion 130, that is, a method of joining the mask 100 and the frame 200, is generally a welding method. In addition, electroforming or electroless plating, May be used.

다음으로, 프레임(200)은 마스크(100)와 결합하여 마스크(100)를 지지하며, 베이스부(210)와, 베이스부(210)로부터 돌출되어 측면이 경사지도록 형성되는 제1 지지부(220)와, 제1 지지부(220)로부터 돌출되도록 형성되어 마스크(100)를 지지하는 제2 지지부(230)를 포함한다.The frame 200 supports the mask 100 in combination with the mask 100 and includes a base portion 210 and a first support portion 220 protruding from the base portion 210 and having a side inclined, And a second support part 230 protruding from the first support part 220 and supporting the mask 100.

이러한 프레임(200)은 마스크 프레임 조립체(10)의 외곽 틀을 형성하는 것으로, 중앙에 개구부(240)가 형성된 액자 모양으로 형성될 수 있다. 또한, 프레임(200)은 금속 또는 합성수지 등으로 제조될 수 있으며, 도면에 나타난 사각형 모양 이외에도 원형 또는 다각형과 같이 다양한 모양으로 형성될 수 있다.Such a frame 200 forms a frame of the mask frame assembly 10 and may be formed in a frame shape having an opening 240 formed at the center thereof. In addition, the frame 200 may be made of metal, synthetic resin, or the like, and may have various shapes such as a circular shape or a polygonal shape in addition to the rectangular shape shown in the drawings.

베이스부(210)는 프레임(200)의 본체가 되는 부재로, 프레임(200)에서 돌출되도록 형성되는 제1 지지부(220)와 제2 지지부(230) 및 제2 지지부(230)에 결합하는 마스크(100)를 지지한다.The base 210 is a member that becomes the main body of the frame 200 and includes a first support portion 220 protruding from the frame 200 and a second support portion 220 protruding from the frame 200. The second support portion 230 and the second support portion 230 (100).

제1 지지부(220)는 베이스부(210)로부터 돌출되어 형성되며, 측면이 경사지도록 형성될 수 있다. 그리고 제2 지지부(220)는 제1 지지부(220)로부터 돌출되어 형성되며, 전술한 용접부(130)를 통해 마스크(100)와 결합한다.The first support portion 220 may be formed to protrude from the base portion 210 and have a side surface inclined. The second support part 220 protrudes from the first support part 220 and is coupled to the mask 100 through the weld part 130 described above.

이때, 제2 지지부(220)와 결합하는 마스크(100)의 모서리는 베이스부(210)를 향해 절곡되도록 형성된다. 이는 후술할 마스크 프레임 조립체(10)의 제조 공정 가운데 잉여 영역(120)이 절삭되는 과정에서 바디부(111)의 외곽 영역의 모서리가 베이스부(210)를 향하는 방향으로 절곡되기 때문으로, 이러한 구조를 갖는 마스크 프레임 조립체(10)를 증착 공정에 사용하여 얻을 수 있는 효과는 다음과 같다.At this time, the edge of the mask 100, which is coupled with the second support part 220, is formed to be bent toward the base part 210. This is because the edge of the outer region of the body portion 111 is bent in the direction toward the base portion 210 in the process of cutting the excess region 120 in the manufacturing process of the mask frame assembly 10 to be described later, The effect obtained by using the mask frame assembly 10 having the above-described structure in the deposition process is as follows.

일반적으로, 종래의 기술에 의하면, 용접부(130)에 의해 마스크(100)와 프레임(200)이 결합된 이후 용접부(130)보다 외측에 존재하는 마스크(100)의 잉여 영역(120)은 레이저로 절단된다. 이러한 경우, 레이저가 조사되어 절단되는 잉여 영역(120)의 커팅면에는 마스크(100)의 열변형에 의한 잔여물인 버(burr)가 마스크(100)로부터 돌출되어 형성된다.Generally, according to the related art, the surplus region 120 of the mask 100 existing outside the welded portion 130 after the mask 100 and the frame 200 are coupled by the welded portion 130 is laser- Is cut. In this case, a burr, which is a residue due to thermal deformation of the mask 100, is formed by protruding from the mask 100 on the cut surface of the redundant region 120 where the laser is irradiated and cut.

이러한 버(burr)는 이후 증착 물질을 디스플레이 기판에 증착시키는 공정에서 마스크(100)와 디스플레이 기판이 밀착하는 경우 문제가 된다. 즉, 마스크(100)로부터 소정 간격 돌출되어 형성되는 버(burr)의 존재로 인해, 마스크(100)와 디스플레이 패널은 서로 고르게 밀착되지 못하고 버(burr)의 높이 만큼의 빈 공간이 마스크(100)와 디스플레이 패널 사이에 형성된다. 따라서, 버(burr)로 인해 마스크(100)와 디스플레이 패널은 서로 밀착되지 못하며, 이러한 경우에는 증착 물질이 디스플레이 기판 상의 원하지 않았던 영역인 데드 영역(dead zone)에 증착되어 디스플레이 제품의 생산성 및 픽셀의 정확성 저하를 초래하게 된다.Such a burr is a problem when the mask 100 and the display substrate are closely contacted in the process of depositing the evaporation material on the display substrate. That is, since the mask 100 and the display panel are not uniformly adhered to each other due to the presence of burrs protruding from the mask 100 at a predetermined interval, an empty space corresponding to the height of the burr is formed on the mask 100, And the display panel. Therefore, the burr prevents the mask 100 and the display panel from being in close contact with each other. In this case, the deposition material is deposited in a dead zone, which is an undesirable region on the display substrate, Resulting in a reduction in accuracy.

증착 물질이 디스플레이 기판 상에 정밀하게 증착되지 못하는 이러한 현상을 쉐도우 현상(shadow effect)이라고 일컫는다. 대면적화 및 고해상도화가 요구되는 디스플레이 제품을 제조하기 위해서는 이러한 쉐도우 현상을 저감시키거나 없애는 방법이 필요하다.This phenomenon in which a deposition material is not precisely deposited on a display substrate is referred to as a shadow effect. In order to manufacture a display product requiring large-sized and high resolution, a method of reducing or eliminating such a shadow phenomenon is needed.

따라서, 쉐도우 현상을 저감시키거나 없애기 위해서는 마스크(100)와 디스플레이 기판의 밀착도를 향상시킬 필요가 있다. 즉 다시말해, 마스크(100)의 제작 공정에서 잉여 영역(120)을 제거할 때 마스크(100)의 표면에 형성되는 버(burr)가 디스플레이 기판과 접촉하지 않도록 하거나, 마스크(100)에 버(burr)가 존재하지 않도록 레이저 절단과 다른 방법이 요구된다.Therefore, in order to reduce or eliminate the shadow phenomenon, it is necessary to improve the degree of adhesion between the mask 100 and the display substrate. That is, when removing the redundant region 120 in the process of manufacturing the mask 100, burrs formed on the surface of the mask 100 may not be brought into contact with the display substrate, There is a need for laser cutting and other methods so that burrs do not exist.

한편, 이러한 방법 대신 마스크(100)의 잉여 영역(120) 절단 이후 버(burr)를 절삭하는 공정을 추가로 실시할 수 있다. 하지만 이러한 방법은 추가적인 공정으로써, 생산성 저하 및 단가 상승을 유발할 수 있다.Alternatively, a process of cutting a burr after cutting the excess region 120 of the mask 100 may be further performed. However, this method is an additional process, which can lead to a decrease in productivity and an increase in unit price.

따라서 이와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(10)는 마스크(100)의 모서리가 베이스부(210)를 향하도록 절곡되어 형성되는 것을 특징으로 한다.Therefore, in order to solve such a problem, the mask frame assembly 10 according to an embodiment of the present invention is characterized in that the edge of the mask 100 is bent to face the base 210.

도 3 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(10)의 제조 방법을 나타내는 단면도이다.3 to 6 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the mask frame assembly 10 according to an embodiment of the present invention.

도 3 내지 도 6을 참조하면, 마스크 프레임 조립체(10)의 제조 방법은 프레임(200)을 준비하는 단계와, 마스크(100)를 준비하는 단계와, 마스크(100)와 프레임(200)을 결합하는 단계와, 몰드부(50a)로 마스크(100)를 가압하는 단계 및 마스크(100)의 잉여 영역(120)을 절삭하는 단계를 포함할 수 있다. 이하에서, 프레임(200)을 준비하는 단계와 마스크(100)를 준비하는 단계에 대해서는 전술한 마스크(100)와 프레임(200)을 제조하는 단계이므로 이에 대한 자세한 설명을 생략하기로 한다.3 to 6, the method of manufacturing the mask frame assembly 10 includes steps of preparing the frame 200, preparing the mask 100, and combining the mask 100 and the frame 200 , Pressing the mask 100 with the mold section 50a, and cutting the excess area 120 of the mask 100. [0050] Hereinafter, the step of preparing the frame 200 and the step of preparing the mask 100 are the steps of manufacturing the mask 100 and the frame 200 described above, and thus a detailed description thereof will be omitted.

먼저 도 3을 참조하면, 마스크(100)의 증착 영역(110)과 잉여 영역(120)의 경계면(B)은 제2 지지부(230)의 외곽 영역의 모서리에 대응하도록 위치된다. 이때, 마스크(100)의 잉여 영역(120)은 제2 지지부(230)와 접촉하지 않으며, 따라서 잉여 영역(120)은 프레임(200)의 베이스부(210)와 소정 간격 이격되어 배치되므로 잉여 영역(120)과 베이스부(210) 사이에는 소정의 빈 공간이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 3, the interface B between the deposition area 110 and the surplus area 120 of the mask 100 is positioned to correspond to the edge of the outer area of the second support part 230. Since the surplus region 120 of the mask 100 is not in contact with the second support portion 230 and the surplus region 120 is spaced apart from the base portion 210 of the frame 200 by a predetermined distance, A predetermined empty space may be formed between the base 120 and the base 210.

도 4를 참조하면, 마스크(100)는 프레임(200)에 용접부(130)를 통해 결합할 수 있다. 상세히, 용접부(130)는 마스크(100)의 바디부(111)의 외곽 영역에 형성되며, 제2 지지부(230)에 접촉하도록 형성되어 마스크(100)와 제2 지지부(230)를 결합할 수 있다.Referring to FIG. 4, the mask 100 may be coupled to the frame 200 through a weld 130. More specifically, the weld 130 is formed in the outer region of the body portion 111 of the mask 100 and is configured to contact the second support portion 230 so as to couple the mask 100 and the second support portion 230 have.

이러한 용접부(130)의 형성 방법에는 전술한 바와 같이 일반적으로 용접(welding) 방식이 있으며, 이밖에도 전기주조법(electroforming)이나 무전해도금(electroless plating)과 같이 널리 알려진 여러가지 방법이 사용될 수 있다. 이렇게 용접부(130)를 형성하여 마스크(100)와 프레임(200)을 결합하는 것은 마스크 프레임 조립체(10)의 제조 공정에서 마스크(100)와 프레임(200)을 정밀하게 정렬한 채로 공정을 진행하기 위함이다.As described above, the welding portion 130 is generally formed by a welding method. In addition, various well-known methods such as electroforming and electroless plating may be used. The welding part 130 is formed to join the mask 100 and the frame 200 in the process of manufacturing the mask frame assembly 10 while precisely aligning the mask 100 and the frame 200 It is for this reason.

다음으로, 도 5 및 도 6을 참조하여 몰드부(50a)로 마스크(100)를 가압하는 단계 및 마스크(100)의 잉여 영역(120)을 절삭하는 단계를 설명하기로 한다.Next, the steps of pressing the mask 100 with the mold portion 50a and cutting the excess region 120 of the mask 100 will be described with reference to Figs. 5 and 6. Fig.

도 5를 참조하면, 마스크(100)와 프레임(200)이 서로 접하는 면의 반대측 방향에는 마스크(100)를 가압하기 위한 몰드부(50a)가 준비된다. 몰드부(50a)는 마스크(100)의 증착 영역(110)의 외곽 영역, 상세히는 증착 영역(110)의 바디부(111)의 외곽 영역을 가압하도록 배치되며, 몰드부(50a)의 최외곽 단부는 증착 영역(110)과 잉여 영역(120)의 경계면(B)에 배치된다.Referring to FIG. 5, a mold portion 50a for pressing the mask 100 is prepared in a direction opposite to the side where the mask 100 and the frame 200 are in contact with each other. The mold part 50a is arranged to press the outer area of the deposition area 110 of the mask 100 and more specifically the outer area of the body part 111 of the deposition area 110, The end portion is disposed at the interface (B) between the deposition region 110 and the surplus region 120.

다음으로, 몰드부(50a)가 바디부(111)의 외곽 영역을 가압한 상태에서, 기계식 절단기(mechanical cutter)(70)가 몰드부(50a)의 측면을 따라 프레임(200) 측으로 이동하면서 증착 영역(110)과 잉여 영역(120)의 경계면(B)에 전단력(shearing force)를 가해 잉여 영역(120)을 마스크(100)로부터 절삭한다. Next, a mechanical cutter 70 is moved along the side surface of the mold part 50a toward the frame 200 while the mold part 50a presses the outer peripheral area of the body part 111, A shearing force is applied to the interface B between the region 110 and the surplus region 120 to cut off the surplus region 120 from the mask 100.

이렇게 증착 영역(110)과 잉여 영역(120)의 경계면(B)을 기계식 절단기(70)로 절삭하게 되면, 도 6에 나타나는 바와 같이 바디부(111)의 외곽 영역의 모서리가 베이스부(210)를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성되는 마스크 프레임 조립체(10)를 제작할 수 있다.6, when the edge of the outer region of the body portion 111 is cut off from the base portion 210, as shown in FIG. 6, the boundary portion B between the deposition region 110 and the surplus region 120 is cut by the mechanical cutter 70, The mask frame assembly 10 is formed to be bent in a direction toward the mask frame assembly 10.

이러한 구조를 갖는 마스크 프레임 조립체(10)를 증착 공정에 이용하게 되면, 증착 공정에서 마스크(100)와 디스플레이 기판의 밀착성을 향상시킬 수 있으며, 결과적으로 전술한 바와 같이 쉐도우 현상을 개선하여 디스플레이 제품의 불량을 방지할 수 있으며, 또한 버(burr) 제거와 같은 불필요한 공정을 생략하여 생산 비용을 절감할 수 있다.When the mask frame assembly 10 having such a structure is used in the deposition process, the adhesion between the mask 100 and the display substrate in the deposition process can be improved, and as a result, the shadow phenomenon can be improved as described above, Defects can be prevented and unnecessary processes such as burr removal can be omitted to reduce the production cost.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(20)를 나타내는 사시도이며, 도 8은 도 7의 마스크 프레임 조립체(20)를 제조하는 공정 이전의 마스크(100)와 프레임(300)을 분해하여 나타낸 분해사시도이다.FIG. 7 is a perspective view showing a mask frame assembly 20 according to another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a perspective view showing a mask 100 and a frame 300 before the process of manufacturing the mask frame assembly 20 of FIG. Fig.

도 7 및 도 8에 나타난 마스크 프레임 조립체(20)는 도 1 및 도 2에 나타난 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(10)와 비교하여 프레임(300)에 형성되는 오목부(335)를 제외한 나머지 구성요소들은 모두 동일하다.The mask frame assembly 20 shown in Figs. 7 and 8 has a concave portion 335 formed in the frame 300 as compared to the mask frame assembly 10 according to the embodiment of the present invention shown in Figs. 1 and 2, The remaining components are the same.

따라서, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 오목부(335)를 중심으로 상세히 설명하기로 하고, 나머지 구성요소들은 도 1 및 도 2에서 설명한 마스크 프레임 조립체(10)의 구조와 동일하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.Therefore, the following description will be made with reference to the recess 335 for convenience of explanation, and the remaining components are the same as the structure of the mask frame assembly 10 described with reference to FIGS. 1 and 2, .

오목부(335)는 프레임(300)으로부터 돌출되어 형성되는 제1 지지부(320) 및 제2 지지부(330) 중 어느 하나에 형성될 수 있다. 도 7 및 도 8은 이러한 오목부(335)가 제2 지지부(330)에 형성된 모습을 나타내나, 본 실시예는 이에 한정되지 않으며, 제1 지지부(320)에도 오목부(335)가 형성될 수 있다.The concave portion 335 may be formed on one of the first support portion 320 and the second support portion 330 protruding from the frame 300. 7 and 8 show a state in which the concave portion 335 is formed on the second support portion 330 but the present embodiment is not limited to this and the concave portion 335 is also formed in the first support portion 320 .

단, 제1 지지부(320) 및 제2 지지부(330) 중 어느 하나에 오목부(335)가 형성되더라도 마스크(100)의 바디부(111)는 상기 오목부(335)를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성된다. 이러한 구조를 갖는 본 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(20)는, 전술한 바와 같이 마스크(100)와 프레임(300)을 결합한 후에 마스크(100)의 잉여 영역(120)을 절삭하는 공정에서 발생하는 버(burr)를 마스크(100)와 디스플레이 기판이 맞닿는 면보다 낮은 위치에 형성되도록 하여 마스크(100)와 디스플레이 기판의 밀착력을 향상시킬 수 있다.The body part 111 of the mask 100 may be bent in the direction toward the concave part 335 even if the concave part 335 is formed in any one of the first supporting part 320 and the second supporting part 330. [ . The mask frame assembly 20 according to the present embodiment having such a structure is formed in the process of cutting the excess area 120 of the mask 100 after combining the mask 100 and the frame 300 as described above A burr may be formed at a position lower than the surface where the mask 100 and the display substrate are in contact with each other to improve the adhesion between the mask 100 and the display substrate.

도 9 내지 도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(20)의 제조 방법을 나타내는 단면도이다.9 to 12 are sectional views showing a method of manufacturing the mask frame assembly 20 according to another embodiment of the present invention.

도 9 내지 도 12를 참조하면, 마스크 프레임 조립체(20)의 제조 방법은 프레임(300)을 준비하는 단계와, 마스크(100)를 준비하는 단계와, 마스크(100)와 프레임(300)을 결합하는 단계와, 몰드부(50b)로 마스크(100)를 가압하는 단계 및 마스크(100)의 잉여 영역(120)을 절삭하는 단계를 포함할 수 있다. 이하에서, 프레임(300)을 준비하는 단계와 마스크(100)를 준비하는 단계에 대해서는 전술한 마스크(100)와 프레임(300)을 제조하는 단계이므로 이에 대한 자세한 설명을 생략하기로 한다.9 to 12, the method of manufacturing the mask frame assembly 20 includes the steps of preparing the frame 300, preparing the mask 100, and combining the mask 100 and the frame 300 , Pressing the mask 100 with the mold part 50b, and cutting the excess area 120 of the mask 100. [0034] Hereinafter, the step of preparing the frame 300 and the step of preparing the mask 100 are the steps of manufacturing the mask 100 and the frame 300 described above, and thus a detailed description thereof will be omitted.

먼저 도 9를 참조하면, 마스크(100)의 증착 영역(110)과 잉여 영역(120)의 경계면(B')은 제2 지지부(330)에 형성되는 오목부(335)에 위치된다. 한편, 도면에 나타나지는 않았으나 이러한 오목부(335)는 제1 지지부(330)에도 형성될 수 있으며, 이러한 경우 증착 영역(110)과 잉여 영역(120)의 경계면(B')은 제1 지지부(330)에 형성되는 오목부(335)에 위치할 수 있다.9, the interface B 'between the deposition region 110 and the surplus region 120 of the mask 100 is located in the recess 335 formed in the second support portion 330. Referring to FIG. In this case, the interface B 'of the deposition region 110 and the surplus region 120 may be formed in the first support portion 330 330 formed in the concave portion 335.

도 10을 참조하면, 마스크(100)의 증착 영역(110)과 잉여 영역(120)의 경계면(B')을 오목부(335)에 위치시킨 이후, 마스크(100)는 프레임(300)에 용접부(130)를 통해 결합된다. 상세히, 용접부(130)는 마스크(100)의 바디부(111)의 외곽 영역에 형성되며, 오목부(335)보다는 안쪽에 형성됨으로써 이후 잉여 영역(120)이 절삭된 이후 증착 영역(110)의 외곽 영역의 모서리가 오목부(335)를 향해 절곡되도록 형성된다.10, the mask 100 is placed on the frame 300 after welding the interface (B ') between the deposition area 110 and the surplus area 120 of the mask 100 to the concave part 335, (130). In detail, the welded portion 130 is formed in the outer region of the body portion 111 of the mask 100 and is formed inwardly of the recessed portion 335, so that after the surplus region 120 is cut, The edge of the outer region is formed so as to be bent toward the concave portion 335.

이러한 용접부(130)의 형성 방법에는 전술한 바와 같이 일반적으로 용접(welding) 방식이 있으며, 이밖에도 전기주조법(electroforming)이나 무전해도금(electroless plating)과 같이 널리 알려진 여러가지 방법이 사용될 수 있다. 이렇게 용접부(130)를 형성하여 마스크(100)와 프레임(300)을 결합하는 것은 마스크 프레임 조립체(10)의 제조 공정에서 마스크(100)와 프레임(300)을 정밀하게 정렬한 채로 공정을 진행하기 위함이다.As described above, the welding portion 130 is generally formed by a welding method. In addition, various well-known methods such as electroforming and electroless plating may be used. The welding part 130 is formed to join the mask 100 and the frame 300 in the process of manufacturing the mask frame assembly 10 while precisely aligning the mask 100 and the frame 300 It is for this reason.

다음으로, 도 11 및 도 12를 참조하여 몰드부(50b)로 마스크(100)를 가압하는 단계 및 마스크(100)의 잉여 영역(120)을 절삭하는 단계를 설명하기로 한다.Next, the step of pressing the mask 100 with the mold part 50b and the step of cutting the surplus area 120 of the mask 100 will be described with reference to Figs. 11 and 12. Fig.

도 11을 참조하면, 마스크(100)와 프레임(300)이 서로 접하는 면의 반대측 방향에는 마스크(100)를 가압하기 위한 몰드부(50b)가 준비된다. 도 11에 나타난 몰드부(50a)는 도 5에 나타난 몰드부(50a)와 다른 형상을 갖는데, 이와 같이 몰드부(50a, 50b)는 다양한 변형예를 가질 수 있다.Referring to FIG. 11, a mold part 50b for pressing the mask 100 is prepared in the direction opposite to the side where the mask 100 and the frame 300 are in contact with each other. The mold portion 50a shown in FIG. 11 has a different shape from the mold portion 50a shown in FIG. 5. The mold portions 50a and 50b may have various modifications.

몰드부(50b)는 마스크(100)의 증착 영역(110)의 외곽 영역, 상세히는 증착 영역(110)의 바디부(111)의 외곽 영역을 가압하도록 배치되며, 몰드부(50b)의 최외곽 단부는 증착 영역(110)과 잉여 영역(120)의 경계면(B')에 배치된다.The mold part 50b is arranged to press the outer area of the deposition area 110 of the mask 100 and more specifically the outer area of the body part 111 of the deposition area 110 and the outermost area of the mold part 50b, And an end portion is disposed at an interface (B ') between the deposition region 110 and the surplus region 120.

다음으로, 몰드부(50b)가 바디부(111)의 외곽 영역을 가압한 상태에서, 기계식 절단기(mechanical cutter)(70)가 몰드부(50b)의 측면을 따라 프레임(300) 측으로 이동하면서 증착 영역(110)과 잉여 영역(120)의 경계면(B)에 전단력을 가해 잉여 영역(120)을 마스크(100)로부터 절삭한다.Next, the mechanical cutter 70 moves toward the frame 300 along the side surface of the mold part 50b while the mold part 50b presses the outer peripheral area of the body part 111, Shear force is applied to the interface B between the region 110 and the redundant region 120 to cut off the redundant region 120 from the mask 100.

이렇게 증착 영역(110)과 잉여 영역(120)의 경계면(B)을 기계식 절단기(70)로 절삭하게 되면, 도 12에 나타나는 바와 같이 바디부(111)의 외곽 영역의 모서리가 오목부(335)를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성되는 마스크 프레임 조립체(20)를 제작할 수 있다.12, the edge of the outer region of the body part 111 is cut into the concave part 335, as shown in FIG. 12, The mask frame assembly 20 may be formed to be bent in a direction toward the mask frame assembly 20.

이러한 구조를 갖는 마스크 프레임 조립체(20)를 증착 공정에 이용하게 되면, 증착 공정에서 마스크(100)와 디스플레이 기판의 밀착성을 향상시킬 수 있으며, 결과적으로 전술한 바와 같이 쉐도우 현상을 개선하여 디스플레이 제품의 불량을 방지할 수 있으며, 또한 버(burr) 제거와 같은 불필요한 공정을 생략하여 생산 비용을 절감할 수 있다.When the mask frame assembly 20 having such a structure is used in the deposition process, the adhesion between the mask 100 and the display substrate in the deposition process can be improved, and as a result, the shadow phenomenon can be improved as described above, Defects can be prevented and unnecessary processes such as burr removal can be omitted to reduce the production cost.

도 13은 도 1 및 도 7에 나타난 마스크 프레임 조립체를 이용하여 제조되는 유기 발광 표시 장치를 나타내는 도면이다.FIG. 13 is a view illustrating an organic light emitting display manufactured using the mask frame assembly shown in FIGS. 1 and 7. FIG.

도 13을 참조하면, 유기 발광 디스플레이 장치(400)에는 기판(411)이 마련되어 있다. 기판(411)은 유연성을 가지는 절연성 소재를 포함한다. 예컨데, 기판(411)은 글래스 기판일 수 있다. 또한, 기판(411)은 폴리이미드(polyimide, PI)나, 폴리 카보네이트(polycarbonate, PC)나, 폴리 에테르 설폰(polyethersulphone, PES)이나, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephtalate, PET)나, 폴리에틸렌 나프탈레이트(poluethylenenaphtalate, PEN)나, 폴리아릴레이트(poluarylate, PAR)나, 유리섬유 강화 플라스틱(fiber glass reinforced plastic, FRP) 등의 고분자 소재로 이루어질 수 있다. 기판(411)은 투명하거나, 반투명하거나, 불투명할 수 있다.Referring to FIG. 13, a substrate 411 is provided on the OLED display 400. The substrate 411 includes an insulating material having flexibility. For example, the substrate 411 may be a glass substrate. The substrate 411 may be formed of a material such as polyimide (PI), polycarbonate (PC), polyethersulphone (PES), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate a polymer material such as poluethylenenaphthalate (PEN), polyarylate (PAR), fiberglass reinforced plastic (FRP), or the like. The substrate 411 may be transparent, translucent, or opaque.

기판(411) 상에는 배리어막(412)이 형성될 수 있다. 배리어막(412)은 기판(411)의 상부면을 전체적으로 커버할 수 있도록 형성될 수 있다. 배리어막(412)은 무기막이나, 유기막을 포함할 수 있다. 배리어막(412)은 단일막으로 형성되거나, 다층막으로 적층될 수 있다. 예를 들면, 배리어막(412)은 단일막으로 형성되거나, 다층막으로 적층될 수 있다. 예를 들면, 배리어막(412)은 실리콘 옥사이드(SiOx), 실리콘 나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥시나이트라이드(SiON), 알루미늄 옥사이드(AlO), 알루미늄나이트라이드(AlON) 등의 무기물이나, 아크릴 폴리이미드, 폴리에스테르 등의 유기물 중에서 선택된 적어도 하나로 이루어질 수 있다.A barrier film 412 may be formed on the substrate 411. The barrier film 412 may be formed to cover the entire upper surface of the substrate 411. The barrier film 412 may include an inorganic film or an organic film. The barrier film 412 may be formed of a single film or may be laminated with a multilayer film. For example, the barrier film 412 may be formed of a single film or may be laminated with a multilayer film. For example, the barrier film 412 may be formed of an inorganic material such as silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), silicon oxynitride (SiON), aluminum oxide (AlO), aluminum nitride (AlON) Amide, polyester, and the like.

배리어막(412)은 산소와 수분을 차단하는 역할을 수행하고, 기판(411)을 통한 수분이나 불순물의 확산을 방지하고, 기판(411)의 상부에 평탄한 면을 제공한다. 배리어막(412) 상에는 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)가 형성될 수 있다. 도 8에 나타난 박막 트랜지스터는 탑 게이트(top gate) 방식의 박막 트랜지스터를 예시하나, 바텀 게이트(bottom gate) 방식 등 다른 구조의 박막 트랜지스터가 구비될 수 있음은 물론이다.The barrier film 412 serves to block oxygen and moisture, prevents diffusion of moisture or impurities through the substrate 411, and provides a flat surface on the top of the substrate 411. A thin film transistor (TFT) may be formed on the barrier film 412. The thin film transistor shown in FIG. 8 illustrates a top gate type thin film transistor, but it is needless to say that a thin film transistor having another structure such as a bottom gate type may be provided.

배리어막(412) 상에는 반도체 활성층(413)이 형성될 수 있다. 반도체 활성층(413)에는 N형이나, P형 불순물 이온을 도핑하는 것에 의하여 소스 영역(414)과, 드레인 영역(415)이 형성될 수 있다. 소스 영역(414)과, 드레인 영역(415) 사이의 영역은 불순물이 도핑되지 않는 채널 영역(416)이다.A semiconductor active layer 413 may be formed on the barrier film 412. The source region 414 and the drain region 415 may be formed in the semiconductor active layer 413 by doping with N type or P type impurity ions. The region between the source region 414 and the drain region 415 is a channel region 416 where no impurity is doped.

반도체 활성층(413)은 폴리 실리콘으로 형성될 경우에는 아몰퍼스 실리콘을 형성하고, 이를 결정화시키는 것에 의하여 폴리 실리콘으로 변화시킬 수 있다. 또한, 반도체 활성층(413)은 산화물 반도체로 형성될 수 있다. 예컨대, 산화물 반도체는 아연(Zn), 인듐(In), 갈륨(Ga), 주석(Sn), 카드뮴(Cd), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf)과 같은 4, 12, 13, 14족 금속 원소 및 이들의 조합에서 선택된 물질의 산화물을 포함할 수 있다.When the semiconductor active layer 413 is formed of polysilicon, amorphous silicon may be formed and converted to polysilicon by crystallizing the amorphous silicon. Further, the semiconductor active layer 413 may be formed of an oxide semiconductor. For example, the oxide semiconductor may be a 4, 12, 13, or 14 Group metal such as zinc (Zn), indium (In), gallium (Ga), tin (Sn), cadmium (Cd), germanium (Ge) ≪ / RTI > elements and combinations thereof.

반도체 활성층(413) 상에는 게이트 절연막(417)이 증착될 수 있다. 게이트 절연막(417)은 실리콘 산화물이나, 실리콘 질화물이나, 금속 산화물과 같은 무기막을 포함한다. 게이트 절연막(417)은 단일층이나, 다중층의 구조일 수 있다.A gate insulating film 417 may be deposited on the semiconductor active layer 413. The gate insulating film 417 includes an inorganic film such as silicon oxide, silicon nitride, or metal oxide. The gate insulating film 417 may be a single layer or a multilayer structure.

게이트 절연막(417) 상의 소정 영역에는 게이트 전극(418)이 형성될 수 있다. 게이트 전극(418)은 Au, Ag, Cu, Ni,Pt, Pd, Al, Mo, Cr 등의 단일막이나, 다층막을 포함하거나, Al:Nd, Mo:W와 같은 함금을 포함할 수 있다.A gate electrode 418 may be formed on a predetermined region of the gate insulating film 417. The gate electrode 418 may include a single layer such as Au, Ag, Cu, Ni, Pt, Pd, Al, Mo or Cr or a multilayer film or may include an alloy such as Al: Nd or Mo: W.

게이트 전극(418) 상에는 층간 절연막(419)이 형성될 수 있다. 층간 절연막(419)은 실리콘 산화물이나, 길리콘 질화물과 같은 절연성 소재로 형성돌 수 있다. 또한, 상기 층간 절연막(419)은 절연성 유기막으로 형성될 수 있다.An interlayer insulating film 419 may be formed on the gate electrode 418. The interlayer insulating film 419 may be formed of an insulating material such as silicon oxide or nitrile nitride. In addition, the interlayer insulating film 419 may be formed of an insulating organic film.

층간 절연막(419) 상에는 소스 전극(420)과, 드레인 전극(421)이 형성될 수 있다. 구체적으로, 게이트 절연막(417) 및 층간 절연막(419)에는 이들의 일부를 제거하는 것에 의하여 콘택 홀이 형성되고, 콘택 홀을 통하여 소스 영역(414)에 대하여 소스 전극(420)이 전기적으로 연결되고, 드레인 영역(415)에 대하여 드레인 전극(421)이 전기적으로 연결될 수 있다.A source electrode 420 and a drain electrode 421 may be formed on the interlayer insulating film 419. Specifically, a contact hole is formed in the gate insulating film 417 and the interlayer insulating film 419 by removing a part of them, and the source electrode 420 is electrically connected to the source region 414 through the contact hole And the drain electrode 421 may be electrically connected to the drain region 415. [

소스 전극(420)과, 드레인 전극(421)상에는 패시베이션막(422)이 형성될 수 있다. 패시베이션막(422)은 실리콘 산화물이나, 실리콘 질화물과 같은 무기막이나, 또는, 유기막으로 형성될 수 있다.A source electrode 420 and a passivation film 422 may be formed on the drain electrode 421. [ The passivation film 422 may be formed of an inorganic film such as silicon oxide, silicon nitride, or an organic film.

패시베이션막(422) 상에는 평탄화막(423)이 형성될 수 있다. 평탄화막(423)은 아크릴(acryl), 폴리이미드(pilyimide), BCB(Benzocyclobutene) 등의 유기막을 포함한다.A planarizing film 423 may be formed on the passivation film 422. The planarization film 423 includes an organic film such as acryl, piliimide, or BCB (Benzocyclobutene).

박막 트랜지스터 상부에는 유기 발광 소자(OLED)가 형성될 수있다. 유기 발과 소자(OLED)는 제1 전극(425)과, 제2 전극(427)과, 제1 전극(425)과 제2 전극(427) 사이에 개재되는 중간층(426)을 포함한다.An organic light emitting diode (OLED) may be formed on the thin film transistor. The OLED includes a first electrode 425, a second electrode 427 and an intermediate layer 426 interposed between the first electrode 425 and the second electrode 427.

제1 전극(425)은 콘택 홀을 통하여 소스 전극(420)이나 드레인 전극(421) 중 어느 한 전극에 전기적으로 연결되어 잇다. 제1 전극(425)은 픽셀 전극에 대응된다.The first electrode 425 is electrically connected to one of the source electrode 420 and the drain electrode 421 through the contact hole. The first electrode 425 corresponds to the pixel electrode.

제1 전극(425)은 에노우드로 기능하는 것으로서, 다양한 도전성 소재로 형성될 수 있다. 제1 전극(425)은 투명 전극이나, 반사형 전극으로 형성될 수 있다.The first electrode 425 functions as an anode, and may be formed of various conductive materials. The first electrode 425 may be formed of a transparent electrode or a reflective electrode.

이를 테면, 제1 전극(425)이 투면 전극으로 사용시, 제1 전극(425)은 ITO, IZO, ZnO, In2O3 등을 포함한다. 제1 전극(425)이 반사형 전극으로 사용시, 제1 전극(425)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr 및 이들의 화합물 등으로 반사막을 형성하고, 이후, 상기 반사막의 상부에 ITO, IZO, ZnO, In2O3 등을 형성할 수 있다.For example, when the first electrode 425 is used as a two-dimensional electrode, the first electrode 425 may include ITO, IZO, ZnO, In 2 O 3 , and the like. When the first electrode 425 is used as a reflective electrode, the first electrode 425 may be formed of a reflective film of Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Then, ITO, IZO, ZnO, In 2 O 3, or the like may be formed on the reflective layer.

평탄화막(423) 상에는 유기 발광 소자의 제1 전극(425)의 가장자리를 덮도록 픽셀 정의막(pixel define layer, PDL, 324)이 형성될 수 있다. 픽셀 정의막(424)은 제1 전극(425)의 가장자리를 둘러싸는 것에 의하여 각 서브 픽셀의 발광 영역을 정의한다.A pixel defining layer (PDL) 324 may be formed on the planarization layer 423 to cover the edge of the first electrode 425 of the organic light emitting diode. The pixel defining layer 424 defines the emission region of each subpixel by surrounding the edges of the first electrode 425.

픽셀 정의막(424)은 유기물이나, 무기물로 형성하게 된다. 이를테면, 상기 픽셀 정의막(424)은 폴리이미드, 폴리아마이드, 벤조사이클로부텐, 아크릴 수지, 페놀 수지 등과 같은 유기물이나, SiNx와 같은 무기물로 형성할 수 있다. 픽셀 정의막(424)은 단일막으로 형성되거나, 다중막을 형성할 수 있다.The pixel defining layer 424 is formed of an organic material or an inorganic material. For example, the pixel defining layer 424 may be formed of an organic material such as polyimide, polyamide, benzocyclobutene, acrylic resin, phenol resin, or the like, or an inorganic material such as SiNx. The pixel defining layer 424 may be formed of a single film or may form multiple films.

제1 전극(425) 상에는 픽셀 정의막(424)의 일부를 에칭하는 것에 의하여 노출된 영역에 중간층(426)이 형성될 수 있다. 중간층(426)은 증착 공정에 의하여 형성시킬 수 있다.An intermediate layer 426 may be formed on the exposed region by etching a portion of the pixel defining layer 424 on the first electrode 425. The intermediate layer 426 may be formed by a deposition process.

중간층(426)은 저분자 유기물이나, 고분자 유기물로 이루어질 수 있다. 중간층(426)은 유기 발광층(emissive layer, EML)을 구비할 수 있다. 선택적인 다른 예로서, 중간층(426)은 유기 발광층을 구비하고, 그 외에, 정공 주입층(hole injection layer, HIL), 정공 수송층(hole transport layer, HTL), 전자 수송층(electron transport layer, ETL), 전자 주입층(electron injection layer EIL) 중 적어도 어느 하나를 더 구비할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서는 이에 한정되지 않고, 중간층(426)이 유기 발광층을 구비하고, 기타 다양한 기능층을 더 구비할 수 있다.The intermediate layer 426 may be composed of a low molecular organic material or a high molecular organic material. The intermediate layer 426 may have an emissive layer (EML). Alternatively, the hole injection layer (HIL), the hole transport layer (HTL), the electron transport layer (ETL), and the electron transport layer (ETL) may be used as the intermediate layer 426. [ , And an electron injection layer (EIL) may be further included. In an embodiment of the present invention, the intermediate layer 426 may include an organic light emitting layer, and may further include various other functional layers.

중간층(426) 상에는 제2 전극(427)을 형성할 수 있다. 제2 전극(427)은 커먼 전극에 대응된다. 제2 전극(427)은 제1 전극(425)과 마찬가지로 투명 전극이나, 반사형 전극으로 형성할 수 있다.A second electrode 427 may be formed on the intermediate layer 426. And the second electrode 427 corresponds to the common electrode. The second electrode 427 may be formed of a transparent electrode or a reflective electrode in the same manner as the first electrode 425.

제1 전극(425)은 투명 전극이나, 반사형 전극으로 형성 시에 각 서브 픽셀의 개구와 대응되는 형태로 형성될 수 있다. 반면에, 제2 전극(427)은 투명 전극이나, 반사형 전극을 디스플레이부 상에 전면 증착할 수 있다. 대안으로는, 제2 전극(427)은 전면 증착 대신에 특정한 패턴으로 형성될 수 있음은 물론이다. 제1 전극(425)과, 제2 전극(427)은 위치가 서로 반대로 하여 적층될 수 있음은 물론이다.The first electrode 425 may be formed as a transparent electrode or a shape corresponding to the opening of each sub-pixel when formed as a reflective electrode. On the other hand, the second electrode 427 may be a transparent electrode, or the reflective electrode may be entirely deposited on the display portion. Alternatively, the second electrode 427 may be formed in a specific pattern instead of the entire deposition. It is needless to say that the first electrode 425 and the second electrode 427 may be stacked with their positions being opposite to each other.

한편, 제1 전극(425)과, 제2 전극(427)은 중간층(426)에 의하여 서로 절연되어 있다. 제1 전극(425) 및 제2 전극(427)에 전압이 인가되면, 중간층(426)에서 가시광이 발광하여 사용자가 인식할 수 있는 화상이 구현된다.On the other hand, the first electrode 425 and the second electrode 427 are insulated from each other by the intermediate layer 426. When a voltage is applied to the first electrode 425 and the second electrode 427, visible light is emitted from the intermediate layer 426 to realize an image that the user can recognize.

유기 발광 소자의 상부에는 밀봉부(340, encapsulation)가 형성될 수 있다. 상기 밀봉부(440)는 외부의 수분이나 산소 등으로부터 중간층(426) 및 다른 박막을 보호하기 위하여 형성되는 것이다.An encapsulation 340 may be formed on the organic light emitting device. The sealing portion 440 is formed to protect the intermediate layer 426 and other thin films from external moisture, oxygen, and the like.

밀봉부(440)는 유기막이나, 무기막이 각각 적어도 한 층 적층된 구조일 수 있다. 예컨데, 밀봉부(440)는 에폭시, 폴리이미드, 폴리에틸렌체레프팔레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴라아크릴레이트 등과 같은 적어도 하나의 유기막(414, 442)과, 실리콘 옥사이드(SiO2), 실리콘 나이트 라이드(SiNx), 알루미늄 옥사이드(Al2O3), 티타늄 옥사이드(TiO2), 지르코늄 옥사이드(ZrOx), 징크 옥사이드(ZnO) 등과 같은 적어도 하나의 무기막(443, 444, 445)이 적층된 구조일 수 있다.The sealing portion 440 may be a structure in which at least one organic film or inorganic film is stacked. For example, the sealing part 440 is an epoxy, polyimide, polyethylene body Lev arm acrylate, polycarbonate, polyethylene, polyacrylate, at least one of the organic film (414, 442), a silicon oxide, such as (SiO 2), Silicon Nitride nitride (SiNx), aluminum oxide (Al 2 O 3), titanium oxide (TiO 2), zirconium oxide (ZrOx), zinc oxide, at least one inorganic layer (443, 444, 445) is a laminated structure such as (ZnO) Lt; / RTI >

밀봉부(440)는 유기막(441, 442)이 적어도 1층이고, 무기막(443, 444, 445)이 적어도 2층의 구조를 가질 수 잇다. 밀봉부(440) 중 외부로 노출된 최상층(445)은 유기 발광 소자에 대한 투습을 방지하기 위하여 무기막으로 형성시킬 수 있다.The sealing portion 440 may have at least one organic film 441 and 442 and the inorganic film 443, 444, and 445 may have a structure of at least two layers. The uppermost layer 445 exposed to the outside of the sealing portion 440 may be formed of an inorganic film to prevent moisture permeation to the organic light emitting device.

이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the exemplary embodiments, and that various changes and modifications may be made therein without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

10: 마스크 프레임 조립체 130: 용접부
60: 레이저 조사부 200: 프레임
70: 기계식 절단기 210: 베이스부
100: 마스크 220: 지지부
110: 증착 영역 221: 안착면
111: 바디부 222: 연결면
112: 패턴부 223: 오목부
120: 잉여 영역 230: 개구부10: mask frame assembly 130: welded part
60: laser irradiation unit 200: frame
70: mechanical cutter 210: base portion
100: mask 220:
110: deposition region 221:
111: Body part 222: Connection face
112: pattern portion 223: concave portion
120: surplus area 230: opening

Claims (17)

증착 물질을 통과시키는 증착 영역을 포함하는 마스크;
베이스부와, 상기 베이스부로부터 돌출되어 측면이 경사지도록 형성되는 제1 지지부와, 상기 제1 지지부로부터 돌출되도록 형성되어 상기 마스크를 지지하는 제2 지지부를 포함하는 프레임;을 포함하고,
상기 마스크의 모서리가 상기 베이스부를 향해 절곡되어 형성되는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체.A mask including a deposition area through which the deposition material passes;
And a frame including a base portion, a first support portion protruding from the base portion and sloping at a side thereof, and a second support portion protruding from the first support portion and supporting the mask,
Wherein a corner of the mask is formed by being bent toward the base portion. 제1 항에 있어서,
상기 증착 영역은,
외곽 영역이 상기 제2 지지부에 의해 지지되는 바디부와,
상기 바디부를 관통하도록 형성되어 상기 증착 물질을 통과시키는 하나 이상의 패턴부를 포함하는, 마스크 프레임 조립체.The method according to claim 1,
Wherein the deposition region
A body portion having an outer region supported by the second support portion,
And at least one patterning portion formed to penetrate the body portion to allow the deposition material to pass therethrough. 제2 항에 있어서,
상기 바디부의 상기 외곽 영역의 모서리가 상기 베이스부를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체.3. The method of claim 2,
Wherein the edge of the outer region of the body portion is formed to be bent in a direction toward the base portion. 제1 항에 있어서,
상기 제1 지지부 및 상기 제2 지지부 중 적어도 하나에는 오목부가 형성되는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체.The method according to claim 1,
Wherein at least one of the first support portion and the second support portion is formed with a concave portion. 제4 항에 있어서,
상기 증착 영역은,
외곽 영역이 상기 제2 지지부에 의해 지지되는 바디부와,
상기 바디부를 관통하도록 형성되어 상기 증착 물질을 통과시키는 하나 이상의 패턴부를 포함하는, 마스크 프레임 조립체.5. The method of claim 4,
Wherein the deposition region
A body portion having an outer region supported by the second support portion,
And at least one patterning portion formed to penetrate the body portion to allow the deposition material to pass therethrough. 제5 항에 있어서,
상기 바디부의 상기 외곽 영역의 모서리가 상기 오목부를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체.6. The method of claim 5,
Wherein the edge of the outer region of the body portion is formed to be bent in a direction toward the concave portion. 제1 항에 있어서,
상기 마스크와 상기 프레임의 상기 제2 지지부를 결합하는 용접부를 더 포함하는, 마스크 프레임 조립체.The method according to claim 1,
Further comprising a weld joining the mask and the second support of the frame. 베이스부와, 상기 베이스부로부터 돌출되어 측면이 경사지도록 형성되는 제1 지지부와, 상기 제1 지지부로부터 돌출되도록 형성되어 마스크를 지지하는 제2 지지부를 포함하는 프레임을 준비하는 단계;
증착 물질을 통과시키는 증착 영역과 상기 증착 영역의 외측에 연결되어 형성되는 잉여 영역을 포함하는 마스크를 준비하는 단계;
상기 프레임에 상기 마스크를 결합하는 단계;
상기 프레임과 상기 마스크가 접하는 면의 반대측에서 상기 증착 영역의 외곽부를 몰드부로 가압하는 단계;
상기 잉여 영역을 절삭하는 단계;를 포함하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.The method comprising: preparing a frame including a base portion, a first support portion protruding from the base portion so as to be inclined at a side thereof, and a second support portion protruding from the first support portion and supporting the mask;
Preparing a mask including a deposition region through which the deposition material passes and a surplus region formed in connection with the outside of the deposition region;
Coupling the mask to the frame;
Pressing the outer peripheral portion of the deposition region to the mold portion on the side opposite to the side where the frame and the mask are in contact with each other;
And cutting the surplus region. ≪ Desc / Clms Page number 21 > 제8 항에 있어서,
상기 프레임에 상기 마스크를 결합하는 단계는,
상기 증착 영역과 상기 잉여 영역이 접하는 경계면을 상기 제2 지지부의 외곽 영역의 모서리에 대응하도록 위치시키는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.9. The method of claim 8,
Wherein coupling the mask to the frame comprises:
Wherein the interface between the deposition area and the surplus area is positioned so as to correspond to the edge of the outer area of the second support part. 제8 항에 있어서,
상기 증착 영역은,
외곽 영역이 상기 제2 지지부에 의해 지지되는 바디부와,
상기 바디부를 관통하도록 형성되어 상기 증착 물질을 통과시키는 하나 이상의 패턴부를 포함하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.9. The method of claim 8,
Wherein the deposition region
A body portion having an outer region supported by the second support portion,
And at least one pattern portion formed to penetrate the body portion to allow the deposition material to pass therethrough. 제10 항에 있어서,
상기 바디부의 상기 외곽 영역의 모서리가 상기 베이스부를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the edge of the outer region of the body portion is formed to be bent in a direction toward the base portion. 제8 항에 있어서,
상기 제1 지지부 및 상기 제2 지지부 중 적어도 하나에는 오목부가 형성되는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.9. The method of claim 8,
Wherein at least one of the first support portion and the second support portion is formed with a concave portion. 제12 항에 있어서,
상기 프레임에 상기 마스크를 결합하는 단계는,
상기 증착 영역과 상기 잉여 영역이 접하는 경계면을 상기 오목부에 위치시키는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.13. The method of claim 12,
Wherein coupling the mask to the frame comprises:
And a boundary surface at which the evaporation area and the surplus area contact with each other is positioned in the concave part. 제12 항 에 있어서,
상기 증착 영역은,
외곽 영역이 상기 제2 지지부에 의해 지지되는 바디부와,
상기 바디부를 관통하도록 형성되어 상기 증착 물질을 통과시키는 하나 이상의 패턴부를 포함하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.13. The method of claim 12,
Wherein the deposition region
A body portion having an outer region supported by the second support portion,
And at least one pattern portion formed to penetrate the body portion to allow the deposition material to pass therethrough. 제14 항에 있어서,
상기 바디부의 상기 외곽 영역의 모서리가 상기 오목부를 향하는 방향으로 절곡되도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.15. The method of claim 14,
Wherein the edge of the outer region of the body portion is formed to be bent in a direction toward the concave portion. 제8 항에 있어서,
상기 잉여 영역을 절삭하는 방법으로,
상기 증착 영역과 상기 잉여 영역의 경계면을 기계식 절단기(mechanical cutter)로 절삭하는 것을 특징으로 하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.9. The method of claim 8,
As a method of cutting the surplus region,
And cutting the interface between the deposition area and the surplus area with a mechanical cutter. 기판 및 마스크 프레임 조립체를 챔버 내부로 장입하는 단계;
상기 기판과 상기 마스크 프레임 조립체를 정렬하는 단계; 및
증착원으로부터 분사된 증착 물질을 마스크 프레임 조립체의 패턴부를 통하여 상기 기판에 증착시키는 단계;를 포함하고,
상기 마스크 프레임 조립체는,
증착 물질을 통과시키는 증착 영역을 포함하는 마스크;
베이스부와, 상기 베이스부로부터 돌출되어 측면이 경사지도록 형성되는 제1 지지부와, 상기 제1 지지부로부터 돌출되도록 형성되어 상기 마스크를 지지하는 제2 지지부를 포함하는 프레임;을 포함하고,
상기 마스크의 모서리가 상기 베이스부를 향해 절곡되어 형성되는 것을 특징으로 하는, 유기 발광 표시 장치의 제조 방법.Loading the substrate and the mask frame assembly into the chamber;
Aligning the substrate and the mask frame assembly; And
Depositing a deposition material sprayed from an evaporation source onto the substrate through a pattern portion of the mask frame assembly,
The mask frame assembly includes:
A mask including a deposition area through which the deposition material passes;
And a frame including a base portion, a first support portion protruding from the base portion and sloping at a side thereof, and a second support portion protruding from the first support portion and supporting the mask,
And the edge of the mask is bent toward the base portion.
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