KR20160032794A - Mask frame assembly and the manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20160032794A KR1020140122930A KR20140122930A KR20160032794A KR 20160032794 A KR20160032794 A KR 20160032794A KR 1020140122930 A KR1020140122930 A KR 1020140122930A KR 20140122930 A KR20140122930 A KR 20140122930A KR 20160032794 A KR20160032794 A KR 20160032794A
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Abstract

Disclosed are a mask frame assembly and a manufacturing method thereof. The mask frame assembly comprises: a frame having an opening and a support unit to cover the opening; a mask comprising a deposition area on a position corresponding to the opening; and a position fixing unit installed in the support unit to be able to rotate and coupled to the mask.

Description

마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법{Mask frame assembly and the manufacturing method thereof}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a mask frame assembly and a manufacturing method thereof,

본 발명의 실시예들은 박막의 증착에 사용되는 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법에 관한 것이다.Embodiments of the present invention relate to a mask frame assembly used for deposition of thin films, and a method of manufacturing the same.

일반적으로 평탄 디스크플레이 중의 하나인 유기 발광 표시 장치는 능동 발광형 표시 소자로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 저전압으로 구동이 가능하며, 경량의 박형이면서 응답 속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어서 차세대 표시 소자로서 주목을 받고 있다. In general, an organic light emitting display device, which is one of flat disk players, is an active light emitting display device having a wide viewing angle, excellent contrast, driving with low voltage, lightweight thin shape and high response speed, Has attracted attention as a device.

이러한 발광 소자는 발광층을 형성하는 물질에 따라 무기 발광 소자와 유기 발광 소자로 구분되는데, 유기 발광 소자는 무기 발광 소자에 비해 휘도, 응답속도 등의 특성이 우수하고, 컬러 디스플레이가 가능하다는 장점을 가지고 있어 최근 그 개발이 활발하게 진행되고 있다.Such a light emitting device is classified into an inorganic light emitting device and an organic light emitting device depending on the material forming the light emitting layer. The organic light emitting device has an advantage of being excellent in characteristics such as luminance and response speed, and capable of color display Recently, the development is progressing actively.

유기 발광 표시 장치는 유기막 및/또는 전극을 진공 증착법에 의해 형성한다. 그러나 유기 발광 표시 장치가 점차 고해상도화 함에 따라 증착 공정시 사용되는 마스크의 오픈슬릿(open slit)의 폭이 점점 좁아지고 있으며 그 산포 또한 점점 더 감소될 것이 요구되어지고 있다. The organic light emitting display device forms the organic film and / or the electrode by a vacuum deposition method. However, as the organic light emitting diode (OLED) display device is gradually increased in resolution, the width of the open slit of the mask used in the deposition process is becoming narrower and the scattering is also being required to be further reduced.

또한, 고해상도 유기 발광 표시 장치를 제작하기 위해서는 쉐도우 현상(shadow effect)을 줄이거나 없애는 것이 필요하다. 그에 따라, 기판과 마스크를 밀착시킨 상태에서 증착 공정을 진행하고 있으며, 기판과 마스크의 밀착도를 향상시키기 위한 기술의 개발이 대두되고 있다.In order to manufacture a high-resolution organic light emitting display, it is necessary to reduce or eliminate a shadow effect. Accordingly, a vapor deposition process is being performed in a state in which the substrate and the mask are in close contact with each other, and development of techniques for improving the degree of adhesion between the substrate and the mask is being developed.

전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.The above-described background technology is technical information that the inventor holds for the derivation of the present invention or acquired in the process of deriving the present invention, and can not necessarily be a known technology disclosed to the general public prior to the filing of the present invention.

본 발명의 실시예들은 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법을 제공한다. Embodiments of the present invention provide a mask frame assembly and a method of manufacturing the same.

본 발명의 일 측면은, 개구부와 상기 개구부를 둘러싸는 지지부를 구비하는 프레임과, 상기 개구부에 대응하는 위치에 증착영역을 포함하는 마스크 및 상기 지지부에 회전가능하도록 설치되며, 상기 마스크와 연결되는 위치 고정부를 포함하는 마스크 프레임 조립체를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a mask comprising: a frame having an opening and a support surrounding the opening; a mask including a deposition area at a position corresponding to the opening; A mask frame assembly comprising a fixed portion.

또한, 상기 위치 고정부의 적어도 일부가 삽입되고, 상기 프레임에 결합하는 서포터를 더 포함할 수 있다.Further, it may further include a supporter in which at least a part of the position fixing portion is inserted and is engaged with the frame.

또한, 상기 위치 고정부는 복수개의 돌출부를 구비하고, 상기 복수개의 돌출부 중 어느 하나의 돌출부는 상기 마스크와 결합하고, 상기 복수개의 돌출부 중 다른 하나의 돌출부는 상기 서포터의 락킹홈에 삽입될 수 있다.In addition, the position fixing portion may include a plurality of protrusions, one of the plurality of protrusions may engage with the mask, and another protrusion of the plurality of protrusions may be inserted into the locking groove of the supporter.

또한, 상기 위치 고정부는 상기 지지부에 고정되는 샤프트 및 상기 샤프트에 삽입되고, 복수개의 돌출부를 가지는 휠을 구비할 수 있다.The position fixing portion may include a shaft fixed to the support portion and a wheel inserted into the shaft and having a plurality of protrusions.

또한, 상기 돌출부는 상기 샤프트를 중심으로 방사형태로 형성될 수 있다.The protrusion may be formed in a radial shape around the shaft.

또한, 상기 위치 고정부는 상기 프레임을 따라 복수개 배치될 수 있다.The plurality of position fixing portions may be disposed along the frame.

또한, 상기 서포터는 선형운동 가능할 수 있다.Further, the supporter may be linearly movable.

또한, 상기 서포터는 상기 위치 고정부의 적어도 일부가 삽입되는 락킹홈이 형성된 베이스부와, 상기 베이스부와 상기 프레임 사이에 배치되는 탄성부 및 일부가 상기 프레임에 삽입되며 상기 베이스부와 상기 탄성부를 관통하는 고정부재를 구비할 수 있다.The supporter may further include a base portion formed with a locking groove into which at least a portion of the position fixing portion is inserted, an elastic portion disposed between the base portion and the frame, and a portion of the elastic portion inserted into the frame, And a fixing member penetrating therethrough.

또한, 상기 탄성부는 상기 서포터의 운동방향의 반대방향으로 반발력을 형성할 수 있다.In addition, the elastic portion may form a repulsive force in a direction opposite to the direction of motion of the supporter.

또한, 상기 락킹홈의 높이를 조절하면 상기 위치고정부가 회전하여 상기 마스크의 장력이 조절될 수 있다.In addition, when the height of the locking groove is adjusted, the tension of the mask can be adjusted by rotating the position fixing unit.

본 발명의 다른 측면은, 개구부와 상기 개구부를 둘러싸는 지지부를 구비하는 프레임과, 상기 개구부에 대응하는 위치에 증착영역을 포함하는 마스크와, 상기 프레임에 회전가능하도록 설치되며, 상기 마스크와 결합하는 위치 고정부 및 상기 프레임과 결합하고, 상하운동으로 상기 위치 고정부를 회전시키는 서포터를 포함하는 마스크 프레임 조립체를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a lithographic apparatus including a frame including a frame having an opening and a support surrounding the opening, a mask including a deposition area at a position corresponding to the opening, And a supporter coupled to the position fixing portion and the frame and rotating the position fixing portion in an up-and-down motion.

또한, 상기 위치 고정부는 복수개의 돌출부를 구비하고, 상기 복수개의 돌출부 중 어느 하나의 돌출부는 상기 마스크와 결합하고, 상기 복수개의 돌출부 중 다른 하나의 돌출부는 상기 서포터에 삽입될 수 있다.The position fixing portion may include a plurality of protrusions, and one of the plurality of protrusions may engage with the mask, and another protrusion of the plurality of protrusions may be inserted into the supporter.

또한, 상기 서포터는 상기 위치 고정부의 일부가 삽입되는 락킹홈이 형성된 베이스부와, 상기 베이스부와 상기 프레임 사이에 배치되는 탄성부 및 일부가 상기 프레임에 삽입되며 상기 베이스부 및 상기 탄성부를 관통하는 고정부재를 구비할 수 있다.The supporter may further include a base portion having a locking groove into which a portion of the position fixing portion is inserted, an elastic portion disposed between the base portion and the frame, and a portion of the elastic portion inserted through the frame, And a fixing member for supporting the fixing member.

또한, 상기 락킹홈의 높이를 조절하면 상기 위치 고정부가 회전하여 상기 마스크의 장력이 조절될 수 있다.In addition, when the height of the locking groove is adjusted, the tension of the mask can be adjusted by rotating the position fixing unit.

또한, 상기 탄성부는 상기 서포터는 운동방향의 반대방향으로 반발력을 형성할 수 있다.In addition, the supporter may form a repulsive force in a direction opposite to the direction of motion.

또한, 상기 서포터는 상기 프레임의 외측에 상기 위치 고정부에 대응하도록 배치될 수 있다.Further, the supporter may be disposed outside the frame so as to correspond to the position fixing portion.

본 발명의 또 다른 측면은, 프레임의 그루브에 복수의 돌출부를 구비한 위치 고정부를 설치하는 단계와, 상기 위치 고정부의 제1 돌출부와 마스크의 테두리부를 용접하여 결합하는 단계 및 상기 제1 돌출부와 다른 제2 돌출부를 서포터의 락킹홈에 삽입하여 상기 위치 고정부를 고정하는 단계를 포함하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: providing a position fixing unit having a plurality of protrusions in a groove of a frame; welding the first protrusions of the position fixing unit to the rim of the mask; And fixing the position fixing portion by inserting a second projection different from the first projection into the locking groove of the supporter.

또한, 상기 마스크를 교체하기 위해서 상기 제1 돌출부에 이웃하는 제3 돌출부를 교체되는 마스크의 테두리부와 결합하고, 상기 제2 돌출부에 이웃하는 제4 돌출부를 상기 락킹홈에 삽입하여 상기 위치 고정부를 고정하는 단계를 더 포함할 수 있다.Further, in order to replace the mask, a third protrusion adjacent to the first protrusion is engaged with a rim of the mask to be replaced, and a fourth protrusion adjacent to the second protrusion is inserted into the locking groove, And a step of fixing the optical fiber.

또한, 상기 서포터를 상하 운동으로 상기 위치 고정부를 회전시켜서 상기 마스크의 장력을 조절하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include rotating the position fixing unit by vertically moving the supporter to adjust the tension of the mask.

전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다. Other aspects, features, and advantages will become apparent from the following drawings, claims, and detailed description of the invention.

본 발명의 실시예들에 따르면 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법은 마스크의 교체시에 사이의 간격을 최소화 하여 기판에 유기 발광 소자를 정밀하게 형성할 수 있다.According to the embodiments of the present invention, the mask frame assembly and the manufacturing method thereof can minimize the interval between the masks when replacing the mask, thereby precisely forming the organic light emitting device on the substrate.

도 1는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체를 보여주는 사시도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ를 따라 취한 단면도이다.
도 3은 도 2의 A를 확대하여 도시한 부분단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체를 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 4의 B를 확대하여 도시한 부분단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체를 이용하여 증착된 유기 발광 디스플레이 장치의 일 서브 픽셀을 도시한 단면도이다.
1 is a perspective view showing a mask frame assembly according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG.
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing an enlarged view of FIG. 2 A. FIG.
4 is a cross-sectional view illustrating a mask frame assembly according to another embodiment of the present invention.
5 is an enlarged partial cross-sectional view of FIG. 4B.
6 is a cross-sectional view of one subpixel of an organic light emitting display device deposited using a mask frame assembly according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다. 이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. 또한, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. The effects and features of the present invention and methods of achieving them will be apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In the following embodiments, the terms first, second, and the like are used for the purpose of distinguishing one element from another element, not the limitative meaning. Also, the singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. Also, the terms include, including, etc. mean that there is a feature, or element, recited in the specification and does not preclude the possibility that one or more other features or components may be added.

또한, 도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다. 또한, 어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.Also, in the drawings, for convenience of explanation, the components may be exaggerated or reduced in size. For example, the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, and thus the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings. Also, if an embodiment is otherwise feasible, the particular process sequence may be performed differently than the sequence described. For example, two processes that are described in succession may be performed substantially concurrently, and may be performed in the reverse order of the order described.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to like or corresponding components throughout the drawings, and a duplicate description thereof will be omitted .

도 1는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(100)를 보여주는 사시도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ를 따라 취한 단면도이며, 도 3은 도 2의 A를 확대하여 도시한 부분단면도이다.FIG. 1 is a perspective view showing a mask frame assembly 100 according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG. 1, Sectional view.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 마스크 프레임 조립체(100)는 프레임(110), 마스크(120) 및 위치 고정부(130)를 구비할 수 있다.Referring to FIGS. 1-3, the mask frame assembly 100 may include a frame 110, a mask 120, and a location fix 130.

프레임(110)은 마스크(120)와 결합하여 마스크(120)가 지지될 수 있다. 프레임(110)은 증착물질이 통과할 수 있는 개구부와 개구부의 외측에 형성되는 지지부를 구비할수 있다. 프레임(110)은 금속 또는 합성수지 등으로 제조될 수 있으며, 사각 형상으로 하나 이상의 개구부를 갖도록 형성되어 있으나, 일 실시의 사상은 이에 제한되지 아니하며, 원형 또는 육각형 등의 다양한 형태로 형성될 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위해 사각 형상의 지지부를 구비한 프레임(110)을 중심으로 설명하기로 한다. The frame 110 may be coupled to the mask 120 to support the mask 120. The frame 110 may have an opening through which the evaporation material can pass and a support formed outside the opening. The frame 110 may be made of metal, synthetic resin, or the like, and is formed to have one or more openings in a rectangular shape, but the present invention is not limited thereto, and may be formed in various shapes such as a circle or a hexagon. Hereinafter, for convenience of explanation, the frame 110 having a rectangular supporting portion will be described.

프레임(110)은 마스크(120)의 테두리부(123)와 접촉하는 부분이다. 프레임(110)은 위치 고정부(130)가 설치되는 그루브(111)를 구비할 수 있다. 그루브(111)는 복수개로 구비될 수 있으며, 그 배치는 다양하게 형성될 수 있다. 예를 들어, 그루브(111)는 프레임(110)의 각 변에 하나씩 형성되거나, 그루브(111)는 프레임(110)의 각 변에 복수개로 형성될 수 있다.The frame 110 is a portion in contact with the rim portion 123 of the mask 120. The frame 110 may have a groove 111 on which the position fixing portion 130 is installed. A plurality of grooves 111 may be provided, and the arrangement thereof may be variously formed. For example, the grooves 111 may be formed on each side of the frame 110, or a plurality of grooves 111 may be formed on each side of the frame 110.

마스크(120)는 증착영역(121)과 증착영역(121)의 외측에 형성되는 테두리부(123)를 구비할 수 있다. 증착영역(121)은 증착용 패턴부(122)를 구비할 수 있다. 증착영역(121)은 프레임(110)의 개구부에 대응하도록 배치되어 상기 개구부를 통과한 증착물질이 증착용 패턴부(122)를 통과하여 기판에 증착할 수 있다.The mask 120 may have a deposition region 121 and a rim portion 123 formed outside the deposition region 121. The deposition region 121 may have an evaporation pattern portion 122. The deposition region 121 is disposed to correspond to the opening of the frame 110, and the deposition material having passed through the opening portion may be deposited on the substrate through the deposition pattern portion 122.

증착용 패턴부(122)는 복수 개의 슬릿(slit)형상으로 형성된 마스킹 패턴이 구비된 것으로 도시되어 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 당업자라면 다양한 변형예가 가능함을 알 것이다. 즉, 증착용 패턴부(122)에는 전면 개방된 상태를 유지하는 마스킹 패턴이 구비되거나 도트(dot) 형상의 마스킹 패턴이 구비될 수 있다. 도 1에 도시된 증착용 패턴부(122)의 개수나 배치 위치, 형상은 일 예시로서, 본 발명은 이에 제한 되지 않는다. 예를 들어, 마스크(120)는 원장형태의 하나의 큰 부재로 형성되어 프레임(110)에 결합될 수 있다. 또한, 마스크(120)의 자중을 분산하기 위해 다수개의 스틱형태의 분할 마스크로 형성될 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위해서 원장 형태의 마스크(120)로 형성된 경우를 중심으로 설명하기로 한다.The vapor deposition pattern part 122 is shown to have a plurality of masking patterns formed in a slit shape. However, it should be understood that the present invention is not limited thereto and that various modifications are possible to those skilled in the art. That is, the vapor deposition pattern part 122 may be provided with a masking pattern that maintains a totally opened state or a dot-shaped masking pattern. The number, arrangement position and shape of the vapor deposition pattern portions 122 shown in FIG. 1 are one example, and the present invention is not limited thereto. For example, the mask 120 may be formed of one large member in the form of a ledger and coupled to the frame 110. In addition, the mask 120 may be formed of a plurality of stick-shaped split masks to disperse its own weight. Hereinafter, for the sake of convenience of explanation, the case in which the mask 120 is formed in the form of a ledge will be mainly described.

위치 고정부(130)는 프레임(110)의 지지부에 회전 가능하도록 설치되며, 마스크(120)를 고정할 수 있다. 위치 고정부(130)는 프레임(110)의 지지부에 고정되는 샤프트(131)와, 샤프트(131)에 삽입되고, 복수개의 돌출부(133)를 가지는 휠(132)을 구비할 수 있다. The position fixing unit 130 is rotatably mounted on the supporting part of the frame 110, and can fix the mask 120. The position fixing portion 130 may include a shaft 131 fixed to the support portion of the frame 110 and a wheel 132 inserted into the shaft 131 and having a plurality of protrusions 133.

샤프트(131)는 프레임(110)의 그루브(111)에 고정되어, 휠(132)의 회전축을 형성할 수 있다. 휠(132)은 외측으로 돌출되도록 형성된 복수개의 돌출부(133)를 구비할 수 있다. 돌출부(133)는 샤프트(131)의 중심으로부터 방사형으로 형성될 수 있다. 돌출부(133)의 개수는 특정개수에 한정되지 않으나, 이하에서는 설명의 편의를 위해서 8개의 돌출부를 구비한 경우를 중심으로 설명하기로 한다.The shaft 131 may be fixed to the groove 111 of the frame 110 to form a rotation axis of the wheel 132. [ The wheel 132 may have a plurality of protrusions 133 formed to protrude outward. The projecting portion 133 may be formed radially from the center of the shaft 131. The number of protrusions 133 is not limited to a specific number, but for the convenience of explanation, the case where eight protrusions are provided will be mainly described below.

제1 돌출부(133a)는 마스크(120)와 결합하고, 제1 돌출부(133a)와 인접한 제2 돌출부(133b)는 서포터(140)에 고정된다. 상세히, 마스크(120)의 테두리부(123)는 제1 돌출부(133a)와 용접공정 또는 전주공정 으로 결합할 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위해서 용접공정으로 용접부(150)를 형성하는 경우를 중심으로 설명하기로 한다. The first projecting portion 133a is engaged with the mask 120 and the second projecting portion 133b adjacent to the first projecting portion 133a is fixed to the supporter 140. [ In detail, the rim 123 of the mask 120 can be combined with the first projection 133a by a welding process or a pre-punching process. Hereinafter, for the sake of convenience of description, the case where the welded portion 150 is formed by the welding process will be mainly described.

위치 고정부(130)는 마스크(120)를 고정하고 서포터(140)에 의해 휠(132)의 회전이 제한 될 수 있다. 제1 돌출부(133a)는 샤프트(131)의 상부에 위치하고, 제2 돌출부(133b)는 서포터(140)의 락킹홈(145)에 대응하도록 위치한다. 용접부(150)는 제1 돌출부(133a)의 상부에 형성될 수 있는바, 용접공정 시에 작업자는 돌출부(133)의 추가적인 위치 제어 없이 프레임(110)에 마스크(120)를 고정할 수 있다.The position fixing portion 130 fixes the mask 120 and rotation of the wheel 132 by the supporter 140 can be restricted. The first projection 133a is positioned on the upper side of the shaft 131 and the second projection 133b is positioned on the locking groove 145 of the supporter 140. [ The welding portion 150 may be formed on the upper portion of the first protrusion 133a so that the operator can fix the mask 120 to the frame 110 without additional position control of the protrusion 133 during the welding process.

위치 고정부(130)는 마스크(120)를 교체시에 다른 돌출부(133)로 마스크(120)를 고정할 수 있다. 예를들어, 마스크(120)를 제1 돌출부(133a)에서 분리한 뒤, 위치 고정부(130)를 회전시켜 제1 돌출부(133a)에 인접한 제3 돌출부(133c)에 새로운 마스크를 결합할 수 있다. 즉, 프레임(110)의 추가적인 연마공접이 필요없이 기존의 프레임(110) 및 위치 고정부(130)를 사용하여 마스크(120)를 교체할 수 있다.The position fixing unit 130 can fix the mask 120 to another projection 133 when the mask 120 is replaced. For example, after separating the mask 120 from the first projecting portion 133a, the position fixing portion 130 may be rotated to join the new mask to the third projecting portion 133c adjacent to the first projecting portion 133a have. That is, it is possible to replace the mask 120 using the conventional frame 110 and the position fixing portion 130 without the need for additional polishing of the frame 110.

위치 고정부(130)는 프레임(110)의 각변에 하나씩 배치되어 마스크(120)의 각 변을 고정할 수 있다. 원장 형태의 마스크(120)를 교체하는 경우, 마스크(120)의 각변에 대응하고 길게 제작된 위치 고정부(130)를 배치하여 마스크(120)를 프레임(110)에 용접하여 고정하는 공정 시간을 단축 할 수 있다.The position fixing unit 130 may be disposed on each side of the frame 110 to fix the sides of the mask 120. When replacing the mask 120 in the form of a rectangle, the length of the position fixing portion 130 corresponding to each side of the mask 120 is set so that the process time for welding and fixing the mask 120 to the frame 110 is Can be shortened.

위치 고정부(130)는 프레임(110)의 각변에 복수개로 배치되어 마스크(120)의 각변을 고정할 수 있다. 원장 형태의 마스크(120)를 교체하는 경우, 마스크(120)의 각 위치에 따라 처짐이나 장력이 다르게 발생하므로, 마스크(120)의 위치에 따라 장력을 조절하여 각각 돌출부(133)에 고정할 수 있다. 또한, 복수의 분할 마스크 중에서 결함있는 분할 마스크만 교할 경우 결함 있는 분할 마스크만 교체하여 생산성을 향상 시킬수 있다.A plurality of position fixing units 130 may be provided on each side of the frame 110 to fix the sides of the mask 120. When the mask 120 is replaced with a rectangle, the deflection or the tension is different according to each position of the mask 120, so that the tension can be adjusted according to the position of the mask 120 to be fixed to the protrusion 133 have. In addition, in the case where only the defective divided mask among the plurality of divided masks is replaced, only the defective divided mask is replaced, thereby improving the productivity.

서포터(140)는 프레임(110)에 결합하며, 위치 고정부(130)의 적어도 일부가 삽입될 수 있다. 서포터(140)는 락킹홈(145)에 돌출부(133)를 삽입하여 위치 고정부(130)의 회전을 제한할 수 있다. The supporter 140 is coupled to the frame 110, and at least a part of the position fixing portion 130 can be inserted. The supporter 140 can restrict the rotation of the position fixing portion 130 by inserting the protrusion 133 into the locking groove 145. [

도 3를 검토하면, 마스크(120)는 용접부(150)에 의해서 위치 고정부(130)와 결합되나 용접부(150)의 결합력은 크지 않아 외력에 의해 위치 고정부(130)가 회전될 수 있다. 위치 고정부(130)의 회전하면, 마스크(120)는 양 단에 가해지는 장력이 변해서 변형이 가해질 수 있다. 제2 돌출부(133b)는 락킹홈(145)에 삽입되고 서포터(140)가 리벳, 나사 등의 결합부재(142)로 프레임(110)에 고정될 수 있다. 위치 고정부(130)는 용접부(150) 및 락킹홈(145)에 의해서 지지되는바 마스크(120)의 변형을 최소화 할 수 있다. 3, the mask 120 is coupled to the position fixing unit 130 by the welding unit 150, but the bonding force of the welding unit 150 is not large, so that the position fixing unit 130 can be rotated by an external force. When the position fixing portion 130 is rotated, the mask 120 may be deformed due to a change in the tension applied to both ends. The second projection 133b is inserted into the locking groove 145 and the supporter 140 can be fixed to the frame 110 with the engaging member 142 such as a rivet or a screw. The position fixing portion 130 can minimize the deformation of the bar mask 120 supported by the welding portion 150 and the locking groove 145.

서포터(140)는 프레임(110)의 외측에 배치되어 외부의 이물질이 그루브(111)에 유입되지 않도록 할 수 있다. 또한 서포터(140)는 위치 고정부(130)의 대응하는 위치에 배치될 수 있다.The supporter 140 may be disposed outside the frame 110 to prevent foreign substances from entering the groove 111. Further, the supporter 140 may be disposed at a corresponding position of the position fixing portion 130. [

본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(100)는 다음의 방법으로 제조될 수 있다. The mask frame assembly 100 according to an embodiment of the present invention can be manufactured by the following method.

프레임(110)의 내부공간에 복수의 돌출부(133)를 구비한 위치 고정부(130)를 설치할 수 있다.(S1) 프레임(110)은 그루브(111)를 구비하고, 그루브(111)에 위치 고정부(130)를 설치할 수 있다. 위치 고정부(130)는 샤프트(131)와 휠(132)을 구비하고, 휠(132)은 샤프트(131)에 회전 가능하도록 삽입되고, 샤프트(131)는 그루브(111)의 측벽에 고정될 수 있다. It is possible to provide a position fixing part 130 having a plurality of protrusions 133 in the inner space of the frame 110. (S1) The frame 110 is provided with a groove 111, The fixing portion 130 can be installed. The position fixing unit 130 includes a shaft 131 and a wheel 132. The wheel 132 is inserted into the shaft 131 so as to be rotatable and the shaft 131 is fixed to the side wall of the groove 111 .

위치 고정부(130)의 제1 돌출부(133a)와 마스크(120)의 테두리부(123)를 용접하여 결합할 수 있다.(S2) 마스크(120)를 프레임(110)의 상부에 배치하고, 제1 돌출부(133a)가 위치하는 영역을 용접하여 위치 고정부(130)와 마스크(120)를 연결할 수 있다.  The first projecting portion 133a of the position fixing portion 130 and the rim portion 123 of the mask 120 can be welded and joined together. (S2) The mask 120 is disposed on the upper portion of the frame 110, The position fixing portion 130 and the mask 120 can be connected by welding the region where the first projecting portion 133a is located.

제2 돌출부(133b)를 서포터(140)의 락킹홈(145)에 삽입하여 위치 고정부(130)의 회전을 제한 할 수 있다.(S3) 제2 돌출부(133b)는 락킹홈(145)에 삽입되고, 제1 돌출부(133a)는 마스크(120)에 연결되는바, 위치 고정부(130)는 회전이 제한 될 수 있다. 서포터(140)는 리벳, 나사 등의 결합부재(142)로 프레임(110)에 고정 될 수 있다.The second protrusion 133b can be inserted into the locking groove 145 of the supporter 140 to limit the rotation of the position fixing portion 130. (S3) The second protrusion 133b is inserted into the locking groove 145 And the first protrusion 133a is connected to the mask 120, so that the rotation of the position fixing unit 130 can be restricted. The supporter 140 may be fixed to the frame 110 with a coupling member 142 such as a rivet, a screw, or the like.

마스크 프레임 조립체(100)를 재사용 하기 위해서 사용된 마스크를 위치 고정부(130)에서 분리하고, 용접되지 않은 다른 돌출부(133)와 교체되는 마스크에 고정할 수 있다.(S4) 서포터(140)를 프레임(110)에서 분리하고, 제1 돌출부(133a)와 마스크(120)를 분리하여 사용된 마스크(120)를 마스크 프레임 조립체(100)에서 분리할 수 있다. 이후 사용되지 않은 제3 돌출부(133c)를 교체되는 마스크에 용접공정으로 고정하고, 제4 돌출부(132d)를 락킹홈(145)에 삽입하여 마스크를 교체할 수 있다. The mask used for reusing the mask frame assembly 100 may be separated at the position fixing portion 130 and fixed to a mask to be replaced with another projection portion 133 that is not welded. The mask 120 may be separated from the frame 110 and the first projection 133a and the mask 120 may be separated to separate the used mask 120 from the mask frame assembly 100. [ Thereafter, the unused third protrusion 133c is fixed to the mask to be replaced by a welding process, and the fourth protrusion 132d is inserted into the locking groove 145 to replace the mask.

수회의 마스크 교체에 의해서 위치 고정부(130)의 돌출부(133)를 용접한 경우에는 휠(132)만 교체하거나, 휠(132)을 탈착하여 돌출부에 형성된 용접부위를 제거하여 재사용 할 수 있다. When the projecting portion 133 of the position fixing portion 130 is welded by replacing a number of masks, only the wheel 132 may be replaced or the wheel 132 may be detached to remove the welded portion formed in the projecting portion to be reused.

마스크 조립체를 이용하여 수회의 증착공정을 실시된 후에는 증착도를 향상시키기 위해서 새로운 마스크로 교체 해야 한다. 종래에는 사용된 마스크를 제거한 뒤에 프레임을 연마하여 마스크 프레임을 재사용할 수 있었다. 그러나 용접부위만 연마하는 경우 프레임의 표면에 단차가 형성되어 마스크와 프레임 사이에 발생한 이격으로 증착의 정밀도가 감소될 수 있다. 마스크 프레임 전면에 대해서 연마 공정을 수행하는 경우에는 연마 공정의 시간이 증가하고, 연마로 인해 마스크 프레임의 내구성이 저하되었다. After several deposition processes using a mask assembly, a new mask must be replaced to improve the deposition rate. Conventionally, after removing the used mask, the frame can be polished to reuse the mask frame. However, in the case of polishing only the welded portion, a step may be formed on the surface of the frame, so that the accuracy of the deposition may be reduced due to the separation between the mask and the frame. When the polishing process is performed on the entire surface of the mask frame, the time of the polishing process is increased, and the durability of the mask frame is lowered due to polishing.

마스크 프레임 조립체(100)는 위치 고정부(130)의 돌출부(133)의 변경하여 마스크(120)를 교체할 수 있어, 마스크 프레임 조립체(100)의 내구성을 향상 시키고, 생산성을 증가할 수 있다.The mask frame assembly 100 can change the protrusion 133 of the position fixing portion 130 to replace the mask 120 to improve the durability of the mask frame assembly 100 and increase the productivity.

마스크 프레임 조립체(100)는 용접되는 위치가 쉽게 파악가능하여 마스크(120)를 프레임(110)에 결합하는 공정 시간을 단축시킬 수 있다.The mask frame assembly 100 can easily grasp the position to be welded and shorten the process time for bonding the mask 120 to the frame 110. [

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(200)를 보여주는 단면도이고, 도 5a는 도 4의 B를 확대하여 도시한 부분단면도이고, 도 5b와 도 5c는 서포터(240)의 높이를 조절하여 마스크(220)의 장력 조절을 보여주는 부분단면도이다.FIG. 4 is a cross-sectional view showing a mask frame assembly 200 according to another embodiment of the present invention, FIG. 5A is a partial cross-sectional view showing an enlarged view of FIG. 4B, Sectional view showing the adjustment of the tension of the mask 220 by adjusting the tension.

마스크 프레임 조립체(200)는 프레임(210), 마스크(220), 위치 고정부(230), 서포터(240) 및 용접부(250)를 구비할 수 있다. 프레임(210), 마스크(220) 위치 고정부(230) 및 용접부(250)는 상기 서술한 본 발명의 일실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(100)와 동일 또는 거의 유사한바 이에 대한 설명은 약술 또는 생략 하기로 한다.The mask frame assembly 200 may include a frame 210, a mask 220, a position fixture 230, a supporter 240, and a weld 250. The frame 210, the mask 220 position fixture 230, and the weld 250 are the same as or substantially similar to the mask frame assembly 100 according to one embodiment of the present invention described above, It will be omitted.

서포터(240)는 프레임(210)의 지지부에 회전 가능하도록 설치되며, 프레임(210)의 높이 방향으로 이동할 수 있다. 서포터(240)는 베이스부(241), 탄성부(242) 및 고정부재(243)를 구비할 수 있다.The supporter 240 is rotatably installed on a support portion of the frame 210 and is movable in a height direction of the frame 210. The supporter 240 may include a base portion 241, an elastic portion 242, and a fixing member 243.

베이스부(241)는 위치 고정부(130)의 돌출부(133)가 삽입되어 위치 고정부(130)의 회전을 제한 할 수 있다. 제1 돌출부(133a)는 마스크(120)에 고정되고, 제2 돌출부(133b)는 베이스부(241)의 락킹홈(145)에 삽입되어 위치 고정부(130)의 회전을 제한 할 수 있다.The protrusion 133 of the position fixing portion 130 is inserted into the base portion 241 to restrict the rotation of the position fixing portion 130. [ The first protrusion 133a is fixed to the mask 120 and the second protrusion 133b is inserted into the locking groove 145 of the base portion 241 to restrict the rotation of the position fixing portion 130. [

탄성부(242)는 베이스부(241)와 프레임(110) 사이에 배치되어 베이스부(241)에 반발력을 제공할 수 있다. 베이스부(241)는 고정부재(243)에 의해서 프레임(210)의 높이 방향으로 상하 운동할 수 있다. 탄성부(242)는 압축방향의 반대방향으로 반발력을 형성하는바, 탄성부(242)는 압축되면서 베이스부(241)에 반발력을 형성한다. 상기 반발력은 베이스부(241)의 높이를 미세하게 조절가능하도록 하여 마스크(220)의 장력을 미세하게 조절할 수 있다.The elastic portion 242 may be disposed between the base portion 241 and the frame 110 to provide a repulsive force to the base portion 241. The base portion 241 can move up and down in the height direction of the frame 210 by the fixing member 243. The elastic portion 242 forms a repulsive force in the base portion 241 while being compressed. The repulsive force can finely adjust the height of the base portion 241, thereby finely adjusting the tension of the mask 220.

탄성부(242)는 반발력을 형성하는 재료 또는 형태로 형성되며 특정 재료 또는 형태로 한정되지 않는다. 예를 들어, 와이어, 실리콘, 고무 등의 소재로 형성될 수 있다. 또한, 스프링, 실린더, 스틱 형태로 형성될 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위해서 와이어로 제작된 스프링을 중심으로 설명하기로 한다.The elastic portion 242 is formed of a material or a shape that forms a repulsive force and is not limited to a specific material or shape. For example, a wire, silicon, rubber, or the like. It may also be formed in the form of a spring, cylinder, or stick. Hereinafter, for convenience of explanation, a spring made of wire will be mainly described.

고정부재(243)는 베이스부(241) 및 탄성부(242)를 프레임(210)에 고정시킬 수 있다. 고정부재(243)는 베이스부(241) 및 탄성부(242)를 관통하고, 고정부재(243)의 일부는 프레임(210)에 삽입되어 프레임(210)에 고정될 수 있다. 고정부재(243)는 나사 또는 볼트 형태로 형성되어 프레임(210)에 삽입되는 깊이에 따라서 베이스부(241)의 높이를 조절 할 수 있다.The fixing member 243 can fix the base portion 241 and the elastic portion 242 to the frame 210. [ The fixing member 243 penetrates through the base portion 241 and the elastic portion 242 and a part of the fixing member 243 can be inserted into the frame 210 and fixed to the frame 210. The fixing member 243 may be formed in the form of a screw or a bolt to adjust the height of the base portion 241 according to the depth of the frame 210 inserted into the frame 210.

마스크(220)는 자중에 의해서 일부가 쳐지거나, 마스크(220)에 가해지는 장력의 차이로 인해서 마스크(220)의 표면이 균일하게 평평하지 않게 형성될 수 있다. 마스크(220)의 표면이 울퉁불퉁하게 형성되면 마스크(220)의 증착 패턴이 변형되어 증착의 정밀도가 떨어진다.The mask 220 may be partially buried by its own weight or the surface of the mask 220 may be formed so as not to be uniformly flat due to a difference in tension applied to the mask 220. [ If the surface of the mask 220 is unevenly formed, the deposition pattern of the mask 220 is deformed and the precision of the deposition is degraded.

위치 고정부(230)와 서포터(240)를 이용하여 마스크(220)의 장력을 조절하여 마스크(220)의 표면을 플랫하게 형성하는 방법 다음과 같이 설명할 수 있다.A method of flattening the surface of the mask 220 by adjusting the tension of the mask 220 using the position fixing unit 230 and the supporter 240 can be described as follows.

위치 고정부(230)의 제1 돌출부(233a)는 마스크(220)의 테두리부와 용접되고, 위치 고정부(230)의 제2 돌출부(233b)는 서포터(240)의 락킹홈(245)에 삽입될 수 있다. 고정부재(243)의 높이를 조절하면, 락킹홈(245)의 높이가 조절되고, 이는 휠(232)이 소정 각도 회전되어서 마스크(220)에 가해진 장력을 증가하거나, 줄일수 있다.The first protrusion 233a of the position fixing part 230 is welded to the rim of the mask 220 and the second protrusion 233b of the position fixing part 230 is welded to the locking groove 245 of the supporter 240 Can be inserted. By adjusting the height of the fixing member 243, the height of the locking groove 245 is adjusted, which allows the wheel 232 to be rotated a predetermined angle to increase or decrease the tension applied to the mask 220.

도 5b를 참고하면, 프레임(210)에 삽입되는 깊이를 증가하면 고정부재(243)는 아래 방향으로 이동한다. 고정부재(243)는 베이스부(241)를 지지하는바, 고정부재(243)의 이동에 따라 베이스부(241)가 아래로 이동하고, 베이스부(241)의 외측에 형성된 락킹홈(245)도 아래로 이동한다. 즉, 탄성부(242)의 높이가 d1에서 d2로 줄어들어 락킹홈(245)의 높이도 낮아진다. 이때, 락킹홈(245)에 삽입된 제2 돌출부(233b)는 아래방향으로 힘을 받을수 있다. 즉, 휠(232)은 반시계방향(CCW)으로 토크를 받아 소정 각도(θ1)로 회전하고, 제1 돌출부(233a)에 용접된 마스크(220)는 외측방향으로 힘을 받게 된다. 즉, 서포터(240)의 아래방향으로 이동하면, 위치 고정부(230)는 소정 각도(θ1) 회전하여, 마스크(220)를 잡아 당겨서 마스크(220)에 가해지는 장력을 크게 할 수 있다.Referring to FIG. 5B, when the depth inserted into the frame 210 is increased, the fixing member 243 moves downward. The fixing member 243 supports the base portion 241. The base portion 241 moves downward with the movement of the fixing member 243 and the locking groove 245 formed on the outer side of the base portion 241, Move down. That is, the height of the elastic portion 242 is reduced from d1 to d2, and the height of the locking groove 245 is also lowered. At this time, the second protrusion 233b inserted into the locking groove 245 can receive a downward force. That is, the wheel 232 receives torque in the counterclockwise direction CCW and rotates at a predetermined angle? 1, and the mask 220 welded to the first projection 233a is subjected to an outward force. That is, when the mask 230 is moved downward of the supporter 240, the position fixing unit 230 rotates by a predetermined angle? 1, and the mask 220 is pulled to increase the tension applied to the mask 220.

도 5c를 참고하면, 프레임(210)에 삽입되는 깊이를 줄이면 고정부재(243)는 윗 방향으로 이동한다. 고정부재(243)는 베이스부(241)를 지지하는바, 고정부재(243)의 이동에 따라 베이스부(241)가 위로 이동하고, 베이스부(241)의 외측에 형성된 락킹홈(245)도 위로 이동한다. 즉, 탄성부(242)의 높이가 d1에서 d3로 증가하여 락킹홈(245)의 높이도 상승한다.이때, 락킹홈(245)에 삽입된 제2 돌출부(233b)는 윗방향으로 힘을 받을수 있다. 즉, 휠(232)은 시계방향(CW)으로 토크를 받아 소정 각도(θ2)로 회전하고, 제1 돌출부(233a)에 용접된 마스크(220)는 내측방향으로 힘을 받게 된다. 즉, 서포터(240)의 윗방향으로 이동하면, 위치 고정부(230)는 소정 각도(θ2) 회전하여, 마스크(220)에 가해지는 장력을 줄일 수 있다.Referring to FIG. 5C, when the depth to be inserted into the frame 210 is reduced, the fixing member 243 moves upward. The fixing member 243 supports the base portion 241. The base portion 241 moves upward as the fixing member 243 moves and the locking groove 245 formed on the outer side of the base portion 241 Move up. That is, the height of the elastic portion 242 increases from d1 to d3, and the height of the locking groove 245 also increases. At this time, the second projection 233b inserted into the locking groove 245 receives force in the upward direction have. That is, the wheel 232 rotates at a predetermined angle? 2 under the torque in the clockwise direction (CW), and the mask 220 welded to the first projection 233a receives force in the inward direction. That is, as the position fixing unit 230 rotates by a predetermined angle (? 2) when moving upward of the supporter 240, the tension applied to the mask 220 can be reduced.

마스크 프레임 조립체(200)는 위치 고정부(230)의 돌출부(233)의 변경하여 마스크(220)를 교체할 수 있어, 마스크 프레임 조립체(200)의 내구성을 향상 시키고, 생산성을 증가할 수 있다.The mask frame assembly 200 can change the protrusion 233 of the position fixing portion 230 to replace the mask 220 so as to improve the durability of the mask frame assembly 200 and increase the productivity.

마스크 프레임 조립체(200)는 용접되는 위치가 쉽게 파악가능하여 마스크(220)를 프레임(210)에 결합하는 공정 시간을 단축시킬 수 있다.The mask frame assembly 200 can easily grasp the position to be welded and shorten the process time for bonding the mask 220 to the frame 210. [

마스크 프레임 조립체(200)는 마스크(220)에 가해지는 장력을 조절하여 기판에 증착물질이 정확하게 증착될 수 있다.The mask frame assembly 200 can adjust the tension applied to the mask 220 to accurately deposit the deposition material on the substrate.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체(100)를 이용하여 증착된 유기 발광 디스플레이 장치(300)의 일 서브 픽셀을 도시한 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating one subpixel of the organic light emitting display device 300 deposited using the mask frame assembly 100 according to an embodiment of the present invention.

여기서, 서브 픽셀들은 적어도 하나의 박막 트랜지스터(TFT)와, 유기 발광 소자(OLED)를 가진다. 상기 박막 트랜지스터는 반드시 도 6의 구조로만 가능한 것은 아니며, 그 수와 구조는 다양하게 변형가능하다. Here, the subpixels have at least one thin film transistor (TFT) and an organic light emitting element (OLED). The thin film transistor is not necessarily limited to the structure of FIG. 6, and the number and structure thereof may be variously modified.

도면을 참조하면, 유기 발광 디스플레이 장치(300)에는 기판(311)이 마련되어 있다. 상기 기판(311)은 유연성을 가지는 절연성 소재를 포함한다. 예컨대, 상기 기판(311)은 글래스 기판일 수 있다.Referring to FIG. 1, a substrate 311 is provided in the OLED display 300. The substrate 311 includes an insulating material having flexibility. For example, the substrate 311 may be a glass substrate.

대안으로는, 상기 기판(311)은 또하폴리이미드(Polyimide, PI)나, 폴리 카보네이트(Polycarbonate, PC)나, 폴리 에테르 설폰(Polyethersulphone, PES)이나, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate, PET)나, 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylenenaphthalate, PEN)나, 폴리아릴레이트(Polyarylate, PAR)나, 유리섬유 강화플라스틱(Fiber glass reinforced plastic, FRP) 등의 고분자 소재로 이루어질 수 있다. Alternatively, the substrate 311 may be formed of a material such as polyimide (PI), polycarbonate (PC), polyethersulphone (PES), polyethylene terephthalate (PET) And may be made of a polymer material such as polyethylene naphthalate (PEN), polyarylate (PAR), or fiber glass reinforced plastic (FRP).

상기 기판(311)은 투명하거나, 반투명하거나, 불투명할 수 있다. The substrate 311 may be transparent, translucent, or opaque.

상기 기판(311) 상에는 배리어막(312)이 형성될 수 있다. 상기 배리어막(312)은 상기 기판(311)의 상부면을 전체적으로 커버할 수 있다. A barrier film 312 may be formed on the substrate 311. The barrier layer 312 may cover the entire upper surface of the substrate 311.

상기 배리어막(312)은 무기막이나, 유기막을 포함한다. 이를테면, 상기 배리어막(612)은 실리콘 옥사이드(SiOx), 실리콘 나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥시나이트라이드(SiON), 알루미늄 옥사이드(AlO), 알루미늄나이트라이드(AlON) 등의 무기물이나, 아크릴, 폴리이미드, 폴리에스테르 등의 유기물 중에서 선택된 적어도 하나로 이루어질 수 있다. 상기 배리어막(312)은 단일막으로 형성되거나, 다층막으로 적층될 수 있다.The barrier film 312 includes an inorganic film and an organic film. For example, the barrier layer 612 may be formed of an inorganic material such as silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), silicon oxynitride (SiON), aluminum oxide (AlO), aluminum nitride Amide, polyester, and the like. The barrier film 312 may be formed as a single film or may be laminated with a multilayer film.

상기 배리어막(312)은 산소와 수분을 차단하는 역할을 수행하고, 상기 기판(311)을 통한 수분이나 불순물의 확산을 방지하고, 기판(311)의 상부에 평탄한 면을 제공한다. The barrier layer 312 functions to block oxygen and moisture, prevents diffusion of moisture or impurities through the substrate 311, and provides a flat surface on the top of the substrate 311.

상기 배리어막(312) 상에는 박막 트랜지스터(Thin film transistor, TFT)가 형성될 수 있다. 본 실시예에 따른 박막 트랜지스터는 탑 게이트(Top gate) 방식의 박막 트랜지스터를 예시하나, 바텀 게이트(Botton gate) 방식 등 다른 구조의 박막 트랜지스터가 구비될 수 있음은 물론이다. A thin film transistor (TFT) may be formed on the barrier layer 312. Though the thin film transistor according to the present embodiment is a top gate type thin film transistor, it is needless to say that a thin film transistor having another structure such as a bottom gate type may be provided.

상기 배리어막(312) 상에는 반도체 활성층(613)이 형성될 수 있다. 상기 반도체 활성층(313)에는 N형이나, P형 불순물 이온을 도핑하는 것에 의하여 소스 영역(314)과, 드레인 영역(315)이 형성될 수 있다. 상기 소스 영역(314)과, 드레인 영역(315) 사이의 영역은 불순물이 도핑되지 않는 채널 영역(316)이다. A semiconductor active layer 613 may be formed on the barrier layer 312. A source region 314 and a drain region 315 may be formed in the semiconductor active layer 313 by doping with N-type or P-type impurity ions. The region between the source region 314 and the drain region 315 is a channel region 316 where no impurity is doped.

상기 반도체 활성층(313)은 폴리 실리콘으로 형성될 경우에는 아몰퍼스 실리콘을 형성하고, 이를 결정화시키는 것에 의하여 폴리 실리콘으로 변화시킬 수 있다. When the semiconductor active layer 313 is formed of polysilicon, amorphous silicon may be formed and converted into polysilicon by crystallizing the amorphous silicon.

대안으로는, 상기 반도체 활성층(313)은 산화물 반도체로 형성될 수 있다. Alternatively, the semiconductor active layer 313 may be formed of an oxide semiconductor.

예컨대, 산화물 반도체는 아연(Zn), 인듐(In), 갈륨(Ga), 주석(Sn), 카드뮴(Cd), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf)과 같은 4, 12, 13, 14족 금속 원소 및 이들의 조합에서 선택된 물질의 산화물을 포함할 수 있다. For example, the oxide semiconductor may be a 4, 12, 13, or 14 Group metal such as zinc (Zn), indium (In), gallium (Ga), tin (Sn), cadmium (Cd), germanium (Ge) ≪ / RTI > elements and combinations thereof.

상기 반도체 활성층(313) 상에는 게이트 절연막(317)이 증착될 수 있다. 상기 게이트 절연막(317)은 실리콘 산화물이나, 실리콘 질화물이나, 금속 산화물과 같은 무기막을 포함한다. 상기 게이트 절연막(317)은 단일층이나, 다중층의 구조일 수 있다. A gate insulating layer 317 may be deposited on the semiconductor active layer 313. The gate insulating film 317 includes an inorganic film such as silicon oxide, silicon nitride, or metal oxide. The gate insulating film 317 may be a single layer or a multilayer structure.

상기 게이트 절연막(317) 상의 소정 영역에는 게이트 전극(318)이 형성될 수 있다. 상기 게이트 전극(318)은 Au, Ag, Cu, Ni, Pt, Pd, Al, Mo, Cr 등의 단일막이나, 다층막을 포함하거나, Al:Nd, Mo:W 와 같은 합금을 포함할 수 있다.A gate electrode 318 may be formed on a predetermined region of the gate insulating layer 317. The gate electrode 318 may include a single layer or multilayer film of Au, Ag, Cu, Ni, Pt, Pd, Al, Mo or Cr or an alloy such as Al: Nd or Mo: W .

상기 게이트 전극(318) 상에는 층간 절연막(319)이 형성될 수 있다. 상기 층간 절연막(319)은 실리콘 산화물이나, 실리콘 질화물 등과 같은 절연성 소재로 형성될 수 있다. 대안으로는, 상기 층간 절연막(319)은 절연성 유기막으로 형성될 수 있다. An interlayer insulating layer 319 may be formed on the gate electrode 318. The interlayer insulating film 319 may be formed of an insulating material such as silicon oxide, silicon nitride, or the like. Alternatively, the interlayer insulating film 319 may be formed of an insulating organic film.

상기 층간 절연막(319) 상에는 소스 전극(320)과, 드레인 전극(321)이 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 게이트 절연막(317) 및 층간 절연막(319)에는 이들의 일부를 제거하는 것에 의하여 콘택 홀이 형성되고, 콘택 홀을 통하여 소스 영역(314)에 대하여 소스 전극(320)이 전기적으로 연결되고, 드레인 영역(315)에 대하여 드레인 전극(321)이 전기적으로 연결될 수 있다. A source electrode 320 and a drain electrode 321 may be formed on the interlayer insulating layer 319. Specifically, a contact hole is formed in the gate insulating film 317 and the interlayer insulating film 319 by removing a part of them, and the source electrode 320 is electrically connected to the source region 314 through the contact hole And the drain electrode 321 may be electrically connected to the drain region 315.

상기 소스 전극(320)과, 드레인 전극(321) 상에는 패시베이션막(322)이 형성될 수 있다. 상기 패시베이션막(322)은 실리콘 산화물이나, 실리콘 질화물과 같은 무기막이나, 또는, 유기막으로 형성될 수 있다. A passivation film 322 may be formed on the source electrode 320 and the drain electrode 321. The passivation film 322 may be formed of an inorganic film such as silicon oxide or silicon nitride, or an organic film.

상기 패시베이션막(322) 상에는 평탄화막(323)이 형성될 수 있다. 상기 평탄화막(323)은 아크릴(acryl), 폴리이미드(polyimide), BCB(Benzocyclobutene) 등의 유기막을 포함한다. A planarizing film 323 may be formed on the passivation film 322. The planarizing film 323 includes an organic film such as acryl, polyimide, or BCB (Benzocyclobutene).

상기 박막 트랜지스터의 상부에는 유기 발광 소자(OLED)가 형성될 수 있다. An organic light emitting diode (OLED) may be formed on the thin film transistor.

상기 유기 발광 소자(OLED)는 제 1 전극(325)과, 제 2 전극(327)과, 제 1 전극(325)과 제 2 전극(327) 사이에 개재되는 중간층(326)을 포함한다.The organic light emitting diode OLED includes a first electrode 325, a second electrode 327 and an intermediate layer 326 interposed between the first electrode 325 and the second electrode 327.

제 1 전극(325)은 콘택 홀을 통하여 상기 소스 전극(320)이나 드레인 전극(321)중 어느 한 전극에 전기적으로 연결되어 있다. 상기 제 1 전극(325)은 픽셀 전극에 대응된다.The first electrode 325 is electrically connected to one of the source electrode 320 and the drain electrode 321 through a contact hole. The first electrode 325 corresponds to a pixel electrode.

상기 제 1 전극(325)은 애노우드로 기능하는 것으로서, 다양한 도전성 소재로 형성될 수 있다. 상기 제 1 전극(325)은 투명 전극이나, 반사형 전극으로 형성될 수 있다. The first electrode 325 functions as an anode, and may be formed of various conductive materials. The first electrode 325 may be a transparent electrode or a reflective electrode.

이를테면, 상기 제 1 전극(325)이 투명 전극으로 사용시, 상기 제 1 전극(325)은 ITO, IZO, ZnO, In2O3 등을 포함한다. 상기 제 1 전극(325)이 반사형 전극으로 사용시, 상기 제 1 전극(325)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr 및 이들의 화합물 등으로 반사막을 형성하고, 이후, 상기 반사막의 상부에 ITO, IZO, ZnO, In2O3 등을 형성할 수 있다.For example, when the first electrode 325 is used as a transparent electrode, the first electrode 325 may include ITO, IZO, ZnO, In 2 O 3 , and the like. When the first electrode 325 is used as a reflective electrode, the first electrode 325 may be formed of a reflective film of Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, And then ITO, IZO, ZnO, In 2 O 3 or the like may be formed on the reflective film.

상기 평탄화막(323) 상에는 유기 발광 소자의 제 1 전극(325)의 가장자리를 덮도록 픽셀 정의막(Pixel define layer, PDL, 324)이 형성될 수 있다. 상기 픽셀 정의막(324)은 상기 제 1 전극(325)의 가장자리를 둘러싸는 것에 의하여 각 서브 픽셀의 발광 영역을 정의한다.A pixel defining layer (PDL) 324 may be formed on the planarization layer 323 to cover the edge of the first electrode 325 of the organic light emitting diode. The pixel defining layer 324 defines the emission region of each subpixel by surrounding the edges of the first electrode 325.

상기 픽셀 정의막(324)은 유기물이나, 무기물로 형성하게 된다. The pixel defining layer 324 may be formed of an organic material or an inorganic material.

이를테면, 상기 픽셀 정의막(324)은 폴리이미드, 폴리아마이드, 벤조사이클로부텐, 아크릴 수지, 페놀 수지 등과 같은 유기물이나, SiNx와 같은 무기물로 형성할 수 있다. 상기 픽셀 정의막(324)은 단일막으로 형성되거나, 다중막으로 형성할 수 있다. For example, the pixel defining layer 324 may be formed of an organic material such as polyimide, polyamide, benzocyclobutene, acrylic resin, phenol resin, or the like, or an inorganic material such as SiNx. The pixel defining layer 324 may be formed of a single film or may be formed of multiple films.

상기 제 1 전극(325) 상에는 상기 픽셀 정의막(324)의 일부를 에칭하는 것에 의하여 노출된 영역에 중간층(326)이 형성될 수 있다. 상기 중간층(626)은 증착 공정에 의하여 형성시킬 수 있다. An intermediate layer 326 may be formed on the first electrode 325 by exposing a portion of the pixel defining layer 324. The intermediate layer 626 may be formed by a deposition process.

상기 중간층(326)은 저분자 유기물이나, 고분자 유기물로 이루어질 수 있다.The intermediate layer 326 may be formed of a low molecular organic material or a high molecular organic material.

상기 중간층(326)은 유기 발광층(Emissive layer, EML, 330)을 구비할 수 있다. 선택적인 다른 예로서, 상기 중간층(326)는 유기 발광층을 구비하고, 그 외에, 정공 주입층(Hole injection layer, HIL, 328), 정공 수송층(Hole transport layer, HTL, 329), 전자 수송층(Electron transport layer, ETL, 331), 전자 주입층(Electron injection layer, EIL, 332)중 적어도 어느 하나를 더 구비할 수 있다. 본 실시예에서는 이에 한정되지 않고, 상기 중간층(326)이 유기 발광층을 구비하고, 기타 다양한 기능층을 더 구비할 수 있다. The intermediate layer 326 may include an organic emission layer (EML) 330. Alternatively, the intermediate layer 326 may include a hole injection layer (HIL) 328, a hole transport layer (HTL) 329, an electron transport layer (Electron) a transport layer (ETL) 331, and an electron injection layer (EIL) 332. The intermediate layer 326 may include an organic light emitting layer and may further include various other functional layers.

상기 중간층(326) 상에는 제 2 전극(327)을 형성할 수 있다. 상기 제 2 전극(327)은 커먼 전극에 대응된다. 상기 제 2 전극(327)은 제 1 전극(325)과 마찬가지로 투명 전극이나, 반사형 전극으로 형성할 수 있다. A second electrode 327 may be formed on the intermediate layer 326. The second electrode 327 corresponds to a common electrode. The second electrode 327 may be formed of a transparent electrode or a reflective electrode in the same manner as the first electrode 325.

상기 제 1 전극(325)은 투명 전극이나, 반사형 전극으로 형성시에 각 서브 픽셀의 개구와 대응되는 형태로 형성될 수 있다. 반면에, 상기 제 2 전극(327)은 투명 전극이나, 반사형 전극을 디스플레이부 상에 전면 증착할 수 있다. 대안으로는, 상기 제 2 전극(327)은 전면 증착 대신에 특정한 패턴으로 형성될 수 있음은 물론이다. 상기 제 1 전극(325)과, 제 2 전극(327)은 위치가 서로 반대로 하여 적층될 수 있음은 물론이다.The first electrode 325 may be formed as a transparent electrode or a shape corresponding to an opening of each sub-pixel when formed as a reflective electrode. On the other hand, the second electrode 327 may be a transparent electrode, or the reflective electrode may be entirely deposited on the display portion. Alternatively, the second electrode 327 may be formed in a specific pattern instead of the entire deposition. It goes without saying that the first electrode 325 and the second electrode 327 may be stacked with their positions being opposite to each other.

한편, 상기 제 1 전극(325)과, 제 2 전극(327)은 중간층(326)에 의하여 서로 절연되어 있다. 상기 제 1 전극(325) 및 제 2 전극(327)에 전압이 인가되면, 상기 중간층(326)에서 가시광이 발광하여 사용자가 인식할 수 있는 화상이 구현된다. Meanwhile, the first electrode 325 and the second electrode 327 are insulated from each other by the intermediate layer 326. When a voltage is applied to the first electrode 325 and the second electrode 327, visible light is emitted from the intermediate layer 326 to realize an image that the user can recognize.

유기 발광 소자의 상부에는 밀봉부(340, Encapsulation)가 형성될 수 있다. 상기 밀봉부(340)는 외부의 수분이나 산소 등으로부터 중간층(326) 및 다른 박막을 보호하기 위하여 형성되는 것이다.An encapsulation 340 may be formed on the organic light emitting device. The sealing portion 340 is formed to protect the intermediate layer 326 and other thin films from external moisture, oxygen, or the like.

상기 밀봉부(340)는 유기막이나, 무기막이 각각 적어도 한 층 적층된 구조일 수 있다. The sealing portion 340 may have a structure in which at least one organic layer or an inorganic layer is stacked.

예컨대, 상기 밀봉부(340)는 에폭시, 폴리이미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리아크릴레이트 등과 같은 적어도 하나의 유기막(341)(342)과, 실리콘 옥사이드(SiO2), 실리콘 나이트 라이드(SiNx), 알루미늄 옥사이드(Al2O3), 티타늄 옥사이드(TiO2), 지르코늄 옥사이드(ZrOx), 징크 옥사이드(ZnO) 등과 같은 적어도 하나의 무기막(643)(644)(645)이 적층된 구조일 수 있다. For example, the sealing part 340 is an epoxy, polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, and at least one organic layer (341) 342, such as acrylate, silicon oxide (SiO 2), Silicon Nitride nitride (SiNx), aluminum oxide (Al 2 O 3), titanium oxide (TiO 2), zirconium oxide (ZrOx), zinc oxide (644) at least one inorganic film 643 such as a (ZnO) (645) are laminated Lt; / RTI >

상기 밀봉부(340)는 유기막(341)(342)이 적어도 1층이고, 무기막(343)(344)(345)이 적어도 2층의 구조를 가질 수 있다. 상기 밀봉부(340)중 외부로 노출된 최상층(345)은 유기 발광 소자에 대한 투습을 방지하기 위하여 무기막으로 형성시킬 수 있다. The sealing portion 340 may have at least one organic film 341 and at least one organic film 342 and at least two inorganic films 343 and 344 and 345. The uppermost layer 345 exposed to the outside of the sealing portion 340 may be formed of an inorganic film to prevent moisture permeation to the organic light emitting device.

이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the exemplary embodiments, and that various changes and modifications may be made therein without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

100, 200: 마스크 프레임 조립체 110, 210: 프레임
120, 220: 마스크 130, 230: 위치 고정부
132, 232: 휠 133, 233: 돌출부
133a: 제1 돌출부 133b: 제2 돌출부
133c: 제3 돌출부 140, 240: 서포터
145, 245: 락킹홈 150, 250: 용접부
241: 베이스부 242: 탄성부
243: 고정부재
100, 200: mask frame assembly 110, 210: frame
120, 220: mask 130, 230:
132, 232: Wheels 133, 233:
133a: first protrusion 133b: second protrusion
133c: third protrusion 140, 240: supporter
145, 245: locking grooves 150, 250:
241: base portion 242: elastic portion
243: Fixing member

Claims (19)

개구부와 상기 개구부를 둘러싸는 지지부를 구비하는 프레임;
상기 개구부에 대응하는 위치에 증착영역을 포함하는 마스크; 및
상기 지지부에 회전가능하도록 설치되며, 상기 마스크와 연결되는 위치 고정부;를 포함하는, 마스크 프레임 조립체.
A frame having an opening and a support surrounding the opening;
A mask including a deposition area at a position corresponding to the opening; And
And a position fixing unit rotatably installed on the support unit and connected to the mask.
제1 항에 있어서,
상기 위치 고정부의 적어도 일부가 삽입되고, 상기 프레임에 결합하는 서포터;을 더 포함하는, 마스크 프레임 조립체.
The method according to claim 1,
And a supporter, into which at least a portion of the position fixing portion is inserted and which engages with the frame.
제2 항에 있어서,
상기 위치 고정부는 복수개의 돌출부를 구비하고,
상기 복수개의 돌출부 중 어느 하나의 돌출부는 상기 마스크와 결합하고, 상기 복수개의 돌출부 중 다른 하나의 돌출부는 상기 서포터의 락킹홈에 삽입되는, 마스크 프레임 조립체.
3. The method of claim 2,
Wherein the position fixing portion has a plurality of projections,
Wherein one of the plurality of protrusions engages with the mask and the other protrusion of the plurality of protrusions is inserted into the locking groove of the supporter.
제1 항에 있어서,
상기 위치 고정부는,
상기 지지부에 고정되는 샤프트; 및
상기 샤프트에 삽입되고, 복수개의 돌출부를 가지는 휠을 구비하는, 마스크 프레임 조립체.
The method according to claim 1,
Wherein the position fixing portion comprises:
A shaft fixed to the support portion; And
And a wheel inserted into the shaft and having a plurality of protrusions.
제4 항에 있어서,
상기 돌출부는 상기 샤프트를 중심으로 방사형으로 형성된, 마스크 프레임 조립체.
5. The method of claim 4,
Wherein the projection is radially formed about the shaft.
제1 항에 있어서,
상기 위치 고정부는 상기 프레임을 따라 복수개 배치되는, 마스크 프레임 조립체.
The method according to claim 1,
Wherein the plurality of positioning fixtures are disposed along the frame.
제2 항에 있어서,
상기 서포터는 선형운동 가능한, 마스크 프레임 조립체.
3. The method of claim 2,
Wherein the supporter is linearly movable.
제7 항에 있어서,
상기 서포터는,
상기 위치 고정부의 적어도 일부가 삽입되는 락킹홈이 형성된 베이스부;
상기 베이스부와 상기 프레임 사이에 배치되는 탄성부; 및
일부가 상기 프레임에 삽입되며 상기 베이스부와 상기 탄성부를 관통하는 고정부재;를 구비하는, 마스크 프레임 조립체.
8. The method of claim 7,
The supporter includes:
A base portion having a locking groove into which at least a part of the position fixing portion is inserted;
An elastic part disposed between the base part and the frame; And
And a fixing member, a part of which is inserted into the frame and penetrates the base portion and the elastic portion.
제7 항에 있어서,
상기 탄성부는 상기 서포터의 운동방향의 반대방향으로 반발력을 형성하는, 마스크 프레임 조립체.
8. The method of claim 7,
Wherein the elastic portion forms a repulsive force in a direction opposite to the direction of motion of the supporter.
제 3항에 있어서,
상기 락킹홈의 높이를 조절하면 상기 위치고정부가 회전하여 상기 마스크의 장력이 조절되는, 마스크 프레임 조립체.
The method of claim 3,
And adjusting the height of the locking groove, the position fixing unit rotates to adjust the tension of the mask.
개구부와 상기 개구부를 둘러싸는 지지부를 구비하는 프레임;
상기 개구부에 대응하는 위치에 증착영역을 포함하는 마스크;
상기 프레임에 회전가능하도록 설치되며, 상기 마스크와 결합하는 위치 고정부; 및
상기 프레임과 결합하고, 상하운동으로 상기 위치 고정부를 회전시키는 서포터;를 포함하는, 마스크 프레임 조립체.
A frame having an opening and a support surrounding the opening;
A mask including a deposition area at a position corresponding to the opening;
A position fixing unit rotatably installed on the frame, the position fixing unit being engaged with the mask; And
And a supporter coupled to the frame and rotating the position fixing unit in an up-and-down motion.
제11 항에 있어서,
상기 위치 고정부는 복수개의 돌출부를 구비하고,
상기 복수개의 돌출부 중 어느 하나의 돌출부는 상기 마스크와 결합하고, 상기 복수개의 돌출부 중 다른 하나의 돌출부는 상기 서포터에 삽입되는, 마스크 프레임 조립체.
12. The method of claim 11,
Wherein the position fixing portion has a plurality of projections,
Wherein one of the plurality of protrusions engages with the mask and the other protrusion of the plurality of protrusions is inserted into the supporter.
제12 항에 있어서,
상기 서포터는,
상기 위치 고정부의 일부가 삽입되는 락킹홈이 형성된 베이스부;
상기 베이스부와 상기 프레임 사이에 배치되는 탄성부; 및
일부가 상기 프레임에 삽입되며 상기 베이스부 및 상기 탄성부를 관통하는 고정부재;를 구비하는, 마스크 프레임 조립체.
13. The method of claim 12,
The supporter includes:
A base portion having a locking groove into which a part of the position fixing portion is inserted;
An elastic part disposed between the base part and the frame; And
And a fixing member, a part of which is inserted into the frame and penetrates the base portion and the elastic portion.
제13 항에 있어서,
상기 락킹홈의 높이를 조절하면 상기 위치 고정부가 회전하여 상기 마스크의 장력이 조절되는, 마스크 프레임 조립체.
14. The method of claim 13,
And adjusting the height of the locking groove, the position fixing unit rotates to adjust the tension of the mask.
제12 항에 있어서,
상기 탄성부는 상기 서포터는 운동방향의 반대방향으로 반발력을 형성하는, 마스크 프레임 조립체.
13. The method of claim 12,
Wherein the elastic portion forms a repulsive force in a direction opposite to the direction of motion of the supporter.
제12 항에 있어서,
상기 서포터는 상기 프레임의 외측에 상기 위치 고정부에 대응하도록 배치되는, 마스크 프레임 조립체.
13. The method of claim 12,
Wherein the supporter is disposed outside the frame so as to correspond to the position fixing portion.
프레임의 그루브에 복수의 돌출부를 구비한 위치 고정부를 설치하는 단계;
상기 위치 고정부의 제1 돌출부와 마스크의 테두리부를 용접하여 결합하는 단계; 및
상기 제1 돌출부와 다른 제2 돌출부를 서포터의 락킹홈에 삽입하여 상기 위치 고정부를 고정하는 단계;를 포함하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.
Installing a position fixing unit having a plurality of projections in a groove of the frame;
Welding the first protrusion of the position fixing part to the edge of the mask; And
And inserting a second protrusion different from the first protrusion into the locking groove of the supporter to fix the position fixing section.
제17 항에 있어서,
상기 마스크를 교체하기 위해서 상기 제1 돌출부에 이웃하는 제3 돌출부를 교체되는 마스크의 테두리부와 결합하고, 상기 제2 돌출부에 이웃하는 제4 돌출부를 상기 락킹홈에 삽입하여 상기 위치 고정부를 고정하는 단계;를 더 포함하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.
18. The method of claim 17,
A third protrusion adjacent to the first protrusion is engaged with a rim of the mask to be replaced to replace the mask and a fourth protrusion adjacent to the second protrusion is inserted into the locking groove to fix the position fixing part Further comprising the steps of:
제17 항에 있어서,
상기 서포터를 상하 운동으로 상기 위치 고정부를 회전시켜서 상기 마스크의 장력을 조절하는 단계;를 더 포함하는, 마스크 프레임 조립체 제조 방법.
18. The method of claim 17,
And adjusting the tension of the mask by rotating the position fixing unit in an up-and-down motion of the supporter.
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