KR20160069195A - Vacuum laminator and method for laminating using the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 라미네이터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 진공 상태에서 필름을 라미네이팅 공정에 의해 기판 상에 접착 시킬 수 있도록 하는 진공 라미네이터 및 이를 이용한 라미네이팅 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laminator, and more particularly, to a vacuum laminator for adhering a film on a substrate by a laminating process in a vacuum state, and a laminating method using the same.
최근, 전자 제품의 소형화 추세에 따라 반도체 패키지의 두께를 감소시키려는 노력이 계속되고 있다. 반도체 제품 패키지의 두께를 감소시키는 방법의 하나로서 반도체 칩의 배면(back side)을 연마하는 공정이 채택되고 있다.2. Description of the Related Art Recently, efforts have been made to reduce the thickness of a semiconductor package in accordance with the miniaturization trend of electronic products. As a method for reducing the thickness of the semiconductor product package, a process of polishing the back side of the semiconductor chip has been adopted.
기판 배면의 연마 공정은, 기판 전면에 오염 방지를 위한 필름을 접착하는 공정, 필름이 접착된 기판의 배면을 연마하는 공정 및 연마가 완료된 기판으로부터 필름을 제거하는 공정으로 이루어진다. 특히 기판에 오염 방지를 위한 필름을 접착하는 설비를 라미네이터라고 하고 그 공정을 라미네이팅 공정이라 한다.The polishing step of the back surface of the substrate comprises a step of adhering a film for prevention of contamination to the whole surface of the substrate, a step of polishing the back surface of the substrate to which the film is adhered, and a step of removing the film from the substrate after polishing. In particular, a facility for adhering a film for preventing contamination to a substrate is referred to as a laminator, and the process is referred to as a laminating process.
더욱 구체적으로 반도체 제조공정의 라미네이터를 이용한 라미네이팅 공정은 기판의 사용하지 않는 배면을 연삭하는 배면 연마 전의 처리 공정으로서, 기판의 배면 연마 공정시 사용되는 연삭수(硏削水), 또는 연삭 후 발생하는 기판 파티클 등으로부터 기판의 전면(前面)을 보호하기 위하여 기판의 전면에 필름을 접착하는 공정에 해당한다.More specifically, a laminating process using a laminator in a semiconductor manufacturing process is a process before the rear surface polishing that grinds the back surface of the substrate that is not used, and includes grinding water used for polishing the back surface of the substrate, And a process of adhering a film to the entire surface of the substrate to protect the front surface of the substrate from the substrate particles and the like.
한편 라미네이터에서 사용되는 오염 방지를 위한 필름은 폴리머계의 재료로 제작되어 공정 중에 표면에 많은 정전기를 유발할 수 있다. 필름 합착공정을 수행하기 위하여 라미네이터 설비 내로 유입된 기판 상에 이물질이 존재하는 경우, 이물질은 필름으로부터 유도된 정전기에 의해 하전 되어 기판 상에 더 강하게 흡착되어 제거하기 어려워진다. 또한 오염된 기판은 라미네이터 설비를 오염시킬 뿐만 아니라, 다른 기판을 2차적으로 오염시킬 수 있다.On the other hand, the film for prevention of contamination used in the laminator is made of a polymer material and can cause a lot of static electricity on the surface during the process. When foreign substances are present on the substrate introduced into the laminator facility to perform the film laminating process, the foreign substances are charged by the static electricity derived from the film and are more strongly adsorbed on the substrate, making it difficult to remove. In addition, the contaminated substrate not only contaminates the laminator installation but also can contaminate other substrates secondarily.
특히 라미네이팅 공정에서는 필름과 기판 사이에 버블이 발생되지 않는 것이 중요한 바, 종래 필름 라미네이팅 방법으로는 롤러를 이용한 롤러 방식이 사용되고 있으며, 롤러 방식은 기판에 필름을 위치시킨 후에 롤러로 필름을 가압하여 라미네이팅 작업을 수행한다. Particularly in the laminating process, it is important that no bubbles are generated between the film and the substrate. In the conventional film laminating method, a roller method using a roller is used. In the roller method, a film is placed on a substrate, Perform the operation.
그러나 이러한 종래의 롤러 방식은 균일한 가압이 용이하지 않고 기구적으로 복잡하며 미세한 버블이 발생되는 문제점이 있었다.However, such a conventional roller method has a problem in that uniform pressurization is not easy, and the apparatus is complicated and minute bubbles are generated.
또한 롤러의 가압 시 필름이 들어 올려질 수 있고, 이에 따라 필름에 인장력이 발생할 수 있다. 필름에 가해진 인장력은 공정이 끝난 후에는 필름에 복원력으로 작용하기 때문에 완제품에서의 라미네이팅된 필름의 위치가 틀어지게 되는 문제점이 있었다.Also, the film may be lifted when the roller is pressed, and thus tensile force may be generated on the film. The tensile force applied to the film has a problem that the position of the laminated film in the finished product is changed because it acts as a restoring force to the film after the end of the process.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명은 기판과 필름 합착 시 미세 버블이 발생되는 것을 최대한 방지할 수 있는 진공 라미네이터 및 이를 이용한 라미네이팅 방법을 제공하고자 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a vacuum laminator and a laminating method using the vacuum laminator.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 외관을 이루는 프레임과, 상기 프레임에 상/하로 배치되는 제1 챔버케이스 및 제2 챔버케이스로 이루어지며 각 챔버케이스가 결합 또는 분리되면서 개방 가능한 밀폐 공간을 형성하는 챔버부와, 상기 제1 챔버케이스를 상하 업다운 시키기 위한 업다운 유닛과, 상기 챔버부 내측에 제공되어 기판 및 필름이 로딩되는 제1 스테이지 및 제2 스테이지와, 상기 제1 및 제2 스테이지 상에 제공되어 상기 기판 및 필름을 고정시키거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 제공된 홀더수단, 그리고 상기 챔버부 일측에 제공되어 상기 챔버부 내부를 진공압 분위기 또는 대기압 분위기로 선택적으로 제공하기 위한 진공펌프를 포함하여 이루어진 진공 라미네이터를 제공한다.In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a hermetically sealed container comprising an outer frame, a first chamber case disposed above and below the frame, and a second chamber case, A first stage and a second stage which are provided inside the chamber and are loaded with the substrate and the film, and a first stage and a second stage, And a vacuum pump provided on one side of the chamber for selectively providing the inside of the chamber to a vacuum atmosphere or an atmospheric pressure, And a vacuum laminator.
이때 상기 업다운 유닛은 상기 제1 챔버케이스에 축 연결되어 제1 챔버케이스를 상하 구동시키기 위한 모터 구동부와, 상기 프레임 상부에 설치되어 상기 모터 구동부를 지지하기 위한 모터 구동부 지지부, 그리고 일단은 제1 챔버케이스 양측에 연결되고 타단은 구동부 지지부 양 기둥에 연결되어 상기 제1 챔버케이스의 이동을 안내하는 가이드를 포함하여 이루지는 것을 특징으로 한다.The up-down unit may include a motor driving unit connected to the first chamber case to vertically drive the first chamber case, a motor driving unit support installed on the frame to support the motor driving unit, And a guide connected to both sides of the case and the other end connected to both columns of the support part for guiding movement of the first chamber case.
한편 상기 제1 스테이지는 상기 제1 챔버케이스 내측에 제공되어 상기 기판이 로딩되고, 상기 제2 스테이지는 상기 제2 챔버케이스 내측에 제공되어 상기 필름이 로딩되며, 상기 기판과 필름 합착 시 상기 기판이 필름 상부로 낙하되는 것을 특징으로 한다.Meanwhile, the first stage is provided inside the first chamber case to load the substrate, the second stage is provided inside the second chamber case to load the film, and when the film is adhered to the substrate, And falls to the top of the film.
또한 상기 홀더수단은 상기 제1 스테이지 상에 제공되어 상기 기판을 고정하거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 제공된 제1 정전척 및 상기 제2 스테이지 상에 제공되어 상기 필름을 고정하거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 제공된 제2 정전척을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The holder means may be provided on the first stage and provided on the first stage to fix or unfix the substrate, and a second electrostatic chuck provided on the second stage to fix or release the film And a second electrostatic chuck provided so that the second electrostatic chuck is provided.
또한 상기 챔버부에는 상기 기판과 필름을 합착시키기 위해 가압유체를 제공하는 가압유체 공급수단을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The chamber portion may further include pressurized fluid supply means for supplying a pressurized fluid to adhere the substrate and the film.
또한 상기 제2 스테이지 하부에는 상기 제2 스테이와 연결되어 상기 제2 스테이지를 상하 업다운 시켜 상기 기판에 대해 상기 필름을 2차로 합착시키기 위한 제2 스테이지 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The second stage may further include a second stage driving unit connected to the second stage to vertically move the second stage up and down to secondarily attach the film to the substrate.
또한 상기 제2 스테이지에는 상기 필름에 열을 제공하기 위한 히터를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.And the second stage further comprises a heater for providing heat to the film.
또한 상기 제2 스테이지 하부에는 상기 필름에 대해 기판이 합착될 경우 발생되는 합착 하중을 측정하기 위한 로드셀을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.And a load cell for measuring a cemented load generated when the substrate is attached to the film under the second stage.
또한 상기 라미네이터는 상기 챔버부 내부로 상기 필름을 이송시키기 위한 트랜스퍼 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The laminator further includes a transfer unit for transferring the film into the chamber.
이때 상기 트랜스퍼 유닛은 상기 필름을 고정시키거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 상부 진공척이 마련된 상부 스테이지와, 상기 상부 스테이지의 하측에 제공되어 상기 필름을 고정시키거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 하부 진공척이 마련된 하부 스테이지와, 상기 상부 스테이지를 하부 스테이지 측으로 상하 방향으로 이동시키기 위한 상하 구동유닛, 그리고 상기 상부 스테이지를 상기 챔버부 측으로 좌우 방향으로 이동시키기 위한 좌우 구동유닛을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The transfer unit may include an upper stage provided with an upper vacuum chuck so that the film can be fixed or released from the fixed state, and a lower vacuum provided at the lower side of the upper stage to fix the film, A vertical drive unit for moving the upper stage in the vertical direction toward the lower stage and a left and right drive unit for moving the upper stage in the lateral direction toward the chamber unit .
또한 상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 챔버부를 개방하여 기판 및 필름을 제1 스테이지 및 제2 스테이지를 로딩시킨 후, 상기 챔버부를 밀폐시키는 로딩 단계와, 상기 챔버부 내부를 진공 상태로 유지시킨 다음 상기 기판을 필름 상부로 낙하시켜 합착을 준비하는 준비 단계와, 상기 챔버부 내부로 가압유체를 공급하여 상기 기판에 대해 필름을 1차적으로 합착하는 제1 합착단계와, 상기 제2 스테이지를 제1 스테이지와 접하도록 상승시켜 상기 기판에 대해 필름을 2차적으로 합착하는 제2 합착단계, 그리고 상기 챔버부를 개방하여 필름이 합착된 기판을 언로딩시키는 언로딩 단계를 포함하여 이루어진 라미네이팅 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a loading step of opening a chamber part to load a substrate and a film on a first stage and a second stage, A first coalescing step of firstly adhering a film to the substrate by supplying a pressurized fluid into the chamber part, and a second coalescing step of coalescing the film to the substrate, And a second laminating step of laminating the film to the substrate by lifting the laminating step so as to be in contact with the first stage, and unloading the substrate by opening the chamber part and unloading the substrate on which the film is adhered do.
이때 상기 로딩 단계 전에 기판 이송 단계를 더 포함할 수 있으며, 상기 기판 이송 단계는 트랜스퍼 유닛의 하부 스테이지의 하부 진공척에 필름을 안착시키는 단계와, 상부 스테이지를 하부스테이지로 이동시켜 상부 스테이지의 상부 진공척에 필름을 안착시키는 단계, 그리고 상기 필름이 안착된 상부 스테이지를 챔버부로 이동 시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The substrate transfer step may include placing the film on the lower vacuum chuck of the lower stage of the transfer unit, moving the upper stage to the lower stage, Placing the film on a chuck, and moving the upper stage on which the film is seated to the chamber part.
또한 상기 제1 합착 단계는 상기 제1 스테이지 및 제2 스테이지 상에 설치된 히터에 의해 기판 및 필름으로 열을 공급하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The first coalescing step may further include supplying heat to the substrate and the film by a heater provided on the first stage and the second stage.
또한 상기 제2 합착 단계는 필름이 기판에 2차적으로 합착하는 과정에서 로드셀에 의해 합착 하중을 측정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The second cementing step may further include a step of measuring a cementing load by a load cell in a process of secondarily bonding the film to the substrate.
상기와 같은 본 발명에 따른 진공 라미네이터 및 이를 이용한 라미네이팅 방법은, 진공 챔버 내에서 발생되는 압력 차이에 의해 필름을 기판에 라미네이팅함에 따라 라미네이팅 과정에서 기판과 필름 사이에 버블이 발생하는 것을 최대한 방지할 수 있는 효과를 제공할 수 있다.The vacuum laminator according to the present invention and the laminating method using the vacuum laminator according to the present invention laminate the film on the substrate due to a pressure difference generated in the vacuum chamber, thereby preventing bubbles from being generated between the substrate and the film in the laminating process Can provide an effect.
또한 본 발명은 1차적으로 진공 내의 압력차에 의해 합착시킴과 더불어 2차적으로 스테이지 구동부를 통한 합착 공정을 진행함에 따라 기판에 대해 필름을 정교하게 합착시킬 수 있는 효과를 제공할 수 있다.Further, according to the present invention, the film is adhered to the substrate by the pressure difference within the vacuum, and the film is secondarily adhered to the substrate through the stage driving unit. Thus, the film can be precisely adhered to the substrate.
또한 본 발명은 필름을 기존 고가의 로봇 유닛이 아닌 트랜스퍼 유닛을 통해 이동시키는 구조를 적용함에 따라 필름 이동시 파손을 최대한 줄일 수 있는 것과 더불어 설비비용을 최대한 줄일 수 있는 효과를 제공할 수 있다.Further, according to the present invention, since the film is moved through the transfer unit rather than the existing expensive robot unit, the damage can be minimized while moving the film, and the facility cost can be reduced as much as possible.
또한 본 발명은 로드셀에 의해 합착 하중을 측정하여 기판의 합착력을 조절함에 따라 합착 하중에 의한 기판의 파손을 최대한 방지할 수 있는 효과를 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide the effect of preventing the damage of the substrate due to the cohesive load as much as possible by controlling the cohesion force of the substrate by measuring the cohesive load by the load cell.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터를 도시한 사시도
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터의 측면을 나타낸 측면도
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터의 단면을 나타낸 단면도
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터의 트랜스퍼 유닛의 작동을 개략적으로 나타낸 도면
도 5a 내지 도 5g는 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터를 이용한 라미네이팅 과정을 개략적으로 나타낸 도면1 is a perspective view illustrating a laminator according to an embodiment of the present invention;
Figure 2 is a side view of a side view of a laminator according to an embodiment of the present invention;
3 is a cross-sectional view of a laminator according to an embodiment of the present invention
4 is a view schematically showing the operation of the transfer unit of the laminator according to the embodiment of the present invention
5A to 5G are views schematically showing a laminating process using a laminator according to an embodiment of the present invention
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이때 첨부된 도면에서 동일한 구성 요소는 가능한 동일한 부호로 나타내고 있음에 유의해야 한다. 그리고 본 발명의 요지를 흐리게 할 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략할 것이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It should be noted that the same components are denoted by the same reference numerals as possible in the accompanying drawings. Further, the detailed description of known functions and configurations that may obscure the gist of the present invention will be omitted.
이하, 첨부된 도면 도1 내지 도 5를 참조로 본 발명의 실시예를 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터를 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터의 측면을 나타낸 측면도이며, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터의 단면을 나타낸 단면도이다.FIG. 1 is a perspective view of a laminator according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view of a laminator according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view of a laminator according to an embodiment of the present invention. Sectional view.
또한 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터의 트랜스퍼 유닛의 작동을 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 5a 내지 도 5g는 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터의 작동 과정을 개략적으로 나타낸 도면이다.FIG. 4 is a schematic view showing the operation of the transfer unit of the laminator according to the embodiment of the present invention. FIGS. 5A to 5G are views schematically showing the operation of the laminator according to the embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터는 크게 프레임(100)과, 챔버부(200)와, 업다운 유닛(300)과, 제1 스테이지(410) 및 제2 스테이지(420)와, 홀더수단(500), 그리고 진공펌프(P)를 포함하여 이루어질 수 있다.1 to 3, a laminator according to an embodiment of the present invention mainly includes a
프레임(100)은 라미네이터의 외관을 이루는 것으로서, 여러 개의 금속 파이프(또는 금속바)를 통상의 방법으로 용접하거나 볼트로 체결한 사각 형상의 프레임(100)체의 결합으로 이루어질 수 있다. The
이때 프레임(100)의 안쪽에는 챔버부(200)가 위치한다.At this time, the
챔버부(200)는 상하로 배치되는 제1 챔버케이스(210) 및 제2 챔버케이스(220)로 이루어지며 각 챔버케이스가 결합 또는 분리되면서 개방 가능한 밀폐 공간을 형성한다.The
더욱 구체적으로 챔버부(200)의 제1 챔버케이스(210) 및 제2 챔버케이스(220)는 일측면이 개방된 내부공간을 가지는 박스 형태로 이루어지며, 도 2에 도시된 바와 같이 개방면이 서로 마주하는 상태로 프레임(100)의 수평 프레임부(110) 위에 배치된다.More specifically, the
이때 제1 챔버케이스(210)는 업다운 유닛(300)에 의해 상/하로 이동하면서 상기 제2 챔버케이스(220)와 결합 또는 분리된다.At this time, the
이러한 업다운 유닛(300)은 제1 챔버케이스(210)에 축(311) 연결되어 제1 챔버케이스(210)를 상하 구동시키기 위한 모터 구동부(310)와, 프레임(100) 상부에 설치되어 모터 구동부(310)를 지지하기 위한 모터 구동부 지지부(320)와, 일단은 제1 챔버케스(210)의 양측에 연결되고 타단은 모터 구동부 지지부(320) 양 기둥에 연결되어 상기 제1 챔버케이스(210)의 이동을 안내하는 가이드(330)를 포함하여 이루어질 수 있다. The up-down
본 발명의 실시예에 따른 업다운 유닛(300)의 모터 구동부(310)는 모터 축과 연결한 스크류를 이용하여 이 스크류의 정/역 회전에 의해 제1 챔버케이스(210)가 제2 챔버케이스(220)와 분리 가능하게 결합시키는 역할을 한다. 이때 가이드(330)는 제1 챔버케이스(210)의 상하 이동을 안내하는 역할을 하는 것이다.The
이와 같은 구조에 의하면, 모터 구동부(310)에 의해 제1 챔버케이스(210)가 제2 챔버케이스(220)를 향하여 하측으로 이동하면서 상호 결합 상태가 되거나 상측으로 이동하면서 상호 분리된 상태가 될 수 있다. According to this structure, the
이에 따라, 상기와 같이 제1 및 제2 챔버케이스(220)의 결합 및 분리 동작에 의해 개방 가능한 밀폐 공간을 내부에 형성하게 된다.Accordingly, the first and
이때 업다운 유닛(300)은 구동원으로 모터 구동부(310)를 사용하는 구조에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 실린더를 사용할 수 있으며, 실린더의 구동에 의해 상기 제1 챔버케이스(210)가 제2 챔버케이스(220)를 향하여 이동하면서 결합 상태가 되거나 분리된 상태가 될 수 있도록 세팅할 수 있다. 이외에도 본 발명의 목적을 만족하는 동력 발생 및 전달 구조는 다양하게 실시할 수 있다.At this time, the up-
한편 제1 스테이지(410) 및 제2 스테이지(420)는 챔버부(200) 내측에 제공되어 기판(G) 및 필름(F)이 로딩되어 안착될 수 있도록 하는 역할을 한다.The
본 발명의 실시예에 따르면 제1 스테이지(410)는 제1 챔버케이스(210) 측에 제공되어 기판(G)이 로딩되어 안착되고, 제2 스테이지(420)는 제2 챔버케이스(220) 측에 제공되어 필름(F)이 로딩되어 안착된 것이 제시된다.The
이는 기판(G)에 필름(F)을 합착하는 과정에서 제2 스테이지(420)에 로딩된 필름(F)의 상부측으로 제1 스테이지(410)에 로딩된 기판(G)을 이동시킨 다음 기판(G)을 필름(F) 상부에 낙하시키는 방식으로 합착 공정을 진행하기 위함이다.This is because the substrate G loaded on the
홀더수단(500)은 제1 스테이지(410) 및 제2 스테이지(420) 상에 제공되어 기판(G) 및 필름(F)을 고정하거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 하기 위해 구비된 것이다.The holder means 500 is provided on the
이러한 홀더수단(500)은 제1 스테이지(410) 상에 제공되어 기판(G)을 고정하거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 하기 위한 제1 정전척(510)과, 제2 스테이지(420) 상에 제공되어 필름(F)을 고정하거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 하기 위한 제2 정전척(520)을 포함하여 이루어질 수 있다.The holder means 500 includes a first
더욱 구체적으로 제1 정전척(510) 및 제2 정전척(520)은 예를 들어, 각 스테이지가 +/- 전압의 인가에 따른 전위의 대전 현상에 의해 발생하는 끌어당기는 힘으로 각종 물체를 고정하는 판상의 정전척(Electro Static Chuck)으로 제작하거나, 각 스테이지 상에 별도의 각 정전척이 설치된 상태로 제공될 수 있다. More specifically, the first
홀더수단(500)을 정전척을 적용함에 따라 기판(G) 및 필름(F)의 유동을 방지할 수 있는 안정적인 상태로 기판(G) 및 필름(F)을 잡아줄 수 있게 된다.The substrate G and the film F can be held in a stable state in which the flow of the substrate G and the film F can be prevented by applying the holder means 500 to the electrostatic chuck.
또한 홀더수단(500)은 기판(G) 및 필름(F)을 진공 등의 흡착력으로 통상의 진공척(vacuum chuck, 미도시)등이 사용될 수도 있다.Further, the holder means 500 may be a vacuum chuck (not shown) or the like with a force of attraction of the substrate G and the film F by vacuum or the like.
이와 같이, 정전척이나 진공척을 홀더수단(500)으로 적용하면, 온/오프 등의 간단한 제어에 의하여 기판(G) 및 필름(F)을 평탄한 상태로 신속하게 고정하거나 고정 상태를 해제할 수 있다. 따라서 기판(G) 및 필름(F)의 로딩 또는 언로딩 시 한층 향상된 작업성을 확보할 수 있다.Thus, when the electrostatic chuck or the vacuum chuck is applied to the holder means 500, the substrate G and the film F can be quickly fixed in a flat state or released from the fixed state by simple control such as on / have. Therefore, improved workability can be ensured when loading or unloading the substrate (G) and the film (F).
진공펌프(P)는 챔버부(200) 일측에 제공되어 상기 챔버부(200) 내부를 진공압 분위기 또는 대기압 분위기로 선택적으로 제공하기 위해해 제공된 것이다.The vacuum pump P is provided at one side of the
더욱 구체적으로 제1 챔버케이스(210) 및 제2 챔버케이스(220)와 통상의 진공펌프(P)를 관체로 연결하여 펌프의 구동에 의해 밀폐 공간을 진공압 분위기 또는 대기압 분위기로 전환할 수 있다. 이처럼, 진공펌프(P)를 이용하여 밀폐 공간을 진공압 또는 대기압 분위기로 전환하는 구조는 해당 분야에서 일반적인 지식을 가진 자라면 용이하게 실시할 수 있는 것이므로 더욱 상세한 설명은 생략한다.More specifically, the
한편 도시하지는 않았으나, 제1 챔버케이스(210)와 제2 챔버케이스(220)의 접촉면 사이에는 공기의 누설을 방지하기 위한 고무나 실리콘 등 유연한 재질의 실링재가 설치될 수 있다.Although not shown, a sealing material of a flexible material such as rubber or silicone may be provided between the contact surfaces of the
한편 챔버부(200)에는 기판(G)과 필름(F)을 합착시키기 위해 가압유체를 제공하는 가압유체공급수단(600)이 더 포함될 수 있다.The
도 5a 내지 도 5g를 참조하면, 가압유체공급수단(600)은 챔버부(200) 내부를 향하여 유체를 분사할 수 있도록 형성되는 분사구(610)와, 분사구(610)와 연결되어 가압유체를 제공하는 가압유체공급장치(620)를 포함하여 이루어질 수 있다.5A to 5G, the pressurized fluid supply unit 600 includes a jetting
본 발명의 실시예에 따른 분사구(610)는 제1 챔버케이스(210) 상부에 제공된 것이 제시되며 유체를 공급받아 분사할 수 있는 통상의 노즐 구조를 갖도록 형성될 수 있다.The jetting
상기와 같이 제1 챔버케이스(210) 상측에 제공되는 분사구(610)는 필름(F)이 로딩되어 있는 제2 스테이지(420) 측을 향해 유체를 분사할 수 있다. The jetting
더욱 구체적으로 분사구(610)는 기판(G)과 필름(F)이 서로 접촉된 상태일 때 기판(G)의 상면을 향하여 유체를 분사하는 방식으로 합착력을 발생하게 되는 것이다.More specifically, the jetting
이러한 유체는 특히 기체들 중에서 질소(N2) 가스를 사용할 수 있으며, 분사구(610)와 연결된 가압유체공급장치를 통해 통상의 방법으로 질소가스를 공급받아서 분사할 수 있도록 셋팅된다.Such fluid may be nitrogen (N2) gas, among other gases, and may be set to be able to receive and dispense nitrogen gas in a conventional manner via a pressurized fluid supply device coupled to the
또한 본발명의 실시예에 따르면 상기 제2 스테이지(420) 하부에 제공되어 제2 스테이지(420)를 상하 업다운 시켜 상기 기판(G)에 대해 상기 필름(F)을 2차로 합착시키기 위한 제2 스테이지 구동부(700)가 더 포함된 것을 제시한다.According to an embodiment of the present invention, a
다시 도 1 내지 도 3을 참조하면, 제2 스테이지 구동부(700)는 제2 스테이지(420)의 하부에 연결되어 제2 스테이지(420)를 상하로 이동시킴으로써 제2 스테이지(420) 상의 필름(F)을 기판(G)과 합착시킬 수 있도록 하는 공압실린더 또는 볼스크류-모터 등의 공지의 선형운동시스템으로 이루어질 수 있다. 1 to 3, the second
물론 본 발명의 실시예에서는 제1 스테이지(410)가 고정된 상태에서 제2 스테이지(420)가 상하 방향으로 이동하도록 구성되었으나, 이와 반대로 제2 스테이지(420)가 고정된 상태에서 제1 스테이지(410)가 상하 방향으로 이동하여 필름(F)에 대해 기판(G)을 2차로 합착시키도록 구성될 수도 있다.Although the
또한 도면에 도시하지는 않았으나, 상기 제2 스테이지 구동부(700)는 전후 및 좌우, 회전 운동이 가능한 X-Y- 정렬장치 상에 설치되어, 기판(G)에 대한 필름(F)의 위치 보정이 가능하도록 설치될 수 있다.Although not shown in the drawing, the second
따라서 필름(F)에 대해 기판(G)이 낙하되어 필름(F)과 기판(G)이 접촉된 상태에서 1차적으로는 가압유체공급수단(600)에 의해 필름(F)이 기판(G)에 합착되는 것이고, 2차적으로는 제2 스테이지 구동부(700)를 제1 스테이지(410) 측으로 이동시켜 제1 스테이지(410)에 1차적으로 필름(F)이 합착된 기판(G)이 밀착되면서 완전 합착이 이루어지게 되는 것이다. The film F is transferred to the substrate G by the pressurized fluid supply means 600 in a state in which the substrate G falls onto the film F and the film F and the substrate G are in contact with each other, The second
본 발명의 실시예에 따르면 도 3에 도시된 바와 같이, 제2 스테이지(420) 하부에는 필름(F)에 대해 기판(G)이 합착될 경우 합착 하중을 측정하기 위한 로드셀(810)이 더 포함될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3, a
이때 로드셀(810)로 측정된 하중은 제어부(미도시)에 출력된다. 제어부에서는 로드셀(810)로 측정된 하중을 기준으로 기판(G)에 대해 필름(F)이 합착하는 하중이 일정한 하중이 되도록 제2 스테이지 구동부(700)의 상하 이동 범위를 제어한다. At this time, the load measured by the
로드셀(810)로 측정되는 하중이 허용 하중을 초과한 경우에는 제2 스테이지 구동부(700)의 구동을 정지시켜는 것이 바람직하다. 예컨대 기판(G)과 필름(F)이 합착하는 과정에서 이상이 발생하여 로드셀(810)로 측정되는 하중이 급격히 증가한 경우에 제어부는 제2 스테이지 구동부(700)의 구동을 정지하도록 제어한다. 따라서 합착력에 의해 기판(G)이 손상을 입는 것을 보다 확실하게 방지할 수 있다.When the load measured by the
본 발명의 실시예에서는 기판(G)과 필름(F)의 합착 하중을 측정하기 위해서 로드셀(810)을 제시하였지만 로드셀(810)에 한정되지 않고, 여러가지 수단을 이용할 수 있다. 예컨대 합착 하중을 측정할 수 있는 장치로 압력 센서나 다이얼 게이지, 용수철 저울 등을 사용할 수 있다.In the embodiment of the present invention, the
본 발명의 실시예에 따르면 제2 스테이지(420)에는 제1 스테이지 및 제2 스테이지(420) 상에 로딩된 기판(G) 및 필름(F)을 가열하기 위한 히터(820)가 더 포함될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the
이때 히터(820)는 제1 스테이지(410)와 제1 정처척(510) 및 제2 스테이지(420)와 제2 정전척(520) 사이에 각각 설치되는 것이 바람직하며, 히터(820)는 판상으로 이루어진 상태로 제공되어 내부에 열선이 삽입 설치될 수 있다. 열선은 나선형 또는 지그재그 형태로 배치될 수 있으며, 열선에는 전류의 공급을 위한 전력 제어부가 연결 설치된다. 히터(820)는 기판 및 필름에 열을 제공하여 기판에 대해 필름이 합착되는 과정에서 필름(F)의 접착층을 용융시키켜 합착력을 증대시키는 역할을 한다.The
본 발명의 실시예에 따른 라미네이터는 챔버부(200) 내부로 필름(F)을 이송시키기 위한 트랜스퍼 유닛(900)을 더 포함된 것이 제시된다.The laminator according to the embodiment of the present invention is further provided with a
도 4에 도시된 바와 같이, 트랜스퍼 유닛(900)은 크게 상부 스테이지(910)와, 하부 스테이지(920)와, 상하 구동유닛(930), 그리고 좌우 구동유닛 (940)을 포함하여 이루어질 수 있다.4, the
상부 스테이지(910)는 필름(F)을 고정시키거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 상부 진공척(911)이 마련되어 있으며, 하부 스테이지(920)는 상부 스테이지(910)의 하측에 제공되어 필름(F)을 고정시키거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 하부 진공척(921)이 마련되어 있다.The
또한 상하 구동유닛(930)은 상부 스테이지(910)를 하부 스테이지(920) 측으로 상하 방향으로 이동시키기 위해 제공된 것이고, 좌우 구동유닛 (940)은 상부 스테이지(910)를 상기 챔버부(200) 측으로 좌우 방향으로 이동시키기 위해 제공된 것이다.The upper and
즉 트랜스퍼 유닛(900)의 상부 스테이지(910)가 챔버부(200) 내부 공간으로 이동하여 제2 스테이지(420)의 제2 정전척(520) 상에 필름(F)을 로딩시켜 작업을 진행하는 것이다. 통상의 로봇 유닛이 아닌 트랜스퍼 유닛(900)을 이용하여 필름(F)을 챔버부(200) 내부로 이송시킴에 따라 이송 중 필름(F)의 손상을 최대한 방지할 수 있게 된다.The
이때 상부 진공척(911) 및 하부 진공척(921)은 필름(F)이 움직이지 않도록 진공 흡착하는 복수개의 진공홀(미도시)이 형성된 구조로 이루어질 수 있다. At this time, the
이상 전술한 바와 같은 본 발명의 실시예에 따른 라미네이터를 이용한 라미네이팅 방법을 설명하면 이하와 같다.The laminating method using the laminator according to the embodiment of the present invention will now be described.
도 5a 내지 도 5g에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 라미네이팅 방법은 챔버부를 개방하여 기판(G) 및 필름(F)을 제1 스테이지(410) 및 제2 스테이지(420)로딩시킨 후, 챔버부(200)를 밀폐시키는 로딩 단계와, 챔버부(200) 내부를 진공 상태로 유지시킨 다음, 기판(G)을 필름(F) 상부로 낙하시켜 합착을 준비하는 준비 단계와, 챔버부(200) 내부로 가압유체를 공급하여 기판(G)에 대해 필름(F)을 1차적으로 합착하는 제1 합착단계와, 제2 스테이지(420)를 제1 스테이지(410)와 접하도록 상승시켜 기판(G)에 대해 필름(F)을 2차적으로 합착하는 제2 합착단계, 그리고 챔버부를 개방하여 필름(F)이 합착된 기판(G)을 언로딩시키는 언로딩 단계를 포함하여 진행될 수 있다.5A to 5G, the laminating method according to the embodiment of the present invention includes the steps of opening the chamber and loading the substrate G and the film F onto the
이때 로딩 단계 전에 기판(G) 이송 단계를 더 포함할 수 있으며, 기판(G) 이송 단계는 트랜스퍼 유닛(900)의 하부 스테이지(920)의 하부 진공척(921)에 필름(F)을 안착시키는 단계와, 상부 스테이지(910)를 하부스테이지로 이동시켜 상부 스테이지(910)의 상부 진공척(911)에 필름(F)을 안착시키는 단계, 그리고 필름(F)이 안착된 상부 스테이지(910)를 챔버부(200)로 이동 시키는 단계를 포함한다.The transferring of the substrate G may include placing the film F on the
또한 준비 단계는 제1 스테이지(410) 및 제2 스테이지(420) 상에 설치된 히터(820)에 의해 기판(G) 및 필름(F)으로 열을 공급하는 단계를 더 포함할 수 있다.The preparing step may further include the step of supplying heat to the substrate G and the film F by the
또한 제2 합착 단계는 상기 기판에 대해 필름이 합착된 상태에서 로드셀(810)에 의해 합착 하중을 측정하는 단계를 더 포함할 수 있다.The second cementing step may further include the step of measuring the cohesive load by the
더욱 구체적으로 도 5a 및 도 5b에 도시된 바와 같이, 트랜스퍼 유닛(900)의 상부 스테이지(910)를 통해 이송된 필름(F)을 제2 스테이지(420)의 제2 정전척(520)으로 로딩시키는 것과 더불어 기판(G)을 별도의 로봇 유닛(미도시)을 통해 상기 제1 스테이지(410)의 제1 정전척(510)으로 로딩시킨다.More specifically, as shown in FIGS. 5A and 5B, the film F transferred through the
다음, 도 5c 및 도 5d에 도시된 바와 같이, 챔버부(200)를 밀폐시킨 상태에서 진공펌프(P)를 온시켜 챔버부(200) 내부를 진공 상태로 유지시킨 후, 제1 스테이지(410)에 안착 고정된 기판(G)을 제1 정전척(510)을 오프시켜 필름(F) 상부로 낙하시킨다.Next, as shown in FIGS. 5C and 5D, the vacuum pump P is turned on while keeping the
이때 제1 스테이지(410) 및 제2 스테이지(420) 상에 설치된 히터(820)에 의해 기판(G) 및 필름(F)으로 열을 공급하여 기판(G)에 대해 필름(F)이 합착 용이해 지도록 기판(G) 및 필름(F)을 히팅 시킨다.At this time, heat is supplied to the substrate G and the film F by the
이어서, 진공펌프(P)를 오프시켜 챔버부(200) 내부를 상압 상태로 유지시킨 후, 가압유체공급수단(600)을 통해 가압유체를 공급하여 기판(G)에 대해 필름(F)을 1차적으로 합착시킨다.Subsequently, the vacuum pump P is turned off to maintain the inside of the
다음, 도 5e에 도시된 바와 같이, 제2 스테이지(420)에 연결된 제2 스테이지 구동부(700)를 구동시켜 1차로 합착된 기판(G)을 제1 스테이지(410) 측으로 상승시켜 제1 스테이지(410)에 대해 제2 스테이지(420)를 밀착시켜 2차 합착이 진행되도록 한다.5E, the second
이때 로드셀(810)에 의해 합착 하중을 측정하여 미리 설정된 합착 하중 범위 내에서 합착이 이루어지는지를 체크한다.At this time, the
이후 제2 스테이지(420)를 하강시키게 되면 제1 스테이지(410)에 필름(F)이 합착된 기판(G)이 제1 정전척(510)에 의해 고정된 상태가 된다. 마지막으로 도 5f 및 도 5g에 도시된 바와 같이, 챔버부(200)를 개방한 후 별도의 로봇 유닛(R)을 이용하여 기판(G)을 언로딩 시킴으로써 라미네이팅 공정이 완료된다.Thereafter, when the
이상으로 본 발명에 관하여 실시예를 들어 설명하였지만 반드시 이에 한정하는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상의 범주 내에서는 얼마든지 수정 및 변형 실시가 가능하다. Although the present invention has been described by way of examples, the present invention is not limited thereto, and modifications and variations are possible within the scope of the technical idea of the present invention.
100: 프레임 110: 수평프레임부
200: 챔버부 210: 제1 챔버케이스
220: 제2 챔버케이스 300: 업다운 유닛
310: 모터 구동부 320: 모터 구동부 지지부
330: 가이드 410: 제1 스테이지
420: 제2 스테이지 500: 홀더수단
510: 제1 정전척 520: 제2 정전척
600: 가압유체공급수단 610: 분사구
620: 가압유체분사장치 700: 제2 스테이지 구동부
810: 로드셀 820: 히터
900: 트랜스퍼 유닛 910: 상부 스테이지
911: 상부 진공척 920: 하부 스테이지
921: 하부 진공척 930: 상하 구동유닛
940: 좌우 구동유닛 P: 진공펌프
G: 기판 F: 필름100: frame 110: horizontal frame part
200: chamber part 210: first chamber case
220: second chamber case 300: up-down unit
310: motor driving part 320: motor driving part supporting part
330: Guide 410: First stage
420: second stage 500: holder means
510: first electrostatic chuck 520: second electrostatic chuck
600: Pressurized fluid supply means 610:
620: Pressurized fluid jetting device 700: Second stage driving part
810: load cell 820: heater
900: transfer unit 910: upper stage
911: upper vacuum chuck 920: lower stage
921: Lower vacuum chuck 930: Up and down drive unit
940: Left and right drive unit P: Vacuum pump
G: Substrate F: Film
Claims (14)
상기 프레임(100)에 상/하로 배치되는 제1 챔버케이스(210) 및 제2 챔버케이스(220)로 이루어지며 각 챔버케이스가 결합 또는 분리되면서 개방 가능한 밀폐 공간을 형성하는 챔버부(200);
상기 제1 챔버케이스(210)를 상하 업다운 시키기 위한 업다운 유닛(300);
상기 챔버부 내측에 제공되어 기판(G) 및 필름(F)이 로딩되는 제1 스테이지(410) 및 제2 스테이지(420);
상기 제1 스테이지(410) 및 제2 스테이지(420) 상에 제공되어 상기 기판(G) 및 필름(F)을 고정시키거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 제공된 홀더수단(500); 그리고,
상기 챔버부(200) 일측에 제공되어 상기 챔버부(200) 내부를 진공압 분위기 또는 대기압 분위기로 선택적으로 제공하기 위한 진공펌프(P);를 포함하여 이루어진 진공 라미네이터.An outer frame (100);
A chamber part 200 formed of a first chamber case 210 and a second chamber case 220 arranged up / down on the frame 100 and forming a closed space which can be opened while each chamber case is coupled or disconnected;
An up-down unit 300 for vertically moving up and down the first chamber case 210;
A first stage 410 and a second stage 420 which are provided inside the chamber portion and on which the substrate G and the film F are loaded;
Holder means 500 provided on the first stage 410 and the second stage 420 and adapted to fix or release the substrate G and the film F; And,
And a vacuum pump (P) provided at one side of the chamber part (200) for selectively providing the inside of the chamber part (200) in a vacuum pressure atmosphere or an atmospheric pressure atmosphere.
상기 업다운 유닛(300)은
상기 제1 챔버케이스(210)에 축 연결되어 제1 챔버케이스(210)를 상하 구동시키기 위한 모터 구동부(310);
상기 프레임(100) 상부에 설치되어 상기 모터 구동부(310)를 지지하기 위한 모터 구동부 지지부(320); 그리고,
일단은 제1 챔버케이스(210) 양측에 연결되고 타단은 구동부 지지부 양 기둥에 연결되어 상기 제1 챔버케이스(210)의 이동을 안내하는 가이드(330);를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 진공 라미네이터. The method according to claim 1,
The up-down unit 300
A motor driving unit 310 connected to the first chamber case 210 to drive the first chamber case 210 up and down;
A motor driving part supporter 320 installed on the frame 100 to support the motor driving part 310; And,
And a guide (330) connected to both sides of the first chamber case (210) at one end and connected to both columns at the other end of the driving part support to guide movement of the first chamber case (210). .
상기 제1 스테이지(410)는 상기 제1 챔버케이스(210) 내측에 제공되어 상기 기판(G)이 로딩되고, 상기 제2 스테이지(420)는 상기 제2 챔버케이스(220) 내측에 제공되어 상기 필름(F)이 로딩되며, 상기 기판(G)과 필름(F) 합착 시 상기 기판(G)이 필름(F) 상부로 낙하되는 것을 특징으로 하는 진공 라미네이터.3. The method of claim 2,
The first stage 410 is provided inside the first chamber case 210 to load the substrate G and the second stage 420 is provided inside the second chamber case 220, Characterized in that the film (F) is loaded and the substrate (G) falls onto the film (F) when the substrate (G) and the film (F) are attached.
상기 홀더수단(500)은
상기 제1 스테이지(410) 상에 제공되어 상기 기판(G)을 고정하거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 제공된 제1 정전척(510) 및
상기 제2 스테이지(420) 상에 제공되어 상기 필름(F)을 고정하거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 제공된 제2 정전척(520)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 진공 라미네이터.The method of claim 3,
The holder means (500)
A first electrostatic chuck 510 provided on the first stage 410 to be able to fix or unlock the substrate G,
And a second electrostatic chuck (520) provided on the second stage (420) to fix the film (F) or release the fixed state.
상기 챔버부(200)에는
상기 기판(G)과 필름(F)을 합착시키기 위해 가압유체를 제공하는 가압유체 공급수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 라미네이터.The method according to claim 1,
In the chamber part 200,
Further comprising a pressurized fluid supply means for providing a pressurized fluid to adhere the substrate (G) and the film (F).
상기 제2 스테이지(420) 하부에는
상기 제2 스테이와 연결되어 상기 제2 스테이지(420)를 상하 업다운 시켜 상기 기판(G)에 대해 상기 필름(F)을 2차로 합착시키기 위한 제2 스테이지 구동부(700)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 라미네이터. The method according to claim 1,
Below the second stage 420,
And a second stage driving unit 700 connected to the second stage to vertically move up and down the second stage 420 to secondarily attach the film F to the substrate G. [ A vacuum laminator.
상기 제1 스테이지(410) 및 제2 스테이지(420)에는 상기 기판(G) 및 필름(F)에 열을 제공하기 위한 히터(820)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 라미네이터. The method according to claim 1,
Wherein the first stage (410) and the second stage (420) further include a heater (820) for providing heat to the substrate (G) and the film (F).
상기 제2 스테이지(420) 하부에는 상기 필름(F)에 대해 기판(G)이 합착될 경우 발생되는 합착 하중을 측정하기 위한 로드셀(810)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 라미네이터. The method according to claim 1,
And a load cell (810) for measuring a cohesive load generated when the substrate (G) is attached to the film (F) under the second stage (420).
상기 진공 라미네이터는
상기 챔버부(200) 내부로 상기 필름(F)을 이송시키기 위한 트랜스퍼 유닛(900)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 진공 라미네이터.9. The method according to any one of claims 1 to 8,
The vacuum laminator
Further comprising a transfer unit (900) for transferring the film (F) into the chamber part (200).
상기 트랜스퍼 유닛(900)은
상기 필름(F)을 고정시키거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 상부 진공척(911)이 마련된 상부 스테이지(910);
상기 상부 스테이지(910)의 하측에 제공되어 상기 필름(F)을 고정시키거나 고정 상태를 해제할 수 있도록 하부 진공척(921)이 마련된 하부 스테이지(920);
상기 상부 스테이지(910)를 하부 스테이지(920) 측으로 상하 방향으로 이동시키기 위한 상하 구동유닛(930); 그리고,
상기 상부 스테이지(910)를 상기 챔버부(200) 측으로 좌우 방향으로 이동시키기 위한 좌우 구동유닛 (940);을 포함하여 이루어진 진공 라미네이터.10. The method of claim 9,
The transfer unit 900 includes:
An upper stage 910 provided with an upper vacuum chuck 911 so as to fix or release the film F;
A lower stage 920 provided on the lower side of the upper stage 910 and provided with a lower vacuum chuck 921 to fix or release the film F;
A vertical drive unit 930 for moving the upper stage 910 in the vertical direction toward the lower stage 920; And,
And a left and right driving unit (940) for moving the upper stage (910) in the horizontal direction toward the chamber part (200) side.
상기 챔버부(200) 내부를 진공 상태로 유지시킨 다음 상기 기판(G)을 필름(F) 상부로 낙하시켜 합착을 준비하는 준비 단계;
상기 챔버부(200) 내부로 가압유체를 공급하여 상기 기판(G)에 대해 필름(F)을 1차적으로 합착하는 제1 합착단계;
상기 제2 스테이지(420)를 제1 스테이지(410)와 접하도록 상승시켜 상기 기판(G)에 대해 필름(F)을 2차적으로 합착하는 제2 합착단계; 그리고,
상기 챔버부(200)를 개방하여 필름(F)이 합착된 기판(G)을 언로딩시키는 언로딩 단계;를 포함하여 이루어진 라미네이팅 방법.A loading step of opening the chamber part 200 to load the substrate G and the film F onto the first stage 410 and the second stage 420 and sealing the chamber part 200;
Preparing a chamber (200) in a vacuum state, and dropping the substrate (G) onto the film (F) to prepare for adhesion;
A first cementing step of firstly bonding a film (F) to the substrate (G) by supplying a pressurized fluid into the chamber part (200);
A second cementing step of secondarily bonding the film (F) to the substrate (G) by raising the second stage (420) to be in contact with the first stage (410); And,
And an unloading step of unloading the substrate (G) to which the film (F) is adhered by opening the chamber part (200).
상기 로딩 단계 전에 기판(G) 이송 단계를 더 포함할 수 있으며,
상기 기판(G) 이송 단계는
트랜스퍼 유닛(900)의 하부 스테이지(920) 하부 진공척(921)에 필름(F)을 안착시키는 단계;
상부 스테이지(910)를 하부 스테이지(920)로 이동시켜 상부 스테이지(910)의 상부 진공척(911)에 필름(F)을 안착시키는 단계; 그리고,
상기 필름(F)이 안착된 상부 스테이지(910)를 챔버부(200)로 이동 시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 라미네이팅 방법. 12. The method of claim 11,
The method may further include a step of transferring the substrate (G) before the loading step,
The step of transferring the substrate (G)
Placing the film (F) on the lower vacuum chuck (921) of the lower stage (920) of the transfer unit (900);
Moving the upper stage 910 to the lower stage 920 to seat the film F on the upper vacuum chuck 911 of the upper stage 910; And,
And moving the upper stage (910) on which the film (F) is placed to the chamber part (200).
상기 준비 단계는
상기 제1 스테이지(410) 및 제2 스테이지(420) 상에 설치된 히터(820)에 의해 기판(G) 및 필름(F)으로 열을 공급하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라미네이팅 방법.13. The method of claim 12,
The preparation step
Further comprising the step of supplying heat to the substrate (G) and the film (F) by a heater (820) provided on the first stage (410) and the second stage (420).
상기 제2 합착 단계는
상기 기판(G)에 대해 필름(F)이 합착된 상태에서 로드셀(810)에 의해 합착 하중을 측정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라미네이팅 방법.
14. The method of claim 13,
The second cementing step
Further comprising the step of measuring a cohesive load by means of a load cell (810) in a state that the film (F) is stuck to the substrate (G).
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