KR20160042235A - 광학 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광학 장치를 개시한다. 그의 장치는 기판을 지지하는 스테이지와, 상기 기판 상에 제 1 광을 제공하는 제 1 광학계들과, 상기 제 1 광학계들을 지지하여 상기 스테이지 상에서 이동시키는 지지대와, 상기 지지대와 상기 스테이지 사이에 배치되고, 상기 지지대의 이동에 따른 상기 제 1 광학계들의 변위를 검출하는 제 2 광학계들을 포함한다. 상기 제 2 광학계들의 각각은 상기 제 1 광과 다른 제 2 광을 생성하는 빔 소스와, 상기 제 1 광학계들에 제공되는 상기 제 2 광을 감지하여 상기 제 1 광학계들의 위치를 검출하는 센서 어레이들을 포함할 수 있다.

Description

광학 장치{Optical apparatus}
본 발명은 대면적의 기판을 노광할 수 있는 광학 장치에 관한 것이다.
최근, 표시 장치는 소비자의 요구에 따라 대형화되는 추세에 있다. 이에 따라, 대형 표시 패널을 제조하기 위한 다양한 공정 설비들이 연구 개발되고 있다. 그 중 노광 장치는 대형 표시 패널 내의 미세 패턴들의 크기를 결정하는 중요한 장치이다. 노광 장치는 표시 패널의 기판 상에 미세 패턴들을 전사할 수 있다. 미세 패턴들은 노광 장치의 변위 또는 진동에 따라 쉽게 불량으로 형성될 수 있다. 때문에, 노광 장치는 광학계의 변위를 모니터링하는 위치 검출기들을 포함할 수 있다. 위치 검출기는 전기적 센서 또는 차동 간섭계를 포함할 수 있다. 전기적 센서는 노광 광학계의 열적 안정성을 떨어뜨릴 수 있다. 차동 간섭계는 노광 광학계의 변위를 기준 측정 대상물에 비교하여 측정할 수 있다. 차동 간섭계는 단일 계측 대상물에 주로 사용될 수 있다. 그러나, 차동 간섭계는 다수의 노광 광학계의 변동성 측정에 부적합할 수 있다.
본 발명이 이루고자 하는 과제는 다수의 광학계들의 변위를 모니터링할 수 있는 광학 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명은 광학 장치를 개시한다. 그의 광학 장치는, 기판을 지지하는 스테이지; 상기 기판 상에 제 1 광을 제공하는 제 1 광학계들; 상기 제 1 광학계들을 지지하여 상기 스테이지 상에서 이동시키는 지지대; 및 상기 지지대와 상기 스테이지 사이에 배치되고, 상기 지지대의 이동에 따른 상기 제 1 광학계들의 변위를 검출하는 제 2 광학계들을 포함한다. 여기서, 상기 제 2 광학계들의 각각은: 상기 제 1 광과 다른 제 2 광을 생성하는 빔 소스; 및 상기 제 1 광학계들에 제공되는 상기 제 2 광을 감지하여 상기 제 1 광학계들의 변위를 검출하는 센서 어레이들을 포함한다.
본 발명의 일 예에 따르면, 상기 제 2 광학계들의 각각은: 상기 제 1 광학계들에 인접하는 상기 지지대에 연결되고, 상기 지지대와 평행한 방향으로 제공되는 상기 제 2 광으로부터 상기 제 1 광학계들과 평행한 방향으로 조준 빔을 분리하는 빔 스플리터들; 및 상기 스테이지와 상기 지지대 사이의 상기 제 1 광학계들의 말단에 배치되고, 상기 조준 빔으로부터 유도되는 반사 빔을 상기 센서 어레이들에 제공하는 빔 리플렉터들을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 예에 따르면, 상기 제 1 광학계들은 마스크리스 노광 장치를 포함 할 수 있다. 상기 마스크리스 노광 장치는: 상기 제 1 광을 제공하는 노광 소스; 상기 노광 소스로부터 제공되는 상기 제 1 광을 제어하는 처핑 리플렉터; 상기 제 1 광을 상기 기판에 포커싱하는 오브젝티브 렌즈; 및 상기 오브젝티브 렌즈와 상기 처핑 리플렉터 사이에 배치되고, 상기 지지대를 관통하는 광학 실린더를 포함할 수 있다. 상기 빔 리플렉터들은 상기 오브젝티브 렌즈에 인접하는 상기 광학 실린더의 말단에 배치될 수 있다.
본 발명의 일 예에 따르면, 상기 제 1 광학계들은 검사 장치들을 포함 할 수 있다. 상기 검사 장치들의 각각은: 상기 기판의 표면을 확대하는 오브젝티브 렌즈; 상기 오브젝티브 렌즈 상의 오큘라 렌즈; 상기 오큘라 렌즈와 상기 오브젝티브 렌즈를 연결하고, 상기 지지대를 관통하는 경통; 및 상기 오큘라 렌즈 상에 배치되어 상기 기판의 표면 이미지를 획득하는 이미지 센서를 포함 할 수 있다. 상기 빔 리플렉터들은 상기 오브젝티브 렌즈에 인접하는 상기 경통의 말단에 배치될 수 있다.
본 발명의 다른 예에 따르면, 상기 빔 리플렉터들은 상기 조준 빔에 평행한 상기 반사 빔을 제공하는 리트로 리플렉터를 포함 할 수 있다. 상기 리트로 리플렉터는 V자 모양으로 마주보며 기울어진 복수개의 거울 면들을 포함할 수 있다. 상기 센서 어레이들은 상기 조준 빔과 상기 반사 빔 사이의 거리에 대응하여 상기 제 1 광학계들의 상기 변위를 검출할 수 있다.
본 발명의 일 예에 따르면, 상기 지지대는 상기 제 1 광학계들을 통과시키는 홀들을 가질 수 있다. 상기 홀들 내의 상기 제 1 광학계들과 상기 지지대를 연결하는 인터페이스들을 더 포함할 수 있다. 상기 인터페이스들은 스프링 댐퍼들을 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 예에 따르면, 상기 제 2 광학계들의 각각은 상기 빔 소스와 상기 빔 스플리터들 사이에 배치되어 상기 제 2 광의 경로를 변경하는 빔 벤더를 더 포함할 수 있다. 상기 빔 스플리터들은 상기 빔 벤더에 대해 일렬로 정렬될 수 있다.
본 발명의 일 예에 따르면, 상기 센서 어레이들은 상기 지지대 하부 면에 배치될 수 있다.
본 발명의 다른 예에 따르면, 상기 센서 어레이들은 포토 다이오드를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 예에 따르면, 상기 빔 소스와 상기 지지대 사이의 플레이트를 더 포함할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시 예들에 따른 반도체 장치는 지지대에 연결된 다수의 제 1 광학계들의 변위를 모니터링하는 제 2 광학계들을 포함할 수 있다. 제 2 광학계들은 지지대에 고정된 빔 소스들, 빔 스플리터들, 및 빔 센서 어레이들을 포함하고, 제 1 광학계들에 고정된 빔 리플렉터들을 더 포함할 수 있다. 빔 센서 어레이들은 지지대의 이동에 따른 제 1 광학계들의 변위를 검출할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 광학 장치의 평면도이다.
도 2는 도 1의 광학 장치의 저면 사시도이다.
도 3은 리트로 리플렉터를 나타내는 도면이다.
도 4는 도 2의 위치 감지 모듈을 나타내는 평면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 예에 따른 광학 장치를 나타내는 저면 사시도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 광학 장치를 포함하는 제조 설비를 나타내는 도면이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면들과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시 예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당 업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 포함한다(comprises) 및/또는 포함하는(comprising)은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 또한, 바람직한 실시 예에 따른 것이기 때문에, 설명의 순서에 따라 제시되는 참조 부호는 그 순서에 반드시 한정되지는 않는다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 광학 장치(90)를 개시한다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 광학 장치(90)는 기판(12)에 제 1 광(14)을 제공하는 노광 장치일 수 있다. 일 예에 따르면, 광학 장치(90)는 스테이지(10), 제 1 광학계들(optical systems, 20), 지지대(gantry, 30), 인터페이스들(40), 및 제 2 광학계들(50)을 포함할 수 있다.
스테이지(10)는 기판(12)을 지지할 수 있다. 기판(12)은 유리 기판 또는 실리콘 웨이퍼를 포함할 수 있다.
제 1 광학계들(20)은 스테이지(10) 및 기판(12) 상에 배치될 수 있다. 지지대(30)는 제 1 광학계들(20)을 지지할 수 있다. 일 예에 따르면, 제 1 광학계들(20)은 기판(12)에 제 1 광(14)을 마스크 없이 전사하는 마스크리스 노광 광학계들(exposure optics)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 광학계들(20)의 각각은 노광 소스(22), 처핑 리플렉터(24), 광학 실린더(26), 및 오브젝티브 렌즈(28)를 포함할 수 있다.
노광 소스(22)는 제 1 광(14)을 생성할 수 있다. 제 1 광(14)은 자외선의 노출 광(exposure light)을 포함할 수 있다. 노광 소스(22)는 제 1 광(14)의 파장에 따라, G-line(436nm), I-line(365nm), KrF(248nm), ArF(193nm), 또는 F(157nm)를 포함할 수 있다. 제 1 광(14)은 마스크 없이 처핑 리플렉터(24)에 의해 제어되어 기판(12)에 전사될 수 있다.
처핑 리플렉터(24)는 외부의 제어 신호에 따라 제 1 광(14)의 처핑(chirping)을 유도할 수 있다. 도 2에서 노광 소스(22)와 처핑 리플렉터(24)는 스테이지(10)에 대해 직렬로 연결되어 있으나, 기울어지거나 평행하게 연결될 수 있다.
광학 실린더(26)는 노광 소스(22)와 오브젝티브 렌즈(28) 사이에 배치될 수 있다. 제 1 광(14)은 광학 실린더(26)를 따라 오브젝티브 렌즈(28)에 진행할 수 있다. 도시되지는 않았지만, 광학 실린더(26) 내에는 복수개의 렌즈들(미도시)이 배치될 수 있다.
오브젝티브 렌즈(28)는 기판(12)에 인접한 광학 실린더(26)의 말단에 배치될 수 있다. 오브젝티브 렌즈(28)는 제 1 광(14)을 기판(12)에 포커싱할 수 있다.
지지대(30)는 스테이지(10)에 평행하게 배치될 수 있다. 지지대(30)와 제 1 광학계들(20)은 서로 교차할 수 있다. 일 예에 따르면, 지지대(30)는 복수개의 홀들(32)을 가질 수 있다. 제 1 광학계들(20)은 홀들(32)을 따라 배치될 수 있다. 제 1 광학계들(20)은 지지대(30) 및 스테이지(10)에 수직하는 방향으로 배치될 수 있다. 지지대(30)는 제 1 광학계들(20)을 스테이지(10)에 평행하게 이동시킬 수 있다. 제 1 광(14)은 기판(12) 상에 전사(scanning)될 수 있다. 제 1 광학계들(20)은 기판(12)의 각각의 지정된 영역 내에 제 1 광(14)을 동일한 모양으로 전사할 수 있다. 제 1 광학계들(20)은 대면적 기판(12)에 대해 제 1 광(14)을 짧은 시간 내에 전사할 수 있다.
인터페이스들(40)은 지지대(30)에 제 1 광학계들(20)을 연결할 수 있다. 인터페이스들(40)은 홀들(53)에 인접한 지지대(30)의 상부 면에 배치될 수 있다. 예를 들어, 인터페이스들(40)은 스프링 댐퍼들을 포함할 수 있다.
제 2 광학계들(50)은 제 1 광(14)의 조준 방향을 검출할 수 있다. 일 예에 따르면, 제 2 광학계들(50)은 지지대(30) 및 광학 실린더들(26) 상에 배치될 수 있다. 제 2 광학계들(50)은 지지대(30)에 대한 광학 실린더들(26)의 변위(displacement)를 검출할 수 있다. 예를 들어, 지지대(30)가 정지할 때, 광학 실린더들(26)은 기판(12)과 수직한 방향으로 배치될 수 있다. 반면, 지지대(30)가 이동되면, 광학 실린더들(26)은 진동할 수 있다. 광학 실린더들(26)은 동일한 주파수로 진동할 수 있다. 그러나, 광학 실린더들(26)은 서로 다른 주파수로도 진동할 수 있다. 제 2 광학계들(50)은 광학 실린더들(26)의 변위를 개별적으로 검출할 수 있다. 일 예에 따르면, 제 2 광학계들(50)의 각각은 빔 소스(52), 빔 밴더(54), 빔 스플리터들(56), 빔 리플렉터들(58), 및 위치 감지 모듈들(Position Sensing Modules: PSM, 60)을 포함할 수 있다.
빔 소스들(52)은 제 2 광(70)을 생성할 수 있다. 빔 소스들(52)은 레이저를 포함할 수 있다. 제 2 광(70)은 레이저 빔을 포함할 수 있다. 빔 소스들(52)은 지지대(30)의 하부 면 가장자리 일측에 배치될 수 있다. 플레이트(34)는 빔 소스들(52)과 지지대(30) 사이에 배치될 수 있다. 플레이트(34)는 지지대(30)에 대한 빔 소스들(52)의 열 전달을 차단할 수 있다. 이와 달리, 플레이트(34)는 빔 소스들(52) 및 지지대(30)의 결합 및/또는 정렬을 용이하게 할 수 있다.
빔 밴더들(54)은 지지대(30)의 하부 면에 배치될 수 있다. 빔 밴더들(54)은 제 2 광(70)의 진행 방향을 바꿀 수 있다. 빔 밴더들(54)은 빔 소스들(52)과 빔 스플리터들(56) 사이의 광 경로의 거리를 증가시킬 수 있다. 빔 소스들(52)은 제 1 광학계들(20)로부터 일정 거리 이상으로 떨어져 배치될 수 있다. 제 1 광학계들(20)은 빔 소스들(52)의 발열로부터 보호될 수 있다.
빔 스플리터들(56)은 홀들(32)에 인접한 지지대(30)의 하부 면에 배치될 수 있다. 빔 스플리터들(56)은 빔 밴더들(54)을 향해 일렬로 정렬될 수 있다. 빔 스플리터들(56)은 제 2 광(70)의 입사 빔(72)을 투과 빔(78)과 조준 빔(74)으로 나눌 수 있다.
투과 빔(78)은 후속의 빔 스플리터들(56)에 제공되도록 진행할 수 있다. 빔 스플리터들(56)은 투과 빔(78)으로부터 조준 빔(74)을 분리할 수 있다. 조준 빔(74)은 광학 실린더들(26)과 평행한 방향으로 진행할 수 있다. 조준 빔(74)은 빔 리플렉터들(58)에 제공될 수 있다.
빔 리플렉터들(58)은 기판(12)과 지지대(30) 사이의 제 1 광학계들(20)의 말단에 배치될 수 있다. 빔 리플렉터들(58)은 오브젝티브 렌즈들(28)에 인접하여 배치될 수 있다. 빔 리플렉터들(58)은 리트로 리플렉터(Retro reflector)를 포함할 수 있다. 빔 리플렉터들(58)은 빔 스플리터(56)와 위치 감지 모듈(60) 사이의 제 2 광(70)을 평행하게 반사할 수 있다.
도 3은 리트로 리플렉터를 개략적으로 보여준다. 빔 리플렉터들(58)은 조준 빔(74)에 평행한 반사 빔(76)을 제공할 수 있다. 빔 리플렉터들(58)은 복수개의 거울 면들(59)을 포함할 수 있다. 거울 면들(59)은 V자 모양으로 마주보며 기울어질 수 있다. 조준 빔(74)은 일측의 거울 면(59)에서 내부 반사 빔(73)으로 반사될 수 있다. 내부 반사 빔(73)은 타측의 거울 면(59)에서 반사 빔(76)으로 반사될 수 있다. 조준 빔(74)과 반사 빔(76)은 서로 평행할 수 있다. 도시되지는 않았지만, 거울 면들(59)은 리플렉터 중심(57)을 기준으로 도 3의 전후에 배치될 수도 있다.
거울 면들(59)에 대해 조준 빔(74)의 위치가 변경되면, 반사 빔(76)의 위치 또한 이동될 수 있다. 그때마다, 조준 빔(74)과 반사 빔(76) 사이의 거리(D)는 변화될 수 있다. 예를 들어, 조준 빔(74)이 빔 리플렉터들(58)의 리플렉터 중심(57)으로부터 멀어지면, 반사 빔(76)은 리플렉터 중심(57)로부터 멀어질 수 있다. 조준 빔(74)과 반사 빔(76) 사이의 거리(D)는 증가할 수 있다. 반대로, 조준 빔(74)은 빔 리플렉터들(58)의 리플렉터 중심(57)에 가까워지면, 반사 빔(76)은 리플렉터 중심(57)에 가까워질 수 있다. 조준 빔(74)과 반사 빔(76) 사이의 거리(D)는 줄어들 수 있다.
다시 도 2를 참조하면, 제 1 광학계들(20)의 변위가 달라지면. 조준 빔(74)과 반사 빔(76) 사이의 거리는 변화될 수 있다. 조준 빔(74)과 반사 빔(76) 사이의 거리는 '0'이 될 수 없다. 빔 스플리터(56)의 중심과 위치 감지 모듈(60)의 중심이 일치되지 않기 때문이다. 제 1 광학계(20)의 정렬 위치는 조준 빔(74)과 반사 빔(76) 사이의 거리에 대응될 수 있다. 조준 빔(74)과 반사 빔(76) 사이의 거리는 위치 감지 모듈들(60)에 의해 계측될 수 있다.
위치 감지 모듈들(60)은 빔 스플리터들(56)에 인접하는 지지대(30)의 하면에 배치될 수 있다. 위치 감지 모듈들(60)은 반사 빔(76)을 감지하여 제 1 광학계들(20)의 변위를 검출할 수 있다.
도 4는 위치 감지 모듈(60)을 보여준다. 위치 감지 모듈들(60)의 각각은 센서 어레이 셀들(62)을 포함할 수 있다. 일 예를 따르면, 센서 어레이 셀들(62)은 포토 다이오드를 포함할 수 있다. 센서 어레이 셀들(62)은 제 2 광(70)의 스팟 크기와 동일하거나 스팟 크기보다 클 수 있다. 예를 들어, 빔 감지 셀(66)에 반사 빔(76)이 제공되면, 위치 감지 모듈들(60)은 중심 셀(64)과 빔 감지 셀(66) 사이의 거리와 방향에 대응되는 제 1 광학계들(20) 변위를 검출할 수 있다. 이와 달리, 위치 감지 모듈들(60)은 CCD(Charge Coupled Device) 센서또는 CMOS 센서를 포함할 수도 있다.
도 5는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 광학 장치(190)를 보여준다. 본 발명의 다른 실시 예에 따른 광학 장치(190)는 검사장치(inspection apparatus)일 수 있다. 일 예에 따르면, 광학 장치(190)는 스테이지(110), 제 1 광학계들(120), 지지대(130), 인터페이스들(140), 및 제 2 광학계들(150)을 포함할 수 있다.
제 1 광학계들(120)은 스테이지(110) 상의 기판(112) 표면을 확대하여 검사할 수 있다. 예를 들어, 제 1 광학계들(120)의 각각은 이미지 센서들(122), 오큘라 렌즈들(124), 경통들(126), 및 오브젝티브 렌즈들(128)을 포함할 수 있다.
이미지 센서들(122)은 기판(112)의 표면 이미지를 획득할 수 있다. 예를 들어, 이미지 센서들(122)은 CCD 센서, CMOS 센서 및 카메라를 포함할 수 있다.
오큘라 렌즈들(124)은 이미지 센서들(122)에 인접하여 배치될 수 있다. 오큘라 렌즈들(124)은 오브젝티브 렌즈들(128)에 의해 투영된 표면 이미지를 이미지 센서들(122)에 제공할 수 있다. 표면 이미지의 배율은 오큘라 렌즈들(124) 및 오브젝티브 렌즈들(128)의 거리에 따라 조절될 수 있다.
경통들(126)은 오큘라 렌즈들(124)과 오브젝티브 렌즈(128) 사이에 배치될 수 있다. 오브젝티브 렌즈들(128)은 오큘라 렌즈들(124)에 대향하는 경통들(126)의 말단에 배치될 수 있다. 경통들(126)은 지지대(130)의 홀들(132)을 관통하여 배치될 수 있다. 인터페이스들(140)은 지지대(130)와 경통들(126)을 연결할 수 있다.
제 2 광학계(150)는 제 2 광(170)을 이용하여 제 1 광학계의 경통들(126)의 방향을 검출할 수 있다. 제 2 광학계(150)의 빔 스플리터들(156)과 위치 감지 모듈들(160)은 경통들(126)에 인접한 지지대(130)의 하부 면에 배치될 수 있다. 마찬가지로, 빔 소스들(152) 및 빔 벤더들(154)은 지지대(130)의 하부 면에 배치될 수 있다. 플레이트들(134)은 빔 소스들(152)과 지지대(130) 사이에 배치될 수 있다. 제 2 광(170)의 입사 빔(172)는 빔 소스들(152)로부터 빔 스플리터들(156)에 제공될 수 있다. 입사 빔(172)는 빔 스플리트들(156)에 의해 투과 빔(178)과 조준 빔(1740으로 분리될 수 있다. 빔 스플리터들(156)은 조준 빔(174)을 리플렉터들(158)에 제공할 수 있다.리플렉터들(158)은 오브젝티브 렌즈들(128)에 인접하는 경통들(126)의 말단에 배치될 수 있다. 리플렉터들(158)은 조준 빔(174)로부터 생성된 반사 빔(176)을 위치 감지 모듈들(160)에 제공할 수 있다.
다른 실시 예는 일 실시 예에서의 제 1 광학계(120)의 노광 소스들(22), 처핑 리플렉터들(24), 및 광학 실린더들(26)을 이미지 센서들(122), 오큘라 렌즈들(124) 및 경통들(126)로 대체한 것이다.
도 6은 본 발명의 일 제 실시 예에 따른 광학 장치(90)를 포함하는 제조 설비(100)를 보여준다. 제조 설비(100)는 표시장치, 또는 반도체 장치의 제조 설비일 수 있다. 일 예에 따르면, 제조 설비(100)는 증착 설비(200), 포토스피너 설비(300), 식각 설비(400), 및 세정 설비(500)를 포함할 수 있다.
증착 설비(200)는 기판(12) 상에 박막을 형성할 수 있다. 박막은 절연 층, 금속 층, 및 반도체 층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 증착 설비(200)는 화학기상증착장치 또는 스퍼터링 장치를 포함할 수 있다.
포토스피너 설비(300)는 기판(12) 상에 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있다. 포토레지스트 패턴은 기판(12) 또는 박막을 정해진 모양으로 패터닝하기 위한 마스크 패턴을 포함할 수 있다. 예를 들어, 포토스피너 설비(300)는 스피너(310), 베이커(320), 광학 장치(90), 및 현상 장치(340)를 포함할 수 있다.
식각 설비(400)는 포토레지스트 패턴을 따라 기판(12) 또는 박막을 제거하는 장치이다. 식각 설비(400)는 건식식각설비 및 습식식각설비를 포함할 수 있다. 건식식각설비는 식각 가스로 기판(12) 또는 박막을 제거하는 설비이다. 습식식각설비는 식각 용액으로 기판(12) 또는 박막을 식각하는 설비이다.
세정 설비(500)는 포토레지스트 패턴을 제거하고, 기판(12)을 세정하는 장치이다. 포토레지스트 패턴은 세정 가스 또는 유기 용제에 의해 제거될 수 있다. 세정 설비(500)는 에싱 설비를 포함할 수 있다. 기판(12)은 세정조 내의 탈이온수에 의해 세정될 수 있다. 도시되지는 않았지만, 제조 설비(100)는 이온주입설비, 화학적기계적연마설비를 더 포함할 수 있다.
이상, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들에는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims (10)

  1. 기판을 지지하는 스테이지;
    상기 기판 상에 제 1 광을 제공하는 제 1 광학계들;
    상기 제 1 광학계들을 지지하여 상기 스테이지 상에서 이동시키는 지지대; 및
    상기 지지대와 상기 스테이지 사이에 배치되고, 상기 지지대의 이동에 따른 상기 제 1 광학계들의 변위를 검출하는 제 2 광학계들을 포함하되,
    상기 제 2 광학계들의 각각은:
    상기 제 1 광과 다른 제 2 광을 생성하는 빔 소스; 및
    상기 제 1 광학계들에 제공되는 상기 제 2 광을 감지하여 상기 제 1 광학계들의 변위를 검출하는 센서 어레이들을 포함하는 광학 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 광학계들의 각각은:
    상기 제 1 광학계들에 인접하는 상기 지지대에 연결되고, 상기 지지대와 평행한 방향으로 제공되는 상기 제 2 광으로부터 상기 제 1 광학계들과 평행한 방향으로 조준 빔을 분리하는 빔 스플리터들; 및
    상기 스테이지와 상기 지지대 사이의 상기 제 1 광학계들의 말단에 배치되고, 상기 조준 빔으로부터 유도되는 반사 빔을 상기 센서 어레이들에 제공하는 빔 리플렉터들을 더 포함하는 광학 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 광학계들은 마스크리스 노광 장치를 포함하되,
    상기 마스크리스 노광 장치는:
    상기 제 1 광을 제공하는 노광 소스;
    상기 노광 소스로부터 제공되는 상기 제 1 광을 제어하는 처핑 리플렉터;
    상기 제 1 광을 상기 기판에 포커싱하는 오브젝티브 렌즈; 및
    상기 오브젝티브 렌즈와 상기 처핑 리플렉터 사이에 배치되고, 상기 지지대를 관통하는 광학 실린더를 포함하되,
    상기 빔 리플렉터들은 상기 오브젝티브 렌즈에 인접하는 상기 광학 실린더의 말단에 배치되는 광학 장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 광학계들은 검사 장치들을 포함하되,
    상기 검사 장치들의 각각은:
    상기 기판의 표면을 확대하는 오브젝티브 렌즈;
    상기 오브젝티브 렌즈 상의 오큘라 렌즈;
    상기 오큘라 렌즈와 상기 오브젝티브 렌즈를 연결하고, 상기 지지대를 관통하는 경통; 및
    상기 오큘라 렌즈 상에 배치되어 상기 기판의 표면 이미지를 획득하는 이미지 센서를 포함하되,
    상기 빔 리플렉터들은 상기 오브젝티브 렌즈에 인접하는 상기 경통의 말단에 배치되는 광학 장치.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 빔 리플렉터들은 상기 조준 빔에 평행한 상기 반사 빔을 제공하는 리트로 리플렉터를 포함하되,
    상기 리트로 리플렉터는 V자 모양으로 마주보며 기울어진 복수개의 거울 면들을 포함하되,
    상기 센서 어레이들은 상기 조준 빔과 상기 반사 빔 사이의 거리에 대응하여 상기 제 1 광학계들의 상기 변위를 검출하는 광학 장치.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 지지대는 상기 제 1 광학계들을 통과시키는 홀들을 갖되,
    상기 홀들 내의 상기 제 1 광학계들과 상기 지지대를 연결하는 인터페이스들을 더 포함하되,
    상기 인터페이스들은 스프링 댐퍼들을 포함하는 광학 장치.
  7. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 2 광학계들의 각각은 상기 빔 소스와 상기 빔 스플리터들 사이에 배치되어 상기 제 2 광의 경로를 변경하는 빔 벤더를 더 포함하되,
    상기 빔 스플리터들은 상기 빔 벤더에 대해 일렬로 정렬된 광학 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 센서 어레이들은 상기 지지대 하부 면에 배치된 광학 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 센서 어레이들은 포토 다이오드를 포함하는 광학 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 빔 소스와 상기 지지대 사이의 플레이트를 더 포함하는 광학 장치.
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