KR20160012186A - 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법 - Google Patents

유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법 Download PDF

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KR20160012186A
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Abstract

얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법이 제공된다. 상기 방법은 (Ⅰ) 방출 영역 및 실장 영역을 포함하는 유리 캐리를 제공하는 단계; 그 다음 (Ⅱ) 암모늄 플루오르화물 혼합물을 포함하는 에칭제를 한 기간 동안 방출 영역에 접촉함으로써 텍스처화 표면을 갖는 유리 캐리어의 방출 영역을 제공하는 단계; 그 다음 (Ⅲ) 상기 유리 캐리어로부터 에칭제를 제거하는 단계; 및 그 다음 (Ⅳ) 얇은 플렉서블 유리 기판의 실장 영역을 유리 캐리어의 실장 영역에 결합하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 텍스처화 표면은 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역이 유리 캐리어의 방출 영역에 결합하는 것을 방지한다.

Description

유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법 {METHODS FOR PROCESSING A THIN FLEXIBLE GLASS SUBSTRATE WITH A GLASS CARRIER}
본 출원은 2013년 5월 22일에 제출된 미국 가 출원 번호 제61/826,181호의 우선권의 이익을 주장하고, 그것의 내용은 전체로 참조에 의해 본 명세서에 병합된다.
하기의 설명은 유리 캐리어 (carrier)를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법에 관한 것이고, 더 구체적으로, 텍스처 표면 (textured surface)을 가진 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법에 관한 것이다.
플렉서블 기판의 출현은 더 얇고, 더 가볍고, 더 플렉서블하고, 그리고 더 내구성 있는 디스플레이를 제조하는 것 및 그러한 디스플레이를 병합하는 디바이스의 비용을 낮추는 것의 가망성을 제공한다. 따라서, 유리의 더 큰 시트를 가공하기 위해 디자인된 기존의 장치세트 상에 플렉서블 기판의 제조를 가능하게 하는 개발하는 해결책에 초점을 맞추어 왔다. 이러한 해결책 중 하나는 유리 캐리어에서 플렉서블 기판의 라미네이션 (lamination)을 포함하고, 이에 의해 기존의 장치세트 상에 시트-대-시트 (sheet-to-sheet) 공정을 사용하여 플렉서블 기판을 갖는 디스플레이 디바이스의 제조를 가능하게 한다. 유리-대-유리 결합 공정의 관련 실시 예에서, 얇은 플렉서블 유리 기판과 조금 결합하거나 결합하지 않도록 디자인된 영역인 유리 캐리어의 방출 영역 (release area)은 결합된 주변부 내에서 형성될 수 있다. 유리 캐리어의 방출 영역을 형성하기 위한 수단은 방출 영역의 표면 거칠기를 증가시키는 것일 수 있다. 따라서, 유리 캐리어의 방출 영역은 얇은 플렉서블 유리 기판의 영역에 결합하는 것을 막기 위하여 텍스처화될 수 있는 방법에 대한 필요성이 존재하고, 동시에 유리 캐리어의 실장 영역 (mount area)이 얇은 플렉서블 유리 기판의 실장 영역에 결합하는 것을 허용한다.
본 발명은 텍스처화 표면을 가진 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 명세서에 기재된 실시 예에서, 유리 캐리어는 에칭제 (etchant)로서 암모늄 플루오르화물 혼합물 (ammonium fluoride mixture)을 사용한 습식 화학적 에칭 공정의 대상이 되고, 이 후에 얇은 플렉서블 유리 기판의 가공이 제공된다. 상기 공정은 휴대폰, 테블릿 컴퓨터, 및 텔레비전을 포함하지만, 이에 한정되지 않는, 디스플레이 디바이스를 위한 액정 디스플레이 (LCD) 및 유기 발광 다이오드 (OLED) 가공 동안 얇은 플렉서블 유리 기판을 지지하는 견고한 기판으로서 사용된 유리 캐리어의 방출 영역을 텍스처화하는데 적합하다. 암모늄 플루오르화물 혼합물의 농도 및 암모늄 플루오르화물 혼합물에 노출 시간은 다양한 정도의 텍스처를 가지는 방출 영역을 갖는 유리 캐리어를 생산하기 위해 변화될 수 있다. 암모늄 플루오르화물 혼합물은 용해될 수 있고, 이에 의해 얇은 플렉서블 유리 기판의 실장 영역에 유리 캐리어의 실장 영역의 기밀 밀봉을 가능하게 한다. 게다가, 상기 암모늄 플루오르화물 혼합물은 에칭제로서 사용되는 것으로 흔히 사용되는 플루오르화수소산 (hydrofluoric acid) 보다 일반적으로 더 안전하고 용이하다.
제1 관점에서, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법은 하기의 단계를 포함한다:
(Ⅰ) 방출 영역 및 실장 영역을 포함하는 유리 캐리어를 제공하는 단계; 그 다음 (Ⅱ) 암모늄 플루오르화물 혼합물을 포함하는 에칭제 (etchant)를 한 기간 동안 방출 영역에 접촉함으로써 텍스처화 표면을 갖는 유리 캐리어의 방출 영역을 제공하는 단계; 그 다음 (Ⅲ) 상기 유리 캐리어로부터 에칭제를 제거하는 단계; 및 그 다음 (Ⅳ) 얇은 플렉서블 유리 기판의 실장 영역을 유리 캐리어의 실장 영역에 결합하는 단계. 상기 텍스처화 표면은 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역이 유리 캐리어의 방출 영역에 결합하는 것을 방지한다.
제1 관점의 하나의 실시 예에서, 상기 (Ⅱ) 단계의 기간은 1 분 내지 10분 범위이다.
제1 관점의 또 다른 실시 예에서, 상기 (Ⅱ) 단계는 3 nm 내지 232 nm 범위의 제곱 평균 제곱근 (root-mean-squared) 표면 거칠기를 갖는 텍스처 표면을 제공한다.
제1 관점의 또 다른 실시 예에서, 상기 (Ⅱ) 단계는 약 2 nm 초과이고, 약 6 nm 이하인 제곱 평균 제곱근 표면 거칠기를 갖는 텍스처 표면을 제공한다.
제1 관점의 또 다른 실시 예에서, 상기 (Ⅱ) 단계의 에칭제는 암모늄 플루오르화물 혼합물로 이루어지고, 여기서 상기 암모늄 플루오르화물 혼합물은 빙초산 (glacial acetic acid) 내에 암모늄 플루오르화물 용액으로 이루어진다.
제1 관점의 추가적인 실시 예에서, 상기 암모늄 플루오르화물 용액의 농도는 4 % 내지 20 % 범위이다.
제1 관점의 추가적인 실시 예에서, 상기 (Ⅱ) 단계의 암모늄 플루오르화물 용액은 물 내에 약 40%의 암모늄 플루오르화물이다.
제1 관점의 더 추가적인 실시 예에서, 상기 (I) 단계 후 및 상기 (Ⅱ) 단계 전에, 상기 방법은 상기 유리 캐리어의 실장 영역에 마스크를 적용하는 단계를 더 포함한다. 상기 (Ⅱ) 단계 동안, 상기 마스크는 에칭제가 상기 유리 캐리어의 실장 영역에 접촉하는 것을 방지한다.
제1 관점의 또 다른 실시 예에서, 상기 마스크는 접착 필름 (adhesive film)을 포함한다.
제1 관점의 또 다른 실시 예에서, 상기 (Ⅱ) 단계는 상기 유리 캐리어의 방출 영역 상에 에칭제를 프린팅하는 단계를 포함한다.
제1 관점의 또 다른 실시 예에서, 상기 (Ⅱ) 단계는 상기 유리 캐리어의 방출 영역 상에 에칭제를 스크린-프린팅 또는 스텐실-프린팅 (stencil-printing)하는 단계를 포함한다.
제1 관점의 추가적인 실시 예에서, 상기 (Ⅱ) 단계는 겔 에칭제로서 에칭제를 적용한다.
제1 관점의 더 추가적인 실시 예에서, 상기 겔 에칭제는 암모늄 플루오르화물 혼합물 및 증점제 (thickener)로 이루어지고, 여기서 상기 암모늄 플루오르화물 혼합물은 빙초산 내에 암모늄 플루오르화물 용액으로 이루어진다.
제1 관점의 추가적인 실시 예에서, 상기 암모늄 플루오르화물 용액의 농도는 약 13 % 내지 약 20 % 범위이다.
제1 관점의 또 다른 실시 예에서, 상기 암모늄 플루오르화물 용액은 물 내에 40%의 암모늄 플루오르화물이다.
제1 관점의 또 다른 실시 예에서, 상기 (Ⅲ) 단계는 상기 유리 캐리어로부터 에칭제를 세척 (rinsing)하는 단계 및 그 후 상기 유리 캐리어를 건조하는 단계를 포함한다.
제1 관점의 또 다른 실시 예에서, 상기 에칭제는 가용성 화학 물질로 이루어진다.
제1 관점의 추가적인 실시 예에서, 상기 방법은 상기 (Ⅳ) 단계 후에 상기 유리 캐리어로부터 상기 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역을 방출하기 위해 상기 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역으로부터 상기 얇은 플렉서블 유리 기판의 실장 영역을 제거하는 (Ⅴ) 단계를 더 포함한다.
제1 관점의 더 추가적인 실시 예에서, 상기 방법은 상기 (Ⅳ) 단계 후에 (Ⅴ) 기능적 특징 (functional features)을 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역을 제공하는 단계; 및 그 다음 (Ⅵ) 상기 유리 캐리어로부터 상기 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역을 방출하기 위해 상기 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역으로부터 상기 얇은 플렉서블 유리 기판의 실장 영역을 제거하는 단계를 더 포함한다.
제1 관점은 단독으로 제공되거나 위에서 논의된 제1 관점의 임의의 하나 이상의 실시 예와 조합하여 제공될 수 있다.
본 발명의 상술한 및 다른 특징, 관점 및 장점은 본 발명의 다음의 상세한 설명이 첨부된 도면과 함께 읽어질 때, 더 잘 이해가 된다. 첨부된 도면은 다음과 같다:
도 1은 유리 캐리어에 결합된 얇은 플렉서블 유리 기판을 가지는 제품의 실시 예를 도시한 개략적 평면도 (top view)이다;
도 2는 도 1에서 제품의 실시 예를 도시한 개략적 단면도 (end view)이다;
도 3은 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법의 제1 관점의 제1 실시 예를 도시한 흐름도이다;
도 4-5는 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법의 제1 관점의 제1 실시 예를 사용하여, 에칭제 농도 및 에칭제 노출의 두 극단적인 상태에서 에칭된 유리의 표면 텍스처 프로파일의 실시 예를 도시한 그래픽 도표를 나타낸다;
도 6은 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법의 제1 관점의 제2 실시 예를 도시한 흐름도이다;
도 7은 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법의 제1 관점의 제2 실시 예에 따른 유리 캐리어의 에칭으로부터의 결과인 표면 텍스처를 도시한 그래픽 도표이다; 및
도 8은 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법의 제2 관점의 실시 예를 도시한 흐름도이다.
본 발명은 청구된 발명의 예시적 구체 예를 나타낸 첨부된 도면에 관하여 이하에서 더 충분히 지금 기재될 것이다. 가능한 언제든지, 동일한 참조 숫자는 동일 또는 유사한 부분을 나타내도록 도면의 전체에 걸쳐 사용된다. 그러나, 청구된 발명은 많은 다른 형태로 구체화될 수 있고, 본 명세서에 설명된 구체 예에 제한되는 것과 같이 해석되어서는 안된다. 이러한 예시적 구체 예가 제공되어, 그 결과 본 개시가 완전하게 되고 완성될 것이며, 당업자에게 청구된 발명의 범위를 충분히 전달할 것이다.
도 1은 유리 캐리어 (10)에 결합된 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)을 가지는 제품의 실시 예를 도시한 개략적 평면도이다. 도 2는 도 1에서 제품의 실시 예를 도시한 개략적 단면도이다.
도 1 및 도 2에 관하여, 두께 (12)를 가지는 유리 캐리어 (10)은 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)이 기존의 디바이스 가공 기반 구조에 이용될 수 있도록 상기 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)에 결합된다. 유리 캐리어 (10) 및 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)이 서로 결합될 때, 그것들의 결합된 두께 (24)는 디바이스 가공 장비가 디자인되었던 두꺼운 시트로서 동일하다. 예를 들면, 700-미크론 시트에 대해 가공 장비가 디자인되었다면, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)은 300 미크론의 두께 (22)를 가지고, 그 후 두께 (12)는 400 미크론으로서 선택될 것이다.
유리 캐리어 (10) 및 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)은 알루미노-실리케이트, 보로-실리케이트, 알루미노-보로-실리케이트, 및 소다-라임-실리케이트, 및 알칼리-함유 또는 알칼리-부재를 포함하는, 그것들의 최종 적용물에 의존하는, 임의의 적절한 조성물일 수 있다. 추가적으로, 유리 캐리어 (10)은 나타난 바와 같이 하나의 층 또는 함께 결합된 다중 층 (다중 얇은 시트 포함)으로 이루어질 수 있다.
얇은 플렉서블 유리 기판 (20)은 실장 영역 (40)에 의해 유리 캐리어 (10)에 결합된다. 실장 영역 (40)에서, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 표면과 유리 캐리어 (10)의 표면 사이에 직접 접촉이 있고, 여기서 이러한 표면은 유리 대 유리 결합을 허용하기에 충분하게 낮은 평균 표면 거칠기 Ra, 예를 들면, Ra ≤ 2 nm를 가진다. 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)에서 유리 캐리어 (10)과 얇은 플렉서블 유리 기판 (20) 사이의 결합이 없거나, 덜 강한 결합이 있고, 실질적인 직접 유리 대 유리 결합을 방지하는데 충분하게 높은 값, 예를 들면, Ra > 2 nm로 존재하기 위해서, 여기서 상기 방출 영역은 유리 기판 (20), 유리 캐리어 (10), 또는 둘 모두의 표면을 거칠게 함으로써 제공된다. 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)은 경계선 (52)를 가지고, 상기 경계선의 외부에 실장 영역 (40)이 배치된다.
얇은 플렉서블 유리 기판 (20)은 초기에 반데르발스 힘에 의해 유리 캐리어 (10)에 결합될 수 있다. 그 후, 얇은 시트/캐리어 제품 상에 디바이스를 형성하기 위해 상기 얇은 시트/캐리어 제품을 가공한 후에 상기 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)를 제거하는 능력을 보유하면서, 결합 강도는 특정 영역에서 증가될 수 있다. 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 적어도 일 부분은 유리 캐리어 (10)에 결합될 수 있고, 그 결과 디바이스 공정 유체가 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)과 유리 캐리어 (10) 사이에 들어가는 것이 방지되고, 이에 의해 분리정제 공정 (downstream processes)에서 오염이 발생할 수 있는 기회를 감소시킨다. 다시 말해서, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)과 유리 캐리어 (10) 사이의 실장 영역 (40)은 기밀 (hermetic)할 수 있다. 유리 캐리어 (10)과 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)은 세정될 수 있고, 결합을 촉진하기 위해 준비된 이들의 표면을 가진다. 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)과 유리 캐리어 (10) 사이의 초기 결합은 실장 영역 (40)에서 강화될 수 있다. 유리 캐리어 (10)으로부터 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 방출 능력 (releasability)은 유리 캐리어의 방출 영역 (50)에 의해 제공될 수 있고, 이에 의해 경계선 (58)을 가지는, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 바람직한 부분 (56)은 추출되도록 허용한다.
도 3은 유리 캐리어 (10)을 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)을 가공하기 위한 방법 (300)의 제1 관점의 제1 실시 예를 도시한 흐름도이다. 도 3에서 도시된 실시 예와 관련하여, 방출 영역 (50) 및 실장 영역 (40)을 포함하는 유리 캐리어 (10)이 제공될 수 있다 (301).
유리 캐리어 (10)이 제공된 (301) 후에, 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)은 한 기간 동안 암모늄 플루오르화물 혼합물을 포함하는 에칭제를 방출 영역 (50)에 접촉함으로써, 텍스처화 표면으로 제공될 수 있다 (302). 상기 기간은 상기 기간 동안 암모늄 플루오르화물 혼합물을 포함하는 에칭제에 의해 방출 영역 (50)이 접촉되고, 약 1 분 내지 약 10 분의 범위일 수 있다. 텍스처 표면은 약 4 nm 내지 약 232 nm 범위의 제곱 평균 제곱근 표면 거칠기 (이하에서, "Rq"로 나타냄)로 제공될 수 있다.
에칭제는 가용성 화학 물질로 이루어질 수 있다. 게다가, 상기 에칭제는 암모늄 플루오르화물 혼합물로 이루어질 수 있다. 상기 암모늄 플루오르화물 혼합물은 빙초산 내에 암모늄 플루오르화물 용액으로 이루어질 수 있다. 상기 암모늄 플루오르화물 용액의 농도는 약 4% 내지 약 20% 범위일 수 있다. 상기 암모늄 플루오르화물 용액은 물에서 약 40% 암모늄 플루오르화물 일 수 있다.
유리 캐리어 (10)의 제공 (301) 후에 및 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)의 제공 (302) 전에, 마스크는 상기 유리 캐리어 (10)의 실장 영역 (40)에 적용될 수 있다 (305). 상기 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)의 제공 (302) 동안, 상기 마스크는 에칭제가 상기 유리 캐리어 (10)의 실장 영역 (40)에 접촉하는 것을 방지할 수 있다. 상기 마스크는 접착 필름을 포함할 수 있다.
유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)의 제공 (302) 후에, 에칭제는 유리 캐리어 (10)로부터 제거될 수 있다 (303). 에칭제의 제거 (303)은 에칭제의 세척 (306) 및 그 후 유리 캐리어 (10)의 뒤이은 건조 (307)을 포함할 수 있다.
에칭제의 제거 (303) 후에, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 실장 영역은 유리 캐리어 (10)의 실장 영역 (40)에 결합될 수 있다 (304). 그와 같이, 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)에 제공된 (302) 택스처 표면은 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역이 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)에 결합하는 것을 방지할 수 있다.
유리 캐리어 (10)의 실장 영역 (40)에 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 실장 영역의 결합 (304) 후에, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 실장 영역은 유리 캐리어 (10)로부터 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역을 방출하기 위해 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역 (56)으로부터 분리될 수 있다.
유리 캐리어 (10)의 실장 영역 (40)에 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 실장 영역의 결합 (304) 후에, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역 (56)은 기능적인 특징으로 제공될 수 있다 (309). 기능적 특징을 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역의 제공 (309) 후에, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역으로부터 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 실장 영역의 제거 (308)는 유리 캐리어 (10)으로부터 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의, 경계선 (58)을 가진, 타겟 영역 (56)을 하기 위해 수행될 수 있다.
도 3의 방법 (300)은 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)의 표면을 텍스처화할 수 있는 유리를 텍스처하기 위한 습식 화학적 에칭 공정을 나타낼 수 있다. 방출 영역 (50)의 표면의 텍스처는 휴대폰, 테블릿 컴퓨터, 및 텔레비전을 포함하지만, 이에 한정되지 않는 디스플레이 디바이스에 대한 액정 디스플레이 (LCD) 또는 유기 발광 다이오드 (OLED) 가공 동안 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)을 지지하는 견고한 기판으로서 유리 캐리어 (10)가 사용될 수 있도록 수행될 수 있다.
도 3의 방법 (300)의 습식 화학적 에칭 공정의 화학적 에치는 유리 캐리어 (10)을 빙초산의 혼합물과 암모늄 플루오르화물의 40% 수성 혼합물로 구성된 에칭제에 노출하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 화학적 에치는 유리 캐리어 (10)의 하나의 표면 상에 하나 이상의 방출 영역 (50)을 생성하기 위해 유리 캐리어 (10)에 선택적으로 적용될 수 있고, 상기 방출 영역 (50)은 화학적 에치에 의해 텍스처된다. 방출 영역 (50)의 텍스처는 에칭제의 조성물, 농도 및 온도의 제어, 및 상기 에칭제에 유리 캐리어 (10)의 노출 기간을 통해 결정된다.
에칭제에 유리 캐리어 (10)의 노출은 에칭제 속으로 유리 캐리어 (10)를 수직으로 담금에 의할 수 있다. 예를 들면, 세정된 유리 캐리어 (10)은 하나의 면 상에 접착 필름으로 라미네이트될 수 있다. 상기 접착 필름은 에칭제에 의해 패턴화될 수 있는 방출 영역 (50)의 바람직한 크기에 상당하는 유리 캐리어 (10) 상에 구멍 (opening)을 가질 수 있다. 그 후, 상기 유리 캐리어 (10)는 1 내지 10 분 범위의 기간 동안 에칭제의 욕 (bath) 속으로 담궈질 수 있다. 유리 캐리어 (10)가 에칭제 욕 속으로 담궈진 후에, 유리 캐리어 (10)는 세척, 예를 들면, 세 개의 개별 세척 탱크에 세 번 세척되고, 건조될 수 있다. 그 후, 라미네이트된 접착 필름은 제거될 수 있고, 이 후에 유리 캐리어 (10)는 이소프로필 알코올로 씻겨지고, 에어 나이프 (air knife)로 건조될 수 있다.
유리 캐리어 (10)는 Gorilla® 유리, Eagle XG® 유리, LotusTM 유리, Corning NY에 본사를 가진 Corning Incorporated로부터 공급된 상술한 유리 코드의 모두 및 소다-라임 유리를 포함하지만, 이에 한정되지는 않는, 다양한 타입의 유리일 수 있다. 상기 유리 캐리어 (10)는 다양한 타입의 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)을 지지하는데 사용될 수 있고, 상기 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)은 두께 ≤ 300 미크론, 예를 들면, 300, 290, 280, 270, 260, 250, 240, 230, 220, 210, 200, 190, 180, 170, 160, 150, 140, 130, 120, 110, 100, 90, 80, 70, 60, 50, 40, 30, 20, 10을 가지는 유리, 예를 들면, WillowTM 유리, Corning NY에 본사를 갖는 Corning Incorporated로부터 공급된 유리코드를 가지는 유리를 포함하지만, 이에 한정되지는 않는다.
실시 예에서, Gorilla® 유리 (Corning 유리 코드 2318)의 2”× 2”샘플은 넓은 농도 범위에서 암모늄 플루오르화물 (NH4F) 및 빙초산 (GAA)의 다양한 혼합물을 사용하여 에칭되었다. NH4F 농도는 2 % 내지 20 %로 변화하였다. 에칭 노출 기간은 30 초 내지 15 분으로 변화하였다. 그 후, 샘플은 탈이온수에서 세척되고 건조하였다. 그 후, 샘플의 표면 텍스처는 Zygo NewViewTM 모델 7300 백색광 광학 표면 현상 측정기 (profilometer)를 사용하여 측정되었다.
도 4-5는 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법의 제1 실시 예를 사용하여, 에칭제 농도 및 에칭제 노출의 두 극단적인 상태에서 에칭된 Gorilla® 유리의 표면 텍스처 프로파일의 실시 예를 도시한 그래픽 도표를 포함한다. 상기 그래픽 도표는 20 % NH4F 농도 에치 욕에서 Gorilla® 유리에 대해 15 분의 에칭 시간은 표면 텍스처 프로파일에서 더 깊고, 더 거친 특징을 생산하고, 반면에 4 % NH4F 농도 에치 욕에서 Gorilla® 유리에 대해 30 초의 에칭 시간은 표면 텍스처 프로파일에서 더 얕고, 더 미세한 특징을 생산한다.
다시 말해서, 유리 캐리어 (10)의 표면 텍스처는 에치 욕 농도를 변화하고 기간을 변화함으로써 조절될 수 있고, 여기서 유리 캐리어 (10)은 에치 욕 농도에 노출된다. 이하에 제공된 표 1은 이러한 공정에 의해 발생된 Gorilla® 유리의 표면 텍스처 속성을 요약한다. 측정은 Zygo NewViewTM 7300 광학 표면 현상 측정기를 사용하여 수행되었다. 현미경 세팅은 2X 줌을 갖는 20X 렌즈이었다. 낮고 높은 필터 파장은 각각 0.5 μm 및 50 μm 이었다. 왜도 (R sk) 및 첨도 (R ku)와 함께, 거칠기 평균 Ra, 제곱 평균 제곱근 (RMS) 거칠기 Rq는 표면의 지문을 구성한다.
Figure pct00001
Ra는 표면 프로파일의 평균 높이이다. Rq의 진폭은 제곱되기 때문에, Rq는 Ra보다 피크 및 밸리에 더 민감하다.
Rsk는 표면 특징의 높이 분포의 왜도이다. 만약 Rsk < 0 라면, 상기 표면은 밸리를 포함할 수 있다. 만약 Rsk > 0 라면, 상기 표면은 평평하고 피크를 가질 수 있다. 1 보다 숫자상으로 크거나 작은 값은 상기 표면 상에 극도의 밸리 또는 피크를 나타낼 수 있다.
Rku는 높이 분포의 첨도이다. 첨도는 높이의 임의 측정, 및 표면의 가파름 측정이다. 3의 첨도를 갖는 표면은 완벽하게 임의의 표면을 가진다. 3 보다 작거나 큰 첨도를 갖는 표면은 첨도 값이 3으로부터 추가적으로 제거되기 때문에 덜 임의적이고 더 반복적이다. 스파이크를 갖는 표면은 일반적으로 더 큰 첨도 값을 가지지만, 울퉁불퉁한 표면은 일반적으로 더 낮은 첨도 값을 가진다.
표 1에 따르면, 예를 들면, GAA에 20 % NH4F 용액을 가지는 NH4F 혼합물을 사용하여 10분 동안 위에-참조된 샘플 중 하나의 제1 에칭은 232 nm의 Rq, -0.5의 왜도 및 3의 첨도를 가지는 샘플 표면을 생산한다. 이것은 에칭 후에, 제1 에칭의 대상인 샘플 표면은 임의적으로 간격을 둔 밸리로 이루어진 것을 나타낸다. 반면에, GAA에 4 % NH4F를 가지는 NH4F 혼합물을 사용하여 10분 동안 위에-참조된 샘플 중 하나의 제2 에칭은 4 nm의 Rq, -0.3의 왜도 및 4의 첨도를 가지는 샘플 표면을 생산한다. 이것은 에칭 후에, 제2 에칭의 대상인 샘플 표면은 임의적으로 간격을 둔 밸리로 여전히 이루어지지만, 제2 에칭은 제1 에칭에 의해 생산된 것보다 더 낮은 진폭을 갖는 임의적으로 간격을 둔 밸리를 생산하는 것을 나타낸다.
도 6은 유리 캐리어 (10)를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)을 가공하는 방법 (500)의 제1 관점의 제2 실시 예를 도시하는 흐름도이다. 도 6에서 도시된 실시 예와 관련하여, 방출 영역 (50) 및 실장 영역 (40)을 포함하는 유리 캐리어 (10)는 제공될 수 있다 (501).
유리 캐리어 (10)가 제공된 (501) 후에, 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)은 한 기간 동안 암모늄 플루오르화물 혼합물을 포함하는 에칭제를 방출 영역 (50)에 접촉함으로써 텍스처 표면으로 제공될 수 있다 (502). 방출 영역 (50)이 암모늄 플루오르화물 혼합물을 포함하는 에칭제에 의해 접촉되는 기간 동안, 상기 기간은 약 1분 내지 약 10분 범위일 수 있다. 텍스처 표면은 약 2 nm 초과이거나, 약 6 nm 이하의 Rq로 제공될 수 있다.
에칭제는 가용성 화학 물질로 이루어질 수 있다. 상기 에칭제는 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50) 상에 프린트될 수 있다. 상기 에칭의 프린팅은 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50) 상에 에칭제를 스크린-프린팅 또는 스텐실 프린팅하는 것을 포함하지만, 이에 한정되지는 않는다. 상기 에칭제는 겔 에칭제로서 적용될 수 있다. 겔 에칭제는 암모늄 플루오르화물 혼합물 및 증점제로 이루어질 수 있다. 상기 암모늄 플루오르화물 혼합물은 빙초산에 암모늄 플루오르화물 용액으로 이루어질 수 있다. 상기 암모늄 플루오르화물 용액의 농도는 약 13 % 내지 약 20 % 범위일 수 있다. 상기 암모늄 플루오르화물 용액은 물에 40% 암모늄 플루오르화물일 수 있다.
유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)의 제공 (502) 후에, 에칭제는 유리 캐리어 (10)으로부터 제거될 수 있다 (503). 상기 에칭제의 제거 (503)은 에칭제의 세척 (505) 및 그 후 유리 캐리어 (10)의 뒤이은 건조 (506)을 포함할 수 있다.
에칭제의 제거 (503) 후에, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 실장 영역은 유리 캐리어 (10)의 실장 영역 (40)에 결합될 수 있다 (504). 그러한 것과 같이, 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)에 제공된 (502) 텍스처 표면은 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역이 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)에 결합하는 것을 방지할 수 있다.
유리 캐리어 (10)의 실장 영역 (40)에 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 실장 영역의 결합 (504) 후에, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 실장 영역은 유리 캐리어 (10)으로부터 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역을 방출하기 위해 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역으로부터 제거될 수 있다 (507).
유리 캐리어 (10)의 실장 영역 (40)에 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 실장 영역의 결합 (504) 후에, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역은 기능적 특징으로 제공될 수 있다 (508). 기능적 특징을 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역의 제공 (508) 후에, 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역으로부터 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 실장 영역의 제거 (507)는 유리 캐리어 (10)로부터 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)의 타겟 영역을 방출하기 위해 수행될 수 있다.
도 3의 방법 (300)에 유사하게, 도 6의 방법 (500)은 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)의 표면을 텍스처화할 수 있는 유리를 텍스처하기 위한 습식 화학적 에칭 공정을 나타낼 수 있다. 방출 영역 (50)의 표면의 텍스처는 휴대폰, 테블릿 컴퓨터, 및 텔레비전을 포함하지만, 이에 한정되지 않는 디스플레이 디바이스에 대한 액정 디스플레이 (LCD) 또는 유기 발광 다이오드 (OLED) 가공 동안 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)을 지지하는 견고한 기판으로서 유리 캐리어 (10)가 사용될 수 있도록 수행될 수 있다.
도 6의 방법 (500)의 습식 화학적 에칭 공정의 화학적 에치는 유리 캐리어 (10)을 빙초산의 혼합물과 암모늄 플루오르화물의 40% 수성 혼합물로 구성된 에칭제에 노출하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 화학적 에치는 유리 캐리어 (10)의 하나의 표면 상에 하나 이상의 방출 영역 (50)을 생성하기 위해 유리 캐리어 (10)에 선택적으로 적용될 수 있고, 상기 방출 영역 (50)은 화학적 에치에 의해 텍스처된다. 방출 영역 (50)의 텍스처는 에칭제의 조성물, 농도 및 온도의 제어, 및 상기 에칭제에 유리 캐리어 (10)의 노출 기간을 통해 결정된다.
도 3의 방법 (300)에 대비하여, 도 6의 방법 (500)에 대해, 에칭제에 유리 캐리어 (10)의 노출은 유리 캐리어 (10) 상에 상기 에칭제를 스크린-프린팅 또는 스텐실-프린팅에 의할 수 있다. 예를 들면, 도 3의 방법 (300)에서 세척된 유리 캐리어 (10)이 접착 필름으로 하나의 면에 라미네이트될 수 있는 경우, 도 6의 방법 (500)에 관하여, 상기 에칭제는 상기 에칭제의 적용에 의해 패턴화되는 방출 영역 (50)의 바람직한 크기에 따라 유리 캐리어 (10) 상에 선택적으로 스크린-프린트 또는 스텐실-프린트될 수 있다.
유리 캐리어 (10) 상에 에칭제를 스크린-프린팅 또는 스텐실-프린팅하는 것은 스크린-프린팅 또는 스텐실-프린팅 공정과 양립할 수 있는 요변성 (thixotropic) 겔을 이끄는 증점제의 첨가를 요구할 수 있다. 예를 들면, 수용성 폴리머는 상표명 PolyoxTM 하에 Dow Wolff CellulosicsTM로부터 공급된 폴리에틸렌 옥사이드 패밀리로부터 첨가될 수 있다. 결과적 겔 에칭제는 1 내지 10 분 범위의 기간 동안 유리 캐리어 (10) 상에 남겨질 수 있고, 그 후 상기 유리 캐리어 (10)는 3번 세척되고 건조될 수 있다.
다시, 유리 캐리어 (10)은 Gorilla® 유리, Eagle XG® 유리, LotusTM 유리, 및 소다-라임 유리를 포함하지만, 이에 한정되지 않는 다양한 타입의 유리일 수 있다. 상기 유리 캐리어 (10)은 WillowTM 유리를 포함하지만, 이에 한정되지 않는 다양한 타입의 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)을 지지하는데 사용될 수 있다.
2”정사각형 모양의 Eagle XG® 유리는 두가지 다른 에칭 겔로 스크린 프린트되었다. 상기 겔 중 하나는 GAA에 20 % NH4F 용액의 NH4F 혼합물 및 20 % PolyoxTM N80을 포함하였다. 다른 겔은 GAA에 16 % NH4F 용액의 NH4F 혼합물 및 20 % PolyoxTM N80을 포함하였다. 에칭제 노출 기간은 1 분 내지 10 분으로 변하였다. 그 후 샘플은 탈이온수에 세척되고 건조되었다. 그 후 샘플의 표면 텍스처는 Zygo NewViewTM 모델 7300 백색광 광학 표면 현상 측정기를 사용하여 측정되었다. 현미경 세팅은 2X 줌을 갖는 20X 렌즈이었다. 결과적인 표면 텍스처 파라미터는 표 2에서 요약된다.
Figure pct00002
PV는 "피크-대-밸리"를 나타내고, 가장 높은 피크와 가장 낮은 밸리 사이의 거리를 나타낸다.
표 2에서 보여지는 텍스처 범위에 기초하여, Eagle XG® 유리 캐리어는 3분 동안 PolyoxTM N80로 증점된 16 % NH4F/GAA 혼합물을 사용하여 310 mm × 410 mm 스크린-프린트된 에칭제 겔 패턴으로 에칭되었다. 도 7은 위에 기재된 에칭 조건으로부터 기인한 캐리어 표면의 텍스처 파라미터를 나타낸다.
이것 후에, 패턴화된 캐리어는 360 mm × 460 mm × 0.13 mm WillowTM 유리에 예비-결합되었고, 10분 동안 400℃에서 열에 의해 결합되었다. 그 후, 패턴화된 Eagle XG® 유리 캐리어 및 WillowTM 유리의 결합된 조립은 기록되고 부러졌다. 유리 캐리어 및 WillowTM 유리의 실장 영역이 결합되는 영역은 획일적으로 부서졌다. 유리 캐리어의 방출 영역 및 WillowTM 유리의 대응 영역은 유리 캐리어 및 WillowTM 유리의 분명한 분리로 부서졌다.
방법 (500)은 유리 캐리어에 WillowTM 유리를 유리 캐리어에 결합하기 위해 넓은 범위에 걸처 유리 캐리어 (10)의 방출 영역 (50)의 Rq를 변화하는 방법을 제공하고, 그 뒤에 유리 캐리어로부터 WillowTM 유리의 일부분의 방출을 가능하게 하지만, 바람직한 Rq의 실시 예는 약 2 nm이다. 에칭 시간 및 에칭제 농도의 다양한 조합을 통해 바람직한 Rq를 생산하는 것이 가능하지만, 바람직한 암모늄 플루오르화물 용액 농도의 실시 예는 약 13 %이고, 바람직한 에칭 시간은 약 3 분이다.
도 8은 유리 캐리어 (10)를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)을 가공하는 방법 (700)의 제2 관점의 실시 예를 도시한 흐름도이다. 이러한 방법 (700)은 플루오린 염, 불용성 염, 가용성 염, 및 미네랄 산을 함유하는 에칭 크림을 사용하여 유리 표면을 거칠게 하고, 비록 Eagle XG® 타입 유리 상에 잘 사용될 수 있지만, 거칠게 될 유리 (플렉서블 유리 기판 (20) 또는 유리 캐리어 (10))는 낮은 이온 소다 라임 유리일 때 특히 유용할 수 있다.
도 8에서 도시된 실시 예에 관련하여, 유리 캐리어 (10)은 오염물의 제거하기 위해 세정될 수 있다 (701). 그 후, 유리 캐리어 (10)은 추가적인 세정을 위해 탈이온수를 갖는 초음파 욕 속에 위치될 수 있다 (702). 건조 (703) 후에, 유리 캐리어 (10)는 유리 캐리어 (10)의 실장 영역 (40)을 보호하기 위해 항-산 폴리에틸렌으로 라미네이트될 수 있다 (704). 그 후, 유리 캐리어 (10)는 유리 캐리어 (10)의 매우 얇은 표면 층을 제거하고, 상기 표면을 세정하고 활성화하기 위해 짧은 기간 동안 희석된 플루오르화수소산 (hydrofluoric acid) 및 염산 (hydrochloric acid) 용액에 담궈질 수 있다 (705). 이러한 기간은 5 초 내지 10 초의 범위 이내일 수 있다.
예를 들면, 10초 동안 탈이온수에, 세척 (706) 후에, 유리 캐리어 (10)는 위 아래로 약간 움직이면서, 30 초 내지 120 초 동안 에칭 크림에 노출된다 (707). 이러한 적용에 대해, 에칭 크림을 위해 사용된 에칭 파우더는 플루오린 소스로서 10-40 wt%의 KF, 추가적인 염으로서 10-40 wt%의 KCL 또는 KNO3, 필터로서 5-20 wt% of BaSO4, 1-10 wt%의 전분, 및 1-10 wt%의 폴리아크릴아미드로 구성될 수 있다. 이러한 파우더는 에칭 크림을 형성하기 위해 20-50 wt%의 농축된 HCl 산 또는 HCl 산 및 아세트산의 혼합물에 용해될 수 있다. 만약 용해된 파우더에 의해 만들어진 슬러리가 너무 걸쭉하면, 20 wt%까지의 물이 첨가될 수 있다. 용해 후에, 에칭 크림은 화학적 평형에 도달하기 위해, 모든 2-4 시간 수동 교반과 함께 사용 전에 12 시간 동안 주변 조건에서 유지될 수 있다.
요구된 양의 시간 동안 에칭 크림에 노출 (707) 후에, 유리 캐리어 (10)은 예를 들면, 10 초 동안 탈이온수에서, 빨리 세척될 수 있다 (708). 그 뒤에, 라미네이션은 제거될 수 있고 (709), 유리 캐리어 (10)은 표면 상에 남아있는 산 및 에칭 크림을 제거하기 위해, 철저히 세척될 수 있다 (710). 유리 캐리어 (10)의 결과적인 방출 영역 (50)의 Ra는 약 25 nm일 수 있다.
방출 영역 (50)의 균일성은 점도, 침전 및 불용성 입자 크기 분포를 포함하지만, 이에 한정되지 않는 에칭 크림의 물리적 특성에 의해 제어될 수 있다. 특정 범위의 점도 및 침전 시간은 방출 영역 (50)의 바람직한 텍스처 균일성에 도달하기 위해 요구될 수 있다. 이러한 파라미터는 에칭 파우더의 염, 미네랄 산, 및 물의 함량을 조절함으로써 조절될 수 있다. 불용성 큰 입자는 바람직한 슬러리 점도 및 침전 시간에 도달하기 위해 바람직하게는 제거될 수 있다.
방출 영역 (50)의 거칠기는 에칭 크림의 농도, 및 유리 캐리어 (10)가 에칭 크림에 노출되는 시간에 의해 제어될 수 있다. 더 높은 에칭 크림 농도 및 더 긴 에칭 크림 가공 시간은 더 큰 표면 거칠기를 이끌 수 있다. 산 농도 또는 가공 시간의 증가는 또한 더 큰 표면 텍스처를 이끌 수 있다.
방법 (700)의 이러한 제2 관점과 관련하여 위에 기재된 에칭 화학 작용은 또한 실리콘 텐덤 광전지 적용 (silicon tandem photovoltaic cell applications)을 위해 낮은 이온 소다 라임 유리를 거칠게 하는 것과 관련하여 사용될 수 있다. 실리콘 텐덤 박막 광전지에서, 거친 유리 기판은 광 포획을 증가시킬 수 있고, 따라서 전환 효율을 증가시킬 수 있다.
유리 캐리어 (10)을 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)을 가공하는 방법 (700)의 제3 관점에서, NH4HF2, NH4F, KCl, BaSO4, 및 HCl를 함유하는 에칭 크림은 사용될 수 있다. 이러한 에칭 크림은 Gorilla® 유리가 기판 (20) 또는 유리 캐리어 (10) 둘 중 하나로서 사용되고, 방출 영역을 제공하기 위해 거칠게 될 표면을 포함할 때 특히 유용할 수 있다. 이러한 적용을 위해, 방법 (700)은 요구된 양의 시간 동안 에칭 크림에 노출 (707) 후에 15 wt%의 H2SO4 및 5 wt%의 HCl을 함유하는 2 분 동안의 제2 산 노출 (711)을 포함할 수 있다. 추가적으로, 제2 산 노출 (711) 및 10 초 탈이온수 세척 (712) 후, 및 빠른 세척 (708) 전에 24 wt% HF 및 45.5 wt% HCl를 함유하는 제3 산 노출 (713)이 90 초 동안 수행될 수 있다.
추가적으로, 10-20 wt%의 NH4F, 10-20 wt%의 NH4HF2, 추가적인 염으로서 0-10 wt%의 KNO3, 필터로서 5-20 wt%의 BaSO4, 1-10 wt%의 가용성 전분, 및 0-5 wt%의 폴리아크릴이미드로 구성된 에칭 크림이 사용될 수 있다. 위에서 언급된 고체는 36-38 %의 농축된 HCl 산과 조합할 수 있고, 유리 캐리어 (10)을 텍스처하기 위해 사용되는 에칭 크림에 대하여 위에서 언급된 것과 같이 준비될 수 있다. 에칭 크림을 적용하는 방법은 유리 캐리어 (10)를 텍스처하기 위해 사용되는 에칭 크림에 대하여 위에서 참조된 것과 같이 단계 (701) - (710)를 수행하는 것을 포함할 수 있다. 일부 적용에서, 에칭 크림에 노출 (707) 다음에, Gorilla® 유리는 빠른 세척 (708)이 뒤따르는, 특정 기간 동안 제2 산 노출 (711)에 의해 추가적으로 연마 (polish) 될 수 있다.
텍스처 균일성은 Gorilla® 유리의 정사각형 형태의 샘플에 대해 항-글레어 특성을 달성하기 위해 딥 (dip)으로서 위에-참조된 에칭 크림에 노출 후에 보통 만족될 수 있다. 직사각형 또는 다른 불규칙 또는 3D 형태 샘플을 위해, 딥 대신에 에칭 스프레이는 더 좋은 텍스처 균일성을 보여줄 수 있다. 스프레이 방법에서, 에칭 크림은 손으로 또는 펌프를 사용하여 Gorilla® 유리 표면 상에 스프레이하는 것이 허용될 수 있다. 상기 스프레이 방법에서, Gorilla® 유리는 수평면으로부터 30 도의 기울기를 가진 받침대에 놓일 수 있다. Gorilla® 유리는 동일한 유량으로 동일하게 스프레이될 수 있다. 20 L/min 내지 50 L/min 범위의 유량을 갖는 항-산 펌프는 120 mm × 60 mm의 크기를 가지는 Gorilla® 유리 표면 상에 에칭 크림을 스프레이하는데 사용될 수 있다. 더 큰 유리 표면은 더 큰 유량을 가지는 스프레이를 요구할 수 있다. 임의의 크기 또는 형태의 유리는 스프레이 방법 또는 딥핑 방법을 사용하여 적용될 수 있다.
방법 (700)의 이러한 제3 관점과 관련하여 위에서 기재된 에칭 화학 작용 및 공정은 항-글레어 표면을 제공하거나, 항-글레어 특성을 달성하기 위해, 거칠어진 표면을 커버 유리, 예를 들면, Gorilla® 유리에 제공과 관련하여 또한 사용될 수 있다. 더 구체적으로, 정반사의 감소는 특히 특정 빛 조건에서 사용될 때, 터치 민감 전자 장치, 전자 잉크 리더, 대화식 화이트보드, 및 다른 휴대용 LCD 패널의 커버 유리을 위해 종종 바람직한 특성이다. 그러한 특성을 가지는 커버 유리는 표면 상에 텍스처를 만듬으로써 실현될 수 있다. 표면 텍스처는 반사된 광의 임의의 산란을 통해 반사광을 감소시키고, 흐릿한 반사상을 이끌고, 이는 또한 항-글레어 표면으로서 나타난다. 이러한 표면 텍스처는 방법 (700)의 이러한 제3 관점의 에칭 화학 작용에 의해 제공될 수 있다. 이러한 관점의 에칭 크림 형성 및 공정은 항-글레어 특성을 달성하기 위해 Gorilla® 유리 표면을 거칠게 할 수 있다. 헤이즈, 글로스, 상의 특수성 (DOI), 및 거칠기와 같은 텍스처 표면 특성은 에칭 크림 형성 및 공정 파라미터를 제어함으로써 넓은 범위에서 규제될 수 있고, 이에 의해 낮은 비용, 스크레치 저항성, 및 항-글레어 Gorilla® 유리 표면을 얻기 위한 플렉서블 방법을 제공한다. 이러한 기술은 Gorilla® 유리 속에서 이온 교환하기 전에 Corning 코드 2317 및 2318 타입 유리 상에서 특히 유용하다.
방법 (300) 및 (500)은 가용성 재료를 사용할 수 있고, 방법 (700)은 불용성 재료를 사용할 수 있다. 방법 (300) 및 (500)에서 가용성 재료의 사용은 방법 (700)에서 불용성 재료의 사용에 의해 남겨질 수 있는 미립자의 증착을 피할 수 있다. 이러한 미립자는 (708), (710), 및 (712) 단계에서 적절하게 세척되지 않는다면, 각각의 실장 영역에서 얇은 플렉서블 유리 기판 (20)과 유리 캐리어 (10) 사이의 결합 형성을 방해할 수 있다.
다양한 변경 및 변화는 본 발명에서 발명의 사상 및 범위로부터 벗어남이 없이 일어날 수 있는 것은 당업자에게 자명할 것이다. 따라서, 본 발명은 첨부된 청구항 및 이의 균등물 범위 내에서 오도록 제공된 본 발명의 변경 및 변화를 포함하는 것으로 의도된다.

Claims (12)

  1. (Ⅰ) 방출 영역 (release area) 및 실장 영역 (mount area)을 포함하는 유리 캐리어 (carrier)를 제공하는 단계; 그 다음
    (Ⅱ) 암모늄 플루오르화물 혼합물을 포함하는 에칭제 (etchant)를 기간 동안 방출 영역에 접촉함으로써 텍스처화 표면 (textured surface )을 갖는 유리 캐리어의 방출 영역을 제공하는 단계; 그 다음
    (Ⅲ) 상기 유리 캐리어로부터 에칭제를 제거하는 단계; 및 그 다음
    (Ⅳ) 얇은 플렉서블 유리 기판의 실장 영역을 유리 캐리어의 실장 영역에 결합하는 단계를 포함하고, 여기서 상기 텍스처화 표면은 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역이 유리 캐리어의 방출 영역에 결합하는 것을 방지하는, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 (Ⅱ) 단계의 기간은 1 분 내지 10분 범위인, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 (Ⅱ) 단계는 3 nm 내지 232 nm 범위의 제곱 평균 제곱근 (root-mean-squared) 표면 거칠기를 갖는 텍스처 표면을 제공하는, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 (Ⅱ) 단계는 2 nm 초과이고, 6 nm 이하인 제곱 평균 제곱근 표면 거칠기를 갖는 텍스처 표면을 제공하는, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 (Ⅱ) 단계의 에칭제는 암모늄 플루오르화물 혼합물로 이루어지고, 여기서 상기 암모늄 플루오르화물 혼합물은 빙초산 (glacial acetic acid) 내에 암모늄 플루오르화물 용액으로 이루어진, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 암모늄 플루오르화물 용액의 농도는 4 % 내지 20 % 범위인, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 (Ⅱ) 단계의 암모늄 플루오르화물 용액은 물 내에 40%의 암모늄 플루오르화물인, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 (Ⅱ) 단계는 겔 에칭제로서 에칭제를 적용하는, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 겔 에칭제는 암모늄 플루오르화물 혼합물 및 증점제 (thickener)로 이루어지고, 여기서 상기 암모늄 플루오르화물 혼합물은 빙초산 내에 암모늄 플루오르화물 용액으로 이루어진, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 암모늄 플루오르화물 용액의 농도는 13 % 내지 20 % 범위인, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 암모늄 플루오르화물 용액은 물 내에 40%의 암모늄 플루오르화물인, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
  12. 청구항 1에 있어서,
    상기 (IV) 단계 후에,
    (Ⅴ) 기능적 특징을 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역을 제공하는 단계; 및 그 다음
    (Ⅵ) 상기 유리 캐리어로부터 상기 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역을 방출하기 위해 상기 얇은 플렉서블 유리 기판의 타겟 영역으로부터 상기 얇은 플렉서블 유리 기판의 실장 영역을 제거하는 단계를 더 포함하는, 유리 캐리어를 갖는 얇은 플렉서블 유리 기판을 가공하는 방법.
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