KR20150145695A - Image processing apparatus, image acquiring apparatus, image processing method, and image acquiring method - Google Patents

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Abstract

A representative value obtaining unit (411) of an image processing unit (41) obtains a representative value of a luminance value for a plurality of target pixels included in an area of a predetermined size with a concerned pixel as a center thereof, wherein the concerned pixel is each pixel of an image including granular elements having contrast which is greater than an edge of a pattern area. A reference value setting unit (412) sets a luminance value of a concerned pixel as a reference value when the luminance value of the concerned pixel is in a range of a luminance value which is set based on a representative value, and sets a representative value as the reference value when the luminance value of the concerned pixel is out of the range of the luminance value. A filter processing unit (413) performs a filter process of which weight for a luminance value of each target pixel becomes greater as the difference between a luminance value and a reference value of the each target pixel is small, thereby obtaining a new luminance value of the concerned pixel. Accordingly, with respect to a pixel, the granular element having greater contrast can be removed while preserving the edge of the pattern area.

Description

화상 처리 장치, 화상 취득 장치, 화상 처리 방법 및 화상 취득 방법{IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE ACQUIRING APPARATUS, IMAGE PROCESSING METHOD, AND IMAGE ACQUIRING METHOD} TECHNICAL FIELD The present invention relates to an image processing apparatus, an image acquiring apparatus, an image processing method, and an image acquiring method,

본 발명은, 화상을 처리하는 기술, 및, 화상을 취득하는 기술에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD [0002] The present invention relates to a technique of processing an image and a technique of acquiring an image.

최근, 다양한 전자기기에 FPD(Flat Panel Display)가 설치된다. 이러한 표시 장치의 제조에 있어서 투명한 기재 상에 형성된 투명 전극막 등의 투명한 패턴의 외관을 검사하는 경우, 예를 들면, 기재에 광을 조사하고, 반사광을 수광함으로써 패턴의 화상이 취득된다. 일본국 특허공개 2013-68460호 공보(문헌 1)에서는, 광조사부로부터 기재 상의 촬상 영역에 이르는 광축과 기재의 법선이 이루는 조사각과, 촬상 영역으로부터 라인 센서에 이르는 광축과 상기 법선이 이루는 검출각을 동등하게 유지하면서, 화상을 취득하는 장치가 개시되어 있다. 상기 장치에서는, 화상의 콘트라스트가 높아지는 조사각 및 검출각의 설정 각도가 이용된다. Recently, FPD (Flat Panel Display) is installed in various electronic apparatuses. When the appearance of a transparent pattern such as a transparent electrode film formed on a transparent substrate is inspected in the manufacture of such a display device, for example, an image of the pattern is obtained by irradiating the substrate with light and receiving the reflected light. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-68460 (Document 1) discloses a technique in which an irradiation angle formed between the optical axis extending from the light irradiation unit to the imaging region on the substrate and the normal line of the substrate and the detection angle formed by the optical axis extending from the imaging region to the line sensor, An apparatus for acquiring an image while maintaining the same is disclosed. In the above apparatus, a setting angle of the irradiation angle and the detection angle for increasing the contrast of the image is used.

또한, 일본국 특허공개 2008-205737호 공보(문헌 2)에서는, 엣지를 보존한 평활화 모델을 얻는 수법이 개시되어 있다. 상기 수법으로는, 주목 영역에 있어서의 주목 화소와 주변 화소의 화소값 괴리도 및 위치 괴리도가 산출되며, 화소값 괴리도와 위치 괴리도를 이용하여 상관 지표값이 구해진다. 그리고, 이 상관 지표값으로부터 주변 화소의 필터 계수가 구해지고, 화소값 괴리도로부터 주목 화소의 필터 계수가 구해지며, 상기 필터 계수를 이용하여 필터 연산이 행해진다. 또, 엣지를 보존하면서 노이즈를 제거하는 평활화 수법으로서, 바이라테랄 필터나 ε필터도 알려져 있다. Further, Japanese Patent Laid-Open No. 2008-205737 (Document 2) discloses a method of obtaining a smoothing model preserving an edge. According to the above technique, the pixel value distances and the position distances between the target pixel and the surrounding pixels in the target area are calculated, and the correlation index values are obtained using the pixel value distances and the position distances. The filter coefficient of the peripheral pixel is obtained from the correlation index value, the filter coefficient of the pixel of interest is obtained from the pixel value discrepancy, and the filter calculation is performed using the filter coefficient. As a smoothing method for removing noise while preserving an edge, a bilateral filter or an epsilon filter is also known.

그런데, 투명한 기재에 미소한 입상(粒狀) 물질(이른바, 필러)이 포함되어 있는 경우나, 기재의 표면에 미소한 요철이 존재하는 경우 등에는, 촬상한 화상에 있어서 다수의 입상 요소가 존재하여, 패턴의 검사를 정밀도 있게 행할 수 없다. 엣지를 보존하면서 노이즈를 제거하는 상기 화상 처리에 의해 입상 요소를 제거하는 것도 생각할 수 있지만, 입상 요소가 패턴 영역의 엣지보다 콘트라스트가 높은 경우, 패턴 영역의 엣지와 함께 입상 요소도 보존되어 버린다. However, in the case where a minute granular material (so-called filler) is contained in a transparent substrate, a minute unevenness is present on the surface of the substrate, and the like, a large number of granular elements So that the pattern can not be inspected accurately. It is also conceivable to remove the granular element by the image processing for removing noise while preserving the edge. However, when the granular element has a higher contrast than the edge of the pattern area, the granular element is saved along with the edge of the pattern area.

본 발명은, 화상 처리 장치를 위한 것이며, 패턴 영역의 엣지보다 콘트라스트가 높은 입상 요소를 포함하는 화상에 있어서, 패턴 영역의 엣지를 보존하면서, 콘트라스트가 높은 입상 요소를 제거하는 것을 목적으로 하고 있다. An object of the present invention is to remove a granular element having a high contrast while preserving an edge of a pattern area in an image including a granular element having a higher contrast than an edge of the pattern area.

본 발명에 관련된 화상 처리 장치는, 패턴 영역을 나타냄과 함께, 상기 패턴 영역의 엣지보다 콘트라스트가 높은 입상 요소를 포함하는 화상에 있어서, 각 화소를 주목 화소로 하고, 상기 주목 화소를 중심으로 하는 소정 사이즈의 영역에 포함되는 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 대표값을 취득하는 대표값 취득부와, 상기 주목 화소의 휘도값이 상기 대표값을 중심으로 하여 설정되는 휘도값 범위 내인 경우에, 상기 주목 화소의 휘도값을 기준값으로서 설정하고, 상기 주목 화소의 휘도값이 상기 휘도값 범위 밖인 경우에 상기 대표값을 기준값으로서 설정하거나, 또는, 상기 주목 화소의 휘도값에 관계없이 상기 대표값을 기준값으로서 설정하는 기준값 설정부와, 상기 복수의 대상 화소의 휘도값을 이용함과 함께, 각 대상 화소의 휘도값과 상기 기준값의 차가 작을 수록 상기 각 대상 화소의 휘도값에 대한 가중이 커지는 필터 처리를 행함으로써 상기 주목 화소의 새로운 휘도값을 구하는 필터 처리부를 구비한다. An image processing apparatus according to the present invention is an image processing apparatus that displays a pattern area and includes a granular element having a higher contrast than an edge of the pattern area, wherein each pixel is set as a target pixel, A representative value acquiring unit that acquires a representative value of a luminance value in a plurality of target pixels included in an area of a size of the target pixel; and a target value acquiring unit that, when the luminance value of the target pixel is within a luminance value range set around the representative value, The luminance value of the target pixel is set as a reference value and the representative value is set as a reference value when the luminance value of the target pixel is out of the luminance value range or the representative value is set as the reference value regardless of the luminance value of the target pixel A luminance value of each of the plurality of target pixels and a luminance value of each of the plurality of target pixels, The smaller the difference between the reference value and a filter processing to obtain the new brightness value of the pixel of interest by performing the filtering process increases the weighting of the luminance values of the respective subject pixel.

본 발명에 의하면, 패턴 영역을 나타냄과 함께, 패턴 영역의 엣지보다 콘트라스트가 높은 입상 요소를 포함하는 화상에 있어서, 패턴 영역의 엣지를 보존하면서, 콘트라스트가 높은 입상 요소를 제거할 수 있다. According to the present invention, it is possible to remove a granular element having a high contrast while preserving an edge of a pattern area in an image including a granular element that shows a pattern area and has a higher contrast than an edge of the pattern area.

본 발명의 하나의 바람직한 형태에서는, 상기 대표값 취득부가, 상기 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 편차를 나타내는 값을 구하고, 상기 기준값 설정부가, 상기 편차를 나타내는 값에 의거하여 상기 휘도값 범위의 폭을 결정하고, 상기 휘도값 범위를 이용하여 상기 기준값을 설정한다. In one preferred form of the present invention, the representative value acquiring section obtains a value indicating a deviation of the brightness value in the plurality of target pixels, and the reference value setting section sets the brightness value range And sets the reference value using the luminance value range.

본 발명의 다른 바람직한 형태에서는, 상기 필터 처리부가, 상기 복수의 대상 화소 중, 휘도값이 상기 대표값을 중심으로 하여 설정되는 휘도값 범위 밖이 되는 대상 화소의 상기 휘도값을 상기 필터 처리에 있어서 제외한다. In another preferred embodiment of the present invention, the filter processing unit is configured to set the luminance value of a target pixel whose luminance value is out of a luminance value range set around the representative value among the plurality of target pixels in the filter processing .

본 발명의 또 다른 바람직한 형태에서는, 상기 필터 처리에 있어서, 상기 각 대상 화소와 상기 주목 화소의 거리가 작을 수록 상기 각 대상 화소의 휘도값에 대한 가중이 커진다. In another preferred form of the present invention, in the above filter processing, the smaller the distance between each target pixel and the target pixel is, the larger the weight of the target pixel is.

본 발명의 하나의 국면에서는, 상기 화상이, 투명 기재 상에 형성된 투명 전극막을 나타내는 화상이다. In one aspect of the present invention, the image is an image showing a transparent electrode film formed on a transparent substrate.

본 발명은, 기재 상에 형성된 박막 패턴의 화상을 취득하는 화상 취득 장치를 위한 것이다. 본 발명에 관련된 화상 취득 장치는, 상기 기재를 촬상함으로써 촬상 화상을 취득하는 촬상 유닛과, 상기 촬상 화상에 대해 처리를 행하는 상기 화상 처리 장치를 구비한다. The present invention is for an image capturing apparatus for capturing an image of a thin film pattern formed on a substrate. An image acquisition apparatus according to the present invention includes an image pickup unit that acquires a picked-up image by picking up the substrate, and the image processing apparatus that performs processing on the picked-up image.

본 발명은, 화상 처리 방법, 및, 기재 상에 형성된 박막 패턴의 화상을 취득하는 화상 취득 방법을 위한 것이다. The present invention relates to an image processing method and an image obtaining method for obtaining an image of a thin film pattern formed on a substrate.

상기 서술한 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 행하는 이 발명의 상세한 설명에 의해 밝혀진다. The foregoing and other objects, features, aspects and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the present invention when taken in conjunction with the accompanying drawings.

본 발명은, 화상 처리 장치를 위한 것이며, 패턴 영역의 엣지보다 콘트라스트가 높은 입상 요소를 포함하는 화상에 있어서, 패턴 영역의 엣지를 보존하면서, 콘트라스트가 높은 입상 요소를 제거할 수 있다. The present invention is for an image processing apparatus and can remove a granular element having a high contrast while preserving an edge of a pattern area in an image including a granular element having a higher contrast than an edge of the pattern area.

도 1은 화상 취득 장치의 구성을 나타내는 도이다.
도 2는 컴퓨터의 구성을 나타내는 도이다.
도 3은 컴퓨터가 실현되는 기능 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 4는 기재 상의 패턴을 검사하는 처리의 흐름을 나타내는 도이다.
도 5는 기재를 나타내는 단면도이다.
도 6은 촬상 화상을 나타내는 도이다.
도 7은 대상 영역의 휘도값 프로파일을 나타내는 도이다.
도 8은 대상 영역의 휘도값 프로파일을 나타내는 도이다.
도 9는 처리 완료 화상을 나타내는 도이다.
도 10은 비교예의 처리에 의한 처리 완료 화상을 나타내는 도이다.
1 is a diagram showing a configuration of an image acquisition apparatus.
2 is a diagram showing a configuration of a computer.
3 is a block diagram showing a functional configuration in which a computer is realized.
4 is a diagram showing a flow of processing for inspecting a pattern on a substrate.
5 is a cross-sectional view showing the substrate.
6 is a diagram showing a picked-up image.
7 is a diagram showing a luminance value profile of a target area.
8 is a diagram showing a luminance value profile of a target area.
9 is a diagram showing a processed image.
10 is a diagram showing a processed image obtained by the process of the comparative example.

도 1은, 본 발명의 하나의 실시의 형태에 관련된 화상 취득 장치(1)의 구성을 나타내는 도이다. 화상 취득 장치(1)는, 기재(9) 상에 형성된 박막 패턴의 화상을 취득함과 함께, 상기 화상에 의거하여 박막 패턴의 외관 검사를 행한다. 즉, 화상 취득 장치(1)는, 패턴 검사 장치로서의 기능을 포함한다. 본 실시의 형태에서는, 기재(9)는 유리 기판 또는 투명 필름이다. 박막 패턴은, 예를 들면, 투명 전극막이다. 기재(9) 상에는, 반사 방지막 등의 다른 막이 설치되어도 된다. 이하의 설명에서는, 박막 패턴을 간단히 「패턴」이라고 부른다. 기재(9)는, 예를 들면 정전 용량형의 터치 패널의 제조에 이용된다. 1 is a diagram showing a configuration of an image capturing apparatus 1 according to one embodiment of the present invention. The image capturing apparatus 1 acquires an image of a thin film pattern formed on the base material 9, and performs a visual inspection of the thin film pattern based on the image. In other words, the image capturing apparatus 1 includes a function as a pattern inspection apparatus. In the present embodiment, the substrate 9 is a glass substrate or a transparent film. The thin film pattern is, for example, a transparent electrode film. On the base material 9, another film such as an antireflection film may be provided. In the following description, a thin film pattern is simply referred to as a " pattern ". The base material 9 is used, for example, in the production of a capacitive touch panel.

화상 취득 장치(1)는, 기재(9)를 이동시키는 이동 기구(11), 촬상 유닛(13) 및 컴퓨터(3)를 구비한다. 이동 기구(11)는, 기재(9)를 상면 상에 유지하는 스테이지(21), 스테이지(21)를 기재(9)의 주면에 평행한 도 1 중의 X방향으로 이동시키는 X방향 이동부(22), 및, 기재(9)의 주면에 평행, 또한, X방향에 수직인 Y방향으로 X방향 이동부(22)를 이동시키는 Y방향 이동부(23)를 구비한다. 이동 기구(11)는 기재(9)를 후술하는 촬상 영역(90)에 대해 상대적으로 이동하는 기구이다. 또한, X방향 및 Y방향에 수직인 도 1 중의 Z방향으로 스테이지(21)를 이동시키는 기구나, Z방향에 평행한 축을 중심으로 하여 스테이지(21)를 회동하는 기구가, 이동 기구(11)에 추가되어도 된다. 화상 취득 장치(1)에서는, 컴퓨터(3)가, 화상 취득 장치(1)의 전체 제어를 담당하는 전체 제어부로서의 역할을 한다. The image acquisition apparatus 1 includes a moving mechanism 11 for moving the base material 9, an image pickup unit 13 and a computer 3. [ The moving mechanism 11 includes a stage 21 for holding the substrate 9 on the upper surface thereof, an X-direction moving unit 22 for moving the stage 21 in the X direction in FIG. 1 parallel to the main surface of the substrate 9 And a Y-direction moving unit 23 that moves the X-direction moving unit 22 in the Y-direction, which is parallel to the main surface of the substrate 9 and perpendicular to the X-direction. The moving mechanism 11 is a mechanism for relatively moving the base material 9 with respect to the imaging region 90 to be described later. A mechanism for moving the stage 21 in the Z direction in FIG. 1, which is perpendicular to the X and Y directions, and a mechanism for rotating the stage 21 about an axis parallel to the Z direction, . In the image capturing apparatus 1, the computer 3 serves as a general control unit that takes charge of the overall control of the image capturing apparatus 1. [

촬상 유닛(13)은, 기재(9) 상의 촬상 영역(90)을 향해 광을 출사하는 광조사부(131), 촬상 영역(90)으로부터의 반사광을 수광하는 라인 센서(132), 및, 광조사부(131)에 의한 광의 조사각 및 라인 센서(132)에 의한 검출각을 변경하는 각도 변경 기구(133)를 구비한다. 여기서, 조사각이란, 광조사부(131)로부터 촬상 영역(90)에 이르는 광축 J1과 기재(9)의 법선 N이 이루는 각 θ1이다. 검출각이란, 촬상 영역(90)으로부터 라인 센서(132)에 이르는 광축 J2와 법선 N이 이루는 각 θ2이다. The imaging unit 13 includes a light irradiation unit 131 for emitting light toward the imaging area 90 on the substrate 9, a line sensor 132 for receiving reflected light from the imaging area 90, And an angle changing mechanism 133 for changing the irradiation angle of light by the line sensor 131 and the detection angle by the line sensor 132. [ Here, the irradiation angle is the angle? 1 formed by the optical axis J1 from the light irradiation part 131 to the imaging area 90 and the normal line N of the base material 9. The detection angle is an angle 2 formed by the optical axis J2 from the imaging area 90 to the line sensor 132 and the normal N. [

광조사부(131)는, 패턴에 대해 투과성을 가지는 파장의 광을 출사한다. 광은, 적어도 선상의 촬상 영역(90)에 조사된다. 광조사부(131)는, X방향으로 배열된 복수의 LED, 및, LED로부터의 광을 균일화하여, X방향으로 신장하는 촬상 영역(90)으로 이끄는 광학계를 구비한다. 라인 센서(132)는, 1차원의 촬상 소자, 및, 촬상 영역(90)과 촬상 소자의 수광면을 광학적으로 공액으로 하는 광학계를 구비한다. 또한, 광조사부(131), 라인 센서(132) 및 각도 변경 기구(133)를 기재(9)의 법선 N의 방향으로 일체적으로 이동시키는 오토 포커스 기구가 촬상 유닛(13)에 설치되어도 된다. The light irradiating unit 131 emits light having a wavelength that is transmissive to the pattern. The light is irradiated at least onto the imaging region 90 on the line. The light irradiating unit 131 includes a plurality of LEDs arranged in the X direction and an optical system for homogenizing the light from the LEDs and guiding them to the imaging region 90 extending in the X direction. The line sensor 132 includes a one-dimensional imaging element and an optical system that optically conjugates the light-receiving surface of the imaging area 90 and the imaging element. An autofocus mechanism for integrally moving the light irradiating unit 131, the line sensor 132 and the angle changing mechanism 133 in the direction of the normal N of the base material 9 may be provided in the image pickup unit 13.

후술하는 촬상 화상의 취득 시에는, 기재(9)는, 이동 기구(11)에 의해, 촬상 영역(90)과 교차하는 방향으로 이동한다. 즉, 이동 기구(11)는 기재(9)를 촬상 영역(90)에 대해 상대적으로 이동하는 기구이다. 기재(9)의 이동과 병행하여, 라인 센서(132)에 의해, 선상의 촬상 영역(90)의 라인 화상이 고속으로 반복해서 취득되어, 2차원의 촬상 화상이 취득된다. 본 실시의 형태에서는, 기재(9)는 촬상 영역(90)에 대해 수직인 Y방향으로 이동하지만, 촬상 영역(90)은 이동 방향에 대해 경사져도 된다. 기재(9)를 촬상하는 촬상 유닛(13)에는 이동 기구(11)의 일부가 포함되는 것으로 파악해도 된다. The base material 9 is moved by the moving mechanism 11 in the direction intersecting the imaging area 90 at the time of capturing the captured image which will be described later. That is, the moving mechanism 11 is a mechanism for relatively moving the base material 9 with respect to the imaging region 90. In parallel with the movement of the base material 9, the line sensor 132 acquires the line image of the line-shaped imaging area 90 repeatedly at a high speed to acquire a two-dimensional sensed image. In the present embodiment, the base material 9 moves in the Y direction perpendicular to the sensing region 90, but the sensing region 90 may be inclined with respect to the moving direction. The image pickup unit 13 for picking up the base material 9 may be regarded as including a part of the moving mechanism 11. [

각도 변경 기구(133)는, 조사각 θ1과 검출각 θ2를 동등하게 유지하면서 조사각 θ1 및 검출각 θ2를 변경한다. 따라서, 이하의 설명에 있어서의 검출각의 크기는 조사각의 크기이기도 하며, 조사각의 크기는 검출각의 크기이기도 하다. 광조사부(131) 및 라인 센서(132)는, 각도 변경 기구(133)를 통하여, 베이스벽(134)에 지지된다. 베이스벽(134)은, Y방향 및 Z방향에 평행한 판부재이다. The angle changing mechanism 133 changes the irradiation angle? 1 and the detection angle? 2 while keeping the irradiation angle? 1 and the detection angle? 2 equal. Therefore, the magnitude of the detection angle in the following description is also the magnitude of the irradiation angle, and the magnitude of the irradiation angle is also the magnitude of the detection angle. The light irradiating unit 131 and the line sensor 132 are supported on the base wall 134 through the angle changing mechanism 133. [ The base wall 134 is a plate member parallel to the Y and Z directions.

베이스벽(134)에는, 촬상 영역(90)을 중심으로 하는 원호형상의 제1 개구(201) 및 제2 개구(202)가 설치된다. 각도 변경 기구(133)는, 제1 개구(201)를 따라 광조사부(131)를 이동시키기 위한 모터(135), 및, 가이드부, 랙 및 피니언(도시 생략)을 가지며, 제2 개구(202)를 따라 라인 센서(132)를 이동시키기 위한 모터(136), 및, 가이드부, 랙 및 피니언(도시 생략)을 더 가진다. The base wall 134 is provided with an arc-shaped first opening 201 and a second opening 202 centered on the imaging region 90. The angle changing mechanism 133 has a motor 135 for moving the irradiation part 131 along the first opening 201 and a guide part, a rack and a pinion A motor 136 for moving the line sensor 132 along the guide line, and a guide portion, a rack and a pinion (not shown).

도 2는, 컴퓨터(3)의 구성을 나타내는 도이다. 컴퓨터(3)는 각종 연산 처리를 행하는 CPU(31), 기본 프로그램을 기억하는 ROM(32) 및 각종 정보를 기억하는 RAM(33)을 포함하는 일반적인 컴퓨터 시스템의 구성으로 되어 있다. 컴퓨터(3)는, 정보 기억을 행하는 고정 디스크(34), 화상 등의 각종 정보의 표시를 행하는 디스플레이(35), 조작자로부터의 입력을 받아들이는 키보드(36a) 및 마우스(36b), 광디스크, 자기 디스크, 광자기 디스크 등의 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체(30)로부터 정보의 판독을 행하는 판독 장치(37), 및, 화상 취득 장치(1)의 다른 구성과의 사이에서 신호를 송수신하는 통신부(38)를 더 포함한다. Fig. 2 is a diagram showing a configuration of the computer 3. Fig. The computer 3 has a general computer system configuration including a CPU 31 for carrying out various kinds of calculation processing, a ROM 32 for storing a basic program, and a RAM 33 for storing various kinds of information. The computer 3 includes a fixed disk 34 for storing information, a display 35 for displaying various information such as an image, a keyboard 36a and a mouse 36b for receiving an input from an operator, an optical disk, A reading unit 37 for reading information from a computer-readable recording medium 30 such as a disk or a magneto-optical disk, and a communication unit 38 for transmitting and receiving signals to and from other configurations of the image- .

컴퓨터(3)에서는, 사전에 판독 장치(37)를 통하여 기록 매체(30)로부터 프로그램(300)이 읽어 내어져 고정 디스크(34)에 기억되어 있다. CPU(31)는, 프로그램(300)에 따라서 RAM(33)이나 고정 디스크(34)를 이용하면서 연산 처리를 실행하고, 후술하는 기능을 실현한다. In the computer 3, the program 300 is read from the recording medium 30 through the reading device 37 and stored in the fixed disk 34 in advance. The CPU 31 executes calculation processing using the RAM 33 or the fixed disk 34 in accordance with the program 300 and realizes a function to be described later.

도 3은, 컴퓨터(3)가 실현하는 기능 구성을 나타내는 블럭도이며, 컴퓨터(3)의 CPU(31), ROM(32), RAM(33), 고정 디스크(34) 등에 의해 실현되는 기능 구성을 나타내고 있다. 컴퓨터(3)는, 화상 처리부(41), 검사부(42) 및 기억부(49)를 가진다. 화상 처리부(41)는, 대표값 취득부(411), 기준값 설정부(412) 및 필터 처리부(413)를 가지며, 촬상 유닛(13)에 의해 취득되는 촬상 화상에 대해 후술하는 화상 처리를 행한다. 기억부(49)는, 촬상 화상 데이터(491)를 기억한다. 이러한 구성이 실현되는 기능의 상세한 것에 대해서는 후술한다. 또한, 이러한 기능은 전용의 전기 회로에 의해 구축되어도 되고, 부분적으로 전용의 전기 회로가 이용되어도 된다. 3 is a block diagram showing a functional configuration realized by the computer 3 and includes a functional configuration realized by the CPU 31, the ROM 32, the RAM 33, the fixed disk 34, . The computer 3 has an image processing section 41, an inspection section 42 and a storage section 49. [ The image processing unit 41 has a representative value acquisition unit 411, a reference value setting unit 412 and a filter processing unit 413 and performs image processing to be described later on the captured image acquired by the image pickup unit 13. The storage unit 49 stores the captured image data 491. [ Details of the functions in which such a configuration is realized will be described later. Such a function may be constructed by a dedicated electric circuit, or a dedicated electric circuit may be partially used.

도 4는, 기재(9) 상의 패턴을 검사하는 처리의 흐름을 나타내는 도이다. 패턴 검사에서는, 우선, 검사 대상의 패턴이 형성된 기재(9)가 준비되며, 스테이지(21) 상에 올려 놓아진다(단계 S11). 도 5는, 기재(9)를 나타내는 단면도이다. 이미 서술한 바와 같이, 기재(9)의 주면 상에는, 투명 전극막의 패턴(91)이 형성된다. 또, 기재(9)의 내부에는, 미소한 입상 물질(92)(이른바, 필러)이 포함된다. 입상 물질(92)은, 기재(9)의 전체에 분산되어 있다. 4 is a view showing a flow of processing for inspecting a pattern on the base material 9. Fig. In the pattern inspection, first, a base material 9 on which a pattern to be inspected is formed is prepared and placed on the stage 21 (step S11). Fig. 5 is a cross-sectional view showing the base material 9. Fig. As already described, a pattern 91 of the transparent electrode film is formed on the main surface of the base material 9. [ In addition, a fine particulate material 92 (so-called filler) is contained in the base material 9. The particulate matter 92 is dispersed throughout the base material 9.

본 실시의 형태에서는, 촬상 화상에 있어서 패턴을 나타내는 영역(이하, 「패턴 영역」이라고 한다.)의 엣지의 콘트라스트를 높게 하는 것이 가능한 조사각 및 검출각의 각도가, 기재(9) 상의 막구조(막의 종류와 두께의 조합)마다 미리 구해져 있다. 패턴 영역의 엣지의 콘트라스트는, 촬상 화상에 있어서의 패턴 영역의 엣지 근방에 있어서의 패턴 영역과 배경 영역 사이의 휘도차(의 절대값)이다. 컴퓨터(3)에서는, 스테이지(21) 상의 기재(9)의 막구조에 맞추어, 조사각 및 검출각을 설정해야 할 각도(이하, 「설정 각도」라고 한다.)가 특정되며, 각도 변경 기구(133)를 제어함으로써, 조사각 및 검출각이 상기 설정 각도가 된다(단계 S12). In this embodiment, the angle of the irradiation angle and the angle of the detection that can increase the contrast of the edge of the region (hereinafter referred to as the " pattern region ") in the captured image, (The combination of the kind and the thickness of the film). The contrast of the edge of the pattern area is the absolute value of the luminance difference between the pattern area and the background area in the vicinity of the edge of the pattern area in the sensed image. In the computer 3, the angle at which the irradiation angle and detection angle should be set (hereinafter referred to as "setting angle") is specified in accordance with the film structure of the base material 9 on the stage 21, 133 so that the irradiation angle and the detection angle become the set angle (step S12).

계속해서, 광조사부(131)로부터의 광의 출사가 개시되고, 기재(9) 상의 검사해야 할 위치가 촬상 영역(90)을 통과하도록, 이동 기구(11)에 의해 기재(9)가 Y방향으로 연속적으로 이동한다. 기재(9)의 이동과 병행하여, 라인 센서(132)에서는, 선상의 촬상 영역(90)의 라인 화상이 고속으로 반복해서 취득된다. 이것에 의해, 패턴을 나타내는 2차원의 촬상 화상이 취득되고, 기억부(49)에서 촬상 화상 데이터(491)로서 기억된다(단계 S13). Subsequently, the irradiation of the light from the light irradiation unit 131 is started and the substrate 9 is moved in the Y direction by the moving mechanism 11 so that the position to be inspected on the substrate 9 passes through the imaging area 90 Moves continuously. In parallel with the movement of the substrate 9, the line sensor 132 obtains a line image of the line-shaped imaging region 90 repeatedly at a high speed. As a result, a two-dimensional captured image representing the pattern is acquired and stored in the storage unit 49 as captured image data 491 (step S13).

도 6은, 촬상 화상의 일부를 나타내는 도이다. 도 6에서는, 각 영역에 붙이는 평행 사선의 폭이 좁을 수록, 상기 영역의 휘도(휘도값의 평균값)가 낮은 것을 나타낸다. 촬상 화상(8)은, 패턴 영역(81) 및 배경 영역(82)을 포함한다. 배경 영역(82)은, 비패턴 영역이다. 또, 촬상 화상(8)에는, 다수의 미소한 입상 요소(831, 832, 833)가 포함된다. 여기서, 입상 요소(831~833)는, 기재(9)의 내부에 존재하는 이미 서술한 입상 물질(92)이나 기재(9)의 주면에 있어서의 미소한 요철, 혹은, 노이즈 등에 기인한다. 입상 요소(831~833) 중, 도 6 중에서 부호 831을 붙인 복수의 입상 요소는 가장 휘도가 낮고, 부호 832를 붙인 입상 요소는 가장 휘도가 높다. 또, 각 입상 요소(831~833)와 상기 입상 요소(831~833)의 주위 사이의 휘도차를, 상기 입상 요소(831~833)의 콘트라스트로 하며, 입상 요소(831)의 콘트라스트는, 패턴 영역(81)의 엣지(811)의 콘트라스트보다 높다. 입상 요소(832, 833)의 콘트라스트는, 패턴 영역(81)의 엣지(811)의 콘트라스트보다 낮다. 6 is a diagram showing a part of a captured image. In Fig. 6, the narrower the width of the parallel slanting line attached to each area, the lower the luminance (average value of the luminance value) of the area. The picked-up image 8 includes a pattern region 81 and a background region 82. The background region 82 is a non-patterned region. In addition, the captured image 8 includes a large number of minute granular elements 831, 832, and 833. Here, the granular elements 831 to 833 are caused by microscopic irregularities or noise on the main surface of the particulate material 92 or the substrate 9 already described inside the base material 9. Among the rising elements 831 to 833, the plurality of rising elements denoted by reference numeral 831 in FIG. 6 have the lowest luminance and the rising elements with reference numeral 832 have the highest luminance. The difference in brightness between the respective granular elements 831 to 833 and the periphery of the granular elements 831 to 833 is regarded as the contrast of the granular elements 831 to 833, Is higher than the contrast of the edge (811) of the region (81). The contrast of the rising elements 832 and 833 is lower than the contrast of the edge 811 of the pattern area 81. [

대표값 취득부(411)에서는, 촬상 화상(8)에 있어서 각 화소를 주목 화소로 하고, 상기 주목 화소를 중심으로 하는 소정 사이즈의 대상 영역이 설정되며, 대상 영역에 포함되는 복수의 화소(이하, 「대상 화소」라고 한다.)가 특정된다. 예를 들면, 도 6 중에서 부호 71을 붙인 화소가 주목 화소인 경우, 부호 711을 붙인 대상 영역(파선의 직사각형으로 나타낸다.)에 포함되는 모든 화소가 대상 화소가 된다. 도 6 중에서 부호 72를 붙인 화소가 주목 화소인 경우, 부호 721을 붙인 대상 영역(파선의 직사각형으로 나타낸다.)에 포함되는 모든 화소가 대상 화소가 된다. 대상 영역은 입상 요소보다 충분히 큰 것이 바람직하다. 이하의 처리에서는, 주목 화소(71, 72)도 대상 화소의 하나로서 취급된다. 또한, 각 주목 화소의 대상 영역은, 상기 주목 화소에 대한 후술하는 필터 처리에 있어서의 필터 범위에 상당한다. In the representative value acquisition unit 411, each pixel is set as a target pixel in the captured image 8, a target area having a predetermined size centered on the target pixel is set, and a plurality of pixels (hereinafter referred to as " , &Quot; target pixel ") is specified. For example, in the case where the pixel denoted by reference numeral 71 in FIG. 6 is a pixel of interest, all the pixels included in the object area denoted by reference numeral 711 (denoted by the broken line rectangle) become the target pixel. In Fig. 6, when the pixel denoted by reference numeral 72 is the pixel of interest, all the pixels included in the object area denoted by reference numeral 721 (denoted by the broken line rectangle) become the target pixel. The target area is preferably sufficiently larger than the granular element. In the following processing, the target pixels 71 and 72 are also treated as one of the target pixels. In addition, the target area of each target pixel corresponds to the filter range in the filter processing described below for the target pixel.

도 7 및 도 8은, 대상 영역의 휘도값 프로파일을 나타내는 도이다. 도 7에서는, 도 6 중의 대상 영역(711)에 있어서 주목 화소(71)를 중심으로 하여 횡방향으로 늘어선 대상 화소의 휘도값을 나타내고, 도 8에서는, 도 6 중의 대상 영역(721)에 있어서 주목 화소(72)를 중심으로 하여 횡방향으로 늘어선 대상 화소의 휘도값을 나타내고 있다. 또, 도 7 및 도 8에서는, 주목 화소의 위치에 부호 71, 72를 붙이고, 패턴 영역(81), 배경 영역(82), 입상 요소(831, 832)의 범위를 동일한 부호를 붙인 화살표로 나타내고 있다. 도 8에 나타내는 바와 같이, 배경 영역(82)에 있어서 입상 요소(831)에 포함되지 않는 비입상 영역과 입상 요소(831)의 휘도차는, 배경 영역(82)의 비입상 영역과 패턴 영역(81)의 휘도차보다 크다. Figs. 7 and 8 are diagrams showing the luminance value profile of the target area. Fig. In Fig. 7, the luminance values of the target pixels arranged in the lateral direction around the target pixel 71 in the target area 711 in Fig. 6 are shown. In Fig. 8, the target area 721 in Fig. And the luminance values of the target pixel arranged in the lateral direction around the pixel 72 are shown. 7 and 8, symbols 71 and 72 are added to the position of the pixel of interest, and the ranges of the pattern area 81, the background area 82 and the granular elements 831 and 832 are denoted by the same reference numerals have. 8, the difference in luminance between the unoccupied area and the granular element 831 not included in the granular element 831 in the background area 82 is larger than the difference in luminance between the non-granular area of the background area 82 and the non- ).

주목 화소에 대한 복수의 대상 화소가 특정되면, 상기 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 대표값, 및, 휘도값의 편차를 나타내는 값이 취득된다(단계 S14). 휘도값의 대표값은, 예를 들면 평균값이며, 휘도값의 편차를 나타내는 값은, 예를 들면 표준 편차이다. 실제로는, 촬상 화상(8)의 하나의 화소를 주목 화소로 하고, 단계 S14의 처리, 및, 후술하는 단계 S15~S17의 처리가 순서대로 행해지며, 이러한 일련의 처리가, 주목 화소를 다른 화소로 변경하면서 반복된다. 도 4에서는, 처리의 반복을 나타내는 블록의 도시를 생략하고 있다. 이하의 기재에서는, 화소(71)가 주목 화소인 경우와, 화소(72)가 주목 화소인 경우를 대비하기 위해, 복수의 화소를 각각 주목 화소로 하는 경우의 처리를 병행해서 설명한다. When a plurality of target pixels for the target pixel are specified, a representative value of the luminance value and a value indicating the deviation of the luminance value in the plurality of target pixels are acquired (step S14). The representative value of the luminance value is, for example, an average value, and the value indicating the deviation of the luminance value is, for example, a standard deviation. Actually, the process of step S14 and the processes of steps S15 to S17, which will be described later, are carried out in order, with one pixel of the captured image 8 as a pixel of interest, . In Fig. 4, the illustration of the block showing the repetition of the processing is omitted. In the following description, the processing in the case where the pixel 71 is a target pixel and the case where the pixel 72 is a target pixel are set as a target pixel, will be described in parallel.

기준값 설정부(412)에서는, 휘도값의 대표값을 m, 휘도값의 편차를 나타내는 값을 d, 소정의 계수를 s로 하고, (m-s·d)를 하한값으로 하며, (m+s·d)를 상한값으로 하는 휘도값 범위가, 기준값 판정 범위로서 결정된다. 그리고, 도 7의 예와 같이, 주목 화소(71)의 휘도값 P1이 기준값 판정 범위 R1 내(휘도값이 상한값 또는 하한값인 경우를 포함한다.)인 경우에, 상기 주목 화소(71)의 휘도값 P1이, 후술하는 필터 처리에서 이용되는 기준값으로서 설정된다. 또, 도 8의 예와 같이, 주목 화소(72)의 휘도값 P2가 기준값 판정 범위 R2 밖인 경우에, 휘도값의 대표값 PA가 기준값으로서 설정된다(단계 S15). 도 6의 대상 영역(721)에서는, 배경 영역(82)의 면적이 패턴 영역(81)의 면적보다 충분히 크고, 또한, 상기 배경 영역(82)에 있어서 입상 요소(831)에 포함되지 않는 비입상 영역이, 입상 요소(831)에 포함되는 영역보다 충분히 크다. 따라서, 도 8 중의 휘도값의 대표값 PA는, 배경 영역(82)의 비입상 영역에 있어서의 휘도값에 근사한다. 또한, 상기 계수 s는, 입상 요소의 사이즈나 분포, 혹은, 입상 요소의 콘트라스트 등을 고려하여 적절히 결정된다(대상 영역의 사이즈 등에 있어서 동일). The reference value setting unit 412 sets the representative value of the luminance value as m, the value indicating the deviation of the luminance value as d, the predetermined coefficient as s, (ms · d) as the lower limit value, and (m + s · d ) As the upper limit value is determined as the reference value determination range. 7, when the luminance value P1 of the target pixel 71 is within the reference value determination range R1 (including the case where the luminance value is the upper limit value or the lower limit value), the luminance of the target pixel 71 The value P1 is set as a reference value used in the filter processing described later. When the luminance value P2 of the target pixel 72 is outside the reference value determination range R2 as in the example of Fig. 8, the representative value PA of the luminance value is set as the reference value (step S15). 6, the area of the background area 82 is sufficiently larger than the area of the pattern area 81 and the area of the background area 82 that is not included in the granular element 831 Area is sufficiently larger than the area included in the granular element 831. [ Therefore, the representative value PA of the luminance value in Fig. 8 approximates the luminance value in the non-granular area of the background area 82. [ The coefficient s is appropriately determined in consideration of the size and distribution of the granular elements or the contrast of the granular elements (the same in the size of the target area, etc.).

기준값 설정부(412)에서는, 또한, 주목 화소(71, 72)에 대한 복수의 대상 화소 중, 휘도값이 상기 기준값 판정 범위 R1, R2 내가 되는 대상 화소가, 추출 화소로서 특정된다(단계 S16). 바꾸어 말하면, 복수의 대상 화소 중, 휘도값이 상기 기준값 판정 범위 R1, R2 밖이 되는 대상 화소가 제외되며, 나머지의 대상 화소가 추출 화소가 된다. 도 7의 예에서는, 배경 영역(82)에 포함되는 대상 화소가 제외되고, 도 8의 예에서는, 입상 요소(831)에 포함되는 대상 화소가 제외된다. In the reference value setting section 412, among the plurality of target pixels for the target pixels 71 and 72, the target pixel whose luminance value falls within the reference value determination ranges R1 and R2 is specified as the extraction pixel (step S16) . In other words, among the plurality of target pixels, the target pixel whose luminance value is out of the reference value determination ranges R1 and R2 is excluded, and the remaining target pixels become extraction pixels. In the example of Fig. 7, the target pixel included in the background area 82 is excluded, and the target pixel included in the rising element 831 is excluded in the example of Fig.

계속해서, 필터 처리부(413)에서는, 주목 화소에 대해 소정의 필터 처리가 행해진다. 필터 처리에서는, 필터 범위 내의 복수의 화소의 휘도값에 대해 계수(가중)를 곱하고 더하는 연산이 행해진다. 여기서, 일반적인 필터 처리의 하나인 바이라테랄 필터에 대해서 설명한다. 바이라테랄 필터에서는, 필터 범위의 행방향의 사이즈를 (2fx+1), 열방향의 사이즈를 (2fy+1)로 하고, 화상에 있어서의 주목 화소의 휘도값을 i(x, y)로서 나타내는 경우에, 상기 주목 화소의 새로운 휘도값 i0(x, y)이, 소정의 계수 σd, σ를 이용하여 식 1로 구해진다. Subsequently, in the filter processing section 413, a predetermined filter process is performed on the target pixel. In the filter processing, the luminance value of a plurality of pixels in the filter range is multiplied by a coefficient (weighted) and added. Here, the bi-lateral filter, which is one of the general filter processes, will be described. In the bilateral filter, the size of the filter area in the row direction is (2fx + 1), the size in the column direction is (2fy + 1) and the luminance value of the pixel of interest in the image is i , The new luminance value i0 (x, y) of the target pixel is obtained by the equation (1) using predetermined coefficients? D and? V.

(식 1)(Equation 1)

Figure pat00001
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바이라테랄 필터에서는, (휘도값이 동등한 경우에) 필터 범위에 포함되는 각 화소와 주목 화소의 거리가 작을 수록 상기 화소의 휘도값에 대한 가중이 커지기 때문에, 주목 화소에 가까운 화소를 중심으로 한 평활화의 작용이 포함된다. 식 1 중의 계수 σd는, 바이라테랄 필터 처리에 의해 화상이 평활화되는 정도를 조정한다. 또, 바이라테랄 필터에서는, (주목 화소와의 거리가 동등한 경우에) 필터 범위에 포함되는 각 화소의 휘도값과 주목 화소의 휘도값의 차가 작을 수록 상기 화소의 휘도값에 대한 가중이 커진다. 따라서, 필터 범위에, 명암(휘도)이 상이한 2개의 영역이 존재하는 경우에, 주목 화소가 위치하는 영역과는 상이한 영역의 새로운 휘도값에 대한 영향이 저하된다. 그 결과, 상기 2개의 영역 간의 엣지가 흐려지기 어려워진다, 즉, 엣지가 보존되기 쉬워진다. 식 1 중의 계수 σ는, 바이라테랄 필터 처리에 의해 엣지가 보존되는 정도를 조정한다. In the bi-lateral filter, since the weight of the pixel increases as the distance between each pixel included in the filter range and the pixel of interest becomes smaller (when the luminance values are equal to each other) Smoothing is included. The coefficient sigma d in equation (1) adjusts the degree to which the image is smoothed by the bilateral filter processing. Further, in the bilateral filter, as the difference between the luminance value of each pixel included in the filter range and the luminance value of the remarked pixel becomes smaller (in a case where the distance from the pixel of interest is equal), the weighting on the luminance value of the pixel becomes larger. Therefore, when there are two regions having different lightness (luminance) in the filter range, the influence on the new luminance value in the region different from the region in which the target pixel is located is reduced. As a result, the edge between the two areas becomes less likely to be blurred, i.e., the edge is easily preserved. The coefficient σ v in Equation 1 adjusts the degree to which the edge is preserved by the bilateral filter processing.

화상 취득 장치(1)에 있어서의 필터 처리부(413)에서는, 바이라테랄 필터를 변형한 필터 처리가 행해진다. 구체적으로는, 식 1 중의 「i(x+k, y+l)」로 특정되는 대상 화소가 추출 화소가 아닌 k 및 l의 조합에 대해서는, 계산은 행해지지 않는다(즉, 상기 k 및 l의 조합에 있어서의 값이 0이다.). 또, 식 1에 있어서의 「i(x, y)」가 기준값으로 치환된다. 따라서, 휘도값의 대표값 PA가 기준값으로서 설정되는 도 8의 예에서는, 입상 요소(831)에 포함되는 주목 화소(72)의 새로운 휘도값을 구할 때에, 각 추출 화소의 휘도값과 기준값 PA의 차가 작을 수록 상기 추출 화소의 휘도값에 대한 가중이 커진다. 그 결과, 주목 화소(72)의 새로운 휘도값은, 패턴 영역(81)의 휘도값 및 입상 요소(831)의 휘도값보다, 휘도값의 대표값 PA에 근사한 값이 되어, 배경 영역(82)의 비입상 영역에 있어서의 휘도값에 비교적 근사한다. In the filter processing unit 413 in the image acquisition apparatus 1, a filter process is performed by modifying the bilateral filter. Specifically, no calculation is performed on the combination of k and l, except that the target pixel specified by "i (x + k, y + 1)" in Expression 1 is not an extraction pixel The value in the combination is 0). In addition, " i (x, y) " in Expression 1 is replaced with a reference value. 8, in which the representative value PA of the luminance value is set as the reference value, when calculating the new luminance value of the target pixel 72 included in the rising element 831, the luminance value of each extraction pixel and the luminance value of the reference value PA The smaller the difference is, the larger the weighting on the luminance value of the extraction pixel is. As a result, the new luminance value of the target pixel 72 becomes a value approximate to the representative value PA of the luminance value rather than the luminance value of the pattern area 81 and the luminance value of the rising element 831, Is relatively close to the luminance value in the non-image area.

한편, 도 7의 예와 같이, 주목 화소(71)의 휘도값 P1이 기준값으로서 설정되는 경우에는, 각 추출 화소의 휘도값과 주목 화소(71)의 휘도값 P1의 차가 작을 수록 상기 추출 화소의 휘도값에 대한 가중이 커진다. 따라서, 주목 화소(71)의 새로운 휘도값은, 주목 화소(71)의 원래의 휘도값에 비교적 근사한다. 이와 같이 하여, 주목 화소에 대해 복수의 추출 화소의 휘도값을 이용하는 필터 처리가 행해지며, 상기 주목 화소의 새로운 휘도값이 구해진다(단계 S17). 7, when the luminance value P1 of the target pixel 71 is set as a reference value, the smaller the difference between the luminance value of each extraction pixel and the luminance value P1 of the target pixel 71 becomes, The weighting on the luminance value becomes larger. Therefore, the new luminance value of the target pixel 71 is comparatively close to the original luminance value of the target pixel 71. [ In this manner, filter processing is performed using the luminance values of a plurality of extraction pixels for the target pixel, and a new luminance value of the target pixel is obtained (step S17).

이미 서술한 바와 같이, 실제로는, 촬상 화상(8)의 하나의 화소를 주목 화소로 하는 단계 S14~S17의 처리가, 주목 화소를 다른 화소로 변경하면서 반복된다. 그리고, 촬상 화상(8)의 모든 화소에 대해 새로운 휘도값이 구해짐으로써, 도 9에 나타내는 바와 같이, 촬상 화상(8)에 대해 상기 필터 처리를 실시한 화상(8a)(이하, 「처리 완료 화상(8a)」이라고 한다.)이 생성되며, 기억부(49)에서 처리 완료 화상 데이터(492)로서 기억된다. As described above, in actuality, the processes of steps S14 to S17, in which one pixel of the captured image 8 is the target pixel, are repeated while changing the target pixel to another pixel. As shown in Fig. 9, a new luminance value is obtained for all the pixels of the captured image 8, so that the image 8a subjected to the filter processing for the captured image 8 (hereinafter referred to as " (8a) ") is generated and stored in the storage unit 49 as the processed image data 492.

도 6의 촬상 화상(8)에 있어서, 콘트라스트가 높은 입상 요소(831)에 포함되는 주목 화소에 대한 필터 처리에서는, 휘도값의 대표값이 기준값으로서 설정되기 때문에, 입상 요소(831)의 주위의 휘도값에 비교적 근사한 값이 새로운 휘도값으로서 취득된다. 이것에 의해, 입상 요소(831)가, 도 9에 나타내는 처리 완료 화상(8a)에 있어서 거의 제거된다. 도 6의 촬상 화상(8)에 있어서 콘트라스트가 낮은 미소한 입상 요소(832, 833)는, 통상의 평활화 성분에 의해, 도 9에 나타내는 처리 완료 화상(8a)에 있어서 거의 제거된다. 처리 완료 화상(8a)은, 필요에 따라 디스플레이(35)에 표시되어도 된다. 6, since the representative value of the luminance value is set as the reference value in the filter process for the pixel of interest included in the granular element 831 having a high contrast, A value which is relatively close to the luminance value is obtained as a new luminance value. As a result, the granular element 831 is almost removed in the processed image 8a shown in Fig. In the captured image 8 of Fig. 6, the minute granular elements 832 and 833 with low contrast are almost removed by the normalized smoothing component in the processed image 8a shown in Fig. The processed image 8a may be displayed on the display 35 as necessary.

검사부(42)에는, 결함을 포함하지 않는 패턴을 나타내는 참조 화상(의 데이터)이 기억되어 있으며, 처리 완료 화상과 참조 화상을 비교함으로써, 패턴에 있어서의 결함의 유무가 판정된다(단계 S18). 처리 완료 화상에 의거하는 패턴의 검사는 참조 화상과의 비교 이외의 수법으로 행해져도 된다. 또, 패턴 영역의 엣지 간의 거리(패턴의 폭) 등의 측정이 행해지고, 측정 결과에 의거하여 패턴의 양부가 판정되어도 된다. The inspection unit 42 stores (data of) a reference image representing a pattern that does not include a defect, and compares the processed image with a reference image to determine whether or not there is a defect in the pattern (step S18). Inspection of the pattern based on the processed image may be performed by a method other than the comparison with the reference image. The measurement of the distance between the edges of the pattern area (width of the pattern) and the like may be performed, and the positive or negative of the pattern may be determined based on the measurement result.

여기서, 일반적인 바이라테랄 필터를 이용하는 비교예의 처리에 대해서 설명한다. 비교예의 처리에서는, 식 1을 이용하여 필터 처리가 행해진다. 이미 서술한 바와 같이, 식 1의 필터 처리에서는, 각 주목 화소에 대한 대상 영역에 포함되는 각 대상 화소의 휘도값과 상기 주목 화소의 휘도값의 차가 작을 수록 상기 대상 화소의 휘도값에 대한 가중이 커진다. 따라서, 도 8의 예와 같이, 입상 요소(831)에 포함되는 주목 화소(72)에 대한 새로운 휘도값은, 입상 요소(831)에 있어서의 휘도값에 근사하고, 도 10에 나타내는 바와 같이, 비교예의 처리에 의한 처리 완료 화상(99)에서는, 촬상 화상(8)에 있어서의 입상 요소(831)가 잔존한다. Here, the processing of the comparative example using a general bilateral filter will be described. In the process of the comparative example, the filter process is performed using the equation (1). As described above, in the filter process of Equation (1), as the difference between the luminance value of each target pixel included in the target area for each target pixel and the luminance value of the target pixel becomes smaller, It grows. 8, the new luminance value for the target pixel 72 included in the rising element 831 is approximated to the luminance value in the rising element 831, and as shown in Fig. 10, In the processed image 99 obtained by the processing of the comparative example, the granular elements 831 in the captured image 8 remain.

이에 반해, 화상 취득 장치(1)에서는, 각 주목 화소를 중심으로 하는 대상 영역에 있어서의 휘도값의 대표값이 취득되고, 상기 주목 화소의 휘도값이 상기 대표값을 중심으로 하여 설정되는 기준값 판정 범위 내인 경우에, 상기 주목 화소의 휘도값이 기준값으로서 설정되며, 상기 기준값 판정 범위 밖인 경우에, 상기 대표값이 기준값으로서 설정된다. 그리고, 대상 영역에 포함되는 각 대상 화소의 휘도값과 기준값의 차가 작을 수록 상기 대상 화소의 휘도값에 대한 가중이 커지는 필터 처리를 행함으로써, 주목 화소의 새로운 휘도값이 구해진다. 이것에 의해, 패턴 영역을 나타냄과 함께, 패턴 영역의 엣지보다 콘트라스트가 높은 입상 요소를 포함하는 촬상 화상에 있어서, 패턴 영역의 엣지를 보존하면서, 콘트라스트가 높은 입상 요소를 제거할 수 있다. 그 결과, 패턴의 검사(결함의 검출이나 형상의 측정을 포함한다.)를 고정밀도 또한 안정적으로 행할 수 있다. On the other hand, in the image acquisition apparatus 1, a representative value of the luminance value in the object area centered on each target pixel is acquired, and a luminance value of the target pixel is set to a reference value determination , The luminance value of the pixel of interest is set as a reference value, and when the luminance value is out of the reference value determination range, the representative value is set as a reference value. Then, a new luminance value of the pixel of interest is obtained by carrying out a filtering process in which the weight of the target pixel becomes larger as the difference between the luminance value and the reference value of each target pixel included in the target area becomes smaller. As a result, it is possible to remove the granular element having high contrast while preserving the edge of the pattern area in the picked-up image including the granular element having a higher contrast than the edge of the pattern area while displaying the pattern area. As a result, inspection of the pattern (including detection of defects and measurement of shape) can be performed with high accuracy and stability.

기준값의 설정에 이용되는 기준값 판정 범위의 폭이, 대상 영역 내의 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 편차를 나타내는 값에 의거하여 결정됨으로써, 적절한 기준값 판정 범위를 용이하게 설정할 수 있다. 또한, 상기 복수의 대상 화소 중, 휘도값이 기준값 판정 범위 밖이 되는 대상 화소의 상기 휘도값이 필터 처리에 있어서 제외됨으로써, 이상(異常)의 휘도값이 필터 처리에서 이용되는 것이 방지되어, 주목 화소의 새로운 휘도값을 적절히 구할 수 있다. The appropriate reference value determination range can be easily set by determining the width of the reference value determination range used for setting the reference value on the basis of the value indicating the deviation of the luminance value in a plurality of target pixels in the target area. In addition, among the plurality of target pixels, the luminance value of the target pixel whose luminance value is out of the reference value determination range is excluded in the filter process, so that abnormal (abnormal) luminance values are prevented from being used in the filter process, A new luminance value of the pixel can be appropriately obtained.

상기 화상 취득 장치(1)에서는 다양한 변형이 가능하다. The image capturing apparatus 1 can be modified in various ways.

대표값 취득부(411)에서 취득되는 휘도값의 대표값은, 대상 영역 내의 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 분포의 중앙 근방을 나타내는 값이면 되고, 중앙값 등의 다른 통계량이면 된다. 또, 휘도값의 대표값은, 휘도값이 기준값 판정 범위 내에 포함되는 대상 화소(추출 화소)에 있어서의 휘도값의 평균값이나 중앙값 등이어도 된다. 마찬가지로, 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 편차를 나타내는 값은, 표준 편차 이외에, 통계적 편차를 나타내는 다른 통계량이면 된다. The representative value of the luminance value acquired by the representative value acquisition unit 411 may be a value indicating a center vicinity of the distribution of the luminance values in a plurality of target pixels in the target area or may be any other statistic such as a median value. The representative value of the luminance value may be an average value or a median value of the luminance value in the target pixel (extraction pixel) in which the luminance value is within the reference value determination range. Likewise, a value indicating the deviation of the luminance value in a plurality of target pixels may be any other statistic amount showing a statistical deviation in addition to the standard deviation.

각 주목 화소에 대한 대상 영역에 있어서, 휘도값의 편차를 나타내는 값이 소정값 이상이 되는 경우에만, 식 1에 있어서의 「i(x, y)」를 기준값으로 치환한 상기 필터 처리가 행해지며, 휘도값의 편차를 나타내는 값이 소정값 미만이 되는 경우에, 일반적인 바이라테랄 필터 처리(비교예의 처리)가 행해져도 된다. 이 경우, 촬상 화상 중, 콘트라스트가 높은 입상 요소(831)를 포함하는 영역에 대해서만, 기준값을 이용하는 상기 필터 처리를 행하는 것이 가능해진다. 바꾸어 말하면, 이러한 영역 만을 나타내는 화상(촬상 화상의 일부)에 대해, 상기 필터 처리가 행해진다. The filter processing in which " i (x, y) " in Equation 1 is replaced with the reference value is performed only when the value indicating the deviation of the luminance value becomes equal to or larger than the predetermined value in the object region for each target pixel , And when the value indicating the deviation of the luminance value becomes less than the predetermined value, general bilateral filter processing (processing of the comparative example) may be performed. In this case, the filter processing using the reference value can be performed only for the region including the granular element 831 having a high contrast among the captured images. In other words, the above filter processing is performed on an image (a part of the captured image) representing only such an area.

상기 실시의 형태에서는, 기준값의 설정에 이용되는 휘도값 범위(기준값 판정 범위)의 폭이, 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 편차를 나타내는 값에 의거하여 결정되지만, 기재(9)의 종류 등에 따라서는, 기준값의 설정에 이용되는 휘도값 범위의 폭이 미리 정해져도 된다. 이와 같이, 기준값의 설정에 이용되는 휘도값 범위는, 연산에 의해 구해지는 가변의 폭, 또는, 미리 정해지는 일정한 폭으로 설정된다. 또, 필터 처리에 있어서 제외하는 대상 화소의 선택(추출 화소의 특정)에 이용되는 휘도값 범위는, 대표값을 중심으로 하여 설정되는 것이면, 기준값 판정 범위와 상이해도 된다. In the above embodiment, the width of the brightness value range (reference value determination range) used for setting the reference value is determined based on the value indicating the deviation of the brightness value in a plurality of target pixels. However, Or the like, the width of the brightness value range used for setting the reference value may be determined in advance. As described above, the luminance value range used for setting the reference value is set to a variable width determined by calculation, or a predetermined width determined in advance. The range of the luminance value used for the selection of the target pixel to be excluded (the specification of the extraction pixel) in the filtering process may be different from the reference value determination range as long as it is set around the representative value.

기준값 설정부(412)에서는, 주목 화소의 휘도값에 관계없이, 대상 영역에 있어서의 휘도값의 대표값을 기준값으로서 설정하는 것도 가능하다. 이 경우도, 각 대상 화소의 휘도값과 기준값의 차가 작을 수록 상기 대상 화소의 휘도값에 대한 가중이 커지는 필터 처리에 의해, 처리 완료 화상에 있어서, 패턴 영역의 엣지를 보존하면서, 콘트라스트가 높은 입상 요소를 제거할 수 있다. 한편, 처리 완료 화상에 있어서 엣지가 무디어지는 것을 억제하려면, 주목 화소의 휘도값이 상기 대표값을 중심으로 하여 설정되는 휘도값 범위 내인 경우에, 상기 주목 화소의 휘도값이 기준값으로서 설정되며, 상기 휘도값 범위 밖인 경우에, 상기 대표값이 기준값으로서 설정되는 것이 바람직하다. In the reference value setting unit 412, it is also possible to set a representative value of the luminance value in the target area as a reference value, regardless of the luminance value of the target pixel. In this case as well, the edge of the pattern area is preserved in the processed image by the filtering process in which the weight of the target pixel is increased as the difference between the luminance value and the reference value of each target pixel becomes smaller, Element can be removed. On the other hand, in order to suppress the edge of the processed image, the luminance value of the target pixel is set as a reference value when the luminance value of the target pixel is within the luminance value range set around the representative value, When the luminance value is out of the range, it is preferable that the representative value is set as a reference value.

상기 실시의 형태에서는, 엣지 보존형 평활화 필터의 하나인 바이라테랄 필터를 변형한 처리가 행해지지만, 필터 처리부(413)에서는, 각 대상 화소의 휘도값과 기준값의 차가 작을 수록 상기 대상 화소의 휘도값에 대한 가중이 커지는 다른 필터 처리가 행해져도 된다. 이러한 필터 처리로서, ε필터에 있어서의 주목 화소의 휘도값을 기준값으로 치환한 처리나, 일본국 특허공개 2008-205737호 공보(상기 문헌 2)에 기재된 수법에 있어서의 주목 화소의 휘도값을 기준값으로 치환한 처리를 예시할 수 있다. In the above embodiment, a modification is made to the bilateral filter which is one of the edge-preserving type smoothing filters. However, in the filter processing unit 413, as the difference between the luminance value of each target pixel and the reference value is smaller, Another filter process may be performed in which the weight is increased. As such a filter process, the process of replacing the luminance value of the target pixel in the? Filter with the reference value and the process of replacing the luminance value of the target pixel in the technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-205737 Can be exemplified.

처리 완료 화상의 용도 등에 따라서는, 각 주목 화소의 대상 영역에 포함되는 복수의 대상 화소로부터 추출 화소를 특정하는 단계 S16의 처리가 생략되며, 필터 처리부(413)에 있어서의 필터 처리에 있어서, 대상 영역에 포함되는 모든 대상 화소의 휘도값을 이용하여, 주목 화소의 새로운 휘도값이 구해져도 된다. The process of step S16 for specifying extraction pixels from a plurality of target pixels included in the target area of each target pixel is omitted depending on the use of the processed image and the like. In the filter process in the filter processing section 413, A new luminance value of the target pixel may be obtained by using the luminance values of all the target pixels included in the area.

이미 서술한 바와 같이, 내부에 포함되는 필러나 표면의 미소한 요철 등의 영향에 의해, 투명 기재를 촬상한 화상에서는, 패턴 영역의 엣지보다 콘트라스트가 높은 입상 요소가 포함되기 쉬워진다. 따라서, 화상에 있어서 패턴 영역의 엣지를 보존하면서, 콘트라스트가 높은 입상 요소를 제거하는 것이 가능한 상기 화상 처리는, 투명 기재 상에 형성된 투명 전극막을 나타내는 화상에 대한 처리로서 특별히 적합하다고 할 수 있다. 물론, 유색의 기재나 기재 이외의 대상물을 촬상하여, 패턴 영역의 엣지보다 콘트라스트가 높은 입상 요소를 포함하는 화상이 취득되는 경우에, 상기 화상 처리가 행해져도 된다. 화상 처리 장치인 화상 처리부(41)에 의한 처리는, 기재(9) 상의 패턴의 검사 이외에, 다양한 용도로 이용 가능하다. As already described, in the image obtained by imaging the transparent substrate due to the effect of the minute unevenness of the filler or the surface included therein, the granular element having higher contrast than the edge of the pattern area is likely to be included. Therefore, the image processing capable of removing the granular elements with high contrast while preserving the edge of the pattern region in the image can be said to be particularly suitable as processing for the image showing the transparent electrode film formed on the transparent substrate. Of course, the image processing may be performed when an image of an object other than a colored substrate or a substrate is picked up and an image including a granular element having a higher contrast than an edge of the pattern area is acquired. The processing by the image processing section 41 which is an image processing apparatus can be used for various purposes in addition to the inspection of the pattern on the base material 9. [

상기 실시의 형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합되어도 된다. The configurations of the embodiment and the modified examples may be appropriately combined as long as they do not contradict each other.

발명을 상세하게 묘사하여 설명했지만, 이미 서술한 설명은 예시적이며 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다고 할 수 있다. While the invention has been described and illustrated in detail, the foregoing description is illustrative and not restrictive. Therefore, many modifications and variations are possible without departing from the scope of the present invention.

1 화상 취득 장치 8 촬상 화상
8a 처리 완료 화상 9 기재
13 촬상 유닛 41 화상 처리부
71, 72 주목 화소 81 패턴 영역
91 패턴 411 대표값 취득부
412 기준값 설정부 413 필터 처리부
711, 721 대상 영역 811 엣지
831~833 입상 요소 P1, P2 (주목 화소의) 휘도값
PA 대표값 R1, R2 기준값 판정 범위
S11~S18 단계
1 image acquisition device 8 captured image
8a Processing completed image 9
13 Image pickup unit 41 Image processing unit
71, 72 attention pixel 81 pattern area
91 pattern 411 representative value acquisition unit
412 reference value setting unit 413 filter processing unit
711, 721 Target area 811 Edge
831 to 833 The rising edge components P1 and P2 (of the target pixel)
PA representative value R1, R2 reference value determination range
Steps S11 to S18

Claims (12)

화상 처리 장치로서,
패턴 영역을 나타냄과 함께, 상기 패턴 영역의 엣지보다 콘트라스트가 높은 입상(粒狀) 요소를 포함하는 화상에 있어서, 각 화소를 주목 화소로 하고, 상기 주목 화소를 중심으로 하는 소정 사이즈의 영역에 포함되는 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 대표값을 취득하는 대표값 취득부와,
상기 주목 화소의 휘도값이 상기 대표값을 중심으로 하여 설정되는 휘도값 범위 내인 경우에, 상기 주목 화소의 휘도값을 기준값으로서 설정하고, 상기 주목 화소의 휘도값이 상기 휘도값 범위 밖인 경우에 상기 대표값을 기준값으로서 설정하거나, 또는, 상기 주목 화소의 휘도값에 관계없이 상기 대표값을 기준값으로서 설정하는 기준값 설정부와,
상기 복수의 대상 화소의 휘도값을 이용함과 함께, 각 대상 화소의 휘도값과 상기 기준값의 차가 작을 수록 상기 각 대상 화소의 휘도값에 대한 가중이 커지는 필터 처리를 행함으로써 상기 주목 화소의 새로운 휘도값을 구하는 필터 처리부를 구비하는, 화상 처리 장치.
An image processing apparatus comprising:
In the image including a granular element having a higher contrast than that of the edge of the pattern area, each pixel is regarded as a remarked pixel and included in an area of a predetermined size centering on the remarked pixel A representative value acquiring unit for acquiring a representative value of a luminance value in a plurality of target pixels to be obtained,
When the luminance value of the target pixel is within the luminance value range set based on the representative value, the luminance value of the target pixel is set as a reference value, and when the luminance value of the target pixel is out of the luminance value range, A reference value setting unit that sets the representative value as a reference value or sets the representative value as a reference value regardless of the luminance value of the pixel of interest;
A filter processing is performed using the luminance values of the plurality of target pixels and increasing the weighting on the luminance values of the respective target pixels as the difference between the luminance value of each target pixel and the reference value is smaller, And a filter processing unit which obtains the image data.
청구항 1에 있어서,
상기 대표값 취득부가, 상기 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 편차를 나타내는 값을 구하고,
상기 기준값 설정부가, 상기 편차를 나타내는 값에 의거하여 상기 휘도값 범위의 폭을 결정하고, 상기 휘도값 범위를 이용하여 상기 기준값을 설정하는, 화상 처리 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the representative value acquiring section obtains a value indicating a deviation of a luminance value in the plurality of target pixels,
The reference value setting unit determines the width of the luminance value range based on the value indicating the deviation and sets the reference value using the luminance value range.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 필터 처리부가, 상기 복수의 대상 화소 중, 휘도값이 상기 대표값을 중심으로 하여 설정되는 휘도값 범위 밖이 되는 대상 화소의 상기 휘도값을 상기 필터 처리에 있어서 제외하는, 화상 처리 장치.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the filter processing unit excludes the luminance value of a target pixel whose luminance value is out of a luminance value range set around the representative value among the plurality of target pixels in the filter processing.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 필터 처리에 있어서, 상기 각 대상 화소와 상기 주목 화소의 거리가 작을수록 상기 각 대상 화소의 휘도값에 대한 가중이 커지는, 화상 처리 장치.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein in the filter processing, the weight of the luminance value of each of the target pixels increases as the distance between each of the target pixels and the target pixel becomes smaller.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 화상이, 투명 기재 상에 형성된 투명 전극막을 나타내는 화상인, 화상 처리 장치.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the image is an image representing a transparent electrode film formed on a transparent substrate.
기재 상에 형성된 박막 패턴의 화상을 취득하는 화상 취득 장치로서,
상기 기재를 촬상함으로써 촬상 화상을 취득하는 촬상 유닛과,
상기 촬상 화상에 대해 처리를 행하는 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 화상 처리 장치를 구비하는, 화상 취득 장치.
1. An image obtaining apparatus for obtaining an image of a thin film pattern formed on a substrate,
An image pickup unit for obtaining a picked-up image by picking up the substrate;
And the image processing apparatus according to claim 1 or 2, wherein the image processing apparatus performs processing on the captured image.
화상 처리 방법으로서,
a) 패턴 영역을 나타냄과 함께, 상기 패턴 영역의 엣지보다 콘트라스트가 높은 입상 요소를 포함하는 화상에 있어서, 각 화소를 주목 화소로 하고, 상기 주목 화소를 중심으로 하는 소정 사이즈의 영역에 포함되는 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 대표값을 취득하는 공정과,
b) 상기 주목 화소의 휘도값이 상기 대표값을 중심으로 하여 설정되는 휘도값 범위 내인 경우에, 상기 주목 화소의 휘도값을 기준값으로서 설정하고, 상기 주목 화소의 휘도값이 상기 휘도값 범위 밖인 경우에 상기 대표값을 기준값으로서 설정하거나, 또는, 상기 주목 화소의 휘도값에 관계없이 상기 대표값을 기준값으로서 설정하는 공정과,
c) 상기 복수의 대상 화소의 휘도값을 이용함과 함께, 각 대상 화소의 휘도값과 상기 기준값의 차가 작을 수록 상기 각 대상 화소의 휘도값에 대한 가중이 커지는 필터 처리를 행함으로써 상기 주목 화소의 새로운 휘도값을 구하는 공정을 구비하는, 화상 처리 방법.
As an image processing method,
a) a plurality of pixels included in an area of a predetermined size centering on the pixel of interest, each pixel being a pixel of interest, the image including a granular element that represents a pattern area and has a higher contrast than an edge of the pattern area; Obtaining a representative value of a luminance value in a target pixel of the pixel,
b) when the luminance value of the target pixel is within a luminance value range set around the representative value, the luminance value of the target pixel is set as a reference value, and when the luminance value of the target pixel is outside the luminance value range , Setting the representative value as a reference value or setting the representative value as a reference value regardless of the luminance value of the pixel of interest,
c) performing filter processing using the luminance values of the plurality of target pixels and increasing the weighting on the luminance value of each of the target pixels as the difference between the luminance value of each target pixel and the reference value is smaller, And obtaining a luminance value.
청구항 7에 있어서,
상기 a) 공정에 있어서, 상기 복수의 대상 화소에 있어서의 휘도값의 편차를 나타내는 값이 구해지며,
상기 b) 공정에 있어서, 상기 편차를 나타내는 값에 의거하여 상기 휘도값 범위의 폭이 결정되며, 상기 휘도값 범위를 이용하여 상기 기준값이 설정되는, 화상 처리 방법.
The method of claim 7,
In the step (a), a value indicating a deviation of a luminance value in the plurality of target pixels is obtained,
Wherein the width of the brightness value range is determined based on a value indicating the deviation in the step b), and the reference value is set using the brightness value range.
청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
상기 c) 공정에 있어서, 상기 복수의 대상 화소 중, 휘도값이 상기 대표값을 중심으로 하여 설정되는 휘도값 범위 밖이 되는 대상 화소의 상기 휘도값이 상기 필터 처리에 있어서 제외되는, 화상 처리 방법.
The method according to claim 7 or 8,
In the step c), the luminance value of a target pixel whose luminance value is out of a luminance value range set around the representative value among the plurality of target pixels is excluded in the filter processing .
청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
상기 필터 처리에 있어서, 상기 각 대상 화소와 상기 주목 화소의 거리가 작을수록 상기 각 대상 화소의 휘도값에 대한 가중이 커지는, 화상 처리 방법.
The method according to claim 7 or 8,
Wherein in the filter processing, the weight of the luminance value of each target pixel increases as the distance between each target pixel and the target pixel becomes smaller.
청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
상기 화상이, 투명 기재 상에 형성된 투명 전극막을 나타내는 화상인, 화상 처리 방법.
The method according to claim 7 or 8,
Wherein the image is an image showing a transparent electrode film formed on a transparent substrate.
기재 상에 형성된 박막 패턴의 화상을 취득하는 화상 취득 방법으로서,
상기 기재를 촬상함으로써 촬상 화상을 취득하는 공정과,
상기 촬상 화상에 대해 처리를 행하는 청구항 7 또는 청구항 8에 기재된 화상 처리 방법을 구비하는, 화상 취득 방법.
1. An image obtaining method for obtaining an image of a thin film pattern formed on a substrate,
Acquiring a captured image by capturing the base material;
And an image processing method according to claim 7 or claim 8 for processing the captured image.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230170294A (en) 2022-06-10 2023-12-19 마채준 Wheelchair-accessible Healing Agricultural Plant Box(Flowerbed)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106776877B (en) * 2016-11-28 2020-05-01 常州市星网计算机技术有限公司 Automatic identification method for motorcycle part models
JP2019036821A (en) * 2017-08-14 2019-03-07 キヤノン株式会社 Image processing system, image processing method, and program
JP7173763B2 (en) * 2018-06-20 2022-11-16 株式会社日本マイクロニクス Image generation device and image generation method
CN110645909A (en) * 2019-08-16 2020-01-03 广州瑞松北斗汽车装备有限公司 Vehicle body appearance defect detection method and detection system
KR20210152075A (en) * 2020-06-05 2021-12-15 삼성디스플레이 주식회사 Method for inspecting display substrate and display substrate inspecting apparatus for performing the same
WO2022163859A1 (en) * 2021-02-01 2022-08-04 三菱重工業株式会社 Inspection device and inspection method

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1310189C (en) * 2003-06-13 2007-04-11 金宝电子工业股份有限公司 Method for reducing image video and reinforcing edge in digital camera
JP4635651B2 (en) * 2005-03-08 2011-02-23 パナソニック株式会社 Pattern recognition apparatus and pattern recognition method
KR20070099398A (en) * 2006-04-03 2007-10-09 삼성전자주식회사 Apparatus for inspecting substrate and method of inspecting substrate using the same
JP2008205737A (en) * 2007-02-19 2008-09-04 Olympus Corp Imaging system, image processing program, and image processing method
JP5052301B2 (en) * 2007-11-21 2012-10-17 オリンパス株式会社 Image processing apparatus and image processing method
JP2009182735A (en) * 2008-01-30 2009-08-13 Kyocera Corp Noise eliminating method, image processor, and information code reader
JP5416377B2 (en) * 2008-08-28 2014-02-12 アンリツ産機システム株式会社 Image processing apparatus, X-ray foreign object detection apparatus including the same, and image processing method
JP2010052304A (en) * 2008-08-28 2010-03-11 Canon Inc Image formation device
JP5315158B2 (en) * 2008-09-12 2013-10-16 キヤノン株式会社 Image processing apparatus and image processing method
KR101590868B1 (en) * 2009-07-17 2016-02-02 삼성전자주식회사 A image processing method an image processing apparatus a digital photographing apparatus and a computer-readable storage medium for correcting skin color
CN101782530A (en) * 2010-01-29 2010-07-21 天津大学 Optical detection method for microcosmic defect expansion of film surfaces and implementing device
KR101231212B1 (en) * 2011-03-11 2013-02-07 이화여자대학교 산학협력단 Method for removing noise in image
JPWO2012153568A1 (en) * 2011-05-10 2014-07-31 オリンパスメディカルシステムズ株式会社 Medical image processing device
JP5728348B2 (en) * 2011-09-21 2015-06-03 株式会社Screenホールディングス Pattern image display device and pattern image display method
KR101376450B1 (en) * 2011-06-01 2014-03-19 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 Image Acquisition Apparatus, Pattern Inspection Apparatus, and Image Acquisition Method
JP5810778B2 (en) * 2011-09-15 2015-11-11 株式会社リコー Image processing apparatus and image processing method
KR20130031572A (en) * 2011-09-21 2013-03-29 삼성전자주식회사 Image processing method and image processing apparatus
JP2013235517A (en) * 2012-05-10 2013-11-21 Sharp Corp Image processing device, image display device, computer program and recording medium
WO2014049667A1 (en) * 2012-09-28 2014-04-03 株式会社島津製作所 Digital image processing method and imaging device
TW201826611A (en) * 2012-10-25 2018-07-16 美商應用材料股份有限公司 Diffractive optical elements and methods for patterning thin film electrochemical devices

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230170294A (en) 2022-06-10 2023-12-19 마채준 Wheelchair-accessible Healing Agricultural Plant Box(Flowerbed)

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