KR20150085479A - 디스플레이 패널 - Google Patents

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KR20150085479A
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KR1020150006339A
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추-춘 쳉
유-주 첸
아이-후아 후앙
완-산 양
춘-텡 첸
첸-쿠안 카오
쿠에이-링 리우
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이노럭스 코포레이션
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Abstract

디스플레이 패널이 제공된다. 상기 디스플레이 패널은 제 1 기판, 제 2 기판, 액정 층, 복수의 박막 트랜지스터들, 복수의 금속 와이어들, 보호 층, 제 1 배향 층, 및 복수의 응집물들을 포함한다. 상기 제 1 기판은 적어도 하나의 디스플레이 구역 및 상기 디스플레이 구역 외부에 위치된 적어도 하나의 비-디스플레이 구역을 가진다. 제 2 기판은 제 1 기판의 맞은 편에 배치된다. 액정 층은 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 배치된다. 박막 트랜지스터들 및 금속 와이어들은 제 1 기판 상에 배치되며, 보호 층은 금속 와이어들 중 적어도 일부를 덮어씌운다. 제 1 배향 층은 보호 층의 제 1 표면을 노출시키기 위해 보호 층 상에 배치된다. 상기 응집물들은 제 1 표면의 적어도 일부 상에 배치된다.

Description

디스플레이 패널{DISPLAY PANEL}
본원은 일반적으로 디스플레이 패널에 관한 것으로, 특히 우수한 디스플레이 품질을 가진 디스플레이 패널에 관한 것이다.
액정 디스플레이들은 다양한 전자 제품들, 예를 들면, 랩탑들, 태블릿 PC 기타 등등에 폭 넓게 적용되어 왔다. 게다가, 시장에서 크기가 큰 평평한 패널 디스플레이들의 급속한 진전과 함께, 무게가 가볍고 크기가 작은 액정 디스플레이들은 매우 중요한 역할을 하며, 그리고 시장에서 대세가 되기 위해 점차로 CRT 디스플레이들을 대체하고 있다.
현재, 수직 배향 액정 디스플레이 패널들은 대세 제품 중 하나이다. 그러나, 수직 배향 액정 디스플레이 패널들은 디스플레이 품질에 영향을 미치는 광 누설의 문제점을 가진다. 그러므로, 연구원들은 우수한 디스플레이 품질을 갖는 수직 배향 액정 디스플레이 패널들의 제공에 대한 연구를 해오고 있는 중이다.
본원은 디스플레이 패널에 관한 것이다. 실시예들에서, 디스플레이 패널의 비-디스플레이 영역에 대응하여 위치한 응집물들은 임의의 특정 배향 방향을 가지지 않고, 그 결과 상기 영역 내의 액정들은 임의의 특정 방향을 향하여 경사져 있지 않으며, 그리고 비-디스플레이 영역의 광 투과율 낮아지게 된다; 이에 따라서, 디스플레이 패널의 광 누설은 감소되며, 그리고 디스플레이 이미지들의 품질은 개선된다.
본원의 실시예에 따라서, 디스플레이 패널이 제공된다. 상기 디스플레이 패널은 제 1 기판, 제 2 기판, 액정 층, 복수의 박막 트랜지스터들, 복수의 금속 와이어들, 보호 층, 제 1 배향 층, 및 복수의 응집물들을 포함한다. 상기 제 1 기판은 적어도 하나의 디스플레이 구역 및 상기 디스플레이 구역 외부에 위치된 적어도 하나의 비-디스플레이 구역을 가진다. 제 2 기판은 제 1 기판의 맞은 편에 배치된다. 액정 층은 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 배치된다. 박막 트랜지스터들 및 금속 와이어들은 제 1 기판 상에 배치되며, 보호 층은 금속 와이어들 중 적어도 일부를 덮어씌운다. 제 1 배향 층은 보호 층의 제 1 표면을 노출시키기 위해 보호 층 상에 배치된다. 상기 응집물들은 제 1 표면의 적어도 일부 상에 배치된다.
본 발명의 상기의 양태 및 다른 양태는 바람직하지만 제한적이지 않은 실시예들의 다음의 상세한 설명에 대하여 양호하게 이해될 것이다. 다음의 설명은 첨부된 도면에 대하여 이루어진다.
도 1a는 본원의 실시예에 따른 디스플레이 패널의 상부도를 도시하고;
도 1b는 도 1a의 단면 라인 1B-1B'를 따라 절개한 단면도를 도시하고;
도 2는 본원의 실시예에 따른 디스플레이 패널의 간단화된 분해도를 도시하고;
도 3은 도 2에 도시된 바와 같은 비-디스플레이 영역에 위치된 금속 와이어들의 부분적인 입체도를 도시하고;
도 4는 본원의 또 다른 실시예에 따라서, 도 1a의 단면 라인 4-4'을 따라 절개한 디스플레이 패널의 단면도를 도시하고;
도 5는 본원의 또 다른 실시예에 따른 디스플레이 패널의 상부도를 도시하고;
도 6은 본원의 실시예들에 따라서 차폐 패턴들 (shielding patterns)의 구경비들과 반응성 모노머들의 농도들 간의 관계를 도시하고;
도 7은 차폐 패턴들의 구경비들 대 잔상 현상의 개략적인 도면을 도시하고;
도 8a는 본원의 실시예에 따른 차폐 패턴의 개략도를 도시하며; 그리고
도 8b는 본원의 또 다른 실시예에 따른 차폐 패턴의 개략도를 도시한다.
본원의 실시예들에 따라서, 비-디스플레이 영역에 대응하여 위치한 응집물들은 액정 층 내의 액정 분자들에게 보다 양호한 배향 기능 (예를 들면 수직 배향)을 제공하고, 그 결과 액정 분자들이 외부 힘 동작 하에 있게 될 시에 액정 분자들의 회복력은 보다 빠르고, 광 누설은 감소되며, 이에 따라 디스플레이 이미지들의 품질은 개선된다. 실시예들은 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 기술된다. 실시예들의 동일한 소자들은 동일하거나 유사한 참조 기호로 나타낸다. 또한, 주목해야 하는 바와 같이, 도면은 실시예들을 예시화하기 위해 간단해질 수 있다. 이로써, 명세서 및 도면은 제한적인 의미보다는 오히려 예시적인 의미로 간주되어야 한다. 실시예들의 상세한 설명은 본원의 권리 범위 보호를 제한하는 것이 아니라, 단지 예시를 나타낼 뿐이다. 상세한 설명은 본원의 이러한 설명의 이점을 가진 후에 기술 분야의 통상의 기술자에 의해 변경되거나 변화될 수 있다.
도 1a는 본원의 실시예에 따른 디스플레이 패널 (100)의 상부도를 도시하며, 그리고 도 1b는 도 1a의 단면 라인 1B-1B'를 따라 절개한 단면도를 도시한다. 도 1a-1b를 참조하여 보면, 디스플레이 패널 (100)은 제 1 기판 (110), 제 2 기판 (120), 액정 층 (130), 복수의 박막 트랜지스터들 (140), 복수의 금속 와이어들 (150), 적어도 하나의 보호 층 (예를 들면, 제 1 보호 층 (160) 및 제 2 보호 층 (161)), 제 1 배향 층 (170), 및 복수의 응집물들 (180)을 포함한다. 제 1 기판 (110)은 디스플레이 영역 (A)과, 그리고 상기 디스플레이 영역 (A) 외부에 위치한 비-디스플레이 영역 (B)을 적어도 가진다. 제 2 기판 (120)은 제 1 기판 (110)의 맞은 편에 배치된다. 액정 층 (130)은 제 1 기판 (110)과 제 2 기판 (120) 사이에 배치된다. 박막 트랜지스터들 (140) 및 금속 와이어들 (150)은 제 1 기판 (110) 상에 배치된다. 제 1 보호 층 (160) 및 제 2 보호 층 (161)은 금속 와이어들 (150)의 적어도 일부를 덮어씌운다. 제 1 보호 층 (160)은 제 2 보호 층 (161) 상에 배치되며, 그리고 제 1 보호 층 (160)은 박막 트랜지스터들 (140) 및 금속 와이어들 (150)을 덮는다. 제 1 배향 층 (170)은 제 1 보호 층 (160) 상에 배치되며, 그리고 제 1 배향 층 (170)은 제 1 보호 층 (160)의 제 1 표면 (160s)을 노출시키기 위해, 제 1 보호 층 (160)을 부분적으로 덮는다. 응집물들 (180)은 제 1 표면 (160s)의 적어도 일부 상에 배치된다. 또 다른 실시예에서, 제 1 보호 층 (160)은 제 2 보호 층 (161)의 부분적인 표면을 노출시키기 위해, 제 2 보호 층 (161)을 부분적으로 덮으며, 그리고 응집물들 (180)은 제 2 보호 층 (161)의 노출된 부분적인 표면 (미도시) 상에 적어도 배치된다. 추가 실시예에서, 제 1 보호 층 (160)은 제 2 보호 층 (161)의 부분적인 표면 (미도시)을 노출시키기 위해 제 2 보호 층 (161)을 부분적으로 덮으며, 그리고 응집물들 (180)은 제 1 보호 층 (160) 상에, 그리고 제 2 보호 층 (161)의 노출된 부분적인 표면 상에 배치된다.
디스플레이 영역 (A)은 이미지들을 디스플레잉하는 디스플레이 패널 (100)의 구역을 나타내며, 그리고 비-디스플레이 영역 (B)은 이미지들을 디스플레잉하지 않는 구역을 나타낸다. 실시예에서, 도 1a에 도시된 바와 같이, 비-디스플레이 영역 (B)은 디스플레이 영역 (A)을 둘러싼다. 실시예에서, 디스플레이 영역 (A)은 예를 들면, 이미지들을 디스플레잉하는 픽셀 영역 내의 구역이며, 그리고 비-디스플레이 영역 (B)은 예를 들면, 팬 아웃 구역 (fan out area)이지만, 이에 제한되지 않는다. 비-디스플레이 영역 (B)은 이미지들을 디스플레잉하지 않는 임의의 구역을 포함할 수 있다.
실시예에서, 제 1 보호 층 (160)은 박막 트랜지스터들 (140) 또는 금속 와이어들 (150) 중 적어도 하나와 직접적인 접촉을 이룬다. 도 1b에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서, 제 1 보호 층 (160)은 박막 트랜지스터들 (140) 및 금속 와이어들 (150)과 직접적인 접촉을 이룬다.
실시예에서, 제 1 보호 층 (160) 및 제 2 보호 층 (161)은 SiNx, SiOx, 및/또는 SiOxNy 등의 무기 유전체 물질을 독립적으로 포함할 수 있다. 도 1b에 도시된 바와 같이, 제 1 배향 층 (170)으로부터 노출된 제 1 보호 층 (160)의 제 1 표면 (160s)은 비-디스플레이 영역 (B)에 대응된다.
실시예에서, 비-디스플레이 영역 (B) 내의 응집물들 (180)은 임의의 특정 배열 또는 배향 방향을 가지지 않는다. 다시 말하면, 응집물들 (180)은 제 1 기판 (110) 위에서 불규칙적으로 배치된다. 디스플레이 영역 (A) 내의 응집물들 (180)은 액정들이 특정 방향 (들)을 향하여 기울어지게 안내되도록 특정 배향 방향 (들)의 기능을 가진다. 제조 공정 시에, 조사 결정화 공정들 (irradiation solidification processes)은 변화될 수 있으며, 그리고 전계는 응집물들 (180)이 위치되는 영역들에 의존하여 인가될 수 있거나 인가될 수 없다; 이에 따라서, 서로 다른 기능들을 가진 응집물들 (180)은 서로 다른 영역들에 형성될 수 있다. 그러므로, 비-디스플레이 영역 (B)에 위치된 응집물들 (180)은 액정 층 (130) 내의 액정 분자들에게 보다 양호한 수직 배향을 제공하고, 그 결과, 액정 분자들이 외부 힘 동작 하에 있게 될 시에 회복력은 보다 빠르고, 디스플레이 패널 (100)의 광 누설은 감소되며, 이에 따라 디스플레이 이미지들의 품질은 개선된다.
실시예에서, 응집물들 (180)은 액정 층 (130) 내의 액정 분자들과 직접 접촉을 이룬다. 주목해야 하는 바와 같이, 도면에서 응집물들 (180)의 크기 및 비율은 반드시 축척되어 도시될 필요가 없고, 즉 도면은 제한적인 의미보다는 오히려 실시예들을 예시하기 위한 예시적인 의미로 간주되어야 한다.
실시예에서, 응집물들 (180)을 형성하기 위한 다양한 방식들이 있을 수 있다. 예를 들어, 실시예에서, UV 경화성 모노머들 (curable monomers)은 액정 층 (130)을 형성하는 공정에서, 또는 제 1 배향 층 (170)을 형성하는 공정에서 추가될 수 있으며, 그 후, UV 조사는 제 1 기판 (110) 측면으로부터 또는 제 2 기판 (120) 측면으로부터 실행되되, 제 1 기판 (110) (즉, 제 1 배향 층 (170)으로부터 노출된 제 1 보호 층 (160)의 제 1 표면 (160s)의 적어도 일부) 상에, 또는 제 1 배향 층 (170) 상에 응집물들 (180)을 형성하기 위해 실행된다. UV 경화성 모노머들의 조사 중합법 (irradiation polymerization)으로 형성된 응집물들 (180)의 물질은 중합체이며, 그리고 반응 조건들은 서로 다른 영역들에서 서로 다를 수 있다.
실시예에서, 디스플레이 패널 (100)은 예를 들면, 나노-돌출 수직 배향 액정 디스플레이 패널이며, 그리고 제 1 배향 층 (170)의 표면 상의 응집물들 (180) 및 나노-돌출 구조체들은 동일한 모노머 미가공 물질들로 형성될 수 있다. 예를 들어, 디스플레이 영역 (A) 내의 모노머들은 배향 나노-돌출 구조체들을 형성하기 위해 연속적으로 외부 전계를 인가하여 중합되고; 그에 반면, 비-디스플레이 영역 (B) 내의 모노머들은 응집물들 (180)을 형성하기 위해 임의의 외부 전계를 인가함 없이 중합되며, 이때 상기 응집물들은 특정 경사 방향들을 지향하는 배향 기능을 가지지 않고, 불규칙적으로 배치된다. 상기와 같이, 디스플레이 영역 (A) 내의 배향 나노-돌출 구조체들은 액정 분자들이 특정 배향 방향 (들)을 가지는데 도움을 줄 수 있으며, 그리고 비-디스플레이 영역 (B)에 위치된 응집물들 (180)은 액정 층 (130) 내의 액정 분자들에게 보다 양호한 수직 배향을 제공하고, 그 결과, 액정 분자들이 외부 힘 동작 하에 있게 될 시에 액정 분자들의 회복력은 보다 빠르고, 디스플레이 패널 (100)의 광 누설은 감소되며, 이에 따라 디스플레이 이미지들의 품질은 개선된다.
상술된 배향 나노-돌출 구조체들 및 응집물들 (180)은 다양한 제조 방법들에 의해 형성될 수 있다. 예를 들어, 전극은 패턴화될 수 있고, 그 결과 패턴화된 전극은 비-디스플레이 영역 (B)에 대응하는 기판의 구역 상에 위치되지 않으며, 이로써, 비-디스플레이 영역 (B) 내의 모노머들은 전계에 의해 영향을 받지 않는다. 대안적으로, 패턴화된 마스크는 비-디스플레이 영역 (B)을 덮기 위해 사용될 수 있는 반면, UV 조사는, 연속적으로 전계를 인가하여 실행되며, 그리고 전계가 제거된 후에, UV 조사에 의한 비-디스플레이 영역 (B) 내의 모노머들의 중합법이 실행된다.
도 1b에 도시된 바와 같이, 실시예에서, 디스플레이 패널 (100)은 복수의 포토 스페이서들 (photo spacers) (291)을 더 포함할 수 있다. 포토 스페이서들 (291)은 갭을 제공하여 액정 층 (130)을 배치시키기 위해, 제 1 기판 (110)과 제 2 기판 (120) 사이에 배치된다. 서로 다른 포토 스페이서들 (291)은, 패널이 압축될 시에 버퍼를 제공하기 위해 서로 다른 높이를 가질 수 있다.
실시예에서, 도 1b에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널 (100)은 제 1 기판 (110)의 적어도 일부 상에 형성된 전극 층 (190)을 포함할 수 있다. 전극 층 (190)은 예를 들면 패턴화된 전극 층이다. 도 1b에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널 (100)은 제 2 기판 (120) 상에 배치된 또 다른 전극 층 (290)을 더 포함할 수 있다. 게다가, 디스플레이 패널 (100)은 전극 층 (290) 상에 배치된 제 2 배향 층 (270)을 더 포함할 수 있으며, 그리고 전극 층 (290)의 제 2 표면 (290s)은 제 2 배향 층 (270)으로부터 노출된다. 응집물들 (180)은 제 2 표면 (290s), 즉, 전극 층 (290)의 노출된 제 2 표면 (290s)의 적어도 일부 상에 더 배치될 수 있다. 실시예에서, 제 2 기판 (120) 상의 전극 층 (290)은 패턴화된 광-투과 전극 층 또는 완전히 평평한 광-투과 전극 층일 수 있으며, 그리고 전극 층의 물질은 ITO 또는 IZO일 수 있다.
실시예에서, 제 1 배향 층 (170) 및 제 2 배향 층 (270)은 예를 들어, 폴리이미드 (PI) 막들일 수 있다.
실시예에서, 도 1b에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널 (100)은 밀봉부 (seal) (295)를 더 포함할 수 있다. 밀봉부 (295)는 제 1 기판 (110)과 제 2 기판 (120) 사이에서 배치되며, 그리고 비-디스플레이 영역 (B)의 주변 구역에 위치된다.
도 1a-1b에 도시된 바와 같이, 실시예에서, 제 1 배향 층 (170)은 밀봉부 (295) 내의 영역을 완전하게 덮지 않는다. 제 1 배향 층 (170)이 제 1 기판 (110)을 완전하게 덮고, 전체 밀봉부 (295)가 밀봉부 (295)와 제 1 배향 층 (170) 사이에 형편없는 접착으로 인해 제 1 배향 층 (170)에 고정되는 경우와 비교하면, 층들의 필링들(peelings)은 손쉽게 일어날 수 있다. 본원의 실시예들에 따르면, 밀봉부 (295)의 적어도 일부가 제 1 기판 (110) 상에 보다 강한 접착력을 가진 물질로 고정될 수 있도록, 제 1 배향 층 (170)이 제 1 기판 (110) 위에서 부분적으로 가로놓여있기 때문에, 예를 들면, 디스플레이 패널 (110)의 층들의 필링들은 감소될 수 있다.
상기와 같은 상황 하에서, 응집물들 (180)은 또한 제 1 배향 층 (170)으로부터 노출된 제 1 보호 층 (160)의 제 1 표면 (160s) 상에 위치된다. 비-디스플레이 영역 (B)에 위치된 응집물들 (180)은 액정 층 (130) 내의 액정 분자들에게 보다 양호한 수직 배향을 제공하고, 그 결과, 액정 분자들이 외부 힘 동작 하에 있게 될 시에 회복력은 보다 빠르고, 디스플레이 패널 (100)의 광 누설은 감소되며, 이에 따라 디스플레이 이미지들의 품질은 개선된다.
실시예에서, 도 1b에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널 (100)은 제 1 기판 (110) 상에 배치된 컬러 필터 층 (color filter layer) (297)을 더 포함할 수 있다. 대안적인 실시예에서, 컬러 필터 층은 또한 제 2 기판 (120) 상에 배치될 수 있다 (미도시).
도 2는 본원의 실시예에 따른 디스플레이 패널 (100)의 간단화된 분해도를 도시한다. 주목해야 하는 바와 같이, 도 2의 일부 소자들은 실시예들을 예시하기 위해 생략되거나 간단화될 수 있으며, 그리고 도면에서 소자들의 크기 및 비율은 반드시 축척되어 도시될 필요가 없고, 즉 도면은 제한적인 의미보다는 오히려 실시예들을 예시하기 위한 예시적인 의미로 간주되어야 한다. 본 실시예에서, 밀봉부 (295)는 기판들 (110/120)의 측면들에 인접해 (또는 상기 측면들과 배향되어) 위치된다. 또 다른 실시예에서, 밀봉부 (295)는 기판들 (110/120)의 측면들에 반드시 인접할 필요는 없다. 대안적으로, 밀봉부 (295)는 기판 (110)의 3 개의 측면들에 단지 인접해 위치될 수 있으며, 그리고 기판 (110)의 마지막 하나의 측면에 인접해 위치하지 않을 수 있다.
실시예에서, 디스플레이 패널 (100)은 적어도 하나의 데이터 라인 (DL) 및 적어도 하나의 스캔 라인 (SL)을 더 포함할 수 있다. 디스플레이 영역 (A)은 복수의 픽셀들 (P)을 가진다. 데이터 라인들 (DL) 및 스캔 라인 (SL)은 픽셀 구역들 (P)을 정의하기 위해 교차한다. 복수의 금속 와이어들 (ML)은 비-디스플레이 영역 (B)에 더 배치되고, 금속 와이어들 (ML) 및 스캔 라인들 (SL) 중 일부는 동일한 금속 층에 속하거나 동일한 제조 공정에서 형성되며, 그리고 금속 와이어들 (ML) 및 데이터 라인들 (DL) 중 일부는 동일한 금속 층에 속하거나 동일한 제조 공정에서 형성된다. 도 1b 및 2를 참조하여 보면, 금속 와이어들 (ML) 일부는 제 2 보호 층 (161) 아래에 배치될 수 있으며, 그리고 금속 와이어들 (ML) 일부는 제 1 보호 층 (160) 아래에 배치될 수 있다. 그러나, 금속 와이어들 (ML)의 배치는 설계 필요성에 의존하여, 도 1b-2에 도시된 바와 같은 배치들과는 다를 수 있다.
도 1b 및 2를 참조하여 보면, 디스플레이 패널 (100)은 광 차폐 층 (293)을 더 포함할 수 있다. 실시예에서, 광 차폐 층 (293)은 예를 들면, 블랙 매트릭스 (black matrix, BM)이고, 제 2 기판 (120) 상에 배치된다. 실시예에서, 패널 (299) 상의 구동기는 비-디스플레이 영역 (B)에 더 배치될 수 있으며, 그리고 패널 (299) 상의 구동기는 GOP (gate on panel) 또는 데이터 구동기 회로일 수 있다. GOP 또는 데이터 구동기 회로는 동시에 또는 개별적으로 패널 상에 배치될 수 있다. 도면에서, GOP의 한 세트만 도시된다. 그러나, 하나를 초과한 GOP 또는 데이터 구동기 역시 설계 필요성에 의존하여 배치될 수 있다.
도 3은 도 2에 도시된 바와 같은 비-디스플레이 영역 (B)에 위치된 금속 와이어들 (ML)의 부분적인 입체도를 도시하다.
실시예에서, 도 3에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널 (100)은 복수의 나노그루브들 (nanogrooves) (310)을 더 가질 수 있다. 나노그루브들 (310)은 비-디스플레이 영역 (B)에서 금속 와이어들 (ML) 중 적어도 하나의 측면 상에 배치된다. 도 3에 도시된 바와 같이, 나노그루브들 (310)은 금속 와이어들 (ML)의 적어도 하나의 경사진 표면 상에 배치된다. 실시예에서, 나노그루브들 (310)은 또한 비-디스플레이 영역 (B)에서, 하나의 금속 와이어 (ML)의 2 개의 측면들의 경사진 표면들 상에 형성될 수 있다. 실시예에서, 나노그루브들 (310)은 비-디스플레이 영역 (B)에서 배향 층을 가진 영역과, 그리고 배향 층을 가지지 않은 영역에 더 형성될 수 있다. 실시예에서, 도 3에 도시된 바와 같이, 나노그루브들 (310)의 뻗어나가는 방향 (D1)은 금속 와이어들 (ML)의 뻗어나가는 방향 (D2)과 교차하여, 각도를 형성한다. 실시예에서, 상기 각도는 약 90˚이다.
일반적으로, 비-디스플레이 영역 (B)에서 금속 와이어들 (ML)은 손쉽게 광을 반사할 수 있다. 본원의 실시예들에 따라서, 금속 와이어들 (ML)의 측면 상에, 특히 금속 와이어들 (ML)의 경사진 표면 상에 위치된 나노그루브들 (310)은 금속 와이어들 (ML)에 의해 광의 반사를 줄일 수 있으며, 그리고 상기 영역의 밝기는 더 감소될 수 있어, 우수한 어둠 영역 (디스플리네이션 영역, disclination region)을 형성한다. 게다가, 광 누설의 감소가 개선될 수 있다. 다른 실시예들에서, 금속 와이어들 (ML)에는 서로 다른 타입의 배치들이 구비될 수 있으며, 그리고 라인 형상들을 한 금속 와이어들에 제한되지 않는다.
실시예에서, 도 3에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널 (100)은 복수의 서브미크론 돌출부들 (320)을 더 포함할 수 있다. 서브미크론 돌출부들 (320)은 비-디스플레이 영역 (B)에 배치된다. 서브미크론 돌출부들 (320)은 금속 와이어들 (ML) 중 적어도 하나의 뻗어나가는 방향 (D2)을 따라 배열된다. 다시 말하면, 서브미크론 돌출부들 (320)은 금속 와이어들 (ML)의 뻗어나가는 방향 (D2)을 따라 성장한다. 실시예에서, 서브미크론 돌출부들 (320)은 금속 와이어들 (ML)의 에지와 평행하여 배열될 수 있다. 또 다른 실시예에서, 서브미크론 돌출부들 (320) 역시 금속 와이어들 (ML)의 경사진 표면 상에 형성될 수 있다. 서브미크론 돌출부들 (320)은 약 1 ㎛ 미만의 크기를 가진다. 실시예에서, 서브미크론 돌출부들 (320)은 비-디스플레이 영역 (B)에서 배향 층이 없는 구역에 위치되며, 그리고 서브미크론 돌출부들 (320)은 제 1 보호 층 (160)의 제 1 표면 (160s) 상의 노출된 구역에 위치될 수 있다.
비-디스플레이 영역 (B)에서, 특히, 임의의 배향 층 없는 구역에서, 서브미크론 돌출부들 (320)은 금속 와이어들 (ML)의 뻗어나가는 방향 (D2)을 따라 배치되고, 그 결과 금속 와이어들 (ML)의 에지는 덜 매끄럽고 직선적이고, 금속 와이어들 (ML)에 의한 광 반사를 낮게 한다. 이에 따라서, 영역 밝기는 감소될 수 있어, 우수한 어둠 영역 (디스플리네이션 영역)을 형성하며, 그리고 광 누설의 감소가 개선될 수 있다.
도 4는 본원의 또 다른 실시예에 따라서, 도 1a의 단면 라인 4-4'을 따라 절개한 디스플레이 패널의 단면도를 도시한다. 실시예에서, 도 4에 도시된 바와 같이, 광 차폐 층 (293)은 제 2 기판 (120) 상에 배치되며, 그리고 광 차폐 층 (293)의 적어도 일부는 비-디스플레이 영역 (B)에 대응된다. 광 차폐 층 (293)은 광 투과부 (293a) 및 광 차폐부 (293b)를 가지며, 그리고 응집물들은 광 투과부 (293a)에 대응하는 곳에서, 그리고 광 차폐부 (293b)에 대응하는 곳에서 형성된다. 광 차폐 층 (293)의 광 투과부 (293a)는 응집물들 (180)의 UV 조사 결정화 반응이 보다 완벽하게 이루어지도록 사용된다. 실시예에서, 응집물들은 제 1 기판 (110) 상에서 형성되며, 그리고 응집물들은 제 2 기판 (120) 상에서 더 형성될 수 있다; 이에 따라서, 제 1 기판 (110) 상의 표면 거칠기 및 제 2 기판 (120) 상의 표면 거칠기는 응집물들로부터 발생된다. 서로 다른 거칠기들에 대응하는 형태들은 액정들의 경사에 서로 다른 영향을 미치며, 그리고 거칠기가 큰 형태는 액정들에 보다 큰 영향을 미친다. 거칠기가 액정들의 경사에 영향을 미치는 방식 및 작동하는 방법에 대해서, 이는 동작 전압에 의해 영향을 받는 영역들의 범위뿐만 아니라, 서로 다른 영역들 내의 응집물들의 서로 다른 특성들에 의존한다. 높거나 낮은 거칠기는 그레이 톤 마스크 (gray tone mask)에 의해, 또는 마스크와 함께 디스플레이 영역 (A) 및 비-디스플레이 영역 (B) 각각의 조사 레벨 및 지속 시간을 조정함으로써, 제어될 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 실시예에서, 제 1 표면 거칠기는 광 투과부 (293a)에 대응하는 응집물들 (180a)로부터 발생되며, 그리고 제 2 표면 거칠기는 광 차폐부 (293b)에 대응하는 응집물들 (180c)로부터 발생된다. 제 1 표면 거칠기는 제 2 표면 거칠기보다 크다. 실시예에서, 제 1 표면 거칠기 및 제 2 표면 거칠기는 제 1 기판 (110) 상의 표면 거칠기 및 제 2 기판 (120) 상의 표면 거칠기를 나타낼 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 제 3 표면 거칠기는 디스플레이 영역 (A)에 대응하는 응집물들 (180b)로부터 발생된다. 실시예에서, 제 1 표면 거칠기는 제 3 표면 거칠기보다 크며, 그리고 제 3 표면 거칠기는 제 2 표면 거칠기보다 크다. 실시예에서, 제 1 표면 거칠기, 제 2 표면 거칠기, 및 제 3 표면 거칠기는 제 2 기판 (120) 상의 표면 거칠기를 나타낼 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 제 4 표면 거칠기는 밀봉부 (295)에 대응하여 인접하게 위치된 응집물들 (180d)로부터 발생된다. 제 4 표면 거칠기는 제 3 표면 거칠기보다 크다. 실시예에서, 제 3 표면 거칠기 및 제 4 표면 거칠기는 제 1 기판 (110) 상의 표면 거칠기를 나타낼 수 있다.
상술된 실시예들에서, 제 1 표면 거칠기, 제 2 표면 거칠기, 제 3 표면 거칠기, 및 제 4 표면 거칠기는 RMS (rough-mean-square) 거칠기, 평균 거칠기, 또는 최대 거칠기 중 적어도 하나일 수 있다. 실시예에서, 제 1 표면 거칠기, 제 2 표면 거칠기, 제 3 표면 거칠기, 및 제 4 표면 거칠기는 평균 거칠기로 나타낼 수 있다.
추가적인 예시에는 다음의 실시예들이 제공된다. 다음은 본원의 실시예들에 따른 디스플레이 패널 (100)의 속성들을 예시하기 위해 디스플레이 패널 (100)의 여러 개의 서로 다른 영역들로부터 측정된 거칠기의 결과들이다. 그러나, 다음의 실시예들은 본 발명의 권리 범위의 보호를 제한하지 않고, 단지 상세한 설명의 목적만을 위할 뿐이다. 영역들의 거칠기의 측정된 결과들은 표 1에 도시되고, 측정된 거칠기들은 RMS 거칠기 (Rq), 평균 거칠기 (Ra), 및 최대 거칠기 (Rmax)를 포함한다. 표 1에 도시된 바와 같은 값들은 샘플들 각각의 5*5 미크론제곱미터 (㎛2)의 선택 구역 내에서 AFM (VEECO Dimension-icon)에 의해 측정된다.
광 투과부 (293a)
(제 1 표면 거칠기)		 광 차폐부 (293b)
(제 2 표면 거칠기)		 디스플레이 영역 (A)
(제 3 표면 거칠기)
RMS 거칠기 Rq (nm) 27.3 18.7 20.6
평균 거칠기 Ra (nm) 20.7 14.1 15.8
최대 거칠기 Rmax (nm) 270 168 172
표 1에 제시된 바와 같이, 광 투과부 (293a)에 대응하는 응집물들로부터 발생된 평균 거칠기 (Ra=20.7 nm)는 광 차폐부 (293b)에 대응하는 응집물들로부터 발생된 평균 거칠기 (Ra=14.1 nm)보다 크다. 게다가, 디스플레이 영역 (A)에 대응하는 응집물들로부터 발생된 평균 거칠기 (Ra=15.8 nm)는 광 차폐부 (293b)에 대응하는 응집물들로부터 발생된 평균 거칠기 (Ra=14.1 nm)보다 크다. 다시 말하면, 광 투과부 (293a)의 평균 거칠기 (제 1 평균 거칠기)가 가장 크고, 그 다음에 디스플레이 영역 (A)의 평균 거칠기 (제 3 평균 거칠기)가 크며, 그리고 광 차폐부 (293b)의 평균 거칠기 (제 2 평균 거칠기)는 상술된 2 개의 영역들의 평균 거칠기보다 낮다.
이와 더불어, 비-디스플레이 영역 (B)의 광 투과부 (293a)에 대응하는 응집물들로부터 발생된 RMS 거칠기 (Rq=27.3 nm) 및 최대 거칠기 (Rmax=270 nm)는 비-디스플레이 영역 (B)의 광 차폐부 (293b)에 대응하는 응집물들로부터 발생된 RMS 거칠기 (Rq=18.7 nm) 및 최대 거칠기 (Rmax=168 nm) 각각보다 크다. 게다가, 디스플레이 영역 (A)에 대응되는 응집물들로부터 발생된 RMS 거칠기 (Rq=20.6 nm) 및 최대 거칠기 (Rmax=172 nm)는 광 차폐부 (293b)에 대응되는 응집물들로부터 발생된 RMS 거칠기 (Rq=18.7 nm) 및 최대 거칠기 (Rmax=168 nm) 각각보다 크다. 그러므로, 픽셀 동작 전압에 의해 인가된 디스플레이 영역 (A)과는 다르게, 비-디스플레이 영역 (B)에서, 광 투과부 (293a)의 응집물들로부터 형성된 거칠기 형태는 액정들에 대한 영향을 증가시킬 수 있고, 그 결과 비-디스플레이 영역 (B)에 위치된 응집물들 (180)은 액정 층 (130) 내의 액정 분자들에게 보다 양호한 수직 배향 기능을 제공하고, 이로 인해, 액정 분자들이 외부 힘 동작 하에 있게 될 시에 회복력은 보다 빠르고, 디스플레이 패널 (100)의 광 누설은 감소되며, 이에 따라 디스플레이 이미지들의 품질은 개선된다. 다른 한편으로는, 광이 광 차폐부 (293b)에서 차폐되기 때문에, 광 차폐부 (293b)의 응집물들로부터 형성된 거칠기 형태는 광 투과부 (293a)의 거칠기 형태보다 작다. 이와 더불어, 픽셀 동작 전압이 디스플레이 모드에서 디스플레이 영역 (A)에 인가되기 때문에, 디스플레이 영역 (A)의 거칠기는 비-디스플레이 영역 (B)의 광 투과부 (293a)의 거칠기보다 작다. 이에 따라서, 거칠기 (제 1 RMS 거칠기, 제 1 최대 거칠기)가 가장 크고, 디스플레이 영역 (A)의 거칠기 (제 3 RMS 거칠기, 제 3 최대 거칠기)가 두 번째로 크며, 그리고 광 차폐부 (293b)의 거칠기가 상술된 2 개의 영역들의 거칠기보다 작다. 밀봉부 (295)에 인접한 제 4 표면 거칠기에 관해서, 밀봉부 (295)가 결정화될 시에 광 조사의 각도가 조정될 수 있기 때문에, 제 4 표면 거칠기를 나타내는 표면은 보다 많은 광 조사에 의해 영향을 받을 수 있으며, 그리고 제 4 표면 거칠기를 나타내는 표면의 광 조사의 지속 시간은 다른 영역들의 지속 시간보다 길다; 그 결과, 제 4 표면 거칠기는 다른 표면들의 거칠기보다 크다.
도 5는 본원의 또 다른 실시예에 따른 디스플레이 패널 (200)의 상부도를 도시한다. 도 5에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널 (200)는 제 1 기판 (110), 제 2 기판 (120), 액정 층 (미도시), 차폐 패턴 (C), 및 적어도 하나의 반응성 모노머를 포함한다. 반응성 모노머는 액정 층에 추가된 물질을 의미하고, 이때 상기 물질은 특정 관능기 (들), 즉 아클릴레이트계 (acrylate group)를 가지며, 그리고 중합체 구조를 형성하기 위해 특정 파장 범위들의 광을 가진 조사 하에 중합법 반응을 받는다. 제 1 기판 (110)은 적어도 하나의 디스플레이 영역 (A)과, 그리고 상기 디스플레이 영역 (A) 외부에 위치한 적어도 하나의 비-디스플레이 영역 (B)을 가진다. 제 2 기판 (120)은 제 1 기판 (110)의 맞은 편에 배치된다. 액정 층은 제 1 기판 (110)과 제 2 기판 (120) 사이에 배치되며, 그리고 반응성 모노머는 액정 층에 적어도 혼합된다. 차폐 패턴 (C)은 제 1 기판 (110) 또는 제 2 기판 (120) 상에 배치되어, 비-디스플레이 영역 (B) 및 상기 비-디스플레이 영역 (B)에 인접한 디스플레이 영역 (A)의 여백부 (margin portion) (A1)에 대응할 수 있다. 즉, 차폐 패턴 (C)은 비-디스플레이 영역 (B) 및 디스플레이 영역 (A)에서 위치되며, 그리고 밀봉부 (295)의 내부 에지로부터 비-디스플레이 영역 (B) 및 디스플레이 영역 (A)으로 뻗어나가는 반면, 밀봉부 (295) 상에 위치되거나 상기 밀봉부와 겹쳐지거나, 또는 밀봉부 (295)의 외부 에지 밖에 위치된 차폐 패턴 (미도시)은 본원에 기술된 차폐 패턴 (C)으로 간주되지 않는다. 차폐 패턴 (C)에 대응하는 제 1 영역 내에서, 제 1 영역의 구경비 (aperture ratio)는 X%이고, 반응성 모노머는 Y ppm의 농도를 가지며, 그리고 X 및 Y는 다음 공식을 만족시킨다: 2847.7e-3.6375X> Y > 1774.1e-8.9014X. 실시예에서, 제 1 영역은 차폐 패턴 (C)에 의해 덮여진다. 실시예에서, 제 1 영역의 구경비는 X%이고, 제 1 영역에 대응하는 반응성 모노머는 Y ppm의 농도를 가지며, 그리고 X 및 Y는 다음 공식을 만족시킨다: 2847.7e-3.6375X> Y > 1774.1e-8.9014X. 구경비는, 총 영역의 구역에 대한, 광이 통과할 수 있는 유효 영역의 구역의 비율을 의미한다.
도 6은 본원의 실시예들에 따라서 차폐 패턴들의 구경비들 (X)과 상기 차폐 패턴들 (C)에 대응하는 반응성 모노머들의 농도들 (Y) 간의 관계를 도시한다. 실시예들에서, 반응성 모노머들의 농도들은 잔류 반응성 모노머들의 양들을 의미하며, 그리고 구경비들은 광 투과를 나타낸다. 도 6에서, 곡선들 (I, II, III, IV, V, 및 VI)은 차폐 패턴들의 구경비들 (X)과 반응성 모노머들의 농도들 (Y) 간의 관계를 나타내고, 이때 조사 지속 시간 각각은 30 분, 60 분, 90 분, 120 분, 150 분, 및 180 분이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 서로 다른 구경비들은 잔류 반응성 모노머들의 서로 다른 양들을 야기시킬 수 있다. 반응 시간이 길수록, 잔류 반응성 모노머들의 양은 줄어들게 된다. 반면, 잔류 반응성 모노머들의 양이 높으면, 디스플레이 패널들의 잔상 현상 (image sticking phenomenon)은 심각해질 수 있으며, 그리고 디스플레이 이미지들의 품질도 형편없게 될 수 있다.
도 7은 차폐 패턴들의 구경비들 대 디스플레이 패널의 잔상 현상의 개략적인 도면을 도시한다. 도 7에서, 체크 패턴들은 테스트 이미지로서 사용되고, 체크 패턴들은 일정 기간 동안 연속적으로 보이고, 그 후에 상기 체크 패턴들의 이미지들은 잔상 현상을 비교하기 위해, 동일한 그레이 레벨에서 설정된다. 우선, 도 7의 영역들 (701)은 차폐 막들 (900)로 고정되며, 그리고 체크 패턴들은 디스플레잉되고, 차폐 막들 (900)은 반응성 모노머들의 중합법을 위해, 파장 범위 (200-400 nm)를 가진 광에 의한 조사를 차폐시키기 위해 사용될 수 있다. 테스트의 일정 기간 이후에, 이미지들은 동일한 그레이 레벨로 설정되며, 그리고 차폐 막들 (900)은 상기 영역들 중 일부로부터 제거되어, 영역들 (701a)에 의해 도시된 바와 같은 패턴을 초래한다. 영역 (701)의 구경비가 0이기 때문에, 영역 (701) 내의 반응성 모노머들은 중합체 구조를 형성하는 모노머들과 반응할 수 있는 파장 범위를 가진 임의의 광을 흡수할 수 없고, 그 결과 대량의 잔류 반응성 모노머들은 그 영역에서 매우 심각한 잔상 현상을 일으킬 수 있다. 영역 (701)의 구경비가 0이고, 영역 (703)의 구경비가 영역 (701)의 구경비보다 높은 반면, 영역들 (701 및 703) 간의 경계선에 위치된 영역 (702)은 영역 (703)의 구경비와 같은 구경비를 가진다. 도 7에 도시된 바와 같이, 명백한 바와 같이, 0의 구경비를 가진 영역 (701)의 잔상은 매우 심각하고, 이와 달리 보다 높은 구경비를 가진 영역 (703)의 잔상은 덜 심각하다. 게다가, 영역 (702)이 영역 (703)의 구경비와 같은 구경비를 가짐에도 불구하고, 영역 (702)의 잔상은 영역 (701)으로부터 영역 (702)으로 확산하는 비-반응 반응성 모너머들로 인해, 영역 (703)의 잔상보다 심각하다.
실시예에서, 비-반응 반응성 모노머들이 400 ppm 미만 그리고 0 ppm 초과 (0<Y<400)의 농도를 가지고, 차폐 패턴의 구경비가 10% 초과 그리고 100% 미만 (10≤X<100)인 반면, 디스플레이 패널 (200)에는 약한 잔상이 제공되며, 이에 따라 디스플레이 이미지의 보다 양호한 품질을 가진다.
실시예에서, 도 5에 도시된 바와 같이, 디스플레이 패널 (200)이 큰 크기를 가진 디스플레이 패널인 반면, 차폐 패턴 (C)에 의해 덮인 영역은 비-디스플레이 영역 (B)의 여백부 (B1)로부터 디스플레이 영역 (A)의 적어도 일부까지 뻗어나간다. 여백부 (B1)는 밀봉부 (295)에 인접해 위치한다. 차폐 패턴 (C)은 비-디스플레이 영역 (B)의 폭 (W1)의 10-15 배의 거리 (W2)까지 뻗어나간다.
실시예에서, 디스플레이 패널 (200)이 작은 크기를 디스플레이 패널인 반면, 차폐 패턴 (C)에 의해 덮인 영역은 비-디스플레이 영역 (B)의 여백부 (B1)로부터 (즉, 밀봉부 (295)의 내부 에지로부터) 디스플레이 영역 (A)의 적어도 일부까지 뻗어나가며, 그리고 차폐 패턴 (C)은 약 3 cm의 거리 (W2)까지 뻗어나간다. 대안적으로, 차폐 패턴 (C)에 의해 덮인 영역은 비-디스플레이 영역 (B)의 2 개의 맞은 측면들의 2 개의 주변부들 (B1)로부터 디스플레이 영역 (A)으로 뻗어나가며, 그리고 차폐 패턴 (C)은 두 거리 (W2)의 합인 약 6 cm의 총거리까지 뻗어가간다. 실시예에서, 디스플레이 패널 (200)이 작은 크기를 가진 디스플레이 패널, 예를 들면 셀 폰 디스플레이 패널인 반면, 차폐 패턴 (C)은 비-디스플레이 영역 (B) 및 디스플레이 영역 (A)을 완전하게 덮을 수 있다.
도 8a는 본원의 실시예에 따른 차폐 패턴 (801)의 개략도를 도시하며, 그리고 도 8b는 본원의 또 다른 실시예에 따른 차폐 패턴 (803)의 개략도를 도시한다. 실시예에서, 차폐 패턴은 복수의 금속 와이어들, 광 차폐 층, 또는 이들의 조합물을 포함할 수 있다. 도 8a에 도시된 바와 같이, 차폐 패턴 (801)은 예를 들면, 복수의 금속 와이어들을 포함하며, 그리고 도 8b에 도시된 바와 같이, 차폐 패턴 (803)은 예를 들면, 차폐 층을 포함한다.
도 8a에 도시된 바와 같이, 디스플레이 영역 (A)의 여백부에 위치된 차폐 패턴 (801)의 금속 와이어들 (M)은 예를 들면, 50 ㎛ 미만의 라인 폭 (W3)을 가진다. 디스플레이 영역 (A)의 여백부는 비-디스플레이 영역 (B)에 인접해 위치한다.
도 8b에 도시된 바와 같이, 차폐 패턴 (803)은 예를 들면, 약 100 ㎛의 크기 (D2)의 복수의 개구부들 (803a)을 가진 차폐 층이다.
본 발명이 예시에 의해 그리고 바람직한 실시예들에 대해 기술되었지만, 이해할 수 있는 바와 같이, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 이와 달리, 다양한 변형 및 이와 유사한 배치 및 절차를 포함하는 것으로 의도할 수 있고, 이에 따라 첨부된 청구항의 권리 범위는 상기와 같은 모든 변형 및 이와 유사한 배치 및 절차를 포함하기 위해 가장 폭 넓은 해석에 따라야 한다.

Claims (20)

  1. 디스플레이 영역과, 그리고 상기 디스플레이 영역 외부에 위치한 비-디스플레이 영역을 가진 제 1 기판;
    제 2 기판;
    상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 배치된 액정 층;
    상기 제 1 기판 상에 배치된 복수의 박막 트랜지스터들;
    상기 제 1 기판 상에 배치된 복수의 금속 와이어들;
    상기 금속 와이어들의 적어도 일부를 덮어씌우는 보호 층;
    상기 보호 층 상에 배치되고, 상기 보호 층의 제 1 표면이 노출된 제 1 배향 층; 및
    상기 제 1 표면의 적어도 일부 상에 배치된 복수의 응집물들;을 포함하는 디스플레이 패널.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 보호 층은 상기 박막 트랜지스터들 또는 금속 와이어들 중 적어도 하나와 직접적인 접촉을 이루는 디스플레이 패널.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 보호 층은 무기 유전체 물질을 포함하는 디스플레이 패널.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 제 1 표면은 상기 비-디스플레이 영역에 대응하는 디스플레이 패널.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 갭을 제공하여 상기 액정 층을 배치시키기 위해, 상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 배치된 복수의 포토 스페이서들 (photo spacers)을 더 포함하는 디스플레이 패널.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은:
    상기 제 2 기판 상에 배치된 전극 층; 및
    상기 전극 층의 제 2 표면이 노출되기 위해, 상기 전극 층 상에 배치된 제 2 배향 층;을 더 포함하며,
    상기 응집물들은 상기 제 2 표면의 적어도 일부 상에 더 배치되는 디스플레이 패널.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 상기 비-디스플레이 영역에서 상기 금속 와이어들 중 적어도 하나의 측면 상에 배치된 복수의 나노그루브들을 더 가지는 디스플레이 패널.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 나노그루브들은 상기 금속 와이어들 중 적어도 하나의 경사진 표면 상에 배치되는 디스플레이 패널.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은 상기 비-디스플레이 영역에 배치된 복수의 서브미크론 돌출부들을 더 포함하며,
    상기 서브미크론 돌출부들은 상기 금속 와이어들 중 적어도 하나의 뻗어나가는 방향을 따라 배열되는 디스플레이 패널.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은:
    상기 제 2 기판 상에 배치되고, 상기 비-디스플레이 영역에 대응되며, 그리고 광 투과부 및 광 차폐부를 가진 광 차폐 층;을 더 포함하며,
    상기 광 투과부에 대응하는 응집물들로부터 발생된 제 1 평균 표면 거칠기는 상기 광 차폐부에 대응하는 응집물들로부터 발생된 제 2 평균 표면 거칠기보다 큰 디스플레이 패널.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 광 투과부에 대응하는 응집물들로부터 발생된 제 1 평균 표면 거칠기는 상기 디스플레이 영역에 대응하는 응집물로부터 발생된 제 3 평균 표면 거칠기보다 크며, 그리고
    상기 제 3 평균 표면 거칠기는 상기 광 차폐부에 대응하는 응집물로부터 발생된 제 2 평균 표면 거칠기보다 큰 디스플레이 패널.
  12. 청구항 10에 있어서,
    상기 디스플레이 패널은:
    상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 배치되며, 그리고 상기 비-디스플레이 영역의 주변 구역에 위치되는 밀봉부;를 포함하며,
    상기 밀봉부에 대응하여 인접하게 위치된 응집물들로부터 발생된 제 4 평균 표면 거칠기는 상기 디스플레이 영역에 대응하는 응집물들로부터 발생된 제 3 평균 표면 거칠기보다 큰 디스플레이 패널.
  13. 디스플레이 영역과, 그리고 상기 디스플레이 영역 외부에 위치한 비-디스플레이 영역을 가진 제 1 기판;
    제 2 기판;
    상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 배치된 액정 층;
    상기 제 1 기판 또는 상기 제 2 기판 상의 차폐 패턴 - 상기 차폐 패턴은 상기 비-디스플레이 영역과, 그리고 상기 비-디스플레이 영역에 인접한 디스플레이 영역의 적어도 일부에 대응됨 - ; 및
    상기 액정 층에 적어도 혼합된 반응성 모노머 (reactive monomer);를 포함하며,
    상기 차폐 패턴에 대응하는 제 1 영역의 구경비는 X%이고, 상기 제 1 영역에 대응하는 반응성 모노머는 Y ppm의 농도를 가지며, 그리고 X 및 Y는 2847.7e-3.6375X> Y > 1774.1e-8.9014X, 여기서 10≤X<100의 공식을 만족시키는 디스플레이 패널.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 Y는 400보다 작은 (Y<400) 디스플레이 패널.
  15. 청구항 13에 있어서,
    상기 차폐 패턴에 의해 덮인 제 1 영역은 상기 비-디스플레이 영역의 여백부로부터 상기 디스플레이 영역까지 뻗어나가며, 그리고 상기 차폐 패턴은 상기 비-디스플레이 영역의 폭의 10-15 배의 거리까지 뻗어나가는 디스플레이 패널.
  16. 청구항 13에 있어서,
    상기 차폐 패턴에 의해 덮인 제 1 영역은 상기 비-디스플레이 영역의 여백부로부터 상기 디스플레이 영역까지 뻗어나가며, 그리고 상기 차폐 패턴은 약 3 cm의 거리까지 뻗어나가는 디스플레이 패널.
  17. 청구항 13에 있어서,
    상기 차폐 패턴은 상기 비-디스플레이 영역 및 상기 디스플레이 영역을 덮는 디스플레이 패널.
  18. 청구항 13에 있어서,
    상기 차폐 패턴은 복수의 금속 와이어들 또는 광 차폐 층 중 적어도 하나를 포함하는 디스플레이 패널.
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 디스플레이 영역의 여백부에 위치된 금속 와이어들은 50 ㎛ 미만의 라인 폭을 가지며, 상기 디스플레이 영역의 여백부는 상기 비-디스플레이 영역에 인접해 위치하는 디스플레이 패널.
  20. 청구항 18에 있어서,
    상기 광 차폐 층은 약 100 ㎛의 크기의 복수의 개구부들을 가지는 디스플레이 패널.
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