KR20150068386A - Surface-treated copper foil, method for manufacturing surface-treated copper foil, and negative electrode material for negative electrode current collector and nonaqueous secondary cell - Google Patents

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Abstract

본건 발명의 과제는, 고온의 열처리가 장시간 실시된 경우라도, 인장 강도의 저하가 적은 표면 처리 구리박, 표면 처리 구리박의 제조 방법, 당해 표면 처리 구리박을 사용한 집전체 및 비수계 이차 전지의 부극재를 제공하는 데 있다. 상기 과제를 해결하기 위해, 탄소, 황, 염소 및 질소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 미량 성분을 그 총량으로 100ppm 이상 포함하는 구리박의 양면에, 편면당 20㎎/㎡∼1000㎎/㎡의 아연을 포함하는 표면 처리층을 구비한 표면 처리 구리박이며, 200℃∼280℃의 온도 범위에서 가열하는 프리 어닐 처리가 실시된 것을 특징으로 하는 표면 처리 구리박을 제공한다.Disclosure of the Invention A problem to be solved by the present invention is to provide a surface-treated copper foil having less deterioration in tensile strength, a method for producing a surface-treated copper foil, a current collector using the surface- Thereby providing an anode material. In order to solve the above problems, a copper foil having a total amount of at least one kind of trace components selected from carbon, sulfur, chlorine and nitrogen in an amount of not less than 100 ppm, Treated copper foil having a surface treatment layer containing zinc of the following formula: wherein the surface treated copper foil is subjected to a pre-annealing treatment for heating in a temperature range of 200 ° C to 280 ° C.

Description

표면 처리 구리박, 표면 처리 구리박의 제조 방법, 부극 집전체 및 비수계 이차 전지의 부극재{SURFACE-TREATED COPPER FOIL, METHOD FOR MANUFACTURING SURFACE-TREATED COPPER FOIL, AND NEGATIVE ELECTRODE MATERIAL FOR NEGATIVE ELECTRODE CURRENT COLLECTOR AND NONAQUEOUS SECONDARY CELL}SURFACE-TREATED COPPER FOIL, METHOD FOR MANUFACTURING SURFACE-TREATED COPPER FOIL, AND NEGATIVE ELECTRODE MATERIAL FOR NEGATIVE ELECTRODE CURRENT COLLECTOR AND AND METHOD FOR MANUFACTURING SURFACE-TREATED COPPER FOIL NONAQUEOUS SECONDARY CELL}

본건 발명은, 표면 처리 구리박, 표면 처리 구리박의 제조 방법, 부극 집전체 및 비수계 이차 전지의 부극재에 관한 것이다. 특히, 고온에서 장시간 가열된 경우라도, 인장 강도의 저하가 적은 리튬 이온 이차 전지 등의 부극 집전체 용도에 사용되는 표면 처리 구리박, 그 제조 방법, 당해 표면 처리 구리박을 사용한 부극 집전체 및 부극재에 관한 것이다.The present invention relates to a surface-treated copper foil, a method for producing a surface-treated copper foil, a negative electrode collector, and an anode material of a non-aqueous secondary battery. Particularly, a surface treated copper foil used for a negative electrode current collector such as a lithium ion secondary battery in which a decrease in tensile strength is small even when it is heated at a high temperature for a long time, a production method thereof, a negative electrode collector using the surface- It is about ashes.

종래부터, 구리박은 프린트 배선판을 비롯하여 다양한 전자 부품의 회로 형성 재료로서 사용되고 있다. 또한, 최근에는, 구리박은 이들 회로 형성 재료에 한정되지 않고, 리튬 이온 이차 전지 등의 비수계 이차 전지의 부극 집전체로서도 사용되고 있다.BACKGROUND ART Conventionally, copper foil has been used as a circuit forming material for various electronic parts including printed wiring boards. Further, in recent years, copper foil is not limited to these circuit forming materials, but is also used as a negative electrode current collector of a non-aqueous secondary battery such as a lithium ion secondary battery.

일반적으로, 리튬 이온 이차 전지의 부극재는, 도전성 재료로 이루어지는 집전체의 표면에 부극 활물질과, 도전재와, 결착제(바인더) 등을 포함하는 부극 합제층을 구비하여 구성된다. 리튬 이온 이차 전지의 충방전시에 있어서, 부극 활물질이 리튬을 흡장·방출하면, 이것에 수반하여 부극 합제층이 팽창·수축한다. 부극 합제층은 집전체의 표면에 밀착되어 있기 때문에, 리튬 이온 이차 전지의 충방전 사이클을 반복함으로써, 부극 합제층과 집전체 사이에는 반복 응력이 가해진다. 이로 인해, 집전체의 인장 강도가 낮으면, 집전체는 부극 합제의 체적 변화에 의해, 신장되어 주름 등의 변형을 발생시키거나, 파단할 우려가 있다. 집전체가 신장하여 주름 등의 변형을 발생시킨 경우, 정극과 부극 사이에서 단락이 발생하거나, 정극과 부극 사이의 거리가 변화하여 균일한 전극 반응이 저해되어, 충방전 사이클 내구성이 저하될 우려가 있다. 또한, 집전체가 파단한 경우에는, 단위 체적당 용량이 감소하고, 리튬 이온 이차 전지의 전지적 특성이 저하된다. 이로 인해, 집전체로서 구리박을 사용하는 경우, 당해 구리박은 높은 인장 강도를 갖는 것이 요구된다.Generally, the negative electrode material of a lithium ion secondary battery comprises a negative electrode mixture layer containing a negative electrode active material, a conductive material, and a binder (binder) on the surface of a current collector made of a conductive material. When the negative electrode active material occludes and releases lithium in the charging and discharging of the lithium ion secondary battery, the negative electrode material mixture layer expands and contracts with this. Since the negative electrode mixture layer is in close contact with the surface of the current collector, repetitive stress is applied between the negative electrode mixture layer and the current collector by repeating the charge / discharge cycle of the lithium ion secondary battery. Therefore, if the tensile strength of the current collector is low, there is a fear that the current collector is elongated due to a change in the volume of the negative electrode mixture, causing deformation such as wrinkles or breaking. When the current collector is elongated to cause deformation such as wrinkles, a short circuit may occur between the positive electrode and the negative electrode, or a distance between the positive electrode and the negative electrode may change, which may hinder uniform electrode reaction and decrease the durability of the charge- have. Further, when the current collector is broken, the capacity per unit volume decreases and the battery characteristics of the lithium ion secondary battery deteriorate. Therefore, when a copper foil is used as a current collector, the copper foil is required to have a high tensile strength.

그런데, 부극재를 제조하는 공정에서는, 집전체의 표면에 부극 합제층을 형성할 때에, 고온의 열이 집전체에 부하된다. 일반적인 구리박의 경우, 고온의 열이 부하되면, 구리의 재결정화에 의해 결정립이 조대화되고, 인장 강도 등의 기계적 강도가 저하된다. 이로 인해, 집전체 용도에 사용하는 구리박은, 고온의 열처리가 실시된 후라도 높은 인장 강도를 유지하는 것이 요구된다. 이러한 구리박으로서, 예를 들어, 특허문헌 1 및 특허문헌 2에는, 350℃에서 60분간 가열한 후여도 40kgf/㎟ 이상, 400℃에서 60분간 가열한 후에 대해서도 35kgf/㎟ 이상의 인장 강도를 유지할 수 있는 표면 처리 구리박이 개시되어 있다.Incidentally, in the step of manufacturing the negative electrode material, when the negative electrode material mixture layer is formed on the surface of the current collector, high-temperature heat is applied to the current collector. In the case of general copper foil, when high-temperature heat is applied, crystal grains are coarsened by recrystallization of copper, and mechanical strength such as tensile strength is lowered. Therefore, it is required that the copper foil to be used for the current collector application maintain a high tensile strength even after the heat treatment at a high temperature is performed. As such copper foils, for example, Patent Documents 1 and 2 can maintain a tensile strength of 35 kgf / mm < 2 > or more even after heating at 350 DEG C for 60 minutes and then heating at 400 DEG C for 60 minutes. A surface treated copper foil having a surface treatment is disclosed.

국제 공개 제2012/070589호International Publication No. 2012/070589 국제 공개 제2012/070591호International Publication No. 2012/070591

그러나, 리튬 이온 이차 전지의 부극재를 제조할 때에는, 집전체에 대해 350℃∼400℃의 온도 범위에서 1시간을 초과하는 가열이 행해지는 경우가 있다. 이 경우, 상기 특허문헌 1 또는 특허문헌 2에 개시된 표면 처리 구리박에서는 인장 강도가 저하되고, 가열 시간에 따라서는, 충분한 레벨의 인장 강도를 유지할 수 없는 경우가 있었다.However, when the negative electrode material of the lithium ion secondary battery is produced, the current collector may be heated in a temperature range of 350 占 폚 to 400 占 폚 for more than one hour. In this case, the tensile strength of the surface treated copper foil disclosed in Patent Document 1 or Patent Document 2 was lowered, and a sufficient level of tensile strength could not be maintained depending on the heating time.

따라서, 본건 발명의 과제는, 고온의 열처리가 장시간 실시된 경우라도, 인장 강도의 저하가 적은 표면 처리 구리박, 표면 처리 구리박의 제조 방법, 당해 표면 처리 구리박을 사용한 집전체 및 비수계 이차 전지의 부극재를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a surface-treated copper foil having less decrease in tensile strength, a method for producing a surface-treated copper foil, a current collector using the surface- Thereby providing a negative electrode material for a battery.

본 발명자들은, 예의 연구를 행한 결과, 이하의 기술적 사상을 채용함으로써, 고온의 열처리가 장시간 실시된 경우라도, 인장 강도의 저하가 적은 표면 처리 구리박에 상도하였다.As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have found that even when a heat treatment at a high temperature is performed for a long time, the surface treated copper foil has less decrease in tensile strength.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 탄소, 황, 염소 및 질소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 미량 성분을 그 총량으로 100ppm 이상 포함하는 구리박의 양면에, 편면당 20㎎/㎡∼1000㎎/㎡의 아연을 포함하는 표면 처리층을 구비한 표면 처리 구리박이며, 200℃∼280℃의 온도 범위에서 가열하는 프리 어닐 처리가 실시된 것을 특징으로 한다.The surface-treated copper foil according to the present invention is a copper foil having a copper foil containing at least 100 ppm of at least one kind of trace elements selected from carbon, sulfur, chlorine and nitrogen in a total amount of 20 mg / / M < 2 >, and is subjected to a pre-annealing treatment for heating in a temperature range of 200 DEG C to 280 DEG C.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 350℃에서 5시간 가열한 후의 인장 강도가 45kgf/㎟ 이상을 나타낸다.The surface treated copper foil according to the present invention exhibits a tensile strength of 45 kgf / mm 2 or more after being heated at 350 ° C for 5 hours.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박에 있어서, 상기 표면 처리층은 아연 이외에, 구리 및/또는 구리 중의 확산 속도가 아연보다도 빠른 금속 원소를 포함하는 것이 바람직하다.In the surface treated copper foil according to the present invention, it is preferable that the surface treatment layer includes a metal element other than zinc and having a diffusion rate in copper and / or copper that is higher than zinc.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박에 있어서, 상기 금속 원소는 주석인 것이 바람직하다.In the surface-treated copper foil according to the present invention, it is preferable that the metal element is tin.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박에 있어서, 상기 표면 처리층에는 편면당 1㎎/㎡∼200㎎/㎡의 주석이 포함되는 것이 바람직하다.In the surface-treated copper foil of the present invention, it is preferable that the surface treatment layer contains tin of 1 mg / m 2 to 200 mg / m 2 per one side.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박에 있어서, 상기 구리박을 구성하는 구리의 평균 결정립경이 1.0㎛ 이하인 것이 바람직하다.In the surface-treated copper foil of the present invention, it is preferable that the average crystal grain diameter of copper constituting the copper foil is 1.0 탆 or less.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박에 있어서, 상기 구리박의 상태(常態) 인장 강도는 50gf/㎟ 이상인 것이 바람직하다.In the surface-treated copper foil of the present invention, the tensile strength of the copper foil in the normal state is preferably 50 gf / mm 2 or more.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박에 있어서, 상기 프리 어닐 처리에서는, 상기 온도 범위 내의 온도에서 2시간 이상 25시간 이하 가열되는 것이 바람직하다.In the surface-treated copper foil of the present invention, it is preferable that the pre-annealing is performed at a temperature within the above temperature range for 2 hours to 25 hours.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 탄소, 황, 염소 및 질소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 미량 성분을 그 총량으로 100ppm 이상 포함하는 구리박의 양면에, 편면당 20㎎/㎡∼1000㎎/㎡의 아연을 포함하는 표면 처리층을 구비한 표면 처리 구리박이며, 350℃에서 5시간 가열한 후의 인장 강도가 50kgf/㎟ 이상인 것을 특징으로 한다.The surface-treated copper foil according to the present invention is a copper foil having a copper foil containing at least 100 ppm of at least one kind of trace elements selected from carbon, sulfur, chlorine and nitrogen in a total amount of 20 mg / / M < 2 > and a tensile strength of 50 kgf / mm < 2 > or more after heating at 350 DEG C for 5 hours.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박의 제조 방법은, 탄소, 황, 염소 및 질소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 미량 성분을 그 총량으로 100ppm 이상 포함하는 구리박의 양면에, 편면당 20㎎/㎡∼1000㎎/㎡의 아연을 포함하는 표면 처리층을 형성하는 표면 처리 공정과, 표면 처리 공정 후, 200℃∼280℃의 온도 범위에서 가열하는 프리 어닐 처리 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.The method for producing a surface-treated copper foil according to the present invention is a method for producing a surface-treated copper foil having a copper foil containing at least 100 ppm of at least one kind of trace elements selected from carbon, sulfur, chlorine and nitrogen, M 2 to 1000 mg / m 2, and a pre-annealing step of heating the substrate at a temperature in the range of 200 ° C to 280 ° C after the surface treatment step.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박의 제조 방법에서는, 상기 프리 어닐 처리 공정에 있어서의 가열 시간이 2시간 이상 25시간 이하인 것이 바람직하다.In the method for producing a surface-treated copper foil according to the present invention, it is preferable that the heating time in the pre-annealing step is 2 hours or more and 25 hours or less.

본건 발명에 관한 부극 집전체는, 상기 중 어느 하나에 기재된 표면 처리 구리박을 사용한 것을 특징으로 한다.The negative electrode current collector according to the present invention is characterized by using the surface treated copper foil described in any one of the above.

본건 발명에 관한 비수계 이차 전지의 부극재는, 상기 부극 집전체를 사용한 것을 특징으로 한다.The negative electrode material of the non-aqueous secondary battery according to the present invention is characterized by using the negative electrode collector.

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 구리박의 양면에 아연을 포함하는 표면 처리층을 형성하여, 상기 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 간이하게 제조할 수 있고, 또한, 고온의 열처리가 장시간 실시된 후여도, 인장 강도의 저하가 적은 구리박을 제공할 수 있다.The surface-treated copper foil according to the present invention can be produced easily by forming the surface treatment layer containing zinc on both surfaces of the copper foil and performing the pre-annealing treatment. Further, after the high temperature heat treatment is performed for a long time It is possible to provide a copper foil with less deterioration in tensile strength.

도 1은 200℃에서 8시간 프리 어닐 처리를 실시한 후, 350℃에서 5시간 가열한 후의 실시 시료 1의 단면 결정 조직의 일례를 나타내는 FIB-SIM상이다.
도 2는 350℃에서 5시간 가열한 후의 비교 시료 1의 단면 결정 조직의 일례를 나타내는 FIB-SIM상이다.
Fig. 1 is an FIB-SIM image showing an example of a cross-section crystal structure of a sample 1 subjected to a pre-annealing treatment at 200 占 폚 for 8 hours and then at 350 占 폚 for 5 hours.
2 is an FIB-SIM image showing an example of a cross-section crystal structure of the comparative sample 1 after heating at 350 ° C for 5 hours.

이하, 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박, 표면 처리 구리박의 제조 방법, 부극 집전체 및 비수계 이차 전지의 부극재의 실시 형태를 순서대로 설명한다.Hereinafter, embodiments of the surface-treated copper foil, the method of producing the surface-treated copper foil, the negative electrode collector, and the negative electrode material of the non-aqueous secondary battery according to the present invention will be described in order.

1. 표면 처리 구리박1. Surface treated copper foil

우선, 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박의 실시 형태를 설명한다. 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 구리박의 양면에, 아연을 포함하는 표면 처리층(본 실시 형태에서는 아연 부착층이라 칭함.)을 구비하고, 당해 아연 부착층이 형성된 후, 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 고온의 열처리가 장시간 실시된 후여도, 인장 강도의 저하를 억제할 수 있도록 한 것이다. 또한, 본건 명세서에 있어서 고온이라 함은, 구리의 재결정화가 발생하는 온도 이상의 온도를 가리키고, 주로 300℃∼400℃ 정도의 범위 내의 온도를 가리킨다. 또한, 장시간이라 함은 1시간을 초과하는 시간을 가리키고, 주로 5시간 이상의 시간을 의미하는 것으로 한다. 이하, 본 실시 형태에서는, 당해 표면 처리 구리박을 리튬 이온 이차 전지 등의 비수계 이차 전지의 부극 집전체로서 사용하는 경우를 예로 들어 설명하지만, 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 당해 리튬 이온 이차 전지 등의 비수계 이차 전지의 부극 집전체에 한정되지 않고, 프린트 배선판의 제조 재료로서 사용할 수 있는 것은 물론이다.First, an embodiment of the surface treated copper foil according to the present invention will be described. The surface-treated copper foil according to the present invention has a surface treatment layer (referred to as a zinc adhesion layer in this embodiment) containing zinc on both surfaces of a copper foil. After the zinc adhesion layer is formed, a pre- The lowering of the tensile strength can be suppressed even after the high-temperature heat treatment is performed for a long time. In the present specification, the term "high temperature" refers to a temperature equal to or higher than a temperature at which recrystallization of copper occurs, and refers to a temperature mainly within a range of about 300 ° C to 400 ° C. Further, the term long time means a time exceeding one hour, and mainly means a time of five hours or more. Hereinafter, in the present embodiment, a case is explained in which the surface-treated copper foil is used as a negative electrode collector of a non-aqueous secondary battery such as a lithium ion secondary battery. However, the surface-treated copper foil according to the present invention, It is needless to say that the negative electrode current collector is not limited to the negative electrode current collector of a non-aqueous secondary battery such as a battery and can be used as a material for producing a printed wiring board.

(1) 구리박(1) Copper foil

우선, 구리박에 대해 설명한다. 본건 발명에서는, 탄소, 황, 염소 및 질소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 미량 성분을 총량으로 100ppm 이상 포함하는 구리박의 양면에 상기 아연 부착층이 형성된다.First, the copper foil will be described. In the present invention, the zinc adhesion layer is formed on both sides of a copper foil containing at least 100 ppm of a total of at least one trace component selected from carbon, sulfur, chlorine, and nitrogen.

여기서, 본건 발명에서는, 「구리박」이라 함은, 상기 표면 처리 등의 각종 처리가 실시되어 있지 않은 미처리의 구리박을 의미하는 것으로 하고, 「표면 처리 구리박」이라 함은, 상기 아연 부착층을 형성하기 위한 아연 부착 처리, 프리 어닐 처리 외에, 각종 표면 처리 후의 구리박을 의미하는 것으로 한다. 또한, 당해 구리박은, 전해 구리박이어도, 압연 구리박이어도 되지만, 결정립이 미세하며, 인장 강도가 높은 기계적 특성이 우수한 구리박이 얻어지기 쉽다고 하는 관점에서, 전해 구리박인 것이 바람직하다. 이하, 주로, 전해 구리박을 예로 들어 설명하지만, 이하에 있어서, 단순히 「구리박」이라 기재한 경우, 당해 구리박에는 「전해 구리박」뿐만 아니라, 「압연 구리박」이 포함되는 것으로 한다.Here, in the present invention, the term "copper foil" refers to an untreated copper foil to which various treatments such as the surface treatment are not applied, and the term "surface-treated copper foil" Zinc annealing for forming a copper foil, and free annealing, as well as copper foil after various surface treatments. The copper foil may be an electrolytic copper foil or a rolled copper foil, but it is preferably an electrolytic copper foil from the viewpoint that it is easy to obtain a copper foil having a fine grain size and high tensile strength and excellent mechanical properties. Hereinafter, an electrolytic copper foil will be mainly described as an example. In the following description, when describing simply "copper foil", the copper foil includes not only "electrolytic copper foil" but also "rolled copper foil".

미량 성분:본건 발명에 있어서, 상술한 바와 같이, 당해 구리박은 탄소, 황, 염소 및 질소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 미량 성분을 총량으로 100ppm 이상 함유한다. 이들 미량 성분의 함유량이 총량으로 100ppm 이상으로 되면, 당해 구리박을 구성하는 구리의 결정 조직(결정립)의 미세화가 용이해져, 인장 강도가 높은 기계적 강도가 우수한 구리박이 얻어지기 쉬워지기 때문이다.Trace element: In the present invention, as described above, the copper foil contains at least 100 ppm of a total of one or more trace components selected from carbon, sulfur, chlorine and nitrogen. When the content of these trace components is 100 ppm or more in total, the crystal structure (crystal grains) of the copper constituting the copper foil is easily miniaturized, and a copper foil having a high tensile strength and excellent mechanical strength is easily obtained.

여기서, 본건 발명에서 사용하는 구리박은, 당해 미량 성분을 총량으로 100ppm 이상 함유함과 함께, 탄소를 20ppm∼470ppm, 황을 5ppm∼600ppm, 염소를 15ppm∼600ppm, 질소를 5ppm∼600ppm의 범위에서 함유하는 것이 바람직하다. 구리박의 결정 조직 내에 이들 미량 성분을 적정한 양만 함유시킴으로써, 상기 구리의 결정 조직의 미세화가 보다 용이해져, 인장 강도가 보다 높은 기계적 강도가 우수한 구리박으로 할 수 있다. 구체적으로는, 각 미량 성분을 상기 범위 내에서 함유시킴으로써, 당해 구리박의 평균 결정립경이 1.0㎛ 이하로 되고, 상태 인장 강도가 50kgf/㎟ 이상, 상태 연신율이 3%∼15%라고 하는 기계적 강도가 우수한 구리박으로 할 수 있다.Here, the copper foil used in the present invention contains not less than 100 ppm of the minor component in total, and contains 20 ppm to 470 ppm of carbon, 5 ppm to 600 ppm of sulfur, 15 ppm to 600 ppm of chlorine and 5 ppm to 600 ppm of nitrogen . By containing only such an appropriate amount of these minor components in the crystalline structure of the copper foil, it is possible to make the crystal structure of the copper more easily and to make the copper foil having higher mechanical strength with higher tensile strength. Concretely, by containing each of the minor components in the above-mentioned range, the copper foil has an average crystal grain size of 1.0 탆 or less, a state tensile strength of 50 kgf / mm 2 or more and a state elongation of 3% to 15% It can be made of excellent copper foil.

여기서, 각 미량 성분의 함유량이 하한값 미만인 경우에는, 예를 들어, 평균 결정립경이 1.0㎛ 이하인 극히 미세한 결정 조직을 얻는 것이 곤란하여, 인장 강도가 보다 높은 구리박을 얻을 수 없어 바람직하지 않다. 한편, 당해 구리박 내의 각 미량 성분의 함유량이 상한값을 초과하는 경우, 이하의 관점에서 바람직하지 않다. 탄소 함유량이 470ppm을 초과하는 경우에는, 그래파이트가 조대화되고, 크랙이 발생하기 쉬워지기 때문에 바람직하지 않다. 황 함유량이 600ppm을 초과하는 경우에는, 당해 구리박의 인장 강도는 높아지지만, 연신율이 저하되고, 취화하기 때문에 바람직하지 않다. 염소 함유량이 600ppm을 초과하는 경우에는, 전해 구리박의 경우, 그 석출 표면이 거칠어진다. 그 경우, 그 표면에 부극 활물질 등을 균일하게 밀착시키는 것이 곤란해지고, 충방전을 반복하였을 때의 체적 변화량이 면 내에서 불균일해져, 국소적으로 파단하므로 바람직하지 않다. 또한, 질소 함유량이 180ppm을 초과하면, 질소 화합물이 과잉으로 되고, 구리박의 석출 조직의 미세화 효과가 포화되어, 질소 함유량을 증가시키는 의의가 몰각되기 때문에 바람직하지 않다.Here, when the content of each minor component is less than the lower limit value, it is difficult to obtain an extremely fine crystal structure having an average grain diameter of 1.0 占 퐉 or less, for example, and a copper foil having a higher tensile strength can not be obtained. On the other hand, when the content of each trace component in the copper foil exceeds the upper limit value, it is not preferable from the viewpoints described below. When the carbon content exceeds 470 ppm, graphite is coarsened and cracks tend to occur, which is not preferable. When the sulfur content is more than 600 ppm, the tensile strength of the copper foil is increased, but the elongation is lowered and the brittle is not preferable. When the chlorine content exceeds 600 ppm, in the case of electrolytic copper foil, the precipitation surface becomes rough. In this case, it is difficult to uniformly adhere the negative electrode active material or the like to the surface thereof, and the amount of volume change when the charge / discharge is repeated is not uniform in the plane and is locally broken. On the other hand, if the nitrogen content exceeds 180 ppm, the nitrogen compound becomes excessive, the effect of making the copper foil micro-fine is saturated, and the significance of increasing the nitrogen content is undesirably deteriorated.

단, 본건 발명에 있어서, 당해 구리박 중의 미량 성분의 함유량을 나타내기 위해 사용한 「ppm」이라고 하는 단위는 「㎎/㎏」과 동일한 의미이며, 당해 미량 성분을 총량으로 100ppm 이상 포함한다고 함은, 당해 구리박 1㎏당에 포함되는 당해 미량 성분의 총량이 100㎎ 이상인 것을 의미한다.In the present invention, the unit of "ppm" used for indicating the content of the minor component in the copper foil is the same as "mg / kg", and the term "containing the minor component in an amount of 100 ppm or more" Means that the total amount of the minor component contained in 1 kg of the copper foil is 100 mg or more.

평균 결정립경:다음으로, 구리박의 결정 조직을 구성하는 구리의 결정립의 평균 결정립경에 대해 설명한다. 우선, 당해 평균 결정립경은 1.0㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.8㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 당해 평균 결정립경이 1.0㎛를 초과하는 경우, 리튬 이온 이차 전지 등의 비수계 이차 전지의 부극 집전체로서 요구되는 레벨의 인장 강도를 유지하는 것이 곤란해지기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 구리박을 구성하는 구리의 결정립은 미세함과 함께, 균일한 것이 바람직하다. 결정립이 균일함으로써, 결정립계가 구리박 내에 균일하게 분포하여, 당해 구리박에 부하된 하중이 특정한 결정립에 치우치는 일 없이 분산되어, 인장 강도가 높은 기계적 강도가 우수한 구리박으로 할 수 있다. 단, 여기서 말하는 평균 결정립경은, 당해 구리박의 상태(常態)시에 있어서의 평균 결정립경을 가리키고, 당해 구리박의 단면을 관찰하였을 때에 단면에 나타나는 결정립의 입경에 기초하여 구할 수 있다.Average Grain Size: Next, the average grain size of the grains of copper constituting the crystal structure of the copper foil will be described. First, the average grain diameter is preferably 1.0 탆 or less, and more preferably 0.8 탆 or less. When the average grain size exceeds 1.0 탆, it is not preferable because it becomes difficult to maintain the tensile strength at a required level as the negative electrode collector of the non-aqueous secondary battery such as a lithium ion secondary battery. In addition, the crystal grains of copper constituting the copper foil are preferably fine and uniform. The grain boundaries are uniformly distributed in the copper foil so that the load applied to the copper foil is dispersed without being biased to a specific crystal grain and a copper foil having excellent tensile strength and excellent mechanical strength can be obtained. Here, the average grain diameter referred to herein refers to the average grain diameter in the state of the copper foil (normal state), and can be obtained based on the grain size of the grain appearing on the cross section when the cross section of the copper foil is observed.

상태 인장 강도:당해 구리박의 상태 인장 강도는 50kgf/㎟ 이상인 것이 바람직하다. 단, 본건 발명에 있어서 「상태」라고 함은, 상온에서 관리되고 있는 상태, 혹은, 열처리되기 전의 상태를 가리킨다. 상태 인장 강도가 50kgf/㎟ 이상인 구리박을 사용함으로써, 고온의 열처리가 실시된 후에도 높은 인장 강도를 나타내는 표면 처리 구리박을 얻을 수 있게 된다. 단, 상태 인장 강도가 높은 구리박이어도, 열처리가 실시된 후의 인장 강도의 저하가 현저한 경우도 있다. 따라서, 본건 발명에서는, 당해 구리박 자체의 상태 인장 강도가 보다 높은 값인 것이 바람직한 것은 아니며, 상태 인장 강도의 값에 관계없이, 열처리가 실시된 후의 당해 표면 처리 구리박의 인장 강도가 보다 높은 값인 것이 바람직하다.State tensile strength: The state tensile strength of the copper foil is preferably 50 kgf / mm < 2 > In the present invention, the term " state " refers to a state that is controlled at room temperature or a state before heat treatment. By using a copper foil having a state tensile strength of 50 kgf / mm < 2 > or more, it is possible to obtain a surface treated copper foil exhibiting a high tensile strength even after high temperature heat treatment. However, even in the case of a copper foil having a high state tensile strength, a decrease in tensile strength after heat treatment may be remarkable. Therefore, in the present invention, it is not preferable that the state tensile strength of the copper foil itself is higher, and regardless of the value of the state tensile strength, the tensile strength of the surface treated copper foil after the heat treatment is higher desirable.

두께:당해 구리박의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니다. 당해 표면 처리 구리박의 용도에 따라, 적당히 적절한 두께의 구리박을 채용하면 된다. 예를 들어, 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박을 리튬 이온 이차 전지 등의 비수계 이차 전지의 부극 집전체로서 사용하는 경우에는, 당해 구리박의 두께를 5㎛∼35㎛(게이지 두께)의 범위 내로 하는 경우가 많다. 또한, 당해 표면 처리 구리박을 프린트 배선판을 제조할 때에 사용하는 경우에는, 당해 구리박의 두께를 5㎛∼120㎛(게이지 두께)의 범위 내로 하는 경우가 많다. 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은 5㎛∼35㎛의 얇은 구리박이어도, 리튬 이온 이차 전지의 부극 집전체로서 시장에서 요구되는 레벨의 인장 강도를 갖는다.Thickness: The thickness of the copper foil is not particularly limited. Depending on the use of the surface treated copper foil, a copper foil having an appropriate thickness may be employed. For example, when the surface-treated copper foil according to the present invention is used as a negative electrode current collector of a non-aqueous secondary battery such as a lithium ion secondary battery, the thickness of the copper foil is preferably in the range of 5 mu m to 35 mu m There are a lot of cases. Further, when the surface-treated copper foil is used for producing a printed wiring board, the thickness of the copper foil is often set within a range of 5 to 120 탆 (gauge thickness). The surface-treated copper foil according to the present invention has a tensile strength at a level required in the market as a negative electrode current collector of a lithium ion secondary battery, even if it is a thin copper foil having a thickness of 5 to 35 m.

(2) 아연 부착층(표면 처리층)(2) Zinc adhesion layer (surface treatment layer)

다음으로, 아연 부착층에 대해 설명한다. 본건 발명의 표면 처리 구리박은, 상기 구리박의 양면에, 편면당 20㎎/㎡∼1000㎎/㎡의 아연을 포함하는 아연 부착층을 구비하고 있다. 구리박의 양면에 형성된 아연 부착층 중의 아연은, 시간의 경과와 함께 구리박 내로 확산되어, 결정 조직 내의 상기 미량 성분과 반응한다. 이 아연과 상기 미량 성분의 화합물은, 결정립계에 석출되고, 당해 구리박에 열이 부하되었을 때에, 결정립의 성장을 방해하여, 결정립이 조대화되는 것을 억제하는 효과를 발휘한다. 본건 발명에서는, 구리박의 양면에 아연 부착층을 형성한 후, 후술하는 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 공업적 생산 효율에 적합한 속도로, 아연을 구리박의 표층부뿐만 아니라, 그 내부(중앙부)로까지 확산시킬 수 있다. 이로 인해, 본건 발명에 따르면, 당해 표면 처리 구리박이 그 후의 사용 과정에서, 고온에서 보다 장시간의 열처리가 실시된 경우여도, 열처리 후에도 미세한 결정 조직을 유지할 수 있어, 당해 구리박의 인장 강도가 저하되는 것을 억제할 수 있다.Next, the zinc adhesion layer will be described. The surface treated copper foil of the present invention has a zinc adhesion layer containing zinc of 20 mg / m 2 to 1000 mg / m 2 per side on both surfaces of the copper foil. Zinc in the zinc adhesion layer formed on both sides of the copper foil diffuses into the copper foil with the lapse of time and reacts with the trace components in the crystal structure. The zinc and the compound of the minor component are precipitated in the grain boundaries and when the heat is applied to the copper foil, the growth of the grains is disturbed, and the effect of suppressing coarsening of the grains is exerted. According to the present invention, zinc is deposited on both surfaces of a copper foil and then subjected to a pre-annealing treatment described later so that zinc is deposited not only in the surface layer portion of the copper foil but also in the inside Can be diffused. Therefore, according to the present invention, even when the surface-treated copper foil is subjected to a heat treatment for a longer time at a high temperature in the subsequent use process, the fine crystal structure can be maintained even after the heat treatment, and the tensile strength of the copper foil Can be suppressed.

여기서, 아연 부착층 중의 아연 함유량, 즉 구리박의 표면에 대한 아연의 부착량이 편면당 20㎎/㎡ 미만인 경우, 구리박 내로 확산하는 아연량이 적어, 결정립의 조대화를 충분히 억제하는 효과를 얻을 수 없어, 미세한 결정 조직을 유지하는 것이 곤란해지기 때문에 바람직하지 않다. 당해 관점에서, 아연의 부착량은 25㎎/㎡ 이상인 것이 바람직하고, 50㎎/㎡ 이상인 것이 보다 바람직하다. 한편, 아연의 부착량이 1000㎎/㎡를 초과하는 경우에는, 아연의 부착량을 증가시켜도 부착량에 따른 효과가 얻어지는 것은 아니며, 자원의 낭비로 되기 때문에 바람직하지 않다. 당해 관점에서, 아연의 부착량은 500㎎/㎡ 이하인 것이 바람직하고, 300㎎/㎡ 이하인 것이 보다 바람직하며, 200㎎/㎡ 이하인 것이 더욱 바람직한다.Here, when the zinc content in the zinc adhesion layer, that is, the adhesion amount of zinc to the surface of the copper foil is less than 20 mg / m 2 per one side, the amount of zinc diffused into the copper foil is small, And it is not preferable because it is difficult to maintain a fine crystal structure. From this viewpoint, the adhesion amount of zinc is preferably 25 mg / m 2 or more, more preferably 50 mg / m 2 or more. On the other hand, when the adhesion amount of zinc exceeds 1000 mg / m < 2 >, an effect depending on the deposition amount is not obtained even if the adhesion amount of zinc is increased, From this viewpoint, the adhesion amount of zinc is preferably 500 mg / m 2 or less, more preferably 300 mg / m 2 or less, and still more preferably 200 mg / m 2 or less.

여기서, 아연 부착층은, 구리박의 편면당 상기 범위 내의 아연을 함유하기 때문에, 당해 구리박에 대한 아연의 총 부착량은, 40㎎/㎡∼2000㎎/㎡의 범위 내로 된다. 그리고, 당해 아연의 총 부착량은, 상기와 마찬가지의 관점에서, 50㎎/㎡ 이상인 것이 바람직하고, 100㎎/㎡ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상한값은 1000㎎/㎡ 이하인 것이 바람직하고, 600㎎/㎡ 이하인 것이 보다 바람직하다. 단, 당해 아연의 부착량은, 구리박의 표면이 완전히 평탄한 상태라고 가정하였을 때에 단위 면적당 아연의 부착량(환산량)으로 한다.Here, since the zinc adhesion layer contains zinc within the above range per one side of the copper foil, the total adhesion amount of zinc to the copper foil falls within the range of 40 mg / m 2 to 2000 mg / m 2. The total adhesion amount of the zinc is preferably 50 mg / m 2 or more, more preferably 100 mg / m 2 or more from the same viewpoint as described above. The upper limit value is preferably 1000 mg / m 2 or less, and more preferably 600 mg / m 2 or less. However, the amount of zinc adhered is determined as the adhered amount (converted amount) of zinc per unit area on the assumption that the surface of the copper foil is completely flat.

상기 아연 부착층은, 아연을 포함하는 아연층으로 할 수 있는 것 외에, 아연 이외에, 구리 및/또는 구리 중의 확산 속도가 아연보다도 빠른 금속 원소를 포함하는 아연 합금층으로 해도 된다. 예를 들어, 300℃ 이상의 온도하에서, 구리 중의 확산 속도가 아연보다도 빠른 금속 원소(이하, 「이종 금속 원소」라 칭함)로서, Bi, Cd, Sn, Pb, Sb, In, Al, As, Ga, Ge를 들 수 있다. 또한, 아연 부착층을 아연층과 상기 이종 금속 원소 중 적어도 어느 1종 또는 2종 이상을 포함하는 이종 금속층을 적층한 아연계 복합층으로 해도 된다. 이 경우, 아연층과 이종 금속층의 적층 순서는 한정되는 것은 아니며, 구리박의 표면에 아연층, 이종 금속층의 순으로 적층되어도 되고, 구리박의 표면에 이종 금속층, 아연층의 순으로 적층되어 있어도 된다. 아연 부착층을, 아연과 함께 상기 이종 금속 원소를 포함하는 구성으로 함으로써, 구리박 내에 아연과 함께 상기 이종 금속 원소를 확산시킬 수 있다. 이종 금속 원소의 확산 속도는 아연보다도 빠르기 때문에, 이들 이종 금속 원소는, 구리박의 두께 방향에 있어서 아연보다도 빠르게 보다 깊은 위치에 도달한다. 또한, 이들 이종 금속 원소는, 아연과 마찬가지로 상기 미량 성분과 반응하여 화합물을 형성하여, 구리의 결정립의 조대화를 억제한다. 따라서, 아연 부착층을 아연과 함께 이종 금속 원소를 포함하는 구성으로 함으로써, 고온에서 보다 장시간의 열처리가 실시된 경우라도, 구리박의 두께 방향의 대략 전역에 있어서, 구리의 결정립의 조대화를 보다 유효하게 억제시킬 수 있다. 또한, 아연이라 함은 순도가 99% 이상인 아연을 가리킨다. 또한, 아연 합금이라 함은, 아연과 다른 원소와의 혼합물, 고용체, 공정, 화합물 등을 가리킨다.The zinc adhesion layer may be a zinc layer containing zinc and may be a zinc alloy layer containing a metal element having a diffusion rate in copper and / or copper higher than zinc in addition to zinc. For example, Bi, Cd, Sn, Pb, Sb, In, Al, As, Ga, or the like is used as a metal element (hereinafter referred to as " dissimilar metal element ") whose diffusion rate in copper is higher than zinc , And Ge. Further, the zinc adhesion layer may be a zinc-based composite layer obtained by laminating a zinc layer and a dissimilar metal layer containing at least one kind or two or more kinds of the dissimilar metal elements. In this case, the order of stacking the zinc layer and the dissimilar metal layer is not limited. The zinc layer and the dissimilar metal layer may be stacked in this order on the surface of the copper foil, and the dissimilar metal layer and the zinc layer may be stacked in this order on the surface of the copper foil do. The dissimilar metal element can be diffused together with zinc in the copper foil by making the zinc adhesion layer contain the dissimilar metal element together with zinc. Since the dissimilar metal element diffusion rate is faster than zinc, these dissimilar metal elements reach deeper positions faster than zinc in the thickness direction of the copper foil. These dissimilar metal elements react with the trace components similarly to zinc to form a compound to suppress coarsening of the crystal grains of copper. Therefore, by making the zinc-clad layer contain a dissimilar metal element together with zinc, even if a heat treatment for a longer time is performed at a high temperature, the coarsening of the crystal grains of copper Can be effectively suppressed. Also, zinc refers to zinc having a purity of 99% or more. The zinc alloy refers to a mixture, solid solution, process, compound or the like of zinc and other elements.

본건 발명에서는, 아연 부착층을 아연 합금층 또는 아연계 복합층으로 하는 경우, 상기 이종 금속 원소 중에서도 특히 주석을 사용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 상기 환산량에 있어서, 상기 편면당 주석의 부착량이 1㎎/㎡∼200㎎/㎡로 되도록 표면 처리가 실시되는 것이 바람직하다. 또한, 이 경우, {[아연 부착량]/[아연-주석 합금 부착량]}×100으로 산출되는 아연 함유 비율이 30질량% 이상인 것이 바람직하다. 구리박의 표면에 대한 아연의 부착량이 상기 범위 내여도, 아연 부착층 중의 아연 함유 비율이 30질량% 미만인 경우에는, 아연량에 대한 주석량이 과잉으로 된다. 이로 인해, 주석의 존재에 의해, 구리박 내로의 아연의 확산이 저해되어, 구리박의 내부로 충분히 아연을 확산시키는 것이 곤란해져, 상술한 효과가 얻어지지 않아 바람직하지 않다. 또한, 이들 아연 부착층은, 예를 들어, 아연 또는 아연-주석을 포함하는 방청 처리제를 사용하여 형성할 수 있고, 방청 처리층으로서의 기능을 발휘한다.In the present invention, when the zinc adhesion layer is a zinc alloy layer or a zinc-based composite layer, it is particularly preferable to use tin among the dissimilar metal elements. In this case, it is preferable that, in the conversion amount, the surface treatment is performed so that the adhesion amount of the tin per one surface becomes 1 mg / m 2 to 200 mg / m 2. In this case, it is preferable that the zinc content ratio calculated as {[zinc adhesion amount] / [zinc-tin alloy adhesion amount]} x 100 is 30 mass% or more. Even if the adhesion amount of zinc to the surface of the copper foil is within the above range, when the zinc content ratio in the zinc adhesion layer is less than 30 mass%, the tin amount with respect to the zinc amount becomes excessive. As a result, the presence of tin inhibits the diffusion of zinc into the copper foil, which makes it difficult to sufficiently diffuse zinc into the inside of the copper foil, and the above-mentioned effect can not be obtained. The zinc adhesion layer can be formed using, for example, a rust inhibitor containing zinc or zinc-tin, and exhibits a function as an anti-rust treatment layer.

(3) 그 밖의 층 구성(3) Other layer composition

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 상기 아연 부착층 외에, 필요에 따라, 조화(粗化) 처리층, 크로메이트 처리층, 유기제 처리층 등의 다른 표면 처리층을 임의로 구비할 수 있다.The surface-treated copper foil according to the present invention may optionally include other surface-treated layers such as a roughened layer, a chromate treated layer, and an organic treated layer, if necessary, in addition to the zinc-coated layer.

예를 들어, 조화 처리층을 형성함으로써, 당해 표면 처리 구리박을 리튬 이온 이차 전지의 부극 집전체로서 사용하는 경우, 당해 표면 처리 구리박의 표면과 부극 활물질과의 밀착성을 양호하게 할 수 있다.For example, when the surface-treated copper foil is used as a negative electrode current collector of a lithium ion secondary battery by forming a roughened treatment layer, adhesion between the surface of the surface-treated copper foil and the negative electrode active material can be improved.

또한, 크로메이트 처리층 및/또는 유기제 처리층을 구비함으로써, 상기 아연 부착층과 함께, 이들 층에 의해 구리박 표면이 산화하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 상기 리튬 이온 이차 전지의 부극 활물질 등과의 밀착성을 더욱 양호한 것으로 할 수 있다. 또한, 유기제 처리층으로서는, 실란 커플링제 처리층, 유기 방청 처리층 등을 들 수 있다.Further, by providing the chromate treatment layer and / or the organic treatment layer, it is possible to inhibit oxidation of the copper foil surface by these layers together with the zinc adhesion layer. In addition, the adhesion of the lithium ion secondary battery to the negative electrode active material can be further improved. Examples of the organic-treated layer include a silane coupling agent-treated layer and an organic anti-corrosive layer.

(4) 프리 어닐 처리(4) Pre-annealing

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 상기 구리박의 양면에 상기 표면 처리를 실시한 후, 200℃∼280℃의 온도 범위에서 가열하는 프리 어닐 처리를 실시함으로써 얻어진다. 당해 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 구리의 재결정화를 억제한 상태에서 구리박 내로 아연을 확산시킬 수 있다. 이로 인해, 당해 표면 처리 구리박에 구리의 재결정화가 발생하는 온도 이상의 열이 부하되었을 때에, 입계에 석출된 상기 화합물에 의해, 결정립의 성장을 방해하여, 결정립이 조대화되는 것을 억제하는 효과를 발휘시킬 수 있다. 또한, 프리 어닐 처리에 대해서는 후술한다. 또한, 이하에 있어서, 상기 각 표면 처리 후의 구리박이며, 프리 어닐 처리 전의 것을 「표면 처리 완료한 구리박」이라 칭하는 경우가 있다.The surface-treated copper foil according to the present invention is obtained by subjecting the both surfaces of the copper foil to the above-mentioned surface treatment and then subjecting to a pre-annealing treatment in which the copper foil is heated in a temperature range of 200 ° C to 280 ° C. By performing the pre-annealing treatment, zinc can be diffused into the copper foil in a state in which recrystallization of copper is suppressed. As a result, when the surface-treated copper foil is loaded with heat at a temperature higher than the temperature at which recrystallization of copper occurs, the compound precipitated at the grain boundaries prevents the growth of the grains and suppresses coarsening of the grains . The pre-annealing process will be described later. In the following, the copper foil after each surface treatment described above and before the pre-annealing treatment may be referred to as " copper foil after completion of surface treatment ".

(5) 기계적 특성(5) Mechanical properties

본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 표면 처리 완료한 구리박에 대해 상기 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 불활성 가스 분위기하에 있어서 350℃에서 5시간 가열한 후의 인장 강도가 45kgf/㎟ 이상을 나타내고, 프리 어닐 처리의 조건을 구리박 및 아연(및 주석)의 부착량 등에 따라 적절한 조건으로 조정함으로써, 당해 열처리 후의 인장 강도는 50㎏/㎟ 이상을 나타낸다. 본건 발명에 있어서는, 특히, 프리 어닐 처리의 조건을 조정함으로써, 350℃에서 5시간 가열한 후의 인장 강도가 50kgf/㎟ 이상을 나타내는 것이 바람직하다.The surface-treated copper foil according to the present invention exhibits a tensile strength of 45 kgf / mm 2 or more after being subjected to the pre-annealing treatment on the surface-treated copper foil after heating at 350 ° C for 5 hours under an inert gas atmosphere, The tensile strength after the heat treatment is 50 kg / mm < 2 > or more by adjusting the conditions of the treatment under appropriate conditions depending on the amount of copper foil and the amount of zinc (and tin) adhered. In the present invention, it is particularly preferable that the tensile strength after heating at 350 DEG C for 5 hours is 50 kgf / mm < 2 > or more by adjusting the condition of the pre-annealing treatment.

또한, 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 상태 시의 인장 강도에 대한 350℃에서 5시간 가열한 후의 인장 강도의 유지율이 90%∼100%의 범위 내인 것이 바람직하고, 당해 인장 강도의 유지율은 95%∼100%의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 본건 발명에 따르면, 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 프리 어닐 처리를 실시하지 않은 경우와 비교하면, 당해 열처리 후의 인장 강도의 유지율을 향상시킬 수 있다.The surface-treated copper foil according to the present invention preferably has a tensile strength retention ratio of 90% to 100% after heating at 350 占 폚 for 5 hours to tensile strength at the time of state, and the retention ratio of the tensile strength is 95% And more preferably in the range of 100% to 100%. According to the present invention, by performing the pre-annealing treatment, the retention ratio of the tensile strength after the heat treatment can be improved as compared with the case where the pre-annealing treatment is not performed.

2. 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박의 제조 방법2. Manufacturing method of surface-treated copper foil according to the present invention

다음으로, 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박의 제조 방법의 실시 형태를 설명한다. 하기한 방법으로 표면 처리 구리박을 제조함으로써, 상술한 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박을 얻을 수 있다. 이하, 각 공정마다 설명한다.Next, an embodiment of a method for producing a surface-treated copper foil according to the present invention will be described. The surface-treated copper foil according to the present invention can be obtained by producing the surface-treated copper foil by the following method. Each step will be described below.

(1) 구리박의 준비(1) Preparation of Copper foil

본건 발명에서는, 탄소, 황, 염소 및 질소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 미량 성분을 총량으로 100ppm 이상 포함하는 구리박을 준비한다. 여기서, 각 미량 성분의 함유량은 각각 상술한 범위 내인 것이 바람직하다. 또한, 당해 구리박을 구성하는 구리의 평균 결정립경이 1.0㎛ 이하인 것이 바람직하고, 당해 평균 결정립경이 0.8㎛ 이하인 것이 보다 바람직한 점에 대해서도 상술한 바와 같다. 또한, 상태 항장력이 50kgf/㎟ 이상인 구리박을 사용하는 것이 보다 바람직한 점에 대해서도 상술한 바와 같다. 이러한 조건을 만족하는 구리박을 얻을 수 있으면, 그 제조 방법은 한정되는 것은 아니지만, 전해액 중의 각종 첨가물 등을 조정함으로써, 상기 조건을 만족하는 구리박을 얻는 것이 용이하다고 하는 관점에서 전해법에 의해 구리박을 제조하는 것이 바람직하다.In the present invention, a copper foil containing at least 100 ppm of a total of at least one minor component selected from carbon, sulfur, chlorine, and nitrogen is prepared. Here, it is preferable that the contents of the respective minor component are within the above respective ranges. The average grain size of copper constituting the copper foil is preferably 1.0 占 퐉 or less, and more preferably 0.8 占 퐉 or less. It is also as described above that it is more preferable to use a copper foil having a state tensile strength of 50 kgf / mm 2 or more. From the viewpoint that it is easy to obtain a copper foil satisfying the above conditions by adjusting various additives and the like in the electrolytic solution as long as copper foils satisfying these conditions can be obtained, It is preferable to produce a foil.

(2) 조화 처리 공정(2) Harmonious treatment process

다음으로, 구리박의 표면에 조화 처리층을 형성하는 경우에는, 상기 구리박의 표면에 대해 조화 처리를 실시한다. 본건 발명에 있어서, 조화 처리층은 임의의 층 구성이며, 조화 처리 방법 및 조화 처리 조건에 대해, 특별한 한정은 없다. 또한, 조화 처리를 실시하기 전에, 구리박 표면을 산세 처리하는 등의 전처리를 행해도 되는 것은 물론이다. 단, 조화 처리 방법 및 조화 처리 조건은, 이것에 한정되는 것은 아니며, 종래 공지의 방법을, 당해 구리박에 요구되는 표면 특성에 따라, 적당히 적절한 방법 및 조건을 채용하면 된다.Next, when the roughening treatment layer is formed on the surface of the copper foil, the surface of the copper foil is roughened. In the present invention, the roughening treatment layer has an arbitrary layer structure, and there is no particular limitation on the roughening treatment method and the roughening treatment conditions. It goes without saying that the pretreatment such as pickling treatment of the surface of the copper foil may be performed before the roughening treatment. However, the roughening treatment method and roughening treatment conditions are not limited to these, and appropriately appropriate methods and conditions may be adopted according to the surface characteristics required for the copper foil in the conventionally known method.

(3) 아연 부착 공정(표면 처리 공정)(3) Zinc adhering process (surface treatment process)

다음으로, 구리박의 표면에, 아연을 포함하는 표면 처리제를 사용하여 표면 처리(이하, 「아연 부착 처리」라 칭함)를 실시하여, 아연을 포함하는 아연 부착층을 형성한다. 당해 아연 부착 처리 공정에서는, 구리박의 표면에, 아연의 부착량이 상기 범위 내로 되도록, 아연 부착층을 형성할 수 있으면, 어떠한 방법을 이용해도 된다. 예를 들어, 전해 도금 또는 무전해 도금 등의 전기 화학적 방법, 스퍼터링 증착 또는 화학 기상 반응 등의 물리 증착 방법을 이용할 수 있다. 그러나, 생산 비용을 고려하면, 전기 화학적 방법을 채용하는 것이 바람직하다. 또한, 표면 처리제에 아연 이외의 다른 금속 원소가 포함되어 있어도 되는 것은 상술한 바와 같으며, 당해 다른 금속 원소로서 주석이 바람직한 점도 상술한 바와 같다.Next, a surface treatment (hereinafter referred to as " zinc adhesion treatment ") is performed on the surface of the copper foil using a surface treatment agent containing zinc to form a zinc adhesion layer containing zinc. In the zinc adhesion treatment step, any method may be used as long as the zinc adhesion layer can be formed on the surface of the copper foil so that the adhesion amount of zinc falls within the above range. For example, electrochemical methods such as electrolytic plating or electroless plating, physical vapor deposition methods such as sputter deposition or chemical vapor phase reaction can be used. However, considering the production cost, it is preferable to employ an electrochemical method. The surface treatment agent may contain other metal elements other than zinc as described above, and tin as the other metal element is also as described above.

전해 도금법:전해 도금법에 의해, 구리박의 표면에, 아연 부착 처리를 실시하는 경우, 아연 도금액으로서, 피로인산아연 도금욕, 시안화아연 도금욕, 황산아연 도금욕 등을 사용할 수 있다. 예를 들어, 피로인산아연 도금욕을 채용하는 경우, 구체적으로는, 아연 농도가 5g/l∼30g/l, 피로인산칼륨 농도가 50g/l∼500g/l, pH9∼pH12의 욕 조성을 채용하고, 액온 20∼50℃의 용액 중에서, 구리박 자체를 캐소드에 분극하여, 전류 밀도 0.3A/d㎡∼10A/d㎡A의 조건에서 전해함으로써, 구리박 표면에 아연 부착층을 형성할 수 있다.Electrolytic plating method: When a zinc plating treatment is applied to the surface of a copper foil by an electrolytic plating method, a zinc pyrophosphate bath, a zinc cyanide plating bath, a zinc sulfate plating bath, or the like can be used as the zinc plating solution. For example, in the case of employing a zinc pyrophosphate bath, specifically, a bath composition of zinc concentration of 5 g / l to 30 g / l, potassium pyrophosphate concentration of 50 g / l to 500 g / l and pH 9 to pH 12 is adopted , The zinc foil layer can be formed on the surface of the copper foil by electrolyzing the copper foil itself in a solution at a liquid temperature of 20 to 50 占 폚 at a cathode under the conditions of a current density of 0.3 A / dm 2 to 10 A / dm 2 A .

(4) 크로메이트 처리(4) Chromate treatment

아연 부착층의 표면에 대해, 임의로 크로메이트 처리를 실시해도 된다. 크로메이트 처리에는, 전해 크로메이트 처리와 침지 크로메이트 처리가 있지만, 어느 방법을 이용해도 상관없다. 그러나, 크로메이트 피막의 두께 편차, 부착량의 안정성 등을 고려하면, 전해 크로메이트 처리를 채용하는 것이 바람직하다. 전해 크로메이트 처리의 경우의 전해 조건은, 특별히 한정을 갖는 것은 아니며, 적당히, 적절한 조건을 채용할 수 있다.The surface of the zinc adhesion layer may optionally be subjected to a chromate treatment. The chromate treatment includes electrolytic chromate treatment and immersion chromate treatment, but any method may be used. However, it is preferable to employ an electrolytic chromate treatment in consideration of the thickness variation of the chromate film, the stability of the deposition amount, and the like. The electrolytic conditions in the case of the electrolytic chromate treatment are not particularly limited, and suitable conditions can be appropriately employed.

(5) 유기제 처리(5) Organic treatment

또한, 아연 부착층의 표면에 대해 유기제 처리를 실시해도 된다. 여기서 말하는 유기제 처리에는, 실란 커플링제 처리, 유기 방청 처리 등이 있다.Further, the surface of the zinc adhesion layer may be subjected to an organic treatment. Examples of the organic agent treatment include a silane coupling agent treatment and an organic rust inhibitive treatment.

실란 커플링제 처리:본건 발명에 있어서, 실란 커플링제 처리는 필수가 아니라, 구리박에 대해 요구되는 절연 수지 기재 혹은 리튬 이온 이차 전지의 부극 활물질과의 밀착성 등을 고려하여, 적당히 실시하는 처리이며, 적당히, 적절한 조건 및 방법을 채용할 수 있다.Silane coupling agent treatment: In the present invention, the treatment with the silane coupling agent is not essential but is carried out appropriately in consideration of the adhesion property of the insulating resin base material or the lithium ion secondary battery to the negative electrode active material required for the copper foil, Appropriate conditions and methods can be employed as appropriate.

유기 방청 처리:또한, 방청 효과를 더욱 향상시키기 위해, 유기 방청 처리를 실시하는 경우에는, 예를 들어, 벤조트리아졸류의 메틸벤조트리아졸(톨릴트리아졸), 아미노벤조트리아졸, 카르복실벤조트리아졸, 벤조트리아졸 등의 유기제를 사용하여 표면 처리를 실시할 수 있다. 또한, 기타의 유기제로서는, 지방족 카르본산, 알킬아민류, 벤조산류, 이미다졸류, 트리아진티올류 등을 사용해도 된다. 유기 방청 처리에 대해서도 특별히 한정되는 것은 아니며, 적당히, 적절한 조건 및 방법을 채용할 수 있다.Organic anti-rust treatment: In order to further improve the anti-rust effect, in the case of performing the organic anti-rust treatment, for example, methyl benzotriazole (tolyl triazole) of benzotriazoles, aminobenzotriazole, The surface treatment can be carried out using an organic agent such as sol or benzotriazole. As other organic agents, aliphatic carboxylic acids, alkyl amines, benzoic acids, imidazoles, triazine thiols and the like may be used. The organic rust preventive treatment is not particularly limited, and appropriate conditions and methods can be appropriately employed.

(6) 건조 공정(6) Drying process

구리박에 대해, 상기 각종 표면 처리가 종료되면, 건조 공정을 행하여, 상기 각종 표면 처리 공정에서 젖은 상태에 있는 구리박을 건조시킨다. 건조 조건은 특별히 한정되는 것은 아니다. 단, 유기제 처리를 행한 경우에는, 구리박 표면에 부착된 실란 커플링제 및/또는 유기 방청제의 열분해 등을 방지하고, 구리박 표면에이들 약제를 양호한 상태로 정착시킬 수 있는 열처리 조건(온도, 시간 등)을 채용하면 된다.When the copper foil is subjected to the various surface treatments, a drying step is performed to dry the copper foil in a wet state in the various surface treatment steps. The drying conditions are not particularly limited. However, in the case where the organic treatment is carried out, it is preferable to prevent thermal decomposition or the like of the silane coupling agent and / or the organic rust inhibitor adhering to the surface of the copper foil, and to heat treat the copper foil surface in a satisfactory condition, Time, etc.) may be employed.

(7)프리 어닐 공정(7) Pre-annealing process

다음으로, 프리 어닐 공정에 대해 설명한다. 프리 어닐 공정은, 상기 건조 공정까지의 공정을 거친 구리박에 대해, 200℃∼280℃의 온도 범위에서 열처리를 실시함으로써 아연 부착층측으로부터 구리박 내로 아연을 확산시켜, 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박을 얻는 공정이다.Next, the pre-annealing process will be described. In the pre-annealing step, the copper foil subjected to the processes up to the drying step is subjected to heat treatment in a temperature range of 200 ° C to 280 ° C to diffuse zinc from the zinc adhesion layer side into the copper foil, It is a process to obtain foil.

온도:본건 발명에 있어서, 상기 구리박은 상기 미량 성분의 존재에 의해, 200℃∼280℃의 온도 범위에서 가열해도, 결정립의 조대화가 일어나기 어렵다. 또한, 표면에 아연 부착층을 구비한 상기 구리박을 상기 온도 범위 내에서 가열하면, 당해 구리박을 상온에서 보관하는 경우와 비교하면, 공업적 생산 효율에 적합한 속도로 아연을 구리박 내로 확산시킬 수 있어, 구리박 내에 있어서의 아연의 분포도 균일화시킬 수 있다. 이로 인해, 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 당해 표면 처리 구리박에 대해 고온의 열이 장시간에 걸쳐 부하되었을 때라도, 구리의 결정립의 조대화를 억제하는 효과를 높일 수 있고, 프리 어닐 처리를 실시하지 않은 경우와 비교하면 인장 강도의 저하를 충분히 억제하는 것이 가능해진다.Temperature: In the present invention, the coarse grains of the copper foil are hardly coarsened even when the copper foil is heated in the temperature range of 200 ° C to 280 ° C due to the existence of the trace component. When the copper foil having the zinc adhesion layer on its surface is heated within the above temperature range, compared with the case where the copper foil is stored at room temperature, zinc is diffused into the copper foil at a speed suitable for industrial production efficiency So that the distribution of zinc in the copper foil can be made uniform. Thus, by performing the pre-annealing treatment, even when high-temperature heat is applied to the surface treated copper foil for a long time, the effect of suppressing the coarsening of the crystal grains of copper can be enhanced, The decrease in tensile strength can be suppressed sufficiently.

처리 시간:다음으로, 프리 어닐 처리를 실시하는 시간(이하, 「처리 시간」)에 대해 설명한다. 상기 표면 처리 후의 구리박에 대해 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 상온에서 보관한 경우와 비교하면, 구리박 내로의 아연 확산량을 증가시킬 수 있고, 고온에서 열처리가 실시된 후에도 인장 강도의 저하를 억제하는 것이 가능해진다. 그러나, 구리박의 표층부뿐만 아니라, 구리박의 내부에도 충분한 양의 아연을 확산시킨다고 하는 관점에서, 당해 처리 시간은, 2시간 이상 25시간 이하인 것이 바람직하다. 또한, 구리박의 내부로 보다 충분히 아연을 확산시켜, 구리박 내의 아연의 분포를 보다 균일화한다고 하는 관점에서, 당해 처리 시간은 8시간 이상 25시간 이하인 것이 바람직하다. 한편, 당해 처리 시간이 2시간 미만인 경우, 구리박의 내부로의 아연 확산량이 적어, 고온의 열처리가 장시간 실시된 경우에는 구리박의 내부에 있어서 결정립이 조대화될 우려가 있고, 인장 강도의 저하를 충분히 억제할 수 없는 경우가 있다. 또한, 프리 어닐 시간이 25시간 이상으로 되면, 그 이상 프리 어닐 처리를 실시해도 구리의 결정립의 조대화를 억제하는 효과는 포화된다. 또한, 열처리에 관한 비용 등도 증가한다. 따라서, 이들 관점에서 프리 어닐 시간은 25시간 이내로 하는 것이 바람직하다.Processing time: Next, the time for performing the pre-annealing process (hereinafter referred to as " processing time ") will be described. By subjecting the surface-treated copper foil to the pre-annealing treatment, it is possible to increase the amount of zinc diffusion into the copper foil as compared with the case where the copper foil is stored at room temperature, and suppress the decrease in tensile strength even after the heat treatment at a high temperature . However, from the viewpoint that a sufficient amount of zinc is diffused not only in the surface layer portion of the copper foil but also inside the copper foil, the treatment time is preferably from 2 hours to 25 hours. Further, from the viewpoint that the zinc is more sufficiently diffused into the copper foil and the distribution of zinc in the copper foil is more uniform, the treatment time is preferably 8 hours or more and 25 hours or less. On the other hand, when the treatment time is less than 2 hours, the amount of zinc diffusion into the copper foil is small, and if the heat treatment at a high temperature is performed for a long time, there is a possibility that crystal grains are coarsened in the inside of the copper foil, Can not be sufficiently suppressed. When the pre-annealing time is 25 hours or more, the effect of suppressing the coarsening of the crystal grains of copper is saturated even if the pre-annealing treatment is further performed. In addition, the cost related to the heat treatment also increases. Therefore, from these viewpoints, the pre-annealing time is preferably set to be within 25 hours.

단, 프리 어닐 조건은, 당해 구리박의 결정 구조, 당해 구리박 내의 미량 성분의 함유량, 당해 구리박에 대한 아연의 부착량 등에 따라, 아연의 확산에 적합한 최적의 가열 온도 및/또는 시간은 다르다. 따라서, 이들에 따라, 적절히, 상기 범위 내의 온도 및 시간 내에서 적절한 프리 어닐 조건을 설정하는 것이 바람직하다.However, the optimum annealing temperature and / or time suitable for the diffusion of zinc differs depending on the crystal structure of the copper foil, the content of trace components in the copper foil, the amount of zinc adhered to the copper foil, and the like. Accordingly, it is preferable to appropriately set the appropriate pre-annealing conditions within the above-mentioned range within the temperature and time.

<본건 발명에 관한 부극 집전체의 실시 형태>&Lt; Embodiment of negative electrode current collector according to the present invention &

다음으로, 본건 발명에 관한 부극 집전체의 실시 형태를 설명한다. 본건 발명에 관한 부극 집전체는, 상술한 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박을 사용한 것을 특징으로 하고, 리튬 이온 이차 전지 등의 비수계 이차 전지에 있어서, 전지 내부의 부극 합재에 접촉하는 집전체로서 사용할 수 있다. 본건 발명에 관한 집전체는, 상기 표면 처리 구리박을 사용하는 것 이외는 특별히 한정은 없는다. 본건 발명에 관한 집전체는, 상기 표면 처리 구리박을 사용하기 때문에, 인장 강도 등의 기계적 특성이 우수한 것으로 된다.Next, an embodiment of the negative electrode current collector according to the present invention will be described. The negative electrode current collector according to the present invention is characterized by using the above-described surface-treated copper foil according to the present invention. In a non-aqueous secondary battery such as a lithium ion secondary battery, a current collector Can be used. The current collector according to the present invention is not particularly limited except that the surface-treated copper foil is used. Since the current collector according to the present invention uses the above-mentioned surface-treated copper foil, it has excellent mechanical properties such as tensile strength.

<본건 발명에 관한 비수계 이차 전지의 부극재의 실시 형태><Embodiment of negative electrode material of non-aqueous secondary battery according to the present invention>

다음으로, 본건 발명에 관한 비수계 이차 전지의 부극재의 실시 형태를 설명한다. 여기서, 비수계 이차 전지라 함은, 수용액 이외의 전해질을 사용한 이차 전지의 총칭이며, 유기 전해액, 폴리머 겔 전해질, 고체 전해질, 폴리머 전해질, 용융염 전해질 등을 사용한 이차 전지를 말한다. 본건 발명에 관한 부극재는, 상기 집전체를 사용한 것이라면, 그 형태에 대해 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 리튬 이온 이차 전지의 부극재와 같이, 집전체의 표면에 부극 합제층을 구비한 구성으로 할 수 있다. 또한, 이 경우, 부극 합제층은, 예를 들어, 부극 활물질과, 도전제와, 결착제를 포함하는 구성으로 할 수 있다.Next, an embodiment of the negative electrode material of the non-aqueous secondary battery according to the present invention will be described. Here, the non-aqueous secondary battery is a generic term of a secondary battery using an electrolyte other than an aqueous solution, and refers to a secondary battery using an organic electrolyte, a polymer gel electrolyte, a solid electrolyte, a polymer electrolyte, a molten salt electrolyte and the like. The negative electrode material according to the present invention is not particularly limited as far as it uses the current collector. For example, the negative electrode material mixture layer may be provided on the surface of the current collector like the negative electrode material of the lithium ion secondary battery. In this case, the negative electrode material mixture layer may include, for example, a negative electrode active material, a conductive agent, and a binder.

상술한 바와 같이, 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박은, 프리 어닐 처리를 실시하지 않은 경우와 비교하면, 인장 강도의 저하를 억제하는 효과가 높고, 열처리 후의 인장 강도의 유지율이 높아진다. 그 결과, 불활성 가스 분위기하에 있어서 350℃에서 5시간 가열된 후라도, 45kgf/㎟ 이상, 바람직하게는 50kgf/㎟ 이상의 인장 강도를 유지하는 것이 가능해진다. 이로 인해, 리튬 이온 이차 전지 등에 있어서 충방전 사이클을 반복함으로써, 집전체에 반복 응력이 가해지는 경우라도, 집전체에 주름 등의 변형을 발생시키거나, 파단할 우려가 작고, 리튬 이온 이차 전지의 전기적 특성을 유지할 수 있다. 또한, 리튬 이온 이차 전지의 부극재를 제조할 때에는, 집전체의 표면에 부극 합제층을 형성하는 공정에서, 고온의 열이 집전체에 부하된다. 이 경우여도, 충분한 레벨의 인장 강도를 갖는다.As described above, the surface treated copper foil according to the present invention has a higher effect of suppressing lowering of the tensile strength and higher retention ratio of the tensile strength after the heat treatment as compared with the case where the pre-annealing treatment is not performed. As a result, even after heating at 350 DEG C for 5 hours in an inert gas atmosphere, it becomes possible to maintain a tensile strength of 45 kgf / mm2 or more, preferably 50 kgf / mm2 or more. Therefore, even if a repetitive stress is applied to the current collector by repeating a charge-discharge cycle in a lithium ion secondary battery or the like, there is little fear that deformation such as wrinkling or the like will occur in the current collector, Electrical characteristics can be maintained. Further, when the negative electrode material of the lithium ion secondary battery is manufactured, high temperature heat is applied to the current collector in the step of forming the negative electrode material mixture layer on the surface of the current collector. Even in this case, it has a sufficient level of tensile strength.

이하, 실시예 및 비교예를 들어, 본건 발명에 관한 표면 처리 구리박을 보다 구체적으로 설명하지만, 본건 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the surface treated copper foil according to the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

실시예 1Example 1

본 실시예 1에서는, 본건 발명에 관한 구리박을 제조하여, 후술하는 비교예 1과 대비하는 것으로 하였다. 이하, 공정순으로 설명한다.In Example 1, copper foil according to the present invention was produced and compared with Comparative Example 1 described later. Hereinafter, explanation will be given in the order of the process.

구리박의 준비:우선, 구리박 중의 상기 미량 원소의 합계량이 100ppm 이상( 탄소 44ppm, 황 14ppm, 염소 54ppm, 질소 11ppm, 평균 결정립경 0.64㎛)인 전해 구리박을 준비하였다. 구체적으로는, 미쓰이긴조꾸고교가부시끼가이샤(三井金屬鑛業株式會社)제의 VLP 구리박의 제조에 사용하는 두께 12㎛의 표면 처리가 실시되어 있지 않은 전해 구리박을 준비하였다.Preparation of copper foil: First, an electrolytic copper foil having a total amount of the above trace elements in copper foil of 100 ppm or more (carbon: 44 ppm, sulfur: 14 ppm, chlorine: 54 ppm, nitrogen: 11 ppm, average crystal grain diameter: 0.64 μm) was prepared. Specifically, an electrolytic copper foil having a thickness of 12 mu m and not subjected to a surface treatment used for the production of VLP copper foil manufactured by Mitsui Kinzoku Kogyo Co., Ltd. was prepared.

조화 처리 공정:그리고, 상기 구리박을 프리 황산 농도가 200g/l, 구리 농도가 8g/l, 액온 35℃인 구리 도금액 중에 침지하여, 구리박 자체를 캐소드에 분극하고, 전류 밀도 25A/d㎡의 버닝 구리 도금 조건에서 전해하여, 구리박의 음극면측 표면에 미세 구리 입자를 석출 부착시켰다. 다음으로, 이 미세 구리 입자의 탈락을 방지하기 위해, 프리 황산 농도가 110g/l, 구리 농도가 70g/l, 액온 50℃의 구리 도금액 중에서, 구리박 자체를 캐소드에 분극하고, 전류 밀도 25A/d㎡의 평활 도금 조건에서 전해하여, 음극면측의 조화 처리를 완료하였다.The copper foil was immersed in a copper plating solution having a free sulfuric acid concentration of 200 g / l, a copper concentration of 8 g / l, and a liquid temperature of 35 캜 to polarize the copper foil itself to the cathode, and the current density was 25 A / Under the conditions of burning copper plating, so that fine copper particles were deposited and deposited on the surface of the copper foil on the cathode surface side. Next, in order to prevent the fine copper particles from falling off, the copper foil itself was polarized to the cathode in a copper plating solution having a free sulfuric acid concentration of 110 g / l, a copper concentration of 70 g / l and a liquid temperature of 50 캜, dm &lt; 2 &gt; to smooth the cathode surface side.

아연 부착 처리 공정:상기 조화 처리 후의 구리박 양면에 아연 및 주석을 포함하는 표면 처리제를 사용하여, 구리박의 양면에 아연-주석 합금을 포함하는 아연 부착층을 형성하였다. 우선, 아연 부착층의 형성 방법에 대해 설명한다.Zinc Adhesion Treatment Step: A zinc coating layer containing zinc-tin alloy was formed on both sides of a copper foil by using a surface treatment agent containing zinc and tin on both surfaces of the copper foil after the roughening treatment. First, a method of forming the zinc adhesion layer will be described.

본 실시예에서는, 피로인산아연-주석 도금욕을 사용하여, 구리박의 양면에 아연 부착층으로서 아연-주석 합금층을 형성하였다. 피로인산아연-주석 도금욕의 욕 조성은, 아연 농도가 1g/l∼6g/l, 주석 농도가 1g/l∼6g/l, 피로인산칼륨 농도가 100g/l, pH10.6으로 하였다. 당해 조성의 피로인산아연-주석 도금욕 중에서, 액온 30℃로 하고, 구리박 자체를 캐소드에 분극하여, 전류 밀도 및 전해 시간을 적당히 조정함으로써, 구리박의 편면당 아연의 부착량이 50㎎/㎡, 주석의 부착량이 5㎎/㎡인 구리박을 얻고, 이것을 시료 1로 하였다.In this embodiment, a zinc-tin alloy layer was formed as a zinc-adhered layer on both sides of a copper foil using a zinc pyrophosphate-tin plating bath. The bath composition of the zinc pyrophosphate-tin plating bath was such that the zinc concentration was 1 g / l to 6 g / l, the tin concentration was 1 g / l to 6 g / l, the potassium pyrophosphate concentration was 100 g / l and the pH was 10.6. The copper foil itself was polarized to the cathode at a solution temperature of 30 占 폚 in a zinc pyrophosphate-tin plating bath of this composition to appropriately adjust the current density and the electrolysis time so that the adhesion amount of zinc per one side of the copper foil was 50 mg / To obtain a copper foil having an adhesion amount of tin of 5 mg / m &lt; 2 &gt;

프리 어닐 처리 공정:다음으로, 시료 1에 대해, 표 1에 나타내는 조건에서 프리 어닐 처리를 실시하고, 그것을 실시 시료 1로 하였다. 단, 프리 어닐 처리시에는, 각 시료를 오븐에 넣고, 고내 온도를 5℃/min으로 승온시켰다. 그리고, 표 1에 있어서 당해 시료 1이 해당하는 처리 조건에서 가열하였다. 또한, 표 1에 있어서, 「○」로 표시되는 란은, 당해 조건(온도, 처리 시간)에서 프리 어닐 처리가 그 란의 괄호 내에 나타내는 번호의 시료에 대해 행한 것을 의미한다.Free annealing process: Next, sample 1 was subjected to pre-annealing under the conditions shown in Table 1, and it was designated as sample 1 for practical use. At the time of pre-annealing, each sample was placed in an oven and the temperature in the furnace was raised to 5 占 폚 / min. In Table 1, the sample 1 was heated under the corresponding treatment conditions. In Table 1, the column indicated by &quot;? &Quot; means that the pre-annealing process was performed on the sample of the number indicated in the parenthesis of the column under the condition (temperature, treatment time).

실시예 2Example 2

실시예 2에서는, 주석의 편면당 부착량을 15㎎/㎡로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 시료 2를 제작한 후, 표 1에 나타내는 조건에서 프리 어닐 처리를 실시하고, 실시 시료 2로 하였다.In Example 2, a sample 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the adhesion amount per one surface of tin was 15 mg / m &lt; 2 &gt;, subjected to pre-annealing under the conditions shown in Table 1, Respectively.

실시예 3Example 3

실시예 3에서는, 주석의 편면당 부착량을 30㎎/㎡로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 시료 3을 제작한 후, 표 1에 나타내는 조건에서 프리 어닐 처리를 실시하고 실시 시료 3으로 하였다.In Example 3, a sample 3 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the adhesion amount per one surface of tin was 30 mg / m 2. Thereafter, the sample was subjected to pre-annealing under the conditions shown in Table 1, Respectively.

실시예 4Example 4

실시예 4에서는, 주석의 편면당 부착량을 15㎎/㎡, 아연의 총 부착량을 100㎎/㎡로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 시료 4를 제작한 후, 표 1에 나타내는 조건에서 프리 어닐 처리를 실시하고 실시 시료 4로 하였다.In Example 4, Sample 4 was produced in the same manner as in Example 1, except that the adhesion amount per one surface of tin was 15 mg / m 2 and the total adhesion amount of zinc was 100 mg / Subjected to pre-annealing treatment, and used as sample sample 4.

실시예 5Example 5

실시예 5에서는, 주석의 편면당 부착량을 15㎎/㎡, 아연의 총 부착량을 150㎎/㎡로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 시료 5를 제작한 후, 표 1에 나타내는 조건에서 프리 어닐 처리를 실시하고 실시 시료 5로 하였다.In Example 5, Sample 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the adhesion amount per one surface of tin was 15 mg / m 2 and the total adhesion amount of zinc was 150 mg / Subjected to pre-annealing treatment and used as sample sample 5.

실시예 6Example 6

다음으로, 실시예 6에 대해 설명한다. 실시예 6에서는, 본건 발명에 관한 다른 구리박을 이하와 같이 제조하였다. 이하, 공정순으로 설명한다.Next, a sixth embodiment will be described. In Example 6, another copper foil according to the present invention was produced as follows. Hereinafter, explanation will be given in the order of the process.

구리박의 제작:실시예 6에서는, 이하에 나타내는 조건으로 제작한 전해 구리박을 사용하였다. 우선, 황산계 구리 전해액으로서, 구리 이온을 80g/l, 황산을 250g/l의 농도로 포함하고, 또한, 염소 이온을 2.7ppm, 젤라틴을 2ppm의 농도로 포함하는 전해액(50℃)을 사용하여, 50A/d㎡의 전류 밀도에서 전해를 행하여, 12㎛의 두께의 전해 구리박을 얻었다. 당해 전해 구리박 중의 미량 성분의 함유량은, 탄소 49ppm, 황 26ppm, 염소 24ppm, 질소 11ppm, 평균 결정립경은 0.58㎛였다.Preparation of copper foil: In Example 6, an electrolytic copper foil produced under the following conditions was used. First, an electrolytic solution (50 占 폚) containing copper ion at a concentration of 80 g / l and sulfuric acid at a concentration of 250 g / l and chlorine ion at 2.7 ppm and gelatin at a concentration of 2 ppm was used as a sulfuric acid- , And electrolysis was performed at a current density of 50 A / dm 2 to obtain an electrolytic copper foil having a thickness of 12 탆. The contents of trace components in the electrolytic copper foil were 49 ppm of carbon, 26 ppm of sulfur, 24 ppm of chlorine, 11 ppm of nitrogen, and an average grain diameter of 0.58 탆.

조화 처리 공정:그리고, 상기 구리박에 대해, 실시예 1과 마찬가지로 하여 조화 처리를 실시하였다.Harmonious treatment process: The copper foil was subjected to a roughening treatment in the same manner as in Example 1.

아연 부착 공정:상기 조화 처리 후의 전해 구리박에, 편면당 주석의 부착량을 25㎎/㎡, 아연의 부착량을 150㎎/㎡로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 상기 구리박의 양면에 아연 부착층을 형성하고 시료 6을 제작하였다. 그리고, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표 1에 나타내는 조건에서 프리 어닐 처리를 실시하고, 각 프리 어닐 처리 후의 시료를 실시 시료 6으로 하였다.Zinc adhering step: In the same manner as in Example 1 except that the electrolytic copper foil after the coarsening treatment had an adhesion amount of tin per side of 25 mg / m2 and an adhesion amount of zinc of 150 mg / An adhesive layer was formed and a sample 6 was prepared. Then, in the same manner as in Example 1, the pre-annealing treatment was performed under the conditions shown in Table 1, and the sample after each pre-annealing treatment was used as sample 6.

실시예 7Example 7

실시예 7에서는, 아연 부착층으로서 아연층을 형성한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 표면 처리 구리박을 제조하였다. 아연층은, 피로인산아연 도금욕을 사용하여 형성하였다. 피로인산아연 도금욕의 욕 조성은, 아연 농도가 6g/l, 피로인산칼륨 농도가 125g/l, pH10.5의 욕 조성을 채용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 전해를 행하여, 구리박의 편면당 아연의 부착량이 50㎎/㎡인 구리박을 얻고, 이것을 시료 7로 하였다. 그 후, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 표 1에 나타내는 조건에서 프리 어닐 처리를 실시하고, 각 프리 어닐 후의 시료를 실시 시료 7로 하였다.In Example 7, a surface-treated copper foil was produced in the same manner as in Example 1 except that a zinc layer was formed as a zinc-adhered layer. The zinc layer was formed using a zinc pyrophosphate plating bath. The bath composition of the zinc pyrophosphate plating bath was electrolytic in the same manner as in Example 1 except that a bath composition having a zinc concentration of 6 g / l, a potassium pyrophosphate concentration of 125 g / l and a pH of 10.5 was employed, Copper foil having an adhered amount of zinc per 50 mg / m &lt; 2 &gt; was obtained. Thereafter, in the same manner as in Example 1, the pre-annealing treatment was performed under the conditions shown in Table 1, and the sample after each pre-annealing was used as Sample 7.

Figure pct00001
Figure pct00001

비교예Comparative Example

비교예에서는, 프리 어닐 처리를 실시하지 않은 것 이외에는, 실시예 1∼실시예 7과 마찬가지로 시료를 제작하고, 각각 비교 시료 1∼비교 시료 7로 하였다.In the comparative examples, samples were prepared in the same manner as in Examples 1 to 7 except that the pre-annealing treatment was not carried out, and Comparative Examples 1 to 7 were respectively prepared.

각 실시예 및 비교예에서 제작한 시료의 조건 등의 대비를 용이하게 하기 위해, 표 2에 각 시료에 있어서의 주석 및 아연의 총 부착량 및 구리박의 종별을 나타낸다. 또한, 표 2에는, 후술하는 방법으로 측정한 각 구리박(A 또는 B)의 상태 인장 강도를 나타낸다. 또한, 표 2에 있어서, 구리박의 종별 A라 함은, 실시예 1∼실시예 5 및 실시예 7에서 사용한 전해 구리박을 가리키고, 구리박의 종별 B라 함은, 실시예 6에 기재된 방법으로 제작한 전해 구리박을 가리킨다.Table 2 shows the total amount of tin and zinc deposited and the type of copper foil in each sample in order to facilitate comparison of the conditions of the samples prepared in each of the examples and the comparative examples. Table 2 shows the tensile strength of each copper foil (A or B) measured by a method described later. In Table 2, the type A of the copper foil refers to the electrolytic copper foil used in Examples 1 to 5 and Example 7, and the type B of copper foil refers to the electrolytic copper foil used in Examples 1 to 5 and Example 7 And the like.

Figure pct00002
Figure pct00002

[평가][evaluation]

1. 평가 방법1. Evaluation Method

(1) 미량 원소 함유량(1) Trace element content

실시예 1∼실시예 6 및 비교예에서 사용한 각 구리박 중의 미량 원소의 함유량은 다음과 같이 하여 측정하였다. 우선, 구리박 중의 탄소 및 황의 함유량은, 가부시끼가이샤 호리바세이사꾸쇼제의 탄소·황 분석 장치(EMIA-920V)를 사용하여 분석하였다. 또한, 구리박 중의 질소의 함유량에 대해서는, 가부시끼가이샤 호리바세이사꾸쇼제의 산소·질소 분석 장치(EMGA-620)를 사용하여 분석하였다. 그리고, 구리박 중의 염소의 함유량에 대해서는, 염화은 비탁법에 의해, 가부시끼가이샤 히타치하이테크필딩제의 분광 광도계(U-3310)를 사용하여 분석하였다.The contents of trace elements in the respective copper foils used in Examples 1 to 6 and Comparative Examples were measured as follows. First, the content of carbon and sulfur in the copper foil was analyzed using a carbon-sulfur analyzer (EMIA-920V) manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd. The content of nitrogen in the copper foil was analyzed using an oxygen / nitrogen analyzer (EMGA-620) manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd. The content of chlorine in the copper foil was analyzed by a silver chloride plating method using a spectrophotometer (U-3310) manufactured by Hitachi High-Tech Filing Co., Ltd.

(2) 인장 강도(2) Tensile strength

실시예 1∼실시예 6 및 비교예에서 얻은 각 시료를 불활성 가스 분위기하에 있어서, 350℃에서 5시간 가열하고, 가열 후의 각 시료의 인장 강도를 측정하였다.Each of the samples obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Example was heated at 350 占 폚 for 5 hours under an inert gas atmosphere and the tensile strength of each sample after heating was measured.

또한, 본건 발명에 있어서, 「인장 강도」는, IPC-TM-650에 준거하여, 100㎜×10㎜(평점간 거리:50㎜)의 직사각형의 구리박 시료를 사용하여, 인장 속도 50㎜/min.으로 측정하였을 때의 값을 말한다.In the present invention, the &quot; tensile strength &quot; was measured using a rectangular copper foil sample of 100 mm x 10 mm (distance between marks: 50 mm) according to IPC-TM-650 at a tensile speed of 50 mm / min. &lt; / RTI &gt;

(3) 결정 조직(3) Crystal structure

실시예 1 및 실시예 5와, 비교예 1 및 비교예 5에서 얻은 각 시료 및 조화 처리, 아연 부착 처리 등을 실시하기 전의 미처리의 구리박(A 및 B)에 대해, 불활성 가스 분위기하에 있어서, 350℃에서 5시간 가열한 후의 결정립경을 이하의 방법으로 측정하였다. 또한, 실시예 1 및 실시예 5에서 얻은 실시 시료 1 및 실시 시료 5에 대해서는, 처리 조건 (1)(200℃)로 8시간의 프리 어닐 처리를 실시한 것을 사용하였다.The untreated copper foils A and B before carrying out the respective samples obtained in Examples 1 and 5 and Comparative Examples 1 and 5 and the zinc treatment and the like were subjected to heat treatment under an inert gas atmosphere, The crystal grain size after heating at 350 DEG C for 5 hours was measured by the following method. The sample 1 and sample 5 obtained in Example 1 and Example 5 were subjected to a pre-annealing treatment under the treatment condition (1) (200 ° C) for 8 hours.

구리박의 결정립경의 측정에는, EBSD 평가 장치(OIM Analysis, 가부시끼가이샤 TSL 솔루션즈제)를 탑재한 FE 총형의 주사형 전자 현미경(SUPRA 55VP, 칼자이스 가부시끼가이샤제) 및 부속의 EBSD 해석 장치를 사용하였다. 이 장치를 사용하여, 적절하게 단면 가공된 당해 샘플에 대해, EBSD법에 준하여, 구리박의 단면의 결정 상태의 패턴의 화상 데이터를 얻고, 이 화상 데이터를, EBSD 해석 프로그램(OIM Analysis, 가부시끼가이샤 TSL 솔루션즈제)의 분석 메뉴에 의해, 평균 결정립경의 수치화를 행하였다. 본 평가에 있어서는, 방위차 5° 이상을, 결정립계로 간주하였다. 관찰시의 주사형 전자 현미경의 조건은 가속 전압:20㎸, 애퍼쳐 직경:60㎜, High Current mode, 시료 각도:70°였다. 또한, 관찰 배율, 측정 영역, 스텝 사이즈는, 결정립의 크기에 따라, 적당히, 조건을 변경하여 측정하였다.The measurement of the grain diameter of the copper foil was carried out by using an FE-type scanning electron microscope (SUPRA 55VP, manufactured by Carl Zeiss Co.) equipped with an EBSD evaluation device (OIM Analysis, manufactured by TSL Solutions Co., Ltd.) Respectively. Using this apparatus, image data of a pattern of a crystalline state of a cross section of a copper foil was obtained for the appropriately cross-sectioned sample according to the EBSD method, and this image data was analyzed by an EBSD analysis program (OIM Analysis, The average crystal grain size was numerically expressed by an analysis menu of TSL Solutions Co., Ltd., Japan. In this evaluation, the orientation difference of 5 degrees or more was regarded as a grain boundary system. The conditions of the scanning electron microscope at the time of observation were an acceleration voltage of 20 kV, an aperture diameter of 60 mm, a high current mode and a sample angle of 70 DEG. In addition, the observation magnification, the measurement area, and the step size were measured by appropriately changing the conditions according to the grain size.

2. 평가 결과2. Evaluation results

(1) 인장 강도(1) Tensile strength

우선, 표 3∼표 7에, 350℃에서 5시간 열처리를 실시한 후의 각 실시 시료 및 비교 시료의 인장 강도를 나타낸다. 또한, 표 7에는, 350℃에서 1시간 가열한 후의 비교 시료 5 및 비교 시료 6의 인장 강도를 나타낸다. 또한, 각 표에는, 상태 인장 강도에 대한 각 시료의 열처리 후의 인장 강도의 유지율을 백분율로 나타낸다.Tables 3 to 7 show the tensile strengths of the test samples and the comparative samples after heat treatment at 350 占 폚 for 5 hours. Table 7 shows the tensile strengths of Comparative Sample 5 and Comparative Sample 6 after heating at 350 占 폚 for 1 hour. In each table, the percent retention of tensile strength after heat treatment of each sample with respect to the state tensile strength is shown.

표 3∼표 6에 나타내는 바와 같이 본건 발명에 관한 실시 시료 1∼실시 시료 7은, 프리 어닐 처리를 실시할 때의 처리 조건에 관계없이, 350℃에서 5시간 가열한 후의 인장 강도는 모두 45kgf/㎟ 이상의 값을 나타내고, 또한, 상태 인장 강도의 79%∼102%의 인장 강도를 유지하였다. 또한, 구리박의 미량 성분의 함유량 등에 따라, 아연의 부착량, 주석의 부착량 등을 조정함과 함께, 바람직한 프리 어닐 처리 조건을 채용함으로써, 350℃에서 5시간 가열한 후라도 50kgf/㎟ 이상의 인장 강도를 유지하는 것이 가능하며, 인장 강도의 저하율을 10% 이내, 보다 바람직하게는 5% 이내로 억제하는 것이 가능한 것이 확인되었다.As shown in Tables 3 to 6, the test samples 1 to 7 according to the present invention had a tensile strength of 45 kgf / cm &lt; 2 &gt; after heating at 350 DEG C for 5 hours regardless of the treatment conditions at the time of performing the pre- Mm &lt; 2 &gt; and a tensile strength of 79% to 102% of the state tensile strength was maintained. Further, it is possible to adjust the tensile strength of 50 kgf / mm &lt; 2 &gt; or more even after heating at 350 DEG C for 5 hours by adjusting the adhesion amount of zinc, the amount of tin adhered, It is possible to keep the rate of decrease of the tensile strength within 10%, more preferably within 5%.

또한, 실시 시료 1∼실시 시료 6과, 실시 시료 7을 비교하면, 아연 부착층을 아연-주석 합금층으로 함으로써, 아연 부착층을 주석을 포함하지 않는 아연 층으로 한 경우보다도 열처리 후의 인장 강도의 값이 높고, 또한, 유지율도 향상되는 것이 확인되었다.Comparing the examples 1 to 6 and the example 7, it was found that the use of the zinc-adhered layer as the zinc-tin alloy layer makes it possible to improve the tensile strength after heat treatment, as compared with the case where the zinc- It was confirmed that the value was high and the retention ratio was also improved.

한편, 표 7에 나타내는 바와 같이 비교 시료 1∼비교 시료 7의 경우, 350℃에서 5시간 가열한 후의 인장 강도는, 45kgf/㎟ 이상의 값을 나타내는 것도 있지만, 인장 강도 유지율은 65%∼87%이며, 모두 인장 강도가 10% 이상 저하되는 것이 확인되었다. 예를 들어, 비교 시료 5 및 비교 시료 6은 각각 350℃에서 1시간 가열한 후의 인장 강도는 51.5kgf/㎟, 58.8kgf/㎟였지만, 350℃에서 5시간 가열한 후는 각각 47.3kgf/㎟, 40kgf/㎟로 저하된다. 한편, 실시 시료 5 및 실시 시료 6에 대해 보면, 예를 들어, 표 3에 나타내는 바와 같이 가장 온도가 낮은 처리 조건 (1)(200℃)로 8시간 프리 어닐 처리를 실시한 경우라도 51.3kgf/㎟, 46.9kgf/㎟의 인장 강도를 유지하고 있다. 또한, 표 5에 나타내는 바와 같이, 처리 시간을 예를 들어 2시간으로 하였을 때, 처리 조건 (3)(250℃)의 경우에는 실시 시료 5 및 실시 시료 6의 인장 강도는 각각 50.7kgf/㎟, 49.3kgf/㎟를 나타내고, 처리 조건 (5)(275℃)의 경우에는 각각 50.9kgf/㎟, 49.2kgf/㎟이다. 따라서, 저온 혹은 단시간이어도 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 고온에서 장시간 가열된 후라도 인장 강도의 저하를 억제하는 효과가 얻어지는 것이 확인되었다.On the other hand, as shown in Table 7, the tensile strength after heating at 350 DEG C for 5 hours was 45 kgf / mm &lt; 2 &gt; or more, but the tensile strength retention was 65% to 87% , It was confirmed that the tensile strength was lowered by 10% or more. For example, the comparative samples 5 and 6 had a tensile strength of 51.5 kgf / mm &lt; 2 &gt; and 58.8 kgf / mm &lt; 2 &gt; after heating at 350 DEG C for 1 hour, respectively. 40 kgf / mm &lt; 2 &gt;. On the other hand, with respect to the working samples 5 and 6, even when the pre-annealing treatment was performed for 8 hours at the lowest temperature treatment condition (1) (200 占 폚) as shown in Table 3, , And a tensile strength of 46.9 kgf / mm &lt; 2 &gt; is maintained. As shown in Table 5, when the treatment time was set to, for example, 2 hours and the treatment conditions (3) (250 ° C), the tensile strengths of the test samples 5 and 6 were 50.7 kgf / And 50.9 kgf / mm 2 and 49.2 kgf / mm 2 respectively under the treatment condition (5) (275 ° C). Therefore, it has been confirmed that by performing the pre-annealing treatment even at a low temperature or for a short time, an effect of suppressing the decrease of the tensile strength even after being heated at a high temperature for a long time is obtained.

Figure pct00003
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Figure pct00004
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Figure pct00005
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Figure pct00006
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Figure pct00007
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(2)결정 조직(2) Crystal structure

다음으로, 도 1 및 도 2를 참조하여, 실시 시료 1과 비교 시료 1의 결정 조직을 대비한다. 도 1 및 도 2는 각각 350℃에서 5시간 가열한 후의 실시 시료 1 및 비교 시료 1의 결정 조직을 나타내는 FIB-SIM상이다. 또한, 표 8에는, 350℃에서 5시간 가열한 후의 실시 시료 1, 실시 시료 5, 비교 시료 1 및 비교 시료 5의 평균 결정립경의 값을 각각 나타낸다. 또한, 상술한 바와 같이, 실시 시료 1 및 실시 시료 5에 대해서는, 350℃에서 5시간 가열하기 전에, 프리 어닐 처리[처리 조건 (1)(200℃)로 8시간 가열]가 실시되어 있다. 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 실시 시료 1의 결정 조직은, 비교 시료 1의 결정 조직과 비교하면, 결정립이 전체적으로 미세한 것을 확인할 수 있다. 또한, 표 8에 나타내는 바와 같이, 실시 시료 1 및 실시 시료 5는 구리박의 표층부 및 중앙부의 어느 영역에 있어서도 평균 결정립경이 1.0㎛ 이하이며, 350℃에서 5시간 가열된 후에도 구리박의 두께 방향 전체에 있어서 미세한 결정 조직을 유지하고 있는 것을 확인할 수 있다. 한편, 비교 시료 1 및 비교 시료 5는, 350℃에서 5시간 가열된 경우, 어느 영역에 있어서도 평균 결정립경이 1.0㎛를 초과함과 함께, 특히 구리박의 중앙부에 있어서의 결정립이 조대해지는 경향이 높은 것이 확인되었다. 따라서, 각 시료에 대해 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 구리박의 표층부뿐만 아니라, 구리박의 중앙부에까지 아연 (및 이종 금속 원소)을 확산시킬 수 있고, 고온의 열이 장시간 부하되었을 때도 구리의 결정립의 조대화를 억제할 수 있는 것이 확인되었다.Next, with reference to Fig. 1 and Fig. 2, the crystal structure of the sample 1 and the sample 1 is prepared. Figs. 1 and 2 are FIB-SIM images showing crystal structures of sample 1 and comparative sample 1 after heating at 350 deg. C for 5 hours, respectively. Table 8 shows the average crystal grain diameters of the sample 1, sample 5, comparative sample 1 and comparative sample 5 after heating at 350 占 폚 for 5 hours, respectively. As described above, the sample 1 and the sample 5 were subjected to pre-annealing (heating under the treatment condition (1) (200 ° C) for 8 hours) before heating at 350 ° C for 5 hours. As shown in Fig. 1 and Fig. 2, it can be confirmed that the crystal structure of the conducting sample 1 is entirely fine as compared with the crystal structure of the comparative sample 1. As shown in Table 8, Sample 1 and Sample 5 had an average grain size of 1.0 mu m or less in any of the surface layer portion and the central portion of the copper foil, and even after heating at 350 DEG C for 5 hours, It can be confirmed that a fine crystal structure is maintained. On the other hand, when the comparative sample 1 and the comparative sample 5 were heated at 350 占 폚 for 5 hours, the average crystal grain diameter exceeded 1.0 占 퐉 in any region, and the crystal grains in the center portion of the copper foil tended to be coarse . Therefore, zinc (and dissimilar metal element) can be diffused not only in the surface layer portion of the copper foil but also in the central portion of the copper foil by performing the pre-annealing treatment on each sample, and even when high temperature heat is loaded for a long time, It was confirmed that it is possible to suppress coarsening.

Figure pct00008
Figure pct00008

본건 발명에 관한 표면 구리박은, 구리박의 표면에 대해 상기 표면 처리를 실시한 후, 상기 프리 어닐 처리를 실시함으로써, 간이하게 제조할 수 있고, 또한, 고온에서 장시간의 열처리가 실시된 후여도, 인장 강도의 저하가 적은 구리박을 제공할 수 있다. 따라서, 제조시에 고온 분위기에 노출되는 용도에 적절하게 사용할 수 있고, 리튬 이온 이차 전지 등의 비수계 이차 전지의 부극 집전체, 프린트 배선판의 제조 재료로서 특히 바람직하게 사용할 수 있다.The surface copper foil according to the present invention can be easily manufactured by subjecting the surface of the copper foil to the above-described surface treatment and then performing the pre-annealing treatment, and even after a long heat treatment at a high temperature is performed, It is possible to provide a copper foil with less decrease in strength. Therefore, it can be suitably used for applications exposed to a high-temperature atmosphere at the time of production, and can be particularly preferably used as a negative electrode collector of a non-aqueous secondary battery such as a lithium ion secondary battery or a material for producing a printed wiring board.

Claims (13)

탄소, 황, 염소 및 질소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 미량 성분을 그 총량으로 100ppm 이상 포함하는 구리박의 양면에, 편면당 20㎎/㎡∼1000㎎/㎡의 아연을 포함하는 표면 처리층을 구비한 표면 처리 구리박이며,
200℃∼280℃의 온도 범위에서 가열하는 프리 어닐 처리가 실시된 것을 특징으로 하는, 표면 처리 구리박.
Surface treatment comprising zinc of 20 mg / m 2 to 1000 mg / m 2 per side on both sides of a copper foil containing at least 100 ppm of at least one minor component selected from carbon, sulfur, chlorine and nitrogen Treated copper foil,
Characterized in that a pre-annealing treatment is carried out in which the copper foil is heated in a temperature range of 200 ° C to 280 ° C.
제1항에 있어서, 350℃에서 5시간 가열한 후의 인장 강도가 45kgf/㎟ 이상인, 표면 처리 구리박.The surface treated copper foil according to claim 1, which has a tensile strength of 45 kgf / mm &lt; 2 &gt; or more after being heated at 350 DEG C for 5 hours. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 표면 처리층은 아연 이외에, 구리 및/또는 구리 중의 확산 속도가 아연보다도 빠른 금속 원소를 포함하는, 표면 처리 구리박.The surface treated copper foil of claim 1 or 2, wherein the surface treatment layer comprises a metal element other than zinc, the diffusion rate of copper and / or copper being higher than that of zinc. 제3항에 있어서, 상기 금속 원소는 주석인, 표면 처리 구리박.The surface-treated copper foil according to claim 3, wherein the metal element is tin. 제4항에 있어서, 상기 표면 처리층에는 편면당 1㎎/㎡∼200㎎/㎡의 주석이 포함되는, 표면 처리 구리박.The surface-treated copper foil according to claim 4, wherein the surface treatment layer contains tin of 1 mg / m 2 to 200 mg / m 2 per one side. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 구리박의 상태 시의 구리의 평균 결정립경이 1.0㎛ 이하인, 표면 처리 구리박.The surface-treated copper foil according to any one of claims 1 to 5, wherein an average crystal grain size of copper in the state of the copper foil is 1.0 탆 or less. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 구리박의 상태 인장 강도는 50gf/㎟ 이상인, 표면 처리 구리박.7. The surface-treated copper foil according to any one of claims 1 to 6, wherein the copper foil has a tensile strength of 50 gf / mm &lt; 2 &gt; 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 프리 어닐 처리에 있어서, 상기 온도 범위 내의 온도에서 2시간 이상 25시간 이하 가열되는, 표면 처리 구리박.The surface treated copper foil according to any one of claims 1 to 7, wherein in the pre-annealing treatment, the surface treated copper foil is heated for 2 hours to 25 hours at a temperature within the temperature range. 탄소, 황, 염소 및 질소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 미량 성분을 그 총량으로 100ppm 이상 포함하는 구리박의 양면에, 편면당 20㎎/㎡∼1000㎎/㎡의 아연을 포함하는 표면 처리층을 구비한 표면 처리 구리박이며,
350℃에서 5시간 가열한 후의 인장 강도가 50kgf/㎟ 이상인 것을 특징으로 하는, 표면 처리 구리박.
Surface treatment comprising zinc of 20 mg / m 2 to 1000 mg / m 2 per side on both sides of a copper foil containing at least 100 ppm of at least one minor component selected from carbon, sulfur, chlorine and nitrogen Treated copper foil,
And a tensile strength of 50 kgf / mm &lt; 2 &gt; or more after heating at 350 DEG C for 5 hours.
탄소, 황, 염소 및 질소로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 미량 성분을 그 총량으로 100ppm 이상 포함하는 구리박의 양면에, 편면당 20㎎/㎡∼1000㎎/㎡의 아연을 포함하는 표면 처리층을 형성하는 표면 처리 공정과,
표면 처리 공정 후, 200℃∼280℃의 온도 범위에서 가열하는 프리 어닐 처리 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는, 표면 처리 구리박의 제조 방법.
Surface treatment comprising zinc of 20 mg / m 2 to 1000 mg / m 2 per side on both sides of a copper foil containing at least 100 ppm of at least one minor component selected from carbon, sulfur, chlorine and nitrogen A surface treatment step of forming a layer,
And a pre-annealing step of heating the copper foil after the surface treatment step in a temperature range of 200 ° C to 280 ° C.
제10항에 있어서, 상기 프리 어닐 처리 공정에 있어서의 가열 시간은 2시간 이상 25시간 이하인, 표면 처리 구리박의 제조 방법.The method for producing a surface-treated copper foil according to claim 10, wherein the heating time in the pre-annealing process is from 2 hours to 25 hours. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리 구리박을 사용한 것을 특징으로 하는, 부극 집전체.A negative electrode current collector characterized by using the surface treated copper foil according to any one of claims 1 to 9. 제12항에 기재된 부극 집전체를 사용한 것을 특징으로 하는, 비수계 이차 전지의 부극재.A negative electrode material for a nonaqueous secondary battery, comprising the negative electrode collector according to claim 12.
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