KR20150060683A - Anisotropic conductive film, connection method, and connected body - Google Patents

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Abstract

제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름이며, 도전성 입자, 충전제 및 양이온계 경화제를 함유하는 도전성 입자 함유층과, 양이온계 경화제를 함유하고 충전제를 함유하지 않는 절연성 접착층을 갖고, 상기 도전성 입자가 금속 입자 및 금속 피복 수지 입자 중 적어도 어느 하나이고, 상기 충전제가 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나인 이방성 도전 필름이다.A conductive particle-containing layer containing conductive particles, a filler and a cationic curing agent, and a conductive particle-containing layer containing a cationic curing agent and containing no filler Wherein the conductive particles are at least one of metal particles and metal coated resin particles, and the filler is at least one of a metal hydroxide and a metal oxide.

Description

이방성 도전 필름, 접속 방법 및 접합체 {ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, CONNECTION METHOD, AND CONNECTED BODY}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an anisotropic conductive film, an anisotropic conductive film, a connection method,

본 발명은 이방성 도전 필름, 접속 방법 및 접합체에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive film, a connection method and a junction body.

종래부터 전자 부품끼리를 접속하는 수단으로서, 도전성 입자가 분산된 경화성 수지를 박리 필름에 도포한 테이프 형상의 접속 재료[예를 들어, 이방성 도전 필름(ACF;Anisotropic Conductive Film)]이 사용되고 있다.Conventionally, as a means for connecting electronic components, a tape-shaped connection material (for example, anisotropic conductive film (ACF)) in which a curable resin in which conductive particles are dispersed is applied to a release film is used.

이 이방성 도전 필름은, 예를 들어 플렉시블 프린트 기판(FPC)이나 IC 칩의 단자와, LCD 패널의 유리 기판 상에 형성된 ITO(Indium Tin Oxide; 인듐 주석 산화물) 전극을 접속하는 경우를 비롯하여, 다양한 단자끼리를 접착함과 함께 전기적으로 접속하는 경우에 사용되고 있다.The anisotropic conductive film is used for connecting terminals of a flexible printed circuit board (FPC) or an IC chip and an ITO (Indium Tin Oxide) electrode formed on a glass substrate of an LCD panel, Are used for bonding together and electrically connecting each other.

최근, 상기 이방성 도전 필름을 사용한 전자 부품끼리의 이방성 도전 접속에 있어서는, 접속에 의해 얻어지는 접합체의 고밀도화, 접속의 저비용화, 고온 접속에 의한 기판 등의 휨 발생의 억제 등에 대응하기 위해, 저온 경화 및 속경화가 가능한 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름이 사용되고 있다.In recent years, in anisotropic conductive connection between electronic parts using the anisotropic conductive film, in order to cope with high densification of a junction body obtained by connection, low cost of connection, suppression of warpage of a substrate due to high temperature connection, An anisotropic conductive film using a cationic curing agent capable of rapid curing has been used.

그러나, 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름에서는 양이온계 경화제를 사용했을 때에 발생하는 산에 의해 전자 부품이 갖는 배선이 부식된다는 문제가 있다. 또한, 밀착성이 충분하지 않다는 문제가 있다.However, in the anisotropic conductive film using the cationic curing agent, there is a problem that the wiring formed in the electronic component is corroded by the acid generated when the cationic curing agent is used. Further, there is a problem that the adhesion is not sufficient.

배선의 부식을 방지하기 위해, 접속 재료에 금속 수산화물 또는 금속 산화물을 사용할 수 있는 것이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1의 단락 〔0040〕참조). 그러나, 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름에 간단히 금속 수산화물 또는 금속 산화물을 배합한 것만으로는, 배선의 부식은 방지할 수 없다. 또한, 밀착성도 충분하지 않다.It is known that a metal hydroxide or a metal oxide can be used for the connection material in order to prevent corrosion of the wiring (see, for example, paragraph [0040] of Patent Document 1). However, corrosion of the wiring can not be prevented simply by adding a metal hydroxide or a metal oxide to the anisotropic conductive film using the cationic curing agent. Further, adhesion is not sufficient.

따라서, 이방성 도전 필름에 요구되는, 얻어지는 접합체에 있어서의 전자 부품 내의 쇼트 방지, 우수한 입자 포착률 및 낮은 접속 저항을 만족시키면서, 저온 경화 및 속경화가 가능하고, 또한 전자 부품이 갖는 배선의 부식을 방지하고, 또한 밀착성이 우수한, 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법 및 상기 접속 방법에 의해 얻어지는 접합체의 제공이 요구되고 있는 것이 현상이다.Therefore, it is possible to achieve low-temperature curing and fast curing while satisfying the prevention of shot in an electronic component, an excellent particle trapping rate, and a low connection resistance, which are required for an anisotropic conductive film and which are required for an anisotropic conductive film, It is a further object of the present invention to provide an anisotropic conductive film using a cationic curing agent excellent in adhesion and a connection method using the anisotropic conductive film and a junction body obtained by the connection method.

일본 특허 출원 공개 제2011-111556호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-111556

본 발명은 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하여, 이하의 목적을 달성하는 것을 과제로 한다. 즉, 본 발명은 이방성 도전 필름에 요구되는, 얻어지는 접합체에 있어서의 전자 부품 내의 쇼트 방지, 우수한 입자 포착률 및 낮은 접속 저항을 만족시키면서, 저온 경화 및 속경화가 가능하고, 또한 전자 부품이 갖는 배선의 부식을 방지하고, 또한 밀착성이 우수한, 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법 및 상기 접속 방법에 의해 얻어지는 접합체를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems and to achieve the following objects. That is, the present invention relates to an anisotropic conductive film which is capable of achieving low-temperature curing and fast curing while satisfying a shot preventing property, an excellent particle trapping rate and a low connection resistance in an electronic component in an obtained bonded body, And an object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film using a cationic curing agent which prevents corrosion and is also excellent in adhesion, a connection method using the anisotropic conductive film, and a junction body obtained by the connection method.

상기 과제를 해결하기 위한 수단으로서는, 이하와 같다. 즉,Means for solving the above problems are as follows. In other words,

<1> 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름이며,&Lt; 1 > An anisotropic conductive film for anisotropic conductive connection between a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component,

도전성 입자, 충전제 및 양이온계 경화제를 함유하는 도전성 입자 함유층과,A conductive particle-containing layer containing conductive particles, a filler and a cationic curing agent,

양이온계 경화제를 함유하고 충전제를 함유하지 않는 절연성 접착층을 갖고,An insulating adhesive layer containing a cationic curing agent and containing no filler,

상기 도전성 입자가 금속 입자 및 금속 피복 수지 입자 중 적어도 어느 하나이고,Wherein the conductive particles are at least one of metal particles and metal-coated resin particles,

상기 충전제가 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름이다.Wherein the filler is at least one of a metal hydroxide and a metal oxide.

<2> 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나가 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 및 산화알루미늄 중 적어도 어느 하나인 상기 <1>에 기재된 이방성 도전 필름이다.<2> The anisotropic conductive film according to <1>, wherein at least one of metal hydroxide and metal oxide is at least one of aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and aluminum oxide.

<3> 도전성 입자 함유층이 막 형성 수지 및 경화성 수지를 함유하는 상기 <1> 내지 <2> 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름이다.<3> The anisotropic conductive film according to any one of <1> to <2>, wherein the conductive particle-containing layer contains a film-forming resin and a curable resin.

<4> 도전성 입자 함유층에 있어서의 충전제의 함유량이 막 형성 수지, 경화성 수지 및 양이온계 경화제의 총량 100 질량부에 대해, 0.20 질량부 내지 90 질량부인 상기 <3>에 기재된 이방성 도전 필름이다.<4> The anisotropic conductive film according to the item <3>, wherein the content of the filler in the conductive particle-containing layer is 0.20 parts by mass to 90 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the film forming resin, the curable resin and the cationic curing agent.

<5> 충전제가 입자상이고, 상기 충전제의 평균 입자 직경이 0.5 ㎛ 내지 3.5 ㎛인 상기 <1> 내지 <4> 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름이다.<5> The anisotropic conductive film according to any one of <1> to <4>, wherein the filler is particulate and the average particle diameter of the filler is 0.5 μm to 3.5 μm.

<6> 충전제가 비구형의 입자상인 상기 <1> 내지 <5> 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름이다.<6> The anisotropic conductive film according to any one of <1> to <5>, wherein the filler is in a non-spherical particle shape.

<7> 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 접속 방법이며,&Lt; 7 > A connection method for anisotropic conductive connection between a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component,

상기 제2 전자 부품의 단자 상에 상기 <1> 내지 <6> 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름을 배치하는 제1 배치 공정과,A first arranging step of disposing the anisotropic conductive film described in any one of < 1 > to < 6 > on a terminal of the second electronic component;

상기 이방성 도전 필름 상에 상기 제1 전자 부품을, 상기 제1 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 제2 배치 공정과,A second disposing step of disposing the first electronic component on the anisotropic conductive film and the terminal of the first electronic component in contact with the anisotropic conductive film;

상기 제1 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 가열 가압 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 접속 방법이다.And a heating and pressing step of heating and pressing the first electronic component with a heating and pressing member.

<8> 상기 <7>에 기재된 접속 방법에 의해 얻어지는 것을 특징으로 하는 접합체이다.<8> A bonded body obtained by the connection method described in <7> above.

본 발명에 따르면, 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하여, 상기 목적을 달성할 수 있고, 이방성 도전 필름에 요구되는, 얻어지는 접합체에 있어서의 전자 부품 내의 쇼트 방지, 우수한 입자 포착률 및 낮은 접속 저항을 만족시키면서, 저온 경화 및 속경화가 가능하고, 또한 전자 부품이 갖는 배선의 부식을 방지하고, 또한 밀착성이 우수한, 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법 및 상기 접속 방법에 의해 얻어지는 접합체를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to solve the above-mentioned problems in the related art and to achieve the above objects, and to provide a method for preventing shot in an electronic component, an excellent particle capture rate, and a low connection resistance in an obtained bonded body required for an anisotropic conductive film An anisotropic conductive film using a cationic curing agent which is capable of low-temperature curing and quick curing and which is capable of preventing corrosion of wiring of electronic components and having excellent adhesiveness, and a connection method using the anisotropic conductive film and a connection method Can be obtained.

(이방성 도전 필름)(Anisotropic conductive film)

본 발명의 이방성 도전 필름은 도전성 입자 함유층과 절연성 접착층을 적어도 갖고, 또한 필요에 따라서 그 밖의 층을 갖는다.The anisotropic conductive film of the present invention has at least a conductive particle-containing layer and an insulating adhesive layer, and has other layers as required.

상기 이방성 도전 필름은 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름이다.The anisotropic conductive film is an anisotropic conductive film that anisotropically conductively connects the terminal of the first electronic component and the terminal of the second electronic component.

상기 이방성 도전 필름의 구조로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 상기 도전성 입자 함유층과 상기 절연성 접착층을 포함하는 2층 구조가 바람직하다.The structure of the anisotropic conductive film is not particularly limited and may be appropriately selected in accordance with the purpose, but a two-layer structure including the conductive particle-containing layer and the insulating adhesive layer is preferable.

<제1 전자 부품 및 제2 전자 부품><First Electronic Component and Second Electronic Component>

상기 제1 전자 부품 및 상기 제2 전자 부품으로서는, 상기 이방성 도전 필름을 사용한 이방성 도전 접속의 대상이 되는, 단자를 갖는 전자 부품이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 유리 기판, 플렉시블 기판, 리지드 기판, IC(Integrated Circuit; 집적 회로) 칩, TAB(Tape Automated Bonding; 테이프 자동 접합), 액정 패널 등을 들 수 있다. 상기 유리 기판으로서는, 예를 들어 Al 배선 형성 유리 기판, ITO 배선 형성 유리 기판 등을 들 수 있다. 상기 IC 칩으로서는, 예를 들어 플랫 패널 디스플레이(FPD)에 있어서의 액정 화면 제어용 IC 칩 등을 들 수 있다.The first electronic component and the second electronic component are not particularly limited and may be appropriately selected in accordance with the purpose as long as they are electronic components having terminals to be subjected to anisotropic conductive connection using the anisotropic conductive film. A glass substrate, a flexible substrate, a rigid substrate, an IC (integrated circuit) chip, TAB (tape automated bonding), and a liquid crystal panel. Examples of the glass substrate include an Al wiring-forming glass substrate and an ITO wiring-forming glass substrate. Examples of the IC chip include a liquid crystal screen control IC chip in a flat panel display (FPD).

<도전성 입자 함유층><Conductive Particle Containing Layer>

상기 도전성 입자 함유층은 도전성 입자와, 충전제와, 양이온계 경화제를 적어도 함유하고, 바람직하게는 막 형성 수지와, 경화성 수지를 함유하고, 또한 필요에 따라서 그 밖의 성분을 함유한다.The conductive particle-containing layer contains at least conductive particles, a filler, and a cationic curing agent, preferably a film-forming resin, a curable resin, and optionally other components.

-도전성 입자-- conductive particles -

상기 도전성 입자로서는, 금속 입자 및 금속 피복 수지 입자 중 적어도 어느 하나이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The conductive particles are not particularly limited as long as they are at least one of metal particles and metal-coated resin particles, and can be appropriately selected according to the purpose.

상기 금속 입자로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 니켈, 코발트, 은, 구리, 금, 팔라듐 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The metal particles are not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include nickel, cobalt, silver, copper, gold, and palladium. These may be used alone or in combination of two or more.

이들 중에서도, 니켈, 은, 구리가 바람직하다. 이들 금속 입자는 표면 산화를 방지할 목적으로, 그 표면에 금, 팔라듐을 실시하고 있어도 된다. 또한, 표면에 금속 돌기나 유기물로 절연 피막을 실시한 것을 사용해도 된다.Of these, nickel, silver and copper are preferable. For the purpose of preventing surface oxidation, these metal particles may be subjected to gold or palladium on their surfaces. It is also possible to use an insulating film having a metal protrusion or an organic material on its surface.

상기 금속 피복 수지 입자로서는, 수지 입자의 표면을 금속으로 피복한 입자이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 수지 입자의 표면을 니켈, 구리, 금 및 팔라듐 중 적어도 어느 하나의 금속으로 피복한 입자 등을 들 수 있다. 또한, 표면에 금속 돌기나 유기물로 절연 피막을 실시한 것을 사용해도 된다.The metal-coated resin particle is not particularly limited as long as the surface of the resin particle is coated with a metal, and can be appropriately selected in accordance with the purpose. For example, the surface of the resin particle is coated with at least either of nickel, And particles coated with one metal. It is also possible to use an insulating film having a metal protrusion or an organic material on its surface.

상기 수지 입자로의 금속의 피복 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 무전해 도금법, 스퍼터링법 등을 들 수 있다.The method of coating the metal particles with the resin particles is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include an electroless plating method and a sputtering method.

상기 수지 입자의 재질로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 스티렌-디비닐벤젠 공중합체, 벤조구아나민 수지, 가교 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 스티렌-실리카 복합 수지 등을 들 수 있다.The material of the resin particles is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include styrene-divinylbenzene copolymer, benzoguanamine resin, crosslinked polystyrene resin, acrylic resin, styrene- .

상기 도전성 입자는 이방성 도전 접속 시에, 도전성을 갖고 있으면 된다. 예를 들어, 금속 입자의 표면에 절연 피막을 실시한 입자라도, 이방성 도전 접속 시에 상기 입자가 변형되어, 상기 금속 입자가 노출되는 것이면, 상기 도전성 입자로서 기능한다.The conductive particles may have conductivity at the time of anisotropic conductive connection. For example, even when the surface of the metal particles is coated with an insulating film, the metal particles function as the conductive particles if the particles are deformed during the anisotropic conductive connection to expose the metal particles.

상기 도전성 입자 함유층에 있어서의 상기 도전성 입자의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 회로 부재의 배선 피치나, 접속 면적 등에 의해 적절히 조정할 수 있다.The content of the conductive particles in the conductive particle-containing layer is not particularly limited and can be appropriately adjusted by the wiring pitch of the circuit member, the connection area, and the like.

-충전제-- Filler -

상기 충전제로서는, 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The filler is not particularly limited as long as it is at least one of a metal hydroxide and a metal oxide, and can be appropriately selected according to the purpose.

상기 금속 수산화물 및 금속 산화물은 배선의 부식 방지, 밀착성의 향상 및 절연성의 향상을 위해 사용된다.The metal hydroxide and the metal oxide are used for preventing corrosion of wiring, improvement of adhesion, and improvement of insulation.

상기 금속 수산화물로서는, 예를 들어 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 수산화칼슘 등을 들 수 있다.Examples of the metal hydroxide include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide and the like.

상기 금속 산화물로서는, 예를 들어 산화알루미늄, 산화규소, 산화마그네슘, 산화안티몬, 산화주석, 산화티타늄, 산화망간, 산화지르코늄 등을 들 수 있다.Examples of the metal oxide include aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, manganese oxide, and zirconium oxide.

이들 중에서도, 내부식성 및 밀착성의 관점에서, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 및 산화알루미늄 중 적어도 어느 하나가 바람직하고, 수산화알루미늄 및 수산화마그네슘 중 적어도 어느 하나가 보다 바람직하다.Among them, at least one of aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and aluminum oxide is preferable from the viewpoint of corrosion resistance and adhesion, and at least one of aluminum hydroxide and magnesium hydroxide is more preferable.

또한, 금속 수산화물 및 금속 산화물의 부식을 방지하는 것 및 밀착성을 향상시키는 것은 일본 특허 공표 제2004-523661호 공보, 일본 특허 공개 제2011-111556호 공보 등에 기재한 바와 같이 공지이다.In addition, prevention of corrosion of metal hydroxide and metal oxide and improvement of adhesion are known as described in JP-A-2004-523661 and JP-A-2011-111556.

상기 충전제는 입자상인 것이 바람직하다.The filler is preferably in a particulate form.

상기 입자상의 충전제로서는, 예를 들어 구형의 충전제, 비구형의 충전제 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 절연성의 관점에서, 비구형의 충전제가 바람직하고, 부정형의 충전제가 보다 바람직하다.Examples of the particulate filler include spherical fillers and non-spherical fillers. Of these, non-spherical fillers are preferable from the viewpoint of insulating properties, and amorphous fillers are more preferable.

상기 비구형이란, 상기 구형 이외의 형상이다.The non-spherical shape is a shape other than the spherical shape.

상기 부정형이란, 상기 비구형이며, 1종류의 형상뿐만 아니라, 다양한 형태를 갖는 형상이 혼재하고 있는 것을 의미한다. 상기 다양한 형태로서는, 예를 들어 요철, 각, 돌기 등을 들 수 있다.The irregular shape means that the shape is non-spherical, and not only one kind of shape but also shapes having various shapes are mixed. Examples of the various forms include concavities, convexities, and projections.

상기 충전제가 입자상인 경우의, 상기 충전제의 평균 입자 직경으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 0.5 ㎛ 내지 3.5 ㎛가 바람직하고, 0.5 ㎛ 내지 2.0 ㎛가 보다 바람직하다. 상기 평균 입자 직경이 상기 보다 바람직한 범위 내이면, 절연성, 입자 포착률 및 접속 저항이 보다 우수한 점에서 유리하다.The average particle diameter of the filler when the filler is in a particulate form is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, but is preferably from 0.5 mu m to 3.5 mu m, more preferably from 0.5 mu m to 2.0 mu m. When the average particle diameter is within the more preferable range, it is advantageous in that the insulating property, the particle trapping rate, and the connection resistance are better.

상기 평균 입자 직경은 임의로 10개의 충전제에 대해 측정한 입자 직경의 산술 평균이다.The average particle diameter is an arithmetic mean of the particle diameters, optionally measured for ten fillers.

상기 충전제가 비구형인 경우, 입자의 최대 길이를 상기 입자 직경으로 한다.When the filler is non-spherical, the maximum length of the particles is the particle diameter.

상기 입자 직경은, 예를 들어 주사형 전자 현미경 관찰, 입도 분포계에 의한 측정 등에 의해 구할 수 있다.The particle diameter can be determined, for example, by observation using a scanning electron microscope or by a particle size distribution meter.

상기 충전제가 입자상인 경우의, 상기 충전제의 평균 입자 직경(A)과 상기 도전성 입자의 평균 입자(B)의 비(A/B)로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 1/10 내지 2/3가 바람직하고, 1/10 내지 1/2이 보다 바람직하다. 상기 비가 상기 보다 바람직한 범위 내이면, 절연성, 입자 포착률 및 접속 저항이 보다 우수한 점에서 유리하다.The ratio (A / B) of the average particle diameter (A) of the filler to the average particle (B) of the conductive particles when the filler is in a particulate form is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. / 10 to 2/3, and more preferably 1/10 to 1/2. If the above ratio is within the more preferable range, it is advantageous in that the insulating property, the particle trapping rate, and the connection resistance are better.

또한, 상기 도전성 입자의 평균 입자 직경의 측정 방법은 상기 충전제의 평균 입자 직경의 측정 방법과 마찬가지이다.The method for measuring the average particle diameter of the conductive particles is the same as the method for measuring the average particle diameter of the filler.

상기 충전제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 상기 막 형성 수지, 상기 경화성 수지 및 상기 양이온계 경화제의 총량 100 질량부에 대해, 0.20 질량부 내지 90 질량부가 바람직하고, 4.0 질량부 내지 30 질량부가 보다 바람직하다. 상기 함유량이 상기 보다 바람직한 범위 내이면, 저온 경화 및 속경화를 유지하면서, 내부식성, 밀착성 및 절연성이 보다 우수한 점에서 유리하다.The content of the filler is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. It is preferably 0.20 parts by mass to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the film forming resin, the curable resin and the cationic curing agent, More preferably 4.0 parts by mass to 30 parts by mass. When the content is within the more preferable range, it is advantageous in that it is excellent in corrosion resistance, adhesion, and insulation while maintaining low-temperature curing and fast curing.

-양이온계 경화제-- Cationic curing agent -

상기 양이온계 경화제로서는, 양이온종을 발생하는 경화제이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 오늄염 등을 들 수 있다.The cationic curing agent is not particularly limited as long as it is a curing agent that generates a cationic species, and can be appropriately selected in accordance with the purpose. Examples thereof include onium salts and the like.

상기 오늄염으로서는, 예를 들어 술포늄염, 요오도늄염 등을 들 수 있다.Examples of the onium salt include a sulfonium salt and an iodonium salt.

상기 술포늄염으로서는, 예를 들어 트리아릴술포늄염 등을 들 수 있다.Examples of the sulfonium salt include triarylsulfonium salts and the like.

상기 오늄염에 있어서의 상대 음이온으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 SbF6 -, AsF6 -, PF6 -, BF4 -, CH3SO3 -, CF3SO3 - 등을 들 수 있다.The counter anion in the onium salt is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include SbF 6 - , AsF 6 - , PF 6 - , BF 4 - , CH 3 SO 3 - , CF 3 SO 3 - , and the like.

상기 양이온계 경화제는 시판품이어도 된다. 상기 시판품으로서는, 예를 들어 아데카 옵토머 SP-172(가부시끼가이샤 아데카(ADEKA)제), 아데카 옵토머 SP-170(가부시끼가이샤 아데카제), 아데카 옵토머 SP-152(가부시끼가이샤 아데카제), 아데카 옵토머 SP-150(가부시끼가이샤 아데카제), 선에이드 SI-60L(산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제), 선에이드 SI-80L(산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제), 선에이드 SI-100L(산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제), 선에이드 SI-150L(산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제), CPI-100P(산-아프로가부시끼가이샤제), CPI-101A(산-아프로가부시끼가이샤제), CPI-200K(산-아프로가부시끼가이샤제), 이르가큐어(IRGACURE) 250(바스프(BASF)사제) 등을 들 수 있다.The cationic curing agent may be a commercially available product. Examples of commercially available products include ADEKA OPTOMER SP-172 (manufactured by ADEKA), ADEKA OPTOMER SP-170 (manufactured by Adeka Kabushiki Kaisha), Adeka Optomer SP-152 (Trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), ADEKA OPTOMER SP-150 (ADEKA KABUSHIKI CO., LTD.), Sun Aid SI-60L CPI-100P (manufactured by San-Aro Kasei K.K.), CPI-100P (available from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Sun Aid SI- (Manufactured by BASF), IRGACURE 250 (manufactured by BASF), and the like can be given.

상기 도전성 입자 함유층에 있어서의 상기 양이온계 경화제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 상기 막 형성 수지 및 상기 경화성 수지의 총량 100 질량부에 대해, 10 질량부 내지 50 질량부가 바람직하고, 20 질량부 내지 40 질량부가 보다 바람직하다.The content of the cationic curing agent in the conductive particle-containing layer is not particularly limited and may be appropriately selected in accordance with the intended use. It is preferably 10 parts by mass to 50 parts by mass per 100 parts by mass of the film forming resin and the curing resin More preferably 20 parts by mass to 40 parts by mass.

-막 형성 수지-- film forming resin -

상기 막 형성 수지로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 페녹시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 포화 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지, 부타디엔 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 폴리올레핀 수지 등을 들 수 있다. 상기 막 형성 수지는 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 이들 중에서도, 제막성, 가공성, 접속 신뢰성의 점에서 페녹시 수지가 바람직하다.The film-forming resin is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples of the film-forming resin include a phenoxy resin, an unsaturated polyester resin, a saturated polyester resin, a urethane resin, a butadiene resin, a polyimide resin, Polyolefin resins and the like. These film-forming resins may be used alone or in combination of two or more. Of these, phenoxy resins are preferable from the viewpoints of film formability, workability, and connection reliability.

상기 페녹시 수지로서는, 예를 들어 비스페놀 A와 에피클로로히드린으로 합성되는 수지 등을 들 수 있다.Examples of the phenoxy resin include resins synthesized with bisphenol A and epichlorohydrin.

상기 페녹시 수지는 적절히 합성한 것을 사용해도 되고, 시판품을 사용해도 된다.The phenoxy resin may be appropriately synthesized, or a commercially available phenoxy resin may be used.

상기 도전성 입자 함유층에 있어서의 상기 막 형성 수지의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The content of the film-forming resin in the conductive particle-containing layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose.

-경화성 수지-- Curable resin -

상기 경화성 수지로서는, 양이온계 경화제의 작용에 의해 경화되는 수지이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 에폭시 수지 등을 들 수 있다.The curable resin is not particularly limited as long as it is a resin that is cured by the action of a cationic curing agent. The resin can be appropriately selected in accordance with the purpose, and examples thereof include an epoxy resin.

상기 에폭시 수지로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 그들의 변성 에폭시 수지 등을 들 수 있다.The epoxy resin is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolak type epoxy resin, and modified epoxy resins thereof.

상기 도전성 입자 함유층에 있어서의 상기 경화성 수지의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The content of the curable resin in the conductive particle-containing layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose.

-그 밖의 성분-- Other ingredients -

상기 그 밖의 성분으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 실란 커플링제 등을 들 수 있다.The other components are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include a silane coupling agent and the like.

상기 실란 커플링제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 에폭시계 실란 커플링제, 아크릴계 실란 커플링제, 티올계 실란 커플링제, 아민계 실란 커플링제 등을 들 수 있다.The silane coupling agent is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include an epoxy silane coupling agent, an acrylic silane coupling agent, a thiol silane coupling agent, and an amine silane coupling agent.

상기 도전성 입자 함유층에 있어서의 상기 실란 커플링제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The content of the silane coupling agent in the conductive particle-containing layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose.

상기 도전성 입자 함유층의 평균 두께로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 3 ㎛ 내지 30 ㎛가 바람직하고, 4 ㎛ 내지 20 ㎛가 보다 바람직하고, 4 ㎛ 내지 10 ㎛가 특히 바람직하다.The average thickness of the conductive particle-containing layer is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, but is preferably from 3 탆 to 30 탆, more preferably from 4 탆 to 20 탆, and particularly preferably from 4 탆 to 10 탆 .

상기 도전성 입자 함유층의 제조 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 도전성 입자와, 상기 충전제와, 상기 양이온계 경화제를 함유하고, 바람직하게는 상기 막 형성 수지와, 상기 경화성 수지를 함유하는 배합물을 균일해지도록 혼합한 후, 혼합한 상기 배합물을 박리 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 상에 도포하는 방법 등을 들 수 있다.The method for producing the conductive particle-containing layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the conductive particle-containing layer may contain the conductive particles, the filler, and the cationic curing agent, , A method in which the blend containing the curable resin is mixed so as to be uniform, and the blended mixture is applied on a peeled polyethylene terephthalate (PET) film.

<절연성 접착층><Insulating Adhesive Layer>

상기 절연성 접착층은 양이온계 경화제를 적어도 함유하고, 충전제를 함유하지 않고, 또한 필요에 따라서 그 밖의 성분을 함유한다.The insulating adhesive layer contains at least a cationic curing agent, does not contain a filler, and contains other components as necessary.

-양이온계 경화제-- Cationic curing agent -

상기 양이온계 경화제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 도전성 입자 함유층의 설명에 있어서 예시한 상기 양이온계 경화제 등을 들 수 있다. 바람직한 형태도 마찬가지이다.The cationic curing agent is not particularly limited and can be appropriately selected in accordance with the purpose. Examples of the cationic curing agent include the cationic curing agent exemplified in the explanation of the conductive particle-containing layer. The same is true of the preferred form.

상기 절연성 접착층에 있어서의 상기 양이온계 경화제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 상기 막 형성 수지 및 상기 경화성 수지의 총량 100 질량부에 대해, 10 질량부 내지 50 질량부가 바람직하고, 20 질량부 내지 40 질량부가 보다 바람직하다.The content of the cationic curing agent in the insulating adhesive layer is not particularly limited and may be appropriately selected in accordance with the intended use. The content of the cationic curing agent in the insulating adhesive layer is preferably 10 parts by mass to 50 parts by mass relative to 100 parts by mass of the total amount of the film forming resin and the curable resin More preferably 20 parts by mass to 40 parts by mass.

-충전제-- Filler -

상기 충전제로서는, 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 도전성 입자 함유층의 설명에 있어서 예시한 상기 충전제 등을 들 수 있다.The filler is not particularly limited as long as it is at least one of a metal hydroxide and a metal oxide. The filler can be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include the fillers exemplified in the explanation of the conductive particle-containing layer.

-그 밖의 성분-- Other ingredients -

상기 그 밖의 성분으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 막 형성 수지, 경화성 수지, 실란 커플링제 등을 들 수 있다.The other components are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include a film forming resin, a curable resin, and a silane coupling agent.

상기 막 형성 수지, 상기 경화성 수지 및 상기 실란 커플링제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 도전성 입자 함유층의 설명에 있어서 예시한 상기 막 형성 수지, 상기 경화성 수지 및 상기 실란 커플링제를 각각 들 수 있다. 바람직한 형태도 마찬가지이다.The film-forming resin, the curing resin and the silane coupling agent are not particularly limited and can be appropriately selected in accordance with the purpose. For example, the film-forming resin, the curing resin and the curing resin exemplified in the explanation of the conductive particle- And the silane coupling agents described above. The same is true of the preferred form.

상기 절연성 접착층의 평균 두께로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 3 ㎛ 내지 30 ㎛가 바람직하고, 5 ㎛ 내지 20 ㎛가 보다 바람직하고, 7 ㎛ 내지 15 ㎛가 특히 바람직하다.The average thickness of the insulating adhesive layer is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. The thickness is preferably 3 占 퐉 to 30 占 퐉, more preferably 5 占 퐉 to 20 占 퐉, and particularly preferably 7 占 퐉 to 15 占 퐉.

상기 절연성 접착층의 제조 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 양이온계 경화제를 함유하고, 또한 필요에 따라서 상기 막 형성 수지와, 상기 경화성 수지를 함유하는 배합물을 균일해지도록 혼합한 후, 혼합한 상기 배합물을 박리 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 상에 도포하는 방법 등을 들 수 있다.The method for producing the insulating adhesive layer is not particularly limited and may be appropriately selected in accordance with the purpose. For example, the insulating adhesive layer may contain the cationic curing agent and, if necessary, a combination of the film forming resin and the curable resin And then the mixture is applied on a peeled polyethylene terephthalate (PET) film.

상기 이방성 도전 필름의 제조 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 전술한 상기 도전성 입자 함유층의 제조 방법으로 제조한 도전성 입자 함유층과, 전술한 상기 절연성 접착층의 제조 방법으로 제조한 절연성 접착층을, 롤 라미네이터 등을 사용하여 라미네이트하는 방법 등을 들 수 있다.The method for producing the anisotropic conductive film is not particularly limited and can be appropriately selected in accordance with the purpose. For example, the conductive particle-containing layer produced by the above-mentioned method for producing a conductive particle-containing layer and the above- , And a method of laminating the insulating adhesive layer using a roll laminator or the like.

(접속 방법 및 접합체)(Connection method and junction body)

본 발명의 접속 방법은 제1 배치 공정과, 제2 배치 공정과, 가열 가압 공정을 적어도 포함하고, 또한 필요에 따라서 그 밖의 공정을 포함한다.The connection method of the present invention includes at least a first batch process, a second batch process, and a heating and pressurizing process, and includes other processes as required.

상기 접속 방법은 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 방법이다.The connection method is a method of anisotropic conductive connection between the terminal of the first electronic component and the terminal of the second electronic component.

본 발명의 접합체는 본 발명의 상기 접속 방법에 의해 얻어진다.The joined body of the present invention is obtained by the connecting method of the present invention.

상기 제1 전자 부품 및 상기 제2 전자 부품으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 본 발명의 상기 이방성 도전 필름의 설명에서 예시한 상기 제1 전자 부품 및 상기 제2 전자 부품을 각각 들 수 있다.The first electronic component and the second electronic component are not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. For example, the first electronic component and the second electronic component, which are exemplified in the description of the anisotropic conductive film of the present invention, And electronic components, respectively.

<제1 배치 공정>&Lt; First batch process >

상기 제1 배치 공정으로서는, 상기 제2 전자 부품의 단자 상에 본 발명의 상기 이방성 도전 필름을 배치하는 공정이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The first disposing step is not particularly limited as long as the step of disposing the anisotropic conductive film of the present invention on the terminal of the second electronic component can be appropriately selected according to the purpose.

상기 제2 전자 부품이 유리 기판, 플렉시블 기판 등의 기판이며, 상기 제1 전자 부품이 IC 칩, TAB 등인 경우, 상기 제1 배치 공정에 있어서는, 예를 들어 상기 제2 전자 부품의 단자 상에 상기 이방성 도전 필름을, 상기 단자와 상기 이방성 도전 필름의 도전성 입자 함유층이 접하도록 배치한다.The second electronic component is a substrate such as a glass substrate or a flexible substrate and the first electronic component is an IC chip, TAB, or the like. In the first arrangement step, for example, The anisotropic conductive film is disposed so that the terminal and the conductive particle-containing layer of the anisotropic conductive film are in contact with each other.

<제2 배치 공정><Second Arrangement Process>

상기 제2 배치 공정으로서는, 상기 이방성 도전 필름 상에 상기 제1 전자 부품을, 상기 제1 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 공정이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The second disposing step is not particularly limited as long as it is a step of disposing the first electronic part on the anisotropic conductive film and the terminal of the first electronic part in contact with the anisotropic conductive film. .

<가열 가압 공정><Heating and pressing step>

상기 가열 가압 공정으로서는, 상기 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 공정이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The heating and pressing step is not particularly limited as long as the step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member can be appropriately selected according to the purpose.

상기 가열 가압 부재로서는, 예를 들어 가열 기구를 갖는 가압 부재 등을 들 수 있다. 상기 가열 기구를 갖는 가압 부재로서는, 예를 들어 히트 툴 등을 들 수 있다.Examples of the heating and pressing member include a pressing member having a heating mechanism. As a pressing member having the heating mechanism, for example, a heat tool or the like can be mentioned.

상기 가열의 온도로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 120 ℃ 내지 200 ℃가 바람직하다.The temperature for the heating is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, and is preferably 120 ° C to 200 ° C.

상기 가압의 압력으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 0.1 ㎫ 내지 100 ㎫이 바람직하다.The pressure for the pressurization is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, but it is preferably 0.1 MPa to 100 MPa.

상기 가열 및 가압의 시간으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 0.5초간 내지 120초간이 바람직하다.The time for heating and pressurizing is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 0.5 seconds to 120 seconds.

실시예Example

이하, 본 발명의 실시예를 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예로 한정되는 것은 전혀 아니다.Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments at all.

(제조예)(Production example)

<충전제의 제조> &Lt; Preparation of filler &

이하의 실시예 및 비교예에서 사용하는 각 수산화알루미늄은 일본 특허 출원 공개 제2005-162606호 공보의 단락 〔0019〕 내지 〔0023〕에 기재된 수산화알루미늄의 제조 방법을 참고로 하여, 적절히 조정하여 제조하였다.Each of the aluminum hydroxide used in the following Examples and Comparative Examples was prepared by appropriately adjusting with reference to the aluminum hydroxide production method described in paragraphs [0019] to [0023] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-162606 .

또한, 수산화마그네슘, 산화알루미늄 및 산화마그네슘에 대해서는, 수산화알루미늄의 제조 방법과 동일한 방법에 의해 제조하였다.Magnesium hydroxide, aluminum oxide and magnesium oxide were also produced by the same method as in the production of aluminum hydroxide.

(실시예 1)(Example 1)

<이방성 도전 필름의 제작>&Lt; Fabrication of anisotropic conductive film &

-도전성 입자 함유층의 제작-- Preparation of conductive particle-containing layer -

페녹시 수지(PKHH, 도모에고교 가부시끼가이샤제) 25 질량부, 에폭시 수지(EP1001, 미쯔비시가가꾸 가부시끼가이샤제) 10 질량부, 양이온계 경화제(SI-60L, 산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제, 술포늄염형 양이온계 경화제) 10 질량부, 실란 커플링제(A-187, 모멘티브ㆍ퍼포먼스 머티리얼즈사제) 2 질량부, 도전성 입자(AUL704, 세끼스이가가꾸고교 가부시끼가이샤제, 아크릴 수지 입자의 표면에 Ni/Au 도금 피막이 형성된 금속 피막 수지 입자, 평균 입자 직경 4.0 ㎛) 30 질량부 및 수산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 0.1 질량부를, 교반 장치(자전 공전 믹서, 아와토리 렌타로(Awatori Rentaro), 가부시끼가이샤 신키제)를 사용하여 균일해지도록 혼합하였다. 혼합 후의 배합물을 박리 처리한 PET 필름 상에 건조 후의 평균 두께가 10 ㎛로 되도록 도포하여, 도전성 입자 함유층을 제작하였다., 10 parts by mass of an epoxy resin (EP1001, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 10 parts by mass of a cationic curing agent (SI-60L, manufactured by Shinkin Chemical Industry Co., Ltd.), 10 parts by mass of a phenoxy resin (PKHH, manufactured by Tomoe Kogyo K.K. 2 parts by mass of a silane coupling agent (A-187, manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.), 10 parts by mass of a conductive particle (AUL704, manufactured by Sekisui Chemical Co., 30 parts by mass of a metal-coated resin particle having an Ni / Au plated coating on its surface, an average particle diameter of 4.0 占 퐉) and 0.1 part by mass of aluminum hydroxide (irregularly shaped, average particle diameter of 0.7 占 퐉) were mixed with a stirring device (Awatori Rentaro), Synth. Co., Ltd.). The mixture after the mixing was coated on the peeled PET film so that the average thickness after drying was 10 占 퐉 to prepare a conductive particle-containing layer.

-절연성 접착층의 제작-- Preparation of insulating adhesive layer -

페녹시 수지(PKHH, 도모에교교 가부시끼가이샤제) 25 질량부, 에폭시 수지(EP1001, 미쯔비시가가꾸 가부시끼가이샤제) 10 질량부, 양이온계 경화제(SI-60L, 산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제, 술포늄염형 양이온계 경화제) 10 질량부 및 실란 커플링제(A-187, 모멘티브ㆍ퍼포먼스 머티리얼즈사제) 2 질량부를, 교반 장치(자전 공전 믹서, 아와토리 렌타로, 가부시끼가이샤 신키제)를 사용하여 균일해지도록 혼합하였다. 혼합 후의 배합물을 박리 처리한 PET 필름 상에 건조 후의 평균 두께가 10 ㎛로 되도록 도포하여, 절연성 접착층을 제작하였다., 10 parts by mass of an epoxy resin (EP1001, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 10 parts by mass of a cationic curing agent (SI-60L, manufactured by Shingo Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha), 25 parts by mass of a phenoxy resin (PKHH, 2 parts by mass of a silane coupling agent (A-187, manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.) and 10 parts by mass of a silane coupling agent (a sulfonium salt type cationic curing agent) To make them uniform. The mixture after the mixing was coated on the exfoliated PET film so that the average thickness after drying was 10 占 퐉 to prepare an insulating adhesive layer.

상기에서 얻어진 도전성 입자 함유층과 절연성 접착층을 롤 라미네이터를 사용하여, 롤 온도 45 ℃에서 라미네이트하여, 이방성 도전 필름을 얻었다.The conductive particle-containing layer and the insulating adhesive layer obtained above were laminated at a roll temperature of 45 캜 using a roll laminator to obtain an anisotropic conductive film.

<접합체의 제조 및 접합체의 평가>&Lt; Preparation of the conjugate and evaluation of the conjugate &

이하의 방법에 의해 접합체를 제조하여, 이하에 나타내는 평가를 행하였다. 결과를 표 2-1에 나타낸다.A bonded body was produced by the following method, and the evaluation shown below was carried out. The results are shown in Table 2-1.

제2 전자 부품 상에, 상기에서 얻어진 이방성 도전 필름을 도전성 입자 함유층이 상기 제2 전자 부품과 접하도록 배치하였다. 계속해서, 이방성 도전 필름의 절연성 접착층 상에 제1 전자 부품을 배치하였다. 계속해서, 평균 두께 50 ㎛의 테플론(등록 상표) 시트를 완충재로서 사용하여, 가열 툴에 의해 170 ℃, 60 ㎫, 5초간의 조건으로, 상기 제1 전자 부품을 가열 및 가압하였다.The anisotropic conductive film obtained above was disposed on the second electronic component such that the conductive particle-containing layer was in contact with the second electronic component. Subsequently, the first electronic component was disposed on the insulating adhesive layer of the anisotropic conductive film. Subsequently, the first electronic component was heated and pressed by a heating tool under the conditions of 170 DEG C, 60 MPa, and 5 seconds using a Teflon (registered trademark) sheet having an average thickness of 50 mu m as a buffer material.

<<내부식성 평가>><< Evaluation of corrosion resistance >>

-시험용 IC 칩 및 유리 기판-- Test IC chip and glass substrate -

제1 전자 부품으로서, 시험용 IC 칩(사이즈 1.8 ㎜×20 ㎜, 두께 0.5 ㎜, 금 도금 범프의 사이즈 30 ㎛×85 ㎛, 범프 높이 15 ㎛)을 사용하였다.As the first electronic component, a test IC chip (size 1.8 mm x 20 mm, thickness 0.5 mm, size of gold plated bump 30 占 퐉 占 85 占 퐉, bump height 15 占 퐉) was used.

제2 전자 부품으로서, Al 빗살형 배선이 형성된 두께 0.7 ㎜의 유리 기판을 사용하였다.As the second electronic component, a 0.7 mm-thick glass substrate on which Al interdigital wiring was formed was used.

-평가--evaluation-

얻어진 접합체의 Al 빗살형 배선에 DC 5 V를 12시간 인가하였다. 인가 후의 Al 빗살형 배선 12조를 금속 현미경에 의해 관찰하여, 이하의 평가 기준으로 평가하였다.DC 5 V was applied to the Al interdigital wiring of the obtained bonded body for 12 hours. The twelve pairs of Al comb-like wirings after the application were observed by a metallurgical microscope and evaluated by the following evaluation criteria.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○:부식이 관찰되지 않는다.○: No corrosion is observed.

△:부식 개소가 1 개소 내지 4 개소 관찰되었다.?: One to four corrosion sites were observed.

×:부식 개소가 5 개소 이상 관찰되었다.X: At least five corrosion sites were observed.

<<밀착성 평가>><< Evaluation of adhesion >>

-시험용 IC 칩 및 유리 기판-- Test IC chip and glass substrate -

제1 전자 부품으로서, 시험용 IC 칩(사이즈 1.8 ㎜×20 ㎜, 두께 0.5 ㎜, 금 도금 범프의 사이즈 30 ㎛×85 ㎛, 범프 높이 15 ㎛)을 사용하였다.As the first electronic component, a test IC chip (size 1.8 mm x 20 mm, thickness 0.5 mm, size of gold plated bump 30 占 퐉 占 85 占 퐉, bump height 15 占 퐉) was used.

제2 전자 부품으로서, 전체면에 ITO막이 형성된 두께 0.5 ㎜의 유리 기판을 사용하였다.As the second electronic component, a glass substrate having a thickness of 0.5 mm on which an ITO film was formed on the entire surface was used.

-평가--evaluation-

프레셔 쿠커 테스트(PCT) 후의, 유리 기판에 대한 이방성 도전 필름의 들뜸의 정도를 육안으로 관찰하여, 이하의 평가 기준으로 평가하였다. 또한, PCT는 121 ℃, 2 atm, 5 시간의 조건으로 행하였다.The degree of lifting of the anisotropic conductive film on the glass substrate after the pressure cooker test (PCT) was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria. The PCT was conducted under the conditions of 121 占 폚, 2 atm, and 5 hours.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○:들뜸이 관찰되지 않는다.○: Excrement is not observed.

△:압착 면적에 대해 0 % 초과 10 % 미만의 들뜸이 관찰되었다.[Delta]: Excursions exceeding 0% and less than 10% were observed with respect to the area of compression.

×:압착 면적에 대해 10 % 이상의 들뜸이 관찰되었다.X: More than 10% excitation was observed with respect to the area of compression.

<<절연성 평가>><< Insulation Evaluation >>

-시험용 IC 칩 및 유리 기판-- Test IC chip and glass substrate -

제1 전자 부품으로서, 시험용 IC 칩(사이즈 1.5 ㎜×300 ㎜, 두께 0.5 ㎜, 금 도금 범프의 범프간 스페이스 10 ㎛, 범프 높이 15 ㎛)을 사용하였다.As a first electronic component, a test IC chip (size 1.5 mm x 300 mm, thickness 0.5 mm, gold-plated bump inter-bump space 10 m, bump height 15 m) was used.

제2 전자 부품으로서, 빗살형의 ITO 배선 패턴이 형성된 두께 0.5 ㎜의 유리 기판을 사용하였다.As the second electronic component, a glass substrate having a thickness of 0.5 mm and provided with a comb-like ITO wiring pattern was used.

-평가--evaluation-

2 단자법에 의해, ITO 빗살형 배선 10조에 대해, 1조당 임의로 16 개소(합계 160 개소)의 범프간의 쇼트의 수를 카운트하여, 이하의 평가 기준으로 평가하였다. 또한, 2 단자법에 의해 측정되는 저항값이 108 Ω 이하인 경우, 쇼트라고 판단하였다.The number of shorts between the bumps at arbitrary 16 places (total of 160 places) per one set of ITO comb-shaped wires was counted by the two-terminal method, and evaluated by the following evaluation criteria. Further, when the resistance value measured by the two-terminal method was 10 8 Ω or less, it was judged as a short circuit.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○:쇼트가 없었다.○: There was no shot.

△:쇼트가 1 개소 또는 2 개소 있었다.?: There was one shot or two shot.

×:쇼트가 3 개소 이상 있었다.X: There were three or more shorts.

<<입자 포착률 평가>><< Evaluation of particle capture rate >>

-시험용 IC 칩 및 유리 기판-- Test IC chip and glass substrate -

제1 전자 부품으로서, 시험용 IC 칩(사이즈 1.8 ㎜×20 ㎜, 두께 0.5 ㎜, 금 도금 범프의 사이즈 30 ㎛×85 ㎛, 범프 높이 15 ㎛)을 사용하였다.As the first electronic component, a test IC chip (size 1.8 mm x 20 mm, thickness 0.5 mm, size of gold plated bump 30 占 퐉 占 85 占 퐉, bump height 15 占 퐉) was used.

제2 전자 부품으로서, ITO 배선이 형성된 두께 0.7 ㎜의 유리 기판을 사용하였다.As the second electronic component, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm on which an ITO wiring was formed was used.

-평가--evaluation-

이하의 방법에 의해 입자 포착률을 구하여, 평가를 행하였다.The particle trapping rate was determined by the following method, and the evaluation was carried out.

제1 전자 부품과 제2 전자 부품의 접속 전에 제1 전자 부품의 범프(단자) 상에 있는 도전성 입자의 수(접속 전 입자수)를 하기 수학식 1에 의해 산출하였다.The number of conductive particles (the number of particles before connection) on the bumps (terminals) of the first electronic component before connection of the first electronic component and the second electronic component was calculated by the following equation (1).

<수학식 1>&Quot; (1) &quot;

접속 전 입자수=도전성 입자 함유층에 있어서의 도전성 입자의 입자(면) 밀도(개/㎟)×단자의 면적(㎟)Particle number before connection = particle (surface) density of conductive particles in conductive particle-containing layer (number / mm 2) × area of terminal (mm 2)

또한, 접속 후에 단자 상에 있는 도전성 입자의 수(접속 후 입자수)를 금속 현미경으로 카운트함으로써 측정하였다. 그리고, 하기 수학식 2에 의해, 도전성 입자의 입자 포착률을 산출하였다. 그리고, 이하의 평가 기준으로 평가하였다.Further, the number of conductive particles (number of particles after connection) on the terminal after connection was measured by counting with a metal microscope. Then, the particle trapping rate of the conductive particles was calculated by the following formula (2). Then, evaluation was made according to the following evaluation criteria.

<수학식 2>&Quot; (2) &quot;

입자 포착률(%)=(접속 후 입자수/접속 전 입자수)×100Particle picking rate (%) = (number of particles after connection / number of particles before connection) × 100

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○:입자 포착률이 20 % 이상O: 20% or more particle capture rate

△:입자 포착률이 17 % 이상 20 % 미만DELTA: particle capture ratio of not less than 17% and less than 20%

×:입자 포착률이 17 % 미만X: particle capture ratio less than 17%

<<접속 저항 평가>><< Evaluation of connection resistance >>

-시험용 IC 칩 및 유리 기판-- Test IC chip and glass substrate -

제1 전자 부품으로서, 시험용 IC 칩(사이즈 1.8 ㎜×20 ㎜, 두께 0.5 ㎜, 금 도금 범프의 사이즈 30 ㎛×85 ㎛, 범프 높이 15 ㎛)을 사용하였다.As the first electronic component, a test IC chip (size 1.8 mm x 20 mm, thickness 0.5 mm, size of gold plated bump 30 占 퐉 占 85 占 퐉, bump height 15 占 퐉) was used.

제2 전자 부품으로서, ITO 배선이 형성된 두께 0.7 ㎜의 유리 기판을 사용하였다.As the second electronic component, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm on which an ITO wiring was formed was used.

-평가--evaluation-

얻어진 접합체의 초기 저항값을 이하의 방법으로 측정하여, 평가를 행하였다.The initial resistance value of the obtained bonded body was measured and evaluated in the following manner.

디지털 멀티 미터(제품 번호:디지털 멀티 미터 7555, 요꼬가와덴끼 가부시끼가이샤제)를 사용하여 4 단자법으로 전류 1 ㎃를 흘렸을 때의 접속 저항을 측정하였다. 얻어진 저항값을 이하의 평가 기준으로 평가하였다.The connection resistance was measured when a current of 1 mA was passed through a 4-terminal method using a digital multimeter (product number: Digital Multimeter 7555, manufactured by Yokogawa Electric KK). The obtained resistance value was evaluated by the following evaluation criteria.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○:초기 저항값이 1 Ω 미만 ○: Initial resistance value is less than 1 Ω

△:초기 저항값이 1 Ω 이상 3 Ω 미만△: initial resistance value is 1 Ω or more and less than 3 Ω

×:초기 저항값이 3 Ω 이상×: Initial resistance value is 3 Ω or more

(실시예 2 내지 6)(Examples 2 to 6)

실시예 1에 있어서, 도전성 입자 함유층의 제작 시의 수산화알루미늄(충전제)의 배합량을 이하의 표 1에 기재된 배합량으로 바꾼 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.An anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 1, except that the mixing amount of aluminum hydroxide (filler) in the preparation of the conductive particle-containing layer in Example 1 was changed to the mixing amount shown in Table 1 below.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-1에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-1.

<표 1> <Table 1>

Figure pct00001
Figure pct00001

(실시예 7)(Example 7)

실시예 4에 있어서, 수산화알루미늄을 수산화마그네슘(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.An anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4 except that aluminum hydroxide in Example 4 was replaced with magnesium hydroxide (amorphous type, average particle diameter: 0.7 mu m).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-1에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-1.

(실시예 8)(Example 8)

실시예 4에 있어서, 수산화알루미늄을 산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.An anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4 except that aluminum hydroxide was replaced with aluminum oxide (irregular type, average particle diameter: 0.7 mu m).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 9)(Example 9)

실시예 4에 있어서, 부정형의 수산화알루미늄을 구형의 수산화알루미늄(평균 입자 직경 0.7 ㎛)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.An anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4 except that the amorphous aluminum hydroxide in Example 4 was replaced with spherical aluminum hydroxide (average particle diameter: 0.7 mu m).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 10)(Example 10)

실시예 4에 있어서, 평균 입자 직경 0.7 ㎛의 수산화알루미늄을 평균 입자 직경 0.5 ㎛의 수산화알루미늄(부정형)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.An anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4 except that aluminum hydroxide having an average particle diameter of 0.7 占 퐉 was replaced with aluminum hydroxide having an average particle diameter of 0.5 占 퐉 (indeterminate).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 11)(Example 11)

실시예 4에 있어서, 평균 입자 직경 0.7 ㎛의 수산화알루미늄을 평균 입자 직경 2.0 ㎛의 수산화알루미늄(부정형)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.An anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4 except that aluminum hydroxide having an average particle diameter of 0.7 占 퐉 in Example 4 was replaced with aluminum hydroxide (irregular) having an average particle diameter of 2.0 占 퐉.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 12)(Example 12)

실시예 4에 있어서, 평균 입자 직경 0.7 ㎛의 수산화알루미늄을 평균 입자 직경 3.5 ㎛의 수산화알루미늄(부정형)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.An anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4 except that aluminum hydroxide having an average particle diameter of 0.7 占 퐉 was replaced with aluminum hydroxide (unshaped) having an average particle diameter of 3.5 占 퐉.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 13)(Example 13)

실시예 4에 있어서, 수산화알루미늄을 산화마그네슘(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.An anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4 except that aluminum hydroxide was replaced with magnesium oxide (irregular type, average particle diameter: 0.7 mu m).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 14)(Example 14)

실시예 4에 있어서, 수산화알루미늄 10 질량부를, 수산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 5 질량부 및 산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 5 질량부로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.Except that 10 parts by mass of aluminum hydroxide in Example 4 was replaced by 5 parts by mass of aluminum hydroxide (amorphous type, average particle diameter 0.7 mu m) and 5 parts by mass of aluminum oxide (amorphous type, average particle diameter 0.7 mu m) , An anisotropic conductive film and a bonded body were produced.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-2.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 4에 있어서, 절연성 접착층의 제작 시에, 수산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 10 질량부를 배합한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.An anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 1, except that 10 parts by mass of aluminum hydroxide (amorphous type, average particle diameter: 0.7 mu m) was added at the time of manufacturing the insulating adhesive layer in Example 4.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-3에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-3.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

실시예 1에 있어서, 도전성 입자 함유층에는 수산화알루미늄을 함유시키지 않고, 또한 절연성 접착층의 제작 시에, 수산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 10 질량부를 배합한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In the same manner as in Example 1 except that aluminum hydroxide was not contained in the conductive particle-containing layer in Example 1, and 10 parts by mass of aluminum hydroxide (irregular type, average particle diameter 0.7 탆) was added at the time of manufacturing the insulating adhesive layer Thus, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-3에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-3.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

실시예 1에 있어서, 도전성 입자 함유층에 수산화알루미늄을 함유시키지 않았던 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.An anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 1 except that aluminum hydroxide was not contained in the conductive particle containing layer in Example 1.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-3에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-3.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

페녹시 수지(PKHH, 도모에교교 가부시끼가이샤제) 25 질량부, 에폭시 수지(EP1001, 미쯔비시가가꾸 가부시끼가이샤제) 10 질량부, 양이온계 경화제(SI-60L, 산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제, 술포늄염형 양이온계 경화제) 10 질량부, 실란 커플링제(A-187, 모멘티브ㆍ퍼포먼스 머티리얼즈사제) 2 질량부, 도전성 입자(AUL704, 세끼스이가가꾸고교 가부시끼가이샤제) 30 질량부 및 수산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 10 질량부를, 교반 장치(자전 공전 믹서, 아와토리 렌타로, 가부시끼가이샤 신키제)를 사용하여 균일하게 혼합하였다. 혼합 후의 배합물을 박리 처리한 PET 상에 건조 후의 평균 두께가 20 ㎛로 되도록 도포하여, 이방성 도전 필름을 제작하였다., 10 parts by mass of an epoxy resin (EP1001, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 10 parts by mass of a cationic curing agent (SI-60L, manufactured by Shingo Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha), 25 parts by mass of a phenoxy resin (PKHH, 2 parts by mass of a silane coupling agent (A-187, manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.), 30 parts by mass of conductive particles (AUL704, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) And 10 parts by mass of aluminum hydroxide (amorphous type, average particle diameter: 0.7 mu m) were uniformly mixed using a stirring device (revolving mixer, Awatoliren Taro, Shin-Keitai K.K.). The mixture after the mixing was coated on the peeled PET so that the average thickness after drying was 20 占 퐉 to prepare an anisotropic conductive film.

얻어진 이방성 도전 필름을 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 하여 접합체를 제작하였다.Using the resulting anisotropic conductive film, a bonded body was produced in the same manner as in Example 1. [

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-3에 나타낸다.The obtained bonded body was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2-3.

이하의 표 2-1 내지 표 2-3에 상기 실시예 및 비교예의 결과를 정리하였다.The results of the above Examples and Comparative Examples are summarized in Tables 2-1 to 2-3 below.

또한, 충전제의 함유량은 각 층의 페녹시 수지, 에폭시 수지 및 양이온계 경화제의 총량 100 질량부에 대한 충전제의 함유량이다.The content of the filler is the content of the filler relative to the total amount of 100 parts by mass of the phenoxy resin, the epoxy resin and the cationic curing agent in each layer.

<표 2-1> <Table 2-1>

Figure pct00002
Figure pct00002

<표 2-2> <Table 2-2>

Figure pct00003
Figure pct00003

<표 2-3> <Table 2-3>

Figure pct00004
Figure pct00004

실시예 1 내지 14는 도전성 입자 함유층만이 충전제(금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나)를 함유하므로, 배선의 부식을 억제할 수 있어, 내부식성이 양호했다. 또한, 밀착성도 우수하고, 또한 절연성, 입자 포착률 및 접속 저항도 양호했다.In Examples 1 to 14, since only the conductive particle-containing layer contains the filler (at least any one of metal hydroxide and metal oxide), corrosion of the wiring can be suppressed and the corrosion resistance is good. In addition, adhesion was excellent, and insulation, particle-trapping rate, and connection resistance were also good.

특히, 도전성 입자 함유층에 있어서의 충전제의 함유량이, 막 형성 수지, 경화성 수지 및 양이온계 경화제의 총량 100 질량부에 대해, 4.0 질량부 내지 30 질량부인 경우에는, 내부식성 및 밀착성이 보다 우수한 결과로 되었다(예를 들어, 실시예 3 및 4).Particularly, when the content of the filler in the conductive particle-containing layer is 4.0 parts by mass to 30 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the film forming resin, the curable resin and the cationic curing agent, the corrosion resistance and the adhesion (For example, Examples 3 and 4).

또한, 충전제가 금속 수산화물인 수산화알루미늄, 또는 수산화마그네슘인 경우에는, 내부식성 및 밀착성이 보다 우수한 결과로 되었다(예를 들어, 실시예 4 및 7).Further, in the case where the filler is aluminum hydroxide, which is a metal hydroxide, or magnesium hydroxide, the corrosion resistance and the adhesion property are superior (for example, Examples 4 and 7).

충전제가 부정형인 경우에는, 구형인 경우보다도 절연성이 보다 우수한 결과로 되었다(예를 들어, 실시예 4 및 9).When the filler is amorphous, the result is more excellent in insulation than in the case of spherical (for example, Examples 4 and 9).

충전제의 평균 입자 직경이 0.5 ㎛ 내지 2.0 ㎛인 경우에는, 절연성, 입자 포착률 및 접속 저항이 보다 우수한 결과로 되었다(예를 들어, 실시예 4, 10 및 11).When the average particle diameter of the filler is 0.5 mu m to 2.0 mu m, the insulating property, the particle trapping rate, and the connection resistance are superior (for example, Examples 4, 10, and 11).

한편, 도전성 입자 함유층뿐만 아니라, 절연성 접착층에도 충전제를 함유하는 경우에는, 절연성 및 입자 포착률이 불충분했다(비교예 1).On the other hand, in the case where not only the conductive particle-containing layer but also the insulating adhesive layer contains a filler, the insulating property and the particle trapping rate are insufficient (Comparative Example 1).

절연성 접착층에만 충전제를 함유시킨 경우에는, 비교예 1과 비교하여 내부식성 및 밀착성이 저하되었다(비교예 2).When the filler was contained only in the insulating adhesive layer, the corrosion resistance and adhesion were lowered as compared with Comparative Example 1 (Comparative Example 2).

도전성 입자 함유층 및 절연성 접착층의 어떤 쪽에도 충전제를 함유시키지 않는 경우에는, 내부식성, 밀착성 및 절연성이 불충분했다(비교예 3).When the filler was not contained in either of the conductive particle-containing layer and the insulating adhesive layer, the corrosion resistance, adhesion and insulation were insufficient (Comparative Example 3).

이방성 도전 필름을 도전성 입자 함유층만의 1층 구조로 하고, 상기 도전성 입자 함유층에 충전제를 함유시킨 경우에는, 내부식성, 밀착성, 절연성 및 입자 포착률이 불충분했다(비교예 4).When the anisotropic conductive film had a single-layer structure of only the conductive particle-containing layer and the conductive particle-containing layer contained the filler, the corrosion resistance, adhesion, insulation and particle-trapping rate were insufficient (Comparative Example 4).

본 발명의 이방성 도전 필름은 내부식성 및 밀착성이 우수하므로, 양이온계 경화제를 사용한 저온 경화 또한 속경화의 접속에 의한 접합체의 제조에 적절하게 사용할 수 있다.Since the anisotropic conductive film of the present invention is excellent in corrosion resistance and adhesiveness, low-temperature curing using a cationic curing agent can be suitably used for manufacturing a bonded body by fast curing connection.

Claims (8)

제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름이며,
도전성 입자, 충전제 및 양이온계 경화제를 함유하는 도전성 입자 함유층과,
양이온계 경화제를 함유하고 충전제를 함유하지 않는 절연성 접착층을 갖고,
상기 도전성 입자가 금속 입자 및 금속 피복 수지 입자 중 적어도 어느 하나이고,
상기 충전제가 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름.
An anisotropic conductive film for anisotropic conductive connection between a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component,
A conductive particle-containing layer containing conductive particles, a filler and a cationic curing agent,
An insulating adhesive layer containing a cationic curing agent and containing no filler,
Wherein the conductive particles are at least one of metal particles and metal-coated resin particles,
Wherein the filler is at least one of a metal hydroxide and a metal oxide.
제1항에 있어서, 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나가 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 및 산화알루미늄 중 적어도 어느 하나인 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein at least one of the metal hydroxide and the metal oxide is at least one of aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, and aluminum oxide. 제1항 내지 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 도전성 입자 함유층이 막 형성 수지 및 경화성 수지를 함유하는 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 2, wherein the conductive particle-containing layer contains a film-forming resin and a curable resin. 제3항에 있어서, 도전성 입자 함유층에 있어서의 충전제의 함유량이 막 형성 수지, 경화성 수지 및 양이온계 경화제의 총량 100 질량부에 대해, 0.20 질량부 내지 90 질량부인 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 3, wherein the content of the filler in the conductive particle-containing layer is 0.20 parts by mass to 90 parts by mass relative to 100 parts by mass of the total amount of the film forming resin, the curable resin and the cationic curing agent. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 충전제가 입자상이고, 상기 충전제의 평균 입자 직경이 0.5 ㎛ 내지 3.5 ㎛인 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 4, wherein the filler is in a particulate form, and the filler has an average particle diameter of 0.5 mu m to 3.5 mu m. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 충전제가 비구형의 입자상인 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 5, wherein the filler is in a non-spherical particle shape. 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 접속 방법이며,
상기 제2 전자 부품의 단자 상에 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름을 배치하는 제1 배치 공정과,
상기 이방성 도전 필름 상에 상기 제1 전자 부품을, 상기 제1 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 제2 배치 공정과,
상기 제1 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 가열 가압 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 접속 방법.
A connection method for anisotropic conductive connection between a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component,
A first disposing step of disposing the anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 6 on a terminal of the second electronic component;
A second disposing step of disposing the first electronic component on the anisotropic conductive film and the terminal of the first electronic component in contact with the anisotropic conductive film;
And a heating and pressing step of heating and pressing the first electronic component by a heating and pressing member.
제7항에 기재된 접속 방법에 의해 얻어지는 것을 특징으로 하는 접합체.A bonded body obtained by the connecting method according to claim 7.
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