KR102114802B1 - Anisotropic conductive film, connection method, and connected body - Google Patents

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Abstract

제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름이며, 도전성 입자, 충전제 및 양이온계 경화제를 함유하는 도전성 입자 함유층과, 양이온계 경화제를 함유하고 충전제를 함유하지 않는 절연성 접착층을 갖고, 상기 도전성 입자가 금속 입자 및 금속 피복 수지 입자 중 적어도 어느 하나이고, 상기 충전제가 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나인 이방성 도전 필름이다.An anisotropic conductive film for anisotropically connecting the terminals of the first electronic component and the terminals of the second electronic component, the conductive particle-containing layer containing the conductive particles, the filler and the cationic curing agent, and containing the cationic curing agent and not containing the filler An anisotropic conductive film having an insulating adhesive layer, wherein the conductive particles are at least one of metal particles and metal-coated resin particles, and the filler is at least one of metal hydroxides and metal oxides.

Description

이방성 도전 필름, 접속 방법 및 접합체 {ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, CONNECTION METHOD, AND CONNECTED BODY}Anisotropic conductive film, connection method and bonding body {ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, CONNECTION METHOD, AND CONNECTED BODY}

본 발명은 이방성 도전 필름, 접속 방법 및 접합체에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive film, a connection method and a joined body.

종래부터 전자 부품끼리를 접속하는 수단으로서, 도전성 입자가 분산된 경화성 수지를 박리 필름에 도포한 테이프 형상의 접속 재료[예를 들어, 이방성 도전 필름(ACF;Anisotropic Conductive Film)]이 사용되고 있다.Conventionally, as a means for connecting electronic components, a tape-shaped connection material (for example, anisotropic conductive film (ACF)) in which a curable resin in which conductive particles are dispersed is applied to a release film is used.

이 이방성 도전 필름은, 예를 들어 플렉시블 프린트 기판(FPC)이나 IC 칩의 단자와, LCD 패널의 유리 기판 상에 형성된 ITO(Indium Tin Oxide; 인듐 주석 산화물) 전극을 접속하는 경우를 비롯하여, 다양한 단자끼리를 접착함과 함께 전기적으로 접속하는 경우에 사용되고 있다.This anisotropic conductive film includes various terminals, for example, when connecting a terminal of a flexible printed circuit board (FPC) or an IC chip and an ITO (Indium Tin Oxide) electrode formed on a glass substrate of an LCD panel. It is used in the case of electrically connecting together with bonding.

최근, 상기 이방성 도전 필름을 사용한 전자 부품끼리의 이방성 도전 접속에 있어서는, 접속에 의해 얻어지는 접합체의 고밀도화, 접속의 저비용화, 고온 접속에 의한 기판 등의 휨 발생의 억제 등에 대응하기 위해, 저온 경화 및 속경화가 가능한 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름이 사용되고 있다.In recent years, in anisotropic conductive connection between electronic components using the anisotropic conductive film, low-temperature curing and low-temperature curing are necessary to cope with the increase in density of the bonded body obtained by the connection, cost reduction of the connection, suppression of warpage of the substrate due to the high-temperature connection, and the like. An anisotropic conductive film using a cationic curing agent capable of rapid curing is used.

그러나, 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름에서는 양이온계 경화제를 사용했을 때에 발생하는 산에 의해 전자 부품이 갖는 배선이 부식된다는 문제가 있다. 또한, 밀착성이 충분하지 않다는 문제가 있다.However, in the anisotropic conductive film using a cationic curing agent, there is a problem that the wiring of the electronic component is corroded by the acid generated when the cationic curing agent is used. In addition, there is a problem that adhesion is not sufficient.

배선의 부식을 방지하기 위해, 접속 재료에 금속 수산화물 또는 금속 산화물을 사용할 수 있는 것이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1의 단락 〔0040〕참조). 그러나, 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름에 간단히 금속 수산화물 또는 금속 산화물을 배합한 것만으로는, 배선의 부식은 방지할 수 없다. 또한, 밀착성도 충분하지 않다.In order to prevent wiring corrosion, it is known that a metal hydroxide or a metal oxide can be used for the connection material (for example, see paragraph [0040] of Patent Document 1). However, corrosion of wiring cannot be prevented only by simply adding a metal hydroxide or a metal oxide to the anisotropic conductive film using a cationic curing agent. In addition, adhesion is not sufficient.

따라서, 이방성 도전 필름에 요구되는, 얻어지는 접합체에 있어서의 전자 부품 내의 쇼트 방지, 우수한 입자 포착률 및 낮은 접속 저항을 만족시키면서, 저온 경화 및 속경화가 가능하고, 또한 전자 부품이 갖는 배선의 부식을 방지하고, 또한 밀착성이 우수한, 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법 및 상기 접속 방법에 의해 얻어지는 접합체의 제공이 요구되고 있는 것이 현상이다.Therefore, it is possible to perform low-temperature curing and fast curing while satisfying short-circuit resistance, excellent particle trapping ratio and low connection resistance in electronic components in the resulting bonded body, which are required for anisotropic conductive films, and also prevent corrosion of wirings in electronic components. In addition, it is a phenomenon that an anisotropic conductive film using a cationic curing agent having excellent adhesiveness, a connection method using the anisotropic conductive film, and a bonded body obtained by the connection method are required.

일본 특허 출원 공개 제2011-111556호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2011-111556

본 발명은 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하여, 이하의 목적을 달성하는 것을 과제로 한다. 즉, 본 발명은 이방성 도전 필름에 요구되는, 얻어지는 접합체에 있어서의 전자 부품 내의 쇼트 방지, 우수한 입자 포착률 및 낮은 접속 저항을 만족시키면서, 저온 경화 및 속경화가 가능하고, 또한 전자 부품이 갖는 배선의 부식을 방지하고, 또한 밀착성이 우수한, 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법 및 상기 접속 방법에 의해 얻어지는 접합체를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to solve the above problems in the related art and achieve the following objects. That is, the present invention is capable of low-temperature curing and fast curing while satisfying short-circuit resistance, excellent particle trapping ratio and low connection resistance in electronic components in the resulting bonded body required for anisotropic conductive films, and also for wiring of electronic components. An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive film using a cationic curing agent, which prevents corrosion, and has excellent adhesion, a connection method using the anisotropic conductive film, and a joined body obtained by the connection method.

상기 과제를 해결하기 위한 수단으로서는, 이하와 같다. 즉,The means for solving the above problems are as follows. In other words,

<1> 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름이며,<1> It is an anisotropic conductive film which connects the terminal of the first electronic component and the terminal of the second electronic component anisotropically

도전성 입자, 충전제 및 양이온계 경화제를 함유하는 도전성 입자 함유층과,A conductive particle-containing layer containing conductive particles, a filler, and a cationic curing agent,

양이온계 경화제를 함유하고 충전제를 함유하지 않는 절연성 접착층을 갖고,Has an insulating adhesive layer containing a cationic curing agent and no filler,

상기 도전성 입자가 금속 입자 및 금속 피복 수지 입자 중 적어도 어느 하나이고,The conductive particles are at least one of metal particles and metal-coated resin particles,

상기 충전제가 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름이다.The filler is an anisotropic conductive film, characterized in that at least one of a metal hydroxide and a metal oxide.

<2> 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나가 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 및 산화알루미늄 중 적어도 어느 하나인 상기 <1>에 기재된 이방성 도전 필름이다.<2> The anisotropic conductive film according to the above <1>, wherein at least one of the metal hydroxide and the metal oxide is at least one of aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and aluminum oxide.

<3> 도전성 입자 함유층이 막 형성 수지 및 경화성 수지를 함유하는 상기 <1> 내지 <2> 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름이다.The <3> electroconductive particle containing layer is an anisotropic electrically conductive film in any one of said <1> to <2> which contains a film forming resin and curable resin.

<4> 도전성 입자 함유층에 있어서의 충전제의 함유량이 막 형성 수지, 경화성 수지 및 양이온계 경화제의 총량 100 질량부에 대해, 0.20 질량부 내지 90 질량부인 상기 <3>에 기재된 이방성 도전 필름이다.<4> The anisotropic conductive film according to the above <3>, wherein the content of the filler in the conductive particle-containing layer is 0.20 parts by mass to 90 parts by mass relative to 100 parts by mass of the total amount of the film-forming resin, the curable resin, and the cationic curing agent.

<5> 충전제가 입자상이고, 상기 충전제의 평균 입자 직경이 0.5 ㎛ 내지 3.5 ㎛인 상기 <1> 내지 <4> 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름이다.<5> The filler is an anisotropic conductive film according to any one of <1> to <4>, wherein the filler has a particulate shape and an average particle diameter of the filler is 0.5 μm to 3.5 μm.

<6> 충전제가 비구형의 입자상인 상기 <1> 내지 <5> 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름이다.<6> The filler is an anisotropic conductive film according to any one of <1> to <5>, wherein the filler is non-spherical.

<7> 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 접속 방법이며,<7> An anisotropic conductive connection between the terminals of the first electronic component and the terminals of the second electronic component.

상기 제2 전자 부품의 단자 상에 상기 <1> 내지 <6> 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름을 배치하는 제1 배치 공정과,A first arrangement step of disposing the anisotropic conductive film according to any one of <1> to <6> above on a terminal of the second electronic component;

상기 이방성 도전 필름 상에 상기 제1 전자 부품을, 상기 제1 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 제2 배치 공정과,A second arrangement step of arranging the first electronic component on the anisotropic conductive film so that a terminal of the first electronic component contacts the anisotropic conductive film;

상기 제1 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 가열 가압 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 접속 방법이다.It is a connection method characterized by including the heating pressurization process of heating and pressurizing the said 1st electronic component by a heating pressurizing member.

<8> 상기 <7>에 기재된 접속 방법에 의해 얻어지는 것을 특징으로 하는 접합체이다.<8> It is a joined body characterized by being obtained by the connection method described in <7> above.

본 발명에 따르면, 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하여, 상기 목적을 달성할 수 있고, 이방성 도전 필름에 요구되는, 얻어지는 접합체에 있어서의 전자 부품 내의 쇼트 방지, 우수한 입자 포착률 및 낮은 접속 저항을 만족시키면서, 저온 경화 및 속경화가 가능하고, 또한 전자 부품이 갖는 배선의 부식을 방지하고, 또한 밀착성이 우수한, 양이온계 경화제를 사용한 이방성 도전 필름 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법 및 상기 접속 방법에 의해 얻어지는 접합체를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to solve the above-mentioned various problems in the prior art, achieve the above object, and prevent short circuits in electronic components in the obtained bonded body, required for anisotropic conductive films, excellent particle trapping rate and low connection resistance. An anisotropic conductive film using a cationic curing agent, a connection method using the anisotropic conductive film, and a connection method that is capable of low temperature curing and rapid curing while preventing satisfactory, and also prevents corrosion of wirings of electronic components and has excellent adhesion. The conjugate obtained by can be provided.

(이방성 도전 필름)(Anisotropic conductive film)

본 발명의 이방성 도전 필름은 도전성 입자 함유층과 절연성 접착층을 적어도 갖고, 또한 필요에 따라서 그 밖의 층을 갖는다.The anisotropic conductive film of the present invention has at least a conductive particle-containing layer and an insulating adhesive layer, and has other layers as necessary.

상기 이방성 도전 필름은 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름이다.The said anisotropic conductive film is an anisotropic conductive film which connects the terminal of a 1st electronic component and the terminal of a 2nd electronic component anisotropically.

상기 이방성 도전 필름의 구조로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 상기 도전성 입자 함유층과 상기 절연성 접착층을 포함하는 2층 구조가 바람직하다.The structure of the anisotropic conductive film is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, but a two-layer structure including the conductive particle-containing layer and the insulating adhesive layer is preferable.

<제1 전자 부품 및 제2 전자 부품><First electronic component and second electronic component>

상기 제1 전자 부품 및 상기 제2 전자 부품으로서는, 상기 이방성 도전 필름을 사용한 이방성 도전 접속의 대상이 되는, 단자를 갖는 전자 부품이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 유리 기판, 플렉시블 기판, 리지드 기판, IC(Integrated Circuit; 집적 회로) 칩, TAB(Tape Automated Bonding; 테이프 자동 접합), 액정 패널 등을 들 수 있다. 상기 유리 기판으로서는, 예를 들어 Al 배선 형성 유리 기판, ITO 배선 형성 유리 기판 등을 들 수 있다. 상기 IC 칩으로서는, 예를 들어 플랫 패널 디스플레이(FPD)에 있어서의 액정 화면 제어용 IC 칩 등을 들 수 있다.As said 1st electronic component and said 2nd electronic component, if it is an electronic component which has a terminal which becomes the object of the anisotropic conductive connection using the said anisotropic conductive film, there is no restriction | limiting in particular, It can select suitably according to the objective, for example And glass substrates, flexible substrates, rigid substrates, IC (Integrated Circuit) chips, TAB (Tape Automated Bonding), and liquid crystal panels. As said glass substrate, an Al wiring formation glass substrate, an ITO wiring formation glass substrate, etc. are mentioned, for example. As said IC chip, the IC chip for liquid crystal screen control in a flat panel display (FPD), etc. are mentioned, for example.

<도전성 입자 함유층><Conductive particle-containing layer>

상기 도전성 입자 함유층은 도전성 입자와, 충전제와, 양이온계 경화제를 적어도 함유하고, 바람직하게는 막 형성 수지와, 경화성 수지를 함유하고, 또한 필요에 따라서 그 밖의 성분을 함유한다.The conductive particle-containing layer contains at least conductive particles, a filler, and a cationic curing agent, preferably contains a film-forming resin and a curable resin, and further contains other components as necessary.

-도전성 입자--Conductive particle-

상기 도전성 입자로서는, 금속 입자 및 금속 피복 수지 입자 중 적어도 어느 하나이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The conductive particles are not particularly limited as long as they are at least one of metal particles and metal-coated resin particles, and can be appropriately selected according to the purpose.

상기 금속 입자로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 니켈, 코발트, 은, 구리, 금, 팔라듐 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The metal particles are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include nickel, cobalt, silver, copper, gold, and palladium. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

이들 중에서도, 니켈, 은, 구리가 바람직하다. 이들 금속 입자는 표면 산화를 방지할 목적으로, 그 표면에 금, 팔라듐을 실시하고 있어도 된다. 또한, 표면에 금속 돌기나 유기물로 절연 피막을 실시한 것을 사용해도 된다.Among these, nickel, silver, and copper are preferable. For the purpose of preventing surface oxidation of these metal particles, gold or palladium may be applied to the surface. Moreover, you may use what gave the surface an insulating coating with a metal protrusion or an organic substance.

상기 금속 피복 수지 입자로서는, 수지 입자의 표면을 금속으로 피복한 입자이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 수지 입자의 표면을 니켈, 구리, 금 및 팔라듐 중 적어도 어느 하나의 금속으로 피복한 입자 등을 들 수 있다. 또한, 표면에 금속 돌기나 유기물로 절연 피막을 실시한 것을 사용해도 된다.The metal-coated resin particle is not particularly limited as long as it is a particle coated with a metal surface of the resin particle, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the surface of the resin particle is at least any of nickel, copper, gold, and palladium. And particles coated with a single metal. Moreover, you may use what gave the surface an insulating coating with a metal protrusion or an organic substance.

상기 수지 입자로의 금속의 피복 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 무전해 도금법, 스퍼터링법 등을 들 수 있다.The method of coating the metal with the resin particles is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include an electroless plating method and sputtering method.

상기 수지 입자의 재질로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 스티렌-디비닐벤젠 공중합체, 벤조구아나민 수지, 가교 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 스티렌-실리카 복합 수지 등을 들 수 있다.The material of the resin particles is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, styrene-divinylbenzene copolymer, benzoguanamine resin, crosslinked polystyrene resin, acrylic resin, styrene-silica composite resin, etc. Can be lifted.

상기 도전성 입자는 이방성 도전 접속 시에, 도전성을 갖고 있으면 된다. 예를 들어, 금속 입자의 표면에 절연 피막을 실시한 입자라도, 이방성 도전 접속 시에 상기 입자가 변형되어, 상기 금속 입자가 노출되는 것이면, 상기 도전성 입자로서 기능한다.The said electroconductive particle should just have electroconductivity at the time of anisotropic conductive connection. For example, even if the particles are coated with an insulating film on the surface of the metal particles, they function as the conductive particles as long as the particles are deformed during the anisotropic conductive connection and the metal particles are exposed.

상기 도전성 입자 함유층에 있어서의 상기 도전성 입자의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 회로 부재의 배선 피치나, 접속 면적 등에 의해 적절히 조정할 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as content of the said electroconductive particle in the said electroconductive particle containing layer, It can adjust suitably according to the wiring pitch of a circuit member, connection area, etc ..

-충전제--Filler-

상기 충전제로서는, 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The filler is not particularly limited as long as it is at least one of a metal hydroxide and a metal oxide, and can be appropriately selected according to the purpose.

상기 금속 수산화물 및 금속 산화물은 배선의 부식 방지, 밀착성의 향상 및 절연성의 향상을 위해 사용된다.The metal hydroxide and metal oxide are used to prevent corrosion of the wiring, improve adhesion, and improve insulation.

상기 금속 수산화물로서는, 예를 들어 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 수산화칼슘 등을 들 수 있다.As said metal hydroxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, etc. are mentioned, for example.

상기 금속 산화물로서는, 예를 들어 산화알루미늄, 산화규소, 산화마그네슘, 산화안티몬, 산화주석, 산화티타늄, 산화망간, 산화지르코늄 등을 들 수 있다.Examples of the metal oxide include aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, manganese oxide, and zirconium oxide.

이들 중에서도, 내부식성 및 밀착성의 관점에서, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 및 산화알루미늄 중 적어도 어느 하나가 바람직하고, 수산화알루미늄 및 수산화마그네슘 중 적어도 어느 하나가 보다 바람직하다.Among these, at least one of aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and aluminum oxide is preferable, and at least one of aluminum hydroxide and magnesium hydroxide is more preferable from the viewpoint of corrosion resistance and adhesion.

또한, 금속 수산화물 및 금속 산화물의 부식을 방지하는 것 및 밀착성을 향상시키는 것은 일본 특허 공표 제2004-523661호 공보, 일본 특허 공개 제2011-111556호 공보 등에 기재한 바와 같이 공지이다.In addition, preventing corrosion of metal hydroxides and metal oxides and improving adhesion are known as described in Japanese Patent Publication No. 2004-523661, Japanese Patent Publication No. 2011-111556, and the like.

상기 충전제는 입자상인 것이 바람직하다.It is preferable that the filler is particulate.

상기 입자상의 충전제로서는, 예를 들어 구형의 충전제, 비구형의 충전제 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 절연성의 관점에서, 비구형의 충전제가 바람직하고, 부정형의 충전제가 보다 바람직하다.As said particulate filler, a spherical filler, a non-spherical filler, etc. are mentioned, for example. Among these, non-spherical fillers are preferable from the viewpoint of insulation, and amorphous fillers are more preferable.

상기 비구형이란, 상기 구형 이외의 형상이다.The non-spherical shape is a shape other than the spherical shape.

상기 부정형이란, 상기 비구형이며, 1종류의 형상뿐만 아니라, 다양한 형태를 갖는 형상이 혼재하고 있는 것을 의미한다. 상기 다양한 형태로서는, 예를 들어 요철, 각, 돌기 등을 들 수 있다.The irregular shape means that the non-spherical shape is mixed with not only one type of shape but also various shapes. Examples of the various forms include irregularities, angles, and protrusions.

상기 충전제가 입자상인 경우의, 상기 충전제의 평균 입자 직경으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 0.5 ㎛ 내지 3.5 ㎛가 바람직하고, 0.5 ㎛ 내지 2.0 ㎛가 보다 바람직하다. 상기 평균 입자 직경이 상기 보다 바람직한 범위 내이면, 절연성, 입자 포착률 및 접속 저항이 보다 우수한 점에서 유리하다.When the filler is in the form of particles, the average particle diameter of the filler is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 0.5 μm to 3.5 μm, and more preferably 0.5 μm to 2.0 μm. When the average particle diameter is within the above-mentioned preferred range, it is advantageous in that the insulating property, particle trapping rate and connection resistance are more excellent.

상기 평균 입자 직경은 임의로 10개의 충전제에 대해 측정한 입자 직경의 산술 평균이다.The average particle diameter is an arithmetic mean of particle diameters, optionally measured for 10 fillers.

상기 충전제가 비구형인 경우, 입자의 최대 길이를 상기 입자 직경으로 한다.When the filler is non-spherical, the maximum length of the particles is the particle diameter.

상기 입자 직경은, 예를 들어 주사형 전자 현미경 관찰, 입도 분포계에 의한 측정 등에 의해 구할 수 있다.The particle diameter can be obtained, for example, by observation with a scanning electron microscope, measurement by a particle size distribution meter, or the like.

상기 충전제가 입자상인 경우의, 상기 충전제의 평균 입자 직경(A)과 상기 도전성 입자의 평균 입자(B)의 비(A/B)로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 1/10 내지 2/3가 바람직하고, 1/10 내지 1/2이 보다 바람직하다. 상기 비가 상기 보다 바람직한 범위 내이면, 절연성, 입자 포착률 및 접속 저항이 보다 우수한 점에서 유리하다.The ratio (A / B) of the average particle diameter (A) of the filler and the average particle (B) of the conductive particles when the filler is particulate is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. / 10 to 2/3 are preferred, and 1/10 to 1/2 are more preferred. When the ratio is within the above-described preferred range, it is advantageous in that the insulating property, particle trapping rate and connection resistance are more excellent.

또한, 상기 도전성 입자의 평균 입자 직경의 측정 방법은 상기 충전제의 평균 입자 직경의 측정 방법과 마찬가지이다.In addition, the measuring method of the average particle diameter of the said electroconductive particle is the same as the measuring method of the average particle diameter of the said filler.

상기 충전제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 상기 막 형성 수지, 상기 경화성 수지 및 상기 양이온계 경화제의 총량 100 질량부에 대해, 0.20 질량부 내지 90 질량부가 바람직하고, 4.0 질량부 내지 30 질량부가 보다 바람직하다. 상기 함유량이 상기 보다 바람직한 범위 내이면, 저온 경화 및 속경화를 유지하면서, 내부식성, 밀착성 및 절연성이 보다 우수한 점에서 유리하다.The content of the filler is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 0.20 parts by mass to 90 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the film-forming resin, the curable resin, and the cationic curing agent. It is more preferably from 4.0 parts by mass to 30 parts by mass. When the content is within the more preferable range, it is advantageous in that corrosion resistance, adhesion, and insulation are more excellent while maintaining low temperature curing and rapid curing.

-양이온계 경화제--Cationic curing agent-

상기 양이온계 경화제로서는, 양이온종을 발생하는 경화제이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 오늄염 등을 들 수 있다.The cationic curing agent is not particularly limited as long as it is a curing agent that generates cationic species, and can be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include onium salts and the like.

상기 오늄염으로서는, 예를 들어 술포늄염, 요오도늄염 등을 들 수 있다.As said onium salt, a sulfonium salt, an iodonium salt, etc. are mentioned, for example.

상기 술포늄염으로서는, 예를 들어 트리아릴술포늄염 등을 들 수 있다.As said sulfonium salt, triaryl sulfonium salt etc. are mentioned, for example.

상기 오늄염에 있어서의 상대 음이온으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 SbF6 -, AsF6 -, PF6 -, BF4 -, CH3SO3 -, CF3SO3 - 등을 들 수 있다.The O as a counter anion of the salt is not particularly limited, can be appropriately selected according to the purpose, for example, SbF 6 -, AsF 6 -, PF 6 -, BF 4 -, CH 3 SO 3 -, CF 3 SO 3 - and the like.

상기 양이온계 경화제는 시판품이어도 된다. 상기 시판품으로서는, 예를 들어 아데카 옵토머 SP-172(가부시끼가이샤 아데카(ADEKA)제), 아데카 옵토머 SP-170(가부시끼가이샤 아데카제), 아데카 옵토머 SP-152(가부시끼가이샤 아데카제), 아데카 옵토머 SP-150(가부시끼가이샤 아데카제), 선에이드 SI-60L(산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제), 선에이드 SI-80L(산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제), 선에이드 SI-100L(산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제), 선에이드 SI-150L(산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제), CPI-100P(산-아프로가부시끼가이샤제), CPI-101A(산-아프로가부시끼가이샤제), CPI-200K(산-아프로가부시끼가이샤제), 이르가큐어(IRGACURE) 250(바스프(BASF)사제) 등을 들 수 있다.The cationic curing agent may be a commercial product. As said commercial item, for example, Adeka Optomer SP-172 (made by Adeka, Inc.), Adeka Optomer SP-170 (made by Adeka, Inc.), Adeka Optomer SP-152 ( Adeka Co., Ltd., Adeka Optomer SP-150 (Adeka Co., Ltd.), Sun-Aid SI-60L (manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.), Sun-Aid SI-80L (manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd. Kabukiki) Manufactured by Kaisha), Sun-Aid SI-100L (manufactured by Sanshin Chemical High School Co., Ltd.), Sun-aid SI-150L (manufactured by Sanshin Chemical High School Co., Ltd.), CPI-100P (manufactured by San-Afro Co., Ltd.), CPI- And 101A (manufactured by San-Afro Chemical Co., Ltd.), CPI-200K (manufactured by San-Afro Chemical Co., Ltd.), IRGACURE 250 (manufactured by BASF), and the like.

상기 도전성 입자 함유층에 있어서의 상기 양이온계 경화제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 상기 막 형성 수지 및 상기 경화성 수지의 총량 100 질량부에 대해, 10 질량부 내지 50 질량부가 바람직하고, 20 질량부 내지 40 질량부가 보다 바람직하다.The content of the cationic curing agent in the conductive particle-containing layer is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the purpose, but is 10 parts by mass to 50 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the film-forming resin and the curable resin. Addition is preferable, and 20 to 40 parts by mass is more preferable.

-막 형성 수지--Film-forming resin-

상기 막 형성 수지로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 페녹시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 포화 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지, 부타디엔 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 폴리올레핀 수지 등을 들 수 있다. 상기 막 형성 수지는 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 이들 중에서도, 제막성, 가공성, 접속 신뢰성의 점에서 페녹시 수지가 바람직하다.The film-forming resin is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, phenoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, urethane resin, butadiene resin, polyimide resin, polyamide resin, And polyolefin resins. The said film forming resin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, a phenoxy resin is preferred from the viewpoints of film forming properties, workability, and connection reliability.

상기 페녹시 수지로서는, 예를 들어 비스페놀 A와 에피클로로히드린으로 합성되는 수지 등을 들 수 있다.Examples of the phenoxy resin include resins synthesized from bisphenol A and epichlorohydrin.

상기 페녹시 수지는 적절히 합성한 것을 사용해도 되고, 시판품을 사용해도 된다.As for the phenoxy resin, those synthesized as appropriate may be used, or commercial products may be used.

상기 도전성 입자 함유층에 있어서의 상기 막 형성 수지의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as content of the said film forming resin in the said electroconductive particle containing layer, It can select suitably according to the objective.

-경화성 수지--Curable resin-

상기 경화성 수지로서는, 양이온계 경화제의 작용에 의해 경화되는 수지이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 에폭시 수지 등을 들 수 있다.The curable resin is not particularly limited as long as it is a resin cured by the action of a cationic curing agent, and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples thereof include epoxy resins and the like.

상기 에폭시 수지로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 그들의 변성 에폭시 수지 등을 들 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as said epoxy resin, It can select suitably according to the objective, For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolak type epoxy resin, these modified epoxy resins, etc. are mentioned.

상기 도전성 입자 함유층에 있어서의 상기 경화성 수지의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as content of the said curable resin in the said electroconductive particle containing layer, It can select suitably according to the objective.

-그 밖의 성분--Other ingredients-

상기 그 밖의 성분으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 실란 커플링제 등을 들 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as said other component, It can select suitably according to the objective, For example, a silane coupling agent etc. are mentioned.

상기 실란 커플링제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 에폭시계 실란 커플링제, 아크릴계 실란 커플링제, 티올계 실란 커플링제, 아민계 실란 커플링제 등을 들 수 있다.The silane coupling agent is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include an epoxy-based silane coupling agent, an acrylic-based silane coupling agent, a thiol-based silane coupling agent, and an amine-based silane coupling agent.

상기 도전성 입자 함유층에 있어서의 상기 실란 커플링제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The content of the silane coupling agent in the conductive particle-containing layer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.

상기 도전성 입자 함유층의 평균 두께로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 3 ㎛ 내지 30 ㎛가 바람직하고, 4 ㎛ 내지 20 ㎛가 보다 바람직하고, 4 ㎛ 내지 10 ㎛가 특히 바람직하다.The average thickness of the conductive particle-containing layer is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 3 μm to 30 μm, more preferably 4 μm to 20 μm, and particularly preferably 4 μm to 10 μm. .

상기 도전성 입자 함유층의 제조 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 도전성 입자와, 상기 충전제와, 상기 양이온계 경화제를 함유하고, 바람직하게는 상기 막 형성 수지와, 상기 경화성 수지를 함유하는 배합물을 균일해지도록 혼합한 후, 혼합한 상기 배합물을 박리 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 상에 도포하는 방법 등을 들 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said electroconductive particle containing layer, It can select suitably according to the objective, For example, it contains the said electroconductive particle, the said filler, and the said cation-type hardening agent, Preferably it is the said film forming resin. And a method in which the blend containing the curable resin is mixed so as to be uniform, and then the blended blend is coated on a polyethylene terephthalate (PET) film subjected to peeling treatment.

<절연성 접착층><Insulating adhesive layer>

상기 절연성 접착층은 양이온계 경화제를 적어도 함유하고, 충전제를 함유하지 않고, 또한 필요에 따라서 그 밖의 성분을 함유한다.The insulating adhesive layer contains at least a cationic curing agent, no filler, and other components as necessary.

-양이온계 경화제--Cationic curing agent-

상기 양이온계 경화제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 도전성 입자 함유층의 설명에 있어서 예시한 상기 양이온계 경화제 등을 들 수 있다. 바람직한 형태도 마찬가지이다.The cationic curing agent is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include the cationic curing agent exemplified in the description of the conductive particle-containing layer. The preferred form is also the same.

상기 절연성 접착층에 있어서의 상기 양이온계 경화제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 상기 막 형성 수지 및 상기 경화성 수지의 총량 100 질량부에 대해, 10 질량부 내지 50 질량부가 바람직하고, 20 질량부 내지 40 질량부가 보다 바람직하다.The content of the cationic curing agent in the insulating adhesive layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, but is 10 parts by mass to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the film-forming resin and the curable resin. It is preferable, and 20 to 40 parts by mass is more preferable.

-충전제--Filler-

상기 충전제로서는, 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 도전성 입자 함유층의 설명에 있어서 예시한 상기 충전제 등을 들 수 있다.As said filler, if it is at least any one of a metal hydroxide and a metal oxide, there is no restriction | limiting in particular, It can select suitably according to the objective, For example, the filler etc. which were illustrated in the description of the said electroconductive particle containing layer are mentioned.

-그 밖의 성분--Other ingredients-

상기 그 밖의 성분으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 막 형성 수지, 경화성 수지, 실란 커플링제 등을 들 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as said other component, It can select suitably according to the objective, For example, a film forming resin, curable resin, a silane coupling agent, etc. are mentioned.

상기 막 형성 수지, 상기 경화성 수지 및 상기 실란 커플링제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 도전성 입자 함유층의 설명에 있어서 예시한 상기 막 형성 수지, 상기 경화성 수지 및 상기 실란 커플링제를 각각 들 수 있다. 바람직한 형태도 마찬가지이다.The film-forming resin, the curable resin, and the silane coupling agent are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the film-forming resin, the curable resin, and the film-forming resin exemplified in the description of the conductive particle-containing layer and The said silane coupling agent is mentioned, respectively. The preferred form is also the same.

상기 절연성 접착층의 평균 두께로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 3 ㎛ 내지 30 ㎛가 바람직하고, 5 ㎛ 내지 20 ㎛가 보다 바람직하고, 7 ㎛ 내지 15 ㎛가 특히 바람직하다.The average thickness of the insulating adhesive layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 3 µm to 30 µm, more preferably 5 µm to 20 µm, and particularly preferably 7 µm to 15 µm.

상기 절연성 접착층의 제조 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 상기 양이온계 경화제를 함유하고, 또한 필요에 따라서 상기 막 형성 수지와, 상기 경화성 수지를 함유하는 배합물을 균일해지도록 혼합한 후, 혼합한 상기 배합물을 박리 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 상에 도포하는 방법 등을 들 수 있다.There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said insulating adhesive layer, It can select suitably according to the objective, For example, the formulation containing the said cation-type hardening agent, and if necessary, the said film forming resin and the said curable resin After mixing so as to become uniform, a method of coating the blended mixture on a polyethylene terephthalate (PET) film subjected to peeling may be mentioned.

상기 이방성 도전 필름의 제조 방법으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 전술한 상기 도전성 입자 함유층의 제조 방법으로 제조한 도전성 입자 함유층과, 전술한 상기 절연성 접착층의 제조 방법으로 제조한 절연성 접착층을, 롤 라미네이터 등을 사용하여 라미네이트하는 방법 등을 들 수 있다.The method for producing the anisotropic conductive film is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the conductive particle-containing layer produced by the method for producing the conductive particle-containing layer described above, and the method for producing the insulating adhesive layer described above And a method of laminating the insulating adhesive layer produced by using a roll laminator or the like.

(접속 방법 및 접합체)(Connection method and bonding body)

본 발명의 접속 방법은 제1 배치 공정과, 제2 배치 공정과, 가열 가압 공정을 적어도 포함하고, 또한 필요에 따라서 그 밖의 공정을 포함한다.The connection method of the present invention includes at least a first batch process, a second batch process, and a heating and pressing process, and further includes other processes as necessary.

상기 접속 방법은 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 방법이다.The connection method is a method of anisotropically conducting a connection between a terminal of the first electronic component and a terminal of the second electronic component.

본 발명의 접합체는 본 발명의 상기 접속 방법에 의해 얻어진다.The joined body of the present invention is obtained by the above-mentioned connection method of the present invention.

상기 제1 전자 부품 및 상기 제2 전자 부품으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 본 발명의 상기 이방성 도전 필름의 설명에서 예시한 상기 제1 전자 부품 및 상기 제2 전자 부품을 각각 들 수 있다.The first electronic component and the second electronic component are not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the first electronic component and the second illustrated in the description of the anisotropic conductive film of the present invention. And electronic components, respectively.

<제1 배치 공정><First batch process>

상기 제1 배치 공정으로서는, 상기 제2 전자 부품의 단자 상에 본 발명의 상기 이방성 도전 필름을 배치하는 공정이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The first arrangement step is not particularly limited as long as it is a step of disposing the anisotropic conductive film of the present invention on the terminal of the second electronic component, and can be appropriately selected according to the purpose.

상기 제2 전자 부품이 유리 기판, 플렉시블 기판 등의 기판이며, 상기 제1 전자 부품이 IC 칩, TAB 등인 경우, 상기 제1 배치 공정에 있어서는, 예를 들어 상기 제2 전자 부품의 단자 상에 상기 이방성 도전 필름을, 상기 단자와 상기 이방성 도전 필름의 도전성 입자 함유층이 접하도록 배치한다.When the second electronic component is a substrate such as a glass substrate or a flexible substrate, and the first electronic component is an IC chip, TAB, etc., in the first arrangement step, for example, on the terminal of the second electronic component, An anisotropic conductive film is disposed so that the terminal and the conductive particle-containing layer of the anisotropic conductive film are in contact.

<제2 배치 공정><Second batch process>

상기 제2 배치 공정으로서는, 상기 이방성 도전 필름 상에 상기 제1 전자 부품을, 상기 제1 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 공정이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The second arrangement step is not particularly limited as long as the first electronic component is placed on the anisotropic conductive film so that the terminal of the first electronic component is in contact with the anisotropic conductive film. Can be.

<가열 가압 공정><Heat pressurization process>

상기 가열 가압 공정으로서는, 상기 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 공정이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다.The heating and pressing step is not particularly limited as long as it is a step of heating and pressing the electronic component with a heating and pressing member, and can be appropriately selected according to the purpose.

상기 가열 가압 부재로서는, 예를 들어 가열 기구를 갖는 가압 부재 등을 들 수 있다. 상기 가열 기구를 갖는 가압 부재로서는, 예를 들어 히트 툴 등을 들 수 있다.As said heating pressurizing member, the pressurizing member etc. which have a heating mechanism are mentioned, for example. A heat tool etc. are mentioned as a pressurizing member which has the said heating mechanism, for example.

상기 가열의 온도로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 120 ℃ 내지 200 ℃가 바람직하다.There is no restriction | limiting in particular as a temperature of the said heating, Although it can select suitably according to the objective, 120 degreeC-200 degreeC is preferable.

상기 가압의 압력으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 0.1 ㎫ 내지 100 ㎫이 바람직하다.There is no restriction | limiting in particular as a pressure of the said pressurization, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 kPa to 100 kPa is preferable.

상기 가열 및 가압의 시간으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 0.5초간 내지 120초간이 바람직하다.The time for heating and pressurization is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 0.5 to 120 seconds.

실시예Example

이하, 본 발명의 실시예를 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예로 한정되는 것은 전혀 아니다.Hereinafter, examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples at all.

(제조예)(Production example)

<충전제의 제조> <Preparation of filler>

이하의 실시예 및 비교예에서 사용하는 각 수산화알루미늄은 일본 특허 출원 공개 제2005-162606호 공보의 단락 〔0019〕 내지 〔0023〕에 기재된 수산화알루미늄의 제조 방법을 참고로 하여, 적절히 조정하여 제조하였다.Each aluminum hydroxide used in the following Examples and Comparative Examples was prepared by appropriate adjustment with reference to the production method of aluminum hydroxide described in paragraphs [0019] to [0023] of Japanese Patent Application Publication No. 2005-162606. .

또한, 수산화마그네슘, 산화알루미늄 및 산화마그네슘에 대해서는, 수산화알루미늄의 제조 방법과 동일한 방법에 의해 제조하였다.In addition, about magnesium hydroxide, aluminum oxide, and magnesium oxide, it manufactured by the method similar to the manufacturing method of aluminum hydroxide.

(실시예 1)(Example 1)

<이방성 도전 필름의 제작><Preparation of anisotropic conductive film>

-도전성 입자 함유층의 제작--Production of conductive particle-containing layer-

페녹시 수지(PKHH, 도모에고교 가부시끼가이샤제) 25 질량부, 에폭시 수지(EP1001, 미쯔비시가가꾸 가부시끼가이샤제) 10 질량부, 양이온계 경화제(SI-60L, 산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제, 술포늄염형 양이온계 경화제) 10 질량부, 실란 커플링제(A-187, 모멘티브ㆍ퍼포먼스 머티리얼즈사제) 2 질량부, 도전성 입자(AUL704, 세끼스이가가꾸고교 가부시끼가이샤제, 아크릴 수지 입자의 표면에 Ni/Au 도금 피막이 형성된 금속 피막 수지 입자, 평균 입자 직경 4.0 ㎛) 30 질량부 및 수산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 0.1 질량부를, 교반 장치(자전 공전 믹서, 아와토리 렌타로(Awatori Rentaro), 가부시끼가이샤 신키제)를 사용하여 균일해지도록 혼합하였다. 혼합 후의 배합물을 박리 처리한 PET 필름 상에 건조 후의 평균 두께가 10 ㎛로 되도록 도포하여, 도전성 입자 함유층을 제작하였다.Phenoxy resin (PKHH, manufactured by Tomoe High School Co., Ltd.) 25 parts by mass, epoxy resin (EP1001, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 10 parts by mass, cationic curing agent (SI-60L, Sanshin Chemical Co., Ltd., Sulfonium salt cationic curing agent) 10 parts by mass, silane coupling agent (A-187, Momentive Performance Materials, Inc.) 2 parts by mass, conductive particles (AUL704, Sekisui Chemicals Co., Ltd., acrylic resin particles, acrylic resin particles) Metal coating resin particles with an Ni / Au plating film formed on the surface, 30 parts by mass of an average particle diameter of 4.0 µm, and 0.1 parts by mass of aluminum hydroxide (amorphous, average particle diameter of 0.7 µm), a stirring device (rotating revolution mixer, Awatori Renta (Awatori Rentaro), manufactured by Shinki Co., Ltd.) and mixed to be uniform. The blended product after mixing was applied to the peeled PET film so that the average thickness after drying was 10 µm, thereby producing a conductive particle-containing layer.

-절연성 접착층의 제작--Production of insulating adhesive layer-

페녹시 수지(PKHH, 도모에교교 가부시끼가이샤제) 25 질량부, 에폭시 수지(EP1001, 미쯔비시가가꾸 가부시끼가이샤제) 10 질량부, 양이온계 경화제(SI-60L, 산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제, 술포늄염형 양이온계 경화제) 10 질량부 및 실란 커플링제(A-187, 모멘티브ㆍ퍼포먼스 머티리얼즈사제) 2 질량부를, 교반 장치(자전 공전 믹서, 아와토리 렌타로, 가부시끼가이샤 신키제)를 사용하여 균일해지도록 혼합하였다. 혼합 후의 배합물을 박리 처리한 PET 필름 상에 건조 후의 평균 두께가 10 ㎛로 되도록 도포하여, 절연성 접착층을 제작하였다.Phenoxy resin (PKHH, manufactured by Tomoe Kyohyo Co., Ltd.) 25 parts by mass, epoxy resin (EP1001, Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 10 parts by mass, cationic curing agent (SI-60L, Sanshin Chemical Co., Ltd., Sulfonium salt type cationic curing agent) 10 parts by mass and silane coupling agent (A-187, manufactured by Momentive Performance Materials) 2 parts by mass, stirring device (automatic revolution mixer, Awatori Rentaro, manufactured by Shinki) It was mixed so as to be uniform. The blended mixture was coated on a peeled PET film so that the average thickness after drying was 10 µm, to prepare an insulating adhesive layer.

상기에서 얻어진 도전성 입자 함유층과 절연성 접착층을 롤 라미네이터를 사용하여, 롤 온도 45 ℃에서 라미네이트하여, 이방성 도전 필름을 얻었다.The conductive particle-containing layer and the insulating adhesive layer obtained above were laminated at a roll temperature of 45 ° C using a roll laminator to obtain an anisotropic conductive film.

<접합체의 제조 및 접합체의 평가><Production of the conjugate and evaluation of the conjugate>

이하의 방법에 의해 접합체를 제조하여, 이하에 나타내는 평가를 행하였다. 결과를 표 2-1에 나타낸다.The joined body was manufactured by the following method, and evaluation shown below was performed. The results are shown in Table 2-1.

제2 전자 부품 상에, 상기에서 얻어진 이방성 도전 필름을 도전성 입자 함유층이 상기 제2 전자 부품과 접하도록 배치하였다. 계속해서, 이방성 도전 필름의 절연성 접착층 상에 제1 전자 부품을 배치하였다. 계속해서, 평균 두께 50 ㎛의 테플론(등록 상표) 시트를 완충재로서 사용하여, 가열 툴에 의해 170 ℃, 60 ㎫, 5초간의 조건으로, 상기 제1 전자 부품을 가열 및 가압하였다.On the second electronic component, the anisotropic conductive film obtained above was disposed so that the conductive particle-containing layer was in contact with the second electronic component. Subsequently, the first electronic component was disposed on the insulating adhesive layer of the anisotropic conductive film. Subsequently, a Teflon (registered trademark) sheet having an average thickness of 50 µm was used as a buffer material, and the first electronic component was heated and pressurized under heating conditions of 170 ° C, 60 kPa, and 5 seconds.

<<내부식성 평가>><< Erosion resistance evaluation >>

-시험용 IC 칩 및 유리 기판--Test IC chip and glass substrate-

제1 전자 부품으로서, 시험용 IC 칩(사이즈 1.8 ㎜×20 ㎜, 두께 0.5 ㎜, 금 도금 범프의 사이즈 30 ㎛×85 ㎛, 범프 높이 15 ㎛)을 사용하였다.As the first electronic component, a test IC chip (size 1.8 mm × 20 mm, thickness 0.5 mm, size of gold plated bump 30 μm × 85 μm, bump height 15 μm) was used.

제2 전자 부품으로서, Al 빗살형 배선이 형성된 두께 0.7 ㎜의 유리 기판을 사용하였다.As the second electronic component, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm on which an Al comb-shaped wiring was formed was used.

-평가--evaluation-

얻어진 접합체의 Al 빗살형 배선에 DC 5 V를 12시간 인가하였다. 인가 후의 Al 빗살형 배선 12조를 금속 현미경에 의해 관찰하여, 이하의 평가 기준으로 평가하였다.DC 5 V was applied to the Al comb-shaped wiring of the obtained joined body for 12 hours. The 12 sets of Al comb-shaped wiring after application were observed with a metal microscope, and evaluated according to the following evaluation criteria.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○:부식이 관찰되지 않는다.○: No corrosion was observed.

△:부식 개소가 1 개소 내지 4 개소 관찰되었다.Δ: Corrosion sites were observed in 1 to 4 locations.

×:부식 개소가 5 개소 이상 관찰되었다.X: Five or more corrosion sites were observed.

<<밀착성 평가>><< Adhesion evaluation >>

-시험용 IC 칩 및 유리 기판--Test IC chip and glass substrate-

제1 전자 부품으로서, 시험용 IC 칩(사이즈 1.8 ㎜×20 ㎜, 두께 0.5 ㎜, 금 도금 범프의 사이즈 30 ㎛×85 ㎛, 범프 높이 15 ㎛)을 사용하였다.As the first electronic component, a test IC chip (size 1.8 mm × 20 mm, thickness 0.5 mm, size of gold plated bump 30 μm × 85 μm, bump height 15 μm) was used.

제2 전자 부품으로서, 전체면에 ITO막이 형성된 두께 0.5 ㎜의 유리 기판을 사용하였다.As the second electronic component, a glass substrate having a thickness of 0.5 mm with an ITO film formed on the entire surface was used.

-평가--evaluation-

프레셔 쿠커 테스트(PCT) 후의, 유리 기판에 대한 이방성 도전 필름의 들뜸의 정도를 육안으로 관찰하여, 이하의 평가 기준으로 평가하였다. 또한, PCT는 121 ℃, 2 atm, 5 시간의 조건으로 행하였다.The degree of excitation of the anisotropic conductive film on the glass substrate after the pressure cooker test (PCT) was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria. In addition, PCT was performed on conditions of 121 ° C, 2 atm, and 5 hours.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○:들뜸이 관찰되지 않는다.○: No excitation was observed.

△:압착 면적에 대해 0 % 초과 10 % 미만의 들뜸이 관찰되었다.Δ: Excitation of more than 0% and less than 10% was observed for the compressed area.

×:압착 면적에 대해 10 % 이상의 들뜸이 관찰되었다.X: Excitation of 10% or more was observed with respect to the compressed area.

<<절연성 평가>><< insulation evaluation >>

-시험용 IC 칩 및 유리 기판--Test IC chip and glass substrate-

제1 전자 부품으로서, 시험용 IC 칩(사이즈 1.5 ㎜×300 ㎜, 두께 0.5 ㎜, 금 도금 범프의 범프간 스페이스 10 ㎛, 범프 높이 15 ㎛)을 사용하였다.As the first electronic component, a test IC chip (size 1.5 mm × 300 mm, thickness 0.5 mm, inter-bump space of gold-plated bumps of 10 μm, bump height of 15 μm) was used.

제2 전자 부품으로서, 빗살형의 ITO 배선 패턴이 형성된 두께 0.5 ㎜의 유리 기판을 사용하였다.As the second electronic component, a glass substrate having a thickness of 0.5 mm with a comb-shaped ITO wiring pattern was used.

-평가--evaluation-

2 단자법에 의해, ITO 빗살형 배선 10조에 대해, 1조당 임의로 16 개소(합계 160 개소)의 범프간의 쇼트의 수를 카운트하여, 이하의 평가 기준으로 평가하였다. 또한, 2 단자법에 의해 측정되는 저항값이 108 Ω 이하인 경우, 쇼트라고 판단하였다.By the two-terminal method, the number of shots between bumps at 16 points (total 160 points) was arbitrarily counted for each 10 sets of ITO comb-type wirings, and evaluated according to the following evaluation criteria. In addition, when the resistance value measured by the two-terminal method was 10 8 Ω or less, it was judged to be short.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○:쇼트가 없었다.○: There was no short.

△:쇼트가 1 개소 또는 2 개소 있었다.Δ: There were one or two shorts.

×:쇼트가 3 개소 이상 있었다.×: There were three or more shorts.

<<입자 포착률 평가>><< Evaluation of particle capture rate >>

-시험용 IC 칩 및 유리 기판--Test IC chip and glass substrate-

제1 전자 부품으로서, 시험용 IC 칩(사이즈 1.8 ㎜×20 ㎜, 두께 0.5 ㎜, 금 도금 범프의 사이즈 30 ㎛×85 ㎛, 범프 높이 15 ㎛)을 사용하였다.As the first electronic component, a test IC chip (size 1.8 mm × 20 mm, thickness 0.5 mm, size of gold plated bump 30 μm × 85 μm, bump height 15 μm) was used.

제2 전자 부품으로서, ITO 배선이 형성된 두께 0.7 ㎜의 유리 기판을 사용하였다.As the second electronic component, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm on which ITO wiring was formed was used.

-평가--evaluation-

이하의 방법에 의해 입자 포착률을 구하여, 평가를 행하였다.The particle trapping rate was determined by the following method and evaluated.

제1 전자 부품과 제2 전자 부품의 접속 전에 제1 전자 부품의 범프(단자) 상에 있는 도전성 입자의 수(접속 전 입자수)를 하기 수학식 1에 의해 산출하였다.Before the connection between the first electronic component and the second electronic component, the number of conductive particles (the number of particles before connection) on the bump (terminal) of the first electronic component was calculated by the following equation (1).

<수학식 1><Equation 1>

접속 전 입자수=도전성 입자 함유층에 있어서의 도전성 입자의 입자(면) 밀도(개/㎟)×단자의 면적(㎟)Number of particles before connection = particle (plane) density of conductive particles in the conductive particle-containing layer (pieces / mm 2) × area of terminals (mm 2)

또한, 접속 후에 단자 상에 있는 도전성 입자의 수(접속 후 입자수)를 금속 현미경으로 카운트함으로써 측정하였다. 그리고, 하기 수학식 2에 의해, 도전성 입자의 입자 포착률을 산출하였다. 그리고, 이하의 평가 기준으로 평가하였다.In addition, the number of conductive particles on the terminal after connection (number of particles after connection) was measured by counting with a metal microscope. And the particle trapping rate of electroconductive particle was computed by following Formula (2). And it evaluated by the following evaluation criteria.

<수학식 2><Equation 2>

입자 포착률(%)=(접속 후 입자수/접속 전 입자수)×100Particle capture rate (%) = (number of particles after connection / number of particles before connection) x 100

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○:입자 포착률이 20 % 이상○: Particle capture rate is 20% or more

△:입자 포착률이 17 % 이상 20 % 미만△: Particle capture rate of 17% or more and less than 20%

×:입자 포착률이 17 % 미만×: Particle capture rate is less than 17%

<<접속 저항 평가>><< connection resistance evaluation >>

-시험용 IC 칩 및 유리 기판--Test IC chip and glass substrate-

제1 전자 부품으로서, 시험용 IC 칩(사이즈 1.8 ㎜×20 ㎜, 두께 0.5 ㎜, 금 도금 범프의 사이즈 30 ㎛×85 ㎛, 범프 높이 15 ㎛)을 사용하였다.As the first electronic component, a test IC chip (size 1.8 mm × 20 mm, thickness 0.5 mm, size of gold plated bump 30 μm × 85 μm, bump height 15 μm) was used.

제2 전자 부품으로서, ITO 배선이 형성된 두께 0.7 ㎜의 유리 기판을 사용하였다.As the second electronic component, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm on which ITO wiring was formed was used.

-평가--evaluation-

얻어진 접합체의 초기 저항값을 이하의 방법으로 측정하여, 평가를 행하였다.The initial resistance value of the obtained joined body was measured by the following method and evaluated.

디지털 멀티 미터(제품 번호:디지털 멀티 미터 7555, 요꼬가와덴끼 가부시끼가이샤제)를 사용하여 4 단자법으로 전류 1 ㎃를 흘렸을 때의 접속 저항을 측정하였다. 얻어진 저항값을 이하의 평가 기준으로 평가하였다.Using a digital multimeter (Product No .: Digital Multimeter 7555, manufactured by Yokogawa Denki Co., Ltd.), the connection resistance when a current of 1 µA was passed through a 4-terminal method was measured. The obtained resistance value was evaluated by the following evaluation criteria.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○:초기 저항값이 1 Ω 미만 ○: Initial resistance value is less than 1 Ω

△:초기 저항값이 1 Ω 이상 3 Ω 미만△: Initial resistance value is 1 Ω or more but less than 3 Ω

×:초기 저항값이 3 Ω 이상×: Initial resistance value is 3 Ω or more

(실시예 2 내지 6)(Examples 2 to 6)

실시예 1에 있어서, 도전성 입자 함유층의 제작 시의 수산화알루미늄(충전제)의 배합량을 이하의 표 1에 기재된 배합량으로 바꾼 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 1, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 1, except that the compounding amount of aluminum hydroxide (filler) at the time of production of the conductive particle-containing layer was changed to the compounding amount shown in Table 1 below.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-1에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-1.

<표 1> <Table 1>

Figure 112015020952569-pct00001
Figure 112015020952569-pct00001

(실시예 7)(Example 7)

실시예 4에 있어서, 수산화알루미늄을 수산화마그네슘(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 4, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4, except that aluminum hydroxide was replaced with magnesium hydroxide (amorphous, average particle diameter of 0.7 µm).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-1에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-1.

(실시예 8)(Example 8)

실시예 4에 있어서, 수산화알루미늄을 산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 4, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4, except that aluminum hydroxide was replaced with aluminum oxide (amorphous, average particle diameter of 0.7 µm).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 9)(Example 9)

실시예 4에 있어서, 부정형의 수산화알루미늄을 구형의 수산화알루미늄(평균 입자 직경 0.7 ㎛)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 4, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4, except that the amorphous aluminum hydroxide was replaced with a spherical aluminum hydroxide (average particle diameter of 0.7 µm).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 10)(Example 10)

실시예 4에 있어서, 평균 입자 직경 0.7 ㎛의 수산화알루미늄을 평균 입자 직경 0.5 ㎛의 수산화알루미늄(부정형)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 4, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4, except that aluminum hydroxide having an average particle diameter of 0.7 µm was replaced with aluminum hydroxide having an average particle diameter of 0.5 µm (irregular shape).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 11)(Example 11)

실시예 4에 있어서, 평균 입자 직경 0.7 ㎛의 수산화알루미늄을 평균 입자 직경 2.0 ㎛의 수산화알루미늄(부정형)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 4, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4, except that aluminum hydroxide having an average particle diameter of 0.7 µm was replaced with aluminum hydroxide having an average particle diameter of 2.0 µm (irregular shape).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 12)(Example 12)

실시예 4에 있어서, 평균 입자 직경 0.7 ㎛의 수산화알루미늄을 평균 입자 직경 3.5 ㎛의 수산화알루미늄(부정형)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 4, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4, except that aluminum hydroxide having an average particle diameter of 0.7 µm was replaced with aluminum hydroxide having an average particle diameter of 3.5 µm (irregular shape).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 13)(Example 13)

실시예 4에 있어서, 수산화알루미늄을 산화마그네슘(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛)으로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 4, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 4, except that aluminum hydroxide was replaced with magnesium oxide (amorphous, average particle diameter of 0.7 µm).

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-2.

(실시예 14)(Example 14)

실시예 4에 있어서, 수산화알루미늄 10 질량부를, 수산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 5 질량부 및 산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 5 질량부로 대신한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.Example 4, except that 10 parts by mass of aluminum hydroxide was replaced with 5 parts by mass of aluminum hydroxide (amorphous, average particle diameter of 0.7 µm) and 5 parts by mass of aluminum oxide (amorphous, average particle diameter of 0.7 µm), Example 4 In the same manner, an anisotropic conductive film and a joined body were produced.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-2에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-2.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 4에 있어서, 절연성 접착층의 제작 시에, 수산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 10 질량부를 배합한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 4, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 1, except that 10 parts by mass of aluminum hydroxide (irregular shape, average particle diameter of 0.7 µm) was blended at the time of production of the insulating adhesive layer.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-3에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-3.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

실시예 1에 있어서, 도전성 입자 함유층에는 수산화알루미늄을 함유시키지 않고, 또한 절연성 접착층의 제작 시에, 수산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 10 질량부를 배합한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 1, the same procedure as in Example 1 was carried out, except that aluminum hydroxide was not contained in the conductive particle-containing layer, and 10 parts by mass of aluminum hydroxide (amorphous, average particle diameter of 0.7 µm) was added during the production of the insulating adhesive layer. Thus, an anisotropic conductive film and a joined body were produced.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-3에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-3.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

실시예 1에 있어서, 도전성 입자 함유층에 수산화알루미늄을 함유시키지 않았던 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 이방성 도전 필름 및 접합체를 제작하였다.In Example 1, an anisotropic conductive film and a bonded body were produced in the same manner as in Example 1, except that aluminum hydroxide was not contained in the conductive particle-containing layer.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-3에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-3.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

페녹시 수지(PKHH, 도모에교교 가부시끼가이샤제) 25 질량부, 에폭시 수지(EP1001, 미쯔비시가가꾸 가부시끼가이샤제) 10 질량부, 양이온계 경화제(SI-60L, 산신가가꾸고교 가부시끼가이샤제, 술포늄염형 양이온계 경화제) 10 질량부, 실란 커플링제(A-187, 모멘티브ㆍ퍼포먼스 머티리얼즈사제) 2 질량부, 도전성 입자(AUL704, 세끼스이가가꾸고교 가부시끼가이샤제) 30 질량부 및 수산화알루미늄(부정형, 평균 입자 직경 0.7 ㎛) 10 질량부를, 교반 장치(자전 공전 믹서, 아와토리 렌타로, 가부시끼가이샤 신키제)를 사용하여 균일하게 혼합하였다. 혼합 후의 배합물을 박리 처리한 PET 상에 건조 후의 평균 두께가 20 ㎛로 되도록 도포하여, 이방성 도전 필름을 제작하였다.Phenoxy resin (PKHH, manufactured by Tomoe Kyohyo Co., Ltd.) 25 parts by mass, epoxy resin (EP1001, Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 10 parts by mass, cationic curing agent (SI-60L, Sanshin Chemical Co., Ltd., Sulfonium salt type cationic curing agent) 10 parts by mass, silane coupling agent (A-187, Momentive Performance Materials, Inc.) 2 parts by mass, conductive particles (AUL704, manufactured by Sekisui Chemicals Co., Ltd.) 30 parts by mass, and 10 parts by mass of aluminum hydroxide (irregular shape, average particle diameter of 0.7 µm) were uniformly mixed using a stirrer (rotating revolution mixer, Awatori Renta, manufactured by Shinki Co., Ltd.). The blended mixture was coated on the peeled PET so that the average thickness after drying was 20 µm, to prepare an anisotropic conductive film.

얻어진 이방성 도전 필름을 사용하여 실시예 1과 마찬가지로 하여 접합체를 제작하였다.A bonded body was produced in the same manner as in Example 1 using the obtained anisotropic conductive film.

얻어진 접합체에 대해 실시예 1과 동일한 평가를 행하였다. 결과를 표 2-3에 나타낸다.Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained joined body. The results are shown in Table 2-3.

이하의 표 2-1 내지 표 2-3에 상기 실시예 및 비교예의 결과를 정리하였다.The results of the above Examples and Comparative Examples are summarized in Tables 2-1 to 2-3 below.

또한, 충전제의 함유량은 각 층의 페녹시 수지, 에폭시 수지 및 양이온계 경화제의 총량 100 질량부에 대한 충전제의 함유량이다.In addition, content of a filler is content of a filler with respect to 100 mass parts of total amount of phenoxy resin, epoxy resin, and cationic curing agent of each layer.

<표 2-1> <Table 2-1>

Figure 112015020952569-pct00002
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<표 2-2> <Table 2-2>

Figure 112015020952569-pct00003
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<표 2-3> <Table 2-3>

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실시예 1 내지 14는 도전성 입자 함유층만이 충전제(금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나)를 함유하므로, 배선의 부식을 억제할 수 있어, 내부식성이 양호했다. 또한, 밀착성도 우수하고, 또한 절연성, 입자 포착률 및 접속 저항도 양호했다.In Examples 1 to 14, since only the conductive particle-containing layer contained a filler (at least one of a metal hydroxide and a metal oxide), corrosion of the wiring could be suppressed, and corrosion resistance was good. Moreover, the adhesiveness was also excellent, and the insulating property, particle capture rate, and connection resistance were also good.

특히, 도전성 입자 함유층에 있어서의 충전제의 함유량이, 막 형성 수지, 경화성 수지 및 양이온계 경화제의 총량 100 질량부에 대해, 4.0 질량부 내지 30 질량부인 경우에는, 내부식성 및 밀착성이 보다 우수한 결과로 되었다(예를 들어, 실시예 3 및 4).Particularly, when the content of the filler in the conductive particle-containing layer is 4.0 parts by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the film-forming resin, the curable resin, and the cationic curing agent, corrosion resistance and adhesion are more excellent. (For example, Examples 3 and 4).

또한, 충전제가 금속 수산화물인 수산화알루미늄, 또는 수산화마그네슘인 경우에는, 내부식성 및 밀착성이 보다 우수한 결과로 되었다(예를 들어, 실시예 4 및 7).In addition, when the filler is aluminum hydroxide, which is a metal hydroxide, or magnesium hydroxide, corrosion resistance and adhesion are more excellent results (for example, Examples 4 and 7).

충전제가 부정형인 경우에는, 구형인 경우보다도 절연성이 보다 우수한 결과로 되었다(예를 들어, 실시예 4 및 9).When the filler was in the amorphous form, it resulted in better insulating properties than the spherical case (for example, Examples 4 and 9).

충전제의 평균 입자 직경이 0.5 ㎛ 내지 2.0 ㎛인 경우에는, 절연성, 입자 포착률 및 접속 저항이 보다 우수한 결과로 되었다(예를 들어, 실시예 4, 10 및 11).When the average particle diameter of the filler was 0.5 µm to 2.0 µm, insulating properties, particle trapping rate, and connection resistance were more excellent results (for example, Examples 4, 10, and 11).

한편, 도전성 입자 함유층뿐만 아니라, 절연성 접착층에도 충전제를 함유하는 경우에는, 절연성 및 입자 포착률이 불충분했다(비교예 1).On the other hand, when the filler was contained not only in the conductive particle-containing layer but also in the insulating adhesive layer, the insulating properties and the particle trapping rate were insufficient (Comparative Example 1).

절연성 접착층에만 충전제를 함유시킨 경우에는, 비교예 1과 비교하여 내부식성 및 밀착성이 저하되었다(비교예 2).When the filler was contained only in the insulating adhesive layer, corrosion resistance and adhesion were lowered compared to Comparative Example 1 (Comparative Example 2).

도전성 입자 함유층 및 절연성 접착층의 어떤 쪽에도 충전제를 함유시키지 않는 경우에는, 내부식성, 밀착성 및 절연성이 불충분했다(비교예 3).When neither the conductive particle-containing layer nor the insulating adhesive layer contains a filler, corrosion resistance, adhesion, and insulation were insufficient (Comparative Example 3).

이방성 도전 필름을 도전성 입자 함유층만의 1층 구조로 하고, 상기 도전성 입자 함유층에 충전제를 함유시킨 경우에는, 내부식성, 밀착성, 절연성 및 입자 포착률이 불충분했다(비교예 4).When the anisotropic conductive film had a single-layer structure of only the conductive particle-containing layer and a filler was contained in the conductive particle-containing layer, corrosion resistance, adhesion, insulation, and particle trapping rate were insufficient (Comparative Example 4).

본 발명의 이방성 도전 필름은 내부식성 및 밀착성이 우수하므로, 양이온계 경화제를 사용한 저온 경화 또한 속경화의 접속에 의한 접합체의 제조에 적절하게 사용할 수 있다.Since the anisotropic conductive film of the present invention is excellent in corrosion resistance and adhesion, low-temperature curing using a cationic curing agent can also be suitably used in the manufacture of a joined body by fast curing connection.

Claims (8)

제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름이며,
도전성 입자, 충전제 및 양이온계 경화제를 함유하는 도전성 입자 함유층과,
양이온계 경화제를 함유하고 충전제를 함유하지 않는 절연성 접착층을 갖고,
상기 도전성 입자가 금속 입자 및 금속 피복 수지 입자 중 적어도 어느 하나이고,
상기 충전제가 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름.
An anisotropic conductive film for anisotropically connecting the terminals of the first electronic component and the terminals of the second electronic component,
A conductive particle-containing layer containing conductive particles, a filler, and a cationic curing agent,
Has an insulating adhesive layer containing a cationic curing agent and no filler,
The conductive particles are at least one of metal particles and metal-coated resin particles,
The anisotropic conductive film, characterized in that the filler is at least one of a metal hydroxide and a metal oxide.
제1항에 있어서, 금속 수산화물 및 금속 산화물 중 적어도 어느 하나가 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 및 산화알루미늄 중 적어도 어느 하나인 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein at least one of the metal hydroxide and the metal oxide is at least one of aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and aluminum oxide. 제1항에 있어서, 도전성 입자 함유층이 막 형성 수지 및 경화성 수지를 함유하는 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the conductive particle-containing layer contains a film-forming resin and a curable resin. 제3항에 있어서, 도전성 입자 함유층에 있어서의 충전제의 함유량이 막 형성 수지, 경화성 수지 및 양이온계 경화제의 총량 100 질량부에 대해, 0.20 질량부 내지 90 질량부인 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 3, wherein the content of the filler in the conductive particle-containing layer is 0.20 parts by mass to 90 parts by mass relative to 100 parts by mass of the total amount of the film-forming resin, the curable resin, and the cationic curing agent. 제1항에 있어서, 충전제가 입자상이고, 상기 충전제의 평균 입자 직경이 0.5 ㎛ 내지 3.5 ㎛인 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the filler is particulate and the filler has an average particle diameter of 0.5 µm to 3.5 µm. 제1항에 있어서, 충전제가 비구형의 입자상인 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film according to claim 1, wherein the filler is non-spherical particulate. 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 접속 방법이며,
상기 제2 전자 부품의 단자 상에 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름을 배치하는 제1 배치 공정과,
상기 이방성 도전 필름 상에 상기 제1 전자 부품을, 상기 제1 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 제2 배치 공정과,
상기 제1 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 가열 가압 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 접속 방법.
It is the connection method which connects the terminal of a 1st electronic component and the terminal of a 2nd electronic component anisotropically conductively,
A first arrangement step of disposing the anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 6 on a terminal of the second electronic component,
A second arrangement step of arranging the first electronic component on the anisotropic conductive film so that a terminal of the first electronic component contacts the anisotropic conductive film;
And a heating pressurizing step of heating and pressurizing the first electronic component with a heat pressurizing member.
제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자가 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름의 경화물을 통해 이방성 도전 접속된 접합체.The bonding body in which the terminal of a 1st electronic component and the terminal of a 2nd electronic component are anisotropically conductive-connected through the hardened | cured material of the anisotropic conductive film in any one of Claims 1-6.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016076398A1 (en) * 2014-11-12 2016-05-19 デクセリアルズ株式会社 Photocurable anisotropic conductive adhesive agent, method for manufacturing connected body, and method for connecting electronic part
JP6510846B2 (en) 2015-03-24 2019-05-08 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film, connection method, and joined body
EP3170877B1 (en) * 2015-11-19 2020-11-18 3M Innovative Properties Company Structural adhesive with improved failure mode
JP2018039959A (en) * 2016-09-09 2018-03-15 タツタ電線株式会社 Conductive adhesive composition

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011111556A (en) * 2009-11-27 2011-06-09 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, circuit connecting material, connector and connection method of circuit member, and semiconductor device
JP2011142103A (en) 2011-04-12 2011-07-21 Sony Chemical & Information Device Corp Anisotropic conductive film, connecting method, and connecting structure
KR101085722B1 (en) * 2008-11-20 2011-11-21 소니 케미카루 앤드 인포메이션 디바이스 가부시키가이샤 Connecting film, bonded body and method for manufacturing the bonded body

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3589422B2 (en) * 2000-11-24 2004-11-17 旭化成エレクトロニクス株式会社 Anisotropic conductive film
JP4201519B2 (en) * 2002-04-01 2008-12-24 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Cationic polymerizable adhesive composition and anisotropic conductive adhesive composition
JP2006199778A (en) * 2005-01-19 2006-08-03 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, adhesive for use in circuit connection, method for connecting circuits using the same, and connected body
JP5226562B2 (en) * 2008-03-27 2013-07-03 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film, joined body and method for producing the same
JP2013105636A (en) * 2011-11-14 2013-05-30 Dexerials Corp Anisotropic conductive film, connection method, and connected body

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101085722B1 (en) * 2008-11-20 2011-11-21 소니 케미카루 앤드 인포메이션 디바이스 가부시키가이샤 Connecting film, bonded body and method for manufacturing the bonded body
JP2011111556A (en) * 2009-11-27 2011-06-09 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, circuit connecting material, connector and connection method of circuit member, and semiconductor device
JP2011142103A (en) 2011-04-12 2011-07-21 Sony Chemical & Information Device Corp Anisotropic conductive film, connecting method, and connecting structure

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