KR20150041661A - 리튬 함유 재료의 처리 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 리튬 함유 재료의 처리 방법(10)에 관한 것으로, 상기 방법은 (i) 리튬 함유 재료(12)로부터 공정 용액을 제조하는 단계; (ii) 상기 단계 (i)의 공정 용액이 일련의 불순물 제거 단계(36)를 거치면서 실질적으로 정제된 염화 리튬 용액을 제공하는 단계; 및 (iii) 상기 단계 (ii)의 정제된 염화 리튬 용액이 전해 단계(70)를 거치면서 수산화 리튬 용액을 형성하는 단계를 포함한다.

Description

리튬 함유 재료의 처리 방법{Processing of Lithium Containing Material}
본 발명은 리튬 함유 재료의 처리 방법에 관한 것이다.
더욱 상세하게는, 본 발명은 리튬 함유 재료의 처리 방법 그리고 수산화 리튬 및 탄산 리튬의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 스포듀민 광석(spodumene ore) 또는 정광(concentrate)으로부터 또는 브라인(brine)으로부터 얻어진 염화 리튬 용액의 전해를 이용한다. 일 형태에서, 본 발명의 방법은 고순도 또는 배터리 등급의 수산화 리튬 및 탄산 리튬 제품을 제공하려고 하는 것이다.
본 발명의 방법은 또한 염산 제품을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명의 방법은 일 형태에서 혼합 금속 산화물(MMO) 함유 귀금속 전극을 이용하여 공정 중 전기화학 부분의 효율을 높인다.
리튬 함유 광석 또는 정광으로부터 탄산 리튬을 제조하는 공지된 방법은 통상적으로 알파-스포듀민 광석 또는 정광의 열 처리를 이용한다. 이 열 처리는 발산(decrepitation)이라고도 불릴 수 있고, 알파-스포듀민을 산에 의해 용해될 수 있는 베타-스포듀민으로 전환한다. 베타-스포듀민이 산에서 용해되는 단계는 가마(kiln)에서 일어나고 용해성 리튬 염을 형성한다. 리튬 염은 리튬 염이 정제되는 하나 이상의 탱크로 이송된다. 침출된 크루드(leached crude) 리튬 염은 이후 슬러리의 pH가 조절되는 단계를 거치며, 이에 따라 철 및 마그네슘을 포함하는 특정 불순물이 침전된다. 정제된 리튬 염은 소다회로 처리되어 탄산 리튬을 형성한다. 이 탄산 리튬은 추가로 소석회로 처리되어 수산화 리튬을 형성한다.
브라인으로부터 탄산 리튬 및 수산화 리튬을 제조하는 방법은 불순물을 감소시킬 목적의 일련의 단계를 거치기 전에, 통상적으로 증발조(evaporation pond)의 이용을 수반하여 그에 함유된 염의 농도를 증가시킨다.
상술한 종래기술의 방법은 침출 귀액(pregnant leach solution)에 잔류하는 불순물의 제거에 상대적으로 비효율적이어서, 상대적으로 불순한 수산화 리튬 및 탄산 리튬 제품을 형성한다. 이것은 고순도 또는 배터리 등급의 수산화 리튬 및 탄산 리튬 제품을 제조하고자 할 때 특히 문제가 된다.
본 발명의 방법은 종래 방법과 관련된 상술한 문제들 중 하나 이상을 실질적으로 해결하거나, 적어도 유용한 대안을 제공하는 것을 목적으로 한다.
배경기술에 대한 전술한 논의는 본 발명의 이해를 돕기 위함일 뿐이며, 언급된 재료 중 어느 것이 본원의 우선일을 기준으로 일반 상식의 일부이거나 일부이었음을 인정하거나 시인하는 것은 아니다.
명세서 및 청구범위에 걸쳐서, 달리 기재되어 있지 않은 한, "포함한다" 또는 "포함하는"의 용어는 기재된 구성요소 또는 일군의 구성요소를 포함하지만, 다른 구성요소 또는 일군의 구성요소를 배제하지 않음을 의미하는 것으로 이해되어야 할 것이다.
"배터리 등급의 탄산 리튬"의 용어는 약 99.5% 이상의 순도를 갖는 제품을 의미한다. 마찬가지로, "배터리 등급의 수산화 리튬"의 용어는 약 99% 이상의 순도를 갖는 제품을 의미한다.
본 발명에 따르면,
(i) 리튬 함유 재료로부터 공정 용액(process solution)을 제조하는 단계;
(ii) 상기 단계 (i)의 공정 용액이 일련의 불순물 제거 단계를 거치면서 실질적으로 정제된 염화 리튬 용액을 제공하는 단계; 및
(iii) 상기 단계 (ii)의 정제된 염화 리튬 용액이 전해 단계를 거치면서 수산화 리튬 용액을 형성하는 단계
를 포함하는 리튬 함유 재료의 처리 방법이 제공된다.
본 발명의 일 형태에서, 상기 단계 (i)의 공정 용액은 침출 귀액의 형태로 제조된다. 바람직하게는, 침출 귀액은 리튬 함유 재료가 염산으로 침출되는 침출 단계를 거침으로써 형성된다.
바람직하게는, 불순물 제거 단계 (ii)는 농축 단계를 추가로 포함하는데, 이 단계에서 침출 귀액은 염화 리튬의 거의 포화상태까지 농축된다.
상기 단계 (iii)에서 형성된 수산화 리튬 용액은 물의 증발에 의해 농화되어 수산화 리튬 일수화물 결정을 제공할 수 있다.
또한, 상기 단계 (iii)에서 형성된 수산화 리튬 용액은 이 용액에 압축 이산화탄소를 통과시켜 탄산화됨으로써, 탄산 리튬 침전을 형성할 수 있다.
본 발명의 일 형태에서, 리튬 함유 재료는 알파-스포듀민 광석 또는 광석 정광이고, 본 발명의 방법은 알파-스포듀민 광석 또는 광석 정광이 하소되어(calcine) 베타-스포듀민을 형성하는 제1단계를 추가로 포함한다. 본 발명의 다른 형태에서 리튬 함유 재료는 리튬 함유 브라인이다.
본 발명의 다른 형태에서, 상기 단계 (iii)에서 형성된 수산화 리튬 용액의 제1부분은 증발/결정화에 의해 농화되어 수산화 리튬 일수화물 결정을 제공하고, 그 제2부분은 상기 용액에 압축 이산화탄소를 통과시켜 탄산화됨으로써 탄산 리튬 침전을 형성한다.
바람직하게는, 상기 단계 (ii)의 불순물 제거 단계는 Al 및 Fe 염화물의 수소열분해(hydropyrolysis); Al, Fe, Mg 및 Mn의 수산화물을 침전시키는 pH 증가; Ca의 제거를 위한 탄산 리튬 침전; 및 Na 및 K의 제거를 위한 분별 결정화 중 하나 이상을 포함한다.
더욱 바람직하게는, Na 및 K의 제거를 위한 분별 결정화는 농축 단계 직후 수행된다.
불순물 제거 단계는 바람직하게는 또한 이온 교환 단계를 포함한다. 바람직하게는, 이온 교환 단계는 침출 귀액에 잔류하는 모든 칼슘, 마그네슘 및 다른 다가 양이온을 실질적으로 제거한다. 더욱 바람직하게는, 이러한 다가 양이온은 약 10 ppm 미만의 수준으로 제거된다.
더욱 바람직하게는, 증발/결정화에서 용액으로부터 증발된 물은 재압축되고, 보충 스팀과 합쳐져서 증발/결정화에 이용된다. 증발/결정화 단계는 바람직하게는 진공 증발 결정화기를 이용한다.
바람직하게는, 베타-스포듀민은 침출 단계 이전에 냉각 및 밀링된다. 베타-스포듀민은 바람직하게는 약 300 ㎛ 미만으로 밀링된다. 더욱 바람직하게는, 베타-스포듀민은 약 75 ㎛의 P80로 밀링된다.
바람직하게는, 침출 단계는 상승된 온도에서 수행된다.
침출 단계에서 사용되는 염산 용액은 바람직하게는 약 20% w/w HCl이다.
더욱 바람직하게는, 침출 단계의 상승된 온도는 침출 단계에 사용되는 염산 용액의 대략 비점이다.
침출 단계는 바람직하게는 대기압에서 수행된다.
본 발명의 일 형태에서 침출 단계는 약 108℃에서 약 6 내지 10시간의 체류 시간에 걸쳐 염소화 가마에서 수행된다. 바람직하게는, 체류 시간은 약 8시간이다.
이하 본 발명의 방법은 그 일 구체예 및 첨부 도면을 참고하여 단지 예로서만 기술될 것이다.
도 1은 리튬 함유 재료가 알파-스포듀민 정광인 본 발명의 제1구체예에 따른 리튬 함유 재료의 처리 방법을 예시하는 공정 계통도이다.
도 1에서 본 발명의 제1구체예에 따른 리튬 함유 재료의 처리 공정(10)이 도시되는데, 이 구체예에서 리튬 함유 재료는 알파-스포듀민 정광의 형태로 제공된다.
공정(10)에서 구현되는 모든 단위 조작은 전체 공정 계측 및 제어와 함께 연속적으로 조작된다.
알파-스포듀민 정광(12)은 하소 단계를 거치는데, 여기서 정광(12)은 약 1050℃ 내지 1100℃ 온도의 하소로(14)에서 하소되어 알파-스포듀민을 침출성 베타-스포듀민으로 전환한다. 하소기에서 배출되는 오프-가스(off-gas)는 공지된 환경 방출 허용치를 충족하도록 특정화된 사이클론(미도시) 및 전기 집진기(미도시)로 보내진다. 고온 하소 처리물은 냉각기(16)를 거쳐 약 80℃까지 간접적으로 냉각된다. 이후, 밀(mill), 예를 들어 폐회로 볼 밀(18)에서 300 ㎛ 미만, 예를 들어 약 75 ㎛의 P80로 건조-밀링된다.
서지 빈(surge bin)(미도시)에서 저장된 후, 밀링된 베타-스포듀민은 슬러리 형성 단계(slurrying step)에서 적어도 40 내지 300% 양론적 과잉의 20% w/w 염산(20)과 혼합된다. 슬러리 형성 단계에서 침출 단계, 예를 들어 제1침출 단계(24) 및 제2침출 단계(26)를 포함하는 침출 회로(leach circuit)(22)로 보내진다.
침출 단계는 슬러리 형성 단계에서 첨가된 염산 침출 용액의 비점인 약 108℃에서, 약 6 내지 12시간의 주기 동안, 예를 들어 약 8시간 동안, 연속식 침출 탱크에서 수행된다. 약 40%의 펄프 밀도가 침출 회로(22)에서 사용되어 침출 농도를 최대화하고 침출 중에 염화 리튬의 용해도 한계가 초과되지 않도록 보장한다. 오프-가스는 습식 스크러버(wet scrubber)(미도시)에서 세정된다. 침출 단계(22)는 잔류 슬러리 및 공정 용액, 예를 들어 침출 귀액을 형성한다. 베타-스포듀민에서의 리튬 및 알루미노실리케이트는 다른 불순물과 함께 용액으로 침출되어 침출 귀액에서 아-포화(sub-saturated) 농도의 염화 리튬을 형성한다.
침출 회로(22)에서 얻은 침출 귀액은 바람직하게는 침출 회로(22)의 단계(24 및 26)와 정렬되는 두 단계(28a 및 28b)를 포함하는 농화 회로(thickening circuit)(28)로 이송된다. 농화 회로(28)에서 나오는 오버플로우(overflow)는 약 300℃에서 작동되는 열가수분해(pyrohydrolysis) 단계(30)로 보내지는데, 여기서 침출 귀액에 존재하는 Al 및 Fe의 염화물은 각각 불용성 산화물(32)로 전환된다. 잔류 HCl은 또한 HCl 제거 단계(34)에서 회수된다.
열가수분해 단계(30)를 이용하여 회수되는 것으로 바로 위에서 기술된 Al 및 Fe와 더불어, 잔류하는 용해성 철, 알루미늄 및 마그네슘은 넓은 의미에서 도 1의 불순물 제거 단계(36)로 표시된 일련의 불순물 제거 단계를 통해 침출액으로부터 대량으로 제거된다. 불순물 제거 단계(36)는 또한 pH 변경 단계(38)를 포함하는데, 여기에서는 LiOH(40)의 첨가를 통해 pH를 약 9로 올린다. 상기 단계(38)의 생성물은 벨트 필터(belt filter)(42)로 이송되고, 여기서 Al, Fe, Mn 및 Mg 함유 침전물이 회수된다. 불순물 제거 단계(36)는 또한 칼슘 침전 단계(44)를 포함하는데, 여기에서는 탄산 나트륨(소다회) 또는 탄산 리튬(46)의 첨가를 통해 다른 벨트 필터(50)로부터 칼슘 함유 침전물(48)을 형성한다.
제2농화 단계(28b)의 농화기 언더플로우(thickener underflow) 생성물(52)은 폐기물(56) 및 후속 처리 단계(58)를 거치기 전에 건조 단계(54)로 이송된다.
주로 LiCl 용액인 벨트 필터(50)의 액체 생성물은 차례로 농축 단계(60) 및 분별 결정화 단계(62)를 거치게 된다. 농축 단계(60)에서 LiCl 용액은 거의 포화점, 예를 들어 35 내지 40% w/w LiCl로 농축되고, 영하의 온도로 냉각된다. 후속 분별 결정화 단계(62)에서 Na 및 K 불순물(64)은 여과에 의해 각각 NaCl 및 KCl 결정으로서 대부분 제거된다.
상술한 바와 같이 실질적으로 모든 불순물의 제거 후에, 염화 리튬 용액은 이온 교환(IX) 칼럼(68)을 포함하는 이온 교환 단계(66)를 거치는데, 이에 따라 실질적으로 모든 잔류 칼슘, 마그네슘 및 다른 다가 양이온들이 약 10 ppm 미만, 예를 들어 1 ppm의 수준으로 제거된다.
더욱 정제된 염화 리튬 용액은 이후 90℃로 가열되고 다수의 전해조, 예를 들어 6 내지 20개의 전해조를 포함하는 전해 단계(70)로 펌핑되는데, 여기에서는 염화 리튬 및 물이 소모되면서 수산화 리튬, 염소 및 수소를 형성한다.
전해조를 통과한 후에, 염화 리튬 희용액은 용존 염소 가스를 함유한다. 이 염화 리튬 희용액이 침출 회로(22) 직전의 슬러리 형성 단계로 재순환되기 전에, 용존 염소가 두 단계로 제거된다. 제1단계에서 염산이 염화 리튬 용액에 첨가되어 pH를 <5로 감소시켜 염소 가스의 일부를 용액으로부터 방출시킨다. 잔류하는 용존 염소 가스는 이후 용액의 공기 탈기(air stripping)(미도시)에 의해 제거된다.
부산물로 생성되는 염소 및 수소는 결합하여 HCl 산을 형성하는데, 이것은 슬러리 형성 단계 및 침출 회로(22)에 사용된다.
전해 단계(70)에서 얻어진 수산화 리튬 용액은 먼저 홀딩 탱크(72)로 이송되는데, 여기에서 상기 용액은 도 1에 명확하게 도시된 바와 같이, (i) 증발 및 결정화되어 수산화 리튬 일수화물 결정을 형성하거나, (ii) 탄산화 단계로 보내져서 탄산 리튬으로 전환될 수 있다.
첫 번째 옵션에서, 용액 속의 수산화 리튬은 예를 들어 약 80℃의 온도 및 약 45 kPa의 압력에서 작동하는 진공 증발 결정화기(80)(Oslo 타입)에서 결정화된다. 체류 시간은 조대(coarse) 결정 생성물을 얻기 위해 약 60분이다. 얻어진 수증기는 재압축되고, 보충 스팀과 합쳐져서 결정화기(80)용 가열 매체로 사용된다.
수산화 리튬 결정은 99%의 세정 효율을 얻기 위해 냉수(미도시)로 세정된다. 얻어진 세정 용액은 상술한 침출 회로(22)로 재순환된다. 원심분리에서 얻은 고체는 약 120℃에서 작동하는 간접-가열(indirect-fired) 가마 또는 건조기(82)에 공급되어 결정을 건조한다. 배터리 등급의 LiOH.H2O인 결정 생성물은 제품통(product bin)(84)에 공압적으로 이송되고, 재킷 스크류 컨베이어(86)에서 50℃로 냉각되며, 마지막에는 배깅 스테이션(bagging station)(미도시)으로 이송된다.
상술한 두 번째 옵션에서, 탄산 리튬은 수산화 리튬 용액의 탄산화에 의해 형성될 수 있는데, 구체적으로 탄산 리튬이 침전되는 탄산화 용기(90)에서 수산화 리튬의 용액에 압축 이산화탄소 가스(88)를 통과시킴으로써 형성될 수 있다. 이 슬러리는 필터(94)를 거쳐 세정기/원심분리기(92)로 공급되고, 이후 세정수는 잔류 수산화 리튬 용액 또는 모액과 함께 전해 단계(70)로 재순환된다. 습윤 탄산 리튬 결정은 건조기(96)에 공급되는데, 여기에서는 고온 공기가 결정을 건조하는데 사용된다. 중간 압력 공기가 공기를 가열하는데 사용된다. 건조 후에, 배터리 등급의 탄산 리튬은 저장통(98) 및 후속 배깅(미도시)에 이송되기 전에 고객에 의해 요청된 입자 크기로 미분화(micronize)될 수 있다.
상기 공정을 통한 응축수는 고온 공정 용수(hot process water), 저온 공정 용수 및 냉각수용 보충수(make-up water)로 사용된다. 상기 공정이 응축수를 반송하지 않을 경우, 총괄적으로 양의 수분 수지(overall positive water balance)가 되고, 공정 용수의 약 1/10이 하수 시스템(미도시)으로 배출된다.
탄탈라이트(tantalite) 및 알루미나가 본 발명의 방법을 이용하여 또한 회수될 수 있는 것으로 예상된다. 농화 단계에서 나온 필터 케이크(filter cake)는 탄탈라이트 회수 시설(미도시)로 배출될 수 있다. 탄탈라이트 회수 설비의 배출물은 벨트 필터에 공급되어 물을 제거한 후, 탄탈라이트 회수 설비로 반송될 수 있다. 필터는 세정을 사용하지 않고 19 ㎡의 여과 면적을 갖는다. 벨트 필터에서 나온 필터 케이크는 직접-가열 가마에서 건조된다. 건조 알루미나 실리케이트는 재킷 스크류 컨베이어에서 50℃로 냉각된 후, 처리 전에 저장통에 공압적으로 이송된다.
본 발명의 제2구체예에 따르면, 리튬 함유 재료는 리튬 함유 브라인의 형태로 제공될 수 있다. 브라인은 본 발명의 제1구체예에서 기술된 하소, 냉각, 밀링 및 침출 단계를 필요로 하지 않지만, 나머지 공정은 상술한 제1구체예의 것과 실질적으로 유사할 것으로 예상된다.
상술한 바로부터 알 수 있듯이, 본 발명의 방법은 고순도 또는 배터리 등급의 수산화 리튬 및 탄산 리튬 제품이 알파-스포듀민 광석 또는 정광으로부터, 또는 리튬 함유 브라인으로부터 얻어질 수 있고, 또한 염화 수소 가스 제품을 제조할 수 있는 방법을 제공한다.
통상의 기술자에게 명백한 변경 및 변형은 본 발명의 범위 내에 있는 것으로 간주된다. 예를 들어 침출 회로(22)는 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 단일 침출 단계/조작만을 포함할 수 있는 것으로 예상된다.

Claims (26)

  1. (i) 리튬 함유 재료로부터 공정 용액을 제조하는 단계;
    (ii) 상기 단계 (i)의 공정 용액이 일련의 불순물 제거 단계를 거치면서 실질적으로 정제된 염화 리튬 용액을 제공하는 단계; 및
    (iii) 상기 단계 (ii)의 정제된 염화 리튬 용액이 전해 단계를 거치면서 수산화 리튬 용액을 형성하는 단계;
    를 포함하는 리튬 함유 재료의 처리 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 단계 (i)의 공정 용액은 침출 귀액의 형태로 제조되는 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 침출 귀액은 리튬 함유 재료가 염산으로 침출되는 침출 단계를 거침으로써 형성되는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 불순물 제거 단계 (ii)는 공정 용액이 염화 리튬의 거의 포화상태까지 농축되는 농축 단계를 추가로 포함하는 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 단계 (iii)에서 형성된 수산화 리튬 용액은 물의 증발에 의해 농화되어 수산화 리튬 일수화물 결정을 제공하는 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 단계 (iii)에서 형성된 수산화 리튬 용액은 압축 이산화탄소를 상기 용액에 통과시켜 탄산화됨으로써, 탄산 리튬 침전을 형성하는 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 리튬 함유 재료는 알파-스포듀민 광석 또는 광석 정광이고, 상기 방법은 알파-스포듀민 광석 또는 광석 정광이 하소되어 베타-스포듀민을 형성하는 제1단계를 추가로 포함하는 방법.
  8. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 리튬 함유 재료는 리튬 함유 브라인인 방법.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 단계 (iii)에서 형성된 수산화 리튬 용액의 제1부분은 증발/결정화에 의해 농화되어 수산화 리튬 일수화물 결정을 제공하고, 상기 용액의 제2부분은 압축 이산화탄소를 상기 용액에 통과시켜 탄산화됨으로써 탄산 리튬 침전을 형성하는 방법.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 단계 (ii)의 불순물 제거 단계는 Al 및 Fe 염화물의 수소열분해; Al, Fe, Mg 및 Mn의 수산화물을 침전시키는 pH 증가; Ca의 제거를 위한 탄산 리튬 침전; 및 Na 및 K의 제거를 위한 분별 결정화 중 하나 이상을 포함하는 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 Na 및 K의 제거를 위한 분별 결정화는 농축 단계 직후 수행되는 방법.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    상기 불순물 제거 단계는 이온 교환 단계를 추가로 포함하는 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 이온 교환 단계는 공정 용액에 잔류하는 모든 칼슘, 마그네슘 및 다른 다가 양이온을 실질적으로 제거하는 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 다가 양이온은 약 10 ppm 미만의 수준으로 제거되는 방법.
  15. 제13항 또는 제14항에 있어서,
    상기 다가 양이온은 약 1 ppm의 수준으로 제거되는 방법.
  16. 제9항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 증발/결정화에서 용액으로부터 증발된 물은 재압축되고, 보충 스팀과 합쳐져서 증발/결정화에 이용되는 방법.
  17. 제9항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 증발/결정화 단계는 바람직하게는 진공 증발 결정화기를 이용하는 방법.
  18. 제7항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 베타-스포듀민은 침출 단계 이전에 냉각 및 밀링되는 방법.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 베타-스포듀민은 약 300 ㎛ 미만으로 밀링되는 방법.
  20. 제18항 또는 제19항에 있어서,
    상기 베타-스포듀민은 약 75 ㎛의 P80로 밀링되는 방법.
  21. 제3항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 단계 (ii)의 침출은 상승된 온도에서 수행되는 방법.
  22. 제3항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 침출 단계에서 사용되는 염산 용액은 약 20% w/w HCl인 방법.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 침출 단계의 상승된 온도는 침출 단계에 사용되는 염산 용액의 대략 비점인 방법.
  24. 제3항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 침출 단계는 대기압에서 수행되는 방법.
  25. 제3항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 침출 단계는 약 108℃에서 약 6 내지 10시간의 체류 시간에 걸쳐 염소화 가마에서 수행되는 방법.
  26. 제25항에 있어서,
    상기 침출 단계는 약 8시간의 체류 시간에 걸쳐 수행되는 방법.
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