KR20150026568A

KR20150026568A - 이질 유리 제거 장치 및 이를 포함하는 유리 제조 장치

Info

Publication number: KR20150026568A
Application number: KR20130105602A
Authority: KR
Inventors: 민경훈; 임예훈; 문원재; 이지섭
Original assignee: 주식회사 엘지화학
Priority date: 2013-09-03
Filing date: 2013-09-03
Publication date: 2015-03-11
Also published as: WO2015034259A1; EP2949631A1; CN105102382A; EP2949631B1; JP2016521673A; JP6175710B2; KR101583372B1; CN105102382B; EP2949631A4; US20160023937A1; US9862631B2

Abstract

본 발명은 용융 유리의 상부 표면에 존재하는 이질 유리를 효과적으로 제거할 수 있는 장치와 이를 포함하는 용융로 및 유리 제조 장치를 개시한다. 본 발명의 일 측면에 따른 이질 유리 제거 장치는, 입구 및 출구가 형성되어 상기 입구를 통해 유입된 용융 유리를 수용하고, 상기 수용된 용융 유리를 상기 출구를 통해 유출시키며, 상기 수용된 용융 유리가 오버플로우되도록 상단에 배출구가 형성된 수용조; 상기 수용조의 출구 측에 구비되어 개방 면적을 조절함으로써 상기 출구를 통해 유출되는 용융 유리의 유량을 조절하는 제1 게이트; 및 상기 배출구보다 수용조의 입구 측에 구비되어 상기 배출구가 형성된 부분에서 상기 수용조에 수용된 용융 유리의 수위를 조절하는 제2 게이트를 포함한다.

Description

이질 유리 제거 장치 및 이를 포함하는 유리 제조 장치{Disparate glass removing apparatus and glass manufacturing apparatus including the same}

본 발명은 유리 제조 기술에 관한 것으로, 보다 상세하게는 용융로에서 용융된 유리를 공급하여 성형로로 공급할 때 용융 유리의 상부 표면에 위치한 이질 유리를 효과적이고 안정적으로 제거할 수 있는 기술에 관한 것이다.

유리는 다양한 형태로 제조되는데, 그 중 대표적인 형태가 평판 유리이다. 평판 유리는, 창유리, 차량의 윈도 스크린, 거울 등과 같이, 다양한 분야에서 매우 많은 종류가 이용되고 있으며, 이러한 평판 유리는 다양한 방식으로 제조될 수 있다.

대표적으로, 유리는, 용융 단계, 교반 단계, 안정화 단계, 성형 단계 및 서냉 단계 등을 거쳐 제조될 수 있다.

이 중 용융 단계는, 유리 원료를 용융(용해)시켜 용융 유리를 만드는 단계로서, 내화 벽돌 등으로 제조된 용융로에서 수행될 수 있다. 그런데, 이러한 용융로의 용융 공정에서는 용융 유리의 온도를 제어하기 위해 통상적으로 버너가 사용되는데, 이로 인해 용융 유리(유리물)의 상부에는 많은 가스가 존재할 수 있다. 그리고, 이러한 가스와 접촉하는 용융 유리의 상부 표면에서는 가스와 반응하거나 휘발성이 강한 일부 성분이 휘발함으로써 그 특성이 변질되거나 이물질이 포함된 이질 유리가 생성될 수 있다.

만일, 이러한 용융 유리의 표면에 존재하는 이질 유리가 성형 공정으로 유입되면 제조된 유리의 품질이 크게 저하될 수 있으므로, 이러한 용융 유리의 표면에 존재하는 이질 유리는 확실하게 제거될 필요가 있다.

종래에, 이러한 용융 유리의 상부 표면에 존재하는 이질 유리를 제거하기 위한 대표적인 방법으로, 용융로에 오버플로우 존을 형성하고, 이러한 오버플로우 존에서 용융 유리가 오버플로우되도록 함으로써, 용융 유리의 표면에 위치하는 이질 유리가 제거될 수 있도록 하는 기술이 이용되고 있다.

그러나, 이러한 종래 기술에 의하면, 용융 유리의 수위가 변함에 따라 오버플로우되는 유량이 달라질 수 있다는 문제가 있다. 예를 들어, 오버플로우 존의 이전 공정에서 운전 조건이나 유리 물성 등이 변하는 경우, 오버플로우 존에서 오버플로우되는 유량은 적정 유량보다 많아지거나 적어질 수 있다. 만일, 오버플로우 존에서 오버플로우되는 유량이 적정 유량보다 많아지는 경우, 이질 유리뿐 아니라 정상적인 용융 유리도 과다하게 제거될 수 있으므로 유리 제조 비용 및 시간이 증대될 수 있다. 반대로, 오버플로우 존에서 오버플로우되는 유량이 적정 유량보다 적어지는 경우, 표면에 존재하는 이질 유리가 충분하게 제거되지 못하므로, 제조된 유리의 품질 및 생산 수율이 크게 떨어질 수 있는 문제가 있다.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로서, 용융 유리의 상부 표면에 존재하는 이질 유리를 효과적으로 제거할 수 있는 장치와 이를 포함하는 용융로 및 유리 제조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있으며, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구 범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 이질 유리 제거 장치는, 입구 및 출구가 형성되어 상기 입구를 통해 유입된 용융 유리를 수용하고, 상기 수용된 용융 유리를 상기 출구를 통해 유출시키며, 상기 수용된 용융 유리가 오버플로우되도록 상단에 배출구가 형성된 수용조; 상기 수용조의 출구 측에 구비되어 개방 면적을 조절함으로써 상기 출구를 통해 유출되는 용융 유리의 유량을 조절하는 제1 게이트; 및 상기 배출구보다 수용조의 입구 측에 구비되어 상기 배출구가 형성된 부분에서 상기 수용조에 수용된 용융 유리의 수위를 조절하는 제2 게이트를 포함한다.

바람직하게는, 상기 제2 게이트는, 상기 배출구가 형성된 부분에서 상기 수용조에 수용된 용융 유리의 수위를 일정하게 유지한다.

또한 바람직하게는, 본 발명에 따른 이질 유리 제거 장치는, 상기 배출구가 형성된 부분에서 상기 수용조에 수용된 용융 유리의 수위를 측정하는 수위 측정 유닛을 더 포함한다.

또한 바람직하게는, 상기 제2 게이트는, 상하 방향으로 이동 가능하게 구성되고, 하부에서 상부 방향으로 이동할 때, 개방 면적을 증가시킨다.

또한 바람직하게는, 상기 제2 게이트는, 배출구까지의 수평 방향 거리가 상기 배출구가 위치하는 측면에서 상기 용융 유리에 담겨진 깊이의 2배 이상이 되도록 구성된다.

또한 바람직하게는, 상기 제2 게이트는, 상기 배출구가 위치하는 측면에서 상기 용융 유리에 담겨진 깊이가 상기 배출구가 형성된 부분에서 상기 수용조에 수용된 용융 유리의 깊이의 10% 내지 50%가 되도록 구성된다.

또한 바람직하게는, 상기 제2 게이트는, 하단 모서리가 라운딩지게 형성된다.

또한 바람직하게는, 상기 제2 게이트는, 내화물 재질로 형성된다.

또한 바람직하게는, 상기 제2 게이트는, 적어도 일부 표면이 백금으로 코팅된다.

또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 용융로는, 본 발명에 따른 이질 유리 제거 장치를 포함한다.

또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 유리 제조 장치는, 본 발명에 따른 이질 유리 제거 장치를 포함한다.

본 발명에 의하면, 용융로에서 용융된 용융 유리의 상부 표면에 존재하는 이질 유리가 효과적으로 제거될 수 있다.

특히, 본 발명의 일 측면에 의하면, 용융 유리가 오버플로우되는 오버플로우 존의 수위가 일정하게 유지될 수 있다.

따라서, 오버플로우 존의 수위가 변경될 수 있는 요인, 이를테면 용융로의 운전 조건이나 유리의 물성이 달라지는 등의 요인이 발생하더라도, 오버플로우 존의 수위는 일정하게 유지될 수 있다. 그러므로, 본 발명에 의하면, 오버플로우되는 유량이 일정하게 유지됨으로써 용융 유리의 상부 표면에 존재하는 이질 유리가 안정적으로 제거될 수 있다.

이처럼, 본 발명에 의하면, 성형로 등으로 유입되는 용융 유리에서 이질 유리가 효과적이고 안정적으로 제거됨으로써, 유리의 품질이 고품질로 유지될 수 있으며 생산 수율 또한 향상될 수 있다.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 이질 유리 제거 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 사시도이다.
도 2는, 도 1의 C-C'선에 대한 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 게이트의 구성을 개략적으로 나타내는 사시도이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상에 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.

도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 이질 유리 제거 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 사시도이다.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 이질 유리 제거 장치는, 수용조(100), 제1 게이트(200) 및 제2 게이트(300)를 포함한다.

상기 수용조(100)는, 액체를 수용할 수 있는 공간을 구비하여 이러한 공간에 융융 유리를 수용한다. 그리고, 수용조(100)는 입구(110) 및 출구(120)가 형성되어, 입구(110)를 통해 용융 유리가 수용 공간으로 유입되도록 하고, 수용 공간에 수용된 용융 유리가 출구(120)를 통해 유출될 수 있도록 한다.

한편, 수용조(100)는, 고온의 용융 유리를 수용하기 때문에, 내화 벽돌과 같이 내화물 재질로 구성될 수 있다.

상기 수용조(100)는, 유리 원료를 용융시켜 용융 유리를 생성하는 용융로의 구성요소로서 용융로 내에 포함되거나, 용융로의 후단에 위치하여 플로트 배스와 같은 성형로로 용융 유리를 공급할 수 있다.

특히, 상기 수용조(100)는, 수용된 용융 유리의 일부가 오버플로우되도록 오버플로우 존이 형성될 수 있다. 그리고, 이를 위해, 상기 수용조(100)는 상단에 배출구(130)가 하나 이상 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 1에 도시된 바와 같이, 배출구(130)는 수용조(100)의 측면 상부에 2개 설치되어, 화살표 a2로 표시된 바와 같이 상부 표면의 용융 유리가 오버플로우되어 배출되도록 할 수 있다. 이러한 용융 유리의 상부 표면에는, 이질 유리가 존재할 수 있는데, 이러한 배출구(130)를 통한 오버플로우에 의해, 상부의 이질 유리가 수용조(100)로부터 제거될 수 있다.

상기 제1 게이트(200)는, 수용조(100)의 출구(120) 측에 구비되어 개폐되도록 구성된다. 특히, 제1 게이트(200)는 개방 면적을 조절함으로써 수용조(100)의 출구(120)를 통해 유출되는 용융 유리의 유량을 조절할 수 있다.

특히, 상기 제1 게이트(200)는, 도 1에서 b1으로 표시된 바와 같이, 상하 방향으로 이동하도록 구성될 수 있다. 이때, 제1 게이트(200)는 그 하단부와 수용조(100)의 바닥면까지 사이의 거리를 조절함으로써, 출구(120)를 통해 a1 방향으로 유출되는 용융 유리의 유량을 조절할 수 있다. 예를 들어, 제1 게이트(200)가 상부 방향으로 이동하는 경우, 출구(120)를 통해 유출되는 용융 유리의 유량은 증가할 수 있고, 제1 게이트(200)가 하부 방향으로 이동하는 경우, 출구(120)를 통해 유출되는 용융 유리의 유량은 감소할 수 있다.

바람직하게는, 상기 제1 게이트(200)는, 출구(120)를 통해 유출되는 용융 유리의 유량을 측정하여 개방 면적을 조절할 수 있다. 예를 들어, 출구(120)를 통해 유출되는 용융 유리의 유량이 기준 유량보다 많은 경우 개방 면적을 감소시키고, 출구(120)를 통해 유출되는 용융 유리의 유량이 기준 유량보다 적은 경우 개방 면적을 증가시킬 수 있다.

상기 제2 게이트(300)는, 배출구(130)를 기준으로 수용조(100)의 입구(110) 측에 구비될 수 있다. 즉, 도 1에 도시된 바를 참조하면, 제2 게이트(300)는 배출구(130)보다 좌측에 구비된다. 그러므로, 본 발명에 따른 이질 유리 제거 장치는 배출구(130)를 기준으로 양측에 제1 게이트(200) 및 제2 게이트(300)가 위치하게 된다. 다시 말해, 본 발명에 따른 이질 유리 제거 장치에서, 배출구(130)는 제1 게이트(200)와 제2 게이트(300) 사이에 위치하므로, 오버플로우 존은 제1 게이트(200)와 제2 게이트(300) 사이에 위치한 부분이라 할 수 있다.

상기 제2 게이트(300)는, 제1 게이트(200)와 마찬가지로 개폐가 가능하도록 구성될 수 있다. 특히, 제2 게이트(300)는 개방 면적을 조절함으로써 배출구(130)가 위치하는 부분에서 수용조(100)에 수용된 용융 유리의 수위를 조절할 수 있다.

이러한 제2 게이트(300)의 수위 조절 구성에 대해서는 도 2를 참조하여 보다 상세하게 설명하도록 한다.

도 2는, 도 1의 C-C'선에 대한 단면도이다.

도 2를 참조하면, 제2 게이트(300)는, 화살표 b2로 표시된 바와 같이, 상하 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 그리고, 이러한 제2 게이트(300)의 상하 방향 이동은, 제2 게이트(300)에 의한 개방 면적을 변화시키게 되어, 제2 게이트(300)를 통해 유입되는 용융 유리의 유량을 변화시킬 수 있게 된다. 이처럼, 제2 게이트(300)를 통해 유입되는 용융 유리의 유량이 변화되면, 수용조(100)에서 배출구(130)가 형성된 부분의 수위가 변화될 수 있다.

예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 용융 유리가 오버플로우되는 배출구(130)가 형성된 부분, 즉 오버플로우 존에서 용융 유리의 수위(깊이)를 H1이라 할 경우, 제2 게이트(300)가 상부 방향으로 이동하여 개방 면적이 증가하면 H1은 상대적으로 증가할 수 있다. 반면, 제2 게이트(300)가 하부 방향으로 이동하여 개방 면적이 감소하면 H1은 상대적으로 감소할 수 있다. 이처럼, 본 발명의 표면 유리 제거 장치에 의하면, 제2 게이트(300)를 통해 수용조(100)에 수용된 용융 유리의 수위가 조절될 수 있다.

바람직하게는, 상기 제2 게이트(300)는, 배출구(130)가 형성된 부분에서 수용조(100)에 수용된 용융 유리의 수위를 일정하게 유지하도록 구성되는 것이 좋다. 즉, 상기 제2 게이트(300)는, 도 2에서 H1이 일정하게 유지되도록 개방 면적을 조절할 수 있다. 여기서, 용융 유리의 수위가 일정하게 유지된다는 것은, 용융 유리의 수위가 일정한 값 또는 일정한 범위 이내로 유지되는 것을 의미한다고 할 수 있다.

이러한 실시예에 의하면, 용융로의 운전 조건이나 유리의 물성 등이 변화하더라도 배출구(130)가 형성된 부분에서 용융 유리의 수위는 일정하게 유지될 수 있으므로, 배출구(130)를 통해 오버플로우되는 양은 일정하게 유지될 수 있다. 따라서, 이 경우, 용융 유리의 상부 표면 측에 존재하는 이질 유리는 일정하게 제거될 수 있으며, 이질 유리가 덜 제거된다거나 정상 상태의 유리가 과다하게 제거되는 문제 등을 방지할 수 있다.

바람직하게는, 본 발명에 따른 표면 유리 제거 장치는, 수위 측정 유닛을 더 포함할 수 있다.

상기 수위 측정 유닛은, 배출구(130)가 형성된 부분에서 수용조(100)에 수용된 용융 유리의 수위를 측정한다. 예를 들어, 수위 측정 유닛은, 도 2에서 H1의 거리를 측정할 수 있다. 이처럼, 수위 측정 유닛에 의해 수위가 측정된 경우, 측정된 수위에 대한 정보는 제2 게이트(300)로 전송되어 제2 게이트(300)의 동작을 제어하는데 이용될 수 있다. 예를 들어, 수위 측정 유닛에 의해 측정된 수위(H1)가 기준 수위보다 낮은 경우, 제2 게이트(300)는 상부 방향으로 이동하여 개방 면적을 늘림으로써 배출구(130)가 형성된 부분, 즉 오버플로우 존에서 수용조(100)에 수용된 용융 유리의 수위가 상승되도록 할 수 있다.

바람직하게는, 상기 제2 게이트(300)는, 배출구(130)까지의 수평 방향 거리가 배출구(130)가 위치하는 측면에서 용융 유리에 담겨진 깊이의 2배 이상이 되는 것이 좋다.

예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 제2 게이트(300)와 배출구(130) 사이의 수평 방향 거리를 L1이라 하고, 제2 게이트(300)의 용융 유리에 담겨진 깊이를 H2라 하는 경우, L1과 H2는 다음과 같은 관계가 되는 것이 좋다.

L1>2H2

이러한 실시예에 의하면, 제2 게이트(300)의 전단 측(도 2의 좌측)의 표면에 위치한 이질 유리가 제2 게이트(300)를 통과한 후 다시 표면으로 올라오는데 충분한 길이가 확보되도록 할 수 있다. 그러므로, 제2 게이트(300)의 전단 측에 위치하는 이질 유리가 제2 게이트(300)를 통과한 후, 배출구(130)가 형성된 방향(도 2의 우측 방향)으로 이동하는 과정에서 표면까지 떠오르지 못해 배출구(130)로 오버플로우되지 못하는 것을 방지할 수 있다.

또한 바람직하게는, 상기 제2 게이트(300)는, 배출구(130)가 위치하는 측면에서 용융 유리에 담겨진 깊이가 배출구(130)가 형성된 부분에서 수용조(100)에 수용된 용융 유리의 깊이의 10% 내지 50%인 것이 좋다.

예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 배출구(130)가 위치하는 측면에서 용융 유리에 담겨진 제2 게이트(300)의 깊이를 H2라 하고, 배출구(130)가 형성된 부분에서 수용조(100)에 수용된 용융 유리의 깊이를 H1이라 하는 경우, H1과 H2는 다음과 같은 관계가 되는 것이 좋다.

0.1≤H2/H1≤0.5

이러한 실시예에 의하면, 제2 게이트(300)를 통과하는 용융 유리의 유속을 일정 수준 이하로 낮추어 와류 생성을 최소화하고 제2 게이트(300)를 통과한 이질 유리가 다시 용융 유리의 표면까지 원활하게 떠오르도록 함으로써, 이질 유리가 확실하게 오버플로우되어 제거되도록 할 수 있다.

또한 바람직하게는, 상기 제2 게이트(300)는, 하단 모서리가 라운딩지게 형성될 수 있다.

도 3은, 본 발명의 일 실시예에 따른 제2 게이트(300)의 구성을 개략적으로 나타내는 사시도이다.

도 3을 참조하면, 상기 제2 게이트(300)는, 플레이트 형태로 구성되되, 하단부의 모서리가 곡면 형태가 되도록 라운딩지게 구성될 수 있다. 즉, 도 3에서 D로 표시된 부분과 같이, 제2 게이트(300)는 정면에서 바라본 하단부의 형태가 반원 형태가 되도록 라운딩지게 형성될 수 있다. 이러한 실시예에 의하면, 제2 게이트(300)를 통과하는 용융 유리의 흐름이 원활하게 이루어지도록 하며, 와류의 생성을 최소화할 수 있다.

다만, 본 발명이 반드시 이러한 형태로 한정되는 것은 아니며, 제2 게이트(300)의 형태는 다양하게 구현될 수 있다.

또한 바람직하게는, 상기 제2 게이트(300)는, 내화물 재질로 형성될 수 있다. 제2 게이트(300)는 고온의 용융 유리와 접촉하므로 고온에서도 견딜 수 있는 내화물 재질로 형성되는 것이 좋다.

또한 바람직하게는, 상기 제2 게이트(300)는, 고온의 용융 유리와 반응하지 않는 물질로 적어도 일부 표면이 코팅되는 것이 좋다. 예를 들어, 상기 제2 게이트(300)는, 고온의 용융 유리에 대해 화학적으로 안정적인 백금으로 표면이 코팅될 수 있다.

본 발명에 따른 이질 유리 제거 장치는, 유리 원료를 용융시켜 플로트 배스와 같은 성형로로 용융 유리를 공급하는 유리 용융로에 적용될 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 유리 용융로는, 상술한 이질 유리 제거 장치를 포함할 수 있다. 이때, 용융로에서 용융 유리를 수용하는 배스가 상기 이질 유리 제거 장치의 수용조(100) 기능을 할 수 있다.

본 발명에 따른 유리 제조 장치는, 상술한 이질 유리 제거 장치를 포함할 수 있다. 특히, 본 발명에 따른 유리 제조 장치는, 상술한 이질 유리 제거 장치를 용융로 내에 포함할 수 있다. 이 외에도, 본 발명에 따른 유리 제조 장치는, 성형로 및 서냉로 등을 더 포함할 수 있다.

이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.

100: 수용조
110: 입구
120: 출구
130: 배출구
200: 제1 게이트
300: 제2 게이트

Claims

입구 및 출구가 형성되어 상기 입구를 통해 유입된 용융 유리를 수용하고, 상기 수용된 용융 유리를 상기 출구를 통해 유출시키며, 상기 수용된 용융 유리가 오버플로우되도록 상단에 배출구가 형성된 수용조;
상기 수용조의 출구 측에 구비되어 개방 면적을 조절함으로써 상기 출구를 통해 유출되는 용융 유리의 유량을 조절하는 제1 게이트; 및
상기 배출구보다 수용조의 입구 측에 구비되어 상기 배출구가 형성된 부분에서 상기 수용조에 수용된 용융 유리의 수위를 조절하는 제2 게이트
를 포함하는 것을 특징으로 하는 이질 유리 제거 장치.
제1항에 있어서,
상기 제2 게이트는, 상기 배출구가 형성된 부분에서 상기 수용조에 수용된 용융 유리의 수위를 일정하게 유지하는 것을 특징으로 하는 이질 유리 제거 장치.
제1항에 있어서,
상기 배출구가 형성된 부분에서 상기 수용조에 수용된 용융 유리의 수위를 측정하는 수위 측정 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이질 유리 제거 장치.
제1항에 있어서,
상기 제2 게이트는, 상하 방향으로 이동 가능하게 구성되고, 하부에서 상부 방향으로 이동할 때, 개방 면적이 증가하는 것을 특징으로 하는 이질 유리 제거 장치.
제1항에 있어서,
상기 제2 게이트는, 배출구까지의 수평 방향 거리가 상기 배출구가 위치하는 측면에서 상기 용융 유리에 담겨진 깊이의 2배 이상이 되는 것을 특징으로 하는 이질 유리 제거 장치.
제1항에 있어서,
상기 제2 게이트는, 상기 배출구가 위치하는 측면에서 상기 용융 유리에 담겨진 깊이가 상기 배출구가 형성된 부분에서 상기 수용조에 수용된 용융 유리의 깊이의 10% 내지 50%인 것을 특징으로 하는 이질 유리 제거 장치.
제1항에 있어서,
상기 제2 게이트는, 하단 모서리가 라운딩지게 형성된 것을 특징으로 하는 이질 유리 제거 장치.
제1항에 있어서,
상기 제2 게이트는, 내화물 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 이질 유리 제거 장치.
제1항에 있어서,
상기 제2 게이트는, 백금으로 표면 코팅된 것을 특징으로 하는 이질 유리 제거 장치.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 이질 유리 제거 장치를 포함하는 유리 용융로.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 이질 유리 제거 장치를 포함하는 유리 제조 장치.