KR20140128267A - Touch Sensor for Touch Screen Panel, Manufacturing Method of Cover for Touch Screen Panel and Touch Screen Panel comprising the Cover Film - Google Patents

Touch Sensor for Touch Screen Panel, Manufacturing Method of Cover for Touch Screen Panel and Touch Screen Panel comprising the Cover Film Download PDF

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KR20140128267A KR20140050091A KR20140050091A KR20140128267A KR 20140128267 A KR20140128267 A KR 20140128267A KR 20140050091 A KR20140050091 A KR 20140050091A KR 20140050091 A KR20140050091 A KR 20140050091A KR 20140128267 A KR20140128267 A KR 20140128267A
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Abstract

The present invention relates to a touch sensor of a touchscreen panel, a manufacturing method for the touch sensor, and the touchscreen panel including thereof. A touch sensing circuit electrode is formed to detect a touch input on the touchscreen panel by firing and etching conductive paste on a transparent substrate. Accordingly, the present invention can simplify the manufacturing process and reduce the manufacturing costs.

Description

터치 스크린 패널용 터치 센서, 그 제조방법 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널{Touch Sensor for Touch Screen Panel, Manufacturing Method of Cover for Touch Screen Panel and Touch Screen Panel comprising the Cover Film} TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a touch sensor for a touch screen panel, a manufacturing method thereof, and a touch screen panel including the touch sensor.

본 발명은 터치 스크린 패널용 터치 센서에 관한 것이며, 보다 구체적으로는, 도전성 페이스트를 이용하여 터치 감지용 회로전극을 형성한 터치 센서, 그 제조방법 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a touch sensor for a touch screen panel, and more particularly, to a touch sensor having a circuit electrode for touch sensing formed using a conductive paste, a method of manufacturing the touch sensor, and a touch screen panel including the same.

일반적으로 터치 스크린 패널은 투명 필름에 투명 전극이 구비된 터치 센서를 커버 유리(Cover Glass)에 합착하여 제작되고 있다.Generally, a touch screen panel is manufactured by attaching a touch sensor having a transparent electrode to a transparent glass to a cover glass.

상기 터치 센서는, 투명 필름에 전극 재료, 즉, 일 예로 ITO(Indium Tin Oxide)를 일면에 코팅하고, 에칭 공정으로 센싱 전극을 형성하여 제조된다.The touch sensor is manufactured by coating a transparent film with an electrode material, for example, ITO (Indium Tin Oxide) on one surface, and forming a sensing electrode by an etching process.

도 1을 참고하면, 상기 터치 스크린 패널(1)은 디스플레이 패널(1a)에 투명 접착층(1b)을 이용하여 두 개의 터치 센서(1c) 및 상기 터치 센서(1c)를 커버하는 강화유리(1d)가 차례로 적층되는 구조를 가진다.1, the touch screen panel 1 includes two touch sensors 1c and a tempered glass 1d covering the touch sensor 1c using a transparent adhesive layer 1b on a display panel 1a. Are stacked in this order.

즉, 통상적인 터치 스크린 패널은 ITO 센싱 전극이 필름기재에 형성된 터치 스크린 패널용 터치 센서 2개와, 강화유리(1d)를 사용하는 GFF방식이 주로 사용되고 있다. 상기 2개의 센서에는 각각 X축 센서 또는 Y축 센서가 형성된다. That is, in a typical touch screen panel, two touch sensors for a touch screen panel in which an ITO sensing electrode is formed on a film substrate and a GFF system using a tempered glass 1d are mainly used. An X-axis sensor or a Y-axis sensor is formed on each of the two sensors.

그러나, 필름기재에 ITO로 센싱 전극을 형성하는 종래의 터치 스크린 패널용 터치 센서는 13인치 이상의 화면에서 ITO(Indium Tin Oxide) 전극의 높은 저항으로 터치 속도 저하와 멀티 터치 구현에 어려움이 있었다.However, in the conventional touch sensor for a touch screen panel in which a sensing electrode is formed of ITO on a film substrate, the resistance of the ITO (Indium Tin Oxide) electrode is high in a screen of 13 inches or more.

또한, ITO(Indium Tin Oxide)의 주재료인 인듐은 희귀 원소로 고갈되고 있으며, 한정된 매장량에 의해 가격이 비싸 터치 스크린 패널의 제조 비용을 증대시키는 원인이 되고 있다. In addition, indium, which is a main material of indium tin oxide (ITO), is depleted in rare elements, and due to limited reserves, the price is high, which causes the manufacturing cost of the touch screen panel to increase.

또한, ITO(Indium Tin Oxide) 전극은 높은 공정온도로 연성 기판의 적용에 어려움이 있고, 취약한 기계적 성질로 인해 크랙 발생이 빈번하여 플렉서블 디스플레이에 사용하기 부적합한 문제점이 있다.In addition, ITO (Indium Tin Oxide) electrodes are difficult to apply a flexible substrate at a high process temperature, and cracks are frequently generated due to poor mechanical properties, which is unsuitable for use in a flexible display.

또한, 건식증착시 에칭 공정에 의한 폐수가 배출되어 환경오염을 유발하고, OLED 적용 시 유기층으로 인듐이 확산되는 문제점이 있다. In addition, when dry deposition is performed, wastewater generated by the etching process is discharged to cause environmental pollution, and indium is diffused into the organic layer when the OLED is applied.

특히, 13인치 이상의 대면적 터치 스크린 패널에서 ITO(Indium Tin Oxide) 전극은 높은 저항으로 전력 소모가 과다한 문제가 있다.In particular, ITO (Indium Tin Oxide) electrodes on a 13 inch or larger touch screen panel have a problem of excessive power consumption due to high resistance.

또한, AgNW(Silver nano Wire)를 투명 필름의 전면에 형성하고, 에칭으로 투명 전극을 형성하여 터치 센서를 제조할 수 있는데, AgNW(Silver nano Wire)을 사용하여 투명 전극을 형성하는 경우 낮은 저항으로 터치 속도는 우수하나 투명도가 낮은 문제점이 있다.In addition, a touch sensor can be manufactured by forming AgNW (Silver nano Wire) on the entire surface of a transparent film and forming a transparent electrode by etching. When a transparent electrode is formed using AgNW (Silver nano Wire) The touch speed is excellent but the transparency is low.

또한, 종래의 터치 센서는 대부분 노광, 현상, 에칭 등의 공정을 거치게 되며, 이 때 투명 필름의 기재 상에 스크래치 등의 손상이 발생되고, 이러한 손상에 의한 광학적 열화가 발생되는 문제점이 있다.In addition, most conventional touch sensors undergo a process such as exposure, development, and etching. In this case, scratches or the like are generated on the substrate of the transparent film, and optical deterioration due to such damage occurs.

또한, 종래 터치 스크린 패널은 X축 센서와 Y축 센서가 각각 투명 필름에 형성된 두 개의 터치 센서(1c)를 포함하므로 제조공정이 복잡하며, 제조원가가 많이 소요되고 두께를 슬림화하는 데 한계가 있는 문제점이 있었다. In addition, since the conventional touch screen panel includes two touch sensors 1c each having an X-axis sensor and a Y-axis sensor formed on a transparent film, the manufacturing process is complicated, the manufacturing cost is high and the thickness is slim .

국내특허공개 제2013-0131647호 '전극-윈도우 일체형 터치 스크린 패널 및 그 터치 스크린 패널을 포함한 터치 스크린 디스플레이 장치'(2013.12.04 공개)Korean Patent Laid-Open Publication No. 2013-0131647 discloses an electrode-window integrated touch screen panel and a touch screen display device including the touch screen panel.

본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 안출한 것으로, 안정적인 터치 속도와 멀티 터치를 통해 제품의 신뢰성을 확보할 수 있고, 제조 원가를 줄인 터치 스크린 패널용 터치 센서, 그 제조방법 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널을 제공하는 데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a touch sensor for a touch screen panel capable of securing reliability of a product through stable touch speed and multi- The purpose of the present invention is to provide a screen panel.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서는, 투명기재;According to an aspect of the present invention, there is provided a touch sensor for a touch screen panel, including: a transparent substrate;

상기 투명기재에 구비되며, 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극을 포함하며, And a touch sensing circuit electrode formed on the transparent substrate and configured to sense a touch on the touch screen panel,

상기 터치 감지용 회로전극은, 도전성 페이스트를 소성하여 형성한 것을 특징으로 한다.The touch sensing circuit electrode is formed by firing a conductive paste.

본 발명에서 상기 터치 감지용 회로전극은, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부; 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함하고, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부가 상기 투명기재에서 동일면에 형성될 수 있다. In the present invention, the touch sensing circuit electrode may include an X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a lateral direction; And a Y-axis sensing circuit portion including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction, wherein the X-axis sensing circuit portion and the Y-axis sensing circuit portion may be formed on the same surface of the transparent substrate.

본 발명에서 상기 터치 감지용 회로전극은, 상기 투명기재의 양면 중 어느 한면에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부; 및 상기 투명기재의 양면 중 어느 다른 한면에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함할 수 있다.In the present invention, the circuit electrode for touch sensing may include an X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes disposed on one of both surfaces of the transparent substrate and spaced apart from each other in a lateral direction; And a Y-axis sensing circuit unit including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart from each other in a longitudinal direction, the Y-axis sensing circuit unit being provided on the other of the two surfaces of the transparent substrate.

본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서는, 상기 터치 감지용 회로전극에 적층되어 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층;을 더 포함할 수 있다. The touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention may further include an anti-reflection layer laminated on the touch sensing circuit electrode to prevent reflection of light.

본 발명에서 상기 반사 방지층은, 상기 투명기재의 일면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부 중 하나와 상기 투명기재의 사이에 배치되는 제1반사 방지층; 및 상기 투명기재의 타면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부 중 다른 하나에 적층되는 제2반사 방지층을 포함할 수 있다. In the present invention, the antireflection layer may include a first antireflection layer disposed on one side of the transparent substrate, the first antireflection layer disposed between the X-axis sensing circuit part and the Y-axis sensing circuit part and the transparent substrate; And a second anti-reflection layer provided on the other surface of the transparent substrate and stacked on the other of the X-axis sensing circuit portion and the Y-axis sensing circuit portion.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel,

투명기재에 도전성 페이스트로 터치 스크린 패널에서 터치를 감지할 수 있는 터치 감지용 회로전극을 형성하는 단계; 및Forming a circuit electrode for touch sensing capable of sensing a touch on a touch screen panel with a conductive paste on a transparent substrate; And

상기 터치 감지용 회로전극을 소성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 한다.And firing the touch sensing circuit electrode.

본 발명의 일 실시 예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, 상기 터치 감지용 회로전극을 식각하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention may further include etching the circuit electrode for touch sensing.

본 발명에서 상기 식각하는 단계는, 상기 터치 감지용 회로전극에 포토레지스트층를 적층 형성하는 과정; 상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 상기 포토레지스트층 중 터치 감지용 회로패턴에 대응되는 커버패턴을 형성하는 과정; 및 In the present invention, the etching step may include: forming a photoresist layer on the touch sensing circuit electrode; Exposing and developing the photoresist layer to form a cover pattern corresponding to a circuit pattern for touch detection in the photoresist layer; And

상기 커버패턴에 의해 커버된 상기 터치 감지용 회로전극을 식각하는 과정을 포함할 수 있다. And etching the touch sensing circuit electrode covered by the cover pattern.

본 발명에서 상기 터치 감지용 회로 전극을 형성하는 단계는, 도전성 페이스트를 스크린 인쇄하여 형성할 수 있다. In the present invention, the step of forming the circuit electrode for touch sensing may be performed by screen printing a conductive paste.

본 발명의 일 실시 예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, 상기 투명기재 또는 상기 터치 감지용 회로전극에 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention may further include forming an antireflection layer on the transparent substrate or the touch sensing circuit electrode to prevent reflection of light.

본 발명에서 상기 터치 감지용 회로전극을 형성하는 단계는, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 상기 기재의 동일면에 형성할 수 있다. In the present invention, the step of forming the touch sensing circuit electrode may include a step of forming an X-axis sensing circuit portion including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the lateral direction and a Y-axis sensing circuit portion including a plurality of Y- Can be formed on the same side of the substrate.

본 발명에서 상기 터치 감지용 회로전극을 형성하는 단계는, 상기 투명기재의 한면에 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부와 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부 중 어느 하나를 인쇄하는 제1회로전극 형성과정; 및 상기 투명기재의 다른 한면에 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부 또는 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부 중 다른 하나를 인쇄하는 제2회로전극 형성과정;을 포함할 수 있다. In the present invention, the step of forming the touch sensing circuit electrode may include an X-axis sensing circuit portion including a plurality of X-axis electrodes spaced laterally on one side of the transparent substrate, and a plurality of Y- A Y-axis sensing circuit unit, and a Y-axis sensing circuit unit; And a second circuit for printing another one of an X-axis sensing circuit portion including a plurality of X-axis electrodes spaced laterally on the other surface of the transparent substrate or a Y-axis sensing circuit portion including a plurality of longitudinally spaced Y- And an electrode forming process.

본 발명에서 상기 반사 방지층을 형성하는 단계는, 상기 제1회로전극형성 과정 이전에 상기 투명기재의 한면에 빛의 반사를 방지하는 제1반사 방지층을 형성하는 과정; 및 상기 제2회로전극 형성과정 후 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부 중 다른 하나에 빛의 반사를 방지하는 제2반사 방지층을 형성하는 과정을 포함할 수 있다. The forming of the antireflection layer may include forming a first antireflection layer on one surface of the transparent substrate to prevent reflection of light before the first circuit electrode is formed; And forming a second anti-reflection layer on the other one of the X-axis sensing circuit and the Y-axis sensing circuit after the second circuit electrode is formed.

본 발명에서 상기 반사 방지층을 형성하는 단계는, 흑화된 도전성 페이스트로 스크린 인쇄하여 반사 방지층을 형성하여 상기 소성하는 단계에서 상기 터치 감지용 회로전극과 함께 소성할 수 있다. In the present invention, the step of forming the antireflection layer may be performed by screen printing with a blackened conductive paste to form an antireflection layer, and firing together with the touch sensing circuit electrode in the firing step.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널은, According to another aspect of the present invention, there is provided a touch screen panel,

화면을 출력하는 디스플레이 패널유닛; A display panel unit for outputting a screen;

상기 디스플레이 패널유닛의 화면을 커버하여 보호하는 터치스크린 패널 커버기재; 및A touch screen panel cover substrate for covering and protecting a screen of the display panel unit; And

상기 디스플레이 패널유닛과 상기 터치스크린 패널 커버기재의 사이에 개재되며 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극을 포함하며,And a touch sensing circuit electrode interposed between the display panel unit and the touch screen panel cover substrate to detect a touch on the touch screen panel,

상기 터치 감지용 회로전극은, 도전성 페이스트를 소성하여 형성한 것을 특징으로 한다.The touch sensing circuit electrode is formed by firing a conductive paste.

본 발명에서 상기 도전성 페이스트는 은분말과, 폴리머레진, 솔벤트를 포함한 은페이스트일 수 있고, 상기 은페이스트는 은분말 73wt% ~ 88wt%, 폴리머레진 5.9wt% ~ 9.5wt%, 솔벤트 5.7wt% ~ 18.0wt%를 포함할 수 있다. In the present invention, the conductive paste may be a silver paste containing silver powder, a polymer resin, and a solvent. The silver paste may be used in an amount of 73 wt% to 88 wt% at the end of silver powder, 5.9 wt% to 9.5 wt% And 18.0 wt%.

본 발명은 센싱용 회로전극을 도전성 페이스트로 인쇄하여 형성하므로 제조 과정이 간단하고 제조 비용을 절감하는 효과가 있다.Since the sensing circuit electrode is formed by printing with conductive paste, the manufacturing process is simple and the manufacturing cost is reduced.

본 발명은 연성 기판에 비저항 특성과 투과도가 우수한 센싱용 회로전극을 형성하여 플렉시블 디스플레이에 안정적으로 적용이 가능하고, 플렉시블 디스플레이의 안정적인 터치 속도와 멀티 터치를 통해 제품의 신뢰성을 확보하는 효과가 있다.The present invention has the effect of securing reliability of a product through stable touch speed of a flexible display and multi-touch by forming a circuit electrode for sensing having a high resistivity and a high transmittance on a flexible substrate and stably applying it to a flexible display.

도 1은 종래 터치 스크린 패널의 일 예를 도시한 도면
도 2는 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서의 일 실시 예를 도시한 단면도
도 3은 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서의 일 실시 예를 도시한 사시도
도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서의 다른 실시 예를 도시한 단면도
도 6 내지 도 10은 본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 실시 예를 도시한 개략도
도 11은 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법의 일 실시 예를 도시한 공정도
도 12는 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법의 일 실시 예를 도시한 개략도
도 13은 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법의 다른 실시 예를 도시한 공정도
도 14는 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법의 다른 실시 예를 도시한 개략도1 is a view showing an example of a conventional touch screen panel
2 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention.
3 is a perspective view illustrating a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
4 and 5 are sectional views showing another embodiment of the touch sensor for a touch screen panel according to the present invention
6 to 10 are schematic views illustrating an embodiment of a touch screen panel according to the present invention
11 is a process diagram illustrating an embodiment of a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention
12 is a schematic view illustrating an embodiment of a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention.
13 is a flow chart illustrating another embodiment of a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention
14 is a schematic view showing another embodiment of a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention.

본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 여기서, 반복되는 설명, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능, 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다. 본 발명의 실시형태는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.The present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings. Hereinafter, a repeated description, a known function that may obscure the gist of the present invention, and a detailed description of the configuration will be omitted. Embodiments of the present invention are provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shapes and sizes of the elements in the drawings and the like can be exaggerated for clarity.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 센서를 도시한 단면도이며, 도 2를 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서는, 투명기재(10) 및 상기 투명기재(10)에 구비되며, 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극(20)을 포함한다.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a touch sensor according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention includes a transparent substrate 10, And a touch sensing circuit electrode 20 formed on the touch screen panel 10 and adapted to sense a touch on the touch screen panel.

상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 도전성 페이스트를 소성하여 형성한다.The touch sensing circuit electrode 20 is formed by firing a conductive paste.

상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 사람의 눈으로 인식이 불가한 미세한 폭을 가지도록 형성되며, 15㎛ 이하에서 바람직하게는 3㎛ 이하의 선폭을 가지는 것을 일 예로 한다.The touch sensing circuit electrode 20 is formed to have a fine width which can not be recognized by human eyes and has a line width of 15 mu m or less, preferably 3 mu m or less.

상기 도전성 페이스트는, 도전성 금속분말과 바인더를 포함한다. 도전성 금속분말은 은, 구리, 알루미늄, 니켈 중 선택된 1종 또는 선택된 2종 이상의 혼합물일 수 있다.The conductive paste includes a conductive metal powder and a binder. The conductive metal powder may be one selected from the group consisting of silver, copper, aluminum and nickel, or a mixture of two or more selected.

상기 도전성 페이스트는 은분말과, 폴리머레진, 솔벤트를 포함한 은페이스트인 것이 바람직하다. 상기 은페이스트는 은분말 73wt% ~ 88wt%, 폴리머레진 5.9wt% ~ 9.5wt%, 솔벤트 5.7wt% ~ 18.0wt%를 포함한다.The conductive paste is preferably a silver paste including a silver powder, a polymer resin, and a solvent. The silver paste includes 73 wt% to 88 wt% of silver powder, 5.9 wt% to 9.5 wt% of polymer resin, and 5.7 wt% to 18.0 wt% of solvent.

상기 은페이스트는 0.35wt% ~ 2.90wt%의 분산제를 더 포함할 수도 있다.The silver paste may further contain 0.35 wt% to 2.90 wt% of a dispersing agent.

상기 폴리머레진은 폴리에스테르계를 포함하며, 분자량이 25,000인 것을 일 예로 한다. The polymer resin includes a polyester-based resin and has a molecular weight of 25,000.

상기 은분말은 입자크기가 50nm ~ 5㎛인 것을 일 예로 하고, 바람직하게 0.5 ~ 1.2㎛이다. 상기 은 분말은 입자크기가 작아야 인쇄시 이동이 잘되고 소성시 은 분말끼리 붙어 저항이 낮아지므로 5㎛초과의 은분말에서는 저항을 30Ω 이하, 바람직하게는 23Ω 이하로 구현하기 어려운 문제점이 있다.The silver powder has a particle size of 50 nm to 5 μm, for example, preferably 0.5 to 1.2 μm. The silver powder has a small particle size so that it can move easily during printing and the resistance of the silver powder is lowered when firing, so that it is difficult to realize the resistance at 30 Ω or less, preferably 23 Ω or less at the end of silver powder exceeding 5 μm.

본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서는, 상기 투명기재(10)와 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 사이에 개재되거나 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 적층되어 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층(30);을 더 포함한다. The touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention may be interposed between the transparent substrate 10 and the touch sensing circuit electrode 20 or stacked on the touch sensing circuit electrode 20, And an antireflection layer 30 for preventing reflection of light.

상기 반사 방지층(30)은 상기 터치 감지용 회로전극(20)과 대응되는 형상으로 형성되어 상기 투명기재(10)에 적층 형성된다. 또한, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은 상기 반사 방지층(30)에 적층 형성된다. 즉, 상기 반사 방지층(30)과 상기 터치 감지용 회로전극(20)은 상기 투명기재(10)에 차례로 적층 형성될 수 있다. The antireflection layer 30 is formed in a shape corresponding to the touch-sensing circuit electrode 20, and is laminated on the transparent substrate 10. In addition, the touch sensing circuit electrode 20 is laminated on the antireflection layer 30. That is, the antireflection layer 30 and the touch sensing circuit electrode 20 may be sequentially formed on the transparent substrate 10.

상기 터치 감지용 회로전극(20)은 상기 투명기재(10)에 적층 형성되고, 상기 반사 방지층(30)은 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 적층될 수 있다. 즉, 상기 터치 감지용 회로전극(20)과 상기 반사 방지층(30)은 상기 투명기재(10)에 차례로 적층 형성될 수 있다. The touch sensing circuit electrode 20 may be laminated on the transparent substrate 10 and the antireflection layer 30 may be laminated on the touch sensing circuit electrode 20. That is, the touch sensing circuit electrode 20 and the antireflection layer 30 may be sequentially formed on the transparent substrate 10.

상기 반사 방지층(30)은, 30%이하의 반사율을 가지는 검은색 계열의 색상을 가지는 것이 바람직하며, 30% 이상의 반사율을 가지는 경우 눈부심이 발생하여 터치 스크린 패널의 시인성을 저하시키는 문제점이 있다.The antireflection layer 30 preferably has a black-based color having a reflectance of 30% or less. When the reflectance is 30% or more, the antireflection layer 30 may degrade the visibility of the touch screen panel.

상기 반사 방지층(30)은, 흑화된 도전성 잉크 또는 흑화된 도전성 페이스트로 소성되어 형성될 수 있고, 카본블랙잉크, 카본블랙페이스트, 탄소나노튜브잉크, 탄소나노튜브페이스트, 도전성 잉크에 흑화제를 혼합한 것, 도전성 페이스트에 흑화제를 혼합한 것을 포함할 수 있다. 상기 흑화된 도전성 잉크 또는 상기 흑화된 도전성 페이스트는 도전성 물질로 구리(Cu), 은(Ag), 알루미늄(Al) 등을 포함한 것을 일 예로 하며, 상기 흑화제는 카본블랙(Carbon Black) 또는 탄소나노튜브인 것을 일 예로 하고 도전성 잉크 또는 도전성 페이스트를 검은색 계열의 색상을 형성하는 어떠한 것도 적용이 가능함을 밝혀둔다. The antireflection layer 30 may be formed by firing a blackened conductive ink or a blackened conductive paste and may be formed by mixing a blackening agent with a carbon black ink, a carbon black paste, a carbon nanotube ink, a carbon nanotube paste, Or a mixture of a conductive paste and a blackening agent. The blackened conductive ink or the blackened conductive paste may include copper (Cu), silver (Ag), aluminum (Al), or the like as a conductive material. The blackening agent may be carbon black, Tube is used as an example, and any conductive ink or conductive paste forming a black-based color can be applied.

또한, 상기 반사 방지층(30)은, 상기 회로홈의 내부에 도전성 물질을 진공 증착하여 형성된 것일 수 있다. 상기 도전성 물질은 구리(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al) 등의 금속 또는, 구리, 니켈, 크롬, 텅스텐, 몰리브덴, 알루미늄 중 적어도 두개가 혼합된 합금인 것을 일 예로 한다. In addition, the antireflection layer 30 may be formed by vacuum-depositing a conductive material in the circuit groove. The conductive material may be a metal such as copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), tungsten (W), molybdenum (Mo), aluminum (Al), or a metal such as copper, nickel, chromium, tungsten, molybdenum, And at least two alloys are mixed.

또한, 상기 반사 방지층(30)은, 산화층 또는 질화층일 수 있으며, 상기 산화층은 산화티타늄(TiO2), 산화크롬(CrO2), 산화구리(CuO), 산화니켈(NiO), 산화알루미늄(Al2O3), 산화은(AgO) 등인 것을 일 예로 하고, 상기 질화층은, 질화티타늄(TiN) 또는 질화구리(CuN) 등인 것을 일 예로 한다.The antireflection layer 30 may be an oxide layer or a nitride layer and the oxidation layer may be formed of at least one selected from the group consisting of titanium oxide (TiO 2 ), chromium oxide (CrO 2 ), copper oxide (CuO), nickel oxide (NiO) 2 O 3 ), silver oxide (AgO), and the like. The nitride layer is, for example, titanium nitride (TiN) or copper nitride (CuN).

상기 반사 방지층(30)은, 10nm의 두께를 가지며 구리를 열증착하여 형성된 것을 일 예로 한다. 구리를 열증착하면 검은색 계열의 색상을 가지게 되어 반사율이 30% 이하로 형성된 상기 반사 방지층(30)을 형성할 수 있다. The antireflection layer 30 has a thickness of 10 nm and is formed by thermally depositing copper. When the copper is thermally deposited, the antireflection layer 30 having a black-based color and having a reflectance of 30% or less can be formed.

상기 반사 방지층(30)은 상기 500Å ~ 5,000Å의 두께로 상기 투명기재(10)에 형성되는 것을 일 예로 한다. The antireflection layer 30 is formed on the transparent substrate 10 to a thickness of 500 Å to 5,000 Å.

상기 반사 방지층(30)은 기설정된 반사율 이하를 가지는 도전성 물질로 빛의 난반사를 방지하여 눈부심이 발생되는 것을 방지하고, 터치 스크린 패널의 시인성을 확보할 수 있도록 한다.The antireflection layer 30 is a conductive material having a predetermined reflectance or less to prevent irregular reflection of light to prevent the occurrence of glare and to ensure the visibility of the touch screen panel.

상기 투명기재(10)는, 투명 PI필름일 수 있고, PEN(Polyethylene Naphthalate) 필름, PET(Polyethylene Terephthalate) 필름, PC(Polycarbonate)필름, PSS(Poly styrene sulfonate) 필름 중 하나일 수도 있고, 이외의 엔지니어링 플라스틱 등 투명재질의 필름을 사용할 수 있다.The transparent substrate 10 may be a transparent PI film or may be one of a PEN (polyethylene naphthalate) film, a PET (polyethylene terephthalate) film, a PC (Polycarbonate) film and a PSS A transparent plastic film such as engineering plastic can be used.

또한, 상기 투명기재(10)는, 강화유리일 수도 있고, 필름기재의 표면에 경도를 증대시키는 강화코팅층을 형성한 강화코팅 필름일 수도 있다. 상기 필름기재는 투명 PI필름일 수 있고, PEN(Polyethylene Naphthalate) 필름, PET(Polyethylene Terephthalate) 필름, PC(Polycarbonate)필름, PSS(Poly styrene sulfonate) 필름 중 하나일 수도 있고, 이외에도 합성수지 재질의 필름으로 강화코팅이 가능한 어떠한 것으로도 변형실시될 수 있음을 밝혀둔다.The transparent substrate 10 may be a tempered glass or a reinforced coating film in which a reinforcing coating layer for increasing hardness is formed on the surface of a film substrate. The film substrate may be a transparent PI film, or may be one of PEN (Polyethylene Naphthalate) film, PET (polyethylene terephthalate) film, PC (Polycarbonate) film and PSS (Poly styrene sulfonate) It should be noted that any modification capable of a reinforced coating can be carried out.

상기 강화코팅층은, 실리콘(Si) 또는 세라믹(Ceramic)을 포함한 레진으로 코팅 형성되거나, 진공증착을 통한 코팅층일 수도 있는 것을 일 예로 하며, 이외에도 상기 필름기재(11)의 일면의 경도를 증대시켜 스크래치와 크랙에 대한 내구성을 증대시키는 어떠한 코팅층으로도 변형 실시될 수 있음을 밝혀둔다.The reinforcing coating layer may be coated with a resin including silicon (Si) or ceramics, or may be a coating layer formed by vacuum deposition. In addition, the hardness of one surface of the film substrate 11 may be increased, And any coating layer which increases the durability against cracks.

상기 강화코팅층은, 0.3mm이하의 두께를 가져 플렉시블 가능하도록 하여 플렉시블 터치 스크린 패널에 적용 가능하도록 하는 것이 바람직하다.Preferably, the reinforcing coating layer has a thickness of 0.3 mm or less so that the reinforcing coating layer can be applied to a flexible touch screen panel.

상기 투명기재(10)는, 터치스크린 패널에서 디스플레이 패널유닛(40)의 화면을 커버하여 보호하는 터치스크린 패널 커버기재(11)일 수 있고, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)는 상기한 강화유리 또는 강화코팅 필름인 것이 바람직하다.The transparent substrate 10 may be a touch screen panel cover substrate 11 that covers and protects a screen of the display panel unit 40 in a touch screen panel, Glass or reinforced coating film.

상기 투명기재(10)는 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)로 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 일면에 직접 터치 감지용 회로전극(20)을 일체로 형성하여 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화한다.The transparent substrate 10 is formed by integrally forming the touch sensing circuit electrode 20 on one surface of the touch screen panel cover substrate 11 with the touch screen panel cover substrate 11 to reduce the thickness of the touch screen panel And weight of the touch screen panel is reduced.

이 때, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 일면은 터치 스크린 패널에서 안쪽면 즉, 디스플레이 패널유닛(40)을 향하는 면이고, 상기 디스플레이 패널유닛(40)에 장착 시 외부로 노출되는 면 즉, 바깥측을 향하는 표면과 반대측면이 된다.One surface of the touch screen panel cover substrate 11 is a surface facing the inner surface of the touch screen panel 40, that is, the display panel unit 40. When the touch panel panel cover substrate 11 is mounted on the display panel unit 40, , It is the opposite side to the surface facing outward.

도 3을 참고하면, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 터치를 감지할 수 있는 회로 형상으로 형성되며, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 또는 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)인 것을 일 예로 한다. 3, the touch sensing circuit electrode 20 is formed in a circuit shape capable of sensing a touch, and includes an X-axis sensing circuit unit 21 including a plurality of X- Axis sensing circuit unit 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced in the Y-axis direction.

상기 투명기재(10)는, 제1투명기재(12)와 제2투명기재(13)를 포함하고, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 상기 제1투명기재(12)에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 상기 제2투명기재(13)에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하는 것을 일 예로 한다.Wherein the transparent substrate 10 includes a first transparent substrate 12 and a second transparent substrate 13 and the touch sensing circuit electrode 20 is provided on the first transparent substrate 12, Axis sensing circuit portion 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart from each other and a Y-axis sensing circuit portion 22 including a plurality of longitudinally spaced Y-axis electrodes provided on the second transparent substrate 13, Include as an example.

횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극과 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극은은 트레이스 전극을 통해 외부 회로와 연결되고, 상기 외부 회로의 일 예로 정전식 멀티터치 콘트롤부가 있으며, 상기 정전식 멀티터치 콘트롤부는 해당 전자기기의 메인 프로세스와 전기적으로 연결된다. A plurality of X-axis electrodes spaced in the lateral direction and a plurality of Y-axis electrodes spaced in the longitudinal direction are connected to an external circuit through a silver trace electrode, and an electrostatic multi-touch control unit is exemplified as the external circuit. The multi-touch control unit is electrically connected to the main process of the corresponding electronic device.

상기 X축 전극 및 상기 Y축 전극은 마름모 형상의 메탈 메쉬형상으로 형성된 복수의 터치센서 전극이 전기적으로 연결된 형태를 가지는 것을 일 예로 한다.The X-axis electrode and the Y-axis electrode have a shape in which a plurality of touch sensor electrodes formed in a rhombic metal mesh shape are electrically connected to each other.

도 4를 참고하면, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 상기 투명기재(10)의 양면 중 어느 한면에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 상기 투명기재(10)의 양면 중 어느 다른 한면에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하는 것을 일 예로 한다.4, the touch sensing circuit electrode 20 includes an X-axis sensing circuit unit 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart from each other on either side of the transparent substrate 10, And a Y-axis sensing circuit 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart from each other in a longitudinal direction of the transparent substrate 10.

상기 반사 방지층(30)은, 상기 투명기재(10)의 일면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 하나와 상기 투명기재(10)의 사이에 배치되는 제1반사 방지층(31); 및 상기 투명기재(10)의 타면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 하나에 적층되는 제2반사 방지층(32)을 포함한다. The antireflection layer 30 is provided on one surface of the transparent substrate 10 and disposed between one of the X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 and the transparent substrate 10 A first antireflection layer (31); And a second antireflection layer 32 provided on the other surface of the transparent substrate 10 and stacked on the other of the X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22.

상기 투명기재(10)의 양면에는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 각각 구비되어 재료비를 절감하고, 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다. The X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 are provided on both sides of the transparent substrate 10 to reduce the material cost, reduce the thickness of the touch screen panel, The weight can be reduced.

도 5를 참고하면, 상기 터치 감지용 회로전극은, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하고, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 상기 투명기재(10)에서 동일면에 형성된다. 5, the touch sensing circuit electrode includes an X-axis sensing circuit unit 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the horizontal direction, and a Y-axis sensing circuit unit including a plurality of Y- And the X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 are formed on the same surface of the transparent substrate 10.

상기 투명기재(10)의 양면 중 어느 한면에는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 함께 형성되어 재료비를 절감하고, 광학 특성이 향상됨과 동시에 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다.The X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 are formed on either side of the transparent substrate 10 to reduce the material cost and improve the optical characteristics. And the weight of the touch screen panel can be reduced.

한편, 도 6 내지 도 10을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 화면을 출력하는 디스플레이 패널유닛(40); 및 상기 디스플레이 패널유닛(40)의 화면을 커버하여 보호하는 터치스크린 패널 커버기재(11); 상기 디스플레이 패널유닛(40)과 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 개재되며 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극(20)을 포함한다.6 to 10, a touch screen panel according to an embodiment of the present invention includes a display panel unit 40 for outputting a screen; And a touch screen panel cover substrate (11) covering and protecting a screen of the display panel unit (40); And a touch sensing circuit electrode (20) interposed between the display panel unit (40) and the touch screen panel cover substrate (11) and configured to sense a touch on the touch screen panel.

상기 터치스크린 패널 커버기재(11)는 투명기재(10)로 강화유리일 수도 있고, 필름기재의 표면에 경도를 증대시키는 강화코팅층을 형성한 강화코팅 필름인 것을 일 예로 하며, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은 도전성 페이스트로 소성하여 형성되고, 이에 대한 실시 예는 상기에서 기재하여 설명한 바, 중복 기재로 생략함을 밝혀둔다. The touch screen panel cover base material 11 may be a tempered glass made of a transparent base material 10 or a reinforced coating film having a hard coating layer formed on the surface of the film base material. The electrode 20 is formed by firing with an electroconductive paste. As described above with reference to the embodiment, the overlapping substrate is omitted.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 상기 터치 감지용 회로전극에서 상기 터치 스크린 패널 커버기재의 외측을 향하는 측에 형성되며 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층(30);을 더 포함한다.The touch screen panel according to an embodiment of the present invention further includes an antireflection layer 30 formed on the side of the touch screen panel electrode facing the outside of the touch screen panel cover substrate to prevent reflection of light .

즉, 상기 반사 방지층(30)은 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)와 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 사이에 개재되어 빛의 반사를 방지하며, 상기 반사 방지층(30)에 대한 실시 예는 상기에서 기재하여 설명한 바, 중복 기재로 생략함을 밝혀둔다. That is, the antireflection layer 30 is interposed between the touch screen panel cover substrate 11 and the touch sensing circuit electrode 20 to prevent reflection of light, and in the embodiment of the antireflection layer 30 As described and described above, it is to be noted that duplicate substrates are omitted.

더 상세하게 도 6을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 상기 디스플레이 패널유닛(40)과 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 이격되게 배치되는 제1투명기재(12)와 제2투명기재(13)를 더 포함하고, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은 상기 제1투명기재(12)에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 상기 제2투명기재(13)에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하는 것을 일 예로 한다.6, a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first transparent substrate 30, which is spaced apart from the display panel unit 40 and the touch screen panel cover substrate 11, (12) and a second transparent substrate (13), wherein the touch sensing circuit electrode (20) comprises a plurality of X-axis electrodes provided on the first transparent substrate (12) Axis sensing circuit unit 21 and a Y-axis sensing circuit unit 22 provided on the second transparent substrate 13 and including a plurality of longitudinally spaced Y-axis electrodes.

상기 디스플레이 패널유닛(40)과 상기 터치스크린 패널 커버기재(11), 상기 디스플레이 패널유닛(40)과 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 이격되게 배치되는 제1투명기재(12)와 제2투명기재(13)는 투명 접착층(50)으로 서로 부착되며, 상기 투명 접착층(50)은 OCA(OCA Optically Clear Adhesive) 필름인 것을 일 예로 한다.A first transparent substrate 12 spaced apart from the display panel unit 40, the touch screen panel cover substrate 11, the display panel unit 40, and the touch screen panel cover substrate 11; The second transparent substrate 13 is adhered to each other with a transparent adhesive layer 50, and the transparent adhesive layer 50 is an OCA (Optically Clear Adhesive) OCA film.

또한, 도 7을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 이격되게 배치되는 투명기재(10)를 더 포함하고, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)와 상기 투명기재(10) 중 어느 한 측에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)와 상기 투명기재(10) 중 다른 한 측에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하는 것을 일 예로 한다.7, the touch screen panel according to an embodiment of the present invention further includes a transparent substrate 10 spaced apart from the touch screen panel cover base material 11, The X-axis sensing circuit unit 21 includes a plurality of X-axis electrodes spaced apart from each other and disposed on either one of the touch screen panel cover substrate 11 and the transparent substrate 10, And a Y-axis sensing circuit unit 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart from each other and provided on the other side of the touch screen panel cover substrate 11 and the transparent substrate 10 .

상기 터치 스크린 패널의 일면에는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 하나가 구비되고, 상기 투명기재(10)의 일면에는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 하나가 구비된다. One surface of the touch screen panel is provided with one of the X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 and the X-axis sensing circuit portion 21 and the Y And the other one of the axis sensing circuit portions 22 is provided.

상기 터치스크린 패널 커버기재(11)는 일면에 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 하나가 일체로 구비되어 재료비를 절감하고, 높은 투명도를 제공하며 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다.The touch screen panel cover base material 11 is integrally provided on one surface of the X-axis sensing circuit unit 21 and the Y-axis sensing circuit unit 22 to reduce material cost, provide high transparency, The thickness can be reduced, and the weight of the touch screen panel can be reduced.

또한, 도 8을 참고하면, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 일면에 구비되는 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함할 수 있다.8, the touch sensing circuit electrode 20 includes an X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes spaced apart from each other in a lateral direction, which is provided on one surface of the touch screen panel cover base material 11 21 and a plurality of longitudinally spaced Y-axis electrodes.

상기 터치 감지용 회로전극은, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 일면에 함께 형성되어 재료비를 절감하고, 광학 특성을 향상시키며, 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다. The X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 are formed on one surface of the touch screen panel cover base material 11 to reduce material cost and improve optical characteristics The thickness of the touch screen panel can be reduced, and the weight of the touch screen panel can be reduced.

또한, 도 9를 참고하면, 상기 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 이격되게 배치되는 투명기재(10)를 더 포함하고, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하고, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 상기 투명기재(10)에서 동일면에 형성될 수 있다. 9, the touch screen panel according to an embodiment of the present invention further includes a transparent substrate 10 spaced apart from the touch screen panel cover base material 11, The sensing circuit electrode 20 includes an X-axis sensing circuit portion 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the lateral direction and a Y-axis sensing circuit portion 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction And the X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 may be formed on the same surface of the transparent substrate 10.

상기 터치 감지용 회로전극은, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 상기 투명기재(10)에서 동일면에 형성되어 재료비를 절감하고, 광학 특성을 향상시키며, 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다. The X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 are formed on the same surface of the transparent substrate 10 to reduce the material cost, improve the optical characteristics, The thickness of the panel can be reduced, and the weight of the touch screen panel can be reduced.

또한, 도 10을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 이격되게 배치되는 투명기재(10)를 더 포함하고, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 상기 투명기재(10)의 일면에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 상기 투명기재(10)의 타면에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함할 수 있다.10, the touch screen panel according to an embodiment of the present invention further includes a transparent substrate 10 spaced apart from the touch screen panel cover base material 11, The use circuit electrode 20 is provided on the other surface of the transparent substrate 10 and includes an X-axis sensing circuit unit 21 including a plurality of X-axis electrodes disposed on one surface of the transparent substrate 10, And a Y-axis sensing circuit portion 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction.

상기 반사 방지층(30)은, 상기 투명기재(10)의 일면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 하나와 상기 투명기재(10)의 사이에 배치되는 제1반사 방지층(31); 및 상기 투명기재(10)의 타면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 하나에 적층되는 제2반사 방지층(32)을 포함한다. The antireflection layer 30 is provided on one surface of the transparent substrate 10 and disposed between one of the X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 and the transparent substrate 10 A first antireflection layer (31); And a second antireflection layer 32 provided on the other surface of the transparent substrate 10 and stacked on the other of the X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22.

상기 반사 방지층(30)은 빛의 반사를 방지하기 위해 터치 스크린 패널에서 터치 스크린 커버기재 측에 배치되어야 하므로, 상기 투명기재(10)의 양면에 각각 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 구비되는 경우 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 상기 디스플레이 패널유닛(40)을 향하는 측에 상기 제1반사 방지층(31)이 배치되도록 하고, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 터치스크린 패널 커버기재(11)를 향하는 측에 상기 제2반사 방지층(32)이 배치되도록 한다.Since the anti-reflection layer 30 is disposed on the touch screen cover substrate side in the touch screen panel to prevent reflection of light, the X-axis sensing circuit unit 21 and the Y- When the sensing circuit 22 is provided, the first anti-reflection layer 31 is disposed on the side of the X-axis sensing circuit unit 21 and the Y-axis sensing circuit unit 22 facing the display panel unit 40 , The second antireflection layer 32 is disposed on the side of the X-axis sensing circuit unit 21 and the Y-axis sensing circuit unit 22 facing the touch screen panel cover base material 11.

상기 투명기재(10)의 양면에는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 각각 구비되어 재료비를 절감하고, 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다. The X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 are provided on both sides of the transparent substrate 10 to reduce the material cost, reduce the thickness of the touch screen panel, The weight can be reduced.

상기 터치 감지용 회로전극은, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하고, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 상기 투명기재(10)에서 동일면에 형성된다.  The touch sensing circuit electrode includes an X-axis sensing circuit portion 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced laterally and a Y-axis sensing circuit portion 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction , The X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 are formed on the same surface of the transparent substrate 10.

도 11 및 도 12를 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, 투명기재(10)에 도전성 페이스트로 터치 스크린 패널에서 터치를 감지할 수 있는 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200); 및 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 소성하는 단계(S300)를 포함한다. 11 and 12, a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention includes a touch sensing circuit for sensing a touch on a touch screen panel with a conductive paste, Forming an electrode 20 (S200); And firing the touch sensing circuit electrode 20 (S300).

상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200)는, 도전성 페이스트를 스크린 인쇄하여 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 것이 바람직하며, 상기 스크린 인쇄는 경화속도가 빠르고 접착성 및 굴곡성이 우수하므로 미세 패턴 형성에 적합하며, 기설계된 터치 감지용 회로 패턴을 저렴한 비용으로 형성할 수 있다.In the step S200 of forming the touch sensing circuit electrode 20, it is preferable to form the circuit electrode 20 for the touch sensing by screen printing the conductive paste, It is suitable for forming a fine pattern, and it is possible to form a circuit pattern for touch sensing designed at a low cost.

상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200)는, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 상기 기재의 동일면에 형성할 수 있다. The step S200 of forming the touch sensing circuit electrode 20 includes an X-axis sensing circuit portion 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the lateral direction and a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction The Y-axis sensing circuit portion 22 can be formed on the same surface of the substrate.

또한, 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)를 더 포함하는 것이 바람직하다.The method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention may include forming an antireflection layer 30 on the transparent substrate 10 or the touch sensing circuit electrode 20 to prevent reflection of light (Step S100).

상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는, 상기 터치 감지용 회로전극(20)를 형성하는 단계 이전에 상기 투명기재(10)에 반사 방지층(30)을 형성하는 것을 일 예로 한다. The step of forming the antireflection layer 30 may include forming the antireflection layer 30 on the transparent substrate 10 prior to the step of forming the touch sensing circuit electrode 20.

상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는, 진공 증착으로 상기 반사 방지층(30)을 형성할 수 있고, 상기 진공증착은 열증착(Evaporation), 이빔(ebeam)증착, 레이저(laser) 증착, 스퍼터링(Sputtering), 아크이온플레이팅(Arc Ion Plating), 스퍼터링(Sputtering) 중 어느 하나이며, 타겟재료로 구리, 니켈, 크롬, 텅스텐, 몰리브덴, 알루미늄 등의 금속 또는, 구리, 니켈, 크롬, 텅스텐, 몰리브덴, 알루미늄 중 적어도 두개가 혼합된 합금을 사용하는 것을 일 예로 한다.The step of forming the antireflection layer 30 may include forming the antireflection layer 30 by vacuum deposition. The vacuum deposition may be performed by evaporation, ebeam deposition, laser, A metal such as copper, nickel, chromium, tungsten, molybdenum or aluminum, or a metal such as copper, nickel, chromium, or the like is used as a target material. , Tungsten, molybdenum, and aluminum is used as an example.

상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는, 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 상기 산화층 또는 질화층을 형성하는 과정을 포함할 수 있다.The step S100 of forming the antireflection layer 30 may include forming the oxide layer or the nitride layer on the transparent substrate 10 or the touch sensing circuit electrode 20. [

상기 산화층 또는 질화층을 형성하는 과정은, 티타늄, 크롬, 구리, 니켈, 알루미늄, 은 등의 금속 또는 탄소 등과 같은 타겟재료를 산소 가스 분위기 또는 질소 가스 분위기 상에서 스퍼터링하여 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 산화층 또는 질화층을 형성할 수 있다.The process of forming the oxide layer or the nitride layer may be performed by sputtering a target material such as titanium, chromium, copper, nickel, aluminum, silver or the like or carbon or the like in an oxygen gas atmosphere or a nitrogen gas atmosphere, An oxide layer or a nitride layer may be formed on the circuit electrode 20 for touch sensing.

상기 산화층 또는 질화층을 형성하는 과정은, 산화티타늄(TiO2), 산화크롬(CrO2), 산화구리(CuO), 산화니켈(NiO), 산화알루미늄(Al2O3), 산화은(AgO) 등의 산화체를 타겟재료로 스퍼터링하여 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 산화층을 형성할 수 있고, 질화티타늄(TiN) 또는 질화구리(CuN) 등의 질화체를 타겟재료로 스퍼터링하여 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 질화층을 형성할 수 있다.The process of forming the oxide layer or the nitrided layer may include a process of forming an oxide layer or a nitrided layer by using a metal oxide such as titanium oxide (TiO 2 ), chromium oxide (CrO 2 ), copper oxide (CuO), nickel oxide (NiO), aluminum oxide (Al 2 O 3 ) An oxide layer can be formed on the transparent substrate 10 or the touch sensing circuit electrode 20 and a nitride such as titanium nitride (TiN) or copper nitride (CuN) A nitride layer may be formed on the transparent substrate 10 or the touch sensing circuit electrode 20 by sputtering with a target material.

이는, 상기 산화층 또는 상기 질화층을 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 강하고 견고하게 부착시킬 수 있도록 하며, 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 상기 산화층 또는 상기 질화층을 기설정된 두께로 정확하게 형성하기 용이하다.This allows the oxide layer or the nitride layer to be firmly and firmly attached to the transparent substrate 10 or the touch sensing circuit electrode 20 and the transparent substrate 10 or the touch sensing circuit electrode 20 It is easy to accurately form the oxide layer or the nitride layer to a predetermined thickness.

상기 산화층 또는 상기 질화층은 반사율이 30% 이하로써, 전극의 반사에 의한 눈부심을 방지하며, 상기 터치 감지용 회로전극(20)과 상기 투명기재(10)와의 부착력을 강화시킨다. The oxide layer or the nitride layer has a reflectance of 30% or less, thereby preventing glare due to reflection of the electrode and enhancing adhesion between the touch sensing circuit electrode 20 and the transparent substrate 10.

상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는, 흑화된 도전성 페이스트로 스크린 인쇄하여 반사 방지층(30)을 형성하여 상기 소성하는 단계(S300)에서 상기 터치 감지용 회로전극(20)과 함께 소성하는 것이 바람직하다.The step of forming the antireflection layer 30 may include forming the antireflection layer 30 by screen printing with a blackened conductive paste and forming the antireflection layer 30 together with the touch sensing circuit electrode 20 in the firing step S300 It is preferable to calcine.

상기 반사 방지층(30)을 형성하는 흑화된 도전성 페이스트는 상기 소성하는 과정에서 상기 도전성 페이스트와 함께 소성되어 전극의 저항을 낮춘다.The blackened conductive paste forming the antireflection layer 30 is fired together with the conductive paste in the firing process to lower the resistance of the electrode.

상기 반사 방지층(30)은 빛의 반사를 방지할 뿐만 아니라 상기 투명기재(10)와 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 부착력을 증대시키므로 상기 투명기재(10)와 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 사이에 개재되는 것이 바람직하다. The antireflection layer 30 not only prevents reflection of light but also increases the adhesion between the transparent substrate 10 and the touch sensing circuit electrode 20 so that the transparent substrate 10 and the touch sensing circuit electrode 20).

상기 흑화된 도전성 페이스트는 상기에서 기재한 바, 중복 기재로 생략함을 밝혀둔다.It is to be noted that the blackened conductive paste is omitted as a duplicated substrate as described above.

상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200)와 상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는 도전성 페이스트를 이용한 스크린 인쇄를 통해 각각 동일한 터치 감지용 회로 패턴을 형성하여 상기 투명기재(10)에 적층 형성하여 제조 과정을 단순화하고 제조 비용을 절감한다. 또한, 상기 터치 감지용 회로전극(20) 및 상기 반사 방지층(30)을 형성하기 위해 상기 투명기재(10)의 한면에 도전성 페이스트로 인쇄되는 면적을 최소화하여 제조 비용을 더 절감할 수 있게 한다.The step S200 for forming the touch sensing circuit electrode 20 and the step S100 for forming the antireflection layer 30 may be performed by forming the same touch sensing circuit pattern through screen printing using a conductive paste, The transparent substrate 10 is laminated to simplify the manufacturing process and reduce the manufacturing cost. In addition, the area printed with the conductive paste on one surface of the transparent substrate 10 for forming the touch sensing circuit electrode 20 and the antireflection layer 30 is minimized, thereby further reducing the manufacturing cost.

상기 소성하는 단계(S300)는, 상기 투명기재(10)의 전위점(Tg) 이하이고, 200℃ ~ 600 ℃로 소성하는 것을 일 예로 한다. 상기 소성하는 단계(S300)는, 상기 투명기재(10)에 따라 온도를 조절하여 상기 투명기재(10)의 손상이나 변형없이 상기 도전성 페이스트가 소성되어 기설정된 저항값 이하의 터치 감지용 회로전극(20)으로 형성될 수 있도록 한다.The firing step S300 is performed at 200 占 폚 to 600 占 폚, which is equal to or lower than the potential point (Tg) of the transparent substrate 10 as an example. The firing step S300 may be performed by adjusting the temperature according to the transparent substrate 10 so that the conductive paste is fired without damaging or deforming the transparent substrate 10 so that the circuit electrodes for touch sensing 20).

일 예로, 상기 투명기재(10)가 폴리이미드(PI) 필름인 경우 200℃ ~ 450℃의 온도에서 소성하는 것이 바람직하다.For example, when the transparent substrate 10 is a polyimide (PI) film, it is preferable to perform baking at a temperature of 200 ° C to 450 ° C.

본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 식각하는 단계(S400)를 더 포함하는 것이 바람직하다.The method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention may further include a step S400 of etching the touch sensing circuit electrode 20.

상기 식각하는 단계(S400)는 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 식각하여 선폭을 줄임으로써 사람의 눈으로 인식이 불가한 미세한 폭을 가지도록 형성한다.The step of etching (S400) may be performed by etching the touch sensing circuit electrode 20 to reduce the line width so that the touch sensing circuit electrode 20 is formed to have a minute width that can not be recognized by human eyes.

상기 식각하는 단계(S400)는 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 식각하여 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 선폭이 15㎛ 이하에서 바람직하게는 3㎛ 이하의 선폭을 가지도록 한다.The step of etching (S400) etches the touch sensing circuit electrode 20 so that the line width of the touch sensing circuit electrode 20 is 15 占 퐉 or less, preferably 3 占 퐉 or less.

이는 스크린 인쇄를 통해 도전성 페이스트로 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 데 있어 선폭을 최소화하는 데 제한이 있어 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200)에서 기설계된 터치 감지용 회로패턴의 선폭보다 더 큰 선폭으로 형성한 후 상기 식각하는 단계(S400)에서 기설계된 터치 감지용 회로패턴의 선폭으로 형성하여 시인성을 확보하는 것이다.This is because there is a limitation in minimizing the line width in forming the circuit electrode 20 for the touch sensing with the conductive paste through the screen printing, and thus the touch (touch) designed in the step S200 of forming the touch sensing circuit electrode 20 The line width of the sensing circuit pattern is formed to be larger than the line width of the sensing circuit pattern, and then formed into the line width of the circuit pattern for touch sensing designed in step S400 to ensure visibility.

상기 식각하는 단계(S400)는, 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 포토레지스트층(2)를 적층 형성하는 과정(S410); 상기 포토레지스트층(2)을 노광 및 현상하여 상기 포토레지스트층(2) 중 터치 감지용 회로패턴에 대응되는 커버패턴(2a)을 형성하는 과정(S420); 상기 커버패턴(2a)에 의해 커버된 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 식각하는 과정(S430)을 포함할 수 있다.The step of etching (S400) comprises: (S410) forming a photoresist layer (2) on the touch sensing circuit electrode (20); (S420) of exposing and developing the photoresist layer (2) to form a cover pattern (2a) corresponding to the circuit pattern for touch sensing in the photoresist layer (2); And etching the touch sensing circuit electrode 20 covered by the cover pattern 2a (S430).

또한, 상기 식각하는 단계(S400)는, 식각된 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 적층된 커버패턴(2a)을 제거하는 과정(S440)을 더 포함할 수 있다.The etching step S400 may further include a step S440 of removing the cover pattern 2a laminated on the etched touch sensing circuit electrode 20.

더 상세하게, 상기 커버패턴(2a)을 형성하는 과정(S420)은 상기 포토레지스트층(2)에 상기 터치 감지용 회로패턴에 대응되는 패턴구멍이 형성된 마스크(3)로 상기 포토레지스트 층을 커버한 후 노광하여 빛이 가해진 부분만 경화시켜 현상액에 의해 용해되지 않도록 변화시키고, 빛이 가해지지 않은 부분은 현상액에 의해 용해되도록 한 것이다. 즉, 상기 포토레지스트층(2)에서 상기 패턴구멍에 대응되는 부분 즉, 커버패턴(2a)만 남기고 나머지 부분은 상기 현상액에 의해 용해되어 제거된다. More specifically, in the step S420 of forming the cover pattern 2a, the photoresist layer 2 is covered with a mask 3 having a pattern hole corresponding to the touch sensing circuit pattern, And then exposed to light to change only the portion to which the light is applied so as not to be dissolved by the developing solution, and the portion to which light is not applied is dissolved by the developing solution. That is, the portion corresponding to the pattern hole in the photoresist layer 2, that is, only the cover pattern 2a remains, and the remaining portion is dissolved and removed by the developer.

상기 포토레지스트층(2)은, 드라이 필름 또는 포토레지스트액을 도포하여 형성된 것일 수 있다.The photoresist layer 2 may be formed by applying a dry film or a photoresist liquid.

상기 포토레지스트층(2)은 스프레잉, 코터, 그라비아 및 전기방사로 형성할 수 있다.The photoresist layer 2 may be formed by spraying, coater, gravure and electrospinning.

상기 전기방사는 전기방사 감광층을 1 ~ 10㎛로 형성한다. 상기 전기 방사는 전기방사용 노즐과, 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 상기 전기전원을 인가한 상태에서 상기 전기방사용 노즐로 감광성 고분자 용액을 압축공기와 분사하여 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 상에 전기방사 감광층을 형성한다.The electrospinning forms the electrosensitive photosensitive layer to 1 to 10 mu m. Wherein the electrospinning comprises a nozzle for spraying the photosensitive polymer solution with the compressed air by means of the nozzle for spraying with the electric power source applied to the circuit electrode for touch sensing 20, 20 to form an electrosensitive photosensitive layer.

상기 전기 방사는 분사되는 감광성 고분자에 전하가 포함되므로, 상기 감광성 고분자 용액이 분사되면서 응집되지 않고 분산이 원활하여 5㎛ 이하의 박막으로 전기방사 감광층을 형성할 수 있다. Since the electrospinning contains electric charges in the photosensitive polymer to be injected, the photosensitive polymer solution is sprayed and is not agglomerated and smoothly dispersed, so that an electrosensitive photosensitive layer can be formed with a thin film having a thickness of 5 탆 or less.

또한, 상기 전기 방사는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 전기 전원을 인가한 상태로 상기 터치 감지용 회로전극(20) 상에 전기방사 감광층을 형성하므로, 상기 감광성 고분제 용액이 방사되면서 생성된 감광제 섬유가 전위차에 의해 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 균일하게 도포되고, 강하게 부착되어 도포된다.In addition, since the electrospinning layer is formed on the touch sensing circuit electrode 20 with the electric power applied to the touch sensing circuit electrode 20, The generated photosensitizer fibers are uniformly applied to the touch sensing circuit electrode 20 by a potential difference, and are strongly adhered and applied.

전기 방사로 전기방사 감광층을 형성한 경우 전기 방사로 도포된 상기 전기방사 감광층을 경화시켜야 하며, 상기 전기방사 감광층을 자외선(UV) 경화, 레이저(Laser) 경화, 이빔(ebeam) 경화 등의 방법으로 경화한다.When the electrospinning photosensitive layer is formed by electrospinning, the electrospinning photosensitive layer applied by electrospinning must be cured. The electrospinning photosensitive layer may be cured by ultraviolet (UV) curing, laser curing, ebeam curing .

한편, 도 13 및 도 14를 참고하면, 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200)는, 상기 투명기재(10)의 한면에 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21)와 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22) 중 어느 하나를 인쇄하는 제1회로전극 형성과정(S210); 상기 투명기재(10)의 다른 한면에 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 또는 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 하나를 인쇄하는 제2회로전극 형성과정(S220);을 포함한다.13 and 14, the step S200 of forming the touch sensing circuit electrode 20 includes a step of forming a plurality of X-axis electrodes spaced laterally from one surface of the transparent substrate 10 A first circuit electrode forming step (S210) of printing any one of the X-axis sensing circuit part (21) and the Y-axis sensing circuit part (22) including a plurality of Y-axis electrodes spaced in the longitudinal direction; Axis sensing circuit portion 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced laterally on the other surface of the transparent substrate 10 or a Y-axis sensing circuit portion 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction And a second circuit electrode forming process (S220) for printing another one.

상기 제1회로전극 형성과정(S210)과, 상기 제2회로전극 형성과정(S220)은 도전성 페이스트로 스크린 인쇄를 통해 상기 투명기재(10)의 양면에 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)를 각각 형성한다.The first circuit electrode forming process S210 and the second circuit electrode forming process S220 may be performed by screen printing with a conductive paste on both surfaces of the transparent substrate 10 so that the X- Axis sensing circuit portion 22 are formed.

또한, 상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는, 상기 제1회로전극 형성과정(S210) 이전에 상기 투명기재(10)의 한면에 빛의 반사를 방지하는 제1반사 방지층(31)을 형성하는 과정(S110); 및 상기 제2회로전극 형성과정(S220) 후 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 하나에 빛의 반사를 방지하는 제2반사 방지층(32)을 형성하는 과정(S230)을 포함한다.The step of forming the antireflection layer 30 may include forming a first antireflection layer 31 for preventing reflection of light on one surface of the transparent substrate 10 before the first circuit electrode forming process S210 (S110); And forming a second antireflection layer (32) on the other of the X-axis sensing circuit part (21) and the Y-axis sensing circuit part (22) after the second circuit electrode forming step (S220) (S230).

상기 제1반사 방지층(31)을 형성하는 과정(S110)과 상기 제2반사 방지층(32)을 형성하는 과정(S230)은 흑화된 도전성 페이스트로 스크린 인쇄를 통해 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)에 각각 대응되는 형상으로 상기 제1반사 방지층(31)과 상기 제2반사 방지층(32)을 각각 형성하는 것이 바람직하다.The process of forming the first antireflection layer 31 and the process of forming the second antireflection layer 32 may be performed by screen printing with the blackened conductive paste to form the X- It is preferable to form the first antireflection layer 31 and the second antireflection layer 32 in a shape corresponding to the Y-axis sensing circuit portion 22, respectively.

상기 반사 방지층(30)은 빛의 반사를 방지하기 위해 터치 스크린 패널에서 터치 스크린 커버기재 측에 배치되어야 하므로, 상기 투명기재(10)의 양면에 각각 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 구비되는 경우 상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 어느 한측과 상기 투명기재(10)와의 사이에 상기 제1반사 방지층(31)이 형성되도록 하고, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 한측에 상기 제2반사 방지층(32)이 적층되도록 형성한다. Since the anti-reflection layer 30 is disposed on the touch screen cover substrate side in the touch screen panel to prevent reflection of light, the X-axis sensing circuit unit 21 and the Y- When the sensing circuit 22 is provided, the step S100 of forming the antireflection layer 30 may be performed by either one of the X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22, And the second antireflection layer 32 is formed on the other side of the X-axis sensing circuit portion 21 and the Y-axis sensing circuit portion 22 so that the first antireflection layer 31 is formed between the X- .

상기 식각하는 단계(S400)는, 상기 투명기재(10)의 양면에 형성된 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)를 각각 식각하며, 그 방법은 상기에서 기재한 바 중복 기재로 생략함을 밝혀둔다.The etching step S400 etches the X-axis sensing circuit 21 and the Y-axis sensing circuit 22 formed on both sides of the transparent substrate 10, It is omitted.

본 발명은 센싱용 회로전극을 도전성 페이스트로 인쇄하여 형성하므로 제조 과정이 간단하고 제조 비용을 절감하는 효과가 있다.Since the sensing circuit electrode is formed by printing with conductive paste, the manufacturing process is simple and the manufacturing cost is reduced.

본 발명은 연성 기판에 비저항 특성과 투과도가 우수한 센싱용 회로전극을 형성하여 플렉시블 디스플레이에 적용이 안정적으로 적용이 가능하고, 플렉시블 디스플레이의 안정적인 터치 속도와 멀티 터치를 통해 제품의 신뢰성을 확보하는 효과가 있다.The present invention is advantageous in that it can be applied to a flexible display in a stable manner by forming a circuit electrode for sensing having a high resistivity and a high transmittance on a flexible substrate and securing the reliability of the product through the stable touch speed of the flexible display and multi- have.

이와 같은 본 발명의 기본적인 기술적 사상의 범주 내에서, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서는 다른 많은 변형이 가능함은 물론이고, 본 발명의 권리범위는 첨부한 특허청구 범위에 기초하여 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications, and variations will be apparent to those skilled in the art in light of the above teachings. will be.

10 : 투명기재 11 : 터치스크린 패널 커버기재
12 : 제1투명기재 13 : 제2투명기재
20 : 터치 감지용 회로전극 21 : X축 센싱회로부
22 : Y축 센싱회로부 30 : 반사 방지층
31 : 제1반사 방지층 32 : 제2반사 방지층
40 : 디스플레이 패널유닛 50 : 투명 접착층10: transparent substrate 11: touch screen panel cover substrate
12: first transparent substrate 13: second transparent substrate
20: circuit electrode for touch detection 21: X-axis sensing circuit
22: Y-axis sensing circuit part 30: antireflection layer
31: first antireflection layer 32: second antireflection layer
40: display panel unit 50: transparent adhesive layer

Claims (25)

투명기재;
상기 투명기재에 구비되며, 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극을 포함하며,
상기 터치 감지용 회로전극은, 도전성 페이스트를 소성하여 형성한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.Transparent substrate;
And a touch sensing circuit electrode formed on the transparent substrate and configured to sense a touch on the touch screen panel,
Wherein the touch sensing circuit electrode is formed by firing a conductive paste. 제1항에 있어서,
상기 도전성 페이스트는 은분말과, 폴리머레진, 솔벤트를 포함한 은페이스트이며,
상기 은페이스트는 은분말 73wt% ~ 88wt%, 폴리머레진 5.9wt% ~ 9.5wt%, 솔벤트 5.7wt% ~ 18.0wt%를 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.The method according to claim 1,
The conductive paste is a silver paste including a silver powder, a polymer resin, and a solvent,
Wherein the silver paste includes 73wt% to 88wt% of silver powder, 5.9wt% to 9.5wt% of polymer resin, and 5.7wt% to 18.0wt% of solvent. 제1항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로전극은,
횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부; 및
종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함하고,
상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부가 상기 투명기재에서 동일면에 형성된 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.The method according to claim 1,
Wherein the touch sensing circuit electrode comprises:
An X-axis sensing circuit portion including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a lateral direction; And
And a Y-axis sensing circuit portion including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction,
Wherein the X-axis sensing circuit part and the Y-axis sensing circuit part are formed on the same surface of the transparent substrate. 제1항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로전극에 적층되어 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층;을 더 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.The method according to claim 1,
And an anti-reflection layer laminated on the touch sensing circuit electrode to prevent reflection of light. 제1항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로전극은,
상기 투명기재의 양면 중 어느 한면에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부; 및
상기 투명기재의 양면 중 어느 다른 한면에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.The method according to claim 1,
Wherein the touch sensing circuit electrode comprises:
An X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes disposed on one of both surfaces of the transparent substrate and spaced apart in a lateral direction; And
And a Y-axis sensing circuit portion including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart from each other in a longitudinal direction of the transparent substrate. 제5항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로전극에 적층되어 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층;을 더 포함하며,
상기 반사 방지층은,
상기 투명기재의 일면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부 중 하나와 상기 투명기재의 사이에 배치되는 제1반사 방지층; 및
상기 투명기재의 타면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부 중 다른 하나에 적층되는 제2반사 방지층을 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.6. The method of claim 5,
And an anti-reflection layer laminated on the touch sensing circuit electrode to prevent reflection of light,
The anti-
A first antireflection layer provided on one side of the transparent substrate, the first antireflection layer being disposed between one of the X-axis sensing circuit portion and the Y-axis sensing circuit portion and the transparent substrate; And
And a second anti-reflection layer provided on the other surface of the transparent substrate and stacked on the other of the X-axis sensing circuit portion and the Y-axis sensing circuit portion. 제4항 또는 제6항에 있어서,
상기 반사 방지층은, 흑화된 도전성 잉크 또는 흑화된 도전성 페이스트로 소성되어 형성된 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.The method according to claim 4 or 6,
Wherein the antireflection layer is formed by firing a blackened conductive ink or a blackened conductive paste. 제4항 또는 제6항에 있어서,
상기 반사 방지층은, 도전성 물질을 진공 증착하여 형성된 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.The method according to claim 4 or 6,
Wherein the antireflection layer is formed by vacuum-depositing a conductive material. 제4항 또는 제6항에 있어서,
상기 반사 방지층은, 구리를 열증착하여 형성된 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서. The method according to claim 4 or 6,
Wherein the antireflection layer is formed by thermal evaporation of copper. 제4항 또는 제6항에 있어서,
상기 반사 방지층은, 산화층 또는 질화층인 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서. The method according to claim 4 or 6,
Wherein the antireflection layer is an oxide layer or a nitride layer. 제1항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로전극은 메탈 메쉬 구조인 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서. The method according to claim 1,
Wherein the touch sensing circuit electrode is a metal mesh structure. 투명기재에 도전성 페이스트로 터치 스크린 패널에서 터치를 감지할 수 있는 터치 감지용 회로전극을 형성하는 단계; 및
상기 터치 감지용 회로전극을 소성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.Forming a circuit electrode for touch sensing capable of sensing a touch on a touch screen panel with a conductive paste on a transparent substrate; And
And firing the touch sensing circuit electrode. 제12항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로전극을 식각하는 단계를 더 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.13. The method of claim 12,
The method of claim 1, further comprising etching the touch sensing circuit electrode. 제13항에 있어서,
상기 식각하는 단계는,
상기 터치 감지용 회로전극에 포토레지스트층을 적층 형성하는 과정;
상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 상기 포토레지스트층 중 터치 감지용 회로패턴에 대응되는 커버패턴을 형성하는 과정; 및
상기 커버패턴에 의해 커버된 상기 터치 감지용 회로전극을 식각하는 과정을 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.14. The method of claim 13,
Wherein the step of etching comprises:
Forming a photoresist layer on the circuit electrode for touch sensing;
Exposing and developing the photoresist layer to form a cover pattern corresponding to a circuit pattern for touch detection in the photoresist layer; And
And etching the touch sensing circuit electrode covered by the cover pattern. ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI > 제12항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로 전극을 형성하는 단계는,
도전성 페이스트를 스크린 인쇄하여 터치 감지용 회로 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.13. The method of claim 12,
The step of forming the touch sensing circuit electrode may include:
Wherein the conductive paste is screen-printed to form a circuit electrode for touch sensing. 제12항에 있어서,
상기 투명기재 또는 상기 터치 감지용 회로전극에 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.13. The method of claim 12,
Further comprising the step of forming an antireflection layer on the transparent substrate or the touch sensing circuit electrode to prevent reflection of light. 제16항에 있어서,
상기 반사 방지층을 형성하는 단계는, 진공 증착으로 상기 반사 방지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.17. The method of claim 16,
Wherein the step of forming the antireflection layer comprises forming the antireflection layer by vacuum deposition. 제16항에 있어서,
상기 반사 방지층을 형성하는 단계는,
상기 투명기재 또는 상기 터치 감지용 회로전극에 상기 산화층 또는 질화층을 형성하는 과정을 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.17. The method of claim 16,
The step of forming the anti-
And forming the oxide layer or the nitride layer on the transparent substrate or the touch sensing circuit electrode. 제16항에 있어서,
상기 반사 방지층을 형성하는 단계는,
흑화된 도전성 페이스트로 스크린 인쇄하여 반사 방지층을 형성하여 상기 소성하는 단계에서 상기 터치 감지용 회로전극과 함께 소성하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.17. The method of claim 16,
The step of forming the anti-
And forming an antireflection layer by screen printing with a blackened conductive paste, and firing the touch sensing circuit electrode together with the touch sensing circuit electrode in the firing step. 화면을 출력하는 디스플레이 패널유닛; 및
상기 디스플레이 패널유닛의 화면을 커버하여 보호하는 터치스크린 패널 커버기재;
상기 디스플레이 패널유닛과 상기 터치스크린 패널 커버기재의 사이에 개재되며 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극을 포함하며,
상기 터치 감지용 회로전극은, 도전성 페이스트를 소성하여 형성한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.A display panel unit for outputting a screen; And
A touch screen panel cover substrate for covering and protecting a screen of the display panel unit;
And a touch sensing circuit electrode interposed between the display panel unit and the touch screen panel cover substrate to detect a touch on the touch screen panel,
Wherein the touch sensing circuit electrode is formed by firing a conductive paste. 제20항에 있어서,
상기 터치스크린 패널 커버기재의 사이에 이격되게 배치되는 투명기재를 더 포함하고,
상기 터치 감지용 회로전극은, 상기 터치스크린 패널 커버기재와 상기 투명기재 중 어느 한 측에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부; 및
상기 터치스크린 패널 커버기재와 상기 투명기재 중 다른 한 측에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.21. The method of claim 20,
Further comprising a transparent substrate spaced apart from the touch screen panel cover substrate,
The touch sensing circuit electrode includes an X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes disposed on either the touch screen panel cover substrate or the transparent substrate and spaced apart from each other in a lateral direction; And
And a Y-axis sensing circuit unit including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart from each other in the longitudinal direction, the Y-axis sensing circuit unit being provided on the other side of the touch screen panel cover substrate and the transparent substrate. 제20항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로전극은, 상기 터치스크린 패널 커버기재의 일면에 구비되는 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.21. The method of claim 20,
The touch sensing circuit electrode includes an X-axis sensing circuit portion including a plurality of X-axis electrodes spaced apart from each other and provided on one surface of the touch screen panel cover substrate, and a Y-axis sensing circuit portion including a plurality of Y- And a sensing circuit unit. 제20항에 있어서,
상기 터치스크린 패널 커버기재의 사이에 이격되게 배치되는 투명기재를 더 포함하고,
상기 터치 감지용 회로전극은, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함하고, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부가 상기 투명기재에서 동일면에 형성한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.21. The method of claim 20,
Further comprising a transparent substrate spaced apart from the touch screen panel cover substrate,
The touch sensing circuit electrode includes an X-axis sensing circuit portion including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the lateral direction and a Y-axis sensing circuit portion including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction, And the Y-axis sensing circuit portion are formed on the same surface of the transparent substrate. 제20항에 있어서,
상기 터치스크린 패널 커버기재의 사이에 이격되게 배치되는 투명기재를 더 포함하고,
상기 터치 감지용 회로전극은,
상기 투명기재의 일면에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부; 및
상기 투명기재의 타면에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.21. The method of claim 20,
Further comprising a transparent substrate spaced apart from the touch screen panel cover substrate,
Wherein the touch sensing circuit electrode comprises:
An X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes disposed on one side of the transparent substrate and spaced apart in a lateral direction; And
And a Y-axis sensing circuit part including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart from each other in the longitudinal direction, the Y-axis sensing circuit part being provided on the other surface of the transparent substrate. 제20항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로전극에 적층되어 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층;을 더 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.21. The method of claim 20,
And an anti-reflection layer laminated on the touch sensing circuit electrode to prevent reflection of light.
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