KR20140102797A

KR20140102797A - 표시 기판, 이를 제조하기 위한 마스크 및 이의 제조 방법

Info

Publication number: KR20140102797A
Application number: KR1020130016086A
Authority: KR
Inventors: 허철; 강민정; 곽창훈
Original assignee: 삼성디스플레이 주식회사
Priority date: 2013-02-15
Filing date: 2013-02-15
Publication date: 2014-08-25
Also published as: JP6568338B2; EP2767865B1; US9632347B2; CN103995380A; JP2014157349A; EP2767865A1; US20140232970A1; KR102001839B1; CN103995380B

Abstract

표시 기판은 베이스 기판 및 광 차단부재를 포함한다. 광 차단부재는 베이스 기판 상에 형성된다. 광 차단부재는 제1 광 차단부, 제2 광 차단부 및 컬럼 스페이서부를 포함한다. 제1 광 차단부는 제1 높이의 상면을 갖는다. 제2 광 차단부는 제1 광 차단부와 이웃하고 제1 높이보다 낮은 제2 높이의 상면을 갖는다. 컬럼 스페이서부는 제2 광 차단부와 이웃하고 제1 높이보다 높은 제3 높이의 상면을 갖는다.

Description

표시 기판, 이를 제조하기 위한 마스크 및 이의 제조 방법 {DISPLAY SUBSTRATE, MASK FOR MANUFACTURING THE SAME, METHOD OF MANUFACTURING THE DISPLAY SUBSTRATE}

본 발명은 표시 기판, 이를 제조하기 위한 마스크 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 표시 품질을 향상시키기 위한 표시 기판, 이의 제조 방법 및 상기 표시 기판을 포함하는 표시 패널에 관한 것이다.

일반적으로, 액정 표시 장치는 액정의 광 투과율을 이용하여 영상을 표시하는 표시 패널 및 상기 표시 패널로 광을 제공하는 광원 모듈을 포함한다. 예를 들어, 상기 광원 모듈은 백라이트 어셈블리일 수 있다.

상기 표시 패널은 박막 트랜지스터를 갖는 제1 표시 기판, 컬러필터들을 갖는 제2 표시 기판 및 상기 제1 표시 기판 및 상기 제2 표시 기판 사이에 개재된 액정층을 포함한다.

상기 표시 패널은 표시 영역 및 비 표시 영역을 포함한다. 상기 제1 및 제2 표시 기판 중 적어도 하나에는 상기 비 표시 영역을 차단하기 위한 광 차단 패턴이 배치된다. 또한, 상기 제1 및 제2 표시 기판 중 적어도 하나에는 상기 제1 및 제2 표시 기판의 간격을 유지하기 위한 컬럼 스페이서가 배치된다.

제조 공정의 단순화를 위해 상기 광 차단 패턴 및 상기 컬럼 스페이서는 하나의 공정에서 동시에 형성될 수 있다. 그러나 상기 광 차단 패턴과 상기 컬럼 스페이서를 동시에 형성할 때, 상기 광 차단 패턴과 상기 컬럼 스페이서의 경계가 불명확하게 되어 상기 컬럼 스페이서의 높이가 균일하게 형성되지 않고, 눌림 특성이 악화되는 문제점이 있다.

이에, 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로 본 발명의 목적은 광 차단부와 컬럼 스페이서부의 경계를 명확히 정의하여 컬럼 스페이서부의 높이의 균일성 및 눌림 특성을 향상시키는 표시 기판을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 상기 표시 기판을 제조하기 위한 마스크를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 표시 기판의 제조 방법을 제공하는 것이다.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 표시 기판은 베이스 기판 및 광 차단부재를 포함한다. 상기 광 차단부재는 상기 베이스 기판 상에 형성된다. 상기 광 차단부재는 제1 광 차단부, 제2 광 차단부 및 컬럼 스페이서부를 포함한다. 상기 제1 광 차단부는 제1 높이의 상면을 갖는다. 상기 제2 광 차단부는 상기 제1 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 높이보다 낮은 제2 높이의 상면을 갖는다. 상기 컬럼 스페이서부는 상기 제2 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 높이보다 높은 제3 높이의 상면을 갖는다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 광 차단부, 상기 제2 광 차단부 및 상기 컬럼 스페이서부는 일체로 형성될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 광 차단부는 상기 제1 광 차단부로부터 상기 컬럼 스페이서부로 갈수록 점점 더 깊어질 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 광 차단부의 폭은 5㎛보다 작거나 같을 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 광 차단부는 상기 컬럼 스페이서부의 둘레를 감쌀 수 있다. 상기 제1 광 차단부는 상기 제2 광 차단부의 둘레를 감쌀 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 컬럼 스페이서부는 평면도 상에서 원형을 가질 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 광 차단부재는 상기 제1 높이보다 높고 상기 제3 높이보다 낮은 제4 높이의 상면을 갖는 제2 컬럼 스페이서부를 더 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 광 차단부재는 상기 제1 광 차단부 및 상기 제2 컬럼 스페이서부 사이에 배치되는 제3 광 차단부를 더 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제3 광 차단부는 상기 제1 광 차단부로부터 상기 제2 컬럼 스페이서부로 갈수록 점점 더 깊어질 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 제3 광 차단부의 폭은 5㎛보다 작거나 같을 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제3 광 차단부의 깊이는 상기 제2 광 차단부의 깊이보다 깊을 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 베이스 기판 상에는 게이트 라인 및 데이터 라인이 형성될 수 있다. 상기 광 차단부재는 상기 게이트 라인 및 상기 데이터 라인을 커버할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 컬럼 스페이서부는 상기 게이트 라인에 대응하는 위치에 배치될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 베이스 기판 상에는 복수의 컬러 필터들이 형성될 수 있다. 상기 광 차단부재는 상기 컬러 필터들 사이를 커버할 수 있다.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 표시 기판은 베이스 기판 및 광 차단부재를 포함한다. 상기 광 차단부재는 상기 베이스 기판 상에 형성된다. 상기 광 차단부재는 제1 광 차단부, 제2 광 차단부 및 컬럼 스페이서부를 포함한다. 상기 제1 광 차단부는 제1 두께를 갖는다. 상기 제2 광 차단부는 상기 제1 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 두께보다 작은 제2 두께를 갖는다. 상기 컬럼 스페이서부는 상기 제2 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 광 차단부보다 돌출된다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 광 차단부, 상기 제2 광 차단부 및 상기 컬럼 스페이서부는 일체로 형성된다.

상기한 본 발명의 다른 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 표시 기판용 마스크는 제1 영역, 제2 영역 및 제3 영역을 포함한다. 상기 제1 영역은 제1 광 투과율을 갖는다. 상기 제2 영역은 상기 제1 영역과 이웃하여 배치되고 상기 제1 광 투과율보다 낮은 제2 광 투과율을 갖는다. 상기 제3 영역은 상기 제2 영역과 이웃하여 배치되고 상기 제1 광 투과율보다 높은 제3 광 투과율을 갖는다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 광 투과율은 0일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제3 광 투과율은 100%일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제2 영역은 상기 제3 영역의 둘레를 감쌀 수 있다. 상기 제1 영역은 상기 제2 영역의 둘레를 감쌀 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제3 영역은 평면도 상에서 원형을 가질 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 마스크는 상기 제1 영역에 이웃하여 배치되고 상기 제1 광 투과율보다 낮은 제4 광 투과율을 갖는 제4 영역 및 상기 제4 영역과 이웃하여 배치되고 상기 제1 광 투과율보다 높은 제5 광 투과율을 갖는 제5 영역을 더 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제5 광 투과율은 상기 제3 광 투과율보다 낮을 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제4 광 투과율은 상기 제2 광 투과율과 동일할 수 있다.

상기한 본 발명의 다른 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 표시 기판의 제조 방법은 마스크를 이용하여 베이스 기판 상에 제1 높이의 상면을 갖는 제1 광 차단부, 상기 제1 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 높이보다 낮은 제2 높이의 상면을 갖는 제2 광 차단부 및 상기 제2 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 높이보다 높은 제3 높이의 상면을 갖는 컬럼 스페이서부를 형성할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 마스크는 상기 제1 광 차단부에 대응하는 제1 영역, 상기 제2 광 차단부에 대응하는 제2 영역 및 상기 컬럼 스페이서부에 대응하는 제3 영역을 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 제1 영역은 제1 광 투과율을 가질 수 있다. 상기 제2 영역은 상기 제1 광 투과율보다 낮은 제2 광 투과율을 가질 수 있다. 상기 제3 영역은 상기 제1 광 투과율보다 높은 제3 광 투과율을 가질 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 표시 기판의 제조 방법은 상기 베이스 기판 상에 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 광 차단부재는 상기 게이트 라인 및 상기 데이터 라인을 커버할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 표시 기판의 제조 방법은 상기 베이스 기판 상에 복수의 컬러 필터들을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 광 차단부재는 상기 컬러 필터들 사이를 커버할 수 있다.

이와 같은 표시 기판, 상기 표시 기판을 제조하기 위한 마스크 및 상기 표시 기판의 제조 방법에 따르면, 상기 광 차단부와 상기 컬럼 스페이서부의 경계가 명확히 정의되어, 상기 컬럼 스페이서부의 높이의 균일성 및 눌림 특성을 향상시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널을 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1의 A 부분을 나타내는 단면도이다.
도 3은 도 1의 광 차단부재를 형성하기 위한 마스크를 나타내는 평면도이다.
도 4는 도 1의 제1 표시 기판을 나타내는 평면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널을 나타내는 단면도이다.
도 6은 도 5의 B 부분을 나타내는 단면도이다.
도 7은 도 5의 광 차단부재를 형성하기 위한 마스크를 나타내는 평면도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 패널을 나타내는 단면도이다.
도 9는 도 8의 C 부분을 나타내는 단면도이다.
도 10은 도 8의 제2 표시 기판을 나타내는 평면도이다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 패널을 나타내는 단면도이다.
도 12는 도 11의 D 부분을 나타내는 단면도이다.

이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널을 나타내는 단면도이다. 도 2는 도 1의 A 부분을 나타내는 단면도이다. 도 3은 도 1의 광 차단부재를 형성하기 위한 마스크를 나타내는 평면도이다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 표시 패널은 제1 표시 기판(110) 및 제2 표시 기판(120)을 포함한다. 상기 표시 패널은 상기 제1 표시 기판(110) 및 상기 제2 표시 기판(120) 사이에 개재된 액정층(미도시)을 더 포함할 수 있다.

본 실시예에서, 상기 제1 표시 기판(110) 상에 광 차단부재(BCS1)가 배치된다. 상기 광 차단부재(BCS1)는 광 차단부(BM) 및 컬럼 스페이서부(CS)를 포함한다.

상기 광 차단부(BM)는 상기 표시 패널의 비 표시 영역에 대응하여 광을 차단한다. 예를 들어, 상기 광 차단부(BM)는 블랙 매트릭스일 수 있다. 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 상기 제1 표시 기판(110)과 상기 제2 표시 기판(120)의 이격 간격을 유지할 수 있다.

상기 광 차단부(BM)는 제1 광 차단부(BM1) 및 제2 광 차단부(BM2)를 포함한다.

상기 제1 광 차단부(BM1)의 상면은 상기 광 차단부(BM)의 하면으로부터 제1 높이(H1)를 갖는다. 상기 제1 광 차단부(BM1)는 제1 두께(BH1)를 갖는다.

상기 제2 광 차단부(BM2)는 상기 제1 광 차단부(BM2)와 이웃하여 배치된다. 상기 제2 광 차단부(BM2)의 상면은 상기 광 차단부(BM)의 하면으로부터 제2 높이(H2)를 갖는다. 상기 제2 높이(H2)는 상기 제1 높이(H1)보다 낮다. 상기 제2 광 차단부(BM2)는 제2 두께(BH2)를 갖는다. 상기 제2 두께(BH2)는 상기 제1 두께(BH1)보다 작다.

상기 컬럼 스페이서부(CS)는 상기 제2 광 차단부(BM2)와 이웃하여 배치된다. 상기 컬럼 스페이서부(CS)의 상면은 상기 광 차단부(BM)의 하면으로부터 제3 높이(H3)를 갖는다. 상기 제3 높이(H3)는 상기 제1 높이(H1)보다 높다.

상기 제1 광 차단부(BM1), 상기 제2 광 차단부(BM2) 및 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 동일한 공정에서 동시에 형성된다. 상기 제1 광 차단부(BM1), 상기 제2 광 차단부(BM2) 및 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 일체로 형성된다. 따라서, 상기 제1 광 차단부(BM1) 및 상기 제2 광 차단부(BM2) 및 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 동일한 재료를 포함할 수 있다.

예를 들어, 상기 제1 광 차단부(BM1) 및 상기 제2 광 차단부(BM2) 및 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 포토 레지스트 공정을 통해 형성될 수 있다.

상기 제1 광 차단부(BM1) 및 상기 제2 광 차단부(BM2) 및 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 포토 레지스트 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 광 차단부(BM1) 및 상기 제2 광 차단부(BM2) 및 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 네거티브 포토 레지스트 물질을 포함할 수 있다.

상기 제2 광 차단부(BM2)는 상기 제1 광 차단부(BM1)로부터 상기 컬럼 스페이서부(CS)로 갈수록 점점 더 깊어질 수 있다.

상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W) 및 상기 제2 광 차단부(BM2)의 깊이는 적절히 조절될 수 있다. 상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W)은 상기 컬럼 스페이서부(CS)의 높이의 균일성 확보 및 눌림 특성의 향상을 위해 적절히 조절될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W)은 5㎛보다 작거나 같을 수 있다.

상기 제2 광 차단부(BM2)의 깊이는 상기 제2 광 차단부(BM2)의 광 차단 특성이 유지될 수 있도록 적절히 조절될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 광 차단부(BM2)의 광학 밀도(optical density)는 적어도 2.0 이상일 수 있다.

상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W) 및 깊이는 상기 제2 광 차단부(BM2)에 대응하는 마스크의 폭 및 마스크의 투과율 등에 의해 조절될 수 있다.

상기 제2 광 차단부(BM2)는 상기 컬럼 스페이서부(CS)의 둘레를 감쌀 수 있다. 상기 제1 광 차단부(BM1)는 상기 제2 광 차단부(BM2)의 둘레를 감쌀 수 있다.

예를 들어, 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 평면도 상에서 원형을 가질 수 있다. 이와는 달리, 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 평면도 상에서 정사각형 형상을 가질 수 있다. 이와는 달리, 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 평면도 상에서 정삼각형 형상을 가질 수 있다. 이와는 달리, 상기 컬럼 스페이서부(CS)는 평면도 상에서 비등방형을 가질 수 있다.

예를 들어, 상기 제2 광 차단부(BM2)는 평면도 상에서 상기 컬럼 스페이서부(CS)를 감싸는 원형을 가질 수 있다. 이와는 달리, 상기 제2 광 차단부(BM2)는 평면도 상에서 상기 컬럼 스페이서부(CS)를 감싸는 정사각형 형상을 가질 수 있다. 이와는 달리, 상기 제2 광 차단부(BM2)는 평면도 상에서 상기 컬럼 스페이서부(CS)를 감싸는 정삼각형 형상을 가질 수 있다. 이와는 달리, 상기 제2 광 차단부(BM2)는 평면도 상에서 상기 컬럼 스페이서부(CS)를 감싸는 비등방형을 가질 수 있다.

상기 광 차단부(BM) 상에는 복수의 상기 컬럼 스페이서부(CS)가 형성될 수 있다. 본 실시예에서, 상기 컬럼 스페이서부(CS)들의 높이는 실질적으로 동일할 수 있다.

도 3은 도 1의 광 차단부재를 형성하기 위한 마스크를 나타내는 평면도이다.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 상기 마스크(M1)는 제1 영역(P1), 제2 영역(P2) 및 제3 영역(P3)을 포함한다. 상기 광 차단부재(BCS1)는 상기 마스크(M1)를 이용하여 포토 레지스트 공정을 통해 형성된다. 예를 들어, 상기 광 차단부재(BCS1)는 네거티브 포토 레지스트 물질을 포함할 수 있다.

상기 제1 영역(P1)은 상기 제1 광 차단부(BM1)에 대응하는 형상을 갖는다. 상기 제1 영역(P1)은 제1 광 투과율을 갖는다. 예를 들어, 상기 제1 영역(P1)은 광을 부분적으로 투과시키는 하프톤부일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 광 투과율은 30%일 수 있다.

상기 제2 영역(P2)은 상기 제2 광 차단부(BM2)에 대응하는 형상을 갖는다. 상기 제2 영역(P2)은 상기 제1 영역(P1)과 이웃하여 배치된다. 상기 제2 영역(P2)은 제2 광 투과율을 갖는다. 상기 제2 광 투과율은 상기 제1 광 투과율보다 낮다. 예를 들어, 상기 제2 영역(P2)은 광을 완전히 차단할 수 있다. 상기 제2 광 투과율은 0일 수 있다.

상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W)은 상기 제2 영역(P2)의 폭(WM)에 의해 결정될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W)은 상기 마스크(M1)를 통과하는 광의 회절 현상에 의해 상기 제2 영역(P2)의 폭(WM)보다 크거나 같을 수 있다.

상기 제3 영역(P3)은 상기 컬럼 스페이서부(CS)에 대응하는 형상을 갖는다. 상기 제3 영역(P3)은 상기 제2 영역(P2)과 이웃하여 배치된다. 상기 제3 영역(P3)은 제3 광 투과율을 갖는다. 상기 제3 광 투과율은 상기 제1 광 투과율보다 높다. 예를 들어, 상기 제3 영역(P3)은 광을 완전히 통과시킬 수 있다. 상기 제3 광 투과율은 100%일 수 있다.

상기 제2 영역(P2)은 상기 제3 영역(P3)의 둘레를 감쌀 수 있다. 상기 제1 영역(P1)은 상기 제2 영역(P2)의 둘레를 감쌀 수 있다.

예를 들어, 상기 제3 영역(P3)은 평면도 상에서 원형을 가질 수 있다.

도 4는 도 1의 제1 표시 기판(110)을 나타내는 평면도이다.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 상기 제1 표시 기판(110) 상에는 복수의 게이트 라인(GL) 및 복수의 데이터 라인(DL)이 형성될 수 있다. 상기 게이트 라인(GL)은 제1 방향(D1)으로 연장될 수 있다. 상기 데이터 라인(DL)은 상기 제1 방향(D1)과 교차하는 제2 방향(D2)으로 연장될 수 있다.

상기 제1 표시 기판(110) 상에는 상기 게이트 라인들(GL) 및 상기 데이터 라인들(DL)에 연결되는 복수의 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)들이 형성될 수 있다.

상기 제2 표시 기판(120)은 광원부로부터 제공되는 광을 소정의 색으로 발현시키는 컬러 필터들을 포함하는 컬러 필터 기판일 수 있다. 상기 제2 표시 기판(120)은 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터를 포함할 수 있다.

예를 들어, 상기 제1 컬러 필터는 적색 컬러 필터(R)이고, 상기 제2 컬러 필터는 녹색 컬러 필터(G)이며, 상기 제3 컬러 필터는 청색 컬러 필터(B)일 수 있다.

본 실시예에서, 상기 광 차단부재(BCS1)는 상기 제1 표시 기판(110) 상에 배치된다. 상기 광 차단부재(BCS1)는 상기 게이트 라인(GL) 및 상기 데이터 라인(DL)을 커버한다.

상기 광 차단부재(BCS1)는 상기 게이트 라인(GL)을 커버하는 게이트 광 차단부와 상기 데이터 라인(DL)을 커버하는 데이터 광 차단부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 게이트 광 차단부의 두께가 상기 데이터 광 차단부보다 클 수 있다.

상기 컬럼 스페이서부(CS)는 광 차단부재(BCS1) 내에서 상기 게이트 라인(GL)에 대응하는 위치에 형성될 수 있다.

본 실시예에서, 상기 박막 트랜지스터들은 상기 제1 표시 기판(110) 상에 형성되고, 상기 컬러 필터들은 상기 제2 표시 기판(120) 상에 형성되며, 상기 광 차단부재(BCS1)는 상기 박막 트랜지스터들이 형성되는 상기 제1 표시 기판(110) 상에 형성된다. 이와는 달리, 상기 박막 트랜지스터들 및 상기 컬러 필터들은 상기 제1 표시 기판(110) 상에 형성되고, 상기 광 차단부재(BCS1)는 상기 박막 트랜지스터들 및 상기 컬러 필터들이 형성되는 상기 제1 표시 기판(110) 상에 형성될 수 있다.

본 실시예에 따르면, 상기 마스크(M1)는 상기 제1 영역(P1)보다 광 투과율이 낮은 상기 제2 영역(P2)을 포함하고, 상기 제2 영역(P2)에 의해 상기 제1 광 차단부(BM1)보다 두께가 작은 상기 제2 광 차단부(BM2)가 형성된다. 따라서, 상기 광 차단부(BM)와 상기 컬럼 스페이서부(CS)의 경계가 명확히 정의되고, 상기 컬럼 스페이서부(CS)의 높이(CSH)의 균일성이 향상되며, 상기 컬럼 스페이서부(CS)의 공정 관리가 용이해지고, 상기 컬럼 스페이서부(CS)의 높이(CSH)가 증가하며, 상기 컬럼 스페이서부(CS)의 눌림 특성이 향상된다.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널을 나타내는 단면도이다. 도 6은 도 5의 B 부분을 나타내는 단면도이다.

본 실시예에 따른 표시 기판, 마스크 및 표시 기판의 제조 방법은 제1 표시 기판 상에 메인 컬럼 스페이서와 서브 컬럼 스페이서가 형성되는 것을 제외하면, 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명한 상기 표시 기판, 마스크 및 표시 기판의 제조 방법과 동일하다. 따라서, 동일한 구성요소는 동일한 도면부호를 부여하고, 반복되는 설명은 생략한다.

도 5 및 도 6을 참조하면, 상기 표시 패널은 제1 표시 기판(110) 및 제2 표시 기판(120)을 포함한다. 상기 표시 패널은 상기 제1 표시 기판(110) 및 상기 제2 표시 기판(120) 사이에 개재된 액정층(미도시)을 더 포함할 수 있다.

본 실시예에서, 상기 제1 표시 기판(110) 상에 광 차단부재(BCS2)가 배치된다. 상기 광 차단부재(BCS2)는 광 차단부(BM), 제1 컬럼 스페이서부(MCS) 및 제2 컬럼 스페이서부(SCS)를 포함한다.

제1 컬럼 스페이서부(MCS)는 상기 제2 광 차단부(BM2)와 이웃하여 배치된다. 상기 제2 광 차단부(BM2)의 상면은 상기 광 차단부(BM)의 하면으로부터 제3 높이(H3)를 갖는다. 상기 제3 높이(H3)는 상기 제1 높이(H1)보다 높다.

제2 컬럼 스페이서부(SCS)는 상기 광 차단부(BM)의 하면으로부터 제4 높이(H4)를 갖는다. 상기 제4 높이(H4)는 상기 제1 높이(H1)보다 높다. 반면, 상기 제4 높이(H4)는 상기 제3 높이(H3)보다 낮다.

예를 들어, 상기 제1 컬럼 스페이서부(MCS)는 메인 컬럼 스페이서부이고, 상기 제2 컬럼 스페이서부(SCS)는 서브 컬럼 스페이서부일 수 있다.

상기 광 차단부(BM)는 상기 제1 광 차단부(BM1) 및 상기 제2 컬럼 스페이서부(SCS) 사이에 배치되는 제3 광 차단부(BM3)를 더 포함한다. 상기 제3 광 차단부(BM3)의 상면은 상기 광 차단부(BM)의 하면으로부터 제5 높이(H5)를 갖는다. 상기 제5 높이(H5)는 상기 제1 높이(H1)보다 낮다. 예를 들어, 상기 제5 높이(H5)는 상기 제2 높이(H2)보다 낮을 수 있다. 상기 제3 광 차단부(BM3)는 제3 두께(BH3)를 갖는다. 상기 제3 두께(BH3)는 상기 제1 두께(BH1)보다 작다. 예를 들어, 상기 제3 두께(BH3)는 상기 제2 두께(BH2)보다 작을 수 있다.

상기 제2 광 차단부(BM2)는 상기 제1 광 차단부(BM1)로부터 상기 제1 컬럼 스페이서부(MCS)로 갈수록 점점 더 깊어질 수 있다. 이와 유사하게, 상기 제3 광 차단부(BM3)는 상기 제1 광 차단부(BM1)로부터 상기 제2 컬럼 스페이서부(SCS)로 갈수록 점점 더 깊어질 수 있다.

상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W1) 및 상기 제2 광 차단부(BM2)의 깊이는 적절히 조절될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W1)은 5㎛보다 작거나 같을 수 있다.

상기 제3 광 차단부(BM3)의 폭(W2) 및 상기 제3 광 차단부(BM3)의 깊이는 적절히 조절될 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 광 차단부(BM3)의 폭(W2)은 5㎛보다 작거나 같을 수 있다.

예를 들어, 상기 제3 광 차단부(BM3)의 폭(W2)은 상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W1)과 동일할 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 광 차단부(BM3)의 깊이는 상기 제2 광 차단부(BM2)의 깊이보다 깊을 수 있다.

예를 들어, 상기 제2 광 차단부(BM2)의 광학 밀도(optical density)는 적어도 2.0 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 광 차단부(BM3)의 광학 밀도(optical density)는 적어도 2.0 이상일 수 있다.

상기 제3 광 차단부(BM3)는 상기 제2 컬럼 스페이서부(SCS)의 둘레를 감쌀 수 있다. 상기 제1 광 차단부(BM1)는 상기 제3 광 차단부(BM3)의 둘레를 감쌀 수 있다.

예를 들어, 상기 제2 컬럼 스페이서부(SCS)는 평면도 상에서 원형을 가질 수 있다. 이와는 달리, 상기 제2 컬럼 스페이서부(SCS)는 평면도 상에서 정사각형 형상을 가질 수 있다. 이와는 달리, 상기 제2 컬럼 스페이서부(SCS)는 평면도 상에서 정삼각형 형상을 가질 수 있다. 이와는 달리, 상기 제2 컬럼 스페이서부(SCS)는 평면도 상에서 비등방형을 가질 수 있다.

도 7은 도 5의 광 차단부재를 형성하기 위한 마스크를 나타내는 평면도이다.

도 4 내지 도 7을 참조하면, 상기 마스크(M2)는 제1 영역(P1), 제2 영역(P2), 제3 영역(P3), 제4 영역(P4) 및 제5 영역(P5)을 포함한다. 상기 광 차단부재(BCS2)는 상기 마스크(M2)를 이용하여 포토 레지스트 공정을 통해 형성된다. 예를 들어, 상기 광 차단부재(BCS2)는 네거티브 포토 레지스트 물질을 포함할 수 있다.

상기 제1 영역(P1)은 상기 제1 광 차단부(BM1)에 대응하는 형상을 갖는다. 상기 제1 영역(P1)은 제1 광 투과율을 갖는다. 예를 들어, 상기 제1 영역(P1)은 광을 부분적으로 투과시키는 제1 하프톤부일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 광 투과율은 30%일 수 있다.

상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W1)은 상기 제2 영역(P2)의 폭(WM1)에 의해 결정될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 광 차단부(BM2)의 폭(W1)은 상기 제2 영역(P2)의 폭(WM1)보다 크거나 같을 수 있다.

상기 제3 영역(P3)은 상기 제1 컬럼 스페이서부(MCS)에 대응하는 형상을 갖는다. 상기 제3 영역(P3)은 상기 제2 영역(P2)과 이웃하여 배치된다. 상기 제3 영역(P3)은 제3 광 투과율을 갖는다. 상기 제3 광 투과율은 상기 제1 광 투과율보다 높다. 예를 들어, 상기 제3 영역(P3)은 광을 완전히 통과시킬 수 있다. 상기 제3 광 투과율은 100%일 수 있다.

상기 제4 영역(P4)은 상기 제3 광 차단부(BM3)에 대응하는 형상을 갖는다. 상기 제4 영역(P4)은 상기 제1 영역(P1)과 이웃하여 배치된다. 상기 제4 영역(P4)은 제4 광 투과율을 갖는다. 상기 제4 광 투과율은 상기 제1 광 투과율보다 낮다. 예를 들어, 상기 제4 광 투과율은 상기 제2 광 투과율과 동일할 수 있다. 예를 들어, 상기 제4 영역(P4)은 광을 완전히 차단할 수 있다. 상기 제4 광 투과율은 0일 수 있다.

상기 제3 광 차단부(BM3)의 폭(W2)은 상기 제4 영역(P4)의 폭(WM2)에 의해 결정될 수 있다. 예를 들어, 상기 제3 광 차단부(BM3)의 폭(W2)은 상기 제4 영역(P4)의 폭(WM2)보다 크거나 같을 수 있다.

상기 제5 영역(P5)은 상기 제2 컬럼 스페이서부(SCS)에 대응하는 형상을 갖는다. 상기 제5 영역(P5)은 상기 제4 영역(P4)과 이웃하여 배치된다. 상기 제5 영역(P5)은 제5 광 투과율을 갖는다. 상기 제5 광 투과율은 상기 제1 광 투과율보다 높다. 예를 들어, 상기 제5 광 투과율은 상기 제3 광 투과율보다 낮을 수 있다. 예를 들어, 상기 제5 영역(P5)은 광을 부분적으로 투과시키는 제2 하프톤부일 수 있다. 예를 들어, 상기 제5 광 투과율은 47%일 수 있다.

예를 들어, 상기 제3 광 차단부(BM3)의 깊이는 상기 제2 광 차단부(BM2)의 깊이보다 깊을 수 있다. 상기 제5 영역(P5)의 광 투과율이 상기 제3 영역(P3)의 광 투과율보다 낮으므로, 상기 제5 영역(P5)에 인접한 상기 제4 영역(P4)의 누설광이 상기 제3 영역(P3)에 인접한 상기 제2 영역(P2)의 누설광보다 적다. 따라서, 상기 제3 광 차단부(BM3)가 상기 제2 광 차단부(BM2)에 비해 더욱 깊이 파일 수 있다.

상기 제4 영역(P4)은 상기 제5 영역(P5)의 둘레를 감쌀 수 있다. 상기 제1 영역(P1)은 상기 제4 영역(P4)의 둘레를 감쌀 수 있다.

예를 들어, 상기 제5 영역(P5)은 평면도 상에서 원형을 가질 수 있다.

본 실시예에서, 상기 광 차단부재(BCS2)는 상기 제1 표시 기판(110) 상에 배치된다. 상기 광 차단부재(BCS2)는 상기 게이트 라인(GL) 및 상기 데이터 라인(DL)을 커버한다.

본 실시예에 따르면, 상기 마스크(M2)는 상기 제1 영역(P1)보다 광 투과율이 낮은 상기 제2 영역(P2) 및 상기 제4 영역(P4)을 포함하고, 상기 제2 영역(P2) 및 제4 영역(P4)에 의해 상기 제1 광 차단부(BM1)보다 두께가 작은 상기 제2 광 차단부(BM2) 및 상기 제3 광 차단부(BM3)가 형성된다. 따라서, 상기 광 차단부(BM)와 상기 제1 및 제2 컬럼 스페이서부(MCS, SCS)의 경계가 명확히 정의되고, 상기 제1 및 제2 컬럼 스페이서부(MCS, SCS)의 높이(MCSH, SCSH)의 균일성이 향상되며, 상기 제1 및 제2 컬럼 스페이서부(MCS, SCS)의 공정 관리가 용이해지고, 상기 제1 및 제2 컬럼 스페이서부(MCS, SCS)의 높이(MCSH, SCSH)가 증가하며, 상기 제1 및 제2 컬럼 스페이서부(MCS, SCS)의 눌림 특성이 향상된다.

도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 패널을 나타내는 단면도이다. 도 9는 도 8의 C 부분을 나타내는 단면도이다.

본 실시예에 따른 표시 기판, 마스크 및 표시 기판의 제조 방법은 제2 표시 기판 상에 컬럼 스페이서가 형성되는 것을 제외하면, 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명한 상기 표시 기판, 마스크 및 표시 기판의 제조 방법과 동일하다. 따라서, 동일한 구성요소는 동일한 도면부호를 부여하고, 반복되는 설명은 생략한다.

도 3, 도 8 및 도 9를 참조하면, 상기 표시 패널은 제1 표시 기판(110) 및 제2 표시 기판(120)을 포함한다. 상기 표시 패널은 상기 제1 표시 기판(110) 및 상기 제2 표시 기판(120) 사이에 개재된 액정층(미도시)을 더 포함할 수 있다.

본 실시예에서, 상기 제2 표시 기판(120) 상에 광 차단부재(BCS3)가 배치된다. 상기 광 차단부재(BCS3)는 광 차단부(BM) 및 컬럼 스페이서부(CS)를 포함한다.

상기 컬럼 스페이서부(CS)는 상기 제2 광 차단부(BM2)와 이웃하여 배치된다. 상기 제2 광 차단부(BM2)의 상면은 상기 광 차단부(BM)의 하면으로부터 제3 높이(H3)를 갖는다. 상기 제3 높이(H3)는 상기 제1 높이(H1)보다 높다.

상기 광 차단부재(BCS3)는 도 3의 마스크(M1)를 이용하여 포토 레지스트 공정을 통해 형성된다. 상기 마스크(M1)는 상기 제1 광 차단부(BM1)에 대응하는 제1 영역(P1), 상기 제2 광 차단부(BM2)에 대응하는 제2 영역(P2) 및 상기 컬럼 스페이서부(CS)에 대응하는 제3 영역(P3)을 포함한다.

도 10은 도 8의 제2 표시 기판을 나타내는 평면도이다.

도 8 내지 도 10을 참조하면, 상기 제1 표시 기판(110) 상에는 복수의 게이트 라인(GL) 및 복수의 데이터 라인(DL)이 형성될 수 있다.

본 실시예에서, 상기 광 차단부재(BCS3)는 상기 제2 표시 기판(120) 상에 배치된다. 상기 광 차단부재(BCS3)는 상기 컬러 필터들(R, G, B) 사이를 커버한다. 예를 들어, 상기 광 차단부재(BCS3)는 제1 방향(D1)을 따라 상기 컬러 필터들(R, G, B) 사이를 커버하고, 상기 제1 방향(D1)과 교차하는 제2 방향(D2)을 따라 상기 컬러 필터들(R, G, B) 사이를 커버한다.

상기 광 차단부재(BCS3)는 상기 제1 표시 기판(110)의 상기 게이트 라인(GL)에 대응하는 게이트 광 차단부와 상기 제1 표시 기판(110)의 데이터 라인(DL)에 대응하는 데이터 광 차단부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 게이트 광 차단부의 두께가 상기 데이터 광 차단부보다 클 수 있다.

상기 컬럼 스페이서부(CS)는 광 차단부재(BCS3) 내에서 상기 게이트 라인(GL)에 대응하는 위치에 형성될 수 있다.

본 실시예에서, 상기 박막 트랜지스터들은 상기 제1 표시 기판(110) 상에 형성되고, 상기 컬러 필터들은 상기 제2 표시 기판(120) 상에 형성되며, 상기 광 차단부재(BCS3)는 상기 컬러 필터들이 형성되는 상기 제2 표시 기판(120) 상에 형성된다. 이와는 달리, 상기 박막 트랜지스터들 및 상기 컬러 필터들은 상기 제2 표시 기판(120) 상에 형성되고, 상기 광 차단부재(BCS3)는 상기 박막 트랜지스터들 및 상기 컬러 필터들이 형성되는 상기 제2 표시 기판(120) 상에 형성될 수 있다.

도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 패널을 나타내는 단면도이다. 도 12는 도 11의 D 부분을 나타내는 단면도이다.

본 실시예에 따른 표시 기판, 마스크 및 표시 기판의 제조 방법은 제2 표시 기판 상에 메인 컬럼 스페이서 및 서브 컬럼 스페이서가 형성되는 것을 제외하면, 도 5 내지 도 7을 참조하여 설명한 상기 표시 기판, 마스크 및 표시 기판의 제조 방법과 동일하다. 따라서, 동일한 구성요소는 동일한 도면부호를 부여하고, 반복되는 설명은 생략한다.

도 7, 도 10 내지 도 12를 참조하면, 상기 표시 패널은 제1 표시 기판(110) 및 제2 표시 기판(120)을 포함한다. 상기 표시 패널은 상기 제1 표시 기판(110) 및 상기 제2 표시 기판(120) 사이에 개재된 액정층(미도시)을 더 포함할 수 있다.

본 실시예에서, 상기 제2 표시 기판(120) 상에 광 차단부재(BCS4)가 배치된다. 상기 광 차단부재(BCS4)는 광 차단부(BM) 및 컬럼 스페이서부(CS)를 포함한다.

상기 광 차단부재(BCS4)는 도 7의 마스크(M2)를 이용하여 포토 레지스트 공정을 통해 형성된다. 상기 마스크(M2)는 상기 제1 광 차단부(BM1)에 대응하는 제1 영역(P1), 상기 제2 광 차단부(BM2)에 대응하는 제2 영역(P2), 상기 제1 컬럼 스페이서부(MCS)에 대응하는 제3 영역(P3), 상기 제3 광 차단부(BM3)에 대응하는 제4 영역(P4), 상기 제2 컬럼 스페이서부(SCS)에 대응하는 제5 영역(P5)을 포함한다.

본 실시예에서, 상기 광 차단부재(BCS4)는 상기 제2 표시 기판(120) 상에 배치된다. 상기 광 차단부재(BCS4)는 상기 컬러 필터들(R, G, B) 사이를 커버한다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 표시 기판은 광 차단부와 컬럼 스페이서부의 경계가 명확히 정의된다. 따라서, 상기 컬럼 스페이서부의 높이의 균일성 및 눌림 특성을 향상시킬 수 있다.

이상에서는 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

110: 제1 기판 120: 제2 기판
BCS1, BCS2, BCS3, BCS4: 광 차단부재
BM: 광 차단부 BM1: 제1 광 차단부
BM2: 제2 광 차단부 BM3: 제3 광 차단부
CS: 컬럼 스페이서부 MCS: 제1 컬럼 스페이서부
SCS: 제2 컬럼 스페이서부 M1, M2: 마스크
P1: 제1 영역 P2: 제2 영역
P3: 제3 영역 P4: 제4 영역
P5: 제5 영역

Claims

베이스 기판; 및
상기 베이스 기판 상에 형성되며, 제1 높이의 상면을 갖는 제1 광 차단부, 상기 제1 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 높이보다 낮은 제2 높이의 상면을 갖는 제2 광 차단부 및 상기 제2 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 높이보다 높은 제3 높이의 상면을 갖는 컬럼 스페이서부를 포함하는 광 차단부재를 포함하는 표시 기판.
제1항에 있어서, 상기 제1 광 차단부, 상기 제2 광 차단부 및 상기 컬럼 스페이서부는 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제1항에 있어서, 상기 제2 광 차단부는 상기 제1 광 차단부로부터 상기 컬럼 스페이서부로 갈수록 점점 더 깊어지는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제1항에 있어서, 상기 제2 광 차단부의 폭은 5㎛보다 작거나 같은 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제1항에 있어서, 상기 제2 광 차단부는 상기 컬럼 스페이서부의 둘레를 감싸고,
상기 제1 광 차단부는 상기 제2 광 차단부의 둘레를 감싸는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제5항에 있어서, 상기 컬럼 스페이서부는 평면도 상에서 원형을 갖는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제1항에 있어서, 상기 광 차단부재는 상기 제1 높이보다 높고 상기 제3 높이보다 낮은 제4 높이의 상면을 갖는 제2 컬럼 스페이서부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제7항에 있어서, 상기 광 차단부재는 상기 제1 광 차단부 및 상기 제2 컬럼 스페이서부 사이에 배치되는 제3 광 차단부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제8항에 있어서, 상기 제3 광 차단부는 상기 제1 광 차단부로부터 상기 제2 컬럼 스페이서부로 갈수록 점점 더 깊어지는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제8항에 있어서, 상기 제3 광 차단부의 폭은 5㎛보다 작거나 같은 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제8항에 있어서, 상기 제3 광 차단부의 깊이는 상기 제2 광 차단부의 깊이보다 깊은 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제1항에 있어서, 상기 베이스 기판 상에는 게이트 라인 및 데이터 라인이 형성되고,
상기 광 차단부재는 상기 게이트 라인 및 상기 데이터 라인을 커버하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제12항에 있어서, 상기 컬럼 스페이서부는 상기 게이트 라인에 대응하는 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제1항에 있어서, 상기 베이스 기판 상에는 복수의 컬러 필터들이 형성되고,
상기 광 차단부재는 상기 컬러 필터들 사이를 커버하는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
베이스 기판; 및
상기 베이스 기판 상에 형성되며, 제1 두께를 갖는 제1 광 차단부, 상기 제1 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 두께보다 작은 제2 두께를 갖는 제2 광 차단부 및 상기 제2 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 광 차단부보다 돌출된 컬럼 스페이서부를 포함하는 광 차단부재를 포함하는 표시 기판.
제15항에 있어서, 상기 제1 광 차단부, 상기 제2 광 차단부 및 상기 컬럼 스페이서부는 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시 기판.
제1 광 투과율을 갖는 제1 영역;
상기 제1 영역과 이웃하여 배치되고 상기 제1 광 투과율보다 낮은 제2 광 투과율을 갖는 제2 영역; 및
상기 제2 영역과 이웃하여 배치되고 상기 제1 광 투과율보다 높은 제3 광 투과율을 갖는 제3 영역을 포함하는 표시 기판용 마스크.
제17항에 있어서, 상기 제2 광 투과율은 0인 것을 특징으로 하는 마스크.
제17항에 있어서, 상기 제3 광 투과율은 100%인 것을 특징으로 하는 마스크.
제17항에 있어서, 상기 제2 영역은 상기 제3 영역의 둘레를 감싸고,
상기 제1 영역은 상기 제2 영역의 둘레를 감싸는 것을 특징으로 하는 마스크.
제20항에 있어서, 상기 제3 영역은 평면도 상에서 원형을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크.
제17항에 있어서, 상기 제1 영역에 이웃하여 배치되고 상기 제1 광 투과율보다 낮은 제4 광 투과율을 갖는 제4 영역; 및
상기 제4 영역과 이웃하여 배치되고 상기 제1 광 투과율보다 높은 제5 광 투과율을 갖는 제5 영역을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
제22항에 있어서, 상기 제5 광 투과율은 상기 제3 광 투과율보다 낮은 것을 특징으로 하는 마스크.
제22항에 있어서, 상기 제4 광 투과율은 상기 제2 광 투과율과 동일한 것을 특징으로 하는 마스크.
마스크를 이용하여 베이스 기판 상에 제1 높이의 상면을 갖는 제1 광 차단부, 상기 제1 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 높이보다 낮은 제2 높이의 상면을 갖는 제2 광 차단부 및 상기 제2 광 차단부와 이웃하고 상기 제1 높이보다 높은 제3 높이의 상면을 갖는 컬럼 스페이서부를 형성하는 표시 기판의 제조 방법.
제25항에 있어서, 상기 제1 광 차단부, 상기 제2 광 차단부 및 상기 컬럼 스페이서부는 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
제25항에 있어서, 상기 제2 광 차단부는 상기 제1 광 차단부로부터 상기 컬럼 스페이서부로 갈수록 점점 더 깊어지는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
제25항에 있어서, 상기 제2 광 차단부의 폭은 5㎛보다 작거나 같은 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
제25항에 있어서, 상기 마스크는 상기 제1 광 차단부에 대응하는 제1 영역, 상기 제2 광 차단부에 대응하는 제2 영역 및 상기 컬럼 스페이서부에 대응하는 제3 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
제29항에 있어서, 상기 제1 영역은 제1 광 투과율을 갖고,
상기 제2 영역은 상기 제1 광 투과율보다 낮은 제2 광 투과율을 가지며,
상기 제3 영역은 상기 제1 광 투과율보다 높은 제3 광 투과율을 갖는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
제30항에 있어서, 상기 제2 광 투과율은 0인 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
제30항에 있어서, 상기 제3 광 투과율은 100%인 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
제25항에 있어서, 상기 베이스 기판 상에 게이트 라인 및 데이터 라인을 형성하는 단계를 더 포함하고,
상기 광 차단부재는 상기 게이트 라인 및 상기 데이터 라인을 커버하는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
제33항에 있어서, 상기 컬럼 스페이서부는 상기 게이트 라인에 대응하는 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.
제25항에 있어서, 상기 베이스 기판 상에 복수의 컬러 필터들을 형성하는 단계를 더 포함하고,
상기 광 차단부재는 상기 컬러 필터들 사이를 커버하는 것을 특징으로 하는 표시 기판의 제조 방법.