KR20140075033A - 쉐도우 마스크 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 - Google Patents

쉐도우 마스크 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20140075033A
KR20140075033A KR1020120141964A KR20120141964A KR20140075033A KR 20140075033 A KR20140075033 A KR 20140075033A KR 1020120141964 A KR1020120141964 A KR 1020120141964A KR 20120141964 A KR20120141964 A KR 20120141964A KR 20140075033 A KR20140075033 A KR 20140075033A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
susceptor
shadow mask
mask frame
connecting member
Prior art date
Application number
KR1020120141964A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101936257B1 (ko
Inventor
최원조
우인근
이종찬
조준희
Original Assignee
주성엔지니어링(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주성엔지니어링(주) filed Critical 주성엔지니어링(주)
Priority to KR1020120141964A priority Critical patent/KR101936257B1/ko
Publication of KR20140075033A publication Critical patent/KR20140075033A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101936257B1 publication Critical patent/KR101936257B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 마스크 프레임과, 마스크 프레임 상에 마련된 적어도 하나의 마스크 스틱과, 마스크 프레임 및 마스크 스틱의 적어도 일 영역에 마련된 적어도 하나의 연결 부재를 포함하는 쉐도우 마스크 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제시한다.

Description

쉐도우 마스크 및 이를 구비하는 기판 처리 장치{Shadow mask and substrate processing apparatus having the same}
본 발명은 쉐도우 마스크에 관한 것으로, 특히 박막의 증착 균일도를 향상시킬 수 있고 사용 기간을 증가시킬 수 있는 쉐도우 마스크 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
유기 발광 소자(Organic Light Emitting Device; OLED)는 하부 전극과 상부 전극 사이에 유기물층이 마련되고, 두 전극을 통해 전류가 흐르면 두 전극으로부터 공급된 전자와 홀이 유기물층에서 결합하여 빛을 발생하는 능동형 발광 소자이다. 이러한 OLED는 얇고 가벼우며, 고휘도, 저전력 소비 등의 특성을 가져 다양한 분야로 적용되고 있다.
그런데, 유기 발광 소자 내부로 수분 및 산소가 침투하게 되면 유기물이 수분 및 산소에 의해 쉽게 산화되기 때문에 유기 발광 소자의 특성을 열화시킬 뿐만 아니라 수명을 감소시키게 된다. 따라서, 유기물층을 외부 환경으로부터 보호하기 위해 봉지 기술이 매우 중요하다. 봉지 기술로는 실리콘 옥사이드(SiO2)나 실리콘 나이트라이드(SiNx) 등의 박막을 다층으로 적층하여 봉지층을 형성하는 방법이 이용된다.
봉지층은 쉐도우 마스크를 이용하고, PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 공정으로 형성할 수 있다. 즉, 소정의 개방 영역이 형성된 쉐도우 마스크가 공정 챔버 내의 서셉터 상에 마련되어 개방 영역을 통해 공정 가스가 유입되어 기판 상의 선택 영역에 봉지층이 형성된다. 여기서, 쉐도우 마스크는 사각틀 형상의 마스크 프레임 상에 일 방향 및 타 방향으로 복수의 마스크 스틱이 형성되며, 마스크 스틱에 의해 복수의 개방 영역이 형성된다. 이러한 쉐도우 마스크는 서셉터에 안착되어 서셉터를 통해 접지된다.
그런데, 증착 공정 중 쉐도우 마스크가 서셉터와 이격될 수 있다. 쉐도우 마스크는 서셉터와 접촉됨으로써 접지될 수 있지만, 쉐도우 마스크가 서셉터와 이격되면 쉐도우 마스크는 플로팅 상태가 된다. 플로팅된 쉐도우 마스크에 의해 챔버 내부의 플라즈마 밀도, 전기장 등이 왜곡될 수 있다. 플라즈마 왜곡에 의해 기판 상에 증착되는 박막의 두께가 원하는 두께로 형성되지 않을 수 있다. 특히, 마스크 프레임과 마스크 스틱에 인접한 영역의 기판 상에 증착되는 박막의 두께가 다른 영역에 비해 얇게 증착될 수 있다. 따라서, 기판 상에 증착되는 박막의 두께 균일성이 저하된다.
또한, 쉐도우 마스크가 플로팅됨으로써 쉐도우 마스크에는 접지 상태를 유지할 경우보다 공정 가스에 의한 박막이 더 두껍게 증착된다. 이렇게 쉐도우 마스크에 증착된 박막을 제거하기 위해 클리닝 공정을 실시하게 되는데, 박막의 증착 두께가 두꺼워짐에 따라 클리닝 주기가 짧아지게 된다. 클리닝 횟수가 증가함에 따라 클리닝 가스에 의해 쉐도우 마스크가 손상(damage)될 수 있어 쉐도우 마스크의 사용 기간이 짧아지게 되고, 아킹(arcing)에도 취약한 문제점이 있다.
본 발명은 사용 기간을 길게 할 수 있고, 기판 상에 증착되는 박막의 두께 균일성을 향상시킬 수 있는 쉐도우 마스크 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 쉐도우 마스크가 서셉터과 이격되더라고 쉐도우 마스크를 확실하게 접지시킬 수 있어 상기 문제점을 해결할 수 있는 쉐도우 마스크 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 접지 라인이 마련되고, 접지 라인이 챔버와 연결됨으로써 쉐도우 마스크가 서셉터과 이격되더라고 쉐도우 마스크를 확실하게 접지시킬 수 있는 쉐도우 마스크 및 이를 구비하는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 일 양태에 따른 쉐도우 마스크는 마스크 프레임; 상기 마스크 프레임 상에 마련된 적어도 하나의 마스크 스틱; 및 상기 마스크 프레임 또는 마스크 스틱의 적어도 일 영역에 마련된 적어도 하나의 연결 부재를 포함한다.
상기 마스크 스틱은 서로 직교하는 일 방향 및 타 방향으로 적어도 하나 이상 마련된다.
상기 연결 부재는 상기 마스크 프레임의 측면으로부터 라인 형상으로 마련된다.
상기 연결 부재는 상기 마스크 스틱이 연결된 영역에 마련된다.
상기 연결 부재는 상기 마스크 프레임의 상면으로부터 라인 형상으로 마련된다.
상기 연결 부재는 상기 마스크 프레임 하측에 마련되며, 상기 연결 부재는 압축 및 복원 가능한 탄성 부재를 포함하여 마련될 수 있다.
상기 마스크 프레임의 적어도 일 측면에 마련된 저항, 캐패시터의 적어도 어느 하나를 더 포함한다.
본 발명의 다른 양태에 따른 기판 처리 장치는 챔버; 상기 챔버 내부에 마련되며 기판을 지지하는 서셉터; 상기 서셉터와 대향 마련되어 공정 가스를 분사하는 분사 수단; 상기 서셉터 상에 마련되며 상기 기판의 일부를 노출시키는 적어도 하나의 개구가 형성된 쉐도우 마스크를 포함하며, 상기 쉐도우 마스크는 상기 서셉터 상에 지지되는 마스크 프레임과, 상기 마스크 프레임 상에 마련된 적어도 하나의 마스크 스틱과, 상기 마스크 프레임 및 마스크 스틱의 적어도 일 영역에 마련되어 상기 챔버 또는 서셉터와 연결되는 적어도 하나의 연결 수단을 포함한다.
상기 서셉터와 상기 챔버의 내면을 연결하여 상기 서셉터를 접지시키기 위한 접지 수단을 더 포함한다.
상기 연결 부재는 상기 마스크 프레임의 상면 또는 측면에 마련되어 상기 챔버 내면 또는 서셉터 측면과 연결된다.
상기 연결 부재는 상기 마스크 프레임의 하면에 마련되어 상기 서셉터 상면과 연결된다.
본 발명의 실시 예들에 따른 쉐도우 마스크는 마스크 프레임의 측면 또는 상면의 적어도 일 영역으로부터 하측으로 연장되는 라인 형상의 연결 부재를 포함하고, 연결 부재는 쉐도우 마스크를 챔버 또는 서셉터를 연결하여 쉐도우 마스크를 접지시킨다.
따라서, 쉐도우 마스크가 서셉터와 이격되는 경우에도 연결 부재에 의해 쉐도우 마스크가 접지 상태를 유지할 수 있고, 쉐도우 마스크의 플로팅에 의해 발생되는 다양한 문제를 해결할 수 있다. 즉, 기판 상에 증착되는 박막의 두께 균일성을 향상시킬 수 있고, 클리닝 주기 증가에 따라 사용 주기를 증가시킬 수 있다. 또한, 아킹을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 쉐도우 마스크의 개략도.
도 2는 본 발명의 일 실시 예의 변형 예에 따른 쉐도우 마스크의 개략도.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 쉐도우 마스크가 이용된 기판 처리 장치의 단면도.
도 4는 본 발명의 일 실시 예의 다른 변형 예에 따른 쉐도우 마스크가 이용된 기판 처리 장치의 단면도.
도 5는 본 발명의 다른 실시 예들에 따른 쉐도우 마스크의 단면도.
도 6은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 쉐도우 마스크가 이용된 기판 처리 장치의 단면도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 쉐도우 마스크의 개략도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시 예의 변형 예에 따른 쉐도우 마스크의 개략도이다. 여기서, 도 1 및 도 2의 (a)는 쉐도우 마스크의 평면도이고, (b)는 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예들에 따른 쉐도우 마스크는 마스크 프레임(110)과, 적어도 하나의 마스크 스틱(120; 122, 124)과, 적어도 하나의 연결 부재(130)을 포함한다.
마스크 프레임(110)은 중앙에 개구가 형성된 대략 사각형의 형상으로 마련된다. 예를 들어, 마스크 프레임(110)은 사각형의 틀 형상으로 마련된다. 여기서, 마스크 프레임(110)에 의해 형성되는 개구는 처리될 기판의 크기로 마련될 수 있다. 예를 들어, 마스크 프레임(110)은 약 13,000㎠ 이상 또는 약 15,000㎠ 이상의 표면적을 갖는 기판과 같은 대형 기판으로 이용될 수 있도록 크기가 정해지는 개구를 가질 수 있다. 마스크 프레임(110)은 알루미늄, 세라믹, 합금 등의 재료로 제작될 수 있는데, 예를 들어 철(63.5%)과 니켈(36.5%)의 합금인 인바(Invar)로 제작될 수 있다. 한편, 마스크 프레임(110)에는 복수의 홀(미도시)이 형성되고, 홀은 마스크 프레임(110)에 마스크 스틱(122, 124)을 고정시키는 패스너 등의 고정 수단을 수용한다. 즉, 고정 수단이 마스크 스틱(122, 124)를 관통하여 마스크 프레임(110)의 홀에 삽입됨으로써 마스크 스틱(122, 124)이 마스크 프레임(110)에 고정된다.
마스크 스틱(122, 124)은 마스크 프레임(110) 상에 일 방향 및 이와 직교하는 타 방향으로 마련된다. 즉, 마스크 스틱(122)은 마스크 프레임(110) 내의 개구를 일 방향, 예를 들어 가로 방향으로 가로지르도록 마련되며, 마스크 스틱(124)은 일 방향과 직교하는 타 방향, 예를 들어 세로 방향으로 가로지르도록 마련된다. 이러한 마스크 스틱(122, 124)에 의해 마스크 프레임(110)의 개구는 복수로 나뉜다. 또한, 마스크 스틱(122, 124)에 의해 복수로 나뉜 개구는 예를 들어 유기 발광 소자가 형성되는 기판 상에 봉지층 등의 박막을 형성하는 영역이다. 즉, 마스크 스틱(122, 124)이 형성되지 않은 영역은 박막 형성 영역이고, 마스크 스틱(122, 124)이 형성된 영역을 박막이 형성되지 않는 영역이다. 일 방향의 마스크 스틱(122)과 타 방향의 마스크 스틱(124)은 일체로 제작될 수 있고, 결합되어 제작될 수도 있다. 마스크 스틱(122, 124)이 결합되는 경우 두 마스크 스틱(122, 124)이 교차하는 영역은 결합 수단에 의해 결합되거나 접합된다. 이러한 마스크 스틱(122,1 24)은 실질적으로 굽힘 또는 뒤틀림 없이 챔버 내의 공정 온도, 예를 들어 약 450℃의 챔버 온도에서 견딜 수 있는 내열 재료로 제작될 수 있다. 마스크 스틱(122, 124)은 알루미늄, 세라믹, 합금 등의 재료로 제작될 수 있는데, 예를 들어 철(63.5%)과 니켈(36.5%)의 합금인 인바(Invar)로 제작될 수 있고, 마스크 프레임(110)과 동일 재질로 제작될 수 있다. 한편, 마스크 스틱(122, 124)의 가장자리, 즉 마스크 프레임(110)과 중첩되는 영역에는 마스크 프레임(110)의 홀과 대응되는 홀(미도시)이 형성된다. 따라서, 마스크 스틱(122, 124)의 홀을 통해 고정 수단이 삽입되어 마스크 프레임(110)의 홀에 삽입되므로 마스크 스틱(122, 124)이 마스크 프레임(110)에 고정된다.
연결 부재(130)는 마스크 프레임(110)의 측면 또는 상면에 마련되며, 적어도 하나 이상 마련된다. 이러한 연결 부재(130)는 소정 폭 및 길이를 갖는 라인 형상으로 마련될 수 있다. 또한, 연결 부재(130)가 복수로 마련되는 경우 등간격으로 배치될 수 있는데, 바람직하게는 도 1에 도시된 바와 같이 마스크 스틱(122, 124)이 연결되는 영역의 마스크 프레임(110)의 측면에 마련될 수 있다. 이러한 연결 부재(130)는 챔버 바닥, 내측면 또는 서셉터와 연결되어 마스크 프레임(110)을 접지시킨다. 이를 위해 연결 부재(130)는 예를 들어 마스크 프레임(110)과 챔버 바닥 또는 내측면 사이의 거리 또는 마스크 프레임(110)과 서셉터 사이의 거리만큼의 길이로 마련될 수 있다. 또한, 연결 부재(130)는 마스크 프레임(110)의 측면 뿐만 아니라 도 2에 도시된 바와 같이 마스크 프레임(110)의 상면으로부터 하측으로 연장 형성될 수 있다. 이때, 연결 부재(130)는 마스크 스틱(122, 124)과 연결되어 하측으로 연장 형성될 수 있다.
이러한 본 발명의 일 실시 예들에 따른 연결 부재(130)를 포함하는 쉐도우 마스크(100)를 적용한 기판 처리 장치를 도 3 및 도 4를 이용하여 설명하면 다음과 같다. 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 쉐도우 마스크를 적용한 기판 처리 장치의 단면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시 예의 다른 변형 예에 따른 쉐도우 마스크를 적용한 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 소정의 반응 공간을 형성하는 챔버(10)와, 챔버(10) 하부에 배치되어 박막 형성을 위한 기판(S)이 안착되는 서셉터(20)와, 서섭터(20) 상에 배치되어 기판(S)에 원하는 형상의 박막을 전사하기 위한 개구가 형성되고 측면에 하측으로 연장되는 연장 부재(130)가 마련된 쉐도우 마스크(100)와, 서셉터(20)와 챔버(10)를 연결하여 서셉터(20)를 접지시키기 위한 접지 수단(30)과, 기판(S) 상부에 배치되어 박막 형성을 위한 원료를 분사하기 위한 분사 수단(40)을 포함한다. 또한, 챔버(10) 내부의 공정 가스의 플라즈마를 생성하기 위해 챔버(10) 외부 또는 내부에 마련되는 전원 수단(미도시)을 더 포함할 수 있고, 챔버(10) 내부의 반응 부산물을 제거하거나 챔버(10) 내부의 압력을 조절하기 위한 배기 수단(50)을 더 포함할 수 있다. 뿐만 아니라, 챔버(10) 내부의 온도 조절을 위한 온도 조절 수단(미도시) 등을 더 포함할 수 있고, 기판(S)과 쉐도우 마스크(100)를 정렬하기 위한 정렬 수단(미도시)을 더 포함할 수도 있다. 여기서, 쉐도우 마스크(100)는 도 3에 도시된 바와 같이 접지 수단(130)이 챔버(10) 바닥에 접속되어 쉐도우 마스크(100)는 접지 수단(130)을 통해 챔버(10) 바닥에 접지될 수 있다. 또한, 쉐도우 마스크(100)는 도 4에 도시된 바와 같이 연결 부재(130)가 서셉터(20)의 측면과 접속될 수 있다. 이때, 서셉터(20)는 접지 수단(30)을 통해 챔버(10)와 연결되어 접지되기 때문에 쉐도우 마스크(100)는 연결 부재(130)를 통해 서셉터(20)에 접지될 수 있다.
한편, 서셉터(20)는 기판(S) 형상을 제작되어 기판(S) 및 쉐도우 마스크(100)을 지지한다. 기판(S)은 서셉터(20)의 중앙부에 지지되고, 쉐도우 마스크(100)는 마스크 프레임(110)이 서셉터(20)의 가장자리에 지지된다. 이때, 도시되지 않았지만, 마스크 프레임(110)이 안착되는 서셉터(20)의 상부에는 세라믹 등의 재료로 제작된 마스크 지지대가 마련될 수도 있다. 마스크 프레임(110)은 기판(S)의 두께보다 두꺼울 수 있고, 쉐도우 마스크(100)의 마스크 스틱(120)은 기판(S)과 밀착되는 것이 바람직하다. 따라서, 마스크 프레임(110)이 지지되는 서셉터(20)의 가장자리 영역은 기판(S)이 지지되는 서셉터(20)의 중앙 영역보다 낮게 제작된다. 즉, 서셉터(20)는 중앙부가 가장자리보다 상측으로 돌출되고 기판(S) 및 쉐도우 마스크(100)의 형상으로 제작된다. 이때, 서셉터(20)의 중앙부의 두께는 가장자리보다 마스크 프레임(110)의 두께만큼 두꺼울 수 있다. 또한, 서셉터(20)는 상하 운동 및 회전 운동을 할 수 있고, 이를 위해 서셉터(20) 하부에 구동축이 접속될 수 있다. 서셉터(20)는 상하 운동을 통해 기판(S)을 용이하게 로딩할 수 있고, 회전 운동을 통해 증착되는 박막의 균일성을 향상시킬 수 있다. 뿐만 아니라, 분사 수단(40)이 회전하여 박막의 증착 균일성을 향상시킬 수도 있다. 이때 분사 수단(40)은 샤워헤드 형상으로 형성하여 기판(30) 상에 균일한 원료 가스를 공급할 수 있다. 또한, 분사 수단(40)을 통해 원료 가스 이외에 반응 가스 및 퍼지 가스 등 다수의 가스를 분사할 수도 있다.
또한, 접지 수단(30)은 적어도 하나 이상 마련되어 서셉터(20)와 챔버(10)를 연결하여 서셉터(20)를 접지시킨다. 접지 수단(40)은 서셉터(20) 하면의 마련된 적어도 하나의 제 1 패드(21)와, 챔버(10) 바닥면에 마련된 적어도 하나의 제 2 패드(22)와, 제 1 패드(21)와 제 2 패드(22)를 연결하여 서셉터(20)를 접지시키기 위한 접지 라인(23)을 포함할 수 있다. 여기서, 제 1 패드(21)는 서셉터(20)의 측면에 마련될 수도 있고, 제 2 패드(22)는 챔버(10)의 내측면에 마련될 수도 있다. 한편, 제 1 및 제 2 패드(21, 22)와 접지 라인(23)은 이들을 전기적으로 연결할 수 있는 다양한 재질로 마련될 수 있는데, 예를 들어 금속, 세라믹 등으로 마련될 수 있다.
상기한 바와 같이 본 발명의 일 실시 예에 따른 쉐도우 마스크(100)는 마스크 프레임(110)의 적어도 일 영역으로부터 하측으로 연장되는 라인 형상의 연결 부재(130)를 포함하고, 연결 부재(130)는 쉐도우 마스크(100)와 챔버(10) 또는 서셉터(20)를 연결하여 쉐도우 마스크(100)를 접지시킨다. 따라서, 쉐도우 마스크(100)가 서셉터(20)와 이격되는 경우에도 연결 부재(130)에 의해 쉐도우 마스크(100)가 접지 상태를 유지할 수 있다. 특히, 연결 부재(130)를 마스크 스틱(122, 124)과 연결되는 영역으로부터 마련하거나 마스크 스틱(122, 124)과 연결되도록 마련되기 때문에 마스크 스틱(122, 124)의 플로팅에 의해 발생되는 다양한 문제를 해결할 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시 예는 쉐도우 마스크(100)의 마스크 프레임(110)의 측면 및 상면의 적어도 일 영역에 라인 형태의 연결 부재(130)을 마련하고, 연결 부재(130)가 챔버(10), 서셉터(20) 등과 연결되도록 하여 쉐도우 마스크(100)를 접지시켰다. 그러나, 연결 부재는 다양한 형상으로 제작할 수 있고, 도 5에 도시된 바와 같이 쉐도우 마스크(100)의 마스크 프레임(110) 하측에 마련될 수 있다. 이때, 도 5(a)에 도시된 바와 같이 압력을 가하면 수축하고 압력을 제거하면 복원하는 스프링 등의 탄성 부재를 이용하여 연결 부재(140)를 제작할 수 있다. 따라서, 탄성 부재를 이용한 연결 부재(140)가 마련된 쉐도우 마스크(100)가 서셉터(20) 상에 안착되면 연결 부재(140)가 쉐도우 마스크(100)의 무게에 의해 수축하고, 그에 따라 탄성 부재의 연결 부재(140)에 의해 쉐도우 마스크(100)와 서셉터(20)가 접지 상태를 유지하게 된다. 이때, 쉐도우 마스크(100)가 이동하게 되는 경우에도 탄성 부재의 연결 부재(140)에 의해 서셉터(20)와 접촉 상태를 유지할 수 있어 접지 상태를 유지할 수 있다. 또한, 도 5(b)에 도시된 바와 같이 쉐도우 마스크(100)의 마스크 프레임(110) 하측에 적어도 하나, 바람직하게는 마스크 프레임(110)과 동일 형상으로 연결 부재(150)가 마련될 수 있다. 여기서, 연결 부재(150)는 쉐도우 마스크(100)와 동일 재질로 마련될 수 있으나, 쉐도우 마스크(100)보다 전기 전도성이 더 높은 물질로 마련될 수 있다. 예를 들어, 연결 부재(150)는 알루미늄으로 제조될 수 있다. 그런데, 쉐도우 마스크(100)는 플라즈마 데미지(plasma demage) 및클리닝 가스(cleaning gas)로부터 보호하기 위해 절연 물질로 코팅하게 된다. 연결 부재(150) 또한 플라즈마 데미지 및 클리닝 가스로부터 보호하기 위해 절연 물질로 코팅될 수 있다. 따라서, 쉐도우 마스크(100)의 일 영역의 코팅이 제거된 후 연결 부재(150)와 접촉될 수 있다. 뿐만 아니라, 도 5(c)에 도시된 바와 같이 마스크 프레임(110) 하측에 마련된 적어도 하나의 블록(162)과, 블록(162) 내에 하측으로 돌출되도록 마련된 탄성 부재(164)를 포함하여 연결 부재(160)가 마련될 수 있다. 블록(162)은 마스크 프레임(110)을 따라 마스크 프레임(110)의 형상으로 마련될 수 있고, 탄성 부재(164)는 블록(162) 내에 등간격으로 마련될 수 있다. 또한, 블록(162)은 마스크 프레임(110) 하측에 등간격으로 복수 마련될 수 있고, 탄성 부재(164)는 복수의 블록(162) 내에 마련될 수 있다. 이러한 연결 부재(160)은 탄성 부재(164)가 블록(162) 하측으로 돌출된 상태에서 도 6에 도시된 바와 같이 마스크 프레임(110)이 서셉터(20) 상에 안착되면 수축하게 된다. 여기서, 블록(162) 및 탄성 부재(164)는 동일 재질로 제작될 수 있고 다른 재질로 제작될 수 있는데, 예를 들어 블록(162)은 세라믹으로 제작되고 탄성 부재(164)는 알루미늄으로 제작될 수 있다.
이렇게 마스크 프레임(110) 하측에 다양한 형태의 연결 부재(140, 150, 160)이 마련됨으로써 쉐도우 마스크(100)의 움직임 등에 의해서도 쉐도우 마스크(100)와 서셉터(20)가 연결 상태를 유지할 수 있어 쉐도우 마스크(100)가 접지 상태를 유지할 수 있다.
한편, 탄성 부재를 이용한 연결 부재(140), 도전 블록을 이용한 연결 부재(150), 그리고 블록 및 탄성 부재를 이용한 연결 부재(160)는 쉐도우 마스크(100)에 설치하지 않고 기판 처리 장치의 서셉터(20) 상에 마련할 수도 있다. 즉, 쉐도우 마스크(100)는 마스크 프레임(110) 및 마스크 스틱(120)을 포함하는 구조로 마련되고, 기판 처리 장치의 서셉터(20) 상에 예를 들어 블록 내에 탄성 부재가 마련된 연결 부재(160)이 마련될 수 있다. 이 경우 연결 부재(160)의 탄성 부재는 초기 상태에서 상측으로 돌출되고, 쉐도우 마스크(100)가 안착되면 수축하여 쉐도우 마스크(100)와 연결 부재(60) 하측의 서셉터(20)를 연결시킬 수 있다.
또한, 쉐도우 마스크(100)의 마스크 프레임(110)의 측면에 쉐도우 마스크(100)에 인가되는 전기장을 조절하기 위해 저항, 캐패시터 등의 전기장 조절 수단을 마련할 수 있다. 즉, 저항, 캐패시터는 마스크 프레임(110)의 측면에 적어도 하나 이상 마련될 수 있으며, 저항과 캐패시터를 모두 마련할 수 있다. 또한, 저항, 캐패시터 등의 전기장 조절 수단은 서셉터(20)의 측면에 마련될 수도 있다. 여기서, 캐패시터는 세라믹 등의 소재로 마련될 수 있으며, 마스크 프레임(110)의 측면에 마련됨으로써 마스크 프레임(110) 부근에 생성되는 전기장을 조절할 수 있고, 그에 따라 마스크 프레임(110) 부근에 생성되는 전기장을 일정량으로 유지할 수 있다. 즉, 캐패시터는 연결 부재(150)를 이용한 접지 연결과는 달리 마스크 프레임(110) 부근에 생성되는 전기장을 조절할 수 있다. 또한, 마스크 프레임(110) 부근에 생성되는 전기장은 저항을 조절함으로써 조절할 수도 있다.
한편, 본 발명의 기술적 사상은 상기 실시 예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기 실시 예는 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주지해야 한다. 또한, 본 발명의 기술분야에서 당업자는 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시 예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
110 : 마스크 프레임 120 : 마스크 스틱
130, 140, 150, 160 : 연결 부재
10 : 챔버 20 : 서셉터
30 : 접지 수단 40 : 분사 수단
50 : 배기 수단

Claims (12)

  1. 마스크 프레임;
    상기 마스크 프레임 상에 마련된 적어도 하나의 마스크 스틱; 및
    상기 마스크 프레임 또는 마스크 스틱의 적어도 일 영역에 마련된 적어도 하나의 연결 부재를 포함하는 쉐도우 마스크.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 마스크 스틱은 서로 직교하는 일 방향 및 타 방향으로 적어도 하나 이상 마련된 쉐도우 마스크.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 연결 부재는 상기 마스크 프레임의 측면으로부터 라인 형상으로 마련된 쉐도우 마스크.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 연결 부재는 상기 마스크 스틱이 연결된 영역에 마련된 쉐도우 마스크.
  5. 제 2 항에 있어서, 상기 연결 부재는 상기 마스크 프레임의 상면으로부터 라인 형상으로 마련된 쉐도우 마스크.
  6. 제 2 항에 있어서, 상기 연결 부재는 상기 마스크 프레임 하측에 마련된 쉐도우 마스크.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 연결 부재는 압축 및 복원 가능한 탄성 부재를 포함하여 마련된 쉐도우 마스크.
  8. 제 3 항, 제 5 항 또는 제 6 항의 어느 한 항에 있어서, 상기 마스크 프레임의 적어도 일 측면에 마련된 저항, 캐패시터의 적어도 어느 하나를 더 포함하는 쉐도우 마스크.
  9. 챔버;
    상기 챔버 내부에 마련되며 기판을 지지하는 서셉터;
    상기 서셉터와 대향 마련되어 공정 가스를 분사하는 분사 수단;
    상기 서셉터 상에 마련되며 상기 기판의 일부를 노출시키는 적어도 하나의 개구가 형성된 쉐도우 마스크를 포함하며,
    상기 쉐도우 마스크는 상기 서셉터 상에 지지되는 마스크 프레임과,
    상기 마스크 프레임 상에 마련된 적어도 하나의 마스크 스틱과,
    상기 마스크 프레임 및 마스크 스틱의 적어도 일 영역에 마련되어 상기 챔버 또는 서셉터와 연결되는 적어도 하나의 연결 수단을 포함하는 기판 처리 장치.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 서셉터와 상기 챔버의 내면을 연결하여 상기 서셉터를 접지시키기 위한 접지 수단을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 연결 부재는 상기 마스크 프레임의 상면 또는 측면에 마련되어 상기 챔버 내면 또는 서셉터 측면과 연결되는 기판 처리 장치.
  12. 제 10 항에 있어서, 상기 연결 부재는 상기 마스크 프레임의 하면에 마련되어 상기 서셉터 상면과 연결되는 기판 처리 장치.
KR1020120141964A 2012-12-07 2012-12-07 기판 처리 장치 KR101936257B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120141964A KR101936257B1 (ko) 2012-12-07 2012-12-07 기판 처리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120141964A KR101936257B1 (ko) 2012-12-07 2012-12-07 기판 처리 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140075033A true KR20140075033A (ko) 2014-06-19
KR101936257B1 KR101936257B1 (ko) 2019-01-09

Family

ID=51127835

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120141964A KR101936257B1 (ko) 2012-12-07 2012-12-07 기판 처리 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101936257B1 (ko)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016106947A1 (zh) * 2014-12-31 2016-07-07 深圳市华星光电技术有限公司 组合式掩模板及其制作方法
KR20160150160A (ko) * 2015-06-18 2016-12-29 삼성디스플레이 주식회사 기상 증착 장치 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법
KR20170003792A (ko) * 2015-06-30 2017-01-10 삼성디스플레이 주식회사 플라즈마 화학 기상 증착 장치
WO2017156873A1 (zh) * 2016-03-18 2017-09-21 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀掩模板、使用其图案化基板的方法、以及显示基板
KR20190096648A (ko) * 2018-02-09 2019-08-20 주성엔지니어링(주) 마스크 홀더 및 이를 포함하는 기판처리장치

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011181462A (ja) * 2010-03-03 2011-09-15 Hitachi Displays Ltd 表示パネルの製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016106947A1 (zh) * 2014-12-31 2016-07-07 深圳市华星光电技术有限公司 组合式掩模板及其制作方法
KR20160150160A (ko) * 2015-06-18 2016-12-29 삼성디스플레이 주식회사 기상 증착 장치 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법
KR20170003792A (ko) * 2015-06-30 2017-01-10 삼성디스플레이 주식회사 플라즈마 화학 기상 증착 장치
WO2017156873A1 (zh) * 2016-03-18 2017-09-21 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀掩模板、使用其图案化基板的方法、以及显示基板
US10388873B2 (en) 2016-03-18 2019-08-20 Boe Technology Group Co., Ltd. Evaporation mask, method of patterning substrate using the same, and display substrate
KR20190096648A (ko) * 2018-02-09 2019-08-20 주성엔지니어링(주) 마스크 홀더 및 이를 포함하는 기판처리장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR101936257B1 (ko) 2019-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101936257B1 (ko) 기판 처리 장치
KR101001454B1 (ko) 정전척 및 이를 구비한 유기전계발광 소자의 제조장치
KR101441892B1 (ko) 프로세스 챔버 내에서 캐소드의 ｒｆ 접지
CN101261952B (zh) 基板载置台以及基板处理装置
EP2767611B1 (en) Vapor deposition apparatus, deposition method, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same
TWI794211B (zh) 基板夾具及基板固定裝置
US10497597B2 (en) Electrostatic chuck assembly and substrate processing apparatus including the same
KR20120137986A (ko) 정전척
KR200489621Y1 (ko) 유기 발광 다이오드(oled)를 제조하기 위한 세라믹 마스크
US9234270B2 (en) Electrostatic chuck, thin film deposition apparatus including the electrostatic chuck, and method of manufacturing organic light emitting display apparatus by using the thin film deposition apparatus
US20080131622A1 (en) Plasma reactor substrate mounting surface texturing
US10480076B2 (en) Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus that includes conductive mask supports
KR20140008562A (ko) 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
KR20180053143A (ko) 기판 지지 장치 및 기판 처리 장치
JP6803811B2 (ja) 原子層成長装置
KR20070050111A (ko) 균일한 온도제어를 위한 정전척 및 이를 포함하는 플라즈마발생장치
WO2019058918A1 (ja) ウエハ支持装置
KR102518875B1 (ko) 대기압 플라즈마 기판처리장치
KR102646838B1 (ko) 증착 프로세스들을 위한 마스크의 척킹을 위한 기판 지지부
KR102523798B1 (ko) 마스크 홀더 및 이를 포함하는 기판처리장치
KR20180046891A (ko) 유기 발광 소자의 제조 시스템 및 제조 방법
KR102024137B1 (ko) 스퍼터용 석영 히터 및 이를 구비한 스퍼터링 장치
KR102140304B1 (ko) 증착 장치, 이를 이용한 박막 형성 방법 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법
JP2016003383A (ja) マスク及び有機発光デバイスの製造方法
KR20080081689A (ko) 정전척 및 이를 이용한 기판 플라즈마 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant