KR20140071347A - 무선 주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법 및 장치 - Google Patents

무선 주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법 및 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20140071347A
KR20140071347A KR1020147005498A KR20147005498A KR20140071347A KR 20140071347 A KR20140071347 A KR 20140071347A KR 1020147005498 A KR1020147005498 A KR 1020147005498A KR 20147005498 A KR20147005498 A KR 20147005498A KR 20140071347 A KR20140071347 A KR 20140071347A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
high frequency
power
generator
load
cable
Prior art date
Application number
KR1020147005498A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102036936B1 (ko
Inventor
크리스티안 프릿취
에케하르트 만
게르하트 자이페르트
Original Assignee
트럼프 헛팅거 게엠베하 + 코 카게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 트럼프 헛팅거 게엠베하 + 코 카게 filed Critical 트럼프 헛팅거 게엠베하 + 코 카게
Publication of KR20140071347A publication Critical patent/KR20140071347A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102036936B1 publication Critical patent/KR102036936B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00—Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Inverter Devices (AREA)

Abstract

무선 주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 연결된 수동 부품(14, 53, 54)을 보호하기 위한 방법은: a. 무선 주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 의해 기본 주파수에서 무선 주파수 전력을 생성하는 단계; b. 무선 주파수 케이블(14, 53, 54)을 통해 무선 주파수 전력을 부하(16)에 전송하는 단계; c. RF 발생기에 연결된 적어도 하나의 수동 부품 - 특히, 무선 주파수 케이블(14, 53, 54) - 에 대해 무선 주파수 부하에 관련된 변수를 결정하는 단계; d. 결정된 변수와, 적어도 하나의 연결된 수동 부품에 대한 최대 부하를 기술하는 기준 변수를 비교하는 단계; e. 상기 비교 결과에 기초해서 기본 주파수에서 무선 주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 의해 발생되는 무선 주파수 전력을 적응시키는 단계를 포함한다.

Description

무선 주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR PROTECTING PASSIVE COMPONENTS CONNECTED TO A RADIO-FREQUENCY GENERATOR}
본 발명은 고주파수 발생기에 연결된 수동 소자를 보호하기 위한 방법에 대한 것이다. 본 발명은 또한, 기본 주파수에서 고주파수 전력 신호를 발생시키는 HF 소스를 구비하고, 고주파수 발생기와 부하 사이에서 고주파수 케이블에 의해 전송되는 HF 전력과 관련된 신호가 공급되는 제1 제어 회로를 구비한 고주파수 발생기에 대한 것이다.
고주파수 케이블, 특히 동축 케이블은 기본 주파수(또한, 사용 주파수라고 알려짐)에서 발생된 고주파수 전력을 고주파수 발생기로부터 정합 회로망(매치박스)까지 전송하기 위해 이용된다. 고주파수 전력은 정합 회로망으로부터 부하(예를 들면, 플라즈마 체임버)까지 전송된다. 만약 정합 회로망이 고주파수 발생기의 출력 저항을 부하 저항에 맞출 수(match) 없다면, 전력의 일부가 이러한 부정합 때문에 부하에 대해 반사된다(reflected). 이 경우에, 전력은 기본 주파수의 고조파 주파수에서 생성된다. 이러한 주파수들에서의 전력은 정합 회로망 및 고주파수 케이블을 통과하고, 고주파수 발생기에 도달한다.
고조파 주파수의 경우에, 고주파수 발생기의 부하(플라즈마), 전극, 정합 회로망, 고주파수 케이블, 및 출력 회로는 높은 고유 품질(intrinsic quality)을 갖는 리액턴스 소자로서 작용한다. 따라서, 부하에 대한 반사(reflection)에 의해 야기되는, 고조파에 의한 여기(excitation)(예를 들면, 사용 주파수에서 10 kW를 갖는 고주파의 100 W의 유효 전력)가 고 리액티브 전력(예를 들면, 10 kVA)을 갖는 공진을 야기할 수 있다. 이러한 리액티브 전력은 고주파수 발생기와 정합 회로망 사이에서 고주파수 케이블에 대한 추가적인 부하를 나타낸다. 이러한 문제점은 특히, 소위 이중 주파수 시스템에 적용되는데, 그 이유는 이러한 시스템이 특별히 많은 수의 리액턴스 소자(두 개의 고주파수 발생기, HF 케이블, 및 필터를 구비한 임피던스-정합 회로망)를 가지기 때문이다. 리액티브 전력을 갖는 고주파수 케이블의 부하는 고주파수 케이블의 장애를 초래할 수 있다.
그러므로, 본 발명의 목적은 상기 언급된 문제점을 회피할 수 있게 하는 방법과 고주파수 발생기를 제공하는 것이다.
이 목적은 수동 부품, 특히, 고주파수 발생기에 연결된 고주파수 케이블을 보호하기 위한 방법에 의해 달성되고, 이 방법은,
a. 고주파수 발생기에 의해 기본 주파수에서 고주파수 전력을 발생시키는 단계;
b. 고주파수 전력을 고주파수 케이블을 통해 부하에 전송하는 단계;
c. 특히, 고주파수 발생기에 연결된 고주파수 케이블 상에서 적어도 하나의 수동 부품에 대해, 특히 적어도, 기본 주파수와는 다른 하나의 주파수에서 고주파수 부하에 관련된 변수를 결정하는 단계;
d. 결정된 변수를, 적어도 하나의 연결된 수동 부품에 대한 최대 부하(최대 허용가능 부하)를 기술하는 기준 변수와 비교하는 단계;
e. 비교 결과에 기초해서 기본 주파수에서 고주파수 발생기에 의해 발생되는 고주파수 전력을 조정하는 단계를 포함한다.
특히, 고주파수 케이블(HF 케이블)의 수동 부품의 고주파수 부하에 관련된, 변수 또는 전송된 고주파수 전력을 검출함으로써, 발생기 전력은 특히, 고주파수 케이블의 수동 부품(들)의 과부하를 방지하도록 감소될 수 있다. 이에 따라, 특히, 검출된 HF 케이블 상에서, 수동 부품에 대한 고주파수 부하에 기초해서 기본 주파수에서 고주파수 발생기에 의해 발생되는 전력을 제어(개방 루프 또는 폐쇄 루프 제어)하는 것이 가능하다. 기본 주파수에서 및/또는 이러한 기본 주파수와는 다른 하나 또는 복수의 주파수에서 전송된 고주파수 전력 또는 이 전력과 관련된 변수를 결정하는 것이 가능하다. 예를 들면, 수동 부품은 고주파수 케이블, 연결 소자(플러그), 측정 장치, 전극, 플라즈마 체임버 등일 수 있다. 이 방법은, HF 전력이 1 내지 100 MHz 범위 내의 기본 주파수에서, 1 kW 내지 100 kW 범위 내의 전력량(wattage)으로, 플라즈마 발생 및 레이저 여기 시스템에서 발생될 때 바람직하게 이용된다.
기본 주파수에서 고주파수 발생기에 의해 발생되는 고주파수 전력은 개방 루프 제어에 의해 또는 특히 비교 결과에 기초해서 폐쇄 루프 제어에 의해 제어될 수 있다. 따라서, 개방 루프 제어뿐만 아니라 폐쇄 루프 제어가 또한 가능하다. 특히, 한계 제어가 수행될 수 있다.
또한, 기본 주파수에서 고주파수 케이블에 의해 전송되는 고주파수 전력과 관련된 변수가 결정될 수 있고, 결정된 변수는 고주파수 전력의 설정값과 비교될 수 있으며, 기본 주파수에서 고주파수 발생기에 의해 발생된 고주파수 전력은 비교 결과에 기초해서 조정될 수 있다. 따라서, 기본 주파수에서 고주파수 발생기에 의해 발생되는 고주파수 전력은 두 개의 기준에 따라 조정될 수 있다. 먼저, 특히, 고주파수 케이블 상에서 수동 부품에 대한 고주파수 부하가 과잉이 되지 않도록 주의를 기울일 수 있다. 둘째, 부하애 대해 제공되는 전력이 검출될 수 있고, 발생된 전력은, 이 검출된 전력에 준해서 기본 주파수에서 부하에 제공되는 전력을 위해 설정값을 가능한 한 효과적으로 획득하도록 조정될 수 있다. 특히, 공칭 전력에 따라 전력을 조절하는 것이 가능하다. 이런 양상에서, 기본 주파수에서 고주파수 발생기에 의해 발생되는 고주파수 전력을 조정하기 위해, 고주파수 전력에서 비교적 더 큰 감소를 야기하는 비교 결과를 이용하는 것이 가능하다. 이에 따라, 한편으로는, 특히, 고주파수 케이블의 수동 부품(들)의 과부하가 효과적으로 상쇄되고, 다른 한편으로는, 과잉 분량의 전력이 부하에 공급되는 것이 방지된다.
기본 주파수와는 다른 주파수에서 고주파수 케이블에 의해 전송되는 전력이 결정될 수 있다. 기본 주파수와는 다른 주파수에서 전송되는 전력 또는 이 전력과 관련된 변수가 결정될 때, 고주파수 케이블에 대한, 또는 수동 부품(들)에 대한 고주파수 부하를 결정하기가 특히 용이하다. 특히, 부하는 고조파에 의해 결정될 수 있다.
고주파수 케이블에 의해 한 방향으로 전송되는 전체 전력이 결정되는 것이 또한 제공될 수 있다. 이런 양상으로, 전체 전력, 즉, 순방향으로(즉, 고주파수 발생기로부터 부하쪽으로) 전송되는 전력, 또는 부하에 대해 반사되는(reflected) 전력이 결정될 수 있다. 각 방향에 대해 어느 전력이 전달되는지를 결정하는 것이 또한 가능하다.
또한, 기본 주파수에서 고주파수 케이블에 의해 한 방향으로 전송되는 전력이 결정될 수 있다. 기본 주파수에서 한 방향으로 전송되는 전력이 결정될 때, 그리고 한 방향으로 전송되는 전체 전력이 결정될 때, 그 차이를 형성함으로써, 기본 주파수와는 다른 주파수에 의해, 예를 들면, 고조파 또는 기본 주파수보다 낮은 주파수에 의해 어느 고주파수 부하가 야기되는지를 평가하는 것이 가능하다.
고주파수 발생기를 모니터링하기 위해, 고주파수 케이블에 의해 부하의 방향으로 전송되는 기본 주파수와는 다른 주파수에서의 전력 및/또는 전체 전력을 디스플레이하는 것이 이로울 수 있다. 고주파수 케이블에 대한 디스플레이된 전력 또는 디스플레이된 부하는 기준 주파수로서 기본 주파수를 이용할 수 있다.
이 방법의 변형은 고주파수 케이블에 의해 전송되는 전력과 관련된 신호가 광대역 대역통과 필터를 이용해서 필터링되는 것을 제공할 수 있다. 결과적으로, 특히, 고조파의 경우에 전력을 결정하는 것이 가능하다. 필터링은 1 내지 200 MHz 범위 내에서 수행될 수 있다.
이런 양상에서, 대역 통과 필터는 정정 주파수 응답을 이용해 수정될 수 있다. 주파수에 따라, 고주파수 케이블들은 상이한 전력 레이팅(power rating)을 가진다. 고조파가 상이한 주파수들에서 발생하면, 예를 들면, 더 높은 주파수는 정정 주파수 응답에 의해 보다 철저하게 평가되어, 이에 따라서, 주파수 케이블에 대한 부하에 대해 보다 정확한 정보를 제공할 수 있게 된다. 특히, 이에 따라, 부정합의 경우에, 케이블 레이팅(cable rating)이 고주파수 케이블을 위해 데이터 시트(data sheet)에서 규정된 전력 레이팅보다 낮다.
더 나아가, 고주파수 케이블에 대한 또는 수동 부품(들)에 대한 고주파수 부하가, 고주파수 발생기에 의해 부하의 방향으로 공급되는 순방향 전력을 이용해서, 또는 반사된 전력을 이용해서 결정되는 것이 제공될 수 있다. 예를 들면, 만약 고주파수 발생기가 모든 주파수에 대해 높은 반사 계수를 가지고, 만약 부하가 기본 주파수로부터 이격된 모든 주파수에 대해 높은 반사 계수를 가지면, 단지 반사된 전력이 고려되는 것이 가능하다. 이것은 각 고조파 주파수에 대해, 순방향 전력이 반사된 전력과 동일하기 때문이다.
하지만, 만약 고주파수 발생기가 모든 주파수에 대해, 또는 기본 주파수와는 이격된 모든 주파수에 대해 낮은 반사 계수를 가지고, 만약 부하가 기본 주파수로부터 이격된 모든 주파수에 대해 높은 반사 계수를 가지면, 부하로부터 유래하는 모든 고조파가 발생기 내에서 흡수된다. 순방향 전력과 반사된 전력은 고조파 전력과 케이블 부하를 측정하기 위해 평가되어야 한다.
이 방법의 변형은 복수의 고주파수 케이블 또는 수동 부품 - 이러한 케이블 또는 부품에 의해 각각의 고주파 발생기가 부하에 연결됨 - 에 대한 고주파수 부하가 결정되고, 만약 고주파수 부하가 미리 결정된 값을 초과하면, 각각의 기본 주파수에서 발생되는, 부하에 연결된 모든 HF 발생기의 고주파수 전력이 감소되는 것을 제공한다.
수동 부품의 최대 부하(최대 허용가능한 부하)를 기술하는 기준 변수가 조정될 수 있다. 결과적으로, 각 경우에 이용되는 수동 부품을 조정하는 것이 가능하다.
더 나아가, 최대 부하를 기술하는 기준 변수는 플라즈마 체임버에 연결된 적어도 하나의 능동 부품의 및/또는 적어도 하나의 수동 부품의 미리 결정된 특성의 목록으로부터 결정될 수 있다. 예를 들면, 제조자는 수동 부품에 대해 하나 이상의 파라미터를 지정할 수 있고, 그런 다음, 이러한 파라미터로부터 기준 변수가 결정되어, 따라서, 예를 들면, 이러한 기준 변수가 선택되거나 계산된다. 플라즈마 체임버에 연결된 능동 부품은 예를 들면, 정합 회로망(매치 박스) 또는 고주파수 발생기일 수 있다.
대안적으로 또는 추가적으로, 최대 부하를 기술하는 기준 변수는 자동적으로 조정될 수 있다. 기준 변수는 예를 들면, 고주파수 케이블과 같은 연결된 수동 부품의, 또는 다른 주파수에서 동작할 수 있는 다른 고주파수 발생기의 자동적 검출에 기초해서 자동적으로 조정될 수 있다.
본 발명의 범위는 기본 주파수에서 고주파수 전력 신호를 발생시키는 HF 소스를 구비하고, 제1 제어 회로를 구비한 고주파수 발생기를 또한 포함하고, 제1 회로에는 고주파수 발생기와 부하 사이에서 고주파수 케이블에 의해 전송되는 HF 전력과 관련된 신호가 공급되며, 제어 회로는 특히, 기준값으로서 최대값과, 전송된 HF 전력에 기초해서, HF 부하에 대해, 특히, HF 케이블 부하에 대해 설정값(제어기에 공급됨)에 기초해서 HF 소스를 제어하기 위한 제어기를 구비한다. 따라서, 이런 유형의 고주파수 발생기를 이용해서, 고주파수 발생기의 출력 전력은 (케이블) 부하에 기초해서 기본 주파수에서 제어될 수 있다. 이에 따라, 출력 전력에 대해 설정값에서 출력 전력을 조절하는 것이 또한 가능하다.
제어 회로는 광대역 대역통과 필터를 구비한다. 이런 유형의 대역 통과 필터는 고조파에서 전송되는 전력을 결정하는 것이 가능하게 한다. 특히, 필터는 1 내지 200 MHz 범위 내의 주파수 대역으로 조정될 수 있다.
대역 통과 필터는 정정 주파수 응답을 가질 수 있다. 결과적으로, 케이블 전력 레이팅은 50 Ω 부하의 경우에 기초하는 한편, 1의 반사 계수가 고주파에 대해 존재한다는 것이 고려될 수 있다.
또한, 제2 제어 회로가 제공될 수 있으며, 고주파수 발생기와 부하 사이에 고주파수 케이블에 의해 전송되는 HF 전력과 관련된 신호가 이 회로에 공급된다. 제어 회로는 기본 주파수에서 고주파수 발생기에 의해 출력될 고주파수 전력과, 전송되는 HF 전력에 대해, 제어기에 공급되는 설정값에 기초해서 HF 소스를 제어하기 위한 제어기를 구비한다. 이에 따라, 고주파수 전력을 위한 설정 값으로 조절하는 것이 또한 가능하다.
제2 제어 회로는 기본 주파수로 조정되는 필터를 구비할 수 있다. 결과적으로, 기본 주파수에서 부하에 공급되는 전력, 또는 기본 주파수로 반사되는 전력을 검출하는 것이 가능하다.
제어기는 우선순위 회로(priority circuit)에 의해 HF 소스에 연결될 수 있다. 이런 양상에서, 우선순위 회로는 한계 제어기로서 구성될 수 있다. 대안적으로, 우선순위 회로를 디지털 제어기로서 구성하는 것이 가능하다. 특히, 이에 따라, 기본 주파수에서 HF 소스에 의해 발생되는 HF 전력의 더 큰 감소를 야기하는 제어 회로가, 고주파수 소스를 제어하기 위해 우선순위가 정해지는 것이 가능하다.
더 나아가, HF 케이블에 의해 전송되는 고조파 전력을 결정하기 위한 수단이 제공될 수 있다. 이에 따라, 고조파 전력에 의해 형성되는, (케이블) 부하의 비율을 결정하는 것이 가능하다.
또한, HF 케이블에 의해 전송되는 고주파수 전력을 결정하기 위한 수단이 제공될 수 있다. 특히, 이에 따라, HF 케이블에 의해 전송되는 전체 전력을 결정하는 것이 가능하다.
하나 이상의 디스플레이 장치는, HF 케이블에 의해 전달되는 고조파 전력을 디스플레이하기 위해, 및/또는 HF 케이블에 의해 전달되는 고주파수 전력을 디스플레이하기 위해 제공될 수 있다. 결과적으로, 조작자는 HF 케이블 상의, 또는 추가적인 수동 부품 또는 부품들 상의 고주파수 부하에 대한 정보를 즉시 수신할 수 있다.
본 발명의 범위는 고주파수 케이블에 의해 부하에 연결되는, 본 발명에 따른 고주파수 발생기를 포함하는 전력 공급 장치를 또한 포함한다. 더 나아가, 적어도 하나의 추가적인 고주파수 발생기는 고주파수 케이블에 의해 부하에 연결될 수 있다. 이러한 구성은 소위 이중 주파수 시스템을 생성하고, 이 시스템은 고주파수 케이블의 장애에 대해, 본 발명에 따른 고주파수 발생기에 의해 보호된다.
방향성 결합기는 순방향 전력 또는 반사된 전력을 결정하기 위해 제공될 수 있다. 이런 양상으로, 방향성 결합기가 고정된 결합 계수를 가지는 것이 제공될 수 있다. 방향성 결합기는 고주파수 발생기의 고주파수 출력단에서 바람직하게 배열된다. 방향성 결합기는 외부에 제공될 수 있거나, 고주파수 발생기의 일부일 수 있다. 방향성 결합기를 이용하는 것에 대한 대안으로서, 케이블 부하를 결정하도록 전류 또는 전압을 측정하는 것이 가능하다.
전력 공급 장치는 제1 및 제2 고주파수 발생기를 포함할 수 있다.
전력 공급 장치에서, 제1 고주파수 발생기는 특히 3.39 MHz의 제1 기본 주파수에서 고주파수 전력 신호를 발생시킬 수 있고, 제2 고주파수 발생기는 특히 13.56 MHz의 제2 주파수에서 고주파수 전력 신호를 발생시킬 수 있다.
두 개의 고주파수 발생기들 각각은 고주파수 케이블에 의해 임피던스 정합 소자에 연결될 수 있으며, 이 소자는 플라즈마 체임버의 전극에 공동으로(jointly) 연결된다.
고주파수 발생기들 각각은 위에서 설명한 대로, 제1 제어 회로를 포함할 수 있다.
부하는 플라즈마 장치(installation)로서 구성될 수 있다.
본 발명의 추가적인 특징 및 이점은, 본 발명에 본질적인 세부 사항을 보여주고, 청구항들에서 또한 제공되는, 본 발명의 실시예에 대한 이하의 상세한 설명에서 제공된다. 이 실시예에서 보여진 특징은 본 발명에 따른 특징이 명백히 보여질 수 있도록 제시된다. 다양한 특징은 그 자체로 개별적으로, 또는 본 발명의 변형에서 복수의 조합으로 실현될 수 있다.
본 발명의 실시예는 개략적인 도면들에서 예증되고, 이하의 설명에서 더 상세히 설명된다.
도 1은 전력 공급 장치의 제1 실시예를 도시한다.
도 2는 전력 공급 장치의 제2 실시예를 도시한다.
도 3은 이중 주파수 시스템의 개략적 예증이다.
도 1은 전력 공급 장치(10)를 도시한다. 전력 공급 장치(10)는 고주파수 발생기(11)를 포함하고, 고주파수 발생기(11)는 고주파수 소스(12). HF 구동기 스테이지(12a)와, 출력 회로로서 HF 출력 스테이지(12b)를 포함한다. 방향성 결합기로서 구성되는 측정 장치(13)는 고주파수 발생기(11)의 출력단에 연결된다. 측정 장치(13)로부터, 고주파수 케이블(14)이 임피던스 정합 회로망(15)까지 연장되고, 이 회로망은 플라즈마 장치로서 구성된 부하(16)에 연결된다.
도 1에 따른 전력 공급 장치(10)의 구성에서, 고주파수 발생기(11)가 모든 주파수에 대해 고 반사 계수를 갖는다고 가정된다. 부하(16)는 기본 주파수로부터 이격된 모든 주파수에 대해 고 반사 계수를 갖는다. 이 경우에, 순방향 전력(P1)은 모든 고조파 진폭에 대해 반사된 전력(PR)과 동일하다. 이러한 사실은 여기서 P1으로 표시되는 순방향 전력만이 고조파 전력 및 케이블 부하의 측정을 위해 고려되어야 한다는 것을 의미한다. 용어 "순방향 전력"은 고주파수 발생기(11)로부터 부하(16)의 방향으로 유도되는 전력을 의미하는 것으로 이해된다.
따라서, HF 전력 신호가 고주파수 발생기(11)에 의해 발생되는 기본 주파수와, 예를 들면, 고조파와 같은 다른 주파수를 갖는, 예를 들면, 0 와트와 1 와트 사이의 범위 내의 신호가 측정 장치(13)의 출력단(17)에서 수신된다. 이러한 신호는 제어 회로(18)에 공급되고, 이 제어 회로 내에서 특히, 광대역 대역통과 필터(19)에 공급된다. 대역 통과 필터(19)는 1 내지 200 MHz 범위 내의 주파수를 필터링할 수 있다. 대역 통과 필터(19)는 케이블 전력 레이팅(rating)의 정정 주파수 응답(20)에 의해 영향을 받는다.
필터링된 신호는, HF 케이블(14)에 의해 부하(16)에 전송되는 전체 고주파 전력의 실제값의 측정치를 보여주는, 직류 전압 신호를 필터링된 신호로부터 발생시키는 검출기(21)에 공급된다. 따라서, HF 전력의 실제값이 디스플레이 장치(22) 상에 디스플레이되는 것이 가능하다.
검출기(21)로부터의 출력 신호는 인버터(23)에서 반전되고, 반전된 신호는 가산 제어기(24)에 공급된다. HF 케이블 전력(25)의 설정값이 기준 변수로서 제어기(24)에 또한 공급된다. 인버터(23)가 실제 전력의 측정치를 반전시키므로, 실제 전력은 HF 케이블 전력(25)의 설정값으로부터 제어기(24) 내에서 효과적으로 감산되고, 그런 다음, 실제 전력이 설정값을 초과하는지의 여부가 결정된다.
제어기(24)는 한계 제어기(26)를 통해 HF 소스(12)의 믹서(27)에 연결된다. 고주파수 발진기(28)는 믹서(27)에 또한 연결된다. 만약 HF 케이블 전력의 실제값이 HF 케이블 전력의 설정값을 초과한다는 것을 제어기(24)가 확증하면(establish), 믹서(27)가 작동되어, 기본 주파수에서 고주파수 발생기(11)에 의해 출력되는 고주파수 전력이 감소되게 한다.
더 나아가, 출력단(17)에서의 신호는 기본 주파수로 조정되는 대역 통과 필터(29)(즉, 협대역 필터임)에 공급된다. 고조파를 포함하지 않은 기본 주파수에서의 전력에만 여전히 관련되는 필터링된 신호는 검출기(30)에 공급되며, 검출기(30)는 이러한 필터링된 신호로부터 고조파를 포함하지 않은 기본 주파수에서의 고주파수 전력의 실제값의 측정치인 직류 전압 신호를 제공한다. 이 신호는 인버터(31)에 의해 반전되고, 가산 제어기로서 구성되는 제어기(32)에 공급된다. 기본 주파수에서 고주파수 전력(33)의 설정값은 제어기(32)에 또한 공급된다.
제어기(32)로부터의 출력 신호는 한계 제어기(36)를 통해 믹서(27)에 공급된다. 한계 제어기(26, 36)는, 기본 주파수에서 발생되는 고주파수 전력의 더 큰 감소를 야기하는 제어기(24, 32)의 출력값이 고주파수 발생기(11)의 출력 파워에 영향을 주게 한다. 정확한 동작을 위해, 전압 신호는 전력공급원(U)과 전류 제한 저항을 통해 연결되게 또한 제공된다. 제어기(24, 32)는 본질적으로 비교를 한다. 비교 소자가 제어기(24, 32) 대신에 또한 이용될 수 있다. 이런 경우에, 검출기(21, 30)로부터의 출력 신호는 반전될 필요가 없을 것이다. 반전이 수행되어, 설정값 또는 기준값과의 차이가 제어기(24, 32)에서 결정될 수 있다.
가산 소자(34)에서, 검출기(30)로부터의 반전된 출력 신호가 검출기(21)로부터의 출력 신호에 더해진다. 이러한 사실은, 기본 주파수에서 전력의 측정치가 전체 전력의 측정치로부터 감산되는 것을 의미한다. 그 결과는 기본 주파수와는 다른, 특히 고조파 전력과는 다른, 주파수에서 전력의 실제값 또는 이 값과 관련된 변수이며, 그런 다음, 이러한 전력이 디스플레이 장치(35) 상에 디스플레이된다.
도 2는 전력 공급 장치(10.1)의 실시예를 도시하며, 이러한 장치에서 고주파수 발생기(11.1)는 모든 주파수에 대해, 또는 기본 주파수로부터 이격된 모든 주파수에 대해 더 낮은 반사 계수를 갖는다. 부하는 기본 주파수로부터 이격된 모든 주파수에 대해 고 반사 계수를 갖는다. 이런 경우에, 고조파 전력 및 케이블 부하를 측정하도록, 고주파수 발생기(11.1)의 HF 출력단에서 반사된 전력(PR)과 순방향 전력(P1)을 평가하는 것이 필요하다. 도 1의 소자에 대응하는 소자가 도 2에서 동일 참조 번호로 제공되었다.
제어 회로(18.1)가 측정 장치(13)의 출력단(40)에 이제 연결되는 것을 알 수 있다. 기본 주파수로 조정된 협대역 대역통과 필터(41)가 또한 출력단(40)에 연결된다. 여기서, 기본 주파수에서 반사 전력과 관련된 변수가 결정된다. 대역 통과 필터(41)로부터의 출력 신호가 검출기(42)에 공급되고, 이 검출기의 출력 신호는 인버터(43)에서 반전되는 직류 전압 신호이다. 도 1의 상황과는 달리, 인버터(43)로부터의 출력 신호{하지만, 인버터(31)로부터의 출력 신호는 아님}가 가산 소자(34)에 공급된다. 여기서 다시, 가산 소자(34)로부터의 출력 신호가 디스플레이 장치(35) 상에서 디스플레이되는, 고조파 전력의 실제값의 측정치이다.
제어 회로(18.1)는 더 이상 인버터(23)를 갖지 않는다. 이런 목적을 위해, 추가적인 가산 소자(44)가 제공되어, 반사 고조파 전력의 실제값(또는 이러한 실제값과 관련된 변수)과, 기본 주파수에서 순방향 전력의 실제값(즉, 검출기(30)로부터의 출력 신호)이 이 가산 소자(44)에 공급된다. 가산 소자(44)의 출력단에서 발생되는 결과는 고주파수 케이블 전력의 실제값에 대응한다. 더 나아가, 이러한 신호는 제어기(24)에 공급된다.
도 3은 소위 이중 주파수 시스템(50)의 형태의 전력 공급 장치를 도시한다. 이 시스템(50)은 제1 고주파수 발생기(51)와 제2 고주파수 발생기(52)를 포함한다. 고주파수 발생기(51)는 예를 들면, 3.39 MHz의 기본 주파수에서 고주파수 전력 신호를 발생시키는 반면에, 고주파수 발생기(52)는 예를 들면, 13.56 MHz의 주파수에서 고주파수 전력 신호를 발생시킨다. 각각의 고주파수 발생기(51, 52)는 고주파수 케이블(53, 54)에 의해 임피던스 정합 소자(55, 56)에 연결되며, 이 소자는 플라즈마 체임버(58)의 전극(57)에 공동으로 연결된다. 접지된 대항 전극(59)이 플라즈마 체임버(58) 내에 배치된다. 플라즈마(60)는 전극(57)과 대항 전극(59) 사이에에서 발생된다. 고주파수 발생기(51, 52) 각각은 도 1 또는 도 2에서 설명되는 유형의 제어 회로(18.3, 18.4)를 구비한다.

Claims (35)

  1. 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 연결된 수동 부품(14, 53, 54)을 보호하기 위한 방법에 있어서,
    상기 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 의해 기본 주파수에서 고주파수 전력을 발생시키는 단계;
    고주파수 케이블(14, 53, 54)에 의해 상기 고주파수 전력을 부하(16)에 전송하는 단계;
    상기 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 연결된 적어도 하나의 수동 부품의 고주파수 부하와 관련된 변수를 결정하는 단계;
    상기 결정된 변수를, 적어도 하나의 연결된 수동 부품에 대한 최대 부하를 기술하는 기준 변수와 비교하는 단계;
    상기 비교의 결과에 기초해서 상기 기본 주파수에서 상기 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 의해 발생되는 상기 고주파수 전력을 조정하는 단계를
    포함하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기본 주파수에서 상기 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 의해 발생되는 상기 고주파수 전력은 상기 비교의 결과에 기초해서 제어되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기본 주파수에서 상기 고주파수 케이블(14, 53, 54)에 의해 전송되는 상기 고주파수 전력과 관련된 변수가 결정되고, 상기 결정된 변수는 상기 고주파수 전력(33)의 설정값과 비교되고, 상기 기본 주파수에서 상기 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 의해 발생되는 상기 고주파수 전력은 상기 비교의 결과에 기초해서 매칭되는 것인, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 기본 주파수에서 상기 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 의해 발생되는 상기 고주파수 전력을 조정하기 위해, 상기 비교의 결과가 이용되어 상기 고주파수 전력의 비교적 더 큰 감소를 야기하는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기본 주파수와는 다른 주파수에서 상기 고주파수 케이블에 의해 전송되는 전력이 결정되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고주파수 케이블(14, 53, 54)에 의해 한 방향으로 전송되는 전체 전력이 결정되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기본 주파수에서 상기 고주파수 케이블(14, 53, 54)에 의해 한 방향으로 전송되는 전력이 결정되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고주파수 케이블(14, 53, 54)에 의해 상기 부하(16)의 방향으로 전송되는, 상기 기본 주파수와는 다른 주파수들에서의 상기 전력 및/또는 전체 전력이 디스플레이되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고주파수 케이블(14, 53, 54)에 의해 전송되는 전력과 관련된 신호는 광대역 대역통과 필터(19)에 의해 필터링되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 대역통과 필터(19)는 정정 주파수 응답(20)에 의해 수정되는 것인, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 기본 주파수에서 상기 부하(16)에 반사되는 전력에 종속되는 정정 계수가 대역 통과 필터링에서 이용되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 수동 부품의, 특히, 상기 고주파수 케이블(14, 53, 54)의 고주파수 부하는 상기 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)로부터 상기 부하(16)의 방향으로 공급되는 순방향 전력(P1)을 이용해서, 또는 반사되는 전력(PR)을 이용해서 결정되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 복수의 수동 부품의, 특히, 각각의 HF 발생기(11, 11.1, 51, 52)가 상기 부하(16)에 연결되는, 상기 고주파수 케이블(14, 53, 54)의 고주파수 부하가 결정되고, 만약 고주파수 부하가 미리 결정된 값을 초과하면, 상기 부하(16)에 연결된 모든 HF(high-frequency) 발생기(11, 11.1, 51, 52)의 각각의 기본 주파수에서 발생된 HF 전력이 감소되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수동 부품에 대한 최대 부하를 기술하는 기준 변수가 조정되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 최대 부하를 기술하는 기준 변수는 적어도 하나의 수동 부품의, 및/또는 플라즈마 체임버에 연결된 적어도 하나의 능동 부품의 미리 결정된 특성의 목록으로부터 결정되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 최대 부하를 기술하는 기준 변수가 자동으로 조정되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법.
  17. 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 있어서,
    기본 주파수에서 고주파수 전력 신호를 발생시키는 HF 소스(12); 및
    상기 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)와 부하(16) 사이에서 고주파수 케이블(14, 53, 54)에 의해 전송되는 HF 전력과 관련된 신호가 공급되는 제1 제어 회로(18, 18.1)를 구비하고,
    상기 제1 제어 회로(18, 18.1)는 상기 HF 부하에 대해, 특히, 상기 HF 케이블 부하에 대해, 상기 제어 회로에 공급되는 설정값과, 상기 전송되는 HF 전력에 기초해 상기 HF 소스(12)를 제어하기 위한 제어기(24)를 구비하는 것인, 고주파수 발생기.
  18. 제17항에 있어서, 상기 제1 제어 회로(18, 18.1)는 광대역 대역통과 필터(19)를 구비하는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기.
  19. 제18항에 있어서, 상기 광대역 대역통과 필터(19)는 정정 주파수 응답(20)을 갖는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기.
  20. 제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)와 상기 부하(16) 사이에서 고주파수 케이블(14, 53, 54)에 의해 전송되는 HF 전력과 관련된 신호가 공급되는 제2 제어 회로가 제공되고,
    상기 제2 제어 회로(18, 18.1)는 상기 기본 주파수에서 상기 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)에 의해 출력될 고주파수 전력에 대한 설정값(33)과, 상기 전송되는 HF 전력에 기초해서 상기 HF 소스(12)를 제어하기 위한 제어기(32)를 구비하는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기.
  21. 제20항에 있어서, 상기 제2 제어 회로는 상기 기본 주파수에 맞추어 조정되는(tuned) 필터(29)를 구비하는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기.
  22. 제20항 또는 제21항에 있어서, 상기 제어기(24, 32)는 우선순위 회로(priority circuit, 26)에 의해 상기 HF 소스(12)에 연결되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기.
  23. 제17항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 HF 케이블(14, 53, 54)에 의해 전송되는 고조파 전력을 결정하기 위한 수단이 제공되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기.
  24. 제17항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 HF 케이블(14, 53, 54)에 의해 전송되는 고주파수 전력을 결정하기 위한 수단이 제공되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기.
  25. 제23항 또는 제24항에 있어서, 하나 이상의 디스플레이 장치(22, 35)가, 상기 HF 케이블에 의해 전송되는 고조파 전력을 디스플레이하기 위해, 및/또는 상기 HF 케이블에 의해 전송되는 고주파수 전력을 디스플레이하기 위해 제공되는 것을 특징으로 하는, 고주파수 발생기.
  26. 전력 공급 장치(10, 10.1)에 있어서,
    고주파수 케이블(14, 53, 54)에 의해 부하(16)에 연결되는, 제17항 내지 제25항 중 어느 한 항에 기재된 고주파수 발생기(11, 11.1, 51, 52)를 구비하는, 전력 공급 장치.
  27. 제26항에 있어서, 적어도 하나의 추가적인 고주파수 발생기(51, 52)가 고주파수 케이블(53, 54)에 의해 상기 부하에 연결되는 것을 특징으로 하는, 전력 공급 장치.
  28. 제26항 또는 제27항에 있어서, 고정된 결합 계수를 구비하는 방향성 결합기가 제공되는 것을 특징으로 하는, 전력 공급 장치.
  29. 제26항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전력 공급 장치는 제1 고주파수 발생기(51)와 제2 고주파수 발생기(52)를 구비하는 것을 특징으로 하는, 전력 공급 장치.
  30. 제29항에 있어서, 상기 제1 고주파수 발생기(51)는 특히 3.39 MHz의 제1 기본 주파수에서 고주파수 전력 신호를 발생시키고, 상기 제2 고주파수 발생기(52)는 특히 13.56 MHz의 제2 주파수에서 고주파수 전력 신호를 발생시키는 것을 특징으로 하는, 전력 공급 장치.
  31. 제29항 또는 제30항에 있어서, 고주파수 발생기들(51, 52) 모두는 고주파수 케이블들(53, 54)에 의해 임피던스 정합 소자들(55, 56)에 각각 연결되며, 상기 임피던스 정합 소자들(55, 56)은 플라즈마 체임버(58)의 전극(57)에 공동으로 연결되는 것을 특징으로 하는, 전력 공급 장치.
  32. 제29항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고주파수 발생기들(51, 52) 각각은 제16항 내지 제18항 중 어느 한 항에 기재된 제1 제어 회로를 구비하는 것을 특징으로 하는, 전력 공급 장치.
  33. 제26항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부하(16)가 플라즈마 장치로서 구성되는 것을 특징으로 하는, 전력 공급 장치.
  34. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 방법의 이용에 있어서, HF 전력은 1 MHz 내지 100 MHz의 범위 내의 기본 주파수들에서, 그리고 1 kW 내지 100 kW의 범위 내의 전력량들에서 발생되는 것인 방법의 이용.
  35. 플라즈마 발생 및 레이저 여기를 위한 시스템에서 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 방법의 이용, 또는 제34항에 기재된 방법의 이용.
KR1020147005498A 2011-07-28 2012-07-25 무선 주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법 및 장치 KR102036936B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011080035.2 2011-07-28
DE102011080035A DE102011080035A1 (de) 2011-07-28 2011-07-28 Verfahren und Vorrichtung zum Schutz von an einen Hochfrequenzgenerator angeschlossenen passiven Komponenten
PCT/DE2012/100223 WO2013013669A2 (de) 2011-07-28 2012-07-25 Verfahren und vorrichtung zum schutz von an einen hochfrequenzgenerator angeschlossenen passiven komponenten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140071347A true KR20140071347A (ko) 2014-06-11
KR102036936B1 KR102036936B1 (ko) 2019-11-26

Family

ID=46980662

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147005498A KR102036936B1 (ko) 2011-07-28 2012-07-25 무선 주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법 및 장치

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9684327B2 (ko)
EP (1) EP2737516B1 (ko)
KR (1) KR102036936B1 (ko)
CN (1) CN103875056B (ko)
DE (1) DE102011080035A1 (ko)
WO (1) WO2013013669A2 (ko)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011080035A1 (de) * 2011-07-28 2013-01-31 Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zum Schutz von an einen Hochfrequenzgenerator angeschlossenen passiven Komponenten
US9337000B2 (en) * 2013-10-01 2016-05-10 Lam Research Corporation Control of impedance of RF return path
US9401264B2 (en) 2013-10-01 2016-07-26 Lam Research Corporation Control of impedance of RF delivery path
DE102015202317A1 (de) * 2015-02-10 2016-08-11 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Leistungsversorgungssystem für einen Plasmaprozess mit redundanter Leistungsversorgung
DE102015212152B4 (de) * 2015-06-30 2018-03-15 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Nicht lineare Hochfrequenzverstärkeranordnung
DE102015212247A1 (de) * 2015-06-30 2017-01-05 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Hochfrequenzverstärkeranordnung
US10109460B2 (en) * 2016-11-30 2018-10-23 Lam Research Corporation Universal non-invasive chamber impedance measurement system and associated methods
DE102018111562A1 (de) * 2018-05-15 2019-11-21 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Vorrichtung und Verfahren zur Ermittlung einer von einem Plasma reflektierten elektrischen Leistung
EP3605582A1 (en) 2018-08-02 2020-02-05 TRUMPF Huettinger Sp. Z o. o. Power converter and power supply system
US11515123B2 (en) * 2018-12-21 2022-11-29 Advanced Energy Industries, Inc. Apparatus and system for modulated plasma systems
US11804362B2 (en) * 2018-12-21 2023-10-31 Advanced Energy Industries, Inc. Frequency tuning for modulated plasma systems
US10720305B2 (en) * 2018-12-21 2020-07-21 Advanced Energy Industries, Inc. Plasma delivery system for modulated plasma systems
CN113539773A (zh) * 2020-04-16 2021-10-22 新动力等离子体株式会社 具有双重输出的高频发生器及其驱动方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020075194A (ko) * 2001-03-22 2002-10-04 서영철 단속적인 정현파 출력을 가지는 고주파 발생기
US20050193279A1 (en) * 2002-04-26 2005-09-01 Felix Daners Device for monitoring medical equipment
KR20070107405A (ko) * 2006-05-03 2007-11-07 삼성전자주식회사 자기진단기능을 갖는 전원시스템
US20090212755A1 (en) * 2004-11-05 2009-08-27 Power Integrations, Inc. Method and apparatus to provide temporary peak power from a switching regulator

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE960018C (de) * 1954-10-22 1957-03-14 Siemens Ag Schutzvorrichtung fuer Sendeanlagen
DD140097A1 (de) * 1978-11-27 1980-02-06 Dieter Nowatzky Kontrolleinrichtung zur ueberwachung der funktionsfaehigkeit von sendeantennen
DE69509046T2 (de) * 1994-11-30 1999-10-21 Applied Materials Inc Plasmareaktoren zur Behandlung von Halbleiterscheiben
KR100677012B1 (ko) * 1997-09-17 2007-01-31 동경 엘렉트론 주식회사 전기 임피던스 매칭 시스템 및 방법
US6313584B1 (en) * 1998-09-17 2001-11-06 Tokyo Electron Limited Electrical impedance matching system and method
AU2003219434A1 (en) * 2002-04-24 2003-11-10 Apit Corp. S.A. Device for treating surfaces of containers with plasma
US7042311B1 (en) * 2003-10-10 2006-05-09 Novellus Systems, Inc. RF delivery configuration in a plasma processing system
US20060172536A1 (en) * 2005-02-03 2006-08-03 Brown Karl M Apparatus for plasma-enhanced physical vapor deposition of copper with RF source power applied through the workpiece
EP1837893A1 (de) * 2006-03-25 2007-09-26 HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG Messeeinrichtung eines HF-Plasmasystems
DE102006052061B4 (de) * 2006-11-04 2009-04-23 Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg Verfahren zur Ansteuerung von zumindest zwei HF-Leistungsgeneratoren
DE102006057529B4 (de) * 2006-12-06 2012-04-12 Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg Kontrollvorrichtung, Energieversorgungssystem und Verfahren
DE102007055010A1 (de) * 2007-11-14 2009-05-28 Forschungsverbund Berlin E.V. Verfahren und Generatorschaltung zur Erzeugung von Plasmen mittels Hochfrequenzanregung
DE102007056468A1 (de) * 2007-11-22 2009-06-04 Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg Messsignalverarbeitungseinrichtung und Verfahren zur Verarbeitung von zumindest zwei Messsignalen
US8018164B2 (en) * 2008-05-29 2011-09-13 Applied Materials, Inc. Plasma reactor with high speed plasma load impedance tuning by modulation of different unmatched frequency sources
US8357264B2 (en) * 2008-05-29 2013-01-22 Applied Materials, Inc. Plasma reactor with plasma load impedance tuning for engineered transients by synchronized modulation of a source power or bias power RF generator
US8324525B2 (en) * 2008-05-29 2012-12-04 Applied Materials, Inc. Method of plasma load impedance tuning for engineered transients by synchronized modulation of a source power or bias power RF generator
US8337661B2 (en) * 2008-05-29 2012-12-25 Applied Materials, Inc. Plasma reactor with plasma load impedance tuning for engineered transients by synchronized modulation of an unmatched low power RF generator
DE102009001355B4 (de) * 2009-03-05 2015-01-22 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Impedanzanpassungsschaltung und Verfahren zur Impedanzanpassung
DE102009046754A1 (de) * 2009-11-17 2011-05-19 Hüttinger Elektronik GmbH + Co.KG Verfahren zum Betrieb einer Plasmaversorgungseinrichtung
US8731496B2 (en) * 2009-12-18 2014-05-20 Quantance, Inc. Power amplifier power controller
DE102011077152B4 (de) * 2011-06-07 2015-08-13 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Verfahren zur Erzeugung eines Arcerkennungssignals und Arcerkennungsanordnung
DE102011080035A1 (de) * 2011-07-28 2013-01-31 Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zum Schutz von an einen Hochfrequenzgenerator angeschlossenen passiven Komponenten
CN102420579A (zh) * 2011-11-16 2012-04-18 中微半导体设备(上海)有限公司 一种自动实现射频功率匹配的方法和系统
US9171700B2 (en) * 2012-06-15 2015-10-27 COMET Technologies USA, Inc. Plasma pulse tracking system and method
US9337000B2 (en) * 2013-10-01 2016-05-10 Lam Research Corporation Control of impedance of RF return path
US9401264B2 (en) * 2013-10-01 2016-07-26 Lam Research Corporation Control of impedance of RF delivery path

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020075194A (ko) * 2001-03-22 2002-10-04 서영철 단속적인 정현파 출력을 가지는 고주파 발생기
US20050193279A1 (en) * 2002-04-26 2005-09-01 Felix Daners Device for monitoring medical equipment
US20090212755A1 (en) * 2004-11-05 2009-08-27 Power Integrations, Inc. Method and apparatus to provide temporary peak power from a switching regulator
KR20070107405A (ko) * 2006-05-03 2007-11-07 삼성전자주식회사 자기진단기능을 갖는 전원시스템

Also Published As

Publication number Publication date
WO2013013669A2 (de) 2013-01-31
US20140159580A1 (en) 2014-06-12
WO2013013669A3 (de) 2013-04-04
CN103875056A (zh) 2014-06-18
EP2737516A2 (de) 2014-06-04
KR102036936B1 (ko) 2019-11-26
CN103875056B (zh) 2017-04-12
EP2737516B1 (de) 2015-06-03
DE102011080035A1 (de) 2013-01-31
US9684327B2 (en) 2017-06-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102036936B1 (ko) 무선 주파수 발생기에 연결된 수동 부품을 보호하기 위한 방법 및 장치
KR100980598B1 (ko) 고주파 전력 공급 시스템
KR101293877B1 (ko) 고주파 전원 장치
JPH0358513A (ja) 整合回路網の自動調整回路
AU2017265250A1 (en) System and method for locating earth fault in power grids
US8018243B2 (en) Measurement signal processing
KR20070042085A (ko) Ｒｆ 플라즈마 공급 장치
WO2011087762A1 (en) Efficient active source impedance modification of a power amplifier
CN108599802B (zh) 一种检测射频故障的方法及装置
JP2008157906A (ja) 出力インピーダンス検出方法およびこの方法を用いたインピーダンスのセンサー、高周波電源につながる負荷側の電力モニターならびに高周波電源の制御装置
US10896810B2 (en) RF generating apparatus and plasma treatment apparatus
US6370252B1 (en) Circuit arrangement for testing the connection of a sound reproducing device to a sound signal source
US10539596B2 (en) Current sensor error compensation method
US20180335463A1 (en) Detection of a protective conductor failure by means of an active shield
KR20190048234A (ko) Rf 전력의 임피던스 매칭 방법
EP2765428B1 (en) Device for automatic testing of power capacitors
JPH10246750A (ja) 共振型絶縁耐電圧試験装置による絶縁耐電圧試験方法
JP2009171523A (ja) アンテナ整合器の整合方法
Jobs et al. DB science 400 kW RF station site acceptance test
JP3597262B2 (ja) Ｎｍｒ受信コイルの同調方法および回路装置
JPH08213920A (ja) 送信電力制御方法および送信電力制御装置
JP6148090B2 (ja) 高周波電源装置
JP6584943B2 (ja) アンテナ状態判定回路、アンテナチューナ、無線通信機、アンテナ状態判定方法
CN103543307A (zh) 保护标准设备免受被检设备输出随机大电流信号冲击的装置
CN105929349B (zh) 用于磁共振断层扫描的发射设备

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant