KR20140036982A

KR20140036982A - 점진적으로 변화하는 기하학 형상을 구비하는 정제기 플레이트

Info

Publication number: KR20140036982A
Application number: KR1020130111406A
Authority: KR
Inventors: 뤽 깅그래스
Original assignee: 안드리츠 인코포레이티드
Priority date: 2012-09-17
Filing date: 2013-09-16
Publication date: 2014-03-26
Also published as: CA2827444A1; US20140077016A1; CN103669073A; EP4365367A3; CN103669073B; NZ615392A; RU2013142235A; US20180214883A1; KR102247923B1; US9968938B2; US10675630B2; JP2014098224A; PL2708644T3; EP2708644B1; TWI661869B; ZA201306796B; BR102013023664B1; EP2708644A2; RU2636165C2; CL2013002661A1

Abstract

브레이커 바 영역에 인접한 플레이트의 회전 축을 향해 실질적인 나선형으로 플레이트의 외주부에 가깝거나 외주부로부터 뻗치는 연속적인 변이 영역을 구비하는 정제기 플레이트 세그먼트.

Description

점진적으로 변화하는 기하학 형상을 구비하는 정제기 플레이트{REFINER PLATE WITH GRADUALLY CHANGING GEOMETRY}

본 발명은 2012년 9월 17일에 출원된 미국 가특허 출원 61/701,825에 대하여 우선권을 주장하며, 전체 내용이 여기에 참조로서 포함된다.

본 개시는 브레이커 바 영역에 가까운 플레이트 세그먼트(또는 섹터) 또는 플레이트의 내부 부분에 가까운 영역으로부터, 플레이트 세그먼트(또는 섹터) 또는 플레이트의 외주부 가까운 영역으로 미치는 연속적인 변이 영역을 생성하는 홈들 및 바들의 패턴을 구비하는 회전하는 정제기 플레이트에 관한 것이다.

종래의 정제기 플레이트들은 일반적으로 매우 거친 바들 및 홈들에 의해 특징지어지는 실질적으로 환형 내부 영역을 포함하고 공급 물질이 상당한 정제 작용 없이 이동의 주어진 방사상(정제기 플레이트의 회전 축으로부터 외주부를 향해) 성분 및 크기가 감소된다. 이것은 브레이커 바 영역으로 불린다. 제2, 환형 외부 영역은 제1 영역으로부터 물질을 수용하고 그것의 내부 부분에서 상대적으로 거친 정제 작용을 수행하고 그것의 외부 부분에서 정제의 높은 정도에 의해 이어진다. 이러한 외부 영역은 정제 영역으로 공지된다.

종래의 정제기 플레이트들의 정제 영역들은 일반적으로 하나 이상의 별개의 실질적으로 환형 정제 영역들을 구비하고, 각각은 그것 자체의 바 및 홈 구성을 구비하고, 바 패턴의 밀도는 가장 내측 영역(공급 영역)으로부터 가장 외측 영역(출구 영역)으로 이동하면서 더 높아진다. 각각의 정제 영역 사이에 변이 영역이 있다. 변이 영역들은 일반적으로 회전 축에 대해 호 내의 상대적으로 짧은 거리 상에 펼치거나 환형이거나 원형으로 된 것으로 나타난다. 변이 영역들은 또한 U.S. 특허 No. 5,383,617호에 개시된 “Z 형상”, “V 형상” 또는 “W 형상” 같이, 다양한 형상들 및 구성들을 포함할 수 있다. 심지어 변이 영역이 특정 영역 상에 펴질 때, 종래의 정제기 플레이트 설계들은 일반적으로 분리된 정제 영역들 사이에 다소 제한적인 변이 영역들 및 상대적으로 일정한 바 및 홈 설계들을 구비하는 매우 분리된 정제 영역들을 구비한다. 정제기 플레이트들이 세그먼트되거나(segmented) 세그먼트되지 않을지라도, 그것들은 보통 디스크 표면 상에 환형 어레이(annular array)로 또는 다수의 세그먼트들 또는 섹터들을 나란히(측면으로) 부착하는 것에 의해 형성되고, 영역 변이들(zone transitions)은 종종 각각의 세그먼트 또는 섹터 상에 방사상으로 연장하는 중앙 축의 어느 한 측 상에 대칭이다.

정제기 플레이트들은 개별적인 섬유들(fibers)로 목재를 분리하기 위해, 게다가 적절한 종이-제작(paper-making) 또는 보드-제작(board-making) 섬유들로 이러한 섬유들을 산출하기 위해 수년 동안 이용되었다. 공정은 매우 에너지-의존적이고 적절한 종이-제작 섬유로 목재를 정제하기 위한 에너지 필요조건을 감소시키는 시도들이 오랫동안 되어 왔다. 에너지 소비를 감소시키는 가장 성공적인 시도들은 산출된 섬유의 품질 및 특성값들에서 허용 불가능한 감소를 초래했다.

힘 및 온도 센서들의 조합을 이용하는 실험실 실험들은 다양한 정제기 플레이트 모델들을 구비하여 이루어졌다. 에너지 소비 및 섬유 품질 모두에 가장 상당한 해로운 기여자는 방사상으로 불균일한 섬유 패드(pad) 분포를 이끄는 정제기 플레이트 상의 패턴이라는 것이 발견되었다. 이것은 섬유의 패드가 특히 내부 가장자리로부터 외부 가장자리로 방사상 방향으로 이동할 때, 정제기 플레이트의 표면 상에 불균일한 두께를 유발한다는 것을 의미한다. 다시 말해서, 최적의 에너지 소비 및 섬유 품질을 획득하기 위해 바람직하지 못한 패턴들은 주어진 방사상 위치 상에 섬유의 더 큰 축적을 초래하는 것들이다. 더 큰 방사상 축적들은 일반적으로 바 및 홈 패턴이 일반적으로 더 거친 입구 패턴으로부터 더 촘촘한 패턴으로 외주부를 향해 변화하는 지점들과, 또는 때때로 홈들 내의 흐름을 제한하는 댐들의 좋지 않은 방사상 분포를 구비하는 것과 연관된다.

정제 성능을 최적화하기 위해, 플레이트의 정제 표면의 완전한 활용이 요구된다. 이는 공급 영역(보통 내부 영역)으로부터 출구 영역으로 바 및 홈 폭들의 점진적인 감소를 요구한다. 그러한 구성은 정제기 플레이트가 정제기의 본래 공급 작용(공급 영역 내의 더 많은 유지(retention))의 조합에 더 잘 어울리게 하고 목재 칩들로부터 섬유 번들(bundles)로, 그런 다음 개별적인 섬유들로 가는 특별한 크기의 점진적인 감소를 일으킨다.

정제기 플레이트 패턴들, 즉 변이 영역들 내에서 사용되는 일반적인 바 및 홈 기하학 형상들은 공급 재고가 가둬지고 큰 섬유 축적이 생기는 영역을 생성한다. 게다가, 하나의 영역에서 큰 섬유 축적은 과도한-정제(over-refining) 및 원치 않는 섬유 절단을 이끈다. 섬유 축적의 낮거나 불충분한 양은 에너지 강도의 올바른 적용을 촉진시키지 못하므로, 과도하게-정제된 영역들 사이의 영역들은 낮은 효율로 사용된다.

변이 영역들의 구성에 의해 야기되는 섬유 축적들(buildups)을 제거하기 위한 이른 시도들은 정제 영역의 외주부를 향해 수렴하는 홈들 및 바들을 구비하는 설계들을 포함하는 것에 의해 이루어진다. 이러한 수렴하는 바 및 홈 설계들을, 그러나, 공급 물질이 수렴하는 채널들 내에 향해지면서 밀어지는(plug) 경향이 있다. 이러한 설계들은 또한 정제기 플레이트 세그먼트 또는 섹터를 가로질러 측면으로 연장하는 라인에 대해 바 각도들을 유지하고 펌핑하는(pumping) 더 넓은 범위를 구비하는 패턴들을 산출하는 경향이 있으며, 정제 영역 내의 더 길고 더 짧은 유지 시간들을 가지는 물질의 일부에 의해 불균일한 정제뿐만 아니라, 정제기 플레이트 표면을 가로질러 더 적은 동종의(homogeneous) 채움 속도(fill rate)를 산출한다.

따라서, 적은 에너지 수준에서 우수하고 균일한 품질의 섬유를 산출하고 우수한 작동을 획득하면서 섬유의 방사상 축적을 제거하기 위해 정제 영역들 사이에 구체적인 방사상 변이 지점을 구비하지 않는 개선된 정제기 플레이트 설계에 대하여 요구된다. 작동 및 섬유 품질에 대해 최소한의 부정적인 효과들을 구비하는 섬유의 축적의 제거에 추가적으로 도움이 되도록 플레이트의 회전 축으로부터 외주부로 점진적으로 촘촘해지는 바 및 홈 패턴을 구비하는 개선된 정제기 플레이트에 대하여 추가적으로 요구된다. 부정적인 효과들 없이 섬유의 축적들을 추가적으로 최소화하기 위해 방사상 방향으로 균일하게 분포될 수 있는, 예를 들어 댐들을 구비하는, 정제기 플레이트 설계 내의 제한들이 또 다르게 요구된다. 본 발명은 이러한 요구들 및 다른 것들에 관한 것이다.

간략하게, 본 발명의 실시예는 플레이트의 내부 부분(공급 영역) 가까이의, 브레이커 바 영역 가까이의 영역으로부터 뻗치고, 플레이트의 외주부 가까이의 영역을 향해 연장하는 대체로 나선형의, 연속적인 변이 영역을 포함한다. 전체의, 조립된 원형 플레이트의 섹터로서, 플레이트 세그먼트의 외부 부분 또는 외주부 가장자리는 제1 호를 형성한다. 플레이트 세그먼트의 내부 부분은 더 짧은 길이의 제2 호를 형성한다. 플레이트 세그먼트의 제1 호 및 제2 호는 평행하는 호들이다. 이러한 개념을 이용하여, 플레이트 세그먼트의 제1 및 제2 호들 사이에 그려진 다른 평행하는 호는 (좌측으로부터 우측으로 플레이트 세그먼트 또는 섹터를 가로질러) 적어도 한 번 연속적인 변이 영역을 교차할 것이다. 여기에서 사용된 것과 같이, “평행하는 호(parallel arc)”는 외부 및 내부 가장자리에 의해 형성된 제1 및 제2 호들에 평행하게 그려진 호를 의미한다. 플레이트 세그먼트의 표면을 따라 그려진 때, 평행하는 호의 각각의 지점은 플레이트의 회전의 중심으로부터 등간격이다. 따라서, 변이 영역의 부분은 정제기 플레이트 세그먼트의 정제 영역 내에 방사상 위치를 교차하는 것으로 그려진 평행하는 호에서 발견될 수 있다. 정제 영역은 외주부에서 가장 가까운 브레이커 바 섹션(section)의 단부로부터 정제 영역의 외주부로 뻗치는 정제기 플레이트 세그먼트의 영역을 포함한다. 그 효과는 정제기 플레이트 세그먼트 또는 섹터의 외주부에 대해 일반적으로 각이 지는, 상대적으로 짧은 정제 영역들의 일부 밴드들을 생성하는 것이다. 변이의 각도는 방사상 라인 및 변이 영역에 대한 접선 라인의 교차에 의해 형성된다. 방사상 라인은 플레이트의 중심 점(회전의 중심)을 통과하는 외주부에 대해 수직인 라인에 의해 형성된다. 연속적이고 대체로 나선형의 변이 영역 사이에서 정제 영역들에 의해 생성된 가시적인 밴드들은 일정한 폭을 구비할 수 있거나 폭은 (정제기 플레이트 상의 방사상 위치에 대해) 밴드의 가장 외측의 부분으로부터 밴드의 가장 내측의 부분으로 변화할 수 있다. 여기에서 사용된 것과 같이, “방사상 위치(radial location)”는 플레이트 세그먼트 상에 그려진 방사상 라인을 따른 어떠한 지점을 의미한다.

본 개시에 따른 변이 영역은 하나의 바 및 홈 치수로부터 다른 바 및 홈 치수로 별개의 브레이크(break)일 수 있거나, 댐의 형상을 취할 수 있으며, 댐은 완전한 표면에서 (바들의 상부와 동일한 높이) 또는 홈들의 바닥 및 바들의 상부에 대한 중간 높이에서 중 어느 하나이거나, 또한 두 개의 인접하는 영역들 사이에 하나 이상의 바 단부들을 연결하는 것에 의해 형성될 수 있다. 게다가, 여기에 개시된 연속적인 변이 영역은 대체로 방사상 라인 및 변이 영역에 대한 접선 사이에 그려진 20° 내지 85°(바람직하게 30° 내지 80°)의 각도로 설정된다. 보다 엄밀하게, 변이 영역은 30° 및 80° 사이의 세그먼트를 통과하는 방사상 라인에 대해 각이 지게 배치된다. 변이 영역은 가시적인 구부러진 라인 또는 곧은 라인, 또는 구부러지고 곧은 라인들의 조합을 생성할 수 있다. 본 발명에 따라, 변이 영역은 나선형의 일반적인 형태로 정제기 플레이트의 정제 영역의 표면 상에 분포된다. 이상적으로, 변이 영역 위치는 정제기 플레이트 세그먼트의 양쪽의 가장자리들에 동일하여, 세그먼트들 또는 섹터들의 완전한 링이 정제기 디스크 상에 나란히 세그먼트들 또는 섹터들을 위치시키는 것에 의해 생성될 때, 변이 영역들은 회전 축을 향해 플레이트의 외주부에서 또는 가까이로부터 연속적이고, 실질적으로 나선형의 경로를 형성하도록 실질적으로 일치한다. 다른 실시예에서, 변이 영역은 정제기 플레이트 세그먼트의 대체로 외부 반경으로부터 정제기 플레이트 세그먼트의 대체로 내부 호로 정제기 플레이트 세그먼트들과 함께 장착되는 정제기 플레이트의 정제 영역에 미치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 라인들의 조합으로 분포된다. 다른 실시예들에서, 변이 영역은 정제기 플레이트의 정제 영역의 표면의 적어도 50%, 또는 적어도 60% 또는 적어도 75%에 미치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 곡선 내에 분포된다. 이것이 본 개시의 바람직한 실시예이나, 변이 영역이 각각의 세그먼트를 가로질러 방사상으로 실질적으로 균일하게 분포되는 한 하나의 세그먼트 또는 섹터로부터 다음 것으로 정렬하지 않는 변이 영역들은 본 발명의 사상 내에 있다.

변이 영역의 지점에서, 정제기 플레이트의 회전 축을 향해 바 및 홈 치수들은 정제기 플레이트 세그먼트의 외주부를 향하는 바 및 홈 치수들보다 더 거칠거나 덜 조밀하다(더 넓고 및/또는 보다 멀리 이격된다). 다시 말해서, 바 및 홈 구성이 두 개의 변이 영역들 사이의 하나의 정제 영역 밴드로부터 다음 것으로 회전 축으로부터 플레이트의 외주부로의 방향으로 이동하면서 더 촘촘해진다(바 밀도가 더 커진다). 회전 축으로부터 플레이트 외주부로 변이 영역 밴드를 가로질러 방사상으로 이동할 때 더 촘촘해지는 바들 및 홈들의 패턴과 함께, 그러한 패턴이 또한 변이 영역들 사이에 위치된 홈들 및 바들의 밴드 내에서 외측으로 이동할 때 더 촘촘해지는 것 또한 바람직할 수 있다. 각각의 변이 영역 밴드의 바들의 밀도의 변화는 단계들에서 더 커질 수 있거나, 점진적으로 변화할 수 있다. 바 및 홈 패턴이 정제 영역의 밴드 내에서뿐만 아니라 변이 영역들을 가로질러 조밀해지는 구성은, 거친 패턴으로부터 촘촘한 패턴으로의 변화가 방사상 방향으로 보다 점진적으로 되므로, 변이 영역 밴드들의 수와 상대적인 각도에 따라, 이상적일 수 있다. 변이 영역들은 완전한 표면 댐, 각각의 영역으로부터 바들의 단부들을 연결하는 서브표면 댐, 연결되고 부분적으로 연결된 바 단부들, 변이 영역들 사이의 별개의 브레이크, 또는 그것의 조합으로부터 형성될 수 있다.

이러한 새로운 기하학 형상의 결과는 바들이 더 이상 연속적이지 않으며, 모든 변이 영역을 가로질러 아래로 끊어져서 바들이 예를 들어, 댐을 가로지르기 전과 후에 결속되지 않는다는 것이다. 정제기 플레이트의 새롭게, 점진적으로 변화하는 기하학 형상은 두 개 이상의 정제 영역들을 구비하는 모든 정제기 플레이트들 그리고 곧은 바들, 구부러진 바들, 톱니 모양의(serrated) 바들, 대수의(logarithmic) 나선 형상 등에 한정되지 않고 포함하는, 모든 공지된 바 및 홈 형상들에 대하여 적용 가능하다. 플레이트들은 또한 기계적 정제기들 내에서 사용될 수 있으며, 피프릴레이터(fibrillator), 섬유해리기(fiberizer), 주요 정제기, 낮은 농도(consistency) 정제기, 중간 농도 정제기, 높은 농도 정제기, 원뿔형 정제기, 단일 디스크 정제기, 다수 디스크 정제기 등에 국한되지 않는다.

일부 실시예들에서, 플레이트 패턴은 가역적이고, 변이 영역은 입구로부터 출구로 연속적이지 않을 수 있으며, 세그먼트 또는 섹터 내의 중앙 라인을 가로질러 반영될 수 있거나, 이중의 변이 영역 어레이(array)를 형성할 수 있으며, “V”, “W”, 반전된 “V” 또는 “W”, 또는 “X-패턴”으로 교차할 수 있다. 본 발명의 이러한 특징들, 및 다른 특징들 및 이점들은 바람직한 실시예들의 다음의 상세한 설명이 첨부된 도면들과 함께 결합하여 읽어질 때 당업자들에게 보다 명백하게 될 것이다.

본 명세서 내에 포함되어 있음.

도 1은 실질적으로 일정한 폭의 별개의 밴드들을 구비하는 정제기 플레이트 세그먼트를 도시하고, 각각은 실질적으로 평행한 바 패턴들 특징으로 한다.
도 2는 실질적으로 변화하는 폭의 별개의 밴드들을 구비하는 정제기 플레이트 세그먼트를 도시하고, 각각은 실질적으로 평행한 바 패턴들을 특징으로 한다.
도 3은 플레이트의 회전 방향이 가역적이고 변이 영역들은 반전된 “V”형상을 이루는 플레이트를 위한 정제기 플레이트 세그먼트를 도시한다.
도 4는 바들이 X-형상의 변이 영역들을 형성하도록 위치되는 가역적인 정제기 플레이트 세그먼트를 도시한다.
도 5는 정제기 플레이트 세그먼트 변이 영역들, 변이의 각도 및 방사상 또는 각이 진 라인을 도시한다.
도 6은 방사상 또는 각이 진 호를 정의하는 정제기 플레이트 세그먼트를 도시한다.
도 7은 별개의 밴드들을 구비하는 정제기 플레이트 세그먼트를 도시하고, 각각은 변이 영역들을 위해 더 가파른 각도를 구비하는 실질적으로 평행한 바 패턴들을 특징으로 한다.
도 8은 밴드들을 구비하는 정제기 플레이트 세그먼트를 도시하고, 여기서 접해있는 밴드들로부터 바들의 단부들이 연결된다.

바람직한 실시예들의 앞선 상세한 설명은 예시적이고 설명적인 목적을 위해서면 나타내지고 본 발명의 범위 및 사상을 제한하거나 철저하게 하도록 의도되지 않는다. 실시예들은 본 발명의 이론들 및 그것의 실제 적용을 가장 잘 설명하기 위해 표현되고 선택된다. 당업자는 본 발명의 범위 및 사상으로부터 벗어나지 않고 본 명세서에 개시된 본 발명에 많은 변형들이 이루어질 수 있다는 것을 인식할 것이다.

정제기 플레이트 세그먼트들 또는 섹터들의 다양한 실시예들에 따라 정제기 플레이트 설계의 예시적인 실시예들이 도 1-4 및 도 7-8에 도시된다. 정제기 플레이트 세그먼트(섹터)의 실시예는 대체로 나선의, 연속적인 변이 영역을 포함하고, 그것은 플레이트의 출구 영역 가까이의 영역으로부터 뻗치고 플레이트의 공급 영역을 향해 연장한다. 이러한 개념을 이용하여, 플레이트 세그먼트의 제1 및 제2 호들 사이에 그려진 평행한 호는 적어도 한 번 연속적인 변이 영역을 교차하여 변이 영역의 일부가 정제기 플레이트의 정제 영역 내의 어떠한 방사상 위치에서 발견될 수 있다. 상대적으로 짧은 정제 영역들의 일부 밴드들이 생성되며, 대체로 정제기 플레이트 세그먼트의 외주부에 대해 각이 진다. 변이의 각은 변이 영역에 접한 라인 및 방사상 라인 사이에 형성된 각도이고, 약 20° 내지 85°의 각도이다. 연속적이고 대체로 나선의 변이 영역 사이의 정제 영역들에 의해 생성된 가시적인 밴드들은 일정한 폭을 구비할 수 있거나, 폭은 (정제기 플레이트에 대한 각 위치에 대하여) 밴드의 가장 외측의 부분에서 밴드의 가장 내측의 부분으로 변화할 수 있다. 이러한 개념의 많은 변형들이 생성될 수 있으며, 다음의 도면들은 본 발명의 예시이다.

정제기 디스트 상에 장착을 위해 정제기 플레이트 세그먼트 또는 섹터를 위한 패턴이 개발되었다. 패턴은 정제기 플레이트 세그먼트 또는 섹터의 내부 호에 내부 반경 및 외주부에서 외부 반경 그리고 다수의 밴드들 내에 내부 호 및 외주부 사이에 배치된 홈들 및 바들의 패턴을 포함하는 정제 영역을 포함한다. 각각의 밴드 내의 바들의 패턴들은 밀도를 구비하고, 각각의 밴드 내의 바들의 밀도는 내부 호에 가장 가까운 영역으로부터 외주부에 가장 가까운 영역으로 더 커진다. 변이 영역은 정제 영역의 대체로 내부 호로 대체로 외주부로부터 정제기 플레이트와 함께 장착된 정제기 플레이트의 정제 영역에 미치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 라인 내에 분포되고, 변이 영역은 20° 및 85° 사이의 세그먼트를 통과하는 방사상 라인에 대해 각이 지게 배치된다.

본 발명의 일부 실시예들에서, 정제기 플레이트 세그먼트는 X의 형상으로 연속적인 변이 영역 및 홈들 및 바들의 패턴을 구비하는 정제 영역을 포함한다. 이러한 다이아몬드 형상들은 변이 영역들에 의해 형성된 X 형상들에 의해 정제 영역 내부에 생성된다. 추가적으로, 각각의 다이아몬드 형상 내부의 홈들 및 바들의 패턴 내의 바들의 밀도는 내부 호에 더 가까운 다이아몬드 형상으로부터 내부 호로부터 더 먼 다이아몬드 형상으로 방사상으로 이동할 때 더 커진다(조밀해진다).

추가적인 실시예들은 정제 영역 내부에 변이 영역 및 홈들 및 바들의 패턴을 구비하는 정제 영역을 포함하는 정제기 플레이트 세그먼트를 포함한다. 정제 영역은 나선형 밴드들을 형성하는 변이 영역을 포함하고, 하나 이상의 바들은 두 개 이상의 변이 영역들을 가로질러 뻗친다. 바들의 패턴은 내부 호로부터 외주부를 향하는 방향으로 변이 영역을 가로지를 때 조밀해진다. 정제기 플레이트 세그먼트는 제1 측면 가장자리 및 제2 측면 가장자리를 포함할 수 있으며, 제1 측면 가장자리는 정제기 플레이트 세그먼트의 내부 호에 가장 가깝고, 제2 측면 가장자리는 세그먼트의 외부 호에 가장 가까우며, 바들의 패턴은 제1 측면 가장자리로부터 제2 가장자리로의 방향으로 이동할 때 더 조밀해진다.

본 발명은 회전하는 디스크 정제기 내에 설치를 위해 실질적으로 원형 디스크(disc; 미도시)에 부착된 정제기 플레이트에 관한 것이고, 플레이트는 다수의 인접한 정제기 플레이트 세그먼트들(refiner plate segments; 10)을 포함하고, 각각의 세크먼트(10)는 방사상으로 연장하는 중앙 축(central axis; 20) 및 교대로 들어올려지는 바들(alternating raised bars; 30)의 패턴(pattern) 및 바들(30) 사이에 정의된 홈들(grooves; 40)을 구비한다. 바들(30) 및 홈들(40)은 각각의 바(30)가 방사상으로 내부 및 외부 단부들에 의해 정의된 길이를 구비하도록 실질적으로 평행하게 연장한다.

도 1은 각각이 실질적으로 일정한 길이를 구비하는, 실질적으로 평행하는 바들(30)의 별개의 정제 영역 밴드들(refining zone bands; 50)을 구비하는 정제기 플레이트 세그먼트(10)를 도시한다. 이 실시예에서, 주어진 밴드, 예를 들어 50a, 50b, 및 50c 내에서 바들(30)의 밀도는 밴드를 따라 방사상으로 그리고 접선방향으로(tangentially) 이동할 때 더 커지고(바들(30)은 보다 밀접하게 이격된다), 예를 들어, 밴드(50a)에서의 바들(30)은 (세그먼트(10)의 내부 호(inner arc; 70)에서 가장 가까운) 제2 측면 가장자리(second lateral edge; 130)로부터 (출구 영역에서 플레이트의 외주부(outer periphery; 90)에서 가장 가까운) 제1 측면 가장자리(first lateral edge; 120)에서 세그먼트(10)의 반대되는 측으로 갈 때 보다 밀접하게 이격된다. 바들(30)의 밀도는 또한 바들(30)의 하나의 밴드(50)로부터 바들(30)의 다음 밴드(50)로 (예를 들어, 밴드 50a에서 50b로, 밴드 50b에서 50c로) 플레이트 세그먼트(10)의 외주부(90)를 향해 방사상으로 이동할 때 더 커진다. 방사상 방향으로 바들(30)의 밴드들(50) 사이의 이러한 공간(spacing) 변화는 정제기 플레이트 세그먼트(10)의 표면에 대해 물질의 연속적이고, 덜 제한된 흐름을 초래하고, 정제 영역(refining zone; 110)에 대해 물질의 보다 균일한 분포를 제공한다.

정제기 플레이트 세그먼트(10)는 매우 거친(coarse) 바들(30) 및 홈들(40)에 의해 특징지어지는 브레이커 바 영역(breaker bar zone; 100)을 더 포함하고 여기서 공급 물질은 상당한 정제 작용 없이 (외주부(90)를 향해 정제기 플레이트 세그먼트(10)의 내부 호(70)로부터) 이동의 주어진 방사상 성분 및 크기가 감소된다. 브레이커 바 영역들(100)은 모든 정제기 플레이트 세그먼트 내에 나타나지 않고 본 발명의 범위에 영향을 미치지 않는다. 정제 영역(110)은 브레이커 바 영역(100)으로부터 물질을 수용하고 상대적으로 거친 정제 작용을 초기에 수행하고, 공급 물질이 플레이트 세그먼트(10)의 외주부(90)를 향해 이동되면서 상대적으로 촘촘해지고, 밀접하게 이격된 바들(30) 및 홈들(40)에 대한 점진적인 변화는 정제 영역(110) 내부에서 정제의 점진적으로 더 높은 정도를 제공한다.

도 1의 실시예는 댐들(dams; 140)에 의해 분리될 수 있는 바 패턴의 선명한 별개의 밴드들(50)을 구비하는 정제기 플레이트 세그먼트(10)를 도시한다. 변이의 각도는 플레이트 세그먼트(10)의 중앙을 통해 내부 호(70)로부터 외주부(90)에 수직한 외주부(90)로 연장하는 중앙 축(20) 및 변이 영역(transition zone; 55)의 가장자리에 대한 접선에 의해 형성되고, 각도 θ로 나타내진다. 이러한 각이 진 밴드들(50)을 따라, 바들(30)은 실질적으로 평행한다. 세그먼트(10)의 각각의 바(50)는 세그먼트(10)의 제1 측면 가장자리(120)에서 시작해서 제2 측면 가장자리(130)를 향해, 내부 호(70)(외측)로부터 멀리 또는 (내측으로) 향해 중의 어느 하나로, 구부러지거나 대각선의 대략의 라인으로 나아간다. 도 1에 도시된 예시적인 실시예에서, 좌측(left-hand side) 상에 세그먼트(10)의 제1 측면 가장자리(120)에서 시작할 때, 밴드(50)는 내부 호(70)를 향해 우측(right-hand side) 상에 제2 측면 가장자리(130)에 내부로 이동한다.

바들(30)의 밀도는 (내부 호(70)에 가장 가까운) 밴드(50)의 제1 가장자리(60)(밴드(50b)의 가장자리들은 예시로서 여기에 도시된다)에서 변이 영역(55)으로부터 (외주부(90)에 가장 가까운) 밴드(50)의 제2 가장자리(80)에서 변이 영역(55)으로 이동할 때 주어진 밴드(50) 내부에서 더 커진다(바들(30)이 보다 밀접하게 이격된다). 바들(30)의 공간은 모든 바(30)에서, 모든 몇몇의 바들(30)에서 점진적으로 변화하거나, 전체 밴드(50)를 가로질러, 한 번, 두 번 또는 그 이상으로 변화할 수 있다. 추가적으로, 하나의 밴드(50)로부터 다음 밴드(50)로 (예를 들어, 밴드(50a)에서 밴드(50b)로) 각이 지게 외측으로 (외주부(90)를 향해) 이동할 때, 바들(30)은 각이 지게 외측으로 향하는 밴드(50)(이 예시에서, 50b) 내에 보다 밀접하게 이격된다. 특정한 실시예들에서 밴드들(50)을 가로질러 측면으로, (또는 대각선으로) 게다가 환형으로 (하나의 밴드(50)로부터 다음으로 외주부(90)를 향해, 예를 들어 50a에서 50b로 50c로) 바 공간의 이러한 변화의 효과는 방사상 방향으로 외측으로 이동하는 매우 점진적으로 변화하는 바 공간을 생성하고 바 패턴은 흐름 제약(flow restriction)에서 정점(peak)을 유발할 수 있는 환형(annular) 위치에서 더 큰 변화 없이 외주부(90)를 향해 점진적으로 밀집해진다(촘촘해진다).

밴드들(50)은 가장 외측의 변이 영역들(55) 내의 연속적인 표면 댐(surface dam; 140)에 의해 분리되고, 이 경우에 연속적인 서브표면 댐(subsurface dam; 150)이 가장 내측의 변이 영역들(55)에서 바들(30)의 단부들을 연결하기 위해 사용된다. 표면 및 서브표면 댐들(140, 150)의 이용은 대안적인 실시예들 내에서 변화할 수 있으며, 댐이 없는 것(no dam)을 특징으로 하는 변이 영역들(55) 또한 가능하고, 바들(30)의 단부들은 올바른 공급 또는 제한적인 효과를 성취하기 위해 요구되는 것과 같이 연결되거나 분리되고, 정사각형이거나, 모서리를 딴다(chamfered).

변이 영역들(55)은 나선/동심(concentric) 방식으로 정제기 플레이트의 표면이 걸치므로, 공급 물질을 위해 흐름 제약 내의 정점을 유발할 수 있는 각이 지게- 집중된(annularly-concentrated) 변이 영역이 없다. 추가적으로, 바들(30)의 외부 밴드들(50)에 대하여 도 1에 도시된 것과 같이, 변이 영역(55)으로서 연속적인 표면 댐(140)을 이용할 때, 그러한 표면 댐(140)은 또한 플레이트 상에 방사상으로 균일하게 분포되고 유사한 환형 위치 상에 발견되는 많은 표면 댐들(140)에 의해 공급 물질의 환형 집중을 유발할 수 없다.

제1 실시예에서, 바들(30)의 밴드들(50)은 실질적으로 일정한 길이 “l”이고 서로에 대해 평행하고, 그것들은 연속적이어서, 나란히 두 개의 플레이트 세그먼트들(10)을 위치시킬 때, 바들(30)의 밴드들(50)이 제1 및 제2 가장자리들(60, 80)에 연결된 나선형 밴드들(50)의 실질적으로 연속적인 세트를 형성한 것이다. 이러한 특징이 바람직한 실시예에서 제공되는 반면, 다른 실시예들은 제1 및 제2 가장자리들(60, 80)에서 곧바로 정렬하지 않는 밴드들(50)을 포함한다. 이러한 패턴들은 홈들(40) 및 바들(30)의 거친 패턴으로부터 홈들(40) 및 바들(30)의 상대적으로 촘촘한 패턴으로 내부 호(70)로부터 외주부(90)로 효과적으로 점진적인 변이를 제공하고, 여기에 설명된 것과 같이 플레이트 세그먼트들(10)을 구비하여 장착된 정제기 플레이트의 표면 상에 공급 물질의 불균일한 방사상 축적을 유발하는 경향이 있는 선명한 변이 영역(55)을 구비하지 않는다.

이러한 개념을 이용하여, 제1 측면 가장자리(120)에서 제2 측면 가장자리(130)로 방사상 위치에서 플레이트 세그먼트(10)를 가로질러 그려진 평행한 호는 적어도 한 번 실질적으로 연속적인 변이 영역(55)을 교차할 것이다. 상기 다른 방식으로, 변이 영역(55)의 부분은 여기에 도시된 정제기 플레이트 세그먼트들(10)을 구비하여 장착된 정제기 플레이트의 정제 영역(110) 내에 방사상 위치에서 발견될 수 있다. 그 효과는, 변이 영역(55)에 대한 접선 및 방사상 라인에 대해 대체로 각이 진, 비교적 짧은 정제 영역들(110)의 일부 밴드들(50)을 생성하는 것이다. 변이의 각도θ는 약 20° 내지 85°, 바람직하게 30° 내지 80°일 수 있다. 실질적으로 연속적이고 대체로 나선형의 변이 영역(55) 사이에 정제 영역들(110)에 의해 생성된 가시적인 밴드들(50)은 일정한 길이 “l”의 바들(30)을 구비하거나 길이 “l”는 변화할 수 있다. 추가적으로, 가시적인 밴드(50) 내부의 바들의 폭(w)은 일정하거나 변화할 수 있다. 이상적으로, 모든 실시예들을 위해 여기에 설명된 점진적으로 변화하는 기하학 형상(geometry)(패턴)은 플레이트 세그먼트(10)의 정제 영역의 표면의 적어도 50%(또는 60% 또는 75%)를 덮는다. 변이 영역(55) 내에, 예를 들어, 10% 보다 크지 않은, 적은 단절(discontinuity)이 있을 수 있으나, 본 발명의 사상 또는 범위 내에 유지된다. 구체적으로, 변이 영역은 정제 영역의 표면적의 10%보다 적지 않게 되는 홈들 및 바들의 패턴 내에 하나 이상의 단절들을 구비할 수 있다. 본 개시의 목적을 위해, 단절은 정제기 플레이트 세그먼트 가장자리들에 못 미치게 되는 홈들 및 바들의 패턴에 의해 전체 정제 영역을 실질적으로, 그러나 완전히 덮지 않는 패턴이다(“나선형(spiral)”은 플레이트의 가장자리들과 평평하지 않아, 변이 영역이 주어진 반경에서 정지하게 하고 약간 다른 반경에서 다시 시작하게 한다).

도 2는 실질적으로 평행하나 변화하는 길이“l”의 바들의 패턴으로 이루어지는 별개의 밴드들(250)을 구비하는 점진적으로 변화하는 기하학 형상을 가지는 정제기 플레이트 세그먼트(210)의 제2 실시예를 도시한다. 이 실시예에서, 실질적으로 평행하는 바들(230)의 밴드들(250)은 변화 가능한 길이“l”이고, 내부 호(270)에 가장 가까운 바들(230)의 길이“l”에 비해 외주부(290)를 향해 더 짧은 길이“l”를 구비한다. 도 2에 도시된 실시예의 나머지 특징들은 도 1에 설명된 것들과 유사하다. 주어진 밴드(250) 내에서 바들(230)의 밀도는 내부 호(270)에서 나선형으로 출발하고 외주부(290)를 향해 밴드(250)를 따라 이동하는 밴드(250)를 따를 때 더 커진다(보다 밀접하게 이격된다). 바들(230)의 밀도는 또한 하나의 밴드(250)로부터 다음 밴드(250)로 내부 호(270)로부터 외주부(290)를 향해 이동할 때 증가한다. 이러한 방향들로 밴드들(250) 사이에 바들(230)의 밀도의 변화는 정제기 플레이트 세그먼트(210)의 표면 상에 물질의 연속적이고, 덜 제한된 흐름을 초래한다.

도 3은 가역적인(reversible) 점진적으로 변화하는 기하학 형상을 구비하는 정제기 플레이트 세그먼트(310)의 실시예를 도시한다. 이러한 경우에, 변이 영역(355)은 “V-형상” 또는 “반전된(inverted) V-형상”을 형성하며, 이는 동일한 공급 특징들이 정제기 플레이트 세그먼트들(310)과 함께 장착된 정제기 플레이트의 회전의 양쪽 방향들 내에서 바람직하기 때문이다. 실질적으로 평행한 바들(330)의 밴드들(350)은 나선형 방식으로 연속적으로 연장하기 않고; 그것들은 플레이트 세그먼트(310)의 중앙 축을 가로질러 패턴을 반영한다. 이러한 패턴은 도 1 및 2와 같이, 그러나 가역적인 방식으로, 댐들(340) 및 변이 영역들(355)의 균일한 분포 및 바 밀도(바들(330)의 공간)의 동일한 점진적인 변화를 제공한다.

도 4는 점진적으로 변화하는 기하학 형성을 구비하는 가역적인 정제기 플레이트 세그먼트(410)의 또 다른 실시예를 도시한다. 이러한 경우에, “V-형상”을 형성하는 변이 영역(455)을 이용하는 대신에, 본 실시예의 변이 영역(455)은 “X-형상”을 형성하고, 또한 양쪽 방향들(제1 측면 가장자리(425)로부터 제2 측면 가장자리(435)로 내부 호(470)를 향해 나선형(spiraling), 및 제2 측면 가장자리(435)로부터 제1 측면 가장자리(425)로 내부 호(470)를 향해 나선형)에서 그것 자체를 교차하는, 실질적으로 연속적인 나선형을 형성한다. 다시, 바들(430)의 밀도는 내부 호(470)로부터 외주부(490)를 향해 이동할 때 점진적으로 커진다(공간이 더 좁아진다). 이 예시적인 실시예에서, 바들(430)은 교차하는 변이 영역들(455)에 의해 생성된 각각의 다이아몬드-형상으로 된 정제 영역(450) 내에 실질적으로 동일한 공간을 구비하여 실질적으로 평행한다. 바들(430)의 밀도는 다이아몬드(450)로부터 다이아몬드(450)로 내부 호(470)로부터 외주부(490)를 향해 각각 방사상 스텝(step)을 구비하여 증가한다.

도 5는 도 1에 도시된 것과 같이 플레이트 세그먼트 내에 홈들 및 바들의 밴드들 사이에 변이 영역들(540)의 위치를 도시한다. 변이 영역(540)에 대한 접선 라인(tangent line; 520)은 변이의 각도θ를 형성하기 위해 방사상 라인(radial line; 510)을 교차한다. 방사상 라인(510)은 회전 축을 통과하는 외주부(550)에 수직한 라인에 의해 형성된다.

도 6은 평행하는 호(640)를 도시하고, 평행하는 호(640)의 모든 점들은 플레이트 세그먼트의 외주부(610)에 평행하고(또는 외주부(610)로부터 일정한 거리이고), 정제기 플레이트의 회전 축(650)으로부터 등간격이다. 정제 영역 내의 평행하는 호(640) 상에, 하나 이상의 나선형 변이 영역들은 그것을 교차할 것이다.

도 7은 도 2와 유사한, 정제기 플레이트 세그먼트(710)의 다른 실시예를 도시하고, 변이 영역들(755)은 도 1 또는 2에 도시된 것보다 더 가파른 변이 각도θ를 구비한다. 도 2와 같이, 바들(730)의 패턴은 정제기 플레이트 세그먼트(710) 또는 섹터의 외주부(790)를 향해 변이 영역(755)를 교차할 때 더 밀집된다. 바들(730)의 패턴은 또한 외주부(790)를 향해 외측으로 나선형일 때, 정제 표면의 각각의 밴드(750) 내부에서 더 밀집된다. 더 가파른 변이의 각도θ는 도 1 및 2에 도시된 것과 같이 덜 각이 진 변이 영역들과 대조적으로, 특정 적용들에서 이로울 수 있다.

도 8은 정제기 플레이트 세그먼트(810)의 다른 실시예를 도시하고 각각의 나선형 밴드(850)의 바들(830)의 단부들은 연결된다(일부 바들(830)은 변이 영역(855)과 일치하거나 종점(terminus)을 구비하는 것보다 변이 영역들(855)을 가로질러 뻗는다). 홈들(840) 및 바들(830)의 패턴 상에 그려진 세 개의 나선형 라인들(802, 803 및 804)은 변이 영역들(855)이 위치된 곳, 예를 들어 정제기 플레이트 세그먼트(810)의 외주부(890)를 향해 변이 영역(855)을 가로지를 때 바들(830)의 패턴이 더 밀집되는 곳을 도시한다. 바들(830) 및 홈들(840)의 패턴은 정제기 플레이트 세그먼트(810)의 제2 측면 가장자리(833)로부터 밴드(850) 내부의 정제기 플레이트 세그먼트(810)의 제1 측면 가장자리(834)로 이동하면서, 또한 플레이트 세그먼트(810)의 외주부(890) 향하여 방사상으로 이동할 때 밴드에서 밴드로 가면서(예를 들어, 밴드(850a)에서 밴드(850b)로) 점진적으로 촘촘해진다(밀집된다). 방사상 방향으로 바들(830)의 밴드들(850) 사이의 이러한 공간 변화는 정제기 플레이트 세그먼트(810)의 표면 상에 물질의 연속적이고, 덜 제한된 흐름을 초래하고, 정제 영역 상에 물질의 보다 균일한 분포를 제공한다. 이 실시예에서, 밴드들(850) 사이의 변이 영역들(855)은 각각의 밴드들(850) 사이에 연결부들(connections; 895)과 함께 이루어진다. 이 실시예의 변이 영역(855)은 많은 다른 변형들을 구비할 수 있으며, 예를 들어 변이 영역들(855)의 부분이 댐들 및/또는 단절들을 포함하는 반면 바들(830)의 일부를 연결할 수 있다.

본 발명이 도면들에서 도시되거나 여기에 개시된 특별한 구조들 및 방법 단계들에 제한되지 않을 뿐 아니라, 종래 기술에서 공지된 청구항들의 범위 내에 변경들 또는 등가물들을 포함할 수 있다. 여기에 개시된 디바이스들은 다양한 정제기 플레이트 적용들 등에 대해 유용성을 발견할 것이라는 것은 당업자들에 의해 인지될 것이다.

10: 정제기 플레이트 세그먼트
20: 중앙 축
30: 바
40: 홈
50: 밴드
55: 변이 영역
60: 제1 가장자리
70: 내부 호
80: 제2 가장자리
90: 외주부
100: 브레이커 바 영역
110: 정제 영역
120: 제1 측면 가장자리
130: 제2 측면 가장자리
140: 표면 댐
150: 서브표면 댐
210: 정제기 플레이트 세그먼트
230: 바
250: 밴드
270: 내부 호
290: 외주부
310: 정제기 플레이트 세그먼트
330: 바
340: 댐
350: 밴드
355: 변이 영역
410: 정제기 플레이트 세그먼트
425: 제1 측면 가장자리
430: 바
435: 제2 측면 가장자리
450: 정제 영역
455: 변이 영역
470: 내부 호
490: 외주부
510: 방사상 라인
520: 접선 라인
540: 변이 영역
550: 외주부
610: 외주부
640: 호
650: 회전 축
710: 정제기 플레이트 세그먼트
730: 바
750: 밴드
755: 변이 영역
790: 외주부
802, 803, 804: 나선형 라인
810: 정제기 플레이트 세그먼트
830: 바
833: 제2 측면 가장자리
834: 제1 측면 가장자리
840: 홈
850: 밴드
855: 변이 영역
890: 외주부
895: 연결부

Claims

정제기 디스크 상에 장착을 위해 정제기 플레이트 세그먼트 또는 섹터를 위한 패턴에 있어서,
외주부에 외부 반경 및 내부 호에 내부 반경;
바들의 패턴 및 다수의 밴드들 내에 외주부 및 내부 호 사이에 배치된 홈들을 포함하는 정제 영역, 각각의 밴드 내의 바들의 패턴들은 밀도를 구비하고, 각각의 밴드 내의 바들의 밀도는 상기 내부 호에서 가장 근접한 영역에서 상기 외주부에서 가장 근접한 영역으로 더 커짐; 및
대체로 상기 외주부로부터 대체로 상기 정제 영역의 내부 호로 정제기 플레이트 세그먼트들과 함께 장착된 상기 정제기 플레이트의 상기 정제 영역에 뻗치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 라인 내에 분포된 변이 영역, 상기 변이 영역은 20° 및 85° 사이의 세그먼트를 통과하는 방사상 라인에 대해 각이 지게 배치됨;
을 포함하는 정제기 디스크 상에 장착을 위해 정제기 플레이트 세그먼트 또는 섹터를 위한 패턴.
제1항에 있어서,
상기 바들 및 홈들의 패턴은 상기 내부 호에 가장 가까운 정제 영역의 부분으로부터 상기 외주부에 가장 가까운 정제 영역의 부분으로 이동하면서 정제 영역 밴드 내부에서 조밀해지는 정제기 플레이트 세그먼트.
제1항에 있어서,
상기 변이 영역은, 완전한 표면 댐, 각각의 영역으로부터 바들의 단부들을 연결하는 서브표면 댐, 연결되고 부분적으로 연결된 바 단부들 또는 변이 영역들 사이에 별개의 브레이크 중 하나 이상을 포함하는 정제기 플레이트 세그먼트를 위한 패턴.
제2항에 있어서,
상기 변이 영역은, 완전한 표면 댐, 각각의 영역으로부터 바들의 단부들을 연결하는 서브표면 댐, 연결되고 부분적으로 연결되는 바 단부들 또는 변이 영역들 사이에 별개의 브레이크 중 하나 이상을 포함하는 정제기 플레이트 세그먼트를 위한 패턴.
제2항에 있어서,
상기 변이 영역은 30° 및 80° 사이의 세그먼트를 통과하는 방사상 라인에 대해 각이 지게 배치되는 정제기 플레이트 세그먼트를 위한 패턴.
제2항에 있어서,
상기 변이 영역은 대체로 상기 외부 반경으로부터 대체로 상기 내부 호로 정제기 플레이트 세그먼트들과 함께 장착된 상기 정제기 플레이트의 상기 정제 영역에 뻗치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 라인들과 조합하여 분포되는 정제기 플레이트 세그먼트를 위한 패턴.
제2항에 있어서,
상기 변이 영역은 상기 정제기 플레이트의 상기 정제 영역의 표면의 적어도 50%에 미치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 곡선 내에 분포되는 정제기 플레이트 세그먼트를 위한 패턴.
제2항에 있어서,
상기 변이 영역은 상기 정제기 플레이트의 상기 정제 영역의 표면의 적어도 60%에 미치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 곡선 내에 분포되는 정제기 플레이트 세그먼트를 위한 패턴.
제2항에 있어서,
상기 변이 영역은 상기 정제기 플레이트의 상기 정제 영역의 표면의 적어도 75%에 미치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 곡선 내에 분포되는 정제기 플레이트 세그먼트를 위한 패턴.
제6항에 있어서,
상기 변이 영역은 상기 정제기 플레이트의 상기 정제 영역의 표면의 적어도 50%에 미치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 곡선 내에 분포되는 정제기 플레이트 세그먼트를 위한 패턴.
제6항에 있어서,
상기 변이 영역은 상기 정제기 플레이트의 상기 정제 영역의 표면의 적어도 60%에 미치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 곡선 내에 분포되는 정제기 플레이트 세그먼트를 위한 패턴.
제6항에 있어서,
상기 변이 영역은 상기 정제기 플레이트의 상기 정제 영역의 표면의 적어도 75%에 미치는 실질적으로 나선 형상을 형성하는 곡선 내에 분포되는 정제기 플레이트 세그먼트를 위한 패턴.
제8항에 있어서,
상기 연속적인 변이 영역은 상기 정제 영역의 표면적의 10%보다 적게 되는 홈들 및 바들의 패턴 내에 하나 이상의 단절들을 구비하는 정제기 플레이트 를 위한 패턴.
제1항에 있어서,
상기 변이 영역은 상기 정제기 플레이트의 정제 영역의 표면의 적어도 50% 상에 방사상으로 분포되는 정제기 플레이트 세그먼트.
제1항에 있어서,
상기 정제 영역은 상기 정제기 플레이트 세그먼트의 중앙 축을 따라 반영되고, 상기 변이 영역은 상기 정제 영역의 실질적으로 모든 표면에 미치고, 상기 변이 영역은 실질적으로 “V”, “W”, 및 반전된 “V” 또는 반전된 “W”와 같이 형성되는 정제기 플레이트 세그먼트.
제1항에 있어서,
상기 정제 영역은 상기 외주부에 가장 가까운 브레이커 바 섹션의 단부로부터 상기 정제 영역의 외주부로 미치는 상기 정제기 플레이트 세그먼트의 영역을 포함하는 정제기 플레이트 세그먼트.
X의 형상으로 연속적인 변이 영역 및 홈들 및 바들의 패턴을 구비하는 정제 영역을 포함하고, 다이아몬드 형상들이 상기 변이 영역들에 의해 생성된 X 형상들에 의해 상기 정제 영역 내부에 생성되고, 각각의 다이아몬드 형상 내부에 홈들 및 바들의 패턴 내에 바들의 밀도는 내부 호에 더 가까운 다이아몬드 형상으로부터 상기 내부 호로부터 더 먼 다이아몬드 형상으로 방사상으로 이동하면서 더 조밀해지는 정제기 플레이트 세그먼트.
바들 및 홈들의 패턴을 구비하는 정제 영역 및 상기 정제 영역 내부에 변이 영역을 포함하고, 상기 정제 영역 및 상기 변이 영역은 나선형 밴드들을 형성하고, 하나 이상의 바들은 두 개 이상의 변이 영역들을 가로질러 뻗치고, 상기 바들의 패턴은 외주부를 향해 내부 호로부터의 방향으로 상기 변이 영역을 가로지를 때 더 조밀해지는 정제기 플레이트 세그먼트.
제1항에 있어서,
상기 변이 영역은 V 형상 또는 반전된 V 형상의 형태로 되는 정제기 플레이트 세그먼트.
제2항에 있어서,
상기 변이 영역은 V 형상 또는 반전된 V 형상의 형태로 되는 정제기 플레이트 세그먼트.
제18항에 있어서,
제1 측면 가장자리 및 제2 측면 가장자리를 구비하고, 상기 제1 측면 가장자리는 세그먼트의 내부 호에 가장 가깝고, 상기 제2 측면 가장자리는 상기 세그먼트의 외부 호에 가장 가깝고, 바들의 패턴은 상기 제1 측면 가장자리로부터 상기 제2 측면 가장자리로의 방향으로 이동하면서 더 조밀해지는 정제기 플레이트 세그먼트.