KR20130142062A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR20130142062A
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히로시 가토
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다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
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Abstract

(과제) 기판 처리 장치의 스루풋을 향상시킬 수 있는 기술을 제공한다.
(해결 수단) 기판 처리 장치(1)는, 세정 처리 셀(20)과 인덱서 셀(10)의 접속 부분에 배치된 수도 유닛(30)을 구비한다. 수도 유닛(30)은, 기판(W)을 수평 자세로 지지하는 반전용 지지부(701)와, 반전용 지지부(701)와 상하 방향으로 간격을 두고 배치되고, 기판(W)을 수평 자세로 지지하는 이송 지지부(601a)와, 반전용 지지부(701)에서 지지되는 기판(W)을 반전시키고, 반전 후의 기판(W)을 다시 반전용 지시부(701)에 지지시키는 협지 반전 기구(80)를 구비한다. 여기서, 이송 지지부(601a)에 지지되는 기판(W)의 일부분이, 협지 반전 기구(80)에 의해 반전되는 기판(W)의 반전 영역(M) 내에 배치된다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은, 복수의 반도체 기판, 액정 표시 장치용 유리 기판, 플라스마 디스플레이용 유리 기판, 포토마스크용 유리 기판, 광 디스크용 기판 등(이하, 단순히 「기판」이라고 칭함)에 처리를 실시하는 기술에 관한 것이다.
기판에 처리를 실시하는 기판 처리 장치는 각종 존재한다. 예를 들면, 특허 문헌 1의 기판 처리 장치는, 미처리 기판 및 처리가 완료된 기판을 집적하는 인덱서 셀과, 기판에 스크럽 세정 처리를 행하는 세정 처리 셀을, 기판 수도(受渡)부를 통해 접속한 구성으로 되어 있다. 인덱서 셀 및 세정 처리 셀의 각각에는, 각 셀 전용의 반송 로봇이 배치된다.
이 종류의 기판 처리 장치에 있어서는, 기판의 이면을 세정하는 경우에 대비해, 장치 내에 기판의 표리를 반전시키는 반전부가 설치되는 경우가 있다. 예를 들면 특허 문헌 1의 기판 처리 장치에서는, 세정 처리 셀 내에 반전부가 배치되어 있다. 또, 특허 문헌 2에는, 기판을 반전시킴과 더불어 그 이면을 세정하는 반전 세정 유닛이 기재되어 있다. 또, 특허 문헌 3, 4에는, 반송 로봇 사이의 중계부에서, 기판의 표리를 반전시키는 구성이 기재되어 있다.
일본국 특허 공개 2009－146975호 공보 일본국 특허 공개 평 lO－321575호 공보 일본국 특허 공개 2009－252888호 공보 일본국 특허 제4287663호 공보
반송 로봇 사이의 중계부에, 기판의 표리를 반전시키는 반전부가 배치되는 장치 구성에 있어서는, 한쪽의 반송 로봇이 반전부에 반입한 기판을, 그 반전 후에, 다른 쪽의 반송 로봇으로 반출시킬 수 있다. 즉, 기판을 반전시키는 기능부를, 반송 로봇 사이에서의 기판의 수도부로서 이용할 수 있다. 이 구성에 의하면, 예를 들면, 한쪽의 반송 로봇만이 액세스 가능한 위치에 반전부가 배치되는 장치 구성에 비해 반송 로봇의 공정수를 줄일 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치의 스루풋을 향상시킬 수 있다.
또 한편, 기판 처리 장치의 스루풋의 저하를 억제하기 위해서는, 각 반송 로봇의 대기 시간을 가능한 한 단축할 필요가 있다. 예를 들면, 반송 로봇이 수도부에 기판을 반입하려고 했을 때에, 수도부가 기판으로 덮여 있으면, 상기 반송 로봇은, 다른쪽의 반송 로봇이 수도부로부터 기판을 반출하는 것을 기다려야 한다. 이러한 사태를 가능한 한 회피하기 위해서, 반송 로봇 사이의 중계부에는, 복수의 수도부가 설치되어 있는 것이 바람직하다.
그런데 기판의 대형화가 진행되는 근년에는, 기판의 반전에 필요로 하는 스페이스가 확대되고 있으며, 이에 수반하여 반전부가 대형화되고 있다. 이 때문에, 예를 들면, 중계부에 필요한 개수의 수도부와 반전부를 적층하여 설치한 경우, 반전부의 높이 치수의 증대에 따라, 반송 로봇의 핸드의 상하 방향의 이동거리(스트로크)가 증대해, 이것이 스루풋의 저하로 직결되어 버린다.
이 발명은, 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것이며, 기판 처리 장치의 스루풋을 향상시킬 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.
제1의 양태는, 기판 처리 장치로서, 기판의 표면을 세정하는 표면 세정부와, 기판의 이면을 세정하는 이면 세정부와, 제1 반송 로봇을 갖는 처리 블록과, 제2 반송 로봇을 갖고, 상기 처리 블록에 미처리 기판을 건네줌과 더불어 상기 처리 블록으로부터 처리가 완료된 기판을 수취하는 인덱서 블록과, 상기 처리 블록과 상기 인덱서 블록과의 접속 부분에 배치된 수도 유닛을 구비하고, 상기 수도 유닛이, 기판을 수평 자세로 지지하는 제1 지지부와, 상기 제1 지지부와 상하 방향으로 간격을 두고 배치되고, 기판을 수평 자세로 지지하는 제2 지지부와, 상기 제1 지지부에 지지되는 기판을 반전시키고, 반전 후의 기판을 다시 상기 제1 지지부에 지지된 상태로 하는 반전 기구를 구비하고, 상기 제2 지지부에 지지되는 기판의 일부분이, 상기 반전 기구에 의해 반전되는 기판의 반전 영역 내에 배치된다.
제2의 양태는, 제1의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 상기 제2 반송 로봇으로부터 상기 제1 반송 로봇으로의 미처리 기판의 수도가, 상기 제1 지지부와 상기 제2 지지부를 배타적으로 이용하여 행해진다.
제3의 양태는, 제2의 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 상기 제2 반송 로봇으로부터 상기 제1 반송 로봇으로의 미처리 기판의 수도 경로가, 기판군마다 설정된 레시피에 따라, 상기 제1 지지부를 개재하는 수도 경로와, 상기 제2 지지부를 개재하는 수도 경로 사이에서 택일적으로 전환된다.
제4의 양태는, 제1 내지 제3의 양태 중 어느 한 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 상기 제2 지지부가 상기 제1 지지부의 상측에 배치된다.
제5의 양태는, 제2 내지 제4의 양태 중 어느 한 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 상기 수도 유닛이 상기 제2 지지부의 상측에 배치되고, 기판을 수평 자세로 지지하는 제3 지지부를 더 구비하고, 상기 제1 반송 로봇으로부터 상기 제2 반송 로봇으로의 처리가 완료된 기판의 수도가 상기 제3 지지부를 개재하여 행해진다.
제6의 양태는, 제1 내지 제5의 양태 중 어느 한 양태에 따른 기판 처리 장치로서, 상기 제1 지지부를 복수 개 구비하고, 상기 반전 기구가 상기 복수의 제1 지지부에 지지되는 복수의 기판을 한번에 반전시킨다.
제1의 양태에 의하면, 수도 유닛이, 상하 방향으로 간격을 두고 배치된 제1 지지부와 제2 지지부를 구비하므로, 제1 반송 로봇과 제2 반송 로봇 사이의 기판의 수도를, 제1 지지부와 제2 지지부의 적어도 한쪽을 개재하여 행할 수 있고, 특히 제1 지지부를 개재하는 경우에는, 기판을 반전시킨 후 수도할 수 있다. 여기서, 제2 지지부가, 반전 기구에 의해 반전되는 기판의 반전 영역 내에서 기판을 지지하므로, 수도 유닛의 높이 치수를 작게 억제할 수 있다. 이에 의해서, 제1 반송 로봇 및 제2 반송 로봇의 상하 방향의 이동거리를 저감해, 스루풋을 향상시킬 수 있다.
제2의 양태에 의하면, 미처리 기판의 수도가, 제1 지지부와 제2 지지부를 배타적으로 이용하여 행해진다. 이 구성에 의하면, 제1 지지부와 제2 지지부가 동시에, 미처리 기판의 수도에 이용된다고 하는 상황이 발생하지 않으므로, 제2 지지부에서 지지되고 있는 기판과 반전되는 기판이 간섭하는 사태를 확실히 회피할 수 있다.
제3의 양태에 의하면, 제2 반송 로봇으로부터 제1 반송 로봇으로의 미처리 기판의 수도 경로가, 기판군마다 설정된 레시피에 따라, 제1 지지부를 개재하는 수도 경로와, 제2 지지부를 개재하는 수도 경로 사이에 택일적으로 전환된다. 이 구성에 의하면, 예를 들면, 표면만의 처리 또는 양면 처리를, 레시피에 따라 선택함으로써, 장치가 자동으로 수도 경로를 선택해 처리를 행할 수 있다.
제4의 양태에 의하면, 제2 지지부가 제1 지지부의 상측에 배치된다. 이 구성에 의하면, 제2 지지부를 개재하여 수도되는 미처리 기판(즉, 반전되지 않고 표면이 상측을 향한 채로 수도되는 미처리 기판)의 통과 경로가, 반전 기구보다도 상측에 형성되게 된다. 따라서, 미처리 기판의 표면이 반전 기구로부터 생긴 파티클 등에 의해 오염되기 어렵다.
제5의 양태에 의하면, 제1 반송 로봇으로부터 제2 반송 로봇으로의 처리가 완료된 기판의 수도가, 제2 지지부의 상측에 배치된 제3 지지부를 개재하여 행해진다. 이 구성에 의하면, 처리가 완료된 기판의 통과 경로가, 미처리 기판의 통과 경로보다도 상측에 형성되므로, 처리가 완료된 기판의 표면을 청정하게 유지할 수 있다.
제6의 양태에 의하면, 한번에 복수 장의 기판을 반전시킬 수 있으므로, 기판 처리 장치에 있어서의 스루풋을 양호한 것으로 할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 2는 기판 처리 장치를 도 1의 A－A선에서 본 도면이다.
도 3은 기판 처리 장치를 도 1의 B－B선에서 본 도면이다.
도 4는 수도 유닛의 측면도이다.
도 5는 수도 유닛을 도 4의 C－C선에서 본 평면도이다.
도 6은 수도 유닛을 도 5의 D－D선에서 본 측단면도이다.
도 7은 수도 유닛을 도 5의 E－E선에서 본 측단면도이다.
도 8은 반전 기구의 주요부를 나타내는 부분 확대도이다.
도 9는 기판 반전 장치의 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
도 10은 기판의 수도 동작을 설명하기 위한 모식도이다.
이하, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다. 이하의 실시형태는, 본 발명을 구체화한 일례로서, 본 발명의 기술적 범위를 한정하는 것은 아니다.
또한, 이하의 설명에서, 기판의 「표면」은, 기판의 주면 중의 패턴(예를 들면, 회로 패턴)이 형성되는 면이며, 「이면」은 표면의 반대측 면이다. 또, 기판의 「상면」은 기판의 주면 중의 상측을 향하고 있는 면이며, 「하면」은 하측을 향하고 있는 면이다(표면인지 이면인지 상관없음).
<1. 기판 처리 장치(1)의 구성>
실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)의 구성에 대해서 도 1, 도 2를 참조하면서 설명한다. 도 1은, 기판 처리 장치(1)의 평면도이다. 도 2는, 기판 처리 장치(1)를 도 1의 A－A선에서 본 도면이다. 도 3은, 기판 처리 장치(1)를 도 1의 B－B선에서 본 도면이다. 또한, 이하에 참조하는 각 도면에는, Z축 방향을 연직 방향으로 하고, XY 평면을 수평면으로 하는 XYZ 직교 좌표계가 적절히 부여되어 있다.
기판 처리 장치(1)는, 복수장의 반도체 웨이퍼 등의 기판(W)에 연속해서 스크럽 세정 처리를 행하는 세정 장치이며, 인덱서 셀(10) 및 세정 처리 셀(20), 2개의 셀(처리 블록)을 나란히 설치하여 구성되어 있다. 또, 기판 처리 장치(1)는, 인덱서 셀(10)과 세정 처리 셀(20) 사이에 설치된 각 부(수도 유닛(30) 및 반전부(40))를 구비한다. 또한, 기판 처리 장치(1)는, 인덱서 셀(10) 및 세정 처리 셀(20)에 설치된 각 동작 기구를 제어해 기판(W)의 세정 처리를 실행시키는 제어부(50)를 구비한다.
<인덱서 셀(10)>
인덱서 셀(10)은, 장치 밖으로부터 수취한 기판(W)(미처리 기판(W))을 세정 처리 셀(20)에 건네줌과 더불어, 세정 처리 셀(20)로부터 수취한 기판(W)(처리가 완료된 기판(W))을 장치 밖으로 반출하기 위한 셀이다. 인덱서 셀(10)은, 캐리어(C)를 올려놓는 복수(본 실시형태에서는 4개)의 캐리어 스테이지(11)와, 각 캐리어(C)로부터 미처리 기판(W)을 취출함과 더불어, 각 캐리어(C)에 처리가 완료된 기판(W)을 수납하는 이재 로봇(12)을 구비하고 있다.
각 캐리어 스테이지(11)에 대해서는, 미처리 기판(W)을 수납한 캐리어(C)가, 장치 외부로부터, AGV(Automated Guided Vehicle)등에 의해 반입되어 올려놓여진다. 또, 장치 내에서의 스크럽 세정 처리가 종료된 기판(W)은, 캐리어 스테이지(11)에 올려놓여진 캐리어(C)에 다시 격납된다. 처리가 완료된 기판(W)을 격납한 캐리어(C)는 AGV 등에 의해서 장치 외부로 반출된다. 즉, 캐리어 스테이지(11)는, 미처리 기판(W) 및 처리가 완료된 기판(W)을 집적하는 기판 집적부로서 기능한다. 또한, 캐리어(C)의 형태로는, 기판(W)을 밀폐 공간에 수납하는 FOUP(front opening unified pod) 외에, SMIF(Standard Mechanical Inter Face) 포드나 수납된 기판(W)을 외기에 노출시키는 OC(open cassette)이어도 된다.
이재 로봇(12)은, 2개의 반송 암(121a, 121b)과, 그들을 탑재하는 암 스테이지(122)와, 가동대(123)를 구비하고 있다.
가동대(123)는, 캐리어 스테이지(11)의 배열과 평행하게(Y축 방향을 따라서) 연장되는 볼 나사(124)에 결합됨과 더불어, 2개의 가이드 레일(125)에 대해 슬라이딩 가능하게 설치되어 있다. 따라서, 도시를 생략한 회전 모터에 의해 볼 나사(124)가 회전하면, 가동대(123)를 포함하는 이재 로봇(12)의 전체가 Y축 방향을 따라 수평 이동한다.
암 스테이지(122)는, 가동대(123) 상에 탑재되어 있다. 가동대(123)에는, 암 스테이지(122)를 연직 방향(Z축방향)을 따른 축심 둘레에서 선회 구동하는 모터 및 암 스테이지(122)를 연직 방향을 따라서 승강 이동시키는 모터(모두 도시 생략)가 내장되어 있다. 그리고 이 암 스테이지(122) 상에, 반송 암(121a, 121b)이, 상하로 소정의 피치를 두고 설치되어 있다. 각 반송 암(121a, 121b)은, 모두 평면에서 봤을 때 포크 형상으로 형성되어 있다. 각 반송 암(121a, 121b)은, 포크 형상 부분에서 각각 1장의 기판(W)의 하면을 지지한다. 또, 각 반송 암(121a, 121b)은, 암 스테이지(122)에 내장된 구동 기구(도시 생략)에 의해 다관절 기구가 굴신(屈伸) 동작됨으로써, 각각 독립하여 수평 방향(암 스테이지(122)의 선회 반경 방향)을 따라서 진퇴 이동 가능하게 구성되어 있다.
이러한 구성에 의해서, 각 반송 암(121a, 121b)은, Y축 방향을 따른 수평 이동, 승강 이동, 수평면 내에서의 선회 동작 및 선회 반경 방향을 따른 진퇴 이동을 행하는 것이 가능하다. 그리고 이재 로봇(12)은, 포크형상 부분에서 기판(W)을 지지하는 각 반송 암(121a, 121b)을, 각 부(구체적으로는, 캐리어 스테이지(11)에 올려놓여진 캐리어(C) 및 수도 유닛(30)의 각 부)에 액세스시켜, 상기 각 부 사이에서 기판(W)을 반송한다.
<세정 처리 셀(20)>
세정 처리 셀(20)은, 기판(W)에 스크럽 세정 처리를 행하는 셀이며, 2개의 세정 처리 유닛(21a, 21b)과, 각 세정 처리 유닛(21a, 21b)에 대해 기판(W)의 수도를 행하는 반송 로봇(22)을 구비한다.
2개의 세정 처리 유닛(21a, 21b)은, 반송 로봇(22)을 사이에 두고 대향 배치되어 있다. 2개의 세정 처리 유닛(21a, 21b) 중, 반송 로봇(22)의 -Y측의 세정 처리 유닛(21b)은, 1 이상(이 실시형태에서는 4개)의 표면 세정 처리부(SS)를, 연직 방향으로 적층 배치하여 구성되어 있다. 한편, 다른쪽의 세정 처리 유닛(21a)(즉, 반송 로봇(22)의 +Y측의 세정 처리 유닛(21a))은, 1 이상(이 실시형태에서는 4개)의 이면 세정 처리부(SSR)를, 연직 방향으로 적층 배치하여 구성되어 있다.
표면 세정 처리부(SS)는, 기판(W)의 표면의 스크럽 세정 처리를 행한다. 표면 세정 처리부(SS)는, 구체적으로는, 예를 들면, 표면이 상측을 향하는 기판(W)을 수평 자세로 유지해 연직 방향을 따른 축심 둘레에서 회전시키는 스핀척(201), 스핀척(201) 상에 유지된 기판(W)의 표면에 접촉 또는 근접해 스크럽 세정을 행하는 세정 브러시(202), 기판(W)의 표면에 세정액(예를 들면 순수)을 토출하는 노즐(203), 스핀척(201)을 회전 구동시키는 스핀 모터(204) 및 스핀척(201) 상에 유지된 기판(W)의 주위를 둘러싸는 컵(도시 생략) 등을 구비하고 있다.
이면 세정 처리부(SSR)는, 기판(W)의 이면의 스크럽 세정 처리를 행한다. 이면 세정 처리부(SSR)는, 구체적으로는, 예를 들면, 이면이 상측을 향하는 기판(W)을 수평 자세로 유지해 연직 방향을 따른 축심 둘레에서 회전시키는 스핀척(211), 스핀척(211) 상에 유지된 기판(W)의 이면에 접촉 또는 근접해 스크럽 세정을 행하는 세정 브러시(212), 기판(W)의 이면에 세정액(예를 들면 순수)을 토출하는 노즐(213), 스핀척(211)을 회전 구동시키는 스핀 모터(214) 및 스핀척(211) 상에 유지된 기판(W)의 주위를 둘러싸는 컵(도시 생략) 등을 구비하고 있다. 또한, 표면 세정을 행하는 표면 세정 처리부(SS)의 스핀척(201)은, 기판(W)을 이면측으로부터 유지하기 위해 진공 흡착 방식의 것이어도 문제없으나, 이면 세정을 행하는 이면 세정 처리부(SSR)의 스핀척(211)은, 기판(W)의 표면측으로부터 유지하기 위해 기판 끝가장자리부를 기계적으로 파지하는 형식의 것이어야 한다.
반송 로봇(22)은, 2개의 반송 암(221a, 221b)과, 그들을 탑재하는 암 스테이지(222)와, 기대(223)를 구비하고 있다. 기대(223)는, 세정 처리 셀(20)의 프레임에 고정 설치되어 있다. 따라서, 반송 로봇(22)의 전체는 수평 방향의 이동을 행하지 않는다.
암 스테이지(222)는, 기대(223) 상에 탑재되어 있다. 기대(223)에는, 암 스테이지(222)를 연직 방향(Z축 방향)을 따른 축심 둘레에서 선회 구동하는 모터 및 암 스테이지(222)를 연직 방향을 따라서 승강 이동시키는 모터(모두 도시 생략)가 내장되어 있다. 그리고, 이 암 스테이지(222) 상에, 반송 암(221a, 221b)이 상하로 소정의 피치를 두고 설치되어 있다. 각 반송 암(221a, 221b)은, 모두 평면에서 봤을 때 포크형상으로 형성되어 있다. 각 반송 암(221a, 221b)은, 포크형상 부분에서 각각 1장의 기판(W)의 하면을 지지한다. 또, 각 반송 암(221a, 221b)은, 암 스테이지(222)에 내장된 구동 기구(도시 생략)에 의해 다관절 기구가 굴신 동작됨으로써, 각각 독립하여 수평 방향(암 스테이지(222)의 선회 반경 방향)으로 진퇴 이동 가능하게 구성되어 있다.
이러한 구성에 의해서, 반송 로봇(22)은, 2개의 반송 암(221a, 221b)의 각각을, 개별적으로, 각 부(구체적으로는, 세정 처리 유닛(21a, 21b), 수도 유닛(30) 및 반전부(40)의 각 부)에 액세스시켜, 상기 각 부의 사이에서 기판(W)의 수도를 행할 수 있다. 또한, 반송 로봇(22)의 승강 구동 기구로서, 풀리와 타이밍 벨트를 사용한 벨트 이송 기구 등의 다른 기구를 채용하도록 해도 된다.
<수도 유닛(30)>
기판 처리 장치(1)에 있어서는, 인덱서 셀(10)에 인접하여 세정 처리 셀(20)이 설치되어 있고, 인덱서 셀(10)과 세정 처리 셀(20) 사이에는, 분위기 차단용의 격벽(300)이 설치되어 있다. 수도 유닛(30)은, 이 격벽(300)의 일부를 관통하여 설치되어 있다. 즉, 수도 유닛(30)은, 인덱서 셀(l0)과 세정 처리 셀(20)과의 접속 부분에 설치되어 있으며, 이재 로봇(12)과 반송 로봇(22) 사이의 기판(W)의 수도에 이용된다. 수도 유닛(30)의 구성에 대해서는 뒤에서 설명한다.
<반전부(40)>
반전부(40)는, 격벽(300)의 일부를 관통하여 설치되고, 수도 유닛(30)의 상측에 적층 배치되어 있다. 즉, 반전부(40)도, 인덱서 셀(l0)과 세정 처리 셀(20)과의 접속 부분에 설치되어 있다.
반전부(40)는, 기판(W)의 표면과 이면을 180°반전시키는 처리부이다. 반전부(40)는, 뒤에서 설명하는 기판 반전 장치(100)가, 상자형상의 하우징(401)에 수용된 구성으로 되어 있다. 단, 이 하우징(401)의 내부에는, 반송 로봇(22)만을 액세스할 수 있도록 되어 있다. 즉, 하우징(401)에는, 인덱서 셀(10)측의 벽부에 개구가 형성되지 않고, 세정 처리 셀(20)측의 벽부에만, 반송 로봇(22)의 반송 암(221a, 221b)을 하우징(401)의 내부에 액세스시키기 위한 개구(도시 생략)가 형성된다.
<제어부(50)>
제어부(50)는, 기판 처리 장치(1)에 설치된 여러 가지의 동작 기구를 제어한다. 제어부(50)의 하드웨어로서의 구성은 일반적인 컴퓨터와 동일하다. 즉, 제어부(50)는, 각종 연산 처리를 행하는 CPU, 기본 프로그램을 기억하는 독출 전용의 메모리인 ROM, 각종 정보를 기억하는 읽기와 쓰기 가능한 메모리인 RAM 및 제어용 소프트웨어나 데이터 등을 기억해 두는 자기 디스크를 구비하고 있다.
<2. 수도 유닛(30)>
<2-1. 구성>
수도 유닛(30)의 구성에 대해서 도 4~도 8을 참조하면서 설명한다. 도 4는, 수도 유닛(30)의 측면도이다. 도 5는, 수도 유닛(30)을 도 4의 C－C선에서 본 평면도이다. 도 6은, 수도 유닛(30)을 도 5의 D－D선에서 본 측단면도이다. 도 7은, 수도 유닛(30)을, 도 5의 E－E선에서 본 측단면도이다. 도 8은, 협지 반전 기구(80)의 주요부를 나타내는 부분 확대도이다. 또한, 도 4~도 7의 각 도면에서는, 설명의 편의상, 모든 지지부(601)와 모든 반전용 지지부(701)의 각각에 기판(W)이 지지되어 있는 모습이 나타나 있는데, 뒤에서 알 수 있듯이, 이 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)에서는, 그 동작중에, 이송 지지부(601a)와 반전용 지지부(701)에 동시에 기판(W)이 지지되는 일은 없다.
수도 유닛(30)은, 상술한 바와 같이, 인덱서 셀(10)과 세정 처리 셀(20)과의 접속 부분에 설치되고, 이재 로봇(12)과 반송 로봇(22) 사이의 기판(W)의 수도에 이용된다. 수도 유닛(30)은, 구체적으로는, 기판(W)을 수평 자세로 지지하는 지지부(601)를 복수(이 실시형태에서는 6개) 구비하는 지지 유닛(60)과, 지지 유닛(60)의 하측에 배치되고, 기판(W)을 수평 자세로 지지하는 반전용 지지부(701)를 복수(이 실시형태에서는 2개) 구비하는 반전 지지 기구(70)와, 반전용 지지부(701)에서 지지되는 기판(W)을 반전시키고, 반전 후의 기판(W)을 다시 반전용 지지부(701)에 지지시키는 협지 반전 기구(80)를 주로 구비하고, 이들 각 부(60, 70, 80)가 하우징(301) 내에 배치된 구성으로 되어 있다. 반전 지지 기구(70)와 협지 반전 기구(80)는, 기판(W)을 반전시키는 기판 반전 장치(100)를 구성한다. 즉, 하우징(301) 내에는, 지지 유닛(60)과 기판 반전 장치(100)가 상하로 배열된 상태로 배치되어 있다. 이 기판 반전 장치(100)는, 기판(W)을 반전시키는 반전부로서 기능함과 더불어, 이재 로봇(12)과 반송 로봇(22) 사이에서의 기판(W)의 수도부로도 기능한다.
하우징(301)의 내부에는, 이재 로봇(12)과 반송 로봇(22) 양방이 액세스할 수 있도록 되어 있다. 즉, 하우징(301)의 벽부 중, 세정 처리 셀(20)측(+X측)의 벽부에는, 반송 로봇(22)의 반송 암(221a, 221b)을 하우징(301)의 내부에 액세스시키기 위한 개구(302)가 형성되어 있다. 또, 하우징(301)의 벽부 중, 인덱서 셀(10)측(-X측)의 벽부에는, 이재 로봇(12)의 반송 암(121a, 121b)을 하우징(301)의 내부에 액세스시키기 위한 개구(303)가 형성되어 있다. 또한, 이하의 설명에서는, 반송 로봇(22)의 반송 암(221a, 221b)을 액세스시키기 위한 개구(302)가 형성되어 있는 측(+X측)을 「전측」이라 하고, 이재 로봇(12)의 반송 암(121a, 121b)을 액세스시키기 위한 개구(303)가 형성되어 있는 측(-X측)을 「후측」이라 한다. 또, 전후 방향(X축 방향) 및 상하 방향(Z축 방향)과 직교하는 방향(Y축 방향)을 「좌우 방향」이라 한다.
<i. 지지 유닛(60)>
하우징(301)의 좌우의 측벽부의 각각에는, 당해 측벽부에 근접해 2개의 지지 기둥(61)이 설치되어 있다. 각 지지 기둥(61)은, 그것이 근접 배치되어 있는 측벽부에 대해, 예를 들면 연결봉(62)을 통해 고정되어 있으며, 상기 측벽부와 평행하게 상하 방향으로 연장되는 자세로 되어 있다. 같은 측의 측벽부에 고정되어 있는 2개의 지지 기둥(61)들은, 서로의 연장 방향을 평행하게 하면서 전후로 간격을 두고 배치된다. 또, 좌우의 측벽부의 각각에 있어서, 상대적으로 전측에 설치되는 지지 기둥(61)들은, 상하 방향에서 봤을 때 좌우 방향으로 대향 배치되고, 상대적으로 후측에 설치되는 지지 기둥(61)끼리도, 상하 방향에서 봤을 때 좌우 방향으로 대향 배치된다.
각 지지 기둥(61)에는, 복수 개(이 실시형태에 대해서는 6개)의 지지 부재(63)가, 상하에 등 간격으로 배열되어 설치되어 있다. 각 지지 부재(63)는, 지지 기둥(61)에 캔틸레버 상태로 지지된 장척 판형상의 부재이며, 지지 기둥(61)과 붙어 설치된 고정단으로부터 수평면 내에서 좌우 방향으로 연장되어 자유단에 이른다. 지지 부재(63)의 상면은, 연장 도중에 경사면을 갖는 단차 형상으로 되어 있고, 자유단측에, 고정단측보다도 상대적으로 낮은 대략 수평면이 형성되어 있다. 자유단측의 수평면은, 기판(W)의 하면과 맞닿는 접촉면을 구성하고, 뒤에서 알 수 있듯이, 동일 수평면 내에 배치된 4개의 지지 부재(63)의 각 접촉면이 기판(W)의 하면측에 맞닿음으로써, 상기 기판(W)이 수평 자세로 지지된다. 또한, 접촉면은, 반드시 수평면일 필요는 없고, 지지 부재(63)의 선단으로 감에 따라 낮아지도록 미소하게 경사진 면이어도 된다. 지지 부재(63)에 있어서, 접촉면과 이어져 형성되어 있는 경사면은, 기판(W)의 끝가장자리의 위치를 규제하는 위치 규제면으로서 기능한다. 즉, 동일 수평면 내에 배치된 4개의 지지 부재(63)의 각 경사면이 기판(W)의 끝 가장자리 위치를 규제함으로써, 상기 기판(W)의 수평면 내에서의 위치가 규제된다.
하우징(301) 내에 배치되는 4개의 지지 기둥(61)의 각각의 최상단에 설치되어 있는 지지 부재(63)들은, 동일한 수평면 내에 설치되어, 1개의 지지 부재군을 구성한다. 동일하게, 상기 4개의 지지 기둥(61)의 각각의 2단째부터 6단째의 각각에 설치되어 있는 지지 부재(63)들도, 동일한 수평면 내에 설치되어, 1개의 지지 부재군을 구성한다. 1장의 기판(W)은, 1개의 지지 부재군을 구성하는 4개의 지지 부재(63)에 하면측으로부터 지지됨으로써, 소정의 위치에 수평 자세로 지지된다. 즉, 1개의 지지 부재군이, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 지지하는 지지부(601)를 형성한다.
이와 같이, 지지 유닛(60)에 있어서는, 상하 방향으로 간격을 두고 설치된 6개의 지지부(601)가 설치되어 있으며, 이에 의해서, 최대 6장의 기판(W)을, 수평 자세로 상하 방향으로 간격을 두고 적층된 상태로 지지할 수 있도록 되어 있다.
지지 유닛(60)이 구비하는 6개의 지지부(601) 중, 상측의 3개의 지지부(601)는, 세정 처리 셀(20)로부터 인덱서 셀(10)로의 처리가 완료된 기판(W)의 수도에 사용되는 것이며, 이하에서 「리턴 지지부(601b)」라고도 한다. 한편, 나머지의 지지부(601)(즉, 하측의 3개의 지지부(601))는, 인덱서 셀(10)로부터 세정 처리 셀(20)로의 미처리 기판(W)의 수도에 사용되는 것이며, 이하에서 「이송 지지부(601a)」라고도 한다.
여기서, 지지 유닛(60)이 구비하는 지지부(601)는, 반전용 지지부(701)의 상측에 반전용 지지부(701)와 간격을 두고 배치된다. 6개의 지지부(601) 중, 상대적으로 하측에 배치되어 있는 3개의 지지부(601)(즉, 이송 지지부(601a)로서 이용되는 3개의 지지부(601)) 중, 적어도 1개(도시한 예에서는 3개)의 지지부(601)는, 상기 지지부(601)를 구성하는 4개의 지지 부재(63)가 배치되는 수평면이 협지 반전 기구(80)에 의해 반전되는 기판(W)의 반전 영역(M)과 교차하는(간섭하는) 수평면으로 되어 있다. 따라서, 이러한 지지부(601)는, 기판(W)을, 그 일부분이 반전 영역(M) 내에 배치되는 상태로 상기 기판(W)을 지지하게 된다. 이와 같이, 기판(W)을 반전 영역(M)과 간섭하는 위치에 지지하는 지지부(601)를, 이하 「간섭 지지부」라고도 한다. 단, 모든 지지 부재(63)는 (가령 상기 지지 부재(63)가 간섭 지지부를 구성하는 것이었다고 해도), 반전 영역(M)의 외측에 배치된다.
<ii. 반전 지지 기구(70)>
하우징(301)의 좌우의 측벽부의 각각에는, 2개의 경사 축부(71)가, 상기 측벽부에 슬라이드 가능하게 관통하여 설치된다. 각 측벽부에 설치된 2개의 경사 축부(71)는, 서로의 연장 방향을 평행하게 하면서 전후에 간격을 두고 배치된다. 또, 좌우의 측벽부의 각각에 있어서, 상대적으로 전측에 설치되는 경사 축부(71)들은, 상하 방향에서 봤을 때 좌우 방향으로 대향 배치되고, 상대적으로 후측에 설치되는 경사 축부(71)들도, 상하 방향에서 봤을 때 좌우 방향으로 대향 배치된다.
각 경사 축부(71)의 하우징(301)의 내부로 돌출한 상단부에는, 상하 방향으로 연장되는 지지 기둥(72)이 설치된다. 한편, 각 경사 축부(71)의 하우징(301)의 외부로 돌출한 하단부는, 실린더(73)와 연결된다. 또한, 같은 측벽부에 설치된 2개의 경사 축부(71)는, 연결봉(도시 생략)을 통해, 같은 실린더(73)에 연결된다. 즉, 상기 2개의 경사 축부(71)의 각 하단부는, 전후방향으로 연장되는 연결봉의 전측 단부 부근과 후측 단부 부근에 각각 연결되어, 실린더(73)가 상기 연결봉과 연결되어 있다. 이 구성에 의하면, 연결봉을 통해 실린더(73)와 연결된 2개의 경사 축부(71)는, 상기 실린더(73)의 구동을 받아, 동기하여 이동되게 된다.
지지 기둥(72)의 상단 부근 및 하단 부근에는, 수평면 내에서 좌우 방향으로 연장되는 지지 부재(74)가 캔틸레버 상태로 붙어 설치되어 있다. 지지 부재(74)는, 지지 유닛(60)이 구비하는 지지 부재(63)와 동일한 구성으로 할 수 있다. 뒤에서 알 수 있듯이, 동일 수평면 내에 배치된 4개의 지지 부재(74)의 각 접촉면이 기판(W)의 하면측에 맞닿음으로써, 상기 기판(W)이 수평 자세로 지지된다. 또, 동일 수평면 내에 배치된 4개의 지지 부재(74)의 각 경사면이 기판(W)의 끝 가장자리 위치를 규제함으로써, 상기 기판(W)의 수평면 내에서의 위치가 규제된다.
하우징(301) 내에 배치되는 4개의 지지 기둥(72)의 각각의 상단에 설치되어 있는 지지 부재(74)들은, 동일한 수평면 내에 설치되어 1개의 지지 부재군을 구성한다. 또, 상기 4개의 지지 기둥(72)의 각각의 하단에 설치되어 있는 지지 부재(74)들도, 동일한 수평면 내에 설치되어 1개의 지지 부재군을 구성한다. 1장의 기판(W)은, 1개의 지지 부재군을 구성하는 4개의 지지 부재(74)에 하면측으로부터 지지됨으로써, 소정의 위치에 수평 자세로 지지된다. 즉, 1개의 지지 부재군이, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 지지하는 지지부(반전용 지지부)(701)를 형성한다.
이와 같이, 반전 지지 기구(70)에 있어서는, 상하 방향으로 간격을 두고 설치된 2개의 반전용 지지부(701)가 설치되어 있으며, 이에 의해서, 2장의 기판(W)을, 수평 자세로 상하 방향으로 간격을 두고 적층된 상태로 지지할 수 있도록 되어 있다.
여기서, 상하 방향에서 봤을 때, 좌우 방향으로 대향 배치되는(즉, 반전용 지지부(701)에 의해서 지지되는 기판(W)의 좌우 중심선을 사이에 두고 대향 배치되는) 2개의 경사 축부(71)를 한 쌍의 경사 축부(71)로 한다. 한 쌍의 경사 축부(71)의 각각은, 지지 기둥(72)과 연결된 상단부로부터, 비스듬한 하방향(즉, 좌우 방향으로 대향 배치되는 다른쪽의 경사 축부(71)로부터 이격하면서, 아래를 향하는 방향)으로 연장되어, 실린더(73)와 연결된 하단부에 이른다.
실린더(73)는, 각 경사 축부(71)를, 그 연장 방향을 따라서 슬라이드시킨다. 즉, 실린더(73)는, 경사 축부(71)를 그 연장 방향을 따라서 비스듬한 하방향으로 슬라이드시키고, 지지 부재(74)를 지지 위치(A1)(즉, 지지 부재(74)가, 그 접촉면에 있어서 기판(W)의 하면에 맞닿고 상기 기판(W)을 지지하는 위치)로부터 대피 위치(A2)(즉, 지지 부재(74)가, 기판(W)의 하면 및 측면으로부터 이격한 소정의 위치)까지 이동시킨다. 이 구성에 의하면, 지지 위치(A1)에 있는 지지 부재(74)는, 비스듬한 하방향으로 이동되어(환언하면, 기판(W)의 좌우 중심선으로부터 멀어지면서(즉, 상하 방향에서 봤을 때 기판(W)의 중심으로부터 멀어지면서), 하방으로 이동되어), 대피 위치(A2)에 배치되게 된다. 즉, 지지 위치(A1)에 있는 지지 부재(74)는, 기판(W)의 하면과 측면(보다 구체적으로는, 지지 부재(74)의 경사면이 대향하고 있는 측면 부분)의 양방으로부터 동시에 멀어지는 방향으로 이동되어, 대피 위치(A2)에 배치되게 된다.
단, 대피 위치(A2)는, 상하 방향에서 봤을 때, 기판(W)의 주연보다도 외측의 위치에 설정된다. 이러한 대피 위치(A2)는, 협지 반전 기구(80)에 의해 반전되는 각 기판(W)이 통과하는 영역(반전 영역)(M)의 외측이 된다. 따라서, 대피 위치(A2)에 배치된 지지 부재(74)가, 반전되는 기판(W)과 간섭하는 일이 없도록 담보된다. 또, 대피 위치(A2)는, 바람직하게는, 하측의 기판(W)의 지지 위치(상기 지지 부재(74)가 지지하는 기판(W)의 하측에서 지지되고 있는 기판(W)의 지지 위치)보다도 상측에 설정된다.
또, 실린더(73)는, 경사 축부(71)를 그 연장 방향을 따라서 비스듬한 상방향으로 슬라이드시키고, 지지 부재(74)를 대피 위치(A2)부터 지지 위치(A1)까지 이동시킨다. 즉, 대피 위치(A2)에 있는 지지 부재(74)는, 상기 경로를 역방향으로 이동하여, 대피 위치(A2)부터 지지 위치(A1)까지 이동되게 된다.
또한, 지지 부재(74)를 이동시키는 방향은, 수평 방향에 대해 0보다 큰 각도로 경사진 방향이면 되고, 상기 각도의 구체적인 값은, 예를 들면, 각 반전용 지지부(701)에서 지지되는 기판(W) 사이의 상하 방향의 이격 거리 및 기판(W)의 주연과 지지 부재(74)가 기판(W)에 맞닿아지는 위치의 이격 거리에 의거해, 규정할 수 있다. 또, 도 5에서는, 각 지지 부재(74)는, 상하 방향에서 봤을 때 Y축을 따른 방향으로 이동되어 기판(W)의 중심으로부터 멀어지는 구성으로 되어 있는데, 각 지지 부재(74)는, 상하 방향에서 봤을 때 기판(W)의 중심으로부터 방사상으로 신장되는 축을 따라 이동되어 기판(W)의 중심으로부터 멀어지는 구성이어도 된다.
<iii. 협지 반전 기구(80)>
하우징(301)의 좌우의 측벽부의 각각에는, 1개의 슬라이드 축부(81)가, 상기 측벽부에 슬라이드 가능하게 관통하여 설치된다. 각 측벽부에 설치된 1개의 슬라이드 축부(81)는, 상기 측벽부에 설치된 2개의 경사 축부(71) 사이에 설치된다. 또, 좌우의 측벽부의 각각에 설치되는 슬라이드 축부(81)들은, 상하 방향에서 봤을 때 좌우 방향으로 대향 배치된다. 각 슬라이드 축부(81)는 수평면 내에서 좌우 방향으로 연장되고, 하우징(301)의 내부로 돌출한 측의 단부에는, 상하 방향으로 연장되는 지지 기둥(82)이 설치된다. 지지 기둥(82)은, 상하 방향의 중앙 부분에서 슬라이드 축부(81)와 연결된다.
지지 기둥(82)의 상단 및 하단에는, 수평면 내에서 좌우 방향으로 연장되는 협지 부재(83)가 캔틸레버 상태로 붙어 설치되어 있다. 협지 부재(83)는, 구체적으로는, 기판(W)의 끝가장자리부가 들어가는 단면 V자형상의 테이퍼면을 갖는 부재이다. 하우징(301) 내에 배치되는 2개의 지지 기둥(82)의 각각의 상단에 설치되어 있는 협지 부재(83)들은, 동일한 수평면 내에 설치된다. 또, 상기 2개의 지지 기둥(82)의 각각의 하단에 설치되어 있는 협지 부재(83)들도, 동일한 수평면 내에 설치된다. 뒤에서 알 수 있듯이, 동일한 수평면 내에 설치되는 한 쌍의 협지 부재(83)는, 기판(W)의 직경 방향을 따르는 양끝가장자리부로부터 상기 기판(W)을 협지한다.
여기서, 상술한 바와 같이, 2개의 슬라이드 축부(81)는 하우징(301) 내에 있어서 좌우로 대향 배치되어 있고, 상기 2개의 슬라이드 축부(81)의 각각은, 지지 기둥(82)이 설치된 측의 단부로부터, 수평면 내에서 좌우 방향으로 연장되어, 하우징(301)의 외부로 돌출한 타단부에 이른다. 각 슬라이드 축부(81)는, 하우징(301)의 외부로 돌출한 측의 단부에서, 탄성 부재(84)와 맞닿고 있다. 이 탄성 부재(84)는, 구체적으로는, 예를 들면 코일 스프링이며, 수축하여 짧아진(縮短) 상태에서, 그 일단부가 슬라이드 축부(81)의 단부에 맞닿아짐과 더불어, 타단부가 후술하는 풀리(873)(혹은, 바닥판(872))에 맞닿게 된다. 따라서, 각 슬라이드 축부(81)는, 이 탄성 부재(84)에 의해서, 풀리(873)(혹은, 바닥판(872))으로부터 이격하는 방향, 즉, 좌우로 대향 배치되어 있는 타방의 슬라이드 축부(81)에 근접하는 방향으로 항상 탄성가압되어 있다.
이 구성에 있어서, 동일한 수평면 내에서 좌우 방향으로 대향 배치되어 있는 한 쌍의 협지 부재(83)는, 항상, 서로 근접하는 방향으로 탄성가압된 상태로 되어 있으며, 이 한 쌍의 협지 부재(83)가 기판(W)을 사이에 두고 대향 배치되고, 각 협지 부재(83)가 기판(W)의 측면에 탄성가압됨으로써, 상기 기판(W)이 수평 자세로 협지된다. 즉, 1장의 기판(W)은, 좌우 방향으로 대향 배치되는 한 쌍의 협지 부재(83)에, 상기 기판(W)의 직경 방향을 따르는 양끝가장자리부로부터 협지됨으로써, 수평 자세로 협지된다. 단, 여기서 말하는 기판(W)의 「끝가장자리부」란, 기판(W)의 측면 및 기판(W)의 상하면이며 그 주연으로부터 수밀리 정도의 환형 영역을 가리킨다.
이와 같이, 협지 반전 기구(80)에 있어서는, 한 쌍의 협지 부재(83)가 1장의 기판(W)을 수평 자세로 지지하는 협지부(801)를 형성하고, 상하 방향으로 간격을 두고 설치된 2개의 협지부(801)가 설치됨으로써, 2장의 기판(W)을 수평 자세로 상하 방향으로 간격을 두고 적층된 상태로 협지할 수 있도록 되어 있다. 단, 상하 방향으로 이격해 설치된 2개의 협지부(801)의 각각은, 2개의 반전용 지지부(701)의 각각과 같은 높이로 배치되어 있고, 각 협지부(801)는, 각 반전용 지지부(701)에서 지지되어 있는 기판(W)을 협지할 수 있도록 되어 있다.
각 슬라이드 축부(81)에 있어서의, 하우징(301)의 외부로 돌출한 측의 단부에는, 슬라이드 축부(81)의 외주면으로부터 플랜지형상으로 돌출된 돌출부(811)가 형성된다. 이 돌출부(811)는, 그 선단의 적어도 일부분이, 홈통형상부(85)의 홈 내부에 삽입되어 있다. 홈통형상부(85)는, 상방으로 개구하고, 전후로 연장되는 홈을 형성하는 부재로서, 그 홈의 폭은, 돌출부(811)의 폭보다도 크게 형성되어 있다. 또, 홈의 전후측의 단부도 개구되어 있다. 이 홈통형상부(85)는, 지지부(851)를 통해, 실린더(86)의 로드에 고정되어 있다. 단, 실린더(86)의 로드는, 수평면 내에서, 좌우 방향으로 연장되어 배치되어 있다. 또한, 돌출부(811)는, 좌우 방향에서 봤을 때 예를 들면 반원 형상으로 형성되어 있으며, 슬라이드 축부(81)가 회전축(L)을 중심으로 180°회전된 후에도, 돌출부(811)의 선단의 적어도 일부분이, 홈통형상부(85)의 홈 내부에 삽입된 상태가 되도록 형성되어 있다.
실린더(86)는, 홈통형상부(85)를, 수평면 내에서 좌우 방향으로 연장되는 이동축을 따라 소정의 이동 범위 내에서 왕복 이동시킨다. 이하에서, 홈통형상부(85)의 이동 범위 내에 있어서의 기판(W)측의 단부 위치를 「닫힘측 단부 위치(C1)」라 하고, 다른쪽의 단부 위치를 「열림측 단부 위치(C2)」라 한다.
실린더(86)가, 닫힘측 단부 위치(C1)에 있는 홈통형상부(85)를 기판(W)으로부터 이격시키는 방향으로 이동시키면, 돌출부(811)가 홈통형상부(85)에 걸린 상태가 되고, 슬라이드 축부(81)는, 홈통형상부(85)와 함께 기판(W)으로부터 이격하는 방향으로 슬라이드된다. 이에 의해서, 기판(W)의 측면에 탄성가압되어 있는 협지 부재(즉, 협지 위치(B1)에 있는 협지 부재)(83)는, 기판(W)의 측면으로부터 이격되어, 수평면 내에서 기판(W)의 좌우 중심선으로부터 멀어지는 방향(즉, 기판(W)의 중심으로부터 멀어지는 방향)으로 이동되어, 기판(W)의 측면으로부터 이격한 이격 위치(B2)에 배치된다. 즉, 실린더(86)가, 홈통형상부(85)를 닫힘측 단부 위치(C1)로부터 열림측 단부 위치(C2)까지 이동시킴으로써, 협지 부재(83)가 협지 위치(B1)로부터 이격 위치(B2)까지 이동된다.
한편, 실린더(86)가, 열림측 단부 위치(C2)에 있는 홈통형상부(85)를 기판(W)에 접근시키는 방향으로 이동시키면, 슬라이드 축부(81)는, 홈통형상부(85)와 함께 기판(W)에 접근하는 방향으로 슬라이드된다. 이에 의해서, 이격 위치(B2)에 있는 협지 부재(83)는, 수평면 내에서, 기판(W)의 좌우 중심선에 가까워지는 방향(즉, 기판(W)의 중심에 가까워지는 방향)으로 이동된다. 여기서, 실린더(86)가, 홈통형상부(85)를 닫힘측 단부 위치(C1)까지 이동시킨 상태에서, 돌출부(811)는, 홈통형상부(85)의 홈 측벽부로부터 이격한 상태(바람직하게는, 홈통형상부(85)의 홈의 거의 중심에 배치된 상태), 즉, 홈통형상부(85)로부터의 힘을 받지 않는 상태이다. 따라서, 홈통형상부(85)가 닫힘측 단부 위치(C1)에 배치되어 있는 상태에서, 슬라이드 축부(81)는, 협지 부재(83)가 탄성 부재(84)에 의해 기판(W)의 측면에 소기의 압력으로 탄성가압되는 위치(즉, 협지 위치)(B1)에 배치된 상태로 되어 있다.
즉, 실린더(86)가 홈통형상부(85)를 열림측 단부 위치(C2)로부터 닫힘측 단부 위치(C1)까지 이동하는 동안, 협지 부재(83)는, 도중까지는, 탄성 부재(84)로부터의 탄성가압력을 받으면서, 실린더(86)에 의해 지지되어 있는 상태에서 기판(W)에 접근할 수 있어, 도중부터는 탄성 부재(84)로부터의 탄성가압력을 받아, 최종적인 협지 위치(B1)까지 이동된다. 보다 구체적으로는, 협지 부재(83)는, 실린더(86)의 구동력을 받아, 이격 위치(B2)로부터 접근 위치(즉, 협지 부재(83)가, 기판(W)의 측면에 접근 혹은 맞닿은 소정의 위치)까지 이동되고, 그 후에는, 실린더(86)의 구동력에 의하지 않고 탄성 부재(84)로부터의 탄성가압력에 의해서만, 접근 위치로부터 협지 위치(B1)까지 더 이동되어 기판(W)의 측면에 소기의 압력으로 탄성가압된다. 상술한 바와 같이, 한 쌍의 협지 부재(83)의 각각이 협지 위치(B1)에 배치됨으로써, 기판(W)은, 그 직경 방향을 따르는 양끝가장자리부로부터 상기 한 쌍의 협지 부재(83)에 협지된 상태가 된다.
이 구성에 의하면, 각 협지 부재(83)가 기판(W)에 대해 필요 충분한 힘으로 탄성가압되므로, 협지부(801)에 의해, 기판(W)을 손상시키지 않고 확실하게 협지할 수 있다. 예를 들면, 탄성 부재를 설치하지 않고 실린더의 구동에 의해서만 각 협지 부재에 기판(W)을 협지시켰다고 하면, 협지 부재의 정지 위치가 일의로 고정되어 버린다. 따라서, 기판(W)의 위치나 사이즈가 소기의 것으로부터 미소하게 벗어난 경우 등에, 각 협지 부재가 기판(W)의 측면에 너무 접근되었기 때문에 기판(W)이 파손되거나 혹은 각 협지 부재가 기판(W)의 측면으로부터 너무 먼 위치에 배치되었기 때문에 기판(W)이 낙하하는 등과 같은 사태가 생길 우려가 있는데, 상기 구성에 의하면 그러한 사태는 발생하기 어렵다.
여기서, 협지 반전 기구(80)에는, 한 쌍의 협지 부재(83)의 위치 상태를 검지하는 개폐 검지부(800)가 설치된다. 개폐 검지부(800)는, 예를 들면, 한 쌍의 광학식의 센서(810, 820)에 의해 구성되고, 한쪽의 센서(닫힘측 센서)(81O)는, 닫힘측 단부 위치(C1)의 부근에 배치되고, 닫힘측 단부 위치(C1)에 배치되어 있는 홈통형상부(85)의 홈 내부에 삽입되어 있는 돌출부(811)를 검지한다. 다른쪽의 센서(열림측 센서)(820)는, 열림측 단부 위치(C2)의 부근에 배치되고, 열림측 단부 위치(C2)에 배치되어 있는 홈통형상부(85)의 홈 내부에 삽입되어 있는 돌출부(811)를 검지한다. 또한, 상술한 바와 같이, 홈통형상부(85)의 홈의 폭은, 돌출부(811)의 폭보다도 크게 형성되어 있으며, 돌출부(811)는, 상기 홈의 폭 내의 임의의 위치를 취할 수 있다. 따라서, 각 센서(810, 820)는 좌우 방향에 대해 홈통형상부(85)의 홈폭 정도의 검지 범위를 갖고 있는 것이 바람직하다.
이 구성에 의하면, 홈통형상부(85)가 닫힘측 단부 위치(C1)로 이동되면, 닫힘측 센서(810)가 돌출부(811)를 검출하게 된다. 즉, 닫힘측 센서(810)가 돌출부(811)를 검출한 경우, 각 협지 부재(83)가 근접 위치에 배치되고, 또한 탄성 부재(84)에 의해 협지 위치(B1)에 배치되었다고 판단할 수 있다. 한편, 홈통형상부(85)가 열림측 단부 위치(C2)로 이동되면, 열림측 센서(820)가 돌출부(811)를 검출하게 된다. 즉, 열림측 센서(820)가 돌출부(811)를 검출한 경우, 각 협지 부재(83)가 이격 위치(B2)에 배치되었다고 판단할 수 있다. 개폐 검지부(800)에 의해, 한 쌍의 협지 부재(83)가 기판(W)을 협지하고 있는지 아닌지를 검지함으로써, 기판 반전 장치(100)에 있어서, 복수의 기판(W)을 안전하게 반전시킬 수 있다.
한 쌍의 슬라이드 축부(81)의 각각은, 중공의 회전축부(87)의 내부에 삽입 통과된 상태로, 하우징(301)의 각 측벽부에 관통하여 설치된다. 즉, 하우징(301)의 좌우의 측벽부의 각각에는, 1개의 회전축부(87)가 회전 가능하게 관통하여 설치되어 있으며, 슬라이드 축부(81)는, 상기 회전축부(87)의 내부에 슬라이드 가능하게 삽입 통과되어 있다. 단, 슬라이드 축부(81)의 단부에는, 상술한 바와 같이, 돌출부(811)가 형성되어 있으며, 회전축부(87)에는, 이 돌출부(811)를 삽입 통과시키는 삽입 통과 개구(871)가 형성된다. 이 삽입 통과 개구(871)는, 슬라이드 축부(81)의 슬라이드에 수반하는 돌출부(811)의 좌우 방향으로의 이동을 방해하지 않도록, 좌우 방향으로 충분한 길이를 갖는 형상이 된다.
회전축부(87)와 이에 내삽되는 슬라이드 축부(81)는, 예를 들면, 삽입 통과 개구(871)의 단면(회전축부(87)의 둘레 방향에 대한 단면)에, 돌출부(811)의 단면(슬라이드 축부(81)의 둘레 방향에 대한 단면)이 걸림으로써, 슬라이드 축부(81)가, 회전축부(87)의 내부에서 축선(연장 방향을 따르는 중심선)을 중심으로 한 회전이 불가능하게 되어 있다. 따라서, 회전축부(87)가 그 축선(회전축(L))을 중심으로 회전되면, 이와 함께 슬라이드 축부(81)도 회전축(L)을 중심으로 회전한다.
여기서, 상하 방향에서 봤을 때, 좌우 방향으로 대향 배치되는 한 쌍의 회전축부(87)의 각각은, 수평면 내에서 좌우 방향으로 연장되고, 일단이 하우징(301)의 내부로, 타단이 하우징(301)의 외부로 각각 돌출한다. 한 쌍의 회전축부(87)는, 하우징(301)의 내부로 돌출한 측의 단부에 있어서, 한 쌍의 보조 바(88)를 통해, 다른쪽의 회전축부(87)와 연결된다. 한 쌍의 보조 바(88)는, 반전 지지 기구(70)에 의해 지지되는 2장의 기판(W)의 상측과 하측으로 나뉘어 배치되고, 각 보조 바(88)는, 수평면 내에서 좌우 방향으로 연장되어 배치된다.
한 쌍의 회전축부(87) 중, 한쪽의 회전축부(도면의 예에서는, +Y측의 회전축부)(87a)에 있어서의, 하우징(301)의 외부로 돌출한 측의 단부에는, 회전축부(87a)의 중공부를 막는 바닥판(872)이 부착되어 설치되어 있다. 상술한 바와 같이, 회전축부(87a)의 중공부에 삽입 통과된 슬라이드 축부(81)와, 상기 중공부를 폐쇄하는 바닥판(872) 사이에는, 탄성 부재(84)가 설치되어 있다.
한 쌍의 회전축부(87) 중, 다른쪽의 회전축부(도면의 예에서는, -Y측의 회전축부)(87b)에 있어서의, 하우징(301)의 외부로 돌출한 측의 단부에는, 회전축부(87b)의 중공부를 막도록 하여 풀리(873)가 부착되어 설치되어 있다. 상술한 바와 같이, 회전축부(87b)의 중공부에 삽입 통과된 슬라이드 축부(81)와, 상기 중공부를 폐쇄하는 풀리(873) 사이에는, 탄성 부재(84)가 설치되어 있다.
풀리(873)는, 그 회전 중심이 회전축부(87)의 회전축(L)과 일치하도록 설치되어 있다. 또, 풀리(873)의 부근에는, 모터(89)가 설치되어 있고, 풀리(873)와 모터(89) 사이에는, 모터(89)의 구동력을 풀리(873)에 전달하는 벨트(891)가 감겨져 있다. 이 구성에 있어서, 모터(89)가 회전되면, 상기 회전력이 벨트(891)를 통해 풀리(873)에 전달되어 풀리(873)가 회전해, 이에 의해서 회전축부(87b)가 그 축선(회전축)(L)을 중심으로 회전한다.
상술한 바와 같이, 한 쌍의 회전축부(87a, 87b)는, 한 쌍의 보조 바(88)를 통해 서로 연결되어 있다. 따라서, 한쪽의 회전축부(87b)가 회전축(L)을 중심으로 회전되면, 다른쪽의 회전축부(87a)도 동기하여 그 축선(회전축)(L)을 중심으로 회전된다. 즉, 한쪽의 회전축부(87b)와 연결된 모터(89)의 회전 구동력이, 다른쪽의 회전축부(87a)에도 전달되게 된다.
여기서, 상술한 바와 같이, 각 슬라이드 축부(81)는, 회전축부(87a, 87b)의 내부에서 회전할 수 없다. 따라서, 회전축부(87a, 87b)가 회전축(L)을 중심으로 180°회전되면, 각 슬라이드 축부(81)도 회전축(L)을 중심으로 180°회전하게 된다. 그 결과, 각 슬라이드 축부(81)에 연결된 지지 기둥(82)이 연직면 내에 있어서, 슬라이드 축부(81)와의 연결부(즉, 지지 기둥(82)의 연장 방향의 중앙부)를 중심으로 180°회전한다. 이에 의해서, 각 지지 기둥(82)에 설치되어 있는 각 협지 부재(83)에 협지되어 있는 2장의 기판(W)이 180°반전된다. 이와 같이, 협지 반전 기구(80)에 있어서는, 상하 방향으로 간격을 두고 설치된 2개의 협지부(801)에 협지된 2장의 기판(W)을 한번에 반전시킬 수 있도록 되어 있다.
<2-2. 기판 반전 장치(100)의 동작>
상술한 바와 같이, 반전 지지 기구(70)와 협지 반전 기구(80)는, 복수의 기판(W)을 한번에 반전시키는 기판 반전 장치(100)를 구성한다. 이 기판 반전 장치(100)의 동작에 대해서, 도 4 ~도 8에 추가하여 도 9를 참조하면서 설명한다. 도 9는, 기판 반전 장치(100)의 동작을 설명하기 위한 모식도이다. 또한, 기판 반전 장치(100)의 동작은, 제어부(50)가 기판 반전 장치(100)가 구비하는 각 부(70, 80)를 제어함으로써 실행된다. 또한, 기판 처리 장치(1)의 제어부(50)와는 별도로, 기판 반전 장치(100)가 구비하는 각 부(70, 80)를 제어하는 제어부를 설치하고, 상기 제어부를, 기판 처리 장치(1)의 제어부(50)가 통괄 제어하는 구성이어도 된다.
또한, 이하에서는, 수도 유닛(30)이 구비하는 기판 반전 장치(100)가, 이재 로봇(12)으로부터 수취한 기판(W)을 반전시켜, 반송 로봇(22)에 반전 후의 기판(W)을 수도하는 동작에 대해서 설명하는데, 상기 기판 반전 장치(100)가, 반송 로봇(22)으로부터 수취한 기판(W)을 반전시켜 이재 로봇(12)에 반전 후의 기판(W)에 수취하게 하는 경우의 동작 및 반전부(40)가 구비하는 기판 반전 장치(100)가, 반송 로봇(22)으로부터 수취한 기판(W)을 반전시켜 다시 반송 로봇(22)에 반전 후의 기판(W)을 수취하게 하는 경우의 동작도 이하에서 설명하는 동작과 동일하다.
모든 지지 부재(74)가 지지 위치(A1)에 배치됨과 더불어, 모든 협지 부재(83)가 이격 위치(B2)에 배치되어 있는 상태에서, 이재 로봇(12)이 각각이 1장씩 기판(W)을 지지하고 있는 2개의 반송 암(121a, 121b)을, 개구(303)를 통해 하우징(301)의 내부에 진입시키고, 상측의 반송 암(121a)에서 지지되고 있는 기판(W)을 상측의 지지부(701)에 지지시킴과 더불어, 하측의 반송 암(121b)에서 지지되고 있는 기판(W)을 하측의 지지부(701)에 지지시킨다. 각 지지부(701)에 기판(W)이 지지되면, 이재 로봇(12)은, 각 반송 암(121a, 121b)을 개구(303)를 통해 하우징(301)의 내부로부터 인발(引拔)한다. 이에 의해서, 이재 로봇(12)으로부터 지지 기구(70)에 2장의 기판(W)이 수도되어, 2장의 기판(W)이 수평 자세로 상하 방향으로 간격을 두고 적층된 상태로, 2개의 지지부(701)에 지지된 상태가 된다(도 9의 상단에 나타나 있는 상태).
모든 지지 부재(74)가 대피 위치(A2)로부터 지지 위치(A1)까지 이동되면, 계속해서, 실린더(86)가 홈통형상부(85)를 열림측 단부 위치(C2)로부터 닫힘측 단부 위치(C1)까지 이동시킨다. 그러면, 협지 부재(83)는, 도중까지는, 탄성 부재(84)로부터의 탄성가압력을 받으면서, 실린더(86)에 의해 지지되고 있는 상태로 기판(W)에 접근할 수 있고, 도중부터는 탄성 부재(84)로부터의 탄성가압력을 받아, 협지 위치(B1)까지 이동된다. 한 쌍의 협지 부재(83)의 각각이 협지 위치(B1)에 배치됨으로써, 기판(W)은, 그 직경 방향을 따르는 양끝가장자리부로부터 상기 한 쌍의 협지 부재(83)에 협지된 상태가 된다. 즉, 각 반전용 지지부(701)에 의해 지지되어 있는 기판(W)은, 반전용 지지부(701)에 지지되면서 협지부(801)에 의해서도 협지된 상태가 된다(도 9의 중간 단에 나타나 있는 상태).
개폐 검지부(800)가 닫힘 상태를 검출하면, 계속해서, 실린더(73)의 구동에 의해서, 모든 지지 부재(74)가 지지 위치(A1)로부터 대피 위치(A2)까지 동기하여 이동된다. 이에 의해서, 각 지지 부재(74)가 기판(W)의 반전 영역(M)의 외측에 배치된 상태가 되고, 2장의 기판(W)은 수평 자세로 상하 방향으로 간격을 두고 적층된 상태로, 2개의 협지부(801)에 협지된 상태가 된다(도 9의 하단에 나타난 상태). 단, 상술한 바와 같이, 실린더(73)는, 각 지지 부재(74)를 비스듬한 하방향으로 이동시킴으로써 지지 위치(A1)로부터 대피 위치(A2)까지 이동시킨다. 이 구성에 의하면, 지지 부재(74)는, 기판(W)의 측면과 하면 양방으로부터 동시에 멀어지는 방향으로 이동된다. 예를 들면, 지지 부재가 측면만으로부터 멀어지는 방향으로 이동된 경우, 지지 위치(A1)에 있어서 기판(W)의 하면과 맞닿고 있던 지지 부재가 기판(W)과 접촉한 채로 이동되게 되어, 기판(W)의 하면이 손상될 우려가 있다. 한편, 지지 부재가 하면만으로부터 멀어지는 방향으로 이동된 경우, 상기 지지 부재가 하측의 기판(W)에 충돌해 버린다. 이 실시형태에 따른 구성에 의하면, 이러한 사태가 발생하지 않는다. 즉, 지지 부재(74)에 의해서 기판(W)을 손상시키지 않고 적절히 지지 부재(74)를 대피 위치(A2)까지 이동시킬 수 있다.
모든 지지 부재(74)가 지지 위치(A1)로부터 대피 위치(A2)까지 이동되면, 계속해서, 모터(89)의 구동에 의해서, 회전축부(87a, 87b)가 회전축(L)을 중심으로 180°회전된다. 그러면, 한 쌍의 슬라이드 축부(81)도 회전축(L)을 중심으로 180°회전하고, 각 슬라이드 축부(81)에 연결된 지지 기둥(82)이 연직면 내에 있어서 그 연장 방향의 중앙부를 중심으로 180°회전한다. 이에 의해서, 2개의 협지부(801)의 각각에 협지되어 있는 기판(W)이 180°반전된다. 즉, 2개의 반전용 지지부(701)로부터 수취한 2장의 기판(W)이 한번에 180°반전된다.
2장의 기판(W)이 반전되면, 계속해서, 실린더(73)의 구동에 의해서, 모든 지지 부재(74)가 대피 위치(A2)로부터 지지 위치(A1)까지 동기하여 이동된다. 이에 의해서, 각 협지부(801)에 의해서 협지되어 있는 반전 후의 기판(W)은, 협지부(801)에 협지되면서 반전용 지지부(701)에 의해서도 지지된 상태가 된다(도 9의 중간 단 참조).
모든 지지 부재(74)가 대피 위치(A2)로부터 지지 위치(A1)까지 이동되면, 계속해서, 실린더(86)가 홈통형상부(85)를 닫힘측 단부 위치(C1)로부터 열림측 단부 위치(C2)까지 이동시킨다. 그러면, 협지 부재(83)는, 협지 위치(B1)로부터 이격 위치(B2)까지 이동된다. 이에 의해서, 각 협지 부재(83)가, 기판(W)으로부터 이격한 위치에 배치된 상태가 되고, 2장의 기판(W)은, 수평 자세로 상하 방향으로 간격을 두고 적층된 상태로, 2개의 반전용 지지부(701)에 지지된 상태가 된다(도 9의 상단 참조). 이 상태에서, 반송 로봇(22)이, 2개의 반송 암(221a, 221b)을 개구(302)를 통해 하우징(301)의 내부에 진입시키고, 각 반전용 지지부(701)에 지지되어 있는 기판(W)을 각 반송 암(221a, 221b) 상에 올려놓은 후, 기판(W)을 지지한 2개의 반송 암(221a, 221b)을 개구(302)를 통해 하우징(301)으로부터 인발한다.
<3. 기판 처리 장치(1)의 동작>
다음에, 기판 처리 장치(1)의 전체의 동작에 대해서 도 1~도 3 및 도 10을 참조하면서 설명한다. 도 10은, 기판(W)의 수도 동작을 설명하기 위한 모식도이다. 또한, 기판 처리 장치(1)의 동작은, 제어부(50)가 기판 처리 장치(1)가 구비하는 각 부를 제어함으로써 실행된다.
상술한 바와 같이, 기판 처리 장치(1)는, 기판(W)의 표면의 스크럽 세정 처리를 행하는 표면 세정 처리부(SS) 및 기판(W)의 이면의 스크럽 세정 처리를 행하는 이면 세정 처리부(SSR)를 구비하고 있고, 이에 의해서, 목적에 따라 여러 가지 패턴의 세정 처리(예를 들면, 기판(W)의 표면만을 세정하는 세정 처리, 기판(W)의 이면만을 세정하는 세정 처리, 기판(W)의 표면과 이면인 양면을 세정하는 세정 처리 등)를 행할 수 있다. 어떠한 세정 처리를 실행하는지는 기판(W)의 반송 순서(기판의 반송 순서를 「플로우」라고도 함) 및 처리 조건을 기술한 레시피에 따라 설정된다. 레시피는, 일군의 기판(W)(예를 들면, 로트 단위의 기판군)마다 설정된다. 이하에서는, 레시피에 따라 기판(W)의 양면을 세정하는 세정 처리가 실행되는 경우와, 레시피에 따라 기판(W)의 표면만을 세정하는 세정 처리가 실행되는 경우를 예로 들어, 각 경우에 있어서의 기판 처리 장치(1)의 동작을 설명한다.
<a. 기판(W)의 양면을 세정하는 경우>
이 경우, 미처리 기판(W)을 수용한 캐리어(C)가, AGV 등에 의해서, 장치 외부로부터 인덱서 셀(10)의 캐리어 스테이지(11)에 반입되면, 인덱서 셀(10)의 이재 로봇(12)이, 상기 캐리어(C)로부터 반송 암(121a, 121b)에서 미처리 기판(W)을 2장 취출하여, 상기 취출한 2장의 미처리 기판(W)을 수도 유닛(30)에 반송한다. 단, 기판 처리 장치(1)에 있어서는, 이재 로봇(12)으로부터 반송 로봇(22)으로의 미처리 기판의 수도는, 반전용 지지부(701)와 이송 지지부(601a)를 배타적으로 이용하여 행해진다. 또, 어느 쪽 지지부를 이용하는지는, 예를 들면 레시피에 어떠한 처리 순서가 설정되어 있는지에 따라 선택된다. 여기에서는, 예를 들면, 레시피에 이면 세정을 포함하는 처리 순서가 설정되어 있는 경우에는 미처리 기판의 수도는 반전용 지지부(701)를 이용하고, 그 이외의 경우에는 미처리 기판(W)의 수도는 이송 지지부(601a)를 이용하여 행하도록 규정되어 있는 것으로 한다. 따라서, 기판(W)의 양면을 세정하는 경우에는, 이재 로봇(12)은, 캐리어(C)로부터 취출한 2장의 미처리 기판(W)을 2개의 반전용 지지부(701)에 수도한다(도 10의 상단).
2장의 기판(W)이 2개의 반전용 지지부(701)에 지지된 상태가 되면, 계속해서, 협지 반전 기구(80)가, 2개의 반전용 지지부(701)에 지지된 2장의 기판(W)을 협지하여, 상기 2장의 기판(W)의 표리를 한번에 반전시켜, 각 기판(W)을 이면이 상측을 향한 상태로 한다. 그리고 상기 반전 후의 2장의 기판(W)을 다시 2개의 반전용 지지부(701)에 지지시킨다. 이 기판 반전 장치(100)의 동작에 대해서는 상술한 바와 같다.
반전 후의 2장의 기판(W)이 2개의 반전용 지지부(701)에 지지된 상태가 되면, 세정 처리 셀(20)의 반송 로봇(22)은, 반송 암(221a, 221b)에서, 상기 2장의 기판(W)을 2개의 반전용 지지부(701)로부터 수취한다.
반전 후의 2장의 기판(W)(즉, 이면이 상측을 향한 2장의 기판(W))을 수취한 반송 로봇(22)은, 계속해서, 상기 수취한 2장의 기판(W)의 각각을 이면 세정 처리부(SSR)에 반송한다. 또한, 상술한 바와 같이, 이 실시형태에 따른 세정 처리 유닛(21a)은, 적층 배치된 4개의 이면 세정 처리부(SSR)를 구비하고 있고, 반송 로봇(22)은, 상기 4개의 이면 세정 처리부(SSR) 중 임의의 2개의 이면 세정 처리부(SSR)를 선택하여, 상기 선택한 2개의 이면 세정 처리부(SSR)의 각각 기판(W)을 한 장씩 반송한다.
기판(W)이 반입된 2개의 이면 세정 처리부(SSR)의 각각에 있어서는, 기판(W)의 이면 세정 처리가 실행된다. 즉, 각 이면 세정 처리부(SSR)에 있어서는, 이면을 상측을 향하게 한 기판(W)을 스핀척(211)에 의해 유지해 회전시키면서, 노즐(213)로부터 세정액을 기판(W)의 이면에 공급한다. 이 상태에서 세정 브러시(212)가 기판(W)의 이면에 접촉 또는 근접하여 수평 방향으로 스캔함으로써, 기판(W)의 이면에 스크럽 세정 처리가 실시된다.
각 이면 세정 처리부(SSR)에서 기판(W)의 이면 세정 처리가 종료되면, 반송 로봇(22)은, 반송 암(221a, 221b)에서, 2개의 이면 세정 처리부(SSR)의 각각으로부터 순서대로 이면 세정 처리 후의 기판(W)을 취출하여, 상기 취출한 2장의 기판(W)을 반전부(40)에 반송한다.
이면 세정 처리 후의 2장의 기판(W)이 반입된 반전부(40)에 있어서는, 기판 반전 장치(10O)가, 상기 2장의 기판(W)의 표리를 반전시켜 각 기판(W)을 표면이 상측을 향한 상태로 한다.
반전부(40)에서 2장의 기판(W)이 반전되면, 반송 로봇(22)은, 반송 암(221a, 221b)에서 반전부(40)로부터 반전된 2장의 기판(W)(즉, 표면이 상측을 향한 2장의 기판(W))를 수취하여, 상기 수취한 2장의 기판(W)의 각각을 표면 세정 처리부(SS)에 반송한다. 또한, 상술한 바와 같이, 이 실시형태에 따른 세정 처리 유닛(21b)은, 적층 배치된 4개의 표면 세정 처리부(SS)를 구비하고 있고, 반송 로봇(22)은, 상기 4개의 표면 세정 처리부(SS) 중 임의의 2개의 표면 세정 처리부(SS)를 선택하여, 상기 선택한 2개의 표면 세정 처리부(SS)의 각각 기판(W)을 한 장씩 반송한다.
기판(W)이 반입된 2개의 표면 세정 처리부(SS)의 각각에 있어서는, 기판(W)의 표면 세정 처리가 실행된다. 즉, 각 표면 세정 처리부(SS)에 있어서는, 표면을 상측을 향하게 한 기판(W)을 스핀척(201)에 의해 유지해 회전시키면서, 노즐(203)로부터 세정액을 기판(W)의 표면에 공급한다. 이 상태에서 세정 브러시(202)가 기판(W)의 표면에 접촉 또는 근접해 수평 방향으로 스캔함으로써, 기판(W)의 표면에 스크럽 세정 처리가 실시된다.
각 표면 세정 처리부(SS)에서 기판(W)의 표면 세정 처리가 종료되면, 반송 로봇(22)은, 반송 암(221a, 221b)에서, 2개의 표면 세정 처리부(SS)의 각각으로부터 순서대로 표면 세정 처리 후의 기판(W)을 취출하여, 상기 취출한 2장의 기판(W)의 각각을 리턴 지지부(601b)로 반송한다.
리턴 지지부(601b)에 처리가 완료된 기판(W)이 올려놓아지면, 인덱서 셀(10)의 이재 로봇(12)이, 반송 암(121a, 121b)에서 상기 처리가 완료된 기판(W)을 취출하여 캐리어(C)에 격납한다. 즉, 반송 로봇(22)으로부터 이재 로봇(12)으로의 처리가 완료된 기판(W)의 수도는, 리턴 지지부(601b)를 통해 행해지게 된다.
<b. 기판(W)의 표면만을 세정하는 경우>
이 경우, 미처리 기판(W)을 수용한 캐리어(C)가 AGV 등에 의해서 장치 외부로부터 인덱서 셀(10)의 캐리어 스테이지(11)에 반입되면, 인덱서 셀(10)의 이재 로봇(12)이, 상기 캐리어(C)로부터 반송 암(121a, 121b)에서 미처리 기판(W)을 2장 취출하여, 상기 취출한 2장의 미처리 기판(W)을 수도 유닛(30)에 반송한다, 단, 상술한 바와 같이, 기판 처리 장치(1)에 있어서는, 이재 로봇(12)으로부터 반송 로봇(22)으로의 미처리 기판의 수도는, 반전용 지지부(701)와 이송 지지부(601a)를 배타적으로 이용하여 행해지는 곳, 여기에서는, 레시피에 이면 세정을 포함하지 않는 처리 순서가 설정되어 있는 경우에는, 미처리 기판(W)의 수도는 이송 지지부(601a)를 이용하여 실시하도록 규정되어 있다. 따라서, 기판(W)의 표면만을 세정하는 경우에는, 이재 로봇(12)은, 캐리어(C)로부터 취출한 2장의 미처리 기판(W)을 2개의 이송 지지부(601a)에 수도한다(도 10의 하단).
2장의 기판(W)이 2개의 이송 지시부(601a)에 지지된 상태가 되면, 반송 로봇(22)이 반송 암(221a, 221b)에서 상기 2장의 미처리 기판(W)을 2개의 이송 지지부(601a)로부터 수취한다.
2장의 기판(W)(즉, 표면이 상측을 향한 상태의 2장의 기판(W))를 수취한 반송 로봇(22)은, 계속해서, 상기 수취한 2장의 기판(W)의 각각을, 표면 세정 처리부(SS)로 반송한다. 또한, 여기에서도, 반송 로봇(22)은, 세정 처리 유닛(21b)이 구비하는 4개의 표면 세정 처리부(SS) 중 임의의 2개의 표면 세정 처리부(SS)를 선택하여, 상기 선택한 2개의 표면 세정 처리부(SS)의 각각에 기판(W)을 한 장씩 반송한다.
기판(W)이 반입된 2개의 표면 세정 처리부(SS)의 각각에 있어서는, 기판(W)의 표면 세정 처리가 실행된다.
각 표면 세정 처리부(SS)에서 기판(W)의 표면 세정 처리가 종료되면, 반송 로봇(22)은 반송 암(221a, 221b)에서 2개의 표면 세정 처리부(SS)의 각각으로부터 순서대로 표면 세정 처리 후의 기판(W)을 취출하여, 상기 취출한 2장의 기판(W)의 각각을 리턴 지지부(601b)로 반송한다.
리턴 지지부(601b)에 처리가 완료된 기판(W)이 올려놓아지면, 인덱서 셀(10)의 이재 로봇(12)이 반송 암(121a, 121b)에서 상기 처리가 완료된 기판(W)을 취출하여 캐리어(C)에 격납한다. 즉, 반송 로봇(22)으로부터 이재 로봇(12)으로의 처리가 완료된 기판(W)의 수도는 리턴 지지부(601b)를 통해 행해지게 된다.
이상과 같이, 기판 처리 장치(1)에 있어서는, 레시피에 이면 세정을 포함하는 처리 순서가 설정되어 있는 경우, 제어부(50)는 각 반송 로봇(12, 22)에 미처리 기판(W)의 수도를 반전용 지지부(701)를 통해 행하게 함과 더불어, 수도시에 기판 반전 장치(100)에 기판(W)의 반전 처리를 행하게 한다(도 10의 상단). 이 경우, 이송 지지부(601a)에 미처리 기판(W)이 반입되지는 않고, 이재 로봇(12)으로부터 반송 로봇(22)으로의 미처리 기판(W)의 수도는, 오로지 반전용 지지부(701)를 통해 행해진다. 한편, 레시피에 이면 세정을 포함하지 않는 처리 순서가 설정되어 있는 경우, 제어부(50)는, 각 반송 로봇(12, 22)에 미처리 기판(W)의 수도를 이송 지지부(601a)를 통해 행하게 한다(도 10의 하단). 이 경우, 반전용 지지부(701)에 미처리 기판(W)이 반입되지 않고, 이재 로봇(12)으로부터 반송 로봇(22)으로의 미처리 기판(W)의 수도는, 오로지 이송 지지부(601a)를 통해 행해지게 된다.
이와 같이, 기판 처리 장치(1)에 있어서는, 이재 로봇(12)으로부터 반송 로봇(22)으로의 미처리 기판(W)의 수도의 경로로서, 반전용 지지부(701)를 개재하는 수도 경로와, 이송 지지부(601a)를 개재하는 수도 경로가 2개 존재하고, 제어부(50)가, 레시피에 따라 어느 한쪽의 수도 경로를 선택한다. 또, 레시피가 변경될 때에는, 제어부(50)는 필요에 따라 미처리 기판(W)의 수도 경로를 전환한다. 예를 들면, 이면 세정을 포함하는 처리 순서가 설정되어 있는 레시피로부터 이면 세정을 포함하지 않는 처리 순서가 설정되어 있는 레시피로 전환되는 경우, 제어부(50)는, 미처리 기판(W)의 수도 경로를 반전용 지지부(701)를 개재하는 수도 경로에서, 이송 지지부(601a)를 개재하는 수도 경로로 전환한다. 한편, 이면 세정을 포함하지 않는 처리 순서가 설정되어 있는 레시피로부터 이면 세정을 포함하는 처리 순서가 설정되어 있는 레시피로 전환되는 경우, 제어부(50)는, 미처리 기판(W)의 수도 경로를, 이송 지지부(601a)를 개재하는 수도 경로로부터 반전용 지지부(701)를 통하는 수도 경로로 전환한다. 단, 전자의 경우, 이재 로봇(12)은, 반전용 지지부(701)에 지지되어 있는 미처리 기판(W)(앞의 레시피에 따른 미처리 기판(W))을 협지 반전 기구(80)가 반전한 후에(바람직하게는, 상기 미처리 기판(W)이 반송 로봇(22)에 의해서 반출된 후에), 이송 지지부(601a)에 새로운 레시피에 따른 미처리 기판(W)을 반입한다. 또, 후자의 경우, 이재 로봇(12)은, 이송 지지부(601a)에 지지되어 있는 미처리 기판(W)(앞의 레시피에 따른 미처리 기판(W))이 반송 로봇(22)에 의해서 반출된 후에, 반전용 지지부(701)에 새로운 레시피에 따른 미처리 기판(W)을 반입한다. 이에 의해서, 레시피가 전환될 때에, 간섭 지지부인 이송 지지부(601a)에 지지되어 있는 미처리 기판(W)이, 협지 반전 기구(80)에 의해 반전되는 기판(W)과 충돌하는 사태가 발생하는 것이 미연에 회피된다.
<4. 효과>
상기 실시형태에 의하면, 수도 유닛(30)이 상하 방향으로 간격을 두고 배치된 반전용 지지부(701)와 지지부(601)를 구비하므로, 반송 로봇(22)과 이재 로봇(12) 사이의 기판(W)의 수도를, 반전용 지지부(701)와 지지부(601)의 적어도 한쪽을 통해 행할 수 있으며, 특히 반전용 지지부(701)를 통하는 경우에는, 기판(W)을 반전시킨 다음에 수도할 수 있다. 여기서, 지지부(601)의 적어도 하나가 간섭 지지부로 되어 있고, 상기 지지부(601)는, 협지 반전 기구(80)에 의해 반전되는 기판(W)의 반전 영역(M) 내에서 기판(W)을 지지한다. 따라서, 수도 유닛(30)의 높이 치수를 작게 억제할 수 있다. 이에 의해서, 반송 로봇(22) 및 이재 로봇(12)의 상하 방향의 이동거리의 증대가 억제되어, 기판 처리 장치(1)의 스루풋의 저하를 효과적으로 억제할 수 있다. 또, 반송 로봇(22) 및 이재 로봇(12)을 컴팩트화할 수 있다. 또, 수도 유닛(30)의 컴팩트화에 따라 생긴 스페이스를 유효 이용함으로써, 기판 처리 장치(1)의 컴팩트화도 가능해진다.
예를 들면, 도 3에 나타낸 바와 같이, 이재 로봇(12)에는, 캐리어 스테이지(11) 상의 캐리어(C)와의 사이에서 기판(W)을 수도하기 위해서 필요로 하는 상하 스트로크 범위(캐리어 접속 범위)(HC)가, 최저한으로 필요하다. 따라서, 이재 로봇(12)의 상하 스트로크 범위를 효과적으로 억제하기 위해서는, 수도 유닛(30)과의 사이에서 기판(W)을 수도하기 위해서 필요로 하는 상하 스트로크 범위(수도 유닛 접속 범위)(H30)가, 캐리어 접속 범위(HC)와 가능한 한 근사하고 있는 것이 바람직하다.
캐리어 접속 범위(HC)는 캐리어(C)의 높이 치수에 따라 규정되고, 수도 유닛 접속 범위(H30)는 수도 유닛(30)의 높이 치수에 따라 규정되는 바, 일반적으로, 기판(W)의 사이즈가 커져도 캐리어(C)의 높이 치수는 커지지 않지만, 기판(W)의 사이즈가 커지면 기판(W)의 반전 영역(M)은 커진다. 여기서, 상기 실시형태에 의하면, 적어도 1개의 지지부(601)가 간섭 지지부로 되어 있고, 이에 의해서 반전 영역(M)의 확대에 따른 수도 유닛(30)의 높이 치수의 증대를 억제하는 것이 가능하게 되어 있다. 즉, 기판(W)의 사이즈가 커졌다고 해도 수도 유닛 접속 범위(H30)를 캐리어 접속 범위(HC)에 근사시킨 상태로 해두는 것이 가능해진다. 그 결과, 이재 로봇(12)의 스트로크 범위의 증대를 억제하는 것이 가능해져, 기판 처리 장치(1)의 스루풋의 저하를 효과적으로 억제할 수 있다.
또, 상기의 실시형태에 의하면, 이재 로봇(12)으로부터 반송 로봇(22)으로의 미처리 기판(W)의 수도가, 반전용 지지부(701)와 이송 지지부(601a) 중 어느 한쪽을 통해(즉, 이들 지지부(701, 601a)를 배타적으로 이용하여) 행해진다. 이 구성에 의하면, 반전용 지지부(701)와 이송 지지부(601a)가 동시에, 기판(W)의 수도에 이용된다고 하는 상황이 발생하지 않으므로, 이송 지지부(601a)(간섭 지지부로 되어 있는 이송 지지부(601a))에서 지지되고 있는 기판(W)과 협지 반전 기구(80)에 의해서 반전되는 기판(W)이 간섭한다고 하는 사태를 확실하게 회피할 수 있다.
또, 상기 실시형태에 의하면, 이재 로봇(12)으로부터 반송 로봇(22)으로의 미처리 기판(W)의 수도 경로가, 기판군마다 설정된 레시피에 따라, 반전용 지지부(701)를 개재하는 수도 경로와, 이송 지지부(601a)를 개재하는 수도 경로 사이에서 택일적으로 전환된다. 이 구성에 의하면, 예를 들면, 표면만의 처리 또는 양면 처리를, 레시피에 의해서 선택함으로써, 장치가 자동으로 수도 경로를 선택하여 처리를 행할 수 있다.
또, 상기의 실시형태에 의하면, 이송 지지부(601a)가 반전용 지지부(701)의 상측에 배치된다. 이 구성에 의하면, 이송 지지부(601a)를 통해 수도되는 미처리 기판(W)(즉, 반전되지 않고 표면이 상측을 향한 채로 수도되는 미처리 기판(W))의 통과 경로가, 협지 반전 기구(80)보다도 상측에 형성되게 된다. 따라서, 미처리 기판(W)의 표면이, 협지 반전 기구(80)의 구동 기구 등으로부터 생긴 파티클 등에 의해 오염되기 어렵다.
또, 상기의 실시형태에 의하면, 반송 로봇(22)으로부터 이재 로봇(12)으로의 처리가 완료된 기판(W)의 수도가, 이송 지지부(601a)의 상측에 배치된 리턴 지지부(601b)를 통해 행해진다. 이 구성에 의하면, 처리가 완료된 기판(W)의 통과 경로가, 미처리 기판(W)의 통과 경로보다도 상측에 형성되므로, 처리가 완료된 기판(W)의 표면을 청정하게 유지할 수 있다.
또, 상기 실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)에 있어서는, 수도 유닛(30) 및 반전부(40)의 각각이 구비하는 기판 반전 장치(100)가, 한번에 2장의 기판(W)을 적절하게 반전시킬 수 있다. 이에 의해서, 기판 처리 장치(1)에 있어서의 스루풋을 양호한 것으로 할 수 있다. 특히, 기판 처리 장치(1)에 있어서는, 이재 로봇(12)과 반송 로봇(22) 사이에서 기판(W)을 수도할 때에, 기판(W)의 표리를 반전시킬 수 있다. 즉, 기판 반전 장치(100)가, 기판(W)을 반전시키는 기능에 더해, 이재 로봇(12)과 반송 로봇(22) 사이에서의 기판(W)의 수도부로서의 기능도 담당한다. 이 구성에 의하면, 예를 들면, 수도부와 반전부를 별도로 설치하는 경우에 비해, 반송 로봇(22)의 부담이 경감함과 더불어, 세정 처리 셀(20) 내에서의 처리 단계수가 감소하여, 기판 처리 장치(1)의 스루풋의 저하가 효과적으로 억제된다.
<5. 변형예>
상기 실시형태에서는, 지지 유닛(60)은, 6개의 지지부(601)를 구비하는 구성으로 했는데, 지지 유닛(60)이 구비하는 지지부(601)의 개수는, 반드시 6개일 필요는 없다. 또한, 지지 유닛(60)이 구비하는 복수의 지지부(601) 중 어떤 위치에 있는 몇 개의 지지부(601)를 이송 지지부(601a)(혹은, 리턴 지지부(601b))로서 이용할지는, 임의로 설정할 수 있는 것이며, 예를 들면, 제어부(50)가 오퍼레이터로부터의 입력을 받아들임으로써 설정된다. 여기서, 상기 실시형태에 있어서는, 간섭 지지부로 되어 있는 지지부(601)의 전부가 이송 지지부(601a)로서 이용되고 있었는데, 간섭 지지부로 되어 있는 지지부(601)의 적어도 1개(혹은, 전부)가 리턴 지지부(60lb)로서 이용되어도 된다. 예를 들면, 6개의 지지부(601) 중, 하측의 3개의 지지부(601)가 리턴 지지부(601b)로서 이용되어도 되고, 이 경우에는, 간섭 지지부로 되어 있는 지지부(601)의 전부가, 리턴 지지부(601b)로서 이용되게 된다. 단, 이 변형예에 있어서는, 기판 반전 장치(100)에 있어서 기판(W)의 반전 동작이 행해지고 있는 동안에는, 간섭 지지부로 되어 있는 지지부(601)에는 기판(W)이 반입되지 않도록 또 간섭 지지부로 되어 있는 지지부(601)에 기판(W)이 지지되고 있는 동안에는, 기판 반전 장치(100)에 있어서 기판(W)의 반전 동작이 행해지지 않도록, 동작 스케줄을 적절히 조정할 필요가 있다.
또, 상기 실시형태에 있어서, 반전용 지지부(701)가 리턴 기판(W)의 수도에 이용되어도 된다. 예를 들면 기판(W)의 이면만을 세정하는 경우에, 반송 로봇(22)으로부터 이재 로봇(12)으로의 처리가 완료된 기판(W)의 수도를, 반전용 지지부(701)를 통해 행하고, 처리가 완료된 기판(W)을 반전한 다음, 이재 로봇(12)에 수도하는 구성으로 해도 된다. 단, 이 변형예에 있어서도, 상기 변형예와 동일하게, 기판 반전 장치(100)에 있어서 기판(W)의 반전 동작을 하고 있는 동안에는, 간섭 지지부로 되어 있는 지지부(601)에는 기판(W)이 반입되지 않도록, 또 간섭 지지부로 되어 있는 지지부(601)에 기판(W)이 지지되고 있는 동안에는, 기판 반전 장치(100)에 있어서 기판(W)의 반전 동작을 하지 않도록, 동작 스케줄을 적절히 조정할 필요가 있다.
또, 상기 실시형태에 있어서는, 지지 유닛(60)이 구비하는 복수의 지지부(601)는, 복수의 반전용 지지부(701)의 상측에 배치되는 구성이었는데, 적어도 1개의 지지부(601)를, 복수의 반전용 지지부(701)의 하측에 배치해도 된다.
또, 상기 실시형태에 있어서, 반전부(40)를 수도 유닛(30)의 하우징(301) 내에 배치해도 된다. 이 경우, 수도 유닛(30)의 하우징(301) 내에, 지지 유닛(60)을 사이에 두고 상측과 하측에, 기판 반전 장치(100)가 1개씩 배치되게 된다. 여기서, 지지 유닛(60)이 구비하는 복수의 지지부(601) 중 상측의 1 이상의 지지부(601)가 상측의 기판 반전 장치(100)에 있어서의 기판(W)의 반전 영역에 있어서 기판(W)을 지지하는 간섭 지지부로 됨과 더불어, 하형의 1 이상의 지지부(601)가 하측의 기판 반전 장치(100)에 있어서의 기판(W)의 반전 영역에 있어서 기판(W)을 지지하는 간섭 지지부로 되어도 된다. 이 구성에 의하면, 반전부(40)와 수도 유닛(30)을 포함한 토탈 높이 치수를 작게 억제할 수 있다. 단, 이 경우에도, 상측(하측)의 기판 반전 장치(100)에 있어서 기판(W)의 반전 동작이 행해지고 있는 동안에는, 상측(하측)의 간섭 지지부에는 기판(W)이 반입되지 않도록, 또, 상측(하측)의 간섭 지지부에 기판(W)이 지지되고 있는 동안에는, 상측(하측)의 기판 반전 장치(100)에 있어서 기판(W)의 반전 동작이 행해지지 않도록, 동작 스케줄을 조정할 필요가 있다.
또, 상기 실시형태에 있어서는, 기판 반전 장치(100)는, 2장의 기판(W)을 동시에 반전시키는 것이었는데, 기판 반전 장치(100)는, 1장의 기판(W)을 반전시키는 것이어도 되고, 3장 이상의 기판(W)을 동시에 반전시키는 것이어도 된다. 예를 들면, 반전 지지 기구(70)에 있어서, 각 지지 기둥(72)에 4개의 지지 부재(74)를 설치함과 더불어, 협지 반전 기구(80)에 있어서, 각 지지 기둥(82)에 4개의 협지 부재(83)를 설치하면 4장의 기판(W)을 동시에 반전시킬 수 있다.
또, 상기 실시형태에 있어서, 각 세정 처리 유닛(21a, 21b)에 있어서의, 표면 세정 처리부(SS) 및 이면 세정 처리부(SSR)의 레이아웃 및 각 처리부의 탑재 개수는, 상기에 예시한 것에 한정되지 않는다. 또, 반전부(40)의 배치 위치도, 상기에 예시한 것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 반전부(40)는 수도 유닛(30)의 하측에 배치되어도 되고, 세정 처리 셀(20)에 배치되어도 된다.
또, 상기 실시형태에 따른 기판 반전 장치(1O0)에 있어서, 반전 지지 기구(70)에서 지지되는 2장의 기판(W)의 각각 대응해, 대응하는 기판(W)의 이상을 검지하는 검지부를 설치해도 된다. 검지부는, 예를 들면 광학 센서 등에 의해서, 대응하는 기판(W)의 유무 및 자세의 이상 등을 검지하는 것으로 할 수 있다.
1: 기판 처리 장치 10: 인덱서 셀
12: 이재 로봇 20: 세정 처리 셀
22: 반송 로봇 30: 수도 유닛
40: 반전부 50: 제어부
60: 지지 유닛 70: 반전 지지 기구
80: 협지 반전 기구 601: 지지부
601a: 이송 지지부 601b: 리턴 지지부
701: 반전용 지지부 100: 기판 반전 장치
W: 기판

Claims (6)

  1. 기판 처리 장치로서,
    기판의 표면을 세정하는 표면 세정부와, 기판의 이면을 세정하는 이면 세정부와, 제1 반송 로봇을 갖는 처리 블록과,
    제2 반송 로봇을 갖고, 상기 처리 블록에 미처리 기판을 건네줌과 더불어 상기 처리 블록으로부터 처리가 완료된 기판을 수취하는 인덱서 블록과,
    상기 처리 블록과 상기 인덱서 블록의 접속 부분에 배치된 수도(受渡) 유닛을 구비하고,
    상기 수도 유닛이,
    기판을 수평 자세로 지지하는 제1 지지부와,
    상기 제1 지지부와 상하 방향으로 간격을 두고 배치되고, 기판을 수평 자세로 지지하는 제2 지지부와,
    상기 제1 지지부에 지지되는 기판을 반전시키고, 반전 후의 기판을 다시 상기 제1 지지부에 지지된 상태로 하는 반전 기구를 구비하고,
    상기 제2 지지부에 지지되는 기판의 일부분이, 상기 반전 기구에 의해 반전되는 기판의 반전 영역 내에 배치되는, 기판 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제2 반송 로봇으로부터 상기 제1 반송 로봇으로의 미처리 기판의 수도가, 상기 제1 지지부와 상기 제2 지지부를 배타적으로 이용하여 행해지는, 기판 처리 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 제2 반송 로봇으로부터 상기 제1 반송 로봇으로의 미처리 기판의 수도 경로가, 기판군마다 설정된 레시피에 따라, 상기 제1 지지부를 개재하는 수도 경로와, 상기 제 2 지지부를 개재하는 수도 경로 사이에서 택일적으로 전환되는, 기판 처리 장치.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 지지부가 상기 제1 지지부의 상측에 배치되는, 기판 처리 장치.
  5. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,
    상기 수도 유닛이,
    상기 제2 지지부의 상측에 배치되고, 기판을 수평 자세로 지지하는 제3 지지부를 더 구비하고,
    상기 제1 반송 로봇으로부터 상기 제2 반송 로봇으로의 처리가 완료된 기판의 수도가, 상기 제3 지지부를 개재하여 행해지는, 기판 처리 장치.
  6. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 지지부를 복수 개 구비하고,
    상기 반전 기구가, 상기 복수의 제1 지지부에 지지되는 복수의 기판을 한번에 반전시키는, 기판 처리 장치.
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