KR20130141444A - 분진과 함께 장입되는 가스 흐름을 세정하기 위한 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 분진 및/또는 미세한 미립자 고형물들과 함께 장입되는, 직접 환원 공장 또는 용융 환원 공장으로부터의 노정 가스 및/또는 탈 가스 및/또는 배기 가스로 이루어지는 가스 흐름을 세정하기 위한 방법에 관한 것이다. 가스 흐름은 하나 이상의 건식 필터에 의해 건식 세정을 받고, 분진들 및/또는 미세한 미립자 원재료들은 가스 흐름으로부터 분리된다. 세정된 가스 흐름은 CO2 분리 장치 안으로 이송되고, CO2 는 분리되고, 실질적으로 물 및 CO2 가 없는 생성 가스를 형성하고 건식 필터를 백플러싱하는데 사용된다.

Description

분진과 함께 장입되는 가스 흐름을 세정하기 위한 방법{METHOD FOR CLEANING A GAS FLOW LOADED WITH DUST}
본 발명은, 덩어리가 있는(lumpy) 또는 미립자, 특히 미세한 미립자, 고형물들의, 환원을 위해 그리고 제련에 대하여 적용 가능한, 분진 및/또는 미세한 미립자 고형물들과 함께 장입되는, 직접 환원 공장 또는 용융 환원 공장으로부터의 노정 가스(top gas) 및/또는 탈 가스(off gas) 및/또는 배기 가스(export gas)로 이루어지는 가스 흐름을 세정하기 위한 방법에 관한 것이며, 가스 흐름은 최초로 하나 이상의 건식 필터에 의해 건식 세정을 받고, 분진들 및/또는 미세한 미립자 원재료들은 가스 흐름으로부터 분리되고, 이러한 세정된 가스 흐름은 적어도 일부가 CO2 분리의 목적을 위해 CO2 분리 장치로 이송되고, CO2 및 적용 가능한 물이 분리되어, 실질적으로 CO2 가 없는 생성 가스(product gas) 및 CO2 가 풍부한 테일 가스(tail gas)를 형성한다.
용융 환원 공장이 2-단 프로세스로 작동되며, 제 1 단계에서 고형물 금속 함유 원재료들은 환원 가스에 의해 환원되고 이러한 예비 환원된 재료는 에너지 소스들, 특히 석탄, 코크스를 동시에 첨가하면서 액체 금속을 제조하기 위해 제 2 단계에서 제련된다. 본 출원의 내용에서의 용융 환원 공장들은 용광로(blast furnace)(고온의 블래스트 및/또는 산소를 사용하여 작동됨), COREX® 또는 FINEX® 프로세스를 사용하는 공장 그리고 추가로 이용 가능한 용융 환원 프로세스들을 사용하는 공장들을 포함하는 것으로 이해된다.
특히 예컨대 용광로들로부터의 용광로 가스 또는 환원 공장들로부터의 노정 가스와 같은, 고온의 프로세스 가스들을 세정하기 위해 건식 필터들이 이용되는 것이 종래 기술로부터 공지된다. 습식 세척(wet scrubbing)과 대조적으로 결국 복잡한 추가적 처리를 받을 필요가 있는 슬러지들 또는 폐수들이 축적되지 않는 것이 이러한 상황에서 유리하다. 플러싱 가스들에 의한 백플러싱에 의해 건식 필터들을 세정하는 것이 추가로 공지되고, 필터 케이크는 필터로부터 해제된다. 주로 압축 공기 하지만 또한 질소가 종래 기술에서 이 목적을 위해 사용된다. 이러한 상황에서의 단점은 추가적인 프로세스 가스들이 상당한 양들로 요구된다는 것이다.
사이클론(cyclone) 분리기 내에 필터를 배열하는 것이 JP 05-076803 A 로부터 공지되고, 사이클론 분리기에서의 조악한 분리에 뒤따라서 미세한 분리가 필터에서 일어난다. 이러한 경우 분리되는 재료는 추가로 프로세스될 수 있다.
WO 94/11283 은 마찬가지로 운반 가스로부터 분진들의 분리 및 이에 의해 분리된 분진들의 개방 용기로의 전달 및 사이클론 분리기 및 백(bag) 필터 내의 운반 가스의 세정을 설명한다.
따라서 본 발명의 목적은 건식 필터가 신뢰할 수 있고 더 비용 효과적으로 세정되게 할 수 있는 방법을 이용 가능하게 하는 것이다.
이 목적은 청구항 제 1 항에 청구된 본 발명에 따른 방법에 의해 달성된다.
본 발명에 따른 방법은, 하나 이상의 건식 필터를 백플러시하기 위해, CO2 가 거의 없는, 생성 가스를 사용한다. 생성 가스는, 예컨대 (진공)압력 스윙 흡수(PSA) 또는 진공 압력 스윙 흡수(VPSA)와 같은, 흡수 시스템들에 의해 제조되고, CO2 및 습기가 가스로부터 분리된다. 이는 습기를 갖지 않는(이슬점 -100℃ 미만) 더 높은 농도의 CO 및 H2 를 갖는 가스를 초래한다. 이러한 건식 그리고 세정 생성 가스는 이상적으로는 건식 필터들을 백플러싱하기 위해 또는 필터 케이크를 제거하기 위해 적합하고, 생성 가스의 조성 때문에 이는 예컨대 배기 가스와 함께 높은 등급의 가스로서 추가로 사용되어질 수 있다. 특히 1.5 내지 12 바g(barg) 및 특히 바람직하게는 2 내지 6 바g 의 압력이 백플러싱을 위해 유리한 것으로 입증되었다. 예컨대 건식 필터를 백플러싱 하기 위한 가스로서 질소를 사용할 때 프로세스 가스 또는 배기 가스 내에 바람직하지 않게 증가된 농도의 질소가 있다. 또한, 종래 기술에 따르면, 예컨대 질소와 같은 플러싱 가스의 비교적 많은 양들이 사용될 필요가 있다. 상기 언급된 가스들에 더하여, 개질된 천연 가스를 기본으로 하는 직접 환원 공장들로부터 또는 석탄 가스 공장들과 연관하여 작동하는 MIDREX® 공장들로부터의 노정 가스들 또는 그의 생성물들이 산소 용광로들에서 또한 프로세스될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 특별 실시예에 따르면, 백플러싱을 위해 사용되는 생성 가스는 결국 백플러싱 이후 건식 필터를 통하여 이송되고 이에 의해 세정된다. 환원 가스와 비교할 수 있는 그의 조성 때문에, 생성 가스는 다시 사용될 수 있고 예컨대 직접 환원 공장으로부터의 프로세스 가스들과 혼합될 수 있다.
필터 요소(예컨대 백하우스(baghouse) 필터, 세라믹 필터 카트리지 등) 내의 세정 가스 측 상의 압력은 간단하게는 생성 가스에 의해 증가되고, 이는 필터 케이크가 필터 요소의 외측을 세정하는 것을 초래한다. 백플러싱 이후 생성 가스는 프로세스 가스와 혼합되고 따라서 증기 회수에 의해 프로세스에서 다시 사용되거나 및/또는 배기 가스와 사용된다(예컨대 발전소에서의 열적 사용 등). 생성 가스는 대략적으로 이하의 조성을 나타낼 수 있다 :
가스 구성성분 통상적인 비율 : 통상적인 범위 :
CO 52 용적% 45 내지 60 용적%
CO2 3 용적% 2 내지 3 용적%
H2 25 용적% 20 내지 35 용적%
H2O 0 용적% 0 용적%
CH4 2 용적% 1 내지 2 용적%
N2 18 용적% 5 내지 25 용적%
본 발명에 따른 방법의 특별한 실시예는 세정된 생성 가스의 적어도 일부가 직접 환원 공장 또는 용융 환원 공장 및/또는 석탄 가스화 공장 또는 이러한 공장들 중 하나 이상과 연관하여 작동하는 추가의 환원 공장으로 환원 가스로서 다시 이송되는 것을 제공한다. 세정된 그리고 건식 필터를 플러싱하기 위해 사용된 건식 생성 가스는 직접 환원 공장, 용융 환원 공장 또는 직접 환원 공장 또는 용융 환원 공장과 연관하여 작동되는 추가의 환원 공장들에서 또한 사용하기에 적절하다. 용광로와 결합된 직접 환원 공장의 작동은 유리한 실시예이다. 예컨대, 세정된 생성 가스는 또한 직접 환원 공장으로부터의 배기 가스에 이송될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 대안적인 실시예는, 생성 가스가 건식 필터에서 사용된 이후, 생성 가스의 적어도 일부가 직접 환원 공장 또는 용융 환원 공장 및/또는 석탄 가스화 공장 또는 이러한 공장들 중 하나 이상과 연관하여 작동하는 추가의 환원 공장으로 환원 가스로서 다시 이송되는 것을 제공한다. 생성 가스를 사용하는 결과로서 프로세스 효율을 증가시키는 것이 가능하며, 이는 직접 환원 공장과 추가의 환원 공장의 조합에 의해서 또한 달성될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 특별한 실시예에 따르면, 질소는 시동 및/또는 정지 작동 상태들 동안 건식 필터를 백플러싱하기 위한 생성 가스의 대안으로서 사용된다.
본 발명에 따른 방법의 적절한 실시예는 용융 환원 공장이 COREX® 또는 FINEX® 타입의 방법에 따라 작동되거나 또는 용광로인 실시예를 제공한다. COREX® 및 FINEX® 는 미립자 또는 미세한 미립자 원재료들을 환원하기 위한 공지된 용융 환원 방법들이다. COREX® 방법으로부터의 노정 가스 또는 FINEX® 방법으로부터의 탈 가스 또는 용광로로부터의 용광로 가스는 따라서 본 발명에 따라 사용되어질 수 있으며, 생성 가스는 결국 이러한 상황에서의 배기 가스 또는 프로세스 가스들에 부정적인 영향을 초래하지 않으면서 추가로 사용될 수 있다. 상기 생성 가스는 따라서 예컨대 배기 가스와 함께 추가로 사용되어질 수 있다. 예컨대, 연관된 발전소, 예컨대 가스 및 증기 발전소에서의 전력 발생을 위한 배기 가스의 열적 사용을 생각해볼 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 특별한 실시예에 따르면, 특별 원재료들은 철, 특히 철광석들을 함유하고 첨가제들을 적용 가능한 산화물 고형물들이다.
본 발명에 따른 방법의 추가의 특별한 실시예에 따르면, 추가의 사용을 위해 필터 케이크는 미립자 고형물들을 프로세싱하기 위해 콤팩팅 설비, 특히 응집(agglomerating) 유닛, 또는 야금 유닛, 특히 용융 유닛으로 이송된다. 건식 필터를 백플러싱하기 위한 생성 가스에 더하여, 필터 케이크는 따라서 재사용을 위해 보내어진다. 또한, 추가의 재사용 옵션들이 필터 케이크에 대하여 가능하다.
환원 야금으로부터의 프로세스 가스들에서 초래되는 미세한 미립자 고형물 및 분진들의 많은 양들 때문에, 세정 설비들은 이러한 많은 양들이 신뢰할 수 있게 프로세스될 수 있는 방식으로 프로세스 가스들에 대하여 설계되어야만 한다. 건식 필터의 신뢰할 수 있는 기능을 보장하기 위해, 건식 필터는 건식 필터로부터 필터 케이크를 분리하기 위한 백플러시 설비들을 갖는다. 대부분의 부분에 대하여, 건식 필터는 백플러싱 동안 필터 케이크가 컨테이너의 하부 부분에 도달하도록 원뿔형 하부 부분을 갖는 방식으로 컨테이너와 연결된다. 필터 설비의 백플러싱의 결과로서, 필터는 세정되고 그의 초기 작동 상태로 복원된다. 필터 케이크로서 필터 상에 적층된 고형물들은 건식 필터로부터 제거되고 컨테이너 안으로 도입된다. 컨테이너로부터, 필터 케이크는 예컨대 응집 유닛 또는 어떠한 다른 추가의 프로세싱 설비로 이송될 수 있다.
정상 COREX® 공장들의 작동 동안 대략적으로 380,000 N㎥/hr 의 노정 가스가 대략적으로 300℃ 의 온도에서 제조되고, 노정 가스는 사용되기 전에 세정될 필요가 있다. 이는 건식 필터링 프로세스에 의해 완료된다. 대략적으로 300 N㎥/hr 의 플러싱 가스, 다시 말하면 구체적으로는 생성 가스가 건식 필터들의 신뢰할 수 있는 작동을 보장하기 위해 요구된다. 따라서, 본 발명은 플러싱 가스로서 사용되는 질소의 이러한 양을 절약하는 것이 가능하다는 것을 의미한다. FINEX® 공장들의 작동 동안 배기 가스는 대략적으로 450℃ 의 온도에서, 건식 필터에 의해 세정될 필요가 있는 대략적으로 330,000 N㎥/hr 로 제조된다. 이러한 상황에서의 정상 플러싱 가스 양들은 대략적으로 500 N㎥/hr 이다. 플러싱 가스는 4 내지 8 바g, 특히 대략적으로 5.5 바g 의 압력으로 도입된다. 필터 요소 그룹 당 통상적인 플러싱 시간들은 수 초의 몇 분의 몇(fractions of seconds)이고, 개별 필터 요소 그룹들 또는 심지어 개별 필터들은 연이어 주기적으로 세정된다(예컨대 압력 차이에 대한 제한 값 때문에 또는 시간의 기간이 지난 이후).
소결된 다공성 금속 필터들, 세라믹 필터들 또는 또한 백 또는 백하우스 필터들이 건식 필터들로서 사용될 수 있다. 이러한 타입들의 필터는 높은 작동 온도들을 특징으로 한다. 백 또는 백하우스 필터들의 경우 가스가 사전에 냉각 프로세스를 받는 것이 필요할 수 있다.
도 1 은 노정 가스 또는 탈 가스를 위한 백플러싱 설비를 갖는 건식 필터의 예를 나타내는 도면이다.
도 1 은 하우징(2) 내에 배열되는 필터 요소(1)들을 갖는 건식 필터의 가능한 실시예를 나타내는 도면이다. 하우징(2) 아래에 원뿔형 컨테이너(3)가 배열된다. 원뿔형 컨테이너(3)는 예컨대 필터 케이크가 원뿔형 컨테이너(3)로부터 방출될 수 있도록 응집 유닛(도시되지 않음) 및/또는 용융 유닛(마찬가지로 도시되지 않음)에 연결될 수 있다. 직접 환원 공장으로부터의 노정 가스 및/또는 배기 가스로 이루어지고 분진들 및/또는 미세한 미립자 고형물들과 함께 장입되는 가스 흐름(5)이 전송 라인(4)에 의해 하우징(2) 안으로 도입된다.
유입 가스 흐름(5) 및 미립자 고형물들은 하우징(2)에서 부분적으로 분리되고, 미세한 미립자 고형물들의 일부(6a 및 6b)는 중력에 의해 컨테이너(4) 안으로 떨어진다. 분진들 및 남아있는 미세한 미립자 고형물들은 가스 흐름(7a, 7b)에 의해 건식 필터 안으로 운반되고 필터 요소(1)들에서 분리된다. 세정된 가스 흐름은 하나 또는 둘 이상의 방출 라인(9)들의 파이프(8)들에 의해 건식 필터로부터 방출되고 CO2 분리 장치(도시되지 않음)로 이송되고, 대개는 CO2 가 없는 건식 생성 가스 및 CO2-포화 테일 가스가 형성된다. 대안적으로는, CO2 분리 장치의 상류에서 세정된 가스의 일부분을 제거하는 것이 또한 가능하다.
건식 필터는, 요구사항들에 의존하여, 생성 가스의 일부가 대략적으로 6.5 바의 과압 하에서 플러싱 가스로서 건식 필터 안으로 가스 흐름에 대한 흐름의 반대 방향으로 도입될 수 있고, 필터 케이크(FK)를 형성하는 분리된 분진들 및 미세한 미립자 고형물들은 결국 필터 요소(1)들로부터 제거되고 컨테이너(3) 안으로 전달될 수 있다. 대안적으로는, 백플러싱 설비(10b)에 의해 질소를 도입하는 것이 또한 가능하다.
백플러싱 설비는 복수의 방출부들 및 대응하는 멈춤 밸브들을 갖는 링 라인으로서 설계될 수 있다. 정상적으로는, 생성 가스에 의한 플러싱 동안 건식 필터 안으로의 분진 및/또는 미세한 미립자 고형물들과 함께 장입되는 가스 흐름(5)의 이송은 밸브들에 의해 차단된다.
세라믹 필터 요소들이 사용될 때, 건식 필터는 고온 노정 가스를 직접적으로 프로세스할 수 있다. 백 또는 백하우스 필터들이 사용될 때, 필터링에 앞서 노정 가스를 냉각시키는 것이 필요하다. 고온 노정 가스로부터의 폐열은 증기를 제조하기 위해 건식 필터링 이전 또는 이후에 임의의 경우에서 사용될 수 있고 세정된 노정 가스는 터빈들 내에서 팽창될 수 있고 추가의 외부 사용의 경우들을 위해 전달될 수 있다.
1 필터 요소들
2 하우징
3 원뿔형 컨테이너
4 전송 라인
5 가스 흐름
6a, 6b 미세한 미립자 고형물들
7a, 7b 분진들 및 남아있는 미세한 미립자 고형물들
8 파이프들
9 방출 라인들
10a, 10b 백플러싱 설비들
11 파이프들

Claims (7)

  1. 덩어리가 있는(lumpy) 또는 미립자, 특히 미세한 미립자, 고형물들의, 환원을 위해 그리고 제련에 대하여 적용 가능한, 분진 및/또는 미세한 미립자 고형물들과 함께 장입되는, 직접 환원 공장 또는 용융 환원 공장으로부터의 노정 가스(top gas) 및/또는 탈 가스(off gas) 및/또는 배기 가스(export gas)로 이루어지는 가스 흐름을 세정하기 위한 방법으로서, 가스 흐름은 최초로 하나 이상의 건식 필터에 의해 건식 세정을 받고, 분진들 및/또는 미세한 미립자 원재료들은 가스 흐름으로부터 분리되고, 이러한 세정된 가스 흐름은 적어도 일부가 CO2 분리의 목적을 위해 CO2 분리 장치로 이송되고, CO2 및 적용 가능한 물이 분리되어, 실질적으로 CO2 가 없는 생성 가스(product gas) 및 CO2 가 풍부한 테일 가스(tail gas)를 형성하는, 가스 흐름을 세정하기 위한 방법에 있어서,
    상기 생성 가스의 적어도 일부가, 하나 이상의 건식 필터를 백플러싱하고 필터 케이크를 제거하기 위해 압력, 특히 1.5 내지 12 바g, 특히 바람직하게는 2 내지 6 바g 의 압력 하에서 건식 필터 안으로 도입되는 것을 특징으로 하는,
    가스 흐름을 세정하기 위한 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    백플러싱을 위해 사용되는 상기 생성 가스는 백플러싱 이후 건식 필터를 통하여 차례로 이송되고 이에 의해 세정되는 것을 특징으로 하는,
    가스 흐름을 세정하기 위한 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 세정 생성 가스의 적어도 일부는 직접 환원 공장 또는 용융 환원 공장 및/또는 석탄 가스화 공장 또는 이러한 공장들 중 하나 이상과 연관하여 작동하는 추가의 환원 공장으로 환원 가스로서 다시 이송되는 것을 특징으로 하는,
    가스 흐름을 세정하기 위한 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 생성 가스의 적어도 일부는, 건식 필터 내에서 사용된 이후, 직접 환원 공장 또는 용융 환원 공장 및/또는 석탄 가스화 공장 또는 이러한 공장들 중 하나 이상과 연관하여 작동하는 추가의 환원 공장으로 환원 가스로서 다시 이송되는 것을 특징으로 하는,
    가스 흐름을 세정하기 위한 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    질소는 시동 및/또는 정지 작동 상태들 동안 건식 필터를 백플러싱하기 위한 생성 가스의 대안으로서 사용되는 것을 특징으로 하는,
    가스 흐름을 세정하기 위한 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 미립자 원재료들은 철, 특히 철광석들을 함유하는 산화물 고형물들이고, 첨가제들을 적용 가능한 것을 특징으로 하는,
    가스 흐름을 세정하기 위한 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    추가의 사용을 위해 상기 필터 케이크는 미립자 고형물들을 프로세싱하기 위해 콤팩팅 설비, 특히 응집 유닛, 또는 야금 유닛, 특히 용융 유닛으로 이송되는 것을 특징으로 하는,
    가스 흐름을 세정하기 위한 방법.
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