KR20130130288A - 기판 처리 장치 - Google Patents

Abstract

기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 출입구 외측의 챔버에 설치되는 제 2 히터가 본체의 상하방향과 평행하게 설치된다. 그런데, 본체의 상하방향 높이는 상대적으로 낮으므로, 제 2 히터의 길이도 짧다. 그러므로, 제 2 히터를 간편하게 설치할 수 있을 뿐만 아니라, 유지 보수하기가 편리한 효과가 있다.

Description

기판 처리 장치 {APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE}

본 발명은 유지보수가 간편한 기판 처리 장치에 관한 것이다.

기판 처리 장치는, 평판 디스플레이의 제조시 사용되며, 증착(Vapor Deposition) 장치와 어닐링(Annealing) 장치로 대별된다.

증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 장치로써, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 화학 기상 증착 장치와 스퍼터링(Sputtering) 등과 같은 물리 기상 증착 장치가 있다.

그리고, 어닐링 장치는 기판에 막을 증착한 후, 증착된 막의 특성을 향상시키는 장치로써, 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키기 위하여 열처리하는 장치이다.

기판 처리 장치는 하나의 기판을 처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 처리하는 배치식(Batch Type)이 있다. 매엽식 기판 처리 장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어, 대량 생산에는 배치식 기판 처리 장치가 많이 사용된다.

일반적으로, 기판 처리 장치는 기판이 로딩되어 처리되는 공간인 챔버를 형성하는 본체를 포함하고, 상기 본체의 전면에는 기판이 출입하는 출입구가 형성된다. 상기 본체는 전후방향으로 소정 길이를 가지고, 좌우방향으로 소정 폭을 가지며, 상하방향으로 소정 높이를 가지는 육면체 형상으로 형성된다. 이때, 상기 본체의 길이는 상기 본체의 폭 보다 길게 형성된다.

상기 챔버에는 기판을 가열하기 위한 튜브형상의 복수의 히터가 설치된다. 상기 히터는 상기 본체의 전후방향으로 간격을 가지면서 상기 본체의 좌우방향과 평행하게 상기 챔버에 설치된 제 1 히터와 상기 본체의 전후방향과 평행하게 상기 출입구 외측의 상기 챔버에 설치된 제 2 히터를 가진다. 그리고, 상기 제 1 히터와 상기 제 2 히터는 각각 상하로 간격을 가지면서 설치된다.

상기 제 1 히터의 일단부측 및 타단부측은 상기 본체의 좌측면 및 우측면에 각각 지지되고, 상기 제 2 히터의 일단부측 및 타단부측은 상기 본체의 전면 및 후면에 각각 지지된다.

상기와 같은 종래의 기판 처리 장치는, 상기 본체의 전후방향 길이가 길므로, 상기 제 2 히터의 길이도 길다. 이로 인해, 상기 제 2 히터를 설치하기 어려울 뿐만 아니라, 상기 제 2 히터를 유지 보수하기가 어려운 단점이 있었다.

기판 처리 장치와 관련한 선행기술은 한국공개특허공보 제10-2010-0008722호 등에 개시되어 있다.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 본체의 전후방향 대신 본체의 상하방향으로 히터를 설치함으로써, 간편하게 유지 보수를 할 수 있는 기판 처리 장치를 제공함에 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 내부에는 기판이 처리되는 공간인 챔버가 형성되고, 전면에는 기판이 출입하는 출입구가 형성된 육면체 형상의 본체; 상기 본체의 전면에 설치되어 상기 출입구를 개폐하는 도어; 상기 본체의 전후방향으로 간격을 가짐과 동시에 상기 본체의 상하방향으로 간격을 가지며, 상기 본체의 좌우방향과 평행하게 상기 챔버에 설치된 복수의 제 1 히터; 상기 본체의 전후방향으로 간격을 가지며, 상하방향과 평행하게 상기 출입구 외측의 상기 챔버에 설치된 튜브형상의 복수의 제 2 히터를 포함한다.

본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 출입구 외측의 챔버에 설치되는 제 2 히터가 본체의 상하방향과 평행하게 설치된다. 그런데, 본체의 상하방향 높이는 상대적으로 낮으므로, 제 2 히터의 길이도 짧다. 그러므로, 제 2 히터를 간편하게 설치할 수 있을 뿐만 아니라, 유지 보수하기가 편리한 효과가 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 히터의 분리 사시도.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시하여 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분히 상세하게 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에 도시된 실시예들의 길이, 면적, 두께 및 형태는, 편의상, 과장되어 표현될 수도 있다.

본 실시예를 설명함에 있어서, 기판의 처리라 함은 기판을 가열 및 냉각하는 공정, 기판에 소정의 막을 증착하기 위한 모든 공정, 기판에 증착된 소정의 막을 어닐링, 결정화 또는 상변화 하기 위한 모든 열처리 공정 등을 포함하는 개념으로 이해되어야 한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 히터의 분리 사시도이다.

도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 육면체 형상의 본체(110)를 포함하며, 본체(110)의 내부에는 기판(50)이 처리되는 공간인 챔버(112)가 형성된다. 챔버(112)는 밀폐된 공간으로 마련된다.

본체(110)는 전후방향으로 소정 길이를 가지고, 좌우방향으로 소정 폭을 가지며, 상하방향으로 소정 높이를 가진다. 이때, 본체(110)의 전후방향을 향하는 길이는 본체(110)의 좌우방향을 향하는 폭 보다 길게 형성되고, 본체(110)의 상하방향을 향하는 높이는 본체(110)의 좌우방향을 향하는 폭 보다 낮게 형성된다.

기판(50)의 재질은 특별히 제한되지 않으며 글래스, 플라스틱, 폴리머, 실리콘 웨이퍼 또는 스테인레스 스틸 등과 같은 재질로 형성될 수 있다.

본체(110)의 전면에는 기판(50)이 출입하는 출입구(114)가 형성되고, 출입구(114)를 개폐하는 도어(미도시)가 설치될 수 있다. 즉, 로봇(미도시)으로 기판(50)을 지지하여, 기판(50)을 챔버(112)에 로딩하거나 챔버(112)로부터 언로딩할 때에는 상기 도어에 의하여 출입구(114)는 개방된다. 그리고, 기판(50)을 챔버(112)에 로딩하여 기판(50)을 처리할 때에는 상기 도어에 의하여 출입구(114)는 폐쇄된다. 출입구(114)가 개폐되면, 챔버(112)가 개폐됨은 당연하다.

챔버(112)에는 기판(50)을 가열하기 위한 히터가 설치된다.

상기 히터는 본체(110)의 전후방향으로 간격을 가짐과 동시에 본체(110)의 상하방향으로 간격을 가지며, 본체(110)의 좌우방향과 평행하게 챔버(112)에 설치된 튜브형상의 복수의 제 1 히터(120)를 포함한다. 제 1 히터(120)의 좌단부측 및 우단부측은 본체(110)의 좌측면 및 우측면에 각각 지지된다.

챔버(112)에는 기판(50)을 탑재시켜 지지하는 지지 유닛(미도시), 기판(50)의 처리에 필요한 분위기가스를 공급하는 가스공급관(미도시), 기판(50)을 냉각시키기 위한 냉각관(미도시) 등이 설치될 수 있다.

기판(50)을 균일하게 처리하기 위해서는 챔버(112)의 온도가 균일하여야 한다. 이를 위하여, 출입구(114) 외측의 챔버(112)의 부위에도 튜브형상의 복수의 제 2 히터(130)가 설치된다. 제 2 히터(130)는 본체(110)의 전후방향으로 간격을 가지면서 본체(110)의 상하방향과 평행하게 설치된다.

제 2 히터(130)는 튜브형상의 외측커버(131)와 외측커버(131)의 내부에 설치된 방열관(135)을 포함하며, 하단부측이 본체(110)의 하면에 지지되어 수직으로 외팔보 형태를 이룬다.

상세히 설명하면, 본체(110)의 하면에는 외측커버(131)의 하단부측이 삽입 지지되는 지지브라켓(141)이 결합되고, 지지브라켓(141)에는 커버(143)가 결합된다. 이때, 지지브라켓(141)과 커버(143) 사이에는 지지브라켓(141)과 커버(143) 사이를 실링하기 위한 실링부재(145)가 개재될 수 있다. 그리고, 커버(143)에는 외측커버(131)의 하단부 외측으로 노출된 방열관(135)의 하단부가 접속되는 커넥터(147)가 결합된다. 커넥터(147)를 통하여 방열관(135)은 외부의 전원을 공급받는다.

본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 제 2 히터(130)가 본체(110)의 상하방향과 평행하게 설치된다. 그런데, 본체(110)의 상하방향 높이는 상대적으로 낮으므로, 제 2 히터(130)의 길이도 짧다. 그러므로, 제 2 히터(130)를 간편하게 설치할 수 있을 뿐만 아니라, 유지 보수하기가 편리하다.

상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략하여, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.

110: 본체
120: 제 1 히터
130: 제 2 히터

Claims (3)

1. 내부에는 기판이 처리되는 공간인 챔버가 형성되고, 전면에는 기판이 출입하는 출입구가 형성된 육면체 형상의 본체;
   상기 본체의 전면에 설치되어 상기 출입구를 개폐하는 도어;
   상기 본체의 전후방향으로 간격을 가짐과 동시에 상기 본체의 상하방향으로 간격을 가지며, 상기 본체의 좌우방향과 평행하게 상기 챔버에 설치된 복수의 제 1 히터;
   상기 본체의 전후방향으로 간격을 가지며, 상하방향과 평행하게 상기 출입구 외측의 상기 챔버에 설치된 튜브형상의 복수의 제 2 히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 본체의 상하방향 높이는 상기 본체의 좌우방향 폭 보다 낮게 형성되고,
   상기 제 2 히터의 하단부측은 상기 본체의 하면에 지지된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
3. 제2항에 있어서,
   상기 제 2 히터는 외측커버와 상기 외측커버의 내부에 설치된 방열관을 포함하고,
   상기 본체의 하면에는 상기 외측커버의 하단부측이 삽입 지지되는 지지브라켓이 결합되며,
   상기 지지브라켓에는 커버가 결합되고,
   상기 지지브라켓과 상기 커버 사이에는 실링부재가 개재되며,
   상기 커버에는 상기 방열관의 하단부가 접속되는 커넥터가 결합된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.

Images