KR20130121778A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR20130121778A
KR20130121778A KR1020130115892A KR20130115892A KR20130121778A KR 20130121778 A KR20130121778 A KR 20130121778A KR 1020130115892 A KR1020130115892 A KR 1020130115892A KR 20130115892 A KR20130115892 A KR 20130115892A KR 20130121778 A KR20130121778 A KR 20130121778A
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Abstract

기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 출입구를 개폐하는 도어의 내측도어에 복수의 제2히터가 설치된다. 그러므로, 도어로 출입구를 폐쇄하여 기판을 처리하면, 챔버의 모든 부위의 온도가 균일하게 되므로, 기판이 균일하게 처리되는 효과가 있다.

Description

기판 처리 장치 {APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE}
본 발명은 기판을 균일하게 처리할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
기판 처리 장치는, 평판 디스플레이의 제조시 사용되며, 증착(Vapor Deposition) 장치와 어닐링(Annealing) 장치로 대별된다.
증착 장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 장치로써, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 화학 기상 증착 장치와 스퍼터링(Sputtering) 등과 같은 물리 기상 증착 장치가 있다.
그리고, 어닐링 장치는 기판에 막을 증착한 후, 증착된 막의 특성을 향상시키는 장치로써, 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키기 위하여 열처리하는 장치이다.
기판 처리 장치는 하나의 기판을 처리하는 매엽식(Single Substrate Type)과 복수의 기판을 처리하는 배치식(Batch Type)이 있다. 매엽식 기판 처리 장치는 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어, 대량 생산에는 배치식 기판 처리 장치가 많이 사용된다.
일반적으로, 기판 처리 장치는 기판이 로딩되어 처리되는 공간인 챔버를 형성하는 본체를 포함한다. 상기 본체의 전면에는 기판이 출입하는 출입구가 형성되고, 상기 출입구를 개폐하는 도어가 설치된다.
그리고, 상기 챔버에는 기판을 가열하기 위한 바형상의 복수의 히터가 설치된다. 이때, 상기 히터는 상기 본체의 전후방향으로 간격을 가지면서 상기 본체의 좌우방향과 평행하게 설치됨과 동시에, 상기 본체의 전후방향과 평행하게 상기 출입구 외측의 상기 챔버에 설치된다. 그리고, 상기 본체의 좌우방향 및 전후방향과 각각 평행하는 상기 히터는 각각 상하로 간격을 가지면서 설치된다.
상기와 같은 종래의 기판 처리 장치는, 그 구조상, 상기 도어가 설치된 상기 챔버의 부위에 상기 히터를 설치하기 어렵다. 이로 인해, 기판의 처리시, 상기 도어측 상기 챔버의 부위와 그 이외의 상기 챔버의 부위의 온도가 불균일하여 기판이 불균일하게 처리될 우려가 있다.
기판 처리 장치와 관련한 선행기술은 한국공개특허공보 제10-2010-0008722호 등에 개시되어 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 챔버의 모든 부위의 온도가 균일할 수 있도록 구성하여, 기판을 균일하게 처리할 수 있는 기판 처리 장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 내부에는 기판이 처리되는 공간인 챔버가 형성되고, 전면에는 상기 챔버와 연통되며 기판이 출입하는 출입구가 형성된 본체; 상기 본체의 전면에 설치되어 상기 출입구를 개폐하는 도어; 상기 챔버에 설치된 복수의 제1히터; 상기 도어에 설치된 복수의 제2히터를 포함한다.
본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 출입구를 개폐하는 도어의 내측도어에 복수의 제2히터가 설치된다. 그러므로, 도어로 출입구를 폐쇄하여 기판을 처리하면, 챔버의 모든 부위의 온도가 균일하게 되므로, 기판이 균일하게 처리되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 도어의 분리 사시도.
도 3은 도 2에 도시된 내측도어의 후면 사시도.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 내측도어의 후면 사시도.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시하여 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분히 상세하게 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에 도시된 실시예들의 길이, 면적, 두께 및 형태는, 편의상, 과장되어 표현될 수도 있다.
본 실시예를 설명함에 있어서, 기판의 처리라 함은 기판을 가열 및 냉각하는 공정, 기판에 소정의 막을 증착하기 위한 모든 공정, 기판에 증착된 소정의 막을 어닐링, 결정화 또는 상변화 하기 위한 모든 열처리 공정 등을 포함하는 개념으로 이해되어야 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 도어의 분리 사시도이다.
도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 본체(110)를 포함한다. 본체(110)는 대략 직육면체 형상으로 형성되며, 내부에는 기판(50)이 처리되는 공간인 챔버(112)가 형성된다.
본체(110)는 직육면체 형상뿐만 아니라 기판(50)의 형상에 따라 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 챔버(112)는 밀폐된 공간으로 마련된다. 그리고, 기판(50)의 재질은 특별히 제한되지 않으며 글래스, 플라스틱, 폴리머, 실리콘 웨이퍼 또는 스테인레스 스틸 등과 같은 재질로 형성될 수 있다.
본체(110)의 전면에는 기판(50)이 출입하는 출입구(114)가 형성되고, 출입구(114)를 개폐하는 도어(120)가 설치된다. 즉, 로봇(미도시)으로 기판(50)을 지지하여, 기판(50)을 챔버(112)에 로딩하거나 챔버(112)로부터 언로딩할 때에는 도어(120)에 의하여 출입구(114)는 개방된다. 그리고, 기판(50)을 챔버(112)에 로딩하여 기판(50)을 처리할 때에는 도어(120)에 의하여 출입구(114)는 폐쇄된다. 출입구(114)가 개폐되면, 챔버(112)가 개폐됨은 당연하다.
도어(120)는 외측도어(121)와 내측도어(125)를 가지며, 본체(110)의 상하방향으로 승강가능함과 동시에 본체(110)의 전후방향으로 슬라이딩가능하게 설치되어, 출입구(114)를 개폐한다.
상세히 설명하면, 외측도어(121)는 본체(110)의 전면에 상하로 슬라이딩가능하게 설치되고, 내측도어(125)는 외측도어(121)에 지지되어 외측도어(121)에 의하여 상하로 슬라이딩함과 동시에 외측도어(121)에 대하여 전후로 슬라이딩가능하게 설치된다.
외측도어(121)는 본체(110)에 전면 양측면에 각각 설치된 실린더 또는 모터 등과 같은 구동부(미도시)에 의하여 상하로 슬라이딩되고, 내측도어(125)는 외측도어(121)에 설치된 복수의 실린더(131)에 의하여 외측도어(121)에 대하여 전후로 슬라이딩된다.
그리하여, 상기 구동부에 의하여 외측도어(121)가 상승하여 출입구(114)와 대향하면, 실린더(131)에 의하여 내측도어(125)가 본체(110)의 전면측으로 슬라이딩된다. 내측도어(125)가 복수의 실린더(131)에 의하여 본체(110)의 전면측으로 슬라이딩되면, 출입구(114)를 감싸는 형태로 본체(110)의 전면에 설치된 실링부재(116)를 압착하면서 실링부재(116)와 접촉하고, 이로 인해 챔버(112)가 실링된다.
출입구(114)의 좌우방향 길이는 상하방향 높이 보다 길게 형성될 수 있고, 내측도어(125)는 출입구(114)와 대응되게 형성된다.
상기 구동부가 위치된 본체(110)의 전면측에는 상하방향과 평행하게 안내레일(135)이 결합되어, 외측도어(121)가 안정되게 승강하도록 지지한다. 안내레일(135)에는 외측도어(121)의 소정 부위를 감지하여 외측도어(121)가 승강한 거리를 감지하는 센서(미도시)가 설치될 수 있다.
그리고, 내측도어(125)가 안정되게 슬라이딩할 수 있도록, 외측도어(121)에는 복수의 제1지지블럭(122)이 결합되고, 내측도어(125)에는 하면이 제1지지블럭(121)의 상면에 접촉 지지되는 제2지지블럭(126)이 결합된다. 내측도어(125)가 더욱 안정되게 슬라이딩할 수 있도록, 내측도어(125)에는 롤러(127)가 설치될 수 있고, 외측도어(121)에는 롤더(127)의 하측 부위가 접촉 지지되는 안치홈(123)이 형성될 수 있다.
챔버(112)에는 기판(50)을 가열하기 위한 제1히터가 설치된다.
상기 제1히터는 본체(110)의 전후방향으로 간격을 가짐과 동시에 본체(110)의 상하방향으로 간격을 가지며, 본체(110)의 좌우방향과 평행하게 챔버(112)에 설치된 바형상의 복수의 단축히터(141)와 본체(110)의 본체(110)의 상하방향으로 간격을 가지며, 본체(110)의 전후방향과 평행하게 출입구(114) 외측의 챔버(112)의 부위에 설치된 바형상의 복수의 장축히터(145)를 포함할 수 있다.
본체(110)의 전후방향 길이는 좌우방향 폭 보다 길게 형성된다. 본체(110)의 전후방향과 평행하게 챔버(112)에 설치된 상기 제1히터가 장축히터(145)이고, 본체(110)의 좌후방향과 평행하게 설치된 상기 제1히터가 단축히터(141)이다.
단축히터(141)의 좌단부측 및 우단부측은 본체(110)의 좌측면 및 우측면에 각각 지지되고, 장축히터(145)의 전단부측 및 후단부측은 본체(110)의 전면 및 후면에 각각 지지된다.
챔버(112)에는 기판(50)을 탑재시켜 지지하는 지지 유닛(미도시), 기판(50)의 처리에 필요한 분위기가스를 공급하는 가스공급관(미도시), 기판(50)을 냉각시키기 위한 냉각관(미도시) 등이 설치될 있다.
도 1의 미설명 부호 160은 본체(110)를 지지하는 프레임이고, 도 2의 미설명 부호 133은 외측도어(121)에 결합되어 실린더(131)를 지지하는 브라켓이다.
출입구(114)와 인접하는 챔버(112)의 부위에는 상기 제1히터가 설치되어 있지 않다. 그러므로, 출입구(114)와 인접하는 챔버(112)의 부위는 그 이외의 부위에 비하여 온도가 상대적으로 낮다. 그러면, 챔버(112)에 기판을 투입하여 처리할 때, 챔버(112)의 온도가 불균일함으로 인하여 기판(50)이 불균일하게 처리될 수 있다.
이를 방지하기 위하여, 본 실시예에 따른 기판 처리 장치에는 출입구(114)를 개폐하는 내측도어(125)에 제2히터(151)를 설치한다. 제2히터(151)에 대하여 도 2 및 도 3을 참조하여 설명한다. 도 3은 도 2에 도시된 내측도어의 후면 사시도이다.
도시된 바와 같이, 제2히터(151)는 상하로 간격을 가지면서 본체(110)의 좌우방향과 평행을 이루며, 본체(110)에 대하여 수평으로 복수개 설치된다. 이때, 제2히터(151)의 좌단부측 및 우단부측은 내측도어(125)의 좌측면 및 우측면에 각각 지지된다.
제2히터(151)의 길이가 소정 이상으로 길면, 제2히터(151)의 중앙부측이 자중 또는 열에 의하여 변형될 수 있다.
이를 방지하기 위하여, 제2히터(153)는 중앙부측이 구획되어 가상의 동일 직선상에 위치되는 한쌍으로 형성될 수 있다. 즉, 제2히터(153)는 가상의 동일 직선상에 위치되어 상호 대향하는 한쌍으로 형성되고, 상하로 간격을 가지며, 본체(110)의 좌우방향과 평행을 이루면서 복수개 설치된다. 이때, 한쌍의 제2히터 중(153), 어느 하나의 제2히터(153a)의 좌단부측은 내측도어(125)의 좌측면에 지지되고, 다른 하나의 제2히터(153b)의 우단부측은 내측도어(125)의 우측면에 지지된다. 그리하여, 어느 하나의 제2히터(153a)의 우단부측과 다른 하나의 제2히터(153b)의 좌단부측은 상호 대향한다. 그러면, 제2히터(153)의 길이를 짧게 할 수 있으므로, 제2히터(153)가 변형되는 것을 방지할 수 있다.
도 3은 내측도어(125)의 후면 사시도이고, 제2히터(153a, 153b)에 대한 도면 부호는 내측도어(125)를 정면에서 보았을 때를 기준으로 하여 도시하였다. 즉, 내측도어(125)를 정면에서 보았을 때, 제2히터(153a)의 좌단부측이 내측도어(125)의 좌측면에 지지되고, 제2히터(153b)의 우단부측은 내측도어(125)의 우측면에 지지된다.
제2히터(151, 153)에서 발생되는 열이 챔버(112)로 용이하게 전달될 수 있도록, 출입구(114)와 대향하는 내측도어(125)의 면은 개방되고, 내측도어(125)의 개방된 부위에 제2히터(151, 153)가 설치되는 것이 바람직하다.
본 실시예에 따른 기판 처리 장치는 출입구(114)를 개폐하는 도어(120)의 내측도어(125)에 복수의 제2히터(151, 153)가 설치된다. 그러므로, 기판(50)의 처리시, 챔버(112)의 모든 부위의 온도가 균일하게 되므로, 기판(50)이 균일하게 처리된다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 내측도어의 후면 사시도로써, 도 3과의 차이점만을 설명한다.
도시된 바와 같이, 출입구(114)(도 1 참조)의 좌우방향 길이는 상하방향 높이 보다 길고, 내측도어(225)는 출입구(114)와 대응되게 형성된다. 그리고, 제2히터(155)는 좌우로 간격을 가지면서 본체(110)(도 1 참조)의 상하방향과 평행을 이루며, 본체(110)에 대하여 수직으로 설치된다. 이때, 제2히터(155)의 상단부측 및 하단부측은 내측도어(225)의 상면 및 하면에 각각 지지된다.
제2히터(155)가 상대적으로 길이가 짧은 내측도어(225)의 상하방향으로 설치되므로, 제2히터(155)도 짧은 것을 사용할 수 있다. 따라서, 제2히터(155)가 변형되는 것이 방지된다.
상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략하여, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.
110: 본체
120: 도어
121: 외측도어
125: 내측도어
141: 단축히터
145: 장축히터
151: 제2히터

Claims (8)

  1. 내부에는 기판이 처리되는 공간인 챔버가 형성되고, 전면에는 상기 챔버와 연통되며 기판이 출입하는 출입구가 형성된 본체;
    상기 본체의 전면에 설치되어 상기 출입구를 개폐하는 도어;
    상기 챔버에 설치된 복수의 제1히터;
    상기 도어에 설치된 복수의 제2히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 본체의 전후방향 길이는 좌우방향 폭 보다 길고,
    상기 제1히터는 상기 본체의 전후방향으로 간격을 가짐과 동시에 상기 본체의 상하방향으로 간격을 가지며, 상기 본체의 좌우방향과 평행하게 상기 챔버에 설치된 바형상의 복수의 단축히터와 상기 본체의 상하방향으로 간격을 가지며, 상기 본체의 전후방향과 평행하게 상기 출입구 외측의 상기 챔버의 부위에 설치된 바형상의 복수의 장축히터를 가지며,
    상기 제2히터는 바형상인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 도어는 상기 본체의 전면에 상하로 승강가능하게 설치된 외측도어, 상기 외측도어에 지지되어 상기 외측도어와 함께 승강함과 동시에 상기 외측도어에 대하여 전후로 슬라이딩가능하게 설치되어 상기 출입구를 개폐하는 내측도어를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제2히터는 상기 내측도어에 설치된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 출입구와 대향하는 상기 내측도어의 면은 개방된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 출입구의 좌우방향 길이는 상하방향 높이 보다 길고,
    상기 내측도어는 상기 출입구와 대응되게 형성되며,
    상기 제2히터는 상하로 간격을 가지면서 상기 본체의 좌우방향과 평행을 이루고,
    상기 제2히터의 좌단부측 및 우단부측은 상기 내측도어의 좌측면 및 우측면에 각각 지지된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 출입구의 좌우방향 길이는 상하방향 높이 보다 길고,
    상기 내측도어는 상기 출입구와 대응되게 형성되며,
    상기 제2히터는 상하로 간격을 가지면서 상기 본체의 좌우방향과 평행을 이루고, 가상의 동일 직선상에 위치되어 상호 대향하는 한쌍으로 마련되며,
    상기 한쌍의 제2히터 중, 어느 하나의 상기 제2히터의 좌단부측은 상기 내측도어의 좌측면에 지지되고, 다른 하나의 상기 제2히터의 우단부측은 상기 내측도어의 우측면에 지지된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 출입구의 좌우방향 길이는 상하방향 높이 보다 길고,
    상기 내측도어는 상기 출입구와 대응되게 형성되며,
    상기 제2히터는 좌우로 간격을 가지면서 상기 본체의 상하방향과 평행을 이루고,
    상기 제2히터의 상단부측 및 하단부측은 상기 내측도어의 상면 및 하면에 각각 지지된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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