KR20130102151A - Apparatus for aligning substrates and method thereof - Google Patents

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KR20130102151A
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Abstract

PURPOSE: An apparatus for aligning substrates and a method thereof are provided to improve system efficiency by forming a groove in the contact region of a support unit and accurately fixing the support unit. CONSTITUTION: A substrate holder (270) is installed on the upper part of a chamber. The substrate holder elevates a substrate. A plate support unit (250) elevates a plate. A shuttle support unit (230) elevates a shuttle. A clamping device clamps the plate.

Description

기판 정렬장치 및 정렬방법{Apparatus for Aligning Substrates and Method thereof}Apparatus for Aligning Substrates and Method

본 발명은 기판 정렬장치 및 정렬방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 인-라인(In-line) 타입의 증착 시스템에서 기판과 마스크의 합착을 위한 정렬 시 기판의 정렬이 안정적으로 이루어지면서도 택-타임을 줄여 제품의 생산속도를 높이게 되므로 생산품의 가격을 낮출 수 있을 뿐 아니라, 기판 홀더가 챔버의 상단에 위치하기 때문에 챔버의 높이를 낮추고 구성을 간단히 할 수 있는 기판 정렬장치 및 정렬방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate alignment apparatus and an alignment method, and more particularly, in the in-line deposition system, the alignment of the substrate is made stable while the alignment for bonding the substrate and the mask is performed. The present invention relates to a substrate aligning device and an alignment method that can reduce the height of the chamber and simplify the configuration because the substrate holder is located at the top of the chamber because the time to increase the production speed of the product is reduced. .

최근 정보 통신 기술의 비약적인 발전과 시장의 팽창에 따라 디스플레이 소자로 평판표시소자(Flat Panel Display)가 각광을 받고 있다. 이러한 평판표시소자로는 액정 표시소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel), 유기 EL(Organic Electro Luminescence) 등이 대표적이다.[0002] Recently, with the rapid development of information and communication technology and the expansion of the market, a flat panel display (FPD) has attracted attention as a display device. Examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic EL (Organic Electro Luminescence).

그 중에서도, 최근에는 저전압 구동, 자기발광, 경량 박형, 광시야각, 빠른 응답속도 등의 장점을 갖는 유기 EL(Organic Electro Luminescence)이 각광받고 있는 추세이며, 점차적으로 고화질이 요구됨에 따라 디스플레이의 풀-칼라화가 필수적으로 요구된다. Among them, in recent years, organic EL (Organic Electro Luminescence), which has advantages of low voltage driving, self-luminous, light weight, wide viewing angle, and fast response speed, has been in the spotlight. Coloring is essential.

풀-칼라 유기 EL 소자를 제작할 때 마스크와 기판의 미세정렬은 필수적이며, 기판의 평탄도가 매우 중요한 변수로 작용한다.When fabricating a full-color organic EL device, fine alignment of the mask and the substrate is essential, and the flatness of the substrate is a very important variable.

특히, 인-라인(In-line) 타입의 증착 시스템에서는 기판과 마스크의 합착을 위한 정렬이 매우 중요하다. In particular, in an in-line deposition system, alignment for bonding the substrate and the mask is very important.

첨부한 도 1 내지 도 2는 종래의 인-라인 타입의 증착 시스템에서 기판 교체를 위한 정렬장치를 도시한 단면도이다. 1 to 2 are cross-sectional views illustrating an alignment device for replacing a substrate in a conventional in-line type deposition system.

종래의 기판 정렬장치는 셔틀(120), 플레이트(140), 기판(160)을 들어올리기 위한 각각의 셔틀 지지대(130), 플레이트 지지대(150), 기판 지지대(170)가 챔버(100)의 하부에 구비되어, 챔버(100) 하단에서 셔틀(120), 플레이트(140)를 상기 셔틀 지지대(130)와 플레이트 지지대(150)를 이용하여 차례로 상승시킨 후, 기판(160)을 하단에서 올라온 기판 지지대(170)를 이용해 상승시킨 후 교체하는 것이었다. In the conventional substrate aligning device, each shuttle support 130, plate support 150, and substrate support 170 for lifting the shuttle 120, the plate 140, and the substrate 160 have a lower portion of the chamber 100. Is provided in the chamber 100, at the bottom of the shuttle 120, the plate 140 is raised in order by using the shuttle support 130 and the plate support 150, then the substrate 160 raised from the bottom of the substrate support It was raised using (170) and then replaced.

또한, 마스크의 교체까지 필요한 경우에는 마스크 상승 지지대도 하단에 부착하여 사용하는 구조이다.In addition, when it is necessary to replace the mask, the mask lifting support is also attached to the lower end of the structure.

그러나, 이와 같은 종래의 기판 정렬장치는 셔틀(120)이나 플레이트(140), 기판(160)의 상승 시 흔들림이 발생하므로, 셔틀(120)이나 플레이트(140), 기판(160) 등이 정확하게 정렬되지 않는 문제점이 있었다. However, in the conventional substrate aligning device, since the shaking occurs when the shuttle 120, the plate 140, and the substrate 160 are raised, the shuttle 120, the plate 140, the substrate 160, and the like are accurately aligned. There was a problem.

또한, 종래의 기판 정렬장치는 기판 지지대(170)가 챔버(100) 하단에 있어서 챔버(100)의 높이가 더 높아질 수밖에 없는 문제점이 있다. In addition, the conventional substrate aligning apparatus has a problem that the height of the chamber 100 at the lower end of the chamber 100 is higher than that of the substrate support 170.

즉, 기판 지지대(170)의 축을 챔버(100)의 하단에 배치하는데, 상기 셔틀 지지대(130), 플레이트 지지대(150), 기판 지지대(170), 마스크 지지대가 챔버(100)의 하단에 위치하여 각 지지대의 높이가 순차적으로 높아지기 때문에 지지대의 수량이 많아지면 그만큼 하단의 높이 확보가 필요한 것이다. That is, the axis of the substrate support 170 is disposed at the lower end of the chamber 100. The shuttle support 130, the plate support 150, the substrate support 170, and the mask support are located at the lower end of the chamber 100 Since the height of each support is sequentially increased, it is necessary to secure the height of the lower end when the number of supports increases.

따라서, 종래의 기판 정렬장치는 챔버(100)의 하단에 기판 지지대(170)를 설치해야 하므로, 기판 지지대(170)의 길이 때문에 챔버(100)의 높이를 높여야될 뿐 아니라, 기판 지지대(170)가 챔버(100) 하단에 있으므로 챔버(100) 하단의 구성이 매우 복잡해지는 문제점이 있다.Therefore, the conventional substrate aligning apparatus needs to install the substrate support 170 at the bottom of the chamber 100, and therefore, the height of the chamber 100 must be increased due to the length of the substrate support 170, and the substrate support 170 Since the bottom of the chamber 100 has a problem that the configuration of the lower chamber 100 is very complicated.

또한, 종래의 기판 정렬장치의 경우, 각각의 지지대가 순서대로 상승한 후 기판(160)을 교체해야 하므로, 기판(160) 교체에 걸리는 시간이 긴 문제점이 있다.In addition, in the conventional substrate aligning device, since each support is raised in order and the substrate 160 needs to be replaced, there is a long time taken for replacing the substrate 160.

이러한 종래의 기판 교체 방식에서, Tack Time을 줄이기 위해 기판(160), 플레이트(140), 셔틀(120)의 각 지지대의 상승 속도를 더 빠르게 하면, 흔들림이 발생하여 셔틀(120), 플레이트(140), 기판(160) 등의 위치가 정확하게 정렬되지 않거나 기판(160)이 파손되는 경우도 생긴다. In this conventional substrate replacement method, when the ascending speed of each support of the substrate 160, the plate 140, and the shuttle 120 is increased faster to reduce the tack time, the shaking occurs and the shuttle 120, the plate 140 ), The substrate 160 may be misaligned or the substrate 160 may be broken.

한편, 대한민국 등록특허 제541856호에서는 증착공정 또는 증착공정 간 이동시에 기판을 효과적으로 고정하기 위한 기판 홀딩장치가 개시되어 있다. On the other hand, Korean Patent No. 541856 discloses a substrate holding apparatus for effectively fixing a substrate during a deposition process or a movement between deposition processes.

상기 등록특허에서는 도 3에서 보는 바와 같이, 저면에 기판(20)이 밀착되는 판 모양으로, 면을 따라 다수 개의 부착용 구멍(11)과 다수 개의 탈착용 구멍(12)이 형성되는 기판 홀더(1)와; 상기 부착용 구멍에 삽입되며, 저면에 점착막(31)이 고정된 다수 개의 접착부(30)와; 상기 부착용 구멍에 형성되며, 상기 접착부를 위로 밀어주는 탄성부(40)와; 상기 접착부를 아래로 밀어 기판과 접착부를 부착시키는 접착 제어장치(5)와; 상기 탈착용 구멍에 탈착용 막대를 삽입하여 기판(20)에서 접착부(30)를 탈착시키는 탈착 제어장치가 포함된다. In the registered patent, as shown in FIG. 3, a substrate holder 1 having a plate shape in which a substrate 20 is in close contact with a bottom surface, and a plurality of attachment holes 11 and a plurality of removal holes 12 are formed along the surface. )Wow; A plurality of adhesive parts 30 inserted into the attachment holes and fixed to the bottom of the adhesive film 31; An elastic part 40 formed in the attachment hole and pushing the adhesive part upward; An adhesion control device (5) for attaching the substrate and the adhesion portion by pushing the adhesion portion downward; Desorption control device for inserting the desorption rod into the desorption hole to detach the adhesive portion 30 from the substrate 20 is included.

그러나, 상기 등록특허는 기판홀더(10)의 구성이 매우 복잡하고, 접착 제어장치(5)와 탈착 제어장치(7)가 별도로 구비되어야 하는 등 구성이 복잡할 뿐 아니라 장치제조 시 제조원가가 비싼 단점이 있다. However, the registered patent has a disadvantage in that the configuration of the substrate holder 10 is very complicated, the adhesion control device 5 and the detachment control device 7 are separately provided, and the manufacturing cost is high when the device is manufactured. There is this.

따라서, 구성이 보다 간단하면서도 기판의 안정적인 정렬을 가능케하는 기판 정렬장치가 당업계에서 요구되고 있는 추세이다. Thus, there is a trend in the art for a substrate alignment device that is simpler in construction and enables stable alignment of the substrate.

본 발명은 상기와 같은 종래의 제반 문제점들을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 기판 홀더가 챔버의 상단에 위치하기 때문에 챔버의 높이를 낮출 수 있을 뿐 아니라 챔버의 구성을 보다 간단하게 할 수 있는 기판 정렬장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, substrate alignment apparatus that can not only lower the height of the chamber but also simplify the configuration of the chamber because the substrate holder is located at the top of the chamber The purpose is to provide.

또한, 기판 홀더를 상부에 달아 동작이 동 시간대에 이루어지기 때문에 택 타임을 줄이고, 제품의 생산속도를 높일 수 있는 기판 정렬장치를 제공하는데 그 목적이 있다. In addition, since the operation is performed at the same time by attaching the substrate holder on the top, it is an object of the present invention to provide a substrate alignment apparatus that can reduce the tack time and increase the production speed of the product.

또한, 셔틀, 플레이트가 지지대와 접촉되는 부분에 홈을 만들어 셔틀, 플레이트의 상승 시 흔들림이 발생하지 않고 정확하게 고정되게 함과 동시에 기판 홀더가 챔버의 상단에서 내려와 회전하여 기판을 들기 때문에 기판을 안전하게 들어올려서 물질 사용 효율을 극대화시킴으로써, 생산성 및 소자제작에 있어서 시스템 효율을 향상시킬 수 있는 기판 정렬장치를 제공하는데 그 목적이 있다. In addition, by making a groove in the area where the shuttle and the plate come into contact with the support, it ensures that the shuttle and the plate are lifted correctly without shaking, and at the same time, the substrate holder comes down from the top of the chamber and rotates to lift the substrate. The object of the present invention is to provide a substrate aligning device that can improve system efficiency in productivity and device fabrication by maximizing material use efficiency.

또한, 기판이 정확하게 정렬되도록 하고, 기판 교체 시 파손율을 낮출 수 있게 되므로 생산품의 가격을 낮출 수 있는 기판 정렬장치를 제공하는데 그 목적이 있다. In addition, the object is to provide a substrate aligning device that can accurately align the substrate, and lower the damage rate when replacing the substrate can lower the price of the product.

상기와 같은 목적들을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 챔버의 상부에 설치되어 승강이 가능하고, 하단에는 기판이 안착될 수 있는 걸림부가 구비되어 기판을 들어올리기 위한 기판 홀더와, 상기 챔버의 하부에 구비되어 플레이트를 들어올리기 위해 승강하는 플레이트 지지대와, 상기 챔버의 하부에 구비되어 셔틀을 들어올리기 위해 승강하는 셔틀 지지대와, 상기 셔틀의 상면에 설치되어 상기 플레이트를 클램핑하며, 상기 셔틀 지지대의 상승과 연동하여 상기 플레이트에 대한 클램핑이 해제되는 클램프수단을 포함하는 기판 정렬장치가 제공된다.In order to achieve the above objects, in the present invention, it is installed on the upper portion of the chamber and can be lifted, the lower end is provided with a substrate holder for lifting the substrate and a substrate holder for lifting the substrate, and is provided in the lower portion of the chamber A plate support for lifting and lowering the plate, a shuttle support provided at the lower portion of the chamber and a lift support for lifting and lowering the shuttle, and installed on an upper surface of the shuttle to clamp the plate, in conjunction with the lift of the shuttle support. There is provided a substrate alignment device comprising clamp means for releasing clamping of the plate.

본 발명에 있어서, 상기 셔틀의 위치를 고정시키도록 로딩부재의 상부에 설치되는 레퍼런스 플레이트와, 상기 레퍼런스 플레이트의 상단 내측에 위치하여 상기 셔틀 지지대의 상승 시 상기 클램프수단의 일단을 눌러서 고정되어 있던 상기 플레이트와 기판과의 연결상태를 해제하기 위한 누름쇠를 더 포함할 수 있다. In the present invention, the reference plate is installed on the upper portion of the loading member to fix the position of the shuttle, and the inner side of the upper end of the reference plate is fixed by pressing one end of the clamp means when the shuttle support is raised It may further include a pusher for releasing the connection between the plate and the substrate.

본 발명에서, 상기 기판 홀더는 회전이 가능하게 구성되고, 상기 기판 홀더의 걸림부가 상기 기판의 위치보다 밑에 위치하도록 하강한 후 회전하여 상승하면 상기 걸림부에 기판이 얹혀질 수 있다. In the present invention, the substrate holder is configured to be rotatable, and when the locking portion of the substrate holder is lowered to be positioned below the position of the substrate and then rotates and rises, the substrate may be placed on the locking portion.

또한, 상기 클램프수단은 탄성적으로 회동이 가능하며 상기 플레이트를 누르기 위한 가압편과, 상기 가압편에 탄성을 제공하여 상기 플레이트를 누르는 탄성체를 포함하여 구성될 수 있다. In addition, the clamp means may be elastically rotatable and may include a pressing piece for pressing the plate, and an elastic body for pressing the plate by providing elasticity to the pressing piece.

상기 셔틀의 하면에는 상기 셔틀 지지대에 대응되는 위치에 셔틀 지지대의 단부가 삽입가능한 셔틀 지지대 고정홈이 형성되고, 상기 셔틀의 상면에는 상기 레퍼런스 플레이트에 형성된 셔틀 고정홈에 삽입되는 셔틀 고정핀이 형성될 수 있다. The shuttle support fixing groove is formed on the bottom surface of the shuttle to insert the end of the shuttle support in a position corresponding to the shuttle support, and the shuttle fixing pin is inserted into the shuttle fixing groove formed in the reference plate on the upper surface of the shuttle. Can be.

본 발명의 상기 챔버 내에는 기판을 인-라인으로 증착하기 위한 이송수단이 구비될 수 있다. The chamber of the present invention may be provided with a transfer means for depositing the substrate in-line.

이 경우, 상기 이송수단은 상기 로딩부재의 내측에 소정간격으로 설치되어 기판의 이송방향으로 열을 이루는 다수개의 롤러부재로 이루어질 수 있다. In this case, the conveying means may be formed of a plurality of roller members installed at predetermined intervals inside the loading member to form a row in the conveying direction of the substrate.

본 발명에 있어서, 상기 플레이트의 하면에는 상기 플레이트 지지대에 대응되는 위치에 플레이트 지지대의 단부가 삽입가능한 플레이트 지지대 고정홈이 형성될 수 있다. In the present invention, the lower surface of the plate may be formed in the plate support fixing groove that can be inserted into the end of the plate support in a position corresponding to the plate support.

상기 플레이트의 가장자리에는 상기 기판 홀더가 승강할 때 상기 걸림부가 통과가능한 홀이 형성될 수 있다. At the edge of the plate may be formed a hole through which the engaging portion passes when the substrate holder is raised and lowered.

또한, 상기 플레이트는 마스크의 처짐을 방지하기 위한 마그넷 플레이트와, 상기 마그넷 플레이트와 결합되는 덮개 플레이트로 구성될 수 있다. In addition, the plate may be composed of a magnet plate for preventing sagging of the mask, and a cover plate coupled to the magnet plate.

한편, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판 정렬방법은 기판과 플레이트가 얹혀진 셔틀이 챔버 내부의 기판 탈부착 구간으로 유입되는 단계와, 셔틀 지지대가 상승하여 셔틀을 상승시키는 단계와, 상기 셔틀이 상승하면서 레퍼런스 플레이트의 상단에 위치한 누름쇠가 상기 셔틀의 상부에 위치한 클램프수단의 일단을 눌러서 상기 플레이트와 기판과의 연결상태를 해제하는 단계와, 플레이트 지지대가 상승하여 플레이트를 상승시키는 단계와, 챔버의 상부에 위치한 기판 홀더가 하강하는 단계와, 상기 기판 홀더의 걸림부가 상기 기판의 위치보다 밑으로 하강한 후 회전하고 상승하면서 기판 홀더의 걸림부에 기판이 얹혀지는 단계를 포함할 수 있다. On the other hand, the substrate alignment method of the present invention for achieving the above object is a step of the substrate and the plate on which the shuttle is placed into the substrate detachable section in the chamber, the shuttle support is raised to lift the shuttle, and the shuttle Pressing the one end of the clamp means positioned at the top of the shuttle to release the connection state between the plate and the substrate while the plate is raised, and the plate support is raised to raise the plate; The substrate holder located above the chamber may be lowered, and the substrate may be mounted on the latching portion of the substrate holder while the locking portion of the substrate holder is lowered below the position of the substrate and then rotated and raised.

상기 셔틀 지지대가 상승하여 셔틀을 상승시키는 단계에서는, 셔틀의 하면에 형성된 셔틀 지지대 고정홈에 상기 셔틀 지지대의 단부가 삽입되어 고정되며, 셔틀의 상면에 형성된 셔틀 고정핀이 레퍼런스 플레이트의 셔틀 고정홈에 삽입되어 셔틀의 위치를 고정시킬 수 있다. In the step of raising the shuttle by raising the shuttle support, the end of the shuttle support is inserted into and fixed to the shuttle support fixing groove formed on the lower surface of the shuttle, the shuttle fixing pin formed on the upper surface of the shuttle to the shuttle fixing groove of the reference plate It can be inserted to fix the position of the shuttle.

상기 플레이트 지지대가 상승하여 플레이트를 상승시키는 단계에서는, 상기 플레이트의 하면에 형성된 플레이트 지지대 고정홈에 상기 플레이트 지지대의 단부가 삽입될 수 있다. In the step of raising the plate by raising the plate support, the end of the plate support may be inserted into the plate support fixing groove formed in the lower surface of the plate.

상기 플레이트 지지대가 상승하여 플레이트를 상승시키는 단계와, 챔버의 상부에 위치한 기판 홀더가 하강하는 단계는 동시에 이루어질 수 있다. The plate support may be raised to raise the plate, and the substrate holder located above the chamber may be lowered at the same time.

본 발명에 있어서, 상기 기판 홀더의 걸림부에 기판이 얹혀진 후, 기판 교체장치를 이용해 기판을 교체하는 단계가 더 포함될 수 있다. In the present invention, after the substrate is placed on the engaging portion of the substrate holder, the step of replacing the substrate using a substrate replacement apparatus may be further included.

위에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따르면, 셔틀, 플레이트가 지지대와 접촉되는 부분에 홈을 만들어 셔틀, 플레이트의 상승 시 흔들림이 발생하지 않고 정확하게 고정되게 함과 동시에 기판 홀더가 챔버의 상단에서 내려와 회전하여 기판을 들기 때문에 기판을 안전하게 들어올려서 물질 사용 효율을 극대화시킴으로써, 생산성 및 소자제작에 있어서 시스템 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. According to the present invention as described above, by making a groove in the portion where the shuttle, the plate is in contact with the support to ensure that the shuttle, the plate does not shake when the rise of the plate, while being accurately fixed, the substrate holder is lowered from the top of the chamber to rotate the substrate By lifting the substrate safely by maximizing the material use efficiency, there is an effect that can improve the system efficiency in productivity and device fabrication.

또한, 기판이 정확하게 정렬되도록 하고, 기판 교체 시 파손율을 낮출 수 있게 되므로 생산품의 가격을 낮출 수 있는 효과가 있다. In addition, since the substrate is correctly aligned, it is possible to lower the breakage rate when replacing the substrate has the effect of lowering the price of the product.

또한, 플레이트가 상승과 기판 홀더의 동작이 동시에 이루어지기 때문에 시간을 단축할 수 있다. 그렇기 때문에 빠른 Tact-Time 구현이 가능하므로 제품의 생산속도를 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, since the plate is raised and the substrate holder is operated at the same time, the time can be shortened. Therefore, fast Tact-Time can be implemented, which has the effect of improving the production speed of the product.

또한, 기판 홀더가 챔버의 상단에 위치하기 때문에 챔버의 높이를 낮출 수 있으며, 챔버의 구성을 좀더 간단하게 할 수 있다. In addition, since the substrate holder is located at the top of the chamber, the height of the chamber can be lowered, and the configuration of the chamber can be made simpler.

또한, 종래의 기판 지지대를 제작하지 않아도 되기 때문에 상품 제작비를 줄일 수 있는 효과가 있다.Further, since there is no need to manufacture a conventional substrate support, it is possible to reduce the production cost of the product.

도 1은 종래의 인-라인 타입의 증착 시스템에서 기판 교체를 위한 기판 정렬장치의 일예를 도시한 단면도이다.
도 2는 종래의 기판 정렬장치에서의 기판 교체를 위한 작동을 설명하기 위한 단면도이다.
도 3은 종래의 다른 예를 도시한 사시도이다.
도 4a는 본 발명의 기판 정렬장치에서의 셔틀을 도시한 평면도이다.
도 4b는 도 4a에서의 A-A' 단면도이다.
도 5a 내지 도 5b는 본 발명의 기판 정렬장치의 구성을 도시한 것으로,
도 5a는 본 발명의 기판 정렬장치를 나타내는 정단면도이고,
도 5b는 본 발명의 기판 정렬장치를 나타내는 측단면도이다.
도 6a 내지 도 6b는 본 발명의 기판 정렬장치에서 셔틀 지지대가 상승한 것을 나타내는 것으로,
도 6a는 셔틀 지지대가 상승한 기판 정렬장치를 나타내는 정단면도이고,
도 6b는 측단면도이다.
도 7a 내지 도 7b는 본 발명의 기판 정렬장치에서 플레이트 지지대가 상승하는 한편, 기판 홀더가 하강하여 회전한 상태를 나타내는 것으로,
도 7a는 플레이트 지지대가 상승한 기판 정렬장치를 나타내는 정단면도이고,
도 7b는 측단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing an example of a substrate aligning device for substrate replacement in a conventional in-line type deposition system.
Figure 2 is a cross-sectional view for explaining the operation for replacing the substrate in the conventional substrate alignment apparatus.
3 is a perspective view showing another conventional example.
4A is a plan view showing the shuttle in the substrate aligning apparatus of the present invention.
4B is a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG. 4A.
5a to 5b show the configuration of the substrate alignment apparatus of the present invention,
5A is a front sectional view showing a substrate alignment device of the present invention,
Fig. 5B is a side sectional view showing the substrate aligning apparatus of the present invention.
6a to 6b shows that the shuttle support is raised in the substrate alignment apparatus of the present invention,
6A is a front sectional view showing the substrate aligning device with the shuttle support raised;
6B is a side cross-sectional view.
7A to 7B illustrate a state in which the plate support is raised while the substrate holder is lowered and rotated in the substrate aligning apparatus of the present invention.
7A is a front sectional view showing a substrate aligning device with a plate support raised;
7B is a side cross-sectional view.

이하, 상기한 바와 같은 본 발명에 의한 기판 정렬장치 및 정렬방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of the substrate alignment apparatus and alignment method according to the present invention as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4a는 본 발명의 기판 정렬장치에서의 셔틀을 도시한 평면도이고, 도 4b는 도 4a에서의 A-A' 단면도이다. 4A is a plan view showing a shuttle in the substrate aligning apparatus of the present invention, and FIG. 4B is a sectional view taken along the line A-A 'in FIG. 4A.

또한, 도 5a 내지 도 5b는 본 발명의 기판 정렬장치의 구성을 도시한 것으로, 도 5a는 본 발명의 기판 정렬장치를 나타내는 정단면도이고, 도 5b는 본 발명의 기판 정렬장치를 나타내는 측단면도이다.5A to 5B show the configuration of the substrate aligning apparatus of the present invention, FIG. 5A is a front sectional view showing the substrate aligning apparatus of the present invention, and FIG. 5B is a side sectional view showing the substrate aligning apparatus of the present invention. .

본 발명의 기판 정렬장치는 인-라인(In-line) 타입의 증착 시스템에서 기판과 마스크의 합착 시 기판의 정렬이 안정적으로 이루어질 수 있도록 하기 위한 것으로서, 챔버(200)의 상부에 승강가능하게 설치되며, 기판을 들어올리기 위한 기판 홀더(270)와, 상기 챔버(200)의 하부에 구비되어 플레이트(240)를 들어올리기 위해 승강하는 플레이트 지지대(250)와, 상기 챔버(200)의 하부에 구비되어 셔틀(220)을 들어올리기 위해 승강하는 셔틀 지지대(230)을 포함한다. The substrate aligning apparatus of the present invention is to enable stable alignment of the substrate when the substrate and the mask are bonded in an in-line deposition system. The substrate aligning apparatus is installed to be elevated on and above the chamber 200. And a substrate holder 270 for lifting a substrate, a plate support 250 provided in a lower portion of the chamber 200, and a plate support 250 for lifting a plate 240, and a lower portion of the chamber 200. And a shuttle support 230 which is lifted to lift the shuttle 220.

상기 기판 홀더(270)는 회전가능하게 설치되는 것으로서, 하단에는 기판(206)이 안착될 수 있는 걸림부(272)가 구비된다. The substrate holder 270 is rotatably installed, and a lower end is provided with a locking portion 272 on which the substrate 206 can be seated.

상기 걸림부(272)는 기판 홀더(270)와 직교되는 방향, 즉, 수평방향으로 위치하는 기판(260)을 들어올리도록 수평방향으로 형성되어, 상기 기판 홀더(270)의 하단부는 대략 'ㄴ'자형 형상을 갖는다. The locking portion 272 is formed in a horizontal direction to lift the substrate 260 positioned in a direction orthogonal to the substrate holder 270, that is, in a horizontal direction, so that the lower end of the substrate holder 270 is approximately 'b'. It has a shape of a child.

도 5b의 확대도에서 보면, 상기 걸림부(272)가 'ㄴ'자형으로 형성됨을 알 수 있다. In the enlarged view of Figure 5b, it can be seen that the engaging portion 272 is formed in the 'b' shape.

이와 같은 본 발명의 기판 홀더(270)는 상기 기판 홀더(270)의 걸림부(272)가 상기 기판(260)의 위치보다 밑에 위치하도록 하강한 후 회전하여 상승하면 상기 걸림부(272)에 기판(260)이 얹혀질 수 있다. The substrate holder 270 of the present invention is lowered so that the locking portion 272 of the substrate holder 270 is positioned below the position of the substrate 260, and then rotates to raise the substrate to the locking portion 272. 260 may be placed.

여기서, 기판(260)은 OLED, LED, 솔라 셀 등의 제조에 광범위하게 사용되는 기판을 포함한다. Here, the substrate 260 includes a substrate widely used in the manufacture of OLEDs, LEDs, solar cells, and the like.

또한, 상기 셔틀(220)의 상면에는 기판(260) 및 플레이트(240)가 얹혀지는데, 셔틀(220)의 양측 상면에는 상기 플레이트(240)를 클램핑하기 위한 클램프수단(210)이 구비된다. In addition, a substrate 260 and a plate 240 are mounted on an upper surface of the shuttle 220, and clamp means 210 for clamping the plate 240 is provided on both upper surfaces of the shuttle 220.

상기 클램프수단(210)은 상기 셔틀 지지대(230)의 상승과 연동하여 상기 플레이트(240)와 기판(260)과의 결합을 해제시키는 구성으로서, 본 발명의 일실시예에서는 상기 클램프수단(210)으로 도 4b에서 보는 바와 같이, 상기 셔틀(220)의 상면에 설치되어, 탄성적으로 회동이 가능하며 상기 플레이트(240)를 누르기 위한 가압편(214)과, 상기 가압편(214)에 탄성을 제공하여 상기 플레이트(240)를 누르는 탄성체(212)를 제안한다. The clamp means 210 is configured to release the coupling between the plate 240 and the substrate 260 in conjunction with the lift of the shuttle support 230, in the embodiment of the present invention the clamp means 210 As shown in Figure 4b, it is installed on the upper surface of the shuttle 220, it is possible to rotate elastically and the pressing piece 214 for pressing the plate 240, and elasticity to the pressing piece 214 It proposes an elastic body 212 to press the plate 240.

여기서, 상기 탄성체(212)는 도면에서 원형으로 도시하였으나, 이는 코일 스프링으로 형성될 경우의 일실시예를 표현한 것일 뿐, 본 발명은 이에 한정하지 않으며, 상기 탄성체(212)는 판스프링을 비롯해 다양한 형태의 탄성체가 적용될 수 있다. Here, the elastic body 212 is shown in a circle in the drawings, but this represents only one embodiment when the coil spring is formed, the present invention is not limited to this, the elastic body 212 is a variety of, including the leaf spring Shaped elastomers can be applied.

예를 들어, 상기 클램프수단(210)은 상기 탄성체(212)의 일단이 상기 가압편(214)에 고정되고, 그 타단은 셔틀(220)에 고정된 상태에서 상기 탄성체(212)의 탄성력에 의해 상기 가압편(214)이 상기 플레이트(240)를 누르도록 구성할 수 있다. For example, one end of the clamp member 210 is fixed to the pressing piece 214, and the other end thereof is fixed to the shuttle 220 by the elastic force of the elastic member 212. The pressing piece 214 may be configured to press the plate 240.

한편, 본 발명의 기판 정렬장치는 상기 셔틀(220)의 위치를 고정시키도록 로딩부재(202)의 상부에 설치되는 레퍼런스 플레이트(Reference Plate)(280)와, 상기 레퍼런스 플레이트(280)의 상단 내측에 위치하여 상기 셔틀 지지대(230)의 상승 시 상기 가압편(214)의 일단을 누르기 위한 누름쇠(282)를 더 포함한다. Meanwhile, the substrate aligning apparatus of the present invention includes a reference plate 280 installed on the loading member 202 to fix the position of the shuttle 220, and an upper inner side of the reference plate 280. Located in the further comprises a pusher 282 for pressing one end of the pressing piece 214 when the shuttle support 230 is raised.

상기 누름쇠(282)는 상기 셔틀 지지대(230)가 상승하면 상기 가압편(214)의 일단을 눌러서 상기 플레이트(204)와 기판(206)과의 연결상태를 해제할 수 있으며, 상기 누름쇠(282)의 하단에는 상기 가압편(214)과의 충격을 완화할 수 있도록 볼(ball) 또는 원통형 형상의 충격완화부재(286)가 설치되는 것이 바람직하다. The pusher 282 may release the connection state between the plate 204 and the substrate 206 by pressing one end of the pressing piece 214 when the shuttle support 230 is raised, and the pusher ( The lower end of the 282 is preferably provided with a ball or cylindrical shock absorbing member 286 to mitigate the impact with the pressing piece 214.

한편, 상기 레퍼런스 플레이트(280)의 하면에는 상기 셔틀(220)의 양측 상면에 형성된 셔틀 고정핀(222)이 삽입가능한 셔틀 고정홈(284)이 형성된다. Meanwhile, a shuttle fixing groove 284 into which the shuttle fixing pins 222 formed on both upper surfaces of the shuttle 220 can be inserted into the bottom surface of the reference plate 280.

상기 셔틀 고정핀(222)은 셔틀(220)의 양측 상면에 형성되어 셔틀(220)의 상승 시 상기 셔틀 고정홈(284)에 삽입됨으로써, 셔틀(220)의 위치를 정위치에 고정할 수 있다. The shuttle fixing pins 222 are formed on both upper surfaces of the shuttle 220 and are inserted into the shuttle fixing groove 284 when the shuttle 220 rises, thereby fixing the position of the shuttle 220 in position. .

상기 셔틀(220)의 하면에는 상기 셔틀 지지대(230)에 대응되는 위치에 셔틀 지지대(230)의 단부가 삽입가능한 셔틀 지지대 고정홈(224)이 형성된다. A shuttle support fixing groove 224 is formed on a lower surface of the shuttle 220 to insert an end portion of the shuttle support 230 at a position corresponding to the shuttle support 230.

또한, 상기 플레이트(240)의 하면에는 상기 플레이트 지지대(250)에 대응되는 위치에 플레이트 지지대(250)의 단부가 삽입가능한 플레이트 지지대 고정홈(244)이 형성된다. In addition, a plate support fixing groove 244 into which the end of the plate support 250 is inserted is formed at a position corresponding to the plate support 250 on the bottom surface of the plate 240.

상기 플레이트(240)의 가장자리에는 도 4a에서 보는 바와 같이, 상기 기판 홀더(270)가 승강할 때 상기 걸림부(272)가 통과가능한 홀(242)이 형성될 수 있다. As shown in FIG. 4A, a hole 242 may be formed at an edge of the plate 240 to allow the locking portion 272 to pass through when the substrate holder 270 is elevated.

이와 같이, 상기 홀(242)로 인하여, 상기 플레이트(240)가 기판(260) 위에 얹혀진 상태에서 상기 기판 홀더(270)가 하강할 때 상기 걸림부(272)가 홀(242)을 통과하면서 상기 기판(260)을 들어올릴 수 있게 되는 것이다. As such, when the substrate holder 270 descends while the plate 240 is placed on the substrate 260 due to the hole 242, the locking portion 272 passes through the hole 242. It will be able to lift the substrate 260.

상기 플레이트(240)는 마스크의 처짐을 방지하기 위하여 교체가 가능한 영구자석을 사용하는 마그넷 플레이트(도시안함)와, 덮개 플레이트로 구성된다.The plate 240 is composed of a magnet plate (not shown) and a cover plate using a permanent magnet that can be replaced to prevent sagging of the mask.

한편, 본 발명은 인-라인 타입으로 증착할 수 있도록 상기 챔버(200) 내에는 기판(260)을 인-라인으로 이송하기 위한 이송수단이 구비된다. On the other hand, the present invention is provided with a transfer means for transferring the substrate 260 in-line in the chamber 200 to be deposited in-line type.

이 경우, 상기 이송수단은 상기 기판(260)을 양측에서 지지할 수 있도록 상기 로딩부재(202)의 내측에 소정간격으로 설치되어 기판(260)의 이송방향으로 열을 이루는 다수개의 롤러부재(290)로 이루어질 수 있다. In this case, the transfer means is a plurality of roller members 290 are installed at a predetermined interval inside the loading member 202 to support the substrate 260 on both sides to form a row in the transfer direction of the substrate 260 It can be made of).

이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 기판 정렬장치를 이용한 기판 정렬방법을 설명하면 다음과 같다. A substrate alignment method using the substrate alignment apparatus of the present invention having such a structure will now be described.

도 6a 내지 도 6b는 본 발명의 기판 정렬장치에서 셔틀 지지대가 상승한 것을 나타내는 것으로, 도 6a는 셔틀 지지대가 상승한 기판 정렬장치를 나타내는 정단면도이고, 도 6b는 측단면도이다. 6a to 6b show that the shuttle support is raised in the substrate alignment apparatus of the present invention, Figure 6a is a front sectional view showing a substrate alignment device with the shuttle support is raised, Figure 6b is a side sectional view.

도 7a 내지 도 7b는 본 발명의 기판 정렬장치에서 플레이트 지지대가 상승하는 한편, 기판 홀더가 하강하여 회전한 상태를 나타내는 것으로, 도 7a는 플레이트 지지대가 상승한 기판 정렬장치를 나타내는 정단면도이고, 도 7b는 측단면도이다. 7A to 7B illustrate a state in which the plate support is raised and the substrate holder is lowered and rotated in the substrate alignment device of the present invention. FIG. 7A is a front sectional view of the substrate alignment device in which the plate support is raised. Is a side cross-sectional view.

먼저, 상기 기판(260)과 플레이트(240)가 얹혀진 셔틀(220)이 챔버(200) 내부의 기판 탈부착 구간으로 유입된다. First, the shuttle 220 on which the substrate 260 and the plate 240 are mounted is introduced into the substrate detachment section inside the chamber 200.

이때, 상기 셔틀(220)이 챔버(200) 내부의 기판 탈부착 구간으로 장입이 되면, 별도의 기판감지수단(도시안함)을 통해 셔틀(220)이 정 위치에 위치하게 된다.At this time, when the shuttle 220 is charged into the substrate detachable section inside the chamber 200, the shuttle 220 is positioned in a correct position through a separate substrate sensing means (not shown).

이후, 도 6a 내지 도 6b에 도시한 바와 같이, 상기 셔틀 지지대(230)가 상승하여 셔틀(230)을 상승시킨다. Thereafter, as shown in FIGS. 6A to 6B, the shuttle support 230 is raised to raise the shuttle 230.

이때, 상기 셔틀 지지대(230)가 상승하면서 셔틀(220)의 하면에 형성된 셔틀 지지대 고정홈(224)에 상기 셔틀 지지대(230)의 단부가 삽입되어 고정된다. At this time, the end of the shuttle support 230 is inserted and fixed to the shuttle support fixing groove 224 formed on the lower surface of the shuttle 220 as the shuttle support 230 is raised.

이와 동시에 상기 셔틀(220)의 상면에 형성된 셔틀 고정핀(222)이 레퍼런스 플레이트(280)의 셔틀 고정홈(284)에 삽입되어 셔틀(220)의 위치를 고정시킬 수 있다. At the same time, the shuttle fixing pin 222 formed on the upper surface of the shuttle 220 may be inserted into the shuttle fixing groove 284 of the reference plate 280 to fix the position of the shuttle 220.

상기 셔틀 지지대(230)가 상승하면, 상기 레퍼런스 플레이트(280)의 상단에 위치한 누름쇠(282)가 셔틀(220)의 상부에 위치한 클램프수단(210)에 닿게 되고, 상기 누름쇠(282)가 가압편(214)의 일단을 눌러서 도 6a의 확대도에서 보는 바와 같이, 상기 탄성체(212)에 지지된 상태에서 상기 가압편(214)이 회동된다. When the shuttle support 230 is raised, the pusher 282 located at the top of the reference plate 280 is in contact with the clamp means 210 located at the top of the shuttle 220, the presser 282 is As shown in the enlarged view of FIG. 6A by pressing one end of the pressing piece 214, the pressing piece 214 is rotated in the state supported by the elastic body 212. FIG.

이로써, 가압편(214)에 의해 고정되어 있던 플레이트(240)와 기판(260)과의 연결상태를 해제하고, 상기 플레이트(240)를 상승시킬 수 있도록 된다. Thereby, the connection state between the plate 240 fixed by the pressing piece 214 and the board | substrate 260 is released, and the said plate 240 can be raised.

이후, 도 7a에서 보는 바와 같이, 상기 플레이트 지지대(250)가 상승하여 플레이트(240)를 상승시킨다. Thereafter, as shown in FIG. 7A, the plate support 250 is raised to raise the plate 240.

이 경우, 상기 플레이트(240)의 하면에 형성된 플레이트 지지대 고정홈(244)에 상기 플레이트 지지대(250)의 단부가 삽입된 후 플레이트(240)를 상승시킨다.In this case, the plate 240 is raised after the end of the plate support 250 is inserted into the plate support groove 244 formed on the bottom surface of the plate 240.

이와 같은 본 발명은 셔틀(220), 플레이트(240)가 각각의 지지대와 접촉되는 부분에 홈(224)(244)을 만들어 셔틀(220)과 플레이트(240)의 상승 시 흔들림이 발생하지 않고 정확하게 고정될 수 있다. In the present invention as described above, the shuttle 220 and the plate 240 make grooves 224 and 244 in contact with the respective supports, so that shaking does not occur when the shuttle 220 and the plate 240 are raised. Can be fixed.

이로써, 상기 플레이트(240)와 기판(260)이 분리된다. As a result, the plate 240 and the substrate 260 are separated.

한편, 상기 챔버(200)의 상부에 위치한 기판 홀더(270)가 하강한다. Meanwhile, the substrate holder 270 located above the chamber 200 descends.

상기 기판 홀더(270)의 하강은 상기 걸림부(272)가 상기 기판(260)보다 밑으로 위치할 때까지 이루어진다.The lowering of the substrate holder 270 is performed until the locking portion 272 is positioned below the substrate 260.

이때, 상기 기판 홀더(270)의 걸림부(272)가 상기 플레이트(240)의 가장자리에 형성된 홀(242)을 통과하여 기판(260)의 위치보다 밑으로 하강할 수 있다. In this case, the locking portion 272 of the substrate holder 270 may pass through the hole 242 formed at the edge of the plate 240 to descend below the position of the substrate 260.

이후, 상기 기판 홀더(270)는 기판(260)을 들어올리기 위해 도 7a에 도시한 화살표 방향대로 회전한다. Thereafter, the substrate holder 270 rotates in the direction of the arrow shown in FIG. 7A to lift the substrate 260.

즉, 챔버(200)의 양측에 설치된 상기 기판 홀더(270)는 기판(260)이 위치한 내측을 향하도록 시계방향 또는 반시계방향으로 회전하고, 상기 기판 홀더(270)가 상승하면서 기판 홀더(270)의 걸림부(272)에 기판(260)이 얹혀지는 것이다. That is, the substrate holder 270 installed at both sides of the chamber 200 rotates clockwise or counterclockwise to face the inside where the substrate 260 is located, and the substrate holder 270 is raised while the substrate holder 270 is raised. The substrate 260 is placed on the locking portion 272 of the "

본 발명에서, 상기 플레이트 지지대(250)가 상승하여 플레이트(240)를 상승시키는 단계와, 상기 기판 홀더(270)가 하강하는 단계는 동시에 이루어질 수 있다. In the present invention, the plate support 250 is raised to raise the plate 240 and the substrate holder 270 may be lowered at the same time.

즉, 상기 플레이트(240)를 상승시키면서 동시에 상기 기판 홀더(270)를 하강함으로써, 플레이트(240)를 기판(260)에서 분리함과 동시에 기판(260)을 들어올릴 수 있는 것이다. That is, by simultaneously lowering the substrate holder 270 while raising the plate 240, the plate 240 may be separated from the substrate 260 and the substrate 260 may be lifted at the same time.

따라서, 본 발명에 의하면, 플레이트(240)의 상승과 기판 홀더(270)의 하강동작이 동시에 이루어지기 때문에 기판 교체 시간을 단축할 수 있다. 그렇기 때문에 빠른 Tact-Time 구현이 가능하므로 제품의 생산속도를 향상시킬 수 있는 것이다. Therefore, according to the present invention, since the raising of the plate 240 and the lowering operation of the substrate holder 270 are simultaneously performed, the substrate replacement time can be shortened. Therefore, quick Tact-Time can be implemented, which can speed up the production of the product.

이와 같이, 상기 기판 홀더(270)의 걸림부(272)에 기판(260)이 얹혀진 후, 기판 교체장치를 이용해 기판을 교체한다. As described above, after the substrate 260 is mounted on the engaging portion 272 of the substrate holder 270, the substrate is replaced using a substrate replacement apparatus.

본 발명에서는 기판 교체장치에 대하여 자세히 언급하지 않지만 일반적으로 로봇 혹은 MTR과 같은 구동방식을 사용하여 기판을 교체할 수 있다.In the present invention, the substrate replacing device is not described in detail, but the substrate can be replaced using a driving method such as a robot or MTR in general.

이후, 상기 기판 홀더(270)가 상승하면서 상기 플레이트 지지대(250)와 셔틀 지지대(230)는 하강하여, 상기 셔틀(220)은 셔틀 지지대(230)로부터 자유로워지게 된다.Thereafter, as the substrate holder 270 is raised, the plate support 250 and the shuttle support 230 descend, and the shuttle 220 is freed from the shuttle support 230.

기판 교체 전, 현 구간에 도달한 시점의 시간과 기판 교체 후, 현 구간에서 빠져나가는 시간의 간격은 대략 1~3분에서 동일하게 유지하게 된다. 즉, 택타임이 3분일 경우는 3분 간격으로, 1분일 경우는 1분 간격으로 동작하여 일정한 간격으로 동작한다. The time at which the substrate reaches the current section before the substrate is replaced and the time interval at which the substrate leaves the current section after the substrate is changed is maintained at about 1 to 3 minutes. That is, when the tack time is 3 minutes, it operates at intervals of 3 minutes, and when it is 1 minute, it operates at 1 minute intervals and operates at regular intervals.

기판 교체 구간의 속도는 기판(260)을 셔틀(220)에서 빼고 넣는 순간이 정확하고 균일하게 정해져 있기 때문에 등속도로 유지되어야 하며, 모든 동작이 동시적으로 작동되기 때문에 제품 생산속도를 더욱 빠르게 할 수 있다.The speed of the substrate replacement section must be maintained at a constant speed since the instant when the substrate 260 is pulled out from the shuttle 220 is accurately and uniformly determined and all operations are simultaneously performed, have.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.The rights of the present invention are not limited to the embodiments described above, but are defined by the claims, and those skilled in the art can make various modifications and adaptations within the scope of the claims. It is self-evident.

200 : 챔버 210 : 클램프수단
212 : 탄성체 214 : 가압편
220 : 셔틀 230 : 셔틀 지지대
240 : 플레이트 250 : 플레이트 지지대
260 : 기판 270 : 기판 홀더
272 : 걸림부200: chamber 210: clamp means
212: elastic body 214: pressing piece
220: shuttle 230: shuttle support
240: plate 250: plate support
260: substrate 270: substrate holder
272: catching part

Claims (15)

챔버의 상부에 설치되어 승강이 가능하고, 하단에는 기판이 안착될 수 있는 걸림부가 구비되어 기판을 들어올리기 위한 기판 홀더;
상기 챔버의 하부에 구비되어 플레이트를 들어올리기 위해 승강하는 플레이트 지지대;
상기 챔버의 하부에 구비되어 셔틀을 들어올리기 위해 승강하는 셔틀 지지대; 및
상기 셔틀의 상면에 설치되어 상기 플레이트를 클램핑하며, 상기 셔틀 지지대의 상승과 연동하여 상기 플레이트에 대한 클램핑이 해제되는 클램프수단;
을 포함하는 기판 정렬장치.A substrate holder installed at an upper portion of the chamber and capable of elevating, and provided at a lower end thereof with a catching portion on which the substrate can be seated;
A plate support provided at a lower portion of the chamber and lifted to lift the plate;
A shuttle support provided at a lower portion of the chamber to move up and down to lift the shuttle; And
Clamp means is installed on the upper surface of the shuttle to clamp the plate, the clamping means for the plate is released in conjunction with the rise of the shuttle support;
. 청구항 1에 있어서,
상기 셔틀의 위치를 고정시키도록 로딩부재의 상부에 설치되는 레퍼런스 플레이트; 및
상기 레퍼런스 플레이트의 상단 내측에 위치하여 상기 셔틀 지지대의 상승 시 상기 클램프수단의 일단을 눌러서 고정되어 있던 상기 플레이트와 기판과의 연결상태를 해제하기 위한 누름쇠;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.The method according to claim 1,
A reference plate installed on an upper portion of the loading member to fix the position of the shuttle; And
A pusher positioned inside the upper end of the reference plate to release the connection state between the plate and the substrate, which is fixed by pressing one end of the clamp means when the shuttle support is raised;
Substrate alignment apparatus further comprising a. 청구항 1에 있어서,
상기 기판 홀더는 회전이 가능하게 구성되고,
상기 기판 홀더의 걸림부가 상기 기판의 위치보다 밑에 위치하도록 하강한 후 회전하여 상승하면 상기 걸림부에 기판이 얹혀지는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.The method according to claim 1,
The substrate holder is configured to be rotatable,
And a substrate is placed on the locking portion when the locking portion of the substrate holder is lowered to be positioned below the position of the substrate, and then rotates and rises. 청구항 1에 있어서,
상기 클램프수단은 탄성적으로 회동이 가능하며 상기 플레이트를 누르기 위한 가압편과, 상기 가압편에 탄성을 제공하여 상기 플레이트를 누르는 탄성체를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.The method according to claim 1,
The clamp means is elastically rotatable and substrate alignment apparatus comprising a pressing piece for pressing the plate, and an elastic body for pressing the plate by providing elasticity to the pressing piece. 청구항 1에 있어서,
상기 셔틀의 하면에는 상기 셔틀 지지대에 대응되는 위치에 셔틀 지지대의 단부가 삽입가능한 셔틀 지지대 고정홈이 형성되고,
상기 셔틀의 상면에는 상기 레퍼런스 플레이트에 형성된 셔틀 고정홈에 삽입되는 셔틀 고정핀이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.The method according to claim 1,
The lower surface of the shuttle is provided with a shuttle support fixing groove that can be inserted into the end of the shuttle support in a position corresponding to the shuttle support,
And a shuttle fixing pin which is inserted into the shuttle fixing groove formed in the reference plate on the upper surface of the shuttle. 청구항 1에 있어서,
상기 챔버 내에는 기판을 인-라인으로 증착하기 위한 이송수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.The method according to claim 1,
Wherein the chamber is provided with transport means for in-line deposition of the substrate. 청구항 6에 있어서,
상기 이송수단은 상기 로딩부재의 내측에 소정간격으로 설치되어 기판의 이송방향으로 열을 이루는 다수개의 롤러부재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치. The method of claim 6,
Wherein the conveying means comprises a plurality of roller members arranged at predetermined intervals on the inner side of the loading member and arranged in rows in the conveying direction of the substrate. 청구항 1에 있어서,
상기 플레이트의 하면에는 상기 플레이트 지지대에 대응되는 위치에 플레이트 지지대의 단부가 삽입가능한 플레이트 지지대 고정홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.The method according to claim 1,
And a plate support fixing groove in which an end portion of the plate support can be inserted into a bottom surface of the plate at a position corresponding to the plate support. 청구항 1에 있어서,
상기 플레이트의 가장자리에는 상기 기판 홀더가 승강할 때 상기 걸림부가 통과가능한 홀이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.The method according to claim 1,
And a hole through which the locking portion passes when the substrate holder is lifted and raised at an edge of the plate. 청구항 1에 있어서,
상기 플레이트는 마스크의 처짐을 방지하기 위한 마그넷 플레이트와,
상기 마그넷 플레이트와 결합되는 덮개 플레이트로 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬장치.The method according to claim 1,
The plate includes a magnet plate for preventing deflection of the mask,
And a cover plate coupled to the magnet plate. 기판과 플레이트가 얹혀진 셔틀이 챔버 내부의 기판 탈부착 구간으로 유입되는 단계;
셔틀 지지대가 상승하여 셔틀을 상승시키는 단계;
상기 셔틀이 상승하면서 레퍼런스 플레이트의 상단에 위치한 누름쇠가 상기 셔틀의 상부에 위치한 클램프수단의 일단을 눌러서 상기 플레이트와 기판과의 연결상태를 해제하는 단계;
플레이트 지지대가 상승하여 플레이트를 상승시키는 단계;
챔버의 상부에 위치한 기판 홀더가 하강하는 단계; 및
상기 기판 홀더의 걸림부가 상기 기판의 위치보다 밑으로 하강한 후 회전하고 상승하면서 기판 홀더의 걸림부에 기판이 얹혀지는 단계;
를 포함하는 기판 정렬방법.A shuttle on which the substrate and the plate are mounted are introduced into the substrate detachment section in the chamber;
Raising the shuttle by raising the shuttle support;
Pressing the one end of the clamp means located at the top of the shuttle while the shuttle is lifted to release the connection between the plate and the substrate;
Raising the plate by raising the plate support;
The substrate holder located above the chamber is lowered; And
Placing the substrate on the engaging portion of the substrate holder while rotating and rising after the engaging portion of the substrate holder is lowered below the position of the substrate;
Substrate alignment method comprising a. 청구항 11에 있어서,
상기 셔틀 지지대가 상승하여 셔틀을 상승시키는 단계에서는,
셔틀의 하면에 형성된 셔틀 지지대 고정홈에 상기 셔틀 지지대의 단부가 삽입되어 고정되며,
셔틀의 상면에 형성된 셔틀 고정핀이 레퍼런스 플레이트의 셔틀 고정홈에 삽입되어 셔틀의 위치를 고정시키는 것을 특징으로 하는 기판 정렬방법.The method of claim 11,
In the step of raising the shuttle by raising the shuttle support,
The end of the shuttle support is inserted and fixed in the shuttle support fixing groove formed on the lower surface of the shuttle,
And a shuttle fixing pin formed on an upper surface of the shuttle to be inserted into the shuttle fixing groove of the reference plate to fix the position of the shuttle. 청구항 11에 있어서,
상기 플레이트 지지대가 상승하여 플레이트를 상승시키는 단계에서는,
상기 플레이트의 하면에 형성된 플레이트 지지대 고정홈에 상기 플레이트 지지대의 단부가 삽입되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬방법.The method of claim 11,
In the step of raising the plate by raising the plate support,
Substrate alignment method, characterized in that the end of the plate support is inserted into the plate support fixing groove formed on the lower surface of the plate. 청구항 11에 있어서,
상기 플레이트 지지대가 상승하여 플레이트를 상승시키는 단계와, 챔버의 상부에 위치한 기판 홀더가 하강하는 단계는 동시에 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 정렬방법.The method of claim 11,
And raising the plate by raising the plate support and lowering the substrate holder located above the chamber at the same time. 청구항 11에 있어서,
상기 기판 홀더의 걸림부에 기판이 얹혀진 후, 기판 교체장치를 이용해 기판을 교체하는 단계가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬방법.
The method of claim 11,
After the substrate is placed on the engaging portion of the substrate holder, the substrate alignment method further comprising the step of replacing the substrate using a substrate replacement apparatus.
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