KR20070119386A - Apparatus for manufacturing flat panel display - Google Patents

Apparatus for manufacturing flat panel display Download PDF

Info

Publication number
KR20070119386A
KR20070119386A KR1020060053974A KR20060053974A KR20070119386A KR 20070119386 A KR20070119386 A KR 20070119386A KR 1020060053974 A KR1020060053974 A KR 1020060053974A KR 20060053974 A KR20060053974 A KR 20060053974A KR 20070119386 A KR20070119386 A KR 20070119386A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
lift pin
flat panel
plate
panel display
Prior art date
Application number
KR1020060053974A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
임영재
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020060053974A priority Critical patent/KR20070119386A/en
Publication of KR20070119386A publication Critical patent/KR20070119386A/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70791Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins

Abstract

Equipment for fabricating a flat panel display is provided to prevent a substrate from being slid caused by frictional resistance of air by making a lift pin support the substrate flexibly when the substrate is placed on a stone surface plate. A substrate is placed on a stone surface plate(110). A plurality of lift pins(120) supports the substrate, penetrating the stone surface plate and flexibly coming in contact with the contact surface of the substrate. A lift pin plate(130) fixes the lift pin and is connected to the lower part of the plurality of lift pins. A driving part(140) moves up/down the lift pin plate and is connected to the lift pin plate. The lift pin includes a body part and a head part. The body part is connected to the lift pin plate. The head part flexibly supports the contact surface of the substrate and is coupled to the upper part of the body part.

Description

평판 디스플레이 제조용 장비{Apparatus for manufacturing flat panel display}Equipment for manufacturing flat panel display {Apparatus for manufacturing flat panel display}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비의 개념도이다.1 is a conceptual diagram of equipment for manufacturing a flat panel display according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 리프트 핀의 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view of the lift pin of FIG. 1.

도 3은 도 2에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of the flat panel display manufacturing equipment according to FIG.

*도면의 주요 부분에 대한 설명** Description of the main parts of the drawings *

110: 석정반 120: 리프트 핀110: stone platform 120: lift pin

122: 몸체부 124: 고정 돌기122: body 124: fixing projection

126: 헤드부 130: 리프트 핀 플레이트126: head 130: lift pin plate

140: 구동부 140: drive unit

본 발명은 평판 디스플레이 제조용 장비에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 석정반상에서 기판의 미끄러짐 현상을 방지할 수 있는 평판 디스플레이 제조용 장비에 관한 것이다. The present invention relates to a flat panel display manufacturing equipment, and more particularly, to a flat panel display manufacturing equipment that can prevent the sliding phenomenon of the substrate on the stone plate.

일반적으로, 평판 디스플레이(Flat Panel Display)는 액정 표시소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등을 말한다. 이러한 평판 디스플레이는 기판 상에 사진(photo), 확산(diffusion), 증착(deposition), 식각(etching) 및 이온 주입(ion implant) 등과 같은 공정들을 반복하여 제조한다. In general, a flat panel display refers to a liquid crystal display, a plasma display panel, organic light emitting diodes, and the like. Such flat panel displays are manufactured by repeating processes such as photo, diffusion, deposition, etching, and ion implantation on a substrate.

이처럼 반복되는 제조 공정들 중, 사진 공정은 기판에 포토레지스트를 코팅하는 공정, 포토레지스트 상에 미세 패턴을 형성하는 노광 공정 및 포토레지스트를 현상하는 현상 공정을 순차적으로 수행함으로써 기판 상에 미세 패턴을 형성한다.Among these repeated manufacturing processes, the photo process is performed by sequentially coating a photoresist on a substrate, an exposure process for forming a fine pattern on the photoresist, and a developing process for developing the photoresist. Form.

이 중, 기판 표면에 포토레지스트를 코팅하는 공정은 석정반 상에 기판을 안착시키고, 포토레지스트를 공급하는 슬릿 노즐이 기판 표면을 일정 속도로 이동하면서 기판 상에 포토레지스트를 도포하게 된다. 이 때, 균일한 도포를 위하여 기판이 석정반 상의 정위치에 위치하는 것이 중요하다.Among these, the process of coating the photoresist on the surface of the substrate is seated on the stone plate, the slit nozzle for supplying the photoresist is to apply the photoresist on the substrate while moving the substrate surface at a constant speed. At this time, it is important for the substrate to be positioned on the stone plate for uniform application.

그리고, 기판은 석정반을 관통하는 리프트 핀에 의해 상하로 이동될 수 있으며, 리프트 핀의 하강시 석정반 상에 기판이 안착된다. 그러나, 리프트 핀의 하강 동작에 의해 기판이 하강될 때 기판과 석정반 사이에 있던 공기가 미처 빠져나가지 못하게 될 수 있다. 이로써, 기판보다 리프트 핀이 먼저 하강되면서 기판이 압축 공기의 마찰 저항을 받게 되어 미끄러짐으로써 석정반의 정위치에 안착하지 못하게 된다. 그러므로 포토레지스트 코팅시 포토레지스트가 석정반에 코팅될 수 있거나, 기판 표면에 균일하게 코팅되지 않을 수 있다. 또는, 기판이 로봇암에 의해 이송될 때 석정반의 정위치에 있지 못하므로 위치 편차가 생겨 주변 설비에 부딪혀 파손될 수 있다.The substrate may be moved up and down by a lift pin penetrating the stone plate, and the substrate is seated on the stone plate when the lift pin descends. However, when the substrate is lowered by the lowering operation of the lift pin, the air between the substrate and the stone plate may not be released. As a result, the lift pin is lowered before the substrate, and the substrate is subjected to frictional resistance of the compressed air, thereby slipping, thereby preventing the substrate from seating in the correct position of the stone plate. Therefore, during photoresist coating, the photoresist may be coated on the stone plate or may not be uniformly coated on the substrate surface. Alternatively, when the substrate is transferred by the robot arm, the substrate may not be in the correct position of the stone platform, and thus, a positional deviation may occur and may be damaged by hitting the surrounding equipment.

또한, 리프트 핀의 상단은 돌출된 타원형의 형상이므로 점접촉을 함으로써 기판의 미끄러짐 현상이 더욱 발생될 수 있다.In addition, since the upper end of the lift pin is a protruding oval shape, the sliding phenomenon of the substrate may be further generated by the point contact.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 기판 이송시 석정반상에서의 기판 미끄러짐을 방지하기 위한 평판 디스플레이 제조용 장비를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a flat panel display manufacturing equipment for preventing the sliding of the substrate on the stone plate during substrate transfer.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. The technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the above-mentioned problem, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비는 기판이 안착되는 석정반, 석정반을 관통하여 상기 기판의 접촉면을 따라 유동적으로 접촉하며 상기 기판을 지지하는 다수의 리프트 핀, 다수의 리프트 핀의 하단부에 구비되어 리프트 핀을 고정시키는 리프트 핀 플레이트, 리프트 핀 플레이트와 연결되어 리프트 핀 플레이트를 상승 하강시키는 구동부를 포함한다.In order to achieve the above technical problem, the apparatus for manufacturing a flat panel display according to an embodiment of the present invention includes a plurality of lifts that support the substrate while fluidly contacting the contact surface of the substrate through the crystal panel and the crystal panel on which the substrate is seated. And a lift pin plate provided at the lower end of the plurality of lift pins to fix the lift pins, and a driving unit connected to the lift pin plates to raise and lower the lift pin plates.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태 로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings. Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various different forms, only the embodiments are to make the disclosure of the present invention complete, the general knowledge in the art to which the present invention belongs It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비의 개념도이다.1 is a conceptual diagram of equipment for manufacturing a flat panel display according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 리프트 핀의 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view of the lift pin of FIG. 1.

도 3은 도 2에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of the flat panel display manufacturing equipment according to FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비(100)는 석정반(110), 다수의 리프트 핀(120), 리프트 핀 플레이트(130) 및 구동부(140)를 포함한다.1 and 2, a flat panel display manufacturing apparatus 100 according to an embodiment includes a stone platform 110, a plurality of lift pins 120, a lift pin plate 130, and a driver 140. .

석정반(110)은 기판(G)이 안착되는 부재이다.The stone slab 110 is a member on which the substrate G is seated.

석정반(110)은 돌, 예를 들어 화강암등의 외부의 진동에 민감하지 않은 무거운 재질로 구비된다. 따라서, 외부의 진동에 민감하지 않아 포토레지스트 도포 공정시 기판(G)표면을 더욱 매끈하게 형성할 수 있도록 구비된다. 석정반(110)은 직사각형의 판 형태일 수 있다. 그리고 석정반(110)에는 기판(G)을 로딩(loading) 및 언로딩(unloading)하기 위해 기판(G)을 승강시키는 다수의 리프트 핀(120)이 석정반(110)을 관통할 수 있도록 리프트 핀(120) 수에 대응하여 관통홀들이 형성되어 있다. 관통홀들은 석정반(110)에 소정 간격으로 균일하게 형성되어 있다.The stone platform 110 is provided with a heavy material that is not sensitive to external vibrations such as stones, for example granite. Therefore, the substrate G is not sensitive to external vibrations, and thus, the surface of the substrate G may be more smoothly formed during the photoresist coating process. The stone plate 110 may be in the form of a rectangular plate. In addition, a plurality of lift pins 120 for elevating the substrate G in order to load and unload the substrate G may be lifted through the stone panel 110. Through-holes are formed corresponding to the number of pins 120. The through holes are formed uniformly at predetermined intervals in the crystal panel 110.

석정반(110)을 관통하는 리프트 핀(120)은 다수가 형성되어 상부에 지지된 기판(G)을 수평 상태에서 석정반(110)에 안착시키거나 이탈시키는 동작을 할 수 있다. 특히, 본 발명의 일 실시예의 리프트 핀(120)은 기판(G)의 접촉면을 따라 유동성있게 접촉하여 안정적으로 지지할 수 있다. 즉, 대형 기판(G)은 기판(G) 자체의 무게에 의하여 중심부가 가장 쳐지는 휨현상이 있을 수 있다. 이때, 본 발명의 리프트 핀(120)은 기판(G)의 휨현상이 생기더라도 기판(G)의 쳐진 면을 따라 유동성있게 접촉할 수 있으므로 더욱 안정하게 지지할 수 있어 기판(G)의 미끄러짐 현상을 방지할 수 있다. 자세히 설명하면, 리프트 핀(120)은 리프트 핀 플레이트(130)에 연결된 몸체부(122), 몸체부(122)의 상단에 체결되어 유동성 있게 움직이는 헤드부(126)로 구비된다.A plurality of lift pins 120 penetrating the stone plate 110 may be formed to allow the substrate G supported thereon to be seated or separated from the stone plate 110 in a horizontal state. In particular, the lift pin 120 of the embodiment of the present invention can stably support the fluid by contacting along the contact surface of the substrate (G). That is, the large substrate G may have a bending phenomenon in which the center thereof is most struck by the weight of the substrate G itself. At this time, the lift pin 120 of the present invention can be more fluidly supported along the struck surface of the substrate (G) even if the bending phenomenon of the substrate (G) can be supported more stably to prevent the sliding phenomenon of the substrate (G). You can prevent it. In detail, the lift pin 120 is provided with a body portion 122 connected to the lift pin plate 130 and a head portion 126 fastened to the upper end of the body portion 122 to move fluidly.

몸체부(122)의 상단면은 돌출된 구(球) 형태의 고정 돌기(124)가 형성되어 헤드부(126)와 체결시 헤드부(126)가 이탈 되지 않도록 하는 역할을 한다.The upper surface of the body portion 122 is formed with a fixing sphere 124 of the protruding sphere (sphere) serves to prevent the head portion 126 from being separated when the head portion 126 and the fastening.

헤드부(126)는 기판(G)과 접촉하는 상단면이 평면으로 형성되어 기판(G)과의 접촉시 면접촉을 할 수 있어 접촉 면적이 증대되어 안정적으로 지지할 수 있다. 그리고, 헤드부(126)는 개구부가 있어 고정 돌기(124)가 삽입될 수 있다. 또한, 헤드부(126)는 고정 돌기(124)의 직경보다 소정 여유 있는 공간으로 인하여 소정 각도로 움직일 수 있다. 따라서, 헤드부(126)는 고정 돌기(124)상에 걸쳐져 있으므로 기판(G)의 접촉면을 따라 소정의 각도로 움직일 수 있는 유동성이 있다. 헤드부(126)의 재질은 예를 들어, 피크(Poly Ether Ether Ketine; PEEK)재질일 수 있 다. 피크 재질은 플라스틱의 일종으로 고온에서 기계적 강도가 우수하고, 내방사성을 가지며, 내화학성을 가진 결정성 타입의 방향족 직고리 자기소화성 플라스틱이다. 본 발명에서는 피크 재질을 예로 들었으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 기판(G)과 접촉시 마찰력이 있으며 탄성이 있는 재질이면 가능하다.The head portion 126 may have a top surface in contact with the substrate G in a flat surface, and may be in surface contact with the substrate G, thereby increasing the contact area and stably supporting it. In addition, the head part 126 has an opening, and the fixing protrusion 124 may be inserted therein. In addition, the head part 126 may move at a predetermined angle due to a predetermined space than the diameter of the fixing protrusion 124. Therefore, since the head portion 126 is spread over the fixing protrusion 124, there is a fluidity that can move at a predetermined angle along the contact surface of the substrate (G). The material of the head portion 126 may be, for example, a peak (Poly Ether Ether Ketine; PEEK) material. The peak material is a kind of plastic, which is an aromatic cyclic self-extinguishing plastic of crystalline type having excellent mechanical strength at high temperature, radiation resistance, and chemical resistance. In the present invention, the peak material is taken as an example, but is not limited thereto. When the contact with the substrate (G) has a frictional force and elastic material is possible.

다수의 리프트 핀(120)의 하단부에는 리프트 핀(120)을 고정시킬 수 있도록 리프트 핀 플레이트(130)가 형성되어 있다. Lift pin plates 130 are formed at lower ends of the plurality of lift pins 120 to fix the lift pins 120.

그리고, 구동부(140)가 리프트 핀 플레이트(130)와 연결되어 리프트 핀 플레이트(130)를 승하강 시킬 수 있다. 따라서, 구동부(140)에 의해 리프트 핀(120)이 상하로 수직 이동하면서 기판(G)을 석정반(110)에 안착 또는 이탈 시킬 수 있다. 이 때, 구동부(140)로는 에어 실린더(air cylinder), 리이드 스크류, 스텝핑 모터(stepping motor) 등이 이용될 수 있다. In addition, the driving unit 140 may be connected to the lift pin plate 130 to raise and lower the lift pin plate 130. Therefore, the lift pin 120 may be vertically moved up and down by the driving unit 140 to allow the substrate G to be seated or detached from the stone plate 110. In this case, an air cylinder, a lead screw, a stepping motor, or the like may be used as the driving unit 140.

이와 같이 본 발명의 일 실시예에 따르면, 리프트 핀(120)이 유동적인 소정의 각도로 기판(G)을 지지할 수 있으므로 휘거나 쳐지는 대형 기판(G)을 보다 안정적으로 지지할 수 있다. 그러므로 기판(G)을 석정반(110) 상에 안착시킬 때 기판(G)의 중심에서는 리프트 핀(120)의 헤드부(126)가 수직 형태일 수 있고, 기판(G)의 둘레에서 접촉하는 헤드부(126)는 기판(G)의 접촉면을 따라 소정의 각도로 틸트(tilt)되어서 접촉할 수 있다. 따라서, 기판(G)의 중심과 둘레에 모두 리프트 핀(120)이 안정적으로 면접촉을 하게 됨으로써 기판(G)이 미끄러져 석정반(110) 정위치에서 벗어나는 것을 방지할 수 있다.As described above, according to the exemplary embodiment of the present invention, the lift pin 120 may support the substrate G at a predetermined predetermined angle, thereby more stably supporting the large substrate G that is bent or struck. Therefore, the head portion 126 of the lift pin 120 may be vertical in the center of the substrate G when the substrate G is seated on the stone plate 110. The head part 126 may be tilted at a predetermined angle to contact the contact surface of the substrate G. Accordingly, since the lift pins 120 are stably in surface contact with both the center and the periphery of the substrate G, the substrate G may be prevented from slipping out of the stone plate 110.

도 2 및 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제 조용 장비(100)의 동작에 대하여 설명하기로 한다.2 and 3, the operation of the flat panel manufacturing equipment 100 according to an embodiment of the present invention will be described.

먼저, 석정반(110)을 관통하고, 소정의 각도의 유동성을 갖는 헤드부(126)가 구비된 리프트 핀(120)이 구동부(140)에 의해 상승을 하여 기판(G)을 지지한다. 이 때, 리프트 핀(120)은 휘어진 대형 기판(G) 중심부에서 둘레로 갈수록 소정의 각도로 틸트되어 헤드부(126)가 유동적으로 지지한다. 따라서, 기판(G)의 접촉면을 따라 면접촉을 하면서 안정적으로 기판(G)을 지지할 수 있다. 이어서 기판(G)을 석정반(110)에 안착시키기 위하여 리프트 핀(120)은 구동부(140)에 의해 하강동작을 한다. 이에 따라 기판(G)은 하강할 수 있다. 구동부(140)는 리프트 핀 플레이트(130)에 연결된 리프트 핀(120)이 석정반(110) 표면 아래로 하강될때까지 하강시킨다. 따라서, 기판(G)이 석정반(110)의 정위치에 안착되면 이후, 석정반(110)에 안착된 기판(G) 표면을 따라 슬릿 노즐(미도시)이 이동하면서 포토레지스트를 코팅한다. First, the lift pin 120 that penetrates the stone plate 110 and has a head portion 126 having a fluidity of a predetermined angle is lifted by the driving unit 140 to support the substrate G. At this time, the lift pin 120 is tilted at a predetermined angle toward the circumference from the center of the large curved substrate G to be supported by the head 126 fluidly. Therefore, the substrate G can be stably supported while making surface contact along the contact surface of the substrate G. FIG. Subsequently, the lift pin 120 is lowered by the driving unit 140 to seat the substrate G on the crystal plate 110. Accordingly, the substrate G can be lowered. The driving unit 140 is lowered until the lift pin 120 connected to the lift pin plate 130 is lowered below the surface of the stone plate 110. Therefore, when the substrate G is seated at the right position of the stone plate 110, the slit nozzle (not shown) moves along the surface of the substrate G seated on the stone plate 110 to coat the photoresist.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains have various permutations, modifications, and modifications without departing from the spirit or essential features of the present invention. It is to be understood that modifications may be made and other embodiments may be embodied. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

상기한 바와 같이 본 발명의 평판 디스플레이 제조용 장비에 따르면 다음과 같은 효과가 하나 혹은 그 이상 있다.As described above, the flat panel display manufacturing equipment of the present invention has one or more of the following effects.

첫째, 기판을 석정반 상에 안착시킬 때 리프트 핀이 유동적으로 기판을 지지함으로써 기판이 공기 마찰 저항에 의해 미끄러지는 것을 방지할 수 있다.First, it is possible to prevent the substrate from slipping by air frictional resistance by supporting the substrate fluidly when the lift pin is seated on the stone plate.

둘째, 기판이 미끄러지는 것을 방지함으로써 석정반의 정위치에 안착시킬 수 있다.Second, by preventing the substrate from slipping it can be seated in place on the stone plate.

셋째, 석정반의 정위치에 기판이 안착됨으로써 공정의 수율이 향상될 수 있다.Third, the yield of the process can be improved by seating the substrate in place of the stone plate.

Claims (4)

기판이 안착되는 석정반;A stone tablet on which the substrate is seated; 상기 석정반을 관통하여 상기 기판의 접촉면을 따라 유동적으로 접촉하며 상기 기판을 지지하는 다수의 리프트 핀;A plurality of lift pins penetrating the stone plate and fluidly contacting the contact surface of the substrate and supporting the substrate; 상기 다수의 리프트 핀의 하단부에 연결되어 상기 리프트 핀을 고정시키는 리프트 핀 플레이트; 및A lift pin plate connected to lower ends of the plurality of lift pins to fix the lift pins; And 상기 리프트 핀 플레이트와 연결되어 상기 리프트 핀 플레이트를 상승 하강시키는 구동부를 포함하는 평판 디스플레이 제조용 장비.And a drive unit connected to the lift pin plate to move the lift pin plate up and down. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리프트 핀은 상기 리프트 핀 플레이트에 연결된 몸체부; 및The lift pin has a body portion connected to the lift pin plate; And 상기 몸체부의 상단에 체결되고 상기 기판의 접촉면을 따라 유동성 있게 지지하는 헤드부를 포함하는 평판 디스플레이 제조용 장비.Flat panel display manufacturing equipment comprising a head portion fastened to the top of the body portion and fluidly supporting along the contact surface of the substrate. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 몸체부의 상단면은 돌출된 구(球) 형태의 고정 돌기를 구비하는 평판 디스플레이 제조용 장비.Equipment for manufacturing a flat panel display having an upper surface of the body portion having a fixing protrusion of the protruding sphere shape. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 헤드부의 상단면은 평면으로 되어 기판과 접촉시 면접촉하는 평판 디스플레이 제조용 장비.The top surface of the head portion is flat, the equipment for manufacturing a flat panel display which is in surface contact when in contact with the substrate.
KR1020060053974A 2006-06-15 2006-06-15 Apparatus for manufacturing flat panel display KR20070119386A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060053974A KR20070119386A (en) 2006-06-15 2006-06-15 Apparatus for manufacturing flat panel display

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060053974A KR20070119386A (en) 2006-06-15 2006-06-15 Apparatus for manufacturing flat panel display

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070119386A true KR20070119386A (en) 2007-12-20

Family

ID=39137722

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060053974A KR20070119386A (en) 2006-06-15 2006-06-15 Apparatus for manufacturing flat panel display

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20070119386A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103792707A (en) * 2014-02-13 2014-05-14 北京京东方显示技术有限公司 Supporting machine table
KR20140114476A (en) * 2013-03-13 2014-09-29 주성엔지니어링(주) Lift pin
CN106066555A (en) * 2016-06-30 2016-11-02 京东方科技集团股份有限公司 To cartridge device
US20160370712A1 (en) * 2013-10-30 2016-12-22 Nikon Corporation Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR20200134307A (en) * 2018-04-26 2020-12-01 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. Stage apparatus, lithographic apparatus, control unit and method

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140114476A (en) * 2013-03-13 2014-09-29 주성엔지니어링(주) Lift pin
US20160370712A1 (en) * 2013-10-30 2016-12-22 Nikon Corporation Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9921490B2 (en) * 2013-10-30 2018-03-20 Nikon Corporation Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method
US10359707B2 (en) 2013-10-30 2019-07-23 Nikon Corporation Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method
EP3065165B1 (en) * 2013-10-30 2022-12-07 Nikon Corporation Substrate-holding apparatus and exposure apparatus
EP4145226A3 (en) * 2013-10-30 2023-06-21 Nikon Corporation Substrate holding device, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN103792707A (en) * 2014-02-13 2014-05-14 北京京东方显示技术有限公司 Supporting machine table
US9411233B2 (en) 2014-02-13 2016-08-09 Boe Technology Group Co., Ltd. Support stage
CN106066555A (en) * 2016-06-30 2016-11-02 京东方科技集团股份有限公司 To cartridge device
CN106066555B (en) * 2016-06-30 2020-07-03 京东方科技集团股份有限公司 Box aligning device
KR20200134307A (en) * 2018-04-26 2020-12-01 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. Stage apparatus, lithographic apparatus, control unit and method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20070119386A (en) Apparatus for manufacturing flat panel display
KR20060108975A (en) Wafer loading apparatus for preventing local defocus
JP2000237983A (en) Board chuck device
KR101421645B1 (en) Substrate processing apparatus
JP2006237262A (en) Heat treatment apparatus
KR102214357B1 (en) wafer size expanding apparatus and wafer alignment apparatus including the same
KR101135355B1 (en) Substrate lifting apparatus
KR20070119379A (en) Lift assembly for flat panel display device
KR20070113615A (en) Apparatus for manufacturing flat panel display
KR100833472B1 (en) Apparatus for treating substrate
KR100861090B1 (en) Heat treatment apparatus
KR101216586B1 (en) Substrate Support Apparatus and Method for Chucking and De-chucking Substrate using the same
KR101712415B1 (en) Repair Method of Electrostatic Chuck
KR20040035500A (en) Lift pin leveling apparatus for wafer stage
KR20200022893A (en) Substrate processing apparatus and substrate transporting method of using the same
KR101381207B1 (en) Substrate support pin holder having movable part and substrate processing apparatus comprising the same
KR101147907B1 (en) Substrate separation device
KR20070020580A (en) Apparatus for supporting a substrate
KR100677994B1 (en) Center pin of a wafer stage of an exposure apparatus
KR101433865B1 (en) Substrate processing apparatus comprising fixed lift pin, and method of loading and unloading substrate using the same
KR100709713B1 (en) A dry etch equipment
KR20060120730A (en) Apparatus for supporting a semiconductor wafer
JPH04158511A (en) Substrate processor
KR101702785B1 (en) Apparatus for depositing thin-film
CN115973773A (en) Support transfer device, substrate transfer method and curing system

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination