KR20070119386A - Apparatus for manufacturing flat panel display - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비의 개념도이다.1 is a conceptual diagram of equipment for manufacturing a flat panel display according to an embodiment of the present invention.
도 2는 도 1의 리프트 핀의 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view of the lift pin of FIG. 1.
도 3은 도 2에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of the flat panel display manufacturing equipment according to FIG.
*도면의 주요 부분에 대한 설명** Description of the main parts of the drawings *
110: 석정반 120: 리프트 핀110: stone platform 120: lift pin
122: 몸체부 124: 고정 돌기122: body 124: fixing projection
126: 헤드부 130: 리프트 핀 플레이트126: head 130: lift pin plate
140: 구동부 140: drive unit
본 발명은 평판 디스플레이 제조용 장비에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 석정반상에서 기판의 미끄러짐 현상을 방지할 수 있는 평판 디스플레이 제조용 장비에 관한 것이다. The present invention relates to a flat panel display manufacturing equipment, and more particularly, to a flat panel display manufacturing equipment that can prevent the sliding phenomenon of the substrate on the stone plate.
일반적으로, 평판 디스플레이(Flat Panel Display)는 액정 표시소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등을 말한다. 이러한 평판 디스플레이는 기판 상에 사진(photo), 확산(diffusion), 증착(deposition), 식각(etching) 및 이온 주입(ion implant) 등과 같은 공정들을 반복하여 제조한다. In general, a flat panel display refers to a liquid crystal display, a plasma display panel, organic light emitting diodes, and the like. Such flat panel displays are manufactured by repeating processes such as photo, diffusion, deposition, etching, and ion implantation on a substrate.
이처럼 반복되는 제조 공정들 중, 사진 공정은 기판에 포토레지스트를 코팅하는 공정, 포토레지스트 상에 미세 패턴을 형성하는 노광 공정 및 포토레지스트를 현상하는 현상 공정을 순차적으로 수행함으로써 기판 상에 미세 패턴을 형성한다.Among these repeated manufacturing processes, the photo process is performed by sequentially coating a photoresist on a substrate, an exposure process for forming a fine pattern on the photoresist, and a developing process for developing the photoresist. Form.
이 중, 기판 표면에 포토레지스트를 코팅하는 공정은 석정반 상에 기판을 안착시키고, 포토레지스트를 공급하는 슬릿 노즐이 기판 표면을 일정 속도로 이동하면서 기판 상에 포토레지스트를 도포하게 된다. 이 때, 균일한 도포를 위하여 기판이 석정반 상의 정위치에 위치하는 것이 중요하다.Among these, the process of coating the photoresist on the surface of the substrate is seated on the stone plate, the slit nozzle for supplying the photoresist is to apply the photoresist on the substrate while moving the substrate surface at a constant speed. At this time, it is important for the substrate to be positioned on the stone plate for uniform application.
그리고, 기판은 석정반을 관통하는 리프트 핀에 의해 상하로 이동될 수 있으며, 리프트 핀의 하강시 석정반 상에 기판이 안착된다. 그러나, 리프트 핀의 하강 동작에 의해 기판이 하강될 때 기판과 석정반 사이에 있던 공기가 미처 빠져나가지 못하게 될 수 있다. 이로써, 기판보다 리프트 핀이 먼저 하강되면서 기판이 압축 공기의 마찰 저항을 받게 되어 미끄러짐으로써 석정반의 정위치에 안착하지 못하게 된다. 그러므로 포토레지스트 코팅시 포토레지스트가 석정반에 코팅될 수 있거나, 기판 표면에 균일하게 코팅되지 않을 수 있다. 또는, 기판이 로봇암에 의해 이송될 때 석정반의 정위치에 있지 못하므로 위치 편차가 생겨 주변 설비에 부딪혀 파손될 수 있다.The substrate may be moved up and down by a lift pin penetrating the stone plate, and the substrate is seated on the stone plate when the lift pin descends. However, when the substrate is lowered by the lowering operation of the lift pin, the air between the substrate and the stone plate may not be released. As a result, the lift pin is lowered before the substrate, and the substrate is subjected to frictional resistance of the compressed air, thereby slipping, thereby preventing the substrate from seating in the correct position of the stone plate. Therefore, during photoresist coating, the photoresist may be coated on the stone plate or may not be uniformly coated on the substrate surface. Alternatively, when the substrate is transferred by the robot arm, the substrate may not be in the correct position of the stone platform, and thus, a positional deviation may occur and may be damaged by hitting the surrounding equipment.
또한, 리프트 핀의 상단은 돌출된 타원형의 형상이므로 점접촉을 함으로써 기판의 미끄러짐 현상이 더욱 발생될 수 있다.In addition, since the upper end of the lift pin is a protruding oval shape, the sliding phenomenon of the substrate may be further generated by the point contact.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 기판 이송시 석정반상에서의 기판 미끄러짐을 방지하기 위한 평판 디스플레이 제조용 장비를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a flat panel display manufacturing equipment for preventing the sliding of the substrate on the stone plate during substrate transfer.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. The technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the above-mentioned problem, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비는 기판이 안착되는 석정반, 석정반을 관통하여 상기 기판의 접촉면을 따라 유동적으로 접촉하며 상기 기판을 지지하는 다수의 리프트 핀, 다수의 리프트 핀의 하단부에 구비되어 리프트 핀을 고정시키는 리프트 핀 플레이트, 리프트 핀 플레이트와 연결되어 리프트 핀 플레이트를 상승 하강시키는 구동부를 포함한다.In order to achieve the above technical problem, the apparatus for manufacturing a flat panel display according to an embodiment of the present invention includes a plurality of lifts that support the substrate while fluidly contacting the contact surface of the substrate through the crystal panel and the crystal panel on which the substrate is seated. And a lift pin plate provided at the lower end of the plurality of lift pins to fix the lift pins, and a driving unit connected to the lift pin plates to raise and lower the lift pin plates.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태 로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings. Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various different forms, only the embodiments are to make the disclosure of the present invention complete, the general knowledge in the art to which the present invention belongs It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비의 개념도이다.1 is a conceptual diagram of equipment for manufacturing a flat panel display according to an embodiment of the present invention.
도 2는 도 1의 리프트 핀의 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view of the lift pin of FIG. 1.
도 3은 도 2에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of the flat panel display manufacturing equipment according to FIG.
도 1 및 도 2를 참조하면, 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조용 장비(100)는 석정반(110), 다수의 리프트 핀(120), 리프트 핀 플레이트(130) 및 구동부(140)를 포함한다.1 and 2, a flat panel
석정반(110)은 기판(G)이 안착되는 부재이다.The
석정반(110)은 돌, 예를 들어 화강암등의 외부의 진동에 민감하지 않은 무거운 재질로 구비된다. 따라서, 외부의 진동에 민감하지 않아 포토레지스트 도포 공정시 기판(G)표면을 더욱 매끈하게 형성할 수 있도록 구비된다. 석정반(110)은 직사각형의 판 형태일 수 있다. 그리고 석정반(110)에는 기판(G)을 로딩(loading) 및 언로딩(unloading)하기 위해 기판(G)을 승강시키는 다수의 리프트 핀(120)이 석정반(110)을 관통할 수 있도록 리프트 핀(120) 수에 대응하여 관통홀들이 형성되어 있다. 관통홀들은 석정반(110)에 소정 간격으로 균일하게 형성되어 있다.The
석정반(110)을 관통하는 리프트 핀(120)은 다수가 형성되어 상부에 지지된 기판(G)을 수평 상태에서 석정반(110)에 안착시키거나 이탈시키는 동작을 할 수 있다. 특히, 본 발명의 일 실시예의 리프트 핀(120)은 기판(G)의 접촉면을 따라 유동성있게 접촉하여 안정적으로 지지할 수 있다. 즉, 대형 기판(G)은 기판(G) 자체의 무게에 의하여 중심부가 가장 쳐지는 휨현상이 있을 수 있다. 이때, 본 발명의 리프트 핀(120)은 기판(G)의 휨현상이 생기더라도 기판(G)의 쳐진 면을 따라 유동성있게 접촉할 수 있으므로 더욱 안정하게 지지할 수 있어 기판(G)의 미끄러짐 현상을 방지할 수 있다. 자세히 설명하면, 리프트 핀(120)은 리프트 핀 플레이트(130)에 연결된 몸체부(122), 몸체부(122)의 상단에 체결되어 유동성 있게 움직이는 헤드부(126)로 구비된다.A plurality of
몸체부(122)의 상단면은 돌출된 구(球) 형태의 고정 돌기(124)가 형성되어 헤드부(126)와 체결시 헤드부(126)가 이탈 되지 않도록 하는 역할을 한다.The upper surface of the
헤드부(126)는 기판(G)과 접촉하는 상단면이 평면으로 형성되어 기판(G)과의 접촉시 면접촉을 할 수 있어 접촉 면적이 증대되어 안정적으로 지지할 수 있다. 그리고, 헤드부(126)는 개구부가 있어 고정 돌기(124)가 삽입될 수 있다. 또한, 헤드부(126)는 고정 돌기(124)의 직경보다 소정 여유 있는 공간으로 인하여 소정 각도로 움직일 수 있다. 따라서, 헤드부(126)는 고정 돌기(124)상에 걸쳐져 있으므로 기판(G)의 접촉면을 따라 소정의 각도로 움직일 수 있는 유동성이 있다. 헤드부(126)의 재질은 예를 들어, 피크(Poly Ether Ether Ketine; PEEK)재질일 수 있 다. 피크 재질은 플라스틱의 일종으로 고온에서 기계적 강도가 우수하고, 내방사성을 가지며, 내화학성을 가진 결정성 타입의 방향족 직고리 자기소화성 플라스틱이다. 본 발명에서는 피크 재질을 예로 들었으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 기판(G)과 접촉시 마찰력이 있으며 탄성이 있는 재질이면 가능하다.The
다수의 리프트 핀(120)의 하단부에는 리프트 핀(120)을 고정시킬 수 있도록 리프트 핀 플레이트(130)가 형성되어 있다.
그리고, 구동부(140)가 리프트 핀 플레이트(130)와 연결되어 리프트 핀 플레이트(130)를 승하강 시킬 수 있다. 따라서, 구동부(140)에 의해 리프트 핀(120)이 상하로 수직 이동하면서 기판(G)을 석정반(110)에 안착 또는 이탈 시킬 수 있다. 이 때, 구동부(140)로는 에어 실린더(air cylinder), 리이드 스크류, 스텝핑 모터(stepping motor) 등이 이용될 수 있다. In addition, the
이와 같이 본 발명의 일 실시예에 따르면, 리프트 핀(120)이 유동적인 소정의 각도로 기판(G)을 지지할 수 있으므로 휘거나 쳐지는 대형 기판(G)을 보다 안정적으로 지지할 수 있다. 그러므로 기판(G)을 석정반(110) 상에 안착시킬 때 기판(G)의 중심에서는 리프트 핀(120)의 헤드부(126)가 수직 형태일 수 있고, 기판(G)의 둘레에서 접촉하는 헤드부(126)는 기판(G)의 접촉면을 따라 소정의 각도로 틸트(tilt)되어서 접촉할 수 있다. 따라서, 기판(G)의 중심과 둘레에 모두 리프트 핀(120)이 안정적으로 면접촉을 하게 됨으로써 기판(G)이 미끄러져 석정반(110) 정위치에서 벗어나는 것을 방지할 수 있다.As described above, according to the exemplary embodiment of the present invention, the
도 2 및 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제 조용 장비(100)의 동작에 대하여 설명하기로 한다.2 and 3, the operation of the flat
먼저, 석정반(110)을 관통하고, 소정의 각도의 유동성을 갖는 헤드부(126)가 구비된 리프트 핀(120)이 구동부(140)에 의해 상승을 하여 기판(G)을 지지한다. 이 때, 리프트 핀(120)은 휘어진 대형 기판(G) 중심부에서 둘레로 갈수록 소정의 각도로 틸트되어 헤드부(126)가 유동적으로 지지한다. 따라서, 기판(G)의 접촉면을 따라 면접촉을 하면서 안정적으로 기판(G)을 지지할 수 있다. 이어서 기판(G)을 석정반(110)에 안착시키기 위하여 리프트 핀(120)은 구동부(140)에 의해 하강동작을 한다. 이에 따라 기판(G)은 하강할 수 있다. 구동부(140)는 리프트 핀 플레이트(130)에 연결된 리프트 핀(120)이 석정반(110) 표면 아래로 하강될때까지 하강시킨다. 따라서, 기판(G)이 석정반(110)의 정위치에 안착되면 이후, 석정반(110)에 안착된 기판(G) 표면을 따라 슬릿 노즐(미도시)이 이동하면서 포토레지스트를 코팅한다. First, the
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains have various permutations, modifications, and modifications without departing from the spirit or essential features of the present invention. It is to be understood that modifications may be made and other embodiments may be embodied. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.
상기한 바와 같이 본 발명의 평판 디스플레이 제조용 장비에 따르면 다음과 같은 효과가 하나 혹은 그 이상 있다.As described above, the flat panel display manufacturing equipment of the present invention has one or more of the following effects.
첫째, 기판을 석정반 상에 안착시킬 때 리프트 핀이 유동적으로 기판을 지지함으로써 기판이 공기 마찰 저항에 의해 미끄러지는 것을 방지할 수 있다.First, it is possible to prevent the substrate from slipping by air frictional resistance by supporting the substrate fluidly when the lift pin is seated on the stone plate.
둘째, 기판이 미끄러지는 것을 방지함으로써 석정반의 정위치에 안착시킬 수 있다.Second, by preventing the substrate from slipping it can be seated in place on the stone plate.
셋째, 석정반의 정위치에 기판이 안착됨으로써 공정의 수율이 향상될 수 있다.Third, the yield of the process can be improved by seating the substrate in place of the stone plate.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060053974A KR20070119386A (en) | 2006-06-15 | 2006-06-15 | Apparatus for manufacturing flat panel display |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060053974A KR20070119386A (en) | 2006-06-15 | 2006-06-15 | Apparatus for manufacturing flat panel display |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070119386A true KR20070119386A (en) | 2007-12-20 |
Family
ID=39137722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060053974A KR20070119386A (en) | 2006-06-15 | 2006-06-15 | Apparatus for manufacturing flat panel display |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR20070119386A (en) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |