KR20070119379A - Lift assembly for flat panel display device - Google Patents

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KR20070119379A
KR20070119379A KR1020060053959A KR20060053959A KR20070119379A KR 20070119379 A KR20070119379 A KR 20070119379A KR 1020060053959 A KR1020060053959 A KR 1020060053959A KR 20060053959 A KR20060053959 A KR 20060053959A KR 20070119379 A KR20070119379 A KR 20070119379A
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김대성
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세메스 주식회사
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Abstract

A lift assembly for manufacturing a flat panel display is provided to reduce air friction resistance by enabling a large substrate to be set on a process table while the center and circumference of the substrate contacts the process table in order, thereby preventing the substrate from being separated from the right position of the process table by the sliding of the substrate caused by the air friction resistance. A lift assembly for manufacturing a flat panel display includes a process table(100), plural lift pins(110a,110b), a lift pin plate(120), and a driving unit(130). A substrate(G) is set on the process table. The lift pins supports the substrate by penetrating the process table. The height of the lift pins is increased from the center of the process table to the circumference. The pin plate is connected to the lower part of the lift pins. The driving unit is connected to the lift pin plate to ascend and descend the lift plate.

Description

평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치{Lift assembly for flat panel display device}Lift assembly for flat panel display device

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치의 평면도이다.1 is a plan view of a lift apparatus for manufacturing a flat panel display device according to an embodiment of the present invention.

도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치의 단면도이다. 2 and 3 are cross-sectional views of a lift device for manufacturing a flat panel display device according to an embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 설명** Description of the main parts of the drawings *

100: 공정 테이블 110a, 110b: 리프트 핀100: process table 110a, 110b: lift pin

120: 리프트 핀 플레이트 130: 구동부120: lift pin plate 130: drive unit

본 발명은 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 공정 테이블 상에서 기판의 얼라인 미스를 방지할 수 있는 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a lift device for manufacturing a flat panel display device, and more particularly, to a lift device for manufacturing a flat panel display device that can prevent misalignment of a substrate on a process table.

일반적으로, 평판 디스플레이(Flat Panel Display) 장치는 액정 표시소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등을 말한다. 이러한 평판 디스플레이 장치는 기판 상에 사진(photo), 확산(diffusion), 증착(deposition), 식각(etching) 및 이온 주입(ion implant) 등과 같은 공정들을 반복하여 제조한다. In general, a flat panel display device refers to a liquid crystal display, a plasma display panel, organic light emitting diodes, and the like. Such flat panel display devices are manufactured by repeatedly performing processes such as photo, diffusion, deposition, etching, and ion implantation on a substrate.

이처럼 반복되는 제조 공정들 중, 사진 공정은 기판에 포토레지스트를 코팅하는 공정, 포토레지스트 상에 미세 패턴을 형성하는 노광 공정 및 포토레지스트를 현상하는 현상 공정을 순차적으로 수행함으로써 기판 상에 미세 패턴을 형성한다.Among these repeated manufacturing processes, the photo process is performed by sequentially coating a photoresist on a substrate, an exposure process for forming a fine pattern on the photoresist, and a developing process for developing the photoresist. Form.

이 중, 기판 표면에 포토레지스트를 코팅하는 공정은 공정 테이블 상에 기판을 안착시키고, 포토레지스트를 공급하는 슬릿 노즐이 기판 표면을 일정 속도로 이동하면서 기판 상에 포토레지스트를 도포하게 된다. 이 때, 기판이 공정 테이블 상의 정위치에 위치하는 것이 중요하다.Among these, the process of coating the photoresist on the substrate surface is seated on the process table, the slit nozzle for supplying the photoresist is to apply the photoresist on the substrate while moving the substrate surface at a constant speed. At this time, it is important that the substrate is positioned in position on the process table.

그리고, 기판은 공정 테이블을 관통하는 리프트 핀에 의해 상하로 이동될 수 있으며, 리프트 핀의 하강에 의해 공정 테이블 상에 기판이 안착된다. 그러나, 기판을 공정 테이블 상에 안착시킬 때, 기판과 공정 테이블 사이의 공기 마찰 저항이 커져 기판이 공정 테이블 표면에서 미끌어질 수 있다. 따라서 기판이 공정 테이블의 정위치에 안착되지 못하게 된다. 그러므로 포토레지스트 코팅시 포토레지스트가 공정 테이블에 코팅될 수 있으며, 기판 표면에 균일하게 코팅되지 않는다. In addition, the substrate may be moved up and down by a lift pin penetrating the process table, and the substrate is seated on the process table by the lowering of the lift pin. However, when the substrate is seated on the process table, the air frictional resistance between the substrate and the process table becomes large and the substrate may slide on the process table surface. This prevents the substrate from seating in the process table. Therefore, during photoresist coating, the photoresist may be coated on the process table and is not uniformly coated on the substrate surface.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 고려하여 안출된 것으로서, 공정 테이블 상에서 기판의 틀어짐을 방지하기 위한 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a lift apparatus for manufacturing a flat panel display device for preventing the substrate from being twisted on a process table.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치는 기판이 안착되는 공정 테이블, 공정 테이블을 관통하여 기판을 지지하고, 공정 테이블의 중심에서 둘레로 갈수록 높이가 증가하는 다수의 리프트 핀들, 리프트 핀들 하부와 연결된 리프트 핀 플레이트, 리프트 핀 플레이트와 연결되어 리프트 플레이트를 상승시키거나 하강시키는 구동부를 포함한다.In order to achieve the above object, a lift apparatus for manufacturing a flat panel display device according to the present invention supports a substrate through a process table and a process table on which the substrate is seated, and a plurality of lifts whose height increases from the center of the process table to the circumference thereof. Pins, a lift pin plate connected to the bottom of the lift pins, and a driving part connected to the lift pin plate to raise or lower the lift plate.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings. Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various different forms, and only the embodiments make the disclosure of the present invention complete, and the general knowledge in the art to which the present invention belongs. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장 치의 평면도이다. 도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치의 단면도이다. 1 is a plan view of a lift device for manufacturing a flat panel display device according to an embodiment of the present invention. 2 and 3 are cross-sectional views of a lift device for manufacturing a flat panel display device according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치는 공정 테이블(100), 리프트 핀들(110a, 110b), 리프트 핀 플레이트(120) 및 구동부(130)를 포함한다. 공정 테이블(100)은 직사각형의 판 형태로써 대형 기판(G)이 안착된다. 도 1의 점선은 공정 테이블(100) 상에 안착되는 기판(G)의 정위치를 나타낸다. 그리고 공정 테이블(100)에는 기판을 로딩(loading) 및 언로딩(unloading)하기 위해 기판(G)을 승강시키는 리프트 핀들(110a, 110b)이 공정 테이블(100)을 관통할 수 있도록 다수의 관통 홀(102)들이 형성되어 있다. 관통 홀(102)들은 공정 테이블(100)에 소정 간격으로 균일하게 형성되어 있다. 또한 관통 홀(102)들의 사이 사이에는 진공 홀(미도시)들이 형성되어 있어 공정 테이블(100)에 기판(G)이 안착될 때 기판(G)이 진공에 의해 흡착 고정된다. 추가로, 공정 테이블(100)의 둘레에는 기판(G)의 얼라인 상태를 감지할 수 있는 얼라인 센서가 설치될 수 있다.Referring to FIG. 1, a lift apparatus for manufacturing a flat panel display device according to an embodiment of the present invention includes a process table 100, lift pins 110a and 110b, a lift pin plate 120, and a driver 130. The process table 100 is in the form of a rectangular plate on which a large substrate G is mounted. The dotted line in FIG. 1 shows the exact position of the substrate G seated on the process table 100. In addition, a plurality of through holes may be provided in the process table 100 so that lift pins 110a and 110b for elevating the substrate G may penetrate the process table 100 to load and unload the substrate. 102 are formed. The through holes 102 are uniformly formed in the process table 100 at predetermined intervals. In addition, vacuum holes (not shown) are formed between the through holes 102 so that the substrate G is sucked and fixed by vacuum when the substrate G is seated on the process table 100. In addition, an align sensor that detects an alignment state of the substrate G may be installed around the process table 100.

그리고 공정 테이블(100) 상부에는 공정 테이블(100) 상에 안착된 기판에(G) 포토레지스트를 도포하는 슬릿 노즐(200)이 설치된다. 슬릿 노즐(200)은 기판(G)의 길이와 동일한 길이를 가진다. 이에 따라 슬릿 노즐(200)이 기판(G) 표면을 따라 이동하게 되면 기판(G) 표면에 포토레지스트가 코팅된다. In addition, a slit nozzle 200 for applying a photoresist (G) to a substrate seated on the process table 100 is installed on the process table 100. The slit nozzle 200 has the same length as the length of the substrate (G). Accordingly, when the slit nozzle 200 moves along the surface of the substrate G, the photoresist is coated on the surface of the substrate G.

도 2에 도시된 바와 같이, 공정 테이블(100)의 하부에는 기판(G)을 지지하는 리프트 핀들(110a, 110b)이 고정된 리프트 핀 플레이트(120)가 설치되어 있다. 따 라서 공정 테이블(100)을 관통하는 리프트 핀들(110a, 110b)이 평판형의 리프트 핀 플레이트(120)에 균일하게 고정되어 있다. As shown in FIG. 2, a lift pin plate 120 to which lift pins 110a and 110b for supporting the substrate G are fixed is installed below the process table 100. Therefore, the lift pins 110a and 110b penetrating the process table 100 are uniformly fixed to the flat lift pin plate 120.

그리고, 리프트 핀 플레이트(120)에 고정된 다수의 리프트 핀들(110a, 110b)은 공정 테이블(100)의 중심부에서 둘레로 갈수록 높이가 증가하도록 형성되어 있다. 따라서 리프트 핀들(110a, 110b)이 상승하여 기판(G)을 지지할 때 대형 기판(G)은 아래로 휘어지게 된다. The plurality of lift pins 110a and 110b fixed to the lift pin plate 120 are formed to increase in height from the center of the process table 100 to the circumference thereof. Therefore, when the lift pins 110a and 110b are raised to support the substrate G, the large substrate G is bent downward.

도 1 및 도 2를 참조하여 보다 상세히 설명하면, 공정 테이블(100)을 관통하는 리프트 핀들(110a, 110b)은 공정 테이블(100) 상에서 격자 구조로 균일하게 배치되며, 공정 테이블(100)의 중심으로부터 소정 간격씩 이격되어 설치된다. 리프트 핀들(110a, 110b)은 공정 테이블(100)에서 영역(R1, R2, R3)별로 다른 높이를 갖도록 형성되어 있다. 즉, 공정 테이블(100)의 중심 영역(R1)에서 둘레 영역(R3)으로 갈수록 리프트 핀들(110a, 110b)의 높이가 일정 길이(d)로 증가한다. 즉, 공정 테이블(100)의 중심 영역(R1)에 위치하는 리프트 핀들(110a)은 높이가 가장 낮게 형성되어 있으며, 공정 테이블(100) 둘레에 위치하는 리프트 핀들(110b)은 가장 높게 형성되어 있다. 이 때, 인접하게 위치하는 두 개의 리프트 핀들(110a, 110b) 간에는 약 2㎜ 정도의 높이 차이(d)를 갖도록 형성할 수 있다.1 and 2, the lift pins 110a and 110b penetrating the process table 100 are uniformly arranged in a lattice structure on the process table 100, and are centered on the process table 100. Are spaced apart from each other at predetermined intervals. The lift pins 110a and 110b are formed to have different heights for the regions R1, R2, and R3 in the process table 100. That is, the height of the lift pins 110a and 110b increases to a predetermined length d from the center region R1 of the process table 100 to the circumferential region R3. That is, the lift pins 110a positioned in the center region R1 of the process table 100 have the lowest height, and the lift pins 110b positioned around the process table 100 have the highest height. . At this time, it may be formed to have a height difference (d) of about 2 mm between two adjacent lift pins (110a, 110b).

다시 도 2를 참조하면, 높이 차(d)를 갖는 리프트 핀들(110a, 110b)이 고정된 리프트 핀 플레이트(120)는 구동부(130)와 연결되어 있어, 구동부(130)에 의해 상승되거나 하강된다. 이에 따라 리프트 핀들(110a, 110b)이 수직 이동하게 된다. 이 때, 구동부(130)로는 에어 실린더(air cylinder), 리이드 스크류, 스텝핑 모 터(stepping motor) 등이 이용될 수 있다. Referring back to FIG. 2, the lift pin plates 120 to which the lift pins 110a and 110b having the height difference d are fixed are connected to the driving unit 130, and are lifted or lowered by the driving unit 130. . Accordingly, the lift pins 110a and 110b move vertically. In this case, an air cylinder, a lead screw, a stepping motor, or the like may be used as the driving unit 130.

이와 같이, 리프트 핀들(110a, 110b) 간에 높이 차(d)를 갖도록 설치하여 대형 기판(G)을 아래로 휘어지게 지지할 수 있다. 그러므로 기판(G)을 공정 테이블(100) 상에 안착시킬 때, 기판(G)의 중심이 가장 먼저 공정 테이블과 접촉되고 난 후, 기판(G)이 중심에서 둘레로 서서히 공정 테이블(100)과 접촉하면서 안착된다. 따라서, 기판(G)의 중심과 둘레가 동일 높이를 가지며 공정 테이블(100)에 안착될 때 보다, 기판(G)과 공정 테이블(100) 간의 공기 마찰 저항이 감소된다. 그러므로 기판(G)이 미끄러져 공정 테이블(100)의 정위치에서 벗어나는 것을 방지할 수 있다. As such, the large substrate G may be bent downward to be installed to have the height difference d between the lift pins 110a and 110b. Therefore, when the substrate G is seated on the process table 100, the center of the substrate G is first contacted with the process table, and then the substrate G is gradually moved from the center to the periphery of the process table 100. It sits in contact. Therefore, the air frictional resistance between the substrate G and the process table 100 is reduced than when the center and the perimeter of the substrate G have the same height and are seated on the process table 100. Therefore, it is possible to prevent the substrate G from slipping out of the process table 100.

이하, 도 2 및 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 제조 장치용 리프트 장치의 동작에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, an operation of a lift apparatus for a flat panel display manufacturing apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

먼저, 도 2에 도시된 바와 같이, 공정 테이블(100)을 관통하고, 리프트 핀들(110a, 110b)들 간에 높이 차(d)를 가지는 리프트 핀들(110a, 110b) 상에 대형 기판(G)을 안착시킨다. 이 때, 리프트 핀들(110a, 110b)은 중심부에서 둘레로 갈수록 높이가 증가하므로 대형 기판(G)의 중심부가 아래로 휘어지게 된다. 이 상태에서 도 3에 도시된 바와 같이, 구동부(130)를 통해 리프트 핀 플레이트(120)를 하강시킨다. 이에 따라 기판(G) 표면이 중심부터 둘레로 서서히 공정 테이블(100)과 접촉된다. 이 때, 공정 테이블(100)의 둘레에 위치하는 리프트 핀들(110a, 110b)이 공정 테이블(100)의 표면 아래로 하강될 때까지 리프트 핀 플레이트(120)를 하강시킨다. 따라서 대형 기판(G)이 공정 테이블(100)의 정위치에 안착되며, 공정 테이 블(100)에 형성되어 있는 진공 홀에 의해 진공으로 흡착되어 고정된다. First, as shown in FIG. 2, a large substrate G is placed on the lift pins 110a and 110b which penetrate the process table 100 and have a height difference d between the lift pins 110a and 110b. Settle down. At this time, since the height of the lift pins 110a and 110b increases from the center to the circumference, the center of the large substrate G is bent downward. In this state, as shown in FIG. 3, the lift pin plate 120 is lowered through the driving unit 130. As a result, the surface of the substrate G is gradually in contact with the process table 100 from the center to the circumference. At this time, the lift pin plate 120 is lowered until the lift pins 110a and 110b positioned around the process table 100 are lowered below the surface of the process table 100. Therefore, the large substrate (G) is seated at the correct position of the process table 100, and is sucked and fixed in a vacuum by the vacuum hole formed in the process table (100).

이 후, 공정 테이블(100) 상부에 설치된 슬릿 노즐(200)을 기판(G) 표면을 따라 이동시켜 기판(G) 표면에 포토레지스트를 코팅한다. Thereafter, the slit nozzle 200 installed on the process table 100 is moved along the surface of the substrate G to coat the photoresist on the surface of the substrate G.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains have various permutations, modifications, and modifications without departing from the spirit or essential features of the present invention. It is to be understood that modifications may be made and other embodiments may be embodied. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

본 발명에 따르면, 대형 기판을 공정 테이블 상에 안착시킬 때 기판의 중심부터 둘레로 서서히 공정 테이블과 접촉하면서 안착된다. 그러므로 기판을 공정 테이블 상에 안착시킬 때 기판과 공정 테이블 간의 공기 마찰 저항이 감소된다. 따라서 기판이 공기 마찰 저항에 의해 미끄러져 공정 테이블의 정위치에서 벗어나는 것을 방지할 수 있다. According to the present invention, when a large substrate is seated on the process table, it is seated while gradually contacting the process table from the center of the substrate. Therefore, the air frictional resistance between the substrate and the process table is reduced when the substrate is seated on the process table. Therefore, it is possible to prevent the substrate from slipping due to the air frictional resistance to move out of the process table.

이에 따라, 기판이 공정 테이블의 정위치에서 벗어나 공정 에러가 발생하는 것을 방지할 수 있다. As a result, it is possible to prevent the substrate from coming off the correct position of the process table and generating a process error.

Claims (5)

기판이 안착되는 공정 테이블;A process table on which the substrate is seated; 상기 공정 테이블을 관통하여 상기 기판을 지지하고, 상기 공정 테이블의 중심에서 둘레로 갈수록 높이가 증가하는 다수의 리프트 핀들;A plurality of lift pins penetrating the process table to support the substrate and increasing in height from the center of the process table to the circumference; 상기 리프트 핀들 하부와 연결된 리프트 핀 플레이트;A lift pin plate connected to the lift pins below; 상기 리프트 핀 플레이트와 연결되어 상기 리프트 플레이트를 상승시키거나 하강시키는 구동부를 포함하는 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치.And a driving part connected to the lift pin plate to raise or lower the lift plate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리프트 핀들은 서로 소정 간격 이격되어 상기 기판을 지지하는 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치.And the lift pins are spaced apart from each other by a predetermined distance to support the substrate. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 리프트 핀들은 상기 기판을 균일하게 지지할 수 있도록 상기 공정 테이블 전면에 격자 형태로 배치된 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치.And the lift pins are disposed in a lattice form on a front surface of the process table to uniformly support the substrate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 공정 테이블의 중심으로부터 동일 반경 상에 위치하는 상기 리프트 핀들은 동일한 높이를 갖는 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치.The lift pins positioned on the same radius from the center of the process table have the same height. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 리프트 핀들은 근접한 위치의 리프트 핀들 간에 약 2.0 ~ 3.0㎜의 높이차를 갖는 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치.The lift pins have a height difference of about 2.0 to 3.0 mm between lift pins in adjacent positions.
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JP2019152813A (en) * 2018-03-06 2019-09-12 株式会社ジャパンディスプレイ Manufacturing method and manufacturing device for display

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