KR20130086232A - Method of producing glass substrate for electronic device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 1장의 유리 모재로 다수의 전자 장치용 유리 기판을 효율적으로 제조할 수 있는 제조방법을 제공한다.
복수의 사용영역으로 구분되어 있는 유리 기판에 있어서, 그 앞뒷면의 한쪽 또는 쌍방에 박막층을 형성하는 제1 공정(ST2); 제1 공정을 마친 유리 기판을 내포하도록 유리 기판 전체를 보호 필름으로 덮는 제2 공정(ST4); 보호 필름으로 덮인 상태로 유리 기판을 보호 필름과 함께 복수의 사용영역마다 기계적으로 절단하여 분리하는 제3 공정(ST5~ST6); 절단에 의해 분리된 각각의 유리 기판으로부터 보호 필름을 박리하는 제4 공정(ST7); 및 보호 필름을 박리한 유리 기판에 대하여 그 앞뒷면의 한쪽 또는 쌍방에 시트재를 접착하는 제5 공정(ST8);을 가지고 구성된다. This invention provides the manufacturing method which can manufacture many glass substrates for electronic devices efficiently with one glass base material.
A glass substrate divided into a plurality of use areas, comprising: a first step (ST2) of forming a thin film layer on one or both of front and back surfaces thereof; A second step (ST4) of covering the entire glass substrate with a protective film to contain the glass substrate having finished the first step; A third step (ST5 to ST6) of mechanically cutting and separating the glass substrate together with the protective film for each of the plurality of use areas in a state covered with the protective film; 4th process (ST7) which peels a protective film from each glass substrate isolate | separated by cutting | disconnection; And 5th process (ST8) which adhere | attaches a sheet | seat material with respect to the glass substrate which peeled the protective film on the one or both of the front and back surface.
Description
본 발명은 커버 유리나 터치 패널을 가지는 전자 장치에 관한 것으로, 특히 1장의 유리 모재(母材)로 다수의 완성 유리 기판을 효율적으로 제조할 수 있는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to an electronic device having a cover glass or a touch panel, and more particularly to a method for manufacturing a glass substrate for an electronic device, which can efficiently manufacture a large number of finished glass substrates with one glass base material.
휴대 전화기, 휴대 음악 플레이어, 휴대형 컴퓨터 등, 휴대 가능한 소형 컴퓨터 장치가 널리 보급되고 있다. 그리고 이 표시 장치들을 덮는 커버 유리는 단순히 전자 장치를 보호하는 용도에 한정되지 않고, 터치 패널로서 부가 기능을 발휘하는 경우도 많다. Portable small computer devices, such as a mobile telephone, a portable music player, and a portable computer, are widely used. And the cover glass which covers these display devices is not only limited to the use which protects an electronic device, but also exhibits additional functions as a touch panel in many cases.
한편, 이러한 휴대용 전자 장치들에서는 소형화의 요청뿐만 아니라 그 경량화의 요청이 강하고, 또한 심한 가격 경쟁에도 노출되어 있다. On the other hand, in such portable electronic devices, not only the request for miniaturization but also the weight reduction are strong, and they are also exposed to severe price competition.
이러한 상황 하, 커버 유리나 터치 패널을 제조하기 위해서는 1장의 유리 모재에서 다수의 완성 유리 기판을 잘라내는 방법을 생각할 수 있다. 여기서 화학 연마에 의해 유리 기판을 잘라내는 방법도 생각할 수 있지만, 제조 비용을 억제하기 위해서는 기계적으로 절단하여 분리하는 쪽이 유리하다. Under such a situation, in order to manufacture a cover glass or a touch panel, the method of cutting many completed glass substrates from one glass base material can be considered. Although the method of cutting out a glass substrate by chemical polishing can also be considered here, in order to suppress manufacturing cost, it is more advantageous to cut mechanically and isolate.
그러나 기계적인 절단 분리법을 채용하면, 아무리 주의하더라도 유리 절단 단면(端面)에서 유리 컬릿(glass cullet; 유리 조각)이 비산되는 것을 피할 수 없다는 문제가 있다. However, if a mechanical cut separation method is adopted, there is a problem that no matter how careful, glass cullets can be scattered in the cut glass surface.
그리고 비산된 컬릿이 일단 유리 기판에 부착되면 세정 공정에서 용이하게 제거할 수 없으므로, 그 후 유리 표면에 시트재를 접착할 경우에는 부착된 컬릿을 수작업으로 제거해야 하는 번잡함이 있다. 게다가 컬릿을 제거하기 위해 스크라이버(scriber) 등을 사용하면, 유리 표면에 형성되어 있는 도전막 등을 훼손시킬 우려도 있다. And once the scattered cullet is adhered to the glass substrate, it cannot be easily removed in the cleaning process. Therefore, when the sheet material is adhered to the glass surface, there is a complicated trouble of manually removing the attached cullet. In addition, when a scriber or the like is used to remove the cullet, there is a possibility that the conductive film or the like formed on the glass surface is damaged.
본 발명은 상기의 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 1장의 유리 모재로 다수의 완성 유리 기판을 효율적으로 제조할 수 있는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. This invention is made | formed in view of said problem, and an object of this invention is to provide the manufacturing method of the glass substrate for electronic devices which can manufacture a large number of completed glass substrates with one glass base material efficiently.
상기의 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 전자 장치용 유리 기판의 제조방법은 복수의 사용영역으로 구분되어 있는 유리 기판에 대하여, 그 앞뒷면의 한쪽 또는 쌍방에 박막층을 형성하는 제1 공정; 제1 공정을 마친 유리 기판을 내포하도록 유리 기판 전체를 보호 필름으로 덮는 제2 공정; 상기 보호 필름으로 덮인 상태로 상기 유리 기판을 보호 필름과 함께 복수의 사용영역마다 기계적으로 절단하여 분리하는 제3 공정; 절단되어 분리된 각각의 유리 기판으로부터 보호 필름을 박리하는 제4 공정; 및 보호 필름을 박리한 유리 기판에 대하여 그 앞뒷면의 한쪽 또는 쌍방에 시트재를 접착하는 제5 공정;을 가지고 구성된다. In order to achieve the above object, a method for manufacturing a glass substrate for an electronic device according to the present invention comprises: a first step of forming a thin film layer on one or both of front and back surfaces of a glass substrate divided into a plurality of use regions; A second step of covering the entire glass substrate with a protective film to contain the glass substrate having finished the first step; A third step of mechanically cutting and separating the glass substrate together with the protective film for each of the plurality of use areas while being covered with the protective film; A fourth step of peeling off the protective film from each of the cut and separated glass substrates; And a fifth step of adhering the sheet material to one or both of the front and back surfaces thereof with respect to the glass substrate from which the protective film has been peeled off.
박막층으로는 바람직하게는 도전막을 예시할 수 있고, 제1 공정을 마친 유리 기판은 전광선 투과율이 80% 이상인 투광성을 가지는 것이 바람직하다. 여기서 도전막은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 도전성 폴리머를 도포하여 형성된다. 그리고 바람직하게는 도포면의 단위면적[㎠]당 300Ω~3000MΩ의 저항률을 발휘하도록 구성해야 한다. 또한 제1공정을 마친 유리 기판의 표면 연필 경도는 B~6H이어야 한다. 한편 저항률이 낮을수록 경도가 낮고, 저항률이 높을수록 경도가 높다. As a thin film layer, Preferably a conductive film can be illustrated, It is preferable that the glass substrate which completed the 1st process has a light transmittance whose total light transmittance is 80% or more. Although a conductive film is not specifically limited here, Preferably it forms by apply | coating a conductive polymer. And preferably it should be configured to exhibit a resistivity of 300Ω ~ 3000MΩ per unit area [cm2] of the coated surface. In addition, the surface pencil hardness of the glass substrate which completed the 1st process should be B-6H. On the other hand, the lower the resistivity, the lower the hardness, and the higher the resistivity, the higher the hardness.
여기서, 도전성 폴리머를 유리 기판에 도포하더라도 유리 기판의 평탄도가 높으면 충분한 접착 강도를 발휘할 수 없다. 그러므로 바람직하게는 제1 공정에 선행하여, 박막층을 마련하는 유리 기판의 표면을 조면화(粗面化)하는 표면 처리를 실행해야 한다. 표면 처리로는 유리 표면에 에칭액을 접촉시키는 것이 바람직하고, 유리 기판의 필요 부위를 밀봉(sealing)한 상태로 유리 기판을 에칭액에 침지하는 것이 간편하다. Here, even if the conductive polymer is applied to the glass substrate, if the flatness of the glass substrate is high, sufficient adhesive strength cannot be exhibited. Therefore, it is preferable to perform the surface treatment which roughens the surface of the glass substrate which provides a thin film layer preferably before a 1st process. It is preferable to make an etching liquid contact a glass surface as surface treatment, and it is easy to immerse a glass substrate in etching liquid in the state which sealed the required site | part of a glass substrate.
도전성의 박막층을 형성할 경우에는 전자 장치를 보호하는 대전 방지 용도의 관점에서, 유리 기판의 앞뒷면 쌍방에 형성하는 것을 생각할 수 있다. 그러나 제조 비용을 고려하면, 사용자에게 노출되는 한쪽면에 만 형성하는 것이 바람직하다. When forming an electroconductive thin film layer, it can be considered to provide in the front and back surfaces of a glass substrate from a viewpoint of the antistatic use which protects an electronic device. However, considering the manufacturing cost, it is preferable to form only on one side exposed to the user.
본 발명의 제2공정에서는 유리 기판 전체가 보호 필름으로 덮이는데, 단순히 덮을 뿐만 아니라 유리 기판 전면(全面)에 보호 필름을 점착시키는 것이 바람직하다. 이러한 구성을 채용하면, 그 후의 제3 공정에서 유리 기판을 기계적으로 절단하더라도 유리 컬릿이 유리 기판에 부착되는 일이 없으며, 제4 공정에서 보호 필름을 박리하는 것만으로 유리 컬릿을 보호 필름과 함께 제거할 수 있다. In the 2nd process of this invention, although the whole glass substrate is covered with a protective film, it is preferable not only to cover but to stick a protective film on the whole glass substrate whole surface. By adopting such a configuration, the glass cullet does not adhere to the glass substrate even if the glass substrate is mechanically cut in the subsequent third process, and the glass cullet is removed together with the protective film by simply peeling off the protective film in the fourth process. can do.
보호 필름과 유리 기판(정확하게는 유리 기판의 박막층)의 접착 강도는 최적으로 설정할 필요가 있는데, 본 발명자의 검토에 따르면, 보호 필름의 접착 면적 25mm×25mm에서의 180° 방향으로의 박리 시험(박리 속도 300mm/min)의 경우 보호 필름의 접착력을 1.5~3.5[N]으로 설정해야 하는 것이 판명되었다. Although the adhesive strength of a protective film and a glass substrate (exactly a thin film layer of a glass substrate) needs to be set optimally, according to the inventor's examination, the peeling test (peeling) in the 180 degree direction in 25 mm x 25 mm of adhesion areas of a protective film Speed 300 mm / min), it was found that the adhesive force of the protective film should be set to 1.5 to 3.5 [N].
여기서, 접착력이 너무 강하면 제4공정의 보호 필름 박리시에 유리 기판의 박막층이 벗겨져 버리고, 한편 접착력이 너무 약하면 제3 공정의 유리 기판 절단 분리시에 보호 필름이 벗겨짐으로써 유리 컬릿 등이 유리 기판에 부착되어 버린다. Here, if the adhesive force is too strong, the thin film layer of the glass substrate is peeled off at the time of peeling off the protective film of the fourth step, while if the adhesive force is too weak, the protective film is peeled off during the glass substrate cutting separation of the third step, such that the glass cullet or the like is applied to the glass substrate. It is attached.
또한 제3 공정에서는 보호 필름과 유리 기판을 한 번에 절단할 필요가 있으므로, 보호 필름의 필름 두께는 10~50㎛ 범위로 설정해야 한다. 또한 제3 공정에서는 로터리 커터(rotary cutter)의 커터날을 회전시켜서 유리 표면을 주사하여, 보호 필름과 유리 기판을 절단하는 것이 바람직하다. 커터날의 접촉 압력은 제3 공정에서 사용하는 절단 장치의 내부 기구에 기초하여 일정 압력으로 유지되어야 하며, 이 일정 압력은 7N~10N 범위 내의 최적값으로 설정된다. In addition, since it is necessary to cut | disconnect a protective film and a glass substrate at once in a 3rd process, the film thickness of a protective film should be set to 10-50 micrometers. Moreover, in a 3rd process, it is preferable to rotate a cutter blade of a rotary cutter, and to scan a glass surface, and to cut a protective film and a glass substrate. The contact pressure of the cutter blade must be maintained at a constant pressure based on the internal mechanism of the cutting device used in the third process, and this constant pressure is set to an optimum value within the range of 7N to 10N.
결국, 7N~10N 정도의 압력으로 유리 기판과 보호 필름을 용이하게 절단할 수 있도록 보호 필름의 필름 두께를 10~50㎛로 하고, 유리 기판의 판 두께를 1.0mm이하로 하는 것이 바람직하다. As a result, it is preferable that the film thickness of a protective film shall be 10-50 micrometers, and the plate | board thickness of a glass substrate may be 1.0 mm or less so that a glass substrate and a protective film can be easily cut | disconnected at the pressure of about 7N-10N.
유리 기판은 단판(單板)에 의한 유리 기판이어도 되고, 2장의 유리 기판을 접합한 접합 기판이어도 된다. 후자의 예로는 표시 장치를 구성하는 유리 기판을 예시할 수 있고, 바람직하게는 액정 디스플레이용 접합 유리 기판이 이에 해당된다. The glass substrate by a single plate may be sufficient as a glass substrate, and the bonding substrate which bonded two glass substrates may be sufficient as it. Examples of the latter may exemplify a glass substrate constituting the display device, and preferably, a laminated glass substrate for a liquid crystal display corresponds thereto.
그리고 액정 디스플레이용 유리 기판을 제조할 경우에는 제5 공정에서 2장의 유리 기판의 각 표면에 각각 편광 시트재가 접착된다. 본 발명에서는 제4 공정에서 보호 필름을 박리하면 자동적으로 유리 컬릿이 제거되므로, 제4 공정에 연속해서 제5공정을 마련할 수 있다. And when manufacturing the glass substrate for liquid crystal displays, a polarizing sheet material is adhere | attached on each surface of two glass substrates in a 5th process, respectively. In this invention, since a glass cullet is automatically removed when peeling a protective film in a 4th process, a 5th process can be provided continuously to a 4th process.
한편, 제4 공정에 선행하여 세정 공정을 마련해도 되는데, 세정액에 침지하는 습식 세정은 불필요하며, 이온 블로어(ion blower) 또는 초음파 세정에 의한 건식 세정 공정을 마련하는 것으로 충분하다. 이와 같이 본 발명에서는 습식 세정을 마련하지 않으므로 건조 공정이 불필요해져, 건조 공정에서의 처리 시간 낭비나 건조 처리에서의 박막층의 열화를 해소할 수 있다. In addition, although the washing | cleaning process may be provided prior to a 4th process, the wet washing | cleaning which is immersed in a washing | cleaning liquid is unnecessary, and it is sufficient to provide the dry washing process by an ion blower or ultrasonic cleaning. As described above, in the present invention, the wet cleaning is not provided, so that the drying step is unnecessary, and the waste of processing time in the drying step and deterioration of the thin film layer in the drying process can be eliminated.
이상 설명한 본 발명의 전자 장치용 유리 기판의 제조방법에 의하면, 1장의 유리 모재로 다수의 완성 유리 기판을 효율적으로 제조할 수 있다. According to the manufacturing method of the glass substrate for electronic devices of this invention demonstrated above, many completed glass substrates can be manufactured efficiently with one glass base material.
도 1은 실시예에 따른 제조방법을 설명하는 플로우차트이다.
도 2는 도 1의 제조방법을 설명하는 도면이다. 1 is a flowchart illustrating a manufacturing method according to an embodiment.
2 is a view for explaining the manufacturing method of FIG.
이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 상세하게 설명한다. 도 1은 실시예에 따른 전자 장치용 유리 기판의 제조방법을 설명하는 플로우 도면이다. 이 실시예에서 라미네이트 가공을 마친 유리 기판은 포장되어 다른 가공 공장에 이송되고, 유리 기판으로는 액정 디스플레이를 구성하는 접합 유리 기판을 예시하지만, 어느 것도 특별히 한정되지는 않는다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail based on an Example. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a flow chart explaining the manufacturing method of the glass substrate for electronic devices which concerns on an Example. In this embodiment, the glass substrate after lamination processing is packaged and transferred to another processing plant, and although the laminated glass substrate which comprises a liquid crystal display is illustrated as a glass substrate, neither is specifically limited.
이하, 도 1에 기초하여 설명하면, 본 실시예에서는 유리 모재(GL)를 가공하여 N×M개의 액정 디스플레이가 제조된다. 즉, 가공 대상의 유리 모재(GL)는 액정 디스플레이의 표시 셀(CEL…CEL)이 종횡(縱橫)으로 형성된 접합 유리 기판(GL)이다. 이 접합 유리 기판(GL)은 내면측에 컬러 필터를 마련한 제1기판(G1)과, 내면측에 트랜지스터 어레이가 배치된 제2기판(G2) 사이에 액정이 봉입되어 N×M개의 표시 셀(CEL)이 구성되어 있다. Hereinafter, if it demonstrates based on FIG. 1, in this Example, a glass base material GL is processed and NxM liquid crystal display is manufactured. That is, the glass base material GL of a process target is the laminated glass substrate GL in which the display cell CEL ... CEL of a liquid crystal display was formed in the vertical and horizontal direction. The laminated glass substrate GL has liquid crystals encapsulated between a first substrate G1 having a color filter provided on an inner surface side thereof and a second substrate G2 on which an array of transistors is arranged on an inner surface side thereof. CEL) is configured.
접합 유리 기판(GL)은 제1기판(G1)과 제2기판(G2)의 둘레 가장자리를 밀봉한 상태로 에칭액에 침지되어 그 유리 표면이 화학 연마된다. 그 결과, 유리 표면이 적당히 조면화된다(ST1). 또한 이 화학 연마 처리(ST1)에 의해 접합 유리 기판(GL)을 적당히 박형화할 수 있다. 도포 처리(ST2)에 제공되는 접합 유리 기판(GL)의 판 두께는 바람직하게는 1.0mm 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5~0.7mm 정도이다. The laminated glass substrate GL is immersed in an etchant in a state where the peripheral edges of the first substrate G1 and the second substrate G2 are sealed, and the glass surface thereof is chemically polished. As a result, the glass surface is appropriately roughened (ST1). Moreover, the laminated glass substrate GL can be appropriately thinned by this chemical polishing process ST1. Preferably the plate | board thickness of the laminated glass substrate GL provided to coating process ST2 is 1.0 mm or less, More preferably, it is about 0.5-0.7 mm.
다음으로 유리 기판(GL)의 세정과 밀봉재의 제거 처리를 마친 접합 유리 기판(GL)에 대하여, 슬릿 코터를 사용해서 제1 유리 기판(G1)의 표면에 도전성 폴리머(LAY)를 도포한다(ST2:도 2(a) 참조). 이 실시예에서는 폴리티오펜계 도전성 폴리머가 사용되고, 건식 건조 처리(ST3)를 거친 건조 상태에서 유리 기판(G1)의 전광선 투과율이 80% 이상인 투광성을 가지도록 설정되어 있다. 또한 도포면의 단위면적[㎠]당, 용도에 따라서 300Ω~3000MΩ 범위의 최적의 저항률로 설정된다. 또한 건조 상태의 유리 기판(G1)의 표면 연필 경도는 저항률에 대응하여 B~6H 정도가 되도록 설정되어 있다. Next, the conductive polymer LAY is applied to the surface of the first glass substrate G1 using the slit coater to the laminated glass substrate GL which has been cleaned of the glass substrate GL and the removal of the sealing material (ST2). : See FIG. 2 (a)). In this embodiment, a polythiophene-based conductive polymer is used, and is set so as to have a light transmittance of 80% or more in the total light transmittance of the glass substrate G1 in the dry state subjected to the dry drying process (ST3). In addition, per unit area [cm 2] of the coated surface, the optimum resistivity in the range of 300? Moreover, the surface pencil hardness of the glass substrate G1 of a dry state is set so that it may become about B-6H corresponding to resistivity.
이어서 접합 유리 기판(GL)을 한 쌍의 보호 필름(Fi1, Fi2)을 접착하여 덮는 라미네이트 가공을 실시한다(ST4). 한편, 건식 세정 처리(ST3)와 라미네이트 가공 처리(ST4)는 클린 룸(clean room)에서 실시되는 것이 바람직하다. 보호 필름의 소재는 특별히 한정되지 않지만, 이 실시예에서는 폴리에스테르 필름에 아크릴계 점착제가 도포된 것이 접합 유리 기판(GL)의 앞뒷면에 각각 접착된다. Subsequently, lamination processing is performed on the laminated glass substrate GL by adhering a pair of protective films Fi1 and Fi2 to be covered (ST4). On the other hand, it is preferable that dry cleaning process ST3 and the lamination process ST4 are performed in a clean room. Although the raw material of a protective film is not specifically limited, In this Example, what apply | coated the acrylic adhesive to the polyester film is adhere | attached on the front and back surface of the laminated glass substrate GL, respectively.
여기서 보호 필름과 유리 기판의 접착력이 문제가 되는데, 너무 강해도 문제이고 너무 약해도 문제이며, 최적의 접착력이 되는 점착층이 형성된다. 구체적으로는 보호 필름(Fi1)이 유리 기판(G1)에 점착된 상태로, 보호 필름(Fi1)의 접착 면적 25mm×25mm에서의 180° 방향으로의 박리 시험(박리 속도 300mm/min)에 있어서, 보호 필름의 접착력이 1.5~3.5[N/25mm] 범위로 설정되어 있다. Although the adhesive force of a protective film and a glass substrate becomes a problem here, it is a problem even if it is too strong and too weak, and the adhesion layer which becomes an optimal adhesive force is formed. Specifically, in the peeling test (peel rate 300 mm / min) in the 180 degree direction in the adhesion area of 25 mm x 25 mm of the protective film Fi1 in the state which stuck the protective film Fi1 to the glass substrate G1, The adhesive force of a protective film is set in the range of 1.5-3.5 [N / 25mm].
또한 보호 필름(Fi1, Fi2)의 막 두께는 작업성이나 방습성(防濕性)을 해하지 않는 범위에서 얇을수록 바람직한데, 구체적으로는 50㎛ 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 막 두께 10~50㎛의 필름재가 사용된다. 한편, 10㎛ 미만이면 접착 작업이 곤란하다. The film thicknesses of the protective films Fi1 and Fi2 are preferably as thin as possible in a range that does not impair workability or moisture resistance. Specifically, the thickness of the protective films Fi1 and Fi2 is preferably 50 μm or less, and more preferably 10 to 50 film thickness. A film material of 탆 is used. On the other hand, when it is less than 10 micrometers, a bonding operation is difficult.
결국, 접착 작업(ST4)이 끝나면, 라미네이트 가공을 마친 복수장의 접합 유리 기판을 포장하여 다른 가공 공장으로 출하할 수 있다. 즉, 본 실시예에 의하면, 흠집이 나기 쉬운 도전막이 확실하게 보호되므로 동일 공장에서 모든 가공 처리를 끝낼 필요가 없어져, 이러한 점도 큰 이점이 된다. 한편, 동일 공장에서의 일관 작업이 부정되는 것은 물론 아니다. As a result, after the bonding work ST4 is finished, a plurality of laminated glass substrates having been laminated can be packaged and shipped to other processing plants. That is, according to this embodiment, since the electrically conductive film which is easy to be damaged is reliably protected, it is not necessary to complete | finish all the processing processes in the same factory, and such a point also becomes a big advantage. On the other hand, the assembly work in the same factory is not denied, of course.
이 점에 입각하여 여기서는 포장 및 출하 공정을 거치는 것을 전제로 설명하는데, 입하 작업을 마친 다른 가공 공장에서는 라미네이트 가공을 마친 복수장의 접합 유리 기판(GL, …, GL)을 꺼내, 각각의 접합 유리 기판(GL)에 대하여 그 표면측과 이면측에 스크라이브 라인을 형성하여 각각의 표시 셀 영역(CEL)을 잘라낸다(ST5~ST6). 도 2(b)는 종횡으로 형성된 스크라이브 라인(CUT)을 도시한 것이며, 제1 면에 제1 스크라이브 라인을 형성한 후 제2 면의 대응 위치에 제2 스크라이브 라인을 형성함으로써, 접합 유리 기판(GL)이 보호 필름(Fi1, Fi2)과 함께 절단된다. Based on this point, a description will be given here on the premise of the packaging and shipping process. In the other processing plants that have finished the work, the laminated glass substrates (GL, ..., GL) having been laminated are taken out, and each laminated glass substrate is removed. A scribe line is formed on the front side and the back side of the GL to cut out each display cell region CEL (ST5 to ST6). FIG. 2B illustrates a scribe line (CUT) formed vertically and horizontally, and after forming the first scribe line on the first surface, the second scribe line is formed on the corresponding position of the second surface to form a laminated glass substrate ( GL) is cut together with the protective films Fi1, Fi2.
한편, 본 실시예에서는 유리 기판(GL)의 판 두께가 1.0mm 이하이고, 보호 필름(Fi1, Fi2)의 막 두께가 50㎛ 이하이므로, 로터리 커터의 커터날을 8N 정도의 압력으로 보호 필름(Fi)에 대고 눌러서 주사시킴으로써 각각의 표시 셀 영역(CEL)을 잘라낼 수 있다. On the other hand, in this embodiment, since the plate | board thickness of glass substrate GL is 1.0 mm or less, and the film thickness of protective films Fi1 and Fi2 is 50 micrometers or less, the cutter blade of a rotary cutter is made into a protective film (with a pressure of about 8N). Each display cell area CEL can be cut out by pressing and scanning against Fi).
이렇게 해서 절단하여 분리하는 처리가 끝나면 이온 블로어 처리를 실행한다(ST7). 여기서, 이온 블로어 처리는 워크(CEL)(잘린 각각의 접합 유리 기판)에 이온을 분사함으로써 보호 필름에 대전되어 있을지도 모르는 정전기를 제전(除電)하는 동시에, 먼지 등의 이물을 제거하는 처리이다. 한편, 절단하여 분리하는 처리로 만일 유리 컬릿이 발생하여 이것이 잔존하였다고 해도, 유리 컬릿은 보호 필름에 부착되어 있는 것에 불과하므로 아무런 문제도 생기지 않는다. In this way, when the process of cutting and separating is completed, an ion blower process is performed (ST7). Here, an ion blower process is a process which removes foreign substances, such as dust, while static electricity which may be charged to the protective film by spraying ion to the workpiece | work CEL (each cut | bonded laminated glass substrate). On the other hand, even if the glass cullet is generated by the cutting and separating treatment, and this remains, the glass cullet is only attached to the protective film, and thus no problem occurs.
이온 블로어 처리가 끝나면, 이어서 보호 필름(Fi1, Fi2)을 박리한다(ST8). 이 박리 처리는 인위적으로 실행되는데, 보호 필름(Fi1)의 접착 강도가 적당히 설정되어 있으므로 특별히 작업하는데 어려움은 없다. After the ion blower treatment is completed, the protective films Fi1 and Fi2 are subsequently peeled off (ST8). Although this peeling process is performed artificially, since the adhesive strength of the protective film Fi1 is set suitably, there is no difficulty in especially working.
그리고 마지막으로 워크(CEL)의 앞뒷면에 편광 시트를 각각 접착하면 액정 디스플레이가 완성된다(ST9). Finally, when the polarizing sheets are adhered to the front and back surfaces of the workpiece CEL, the liquid crystal display is completed (ST9).
이상, 본 발명의 하나의 실시예에 대하여 구체적으로 설명했지만, 구체적인 기재 내용은 본 발명을 특별히 한정하지는 않는다. As mentioned above, although one Example of this invention was described concretely, the specific content of description does not specifically limit this invention.
ST2 제1 공정
ST4 제2 공정
ST5~ST6 제3 공정
ST8 제4 공정
ST9 제5 공정 ST2 first process
ST4 second process
ST5 ~ ST6 third process
ST8 fourth process
ST9 fifth process
Claims (11)
제1 공정을 마친 유리 기판을 내포하도록 유리 기판 전체를 보호 필름으로 덮는 제2 공정;
상기 보호 필름으로 덮인 상태로 상기 유리 기판을 보호 필름과 함께 복수의 사용영역마다 기계적으로 절단하여 분리하는 제3 공정;
절단에 의해 분리된 각각의 유리 기판으로부터 보호 필름을 박리하는 제4 공정; 및
보호 필름을 박리한 유리 기판에 대하여 앞뒷면의 한쪽 또는 쌍방에 시트재를 접착하는 제5 공정;을 포함하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법. A glass substrate divided into a plurality of use areas, comprising: a first step of forming a thin film layer on one or both of front and back surfaces;
A second step of covering the entire glass substrate with a protective film to contain the glass substrate having finished the first step;
A third step of mechanically cutting and separating the glass substrate together with the protective film for each of the plurality of use areas while being covered with the protective film;
A fourth step of peeling off the protective film from each glass substrate separated by cutting; And
And a fifth step of adhering the sheet material to one or both of the front and back surfaces with respect to the glass substrate on which the protective film has been peeled off.
상기 제1 공정을 실행하기 전에, 박막층이 형성되는 유리 기판의 표면에 에칭액을 접촉시키는 표면 처리를 실행하는 것을 특징으로 하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법.The method of claim 1,
Before performing the said 1st process, the surface treatment which makes an etching liquid contact the surface of the glass substrate in which a thin film layer is formed is performed, The manufacturing method of the glass substrate for electronic devices characterized by the above-mentioned.
상기 제1 공정에서, 도전성 박막층이 유리 기판의 앞뒷면 중 한쪽면에 형성되는 것을 특징으로 하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법.The method according to claim 1 or 2,
In the first step, the conductive thin film layer is formed on one side of the front and back of the glass substrate, the manufacturing method of the glass substrate for an electronic device.
상기 박막층은 도전성 폴리머 용액을 도포하여 형성되며, 300Ω~3000MΩ/□의 저항률을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법.The method of claim 3,
The thin film layer is formed by coating a conductive polymer solution, and has a resistivity of 300 Ω to 3000 MΩ / □.
상기 제1 공정을 마친 유리 기판의 표면 연필 경도는 B~6H인 것을 특징으로 하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The surface pencil hardness of the glass substrate which finished the said 1st process is B-6H, The manufacturing method of the glass substrate for electronic devices characterized by the above-mentioned.
상기 제2 공정에서, 보호 필름이 유리 기판에 점착되는 것을 특징으로 하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
In the second step, the protective film is adhered to the glass substrate, the manufacturing method of the glass substrate for an electronic device.
보호 필름이 유리 기판에 점착된 상태로, 보호 필름의 접착 면적 25mm×25mm에서 180° 방향으로 박리 시험(박리 속도 300mm/min)을 한 경우, 보호 필름의 접착력이 1.5~3.5[N]인 것을 특징으로 하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법.The method of claim 5,
When the peeling test (peel speed 300mm / min) was performed in the direction of 180 ° from the adhesive area of 25 mm × 25 mm in the state where the protective film was stuck to the glass substrate, the adhesive force of the protective film was 1.5 to 3.5 [N]. The manufacturing method of the glass substrate for electronic devices characterized by the above-mentioned.
보호 필름은, 필름 두께가 10~50㎛인 것을 특징으로 하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법.8. The method according to any one of claims 1 to 7,
The protective film is 10-50 micrometers in film thickness, The manufacturing method of the glass substrate for electronic devices characterized by the above-mentioned.
유리 기판은 그 판 두께가 1.0mm 이하인 것을 특징으로 하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법.The method according to any one of claims 1 to 8,
The glass substrate has a plate | board thickness of 1.0 mm or less, The manufacturing method of the glass substrate for electronic devices characterized by the above-mentioned.
유리 기판은 2장의 유리 기판을 접합하여 이루어진 액정 유리 기판이고, 상기 시트재는 편광 필름재로서 2장의 유리 기판 표면에 각각 접착되는 것을 특징으로 하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법.10. The method according to any one of claims 1 to 9,
A glass substrate is a liquid crystal glass substrate formed by joining two glass substrates, and the sheet material is bonded to two glass substrate surfaces as a polarizing film material, respectively.
상기 제3 공정을 마친 유리 기판은, 이온 블로어 또는 초음파 세정에 의한 건식 세정 공정을 거쳐 상기 제4 공정에 공급되는 것을 특징으로 하는 전자 장치용 유리 기판의 제조방법.11. The method according to any one of claims 1 to 10,
The glass substrate which completed the said 3rd process is supplied to the said 4th process through the dry cleaning process by an ion blower or ultrasonic cleaning, The manufacturing method of the glass substrate for electronic devices characterized by the above-mentioned.
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