KR20130077907A - 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일측면인 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판의 제조방법은 소지강판을 준비하는 단계, 상기 준비된 소지강판 상에, Fe, Ni 및 Co중 1종 또는 2종 이상을 0.2~3 g/㎡의 부착량으로 도금하는 제 1도금단계; 상기 제 1도금된 강판을, 이슬점온도 -30~10℃, H2: 2~20 vol% 및 잔부 N2 분위기에서, 2℃/s 이상의 가열속도로 가열하는 단계, 상기 가열된 강판을 유지하는 단계, 상기 유지된 강판을 냉각하는 단계 및 상기 냉각된 강판을 용융아연도금욕에 침지하여 도금하는 제 2도금단계를 포함할 수 있다. 또한, 본 발명의 다른 일측면인 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판은 소지강판; 상기 소지강판 상에 형성된 Fe, Ni 및 Co중 1종 또는 2종 이상을 포함하는 제 1도금층; 및 상기 제 1도금층 상에 형성된 Zn을 포함하는 제 2도금층을 포함하며, 상기 제 1도금층과 제 2도금층의 계면에서 SiO2 및 Al2O3 중 1종 또는 2종의 총량은 0.01g/㎡ 이하이며, 상기 제 1도금층과 용융아연도금층의 계면으로부터 상기 소지강판 방향으로 1㎛ 이내에 Si산화물, Mn산화물, Al산화물 및 이들의 복합산화물 중 1종 또는 2종 이상이 불연속적으로 분산되어 포함될 수 있다.
Description
본 발명은 자동차, 가전제품 및 건축자재 등에 사용되는 용융아연도금강판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
용융도금강판은 내식성이 우수하여 건축자재, 구조물, 가전제품 및 자동차 차체 등에 널리 사용되고 있다. 최근에 가장 많이 사용되고 있는 용융도금강판은 용융아연도금강판(이하 GI강판)과 합금화 용융아연도금강판(이하 GA강판)으로 나눌 수 있다. 또한, 최근 자동차용 강판으로 사용되는 강판은 충돌안정성 및 연비향상을 위해 고강도화가 꾸준히 진행되고 있다. 그러나 강도를 높일 경우 상대적으로 연성이 떨어지기 때문에, 이러한 연성을 향상시킬 수 있는 방법에 관한 연구가 진행되고 있다.
이러한 기술로서, 최근들어 개발된 강종으로는 강중에 Mn, Si 및/또는 Al을 첨가한 Dual Phase(Ferrite and Martensite Phase, 이하, DP)강, Complex Phase(Ferrite, Martensite and Precipitate Phase, 이하 CP)강, TRIP(Transformation Induced Plasticity)강 등이 있다. 이와 같이 강중에 Mn, Si 및/또는 Al첨가할 경우 강도향상과 더불어 연성을 높인 강판을 제조할 수가 있다.
통상 용융아연도금강판을 제조하는 공정은 냉간압연강판(일명 Full hard강판)을 전처리 공정에서 표면의 유분 및 이물질을 제거하기 위한 탈지를 실시한 후 소둔공정에서 강판을 소정의 온도로 가열하여 소둔을 실시하고 적절한 온도로 냉각한 후 용융아연 도금욕에 침지하여 강판에 아연을 부착시킨 후 에어 나이프(Air-Knife)로 도금 부착량을 제어하고 최종적으로 상온까지 냉각하여 제조된다.
통상 용융도금공정에서는, 강판의 소둔과정에서 소둔로 분위기는 환원성 분위기 상태에서 이슬점(Dew Point)을 -30℃ 이하로 낮게 하기 때문에 철은 산화되지 않는다. 그러나 강중에 산화하기 쉬운 Si, Mn, Al이 포함된 강판은 소둔로 중에 존재하는 미량의 산소 혹은 수증기와 반응하여 강판 표면에 Si, Mn 또는 Al 단독 혹은 복합산화물을 형성하므로서 아연의 젖음성을 방해하여 도금강판 표면에 국부적 혹은 전체적으로 아연이 부착되지 않은 일명 미도금이 발생하여 도금강판 표면품질을 크게 떨어뜨리게 된다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여 여러 기술이 제안되었으며, 대표적인 예로서, 특허문헌 1이 제안되었다. 그러나, 상기 특허문헌 1은 환원소둔동안에 Si, Mn등 산화성 성분이 표면까지 확산하는 것을 억제하기 위해서는 상기 특허문헌 1의 실시예에서와 같이 선도금 부착량을 10g/㎡만큼 두껍게 하여야 한다. 이 경우 두꺼운 선 도금층을 형성하기 위한 전기도금설비가 커지고 이로 인한 비용 증가가 수반되는 문제가 있다.
그리고, 강 내부에 존재하는 Si, Mn, Al이 표면으로 확산하는 것을 억제하는 방법으로 특허문헌 2가 제안되었으나, 소둔 가열 초기 내부산화물이 형성되기 전 표면 및 표면 직하에 있는 Si, Mn, Al이 표면에서 산화되는 것을 막을 수는 없기 때문에 소둔을 완료한 후에 강판 표면에는 상당량의 Si, Mn, Al 및 그들 복합산화물이 형성될 수 밖에 없어서 이 강판에 도금할 경우 도금표면품질이 개선되기는 하지만, 극도의 표면품질을 확보하기가 어려운 단점이 있다.
따라서, 용융아연도금강판의 도금성, 도금밀착성을 우수하게 확보할 수 있는 기술에 대한 요구가 매우 절실한 시점이다.
용융아연도금강판에 관하여, 소둔시, 강중에 포함되어 있는 난도금성 원소인 Si, Mn 또는 Al이 표면확산되어 산화물을 형성하는 것을 억제함으로써 미도금 현상을 방지하여 도금표면 품질 및 도금밀착성을 우수하게 확보할 수 있는 기술이 요구되고 있다.
본 발명의 일측면인 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판의 제조방법은 소지강판을 준비하는 단계, 상기 준비된 소지강판 상에, Fe, Ni 및 Co중 1종 또는 2종 이상을 0.2~3 g/㎡의 부착량으로 도금하는 제 1도금단계; 상기 제 1도금된 강판을, 이슬점온도 -30~10℃, H2: 2~20 vol% 및 잔부 N2 분위기에서, 2℃/s 이상의 가열속도로 가열하는 단계, 상기 가열된 강판을 유지하는 단계, 상기 유지된 강판을 냉각하는 단계 및 상기 냉각된 강판을 용융아연도금욕에 침지하여 도금하는 제 2도금단계를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 일측면인 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판은 소지강판; 상기 소지강판 상에 형성된 Fe, Ni 및 Co중 1종 또는 2종 이상을 포함하는 제 1도금층; 및 상기 제 1도금층 상에 형성된 Zn을 포함하는 제 2도금층을 포함하며, 상기 제 1도금층과 제 2도금층의 계면에서 SiO2 및 Al2O3 중 1종 또는 2종의 총량은 0.01g/㎡ 이하이며, 상기 제 1도금층과 용융아연도금층의 계면으로부터 상기 소지강판 방향으로 1㎛ 이내에 Si산화물, Mn산화물, Al산화물 및 이들의 복합산화물 중 1종 또는 2종 이상이 불연속적으로 분산되어 포함될 수 있다.
본 발명의 일측면에 따르면, Si, Mn 또는 Al의 표면농화 및 산화를 억제하여, 도금강판의 표면품질 및 도금밀착성이 우수한 고강도 용융아연도금강판을 제조할 수 있다.
본 발명자들은 표면품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판을 제공할 수 있는 방안에 대하여 깊이 연구한 결과, 소지강판에 Mn, Si 또는 Al을 첨가함으로써 강도 및 연성을 동시에 향상시킬 수는 있으나, 아연도금을 행할 경우 소지강판과 도금층 계면에 산화물을 형성시키는 문제점이 있었기 때문에, 소둔전 선도금단계를 실시하여, 강 중에 포함된 난도금성 원소인 Si, Mn 또는 Al이 소둔시 강표면으로 확산되는 것을 방지할 수 있음을 인지하고, 더불어 소둔시 이슬점, 가열속도, 가열온도 등을 적절히 제어하여, Si, Mn 또는 Al이 강 내부로 확산되는 산소와 반응하여 대부분이 선도금층 내에서 산화되어 내부산화물을 형성하게 됨으로서, 강판 표면으로 확산되는 것을 억제할 수 있음을 인지하여, 본 발명에 이르게 되었다.
이하, 본 발명의 일측면인 용융아연도금강판의 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.
먼저, 소지강판을 준비한다. 상기 소지강판은 Si, Mn 및 Al로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있다. Si, Mn 또는 Al이 0.5 중량% 미만으로 첨가된 강판은 강판 표면에 형성되는 산화물의 양이 미미하고, 6.0 중량%를 초과한 강판은 실용성이 떨어지므로, Si, Mn 또는 Al이 0.5~6.0%로 첨가된 강판이 상기 산화물 형성 억제 효과를 극대화시키기에 적합할 수 있다. 단, 상기 함량보다 낮은 경우에도, 본 발명이 적용될 수 있으며, 상기 원소들이 다량 포함된 강종은 미도금현상이나 도금박리현상이 주로 문제가 될 수 있기 때문에 이러한 하한을 한정한 것 뿐이다. 더불어, 상기 소지강판은 강판의 강도, 연성, 굽힘 가공성, 구멍 확장성 향상을 목적으로 첨가되는 C, Cr, P, Ti, V, Ni, Nb, Mo, B, Co, Cu 및 기타 불가피한 불순물 중 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있으며, 상기 각 원소는 0.5 중량% 이하로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위에서는 본 발명의 효과를 나타낼 수 있다. 그리고, 상기 소지강판은 냉연강판일 수 있으며, 통상적인 탈지방법에 의하여 탈지공정이 실시된 냉연강판일 수 있다.
상기 준비된 소지강판 상에 제 1도금층을 형성할 수 있다. 이 후 가열과정에서 제 1도금층 아래의 강중에 포함된 Si, Mn 또는 Al이 제 1도금층 표면을 향해서 확산하게 됨과 동시에 소둔로 내부의 높은 이슬점 때문에 산소는 강 내부로 확산하게 된다. 따라서 Si, Mn 또는 Al은 내부로 확산하는 산소와 반응하여 대부분이 제 1도금층에서 산화되어 내부산화물을 형성하게 되기 때문에 표면으로 확산하는 것을 억제할 수 있다.
상기 제 1도금층은 Fe, Ni 및 Co중 1종 또는 2종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 금속을 제 1도금층을 형성하여, 강 중에 포함된 Si, Mn 또는 Al이 확산되는 것을 방지하기 용이하고, 제 2도금층과의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 그 부착량은 0.2~3 g/㎡로 제어하는 것이 바람직하다. 상기 부착량이 0.2g/㎡ 미만일 경우에는 제 1도금층이 너무 얇기 때문에 부분적으로 제 1도금층이 존재하지 않은 부위가 존재할 수가 있으며, 그 부위에서는 소둔가열 초기 강판표면에 존재하는 Si, Mn 또는 Al 이 산화되고 또한 소둔기 아직 내부산화가 일어나지 않은 상태에서는 표면직하에 존재하는 Si, Mn 또는 Al도 표면으로 확산하여 산화물을 형성할 수 있다. 반면에, 상기 부착량이 3g/㎡를 초과하더라도 본 발명의 효과인 내부산화물 분산효과는 우수하지만 경제성을 이유로 그 상한을 제어하는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 금속을 도금하는 방법은 특별히 한정할 필요는 없지만, 경제성을 고려하여 전기도금이 가장 바람직하다. 그리고, 상기 전기도금시 도금용액은 수용성 황산욕, 염화욕 또는 불화욕 등 어느 방식이나 가능하기 때문에 특별히 제한하지 않는다.
이 후, 상기 제 1도금층이 형성된 강판을 가열할 수 있다. 이 때의 분위기가스는 H2 및 N2가 혼합된 가스로 제어하는 것이 바람직하다. 그리고, H2: 2~20 vol% 및 잔부 N2 분위기에서 가열공정을 실시하는 것이 보다 바람직하다. 다만, 본 발명에서 상기 분위기가스는, 공정상 소둔로 내에서 기타 불기피한 가스성분이 포함될 수 있으며, 특히, 20ppm 이하의 산소는 불가피하게 포함될 수 있다. 상기 분위기가스를 통하여 환원분위기를 유지할 수 있다. H2의 함량이 2% 미만인 경우에는 강판 표면에 존재하는 미량의 Fe, Ni 또는 Co 산화물이 환원되지 못하고 소둔완료때까지 표면에 존재하여 도금품질을 떨어뜨릴 수 있다. 그 상한은 특별히 한정되는 것은 아니지만. 효과의 포화도 및 폭발위험성을 고려하여 제어한 것이다. 또한, 가열시 이슬점 온도는 -30~10℃로 제어하는 것이 바람직하다. 소둔로 내부의 이슬점 온도가 -30℃보다 낮으면 내부산화가 거의 일어나지 않으며, 10℃보다 높으면 표면의 Fe, Ni 또는 Co의 일부가 산화될 수가 있기 때문에 -30~10℃로 제한함이 바람직하다.
그리고, 가열속도는 Si, Mn 또는 Al의 확산속도에 영향을 주는 인자로서, 이를 제어하는 것이 중요하다. 가열속도가 너무 느릴경우에는 소둔 완료시까지 사간이 길어져 Si, Mn 또는 Al이 표면으로 확산하는 양이 증가할 수 있기 때문에 최소 초당 2℃ 이상으로 제어하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 가열속도로 750~850℃까지 승온하는 것이 바람직하다. 750℃ 미만에서는 충분한 소둔이 일어나지 않으며, 850℃를 초과하더라도 본 발명의 효과는 동일하므로, 경제성을 고려하여 그 상한을 제어할 수 있다.
이 후, 상기 소지강판을 10~70초간 유지하는 것이 바람직하다. 상기 유지시간 10초 미만인 경우에는 충분한 소둔이 일어나지 않으나, 70초 이내에서는 소둔은 충분히 일어난다. 70초를 초과할 경우 Si, Mn 또는 Al이 표면으로 확산하는 양이 증가할 수 있기 때문에 바람직하지 못하다.
이 후, 상기 소지강판을 냉각할 수 있다. 여기서 냉각하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니며, 어떠한 방법을 사용해도 무관하다.
더불어, 환원이 종료된 강판의 표층부에는 Fe, Ni 또는 Co금속이 대부분이고 Si, Mn, Al이 단독 혹은 복합으로 구성된 산화물이 형성되어 있지 않거나 극히 미량으로 형성되어, 후공정 중 일례인 용융도금을 실시할 경우 소둔 표면에 아연과의 젖음성이 우수하여 표면품질이 우수한 고강도 용유아연도금강판을 제조할 수 있다.
상기 냉각된 소지강판을 도금욕에 침지하여 제 2도금공정을 실시할 수 있다. 상기 도금층을 형성하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. 다만, 상기 도금욕의 온도는 440~480℃로 제어하는 것이 바람직한데, 도금욕 온도가 440℃ 미만일 경우에는 아연과 강판의 젖음성이 감소하며, 도금욕 온도가 480℃를 초과할 경우 도금욕 내에서 소지철이 용해되는 속도가 증가하여 도금욕중에 Fe-Zn 화합물 형태의 드로스(Dross)발생을 가속화시켜 도금욕의 청정성을 떨어뜨린다.
상기 도금단계 후 상기 용융아연도금강판을 추가적으로 합금화 열처리할 수 있다. 상기 합금화 열처리 온도를 480℃ 이상으로 제어함으로써 아연도금층 내에 충분히 Fe 함유량을 확보할 수 있고 650℃ 이하로 제어함으로써 도금층 내에 Fe 함유량이 과도하여 가공하는 과정에서 도금층이 탈락하는 파우더링 현상을 방지할 수 있다.
상기 제조방법을 통하여, 강 중에 포함된 난도금성 원소인 Si, Mn 또는 Al이 소둔시 강표면으로 확산되는 것을 방지할 수 있으며, Si, Mn 또는 Al이 강 내부로 확산되는 산소와 반응하여 대부분이 제 1도금층 내에서 산화되어 내부산화물을 형성하게 됨으로서, 강판 표면으로 확산되는 것을 억제할 수 있는 것이다.
이하, 본 발명의 다른 일측면인 용융아연도금강판에 대하여 상세히 설명한다. 본 발명에서는 상기 용융아연도금강판은 합금화 용융아연도금강판일 수 있다.
그리고, 상기 용융아연도금강판은 소지강판을 포함할 수 있다. 상술한 바와 같이, 상기 소지강판은 Si, Mn 및 Al로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있다. Si, Mn 또는 Al이 0.5 중량% 미만으로 첨가된 강판은 강판 표면에 형성되는 산화물의 양이 미미하고, 6.0 중량%를 초과한 강판은 실용성이 떨어지므로, Si, Mn, Al 중 1종 또는 2종 이상의 총합은 0.5~6.0 중량%로 제어하는 것이 바람직하다. 더불어, 상기 소지강판은 강판의 강도, 연성, 굽힘 가공성, 구멍 확장성 향상을 목적으로 첨가되는 C, Cr, P, Ti, V, Ni, Nb, Mo, B, Co, Cu 및 기타 불가피한 불순물 중 1종 또는 2종 이상을 포함할 수 있으며, 상기 각 원소는 0.5 중량% 이하로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위에서는 본 발명의 효과를 나타낼 수 있다.
상기 용융아연도금강판은 상기 소지강판 상에 형성된 제 1도금층을 포함할 수 있다. 상기 제 1도금층은 Fe, Ni 및 Co중 1종 또는 2종 이상을 포함하며, 그 부착량은 0.2~3 g/㎡인 것일 수 있다. 다만, 상기 Fe, Ni 및 Co 중 1종 또는 2종 이외에 다른 원소가 포함될 수 있으며, 소지강판으로, Ni 또는 Co가 확산될 수 있다. 따라서, 상기 제 1도금층과 소지강판의 경계는 모호해질 수 도 있다. 그리고, 상술한 바와 같이, 상기 부착량이 0.2g/㎡ 미만일 경우에는 제 1도금층이 너무 얇기 때문에 부분적으로 제 1도금층이 존재하지 않은 부위가 존재할 수가 있으며, 그 부위에서는 소둔가열 초기 강판표면에 존재하는 Si, Mn 또는 Al 이 산화되고 또한 소둔기 아직 내부산화가 일어나지 않은 상태에서는 표면직하에 존재하는 Si, Mn 또는 Al도 표면으로 확산하여 산화물을 형성할 수 있다. 반면에, 상기 부착량이 3g/㎡를 초과하더라도 본 발명의 효과인 내부산화물 분산효과는 우수하지만 경제성을 이유로 그 상한을 제어하는 것이 바람직하다. 또한, 강 중 포함된 Si, Mn 또는 Al은 내부로 확산하는 산소와 반응하여 대부분이 제 1도금층에서 산화되어 내부산화물을 형성하게 된다. 따라서, 표층부에는 Fe, Ni 또는 Co금속이 대부분이고 Si, Mn, Al이 단독 혹은 복합으로 구성된 산화물이 형성되어 있지 않거나 극히 미량으로 형성될 수 있다. 그리고, 제 1도금층은 Fe 산화물, Ni 산화물 및 Co 산화물 중 1종 또는 2종 이상을 포함하며, 상기 산화물의 총합은 제 1도금층 중 5 중량% 이하로 포함될 수 있다. 이는 도금과정에서 상기 금속 일부가 산화물로 전착될 수 있기 때문이다.
그리고, 상기 용융아연도금강판은 상기 제 1도금층 상에 형성된 제 2도금층을 포함할 수 있다. 상기 제 2도금층은 상술한 바와 같이, 용융아연도금공정에 의하여 형성될 수 있으며, 상술한 도금욕 조건에서 실시되는 것이 바람직하다. 그리고, 합금화 열처리를 실시할 경우 상기 도금층내에는 Fe함량이 7~13%로 제어될 수 있다.
상기 제 1도금층과 제 2도금층의 계면에서 SiO2 및 Al2O3 중 1종 또는 2종의 총량은 0.01g/㎡ 이하일 수 있다. 상기 제 1도금층과 용융아연도금층의 계면으로부터 상기 소지강판 방향으로 1㎛ 이내에 Si산화물, Mn산화물, Al산화물 및 이들의 복합산화물 중 1종 또는 2종 이상이 불연속적으로 분산되어 포함될 수 있다. 상기 1㎛ 이내의 범위는 제 1도금층 뿐만 아니라, 소지강판의 상부를 포함할 수 확산된 층일 수 있다.
따라서, 본 발명의 일측면인 용융아연도금강판은 제 1도금층에 의하여 Si, Mn 및/또는 Al이 표면으로 확산하여 산화물을 형성하는 것을 억제함으로서, 도금품질이 우수한 강판을 제공할 수 있는 것이다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하여 보다 상세하게 설명하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 권리범위를 한정하기 위한 것이 아니라는 점에 유의할 필요가 있다. 본 발명의 권리범위는 특허청구범위에 기재된 사항과 이로부터 합리적으로 유추되는 사항에 의해 결정되는 것이기 때문이다.
(실시예)
두께가 1.2mm이고, Si: 1.0 중량%, Mn: 1.7 중량% 및 Al 0.03 중량%를 포함하는 TRIP강을 소지강판으로 이용하였으며, 상기 소지강판의 표면 이물질과 압연유를 제거한 다음, 하기 표 1에 나타낸 조건에 의하여 제 1도금층을 형성하였으며, 도금층의 부착량을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다. 또한, 소둔공정은 하기 표 2에 나타낸 조건(이슬점, 가열속도, 수소함량, 소둔온도 및 유지시간)에 따라 실시하였다. 이 후 용융아연도금공정을 실시한 후, 강판의 표면을 검사하여 미도금의 존재 유무 및 정도에 따라 표면품질을 판단하여 하기 표 2에 함께 나타내었다.
상기 Fe 제 1도금층의 경우, 소지강판과 도금층의 부착량을 구분하여 분석하기 위하여, 매 도금조건 마다 별도로 Cu판을 소재로 하여 Fe선도금을 실시한 후 Cu판 위에 도금된 Fe를 용해후 ICP(Inductively coupled Plasma)를 통해 분석하여 부착량으로 측정하였다. 이 외의 나머지 Ni 및 Co 제 1도금층의 경우 도금층을 용해하여 ICP분석하였다.
그리고, 상기 표면품질은 하기와 같은 조건으로 판단하였다.
◎: 극히 우수(도금강판 전체에 걸쳐 미도금이 전혀 없는 강판)
○: 우수(0.5mm 미만의 점상 미도금이 100㎠당 2개 이하 관찰되는 강판)
△: 불량( 0.5mm~3mm크기의 점상 미도금이 다량 관찰되는 강판)
X : 극히 불량( 3mm를 초과 하는 크기의 미도금이 관찰되는 강판)
| Fe2+/Ni2+/Co2+ (g/l) |
SO4 2-(g/l) | pH | 전류밀도 (A/dm2) |
도금욕 온도 (℃) |
| 40 | 80 | 2.5 | 40 | 60 |
| 구분 | 제1도금 부착량 (g/㎡) |
이슬점 온도 (℃) |
승온 속도 (℃/초) |
수소 함량 (Vol%) |
가열 온도 (℃) |
유지 시간 (초) |
용융아연 도금강판 표면품질 |
| 발명예1 | Fe 0.3 | -10 | 5 | 5 | 800 | 40 | ◎ |
| 발명예2 | Fe 0.5 | -5 | 7 | 20 | 800 | 40 | ◎ |
| 발명예3 | Fe 0.5 | 0 | 15 | 5 | 850 | 30 | ◎ |
| 발명예4 | Fe 1.0 | 5 | 20 | 5 | 850 | 20 | ◎ |
| 발명예5 | Fe 2.0 | -25 | 7 | 3 | 800 | 40 | ◎ |
| 발명예6 | Ni 0.2 | -10 | 5 | 10 | 780 | 40 | ○ |
| 발명예7 | Ni 1.0 | -10 | 5 | 10 | 780 | 20 | ◎ |
| 발명예8 | Ni 1.0 | 0.3 | 2 | 5 | 850 | 10 | ◎ |
| 발명예9 | Co 0.5 | -5 | 5 | 10 | 850 | 30 | ◎ |
| 발명예10 | Co 0.5 | 5 | 5 | 5 | 800 | 40 | ◎ |
| 발명예11 | Co 1.0 | -10 | 10 | 5 | 800 | 60 | ◎ |
| 비교예1 | - | -45 | 5 | 5 | 800 | 40 | X |
| 비교예2 | - | -10 | 5 | 5 | 800 | 40 | ? |
| 비교예3 | Fe 0.5 | -45 | 5 | 5 | 800 | 40 | ? |
| 비교예4 | Fe 1.0 | -5 | 0.5 | 5 | 800 | 40 | ? |
| 비교예5 | Fe 1.0 | 5 | 3 | 0 | 800 | 40 | ? |
| 비교예6 | Ni 0.5 | 5 | 3 | 5 | 850 | 200 | ? |
| 비교예7 | Co 0.1 | -60 | 3 | 5 | 800 | 40 | X |
상기 표 2에 나타낸 바와 같이, Fe, Ni 또는 Co가 0.2~3g/㎡으로 선도금 되는 단계, 그 후 이슬점온도 -30~10℃, 수소함량 2%이상의 환원소둔로에서 초당 2℃ 이상의 가열속도로 상온에서부터 소둔온도인 750~850℃로 가열하고 그 온도에서 10~70초 동안 유지하여 강판을 소둔한 후 냉각하여 아연도금욕에 침지하여 아연도금한 강판의 경우, 도금표면이 우수하였음을 확인할 수 있다.
이에 반하여, 비교예 1은 제 1도금층을 형성하지지 않고 소둔로내 이슬점온도가 본 발명에서 제어한 범위보다 낮은 경우로서, 표면산화물이 다량 형성되어 도금표면 품질이 극히 불량하였다.
그리고, 비교예 2는 이슬점온도, 가열속도, 수소함량, 가열온도 및 유지시간은 본 발명에서 제어한 범위이내이지만, 제 1도금을 실시하지 않은 경우로서, 표면산화물이 다량 형성되어 도금표면이 불량하였다.
또한, 비교예 3은 소둔전 본발명에서 제어한 범위로 Fe도금을 실시하였으나, 소둔로내 이슬점온도가 본 발명에서 제어한 범위보다 낮은 경우로서, 내부산화물이 형성되지 않아 소둔과정에서 산화성 성분이 표면으로 확산되어 표면산화물이 형성되어 도금표면이 불량하였다.
더불어, 비교예 4는 Fe도금 부착량, 이슬점온도, 수소함량, 가열온도, 유지시간은 본 발명에서 제어한 범위이지만, 가열속도가 본 발명에서 제어한 범위보다 느린 경우로서, 일부의 산화성 성분이 표면으로 확산하여 표면품질이 불량하였다.
그리고, 비교예 5는 Fe도금 부착량, 이슬점온도, 가열속도, 가열온도, 유지시간은 본 발명에서 제어한 범위이지만, 소둔로내 수소가 없는 경우로서, 강판 표면에 존재하는 미량의 Fe 산화물이 환원되지 못하고 소둔완료때까지 강판 표면에 존재하여 표면품질이 불량하였다.
또한, 비교예 6은 Ni선도금 부착량, 이슬점온도, 가열속도,수소함량, 소둔온도는 본 발명에서 한정한 범위를 만족하지만, 소둔로내 유지시간이 본 발명에서 한정한 범위를 초과한 경우로서, 표면에 일부 Si, Mn 또는 Al계 산화물이 형성되어 도금표면이 불량하였다.
더불어, 비교예 7은 Co도금 부착량이 본 발명에서 제어한 범위보다 적고 또한 소둔로내 이슬점 온도가 본 발명에서 제어한 범위보다 낮은 경우로서, 제 1도금층에 의한 산화성성분의 확산억제효과가 적고, 내부산화물도 형성되지 않아 도금표면이 극히 불량하였다.
Claims (14)
- 소지강판을 준비하는 단계;
상기 준비된 소지강판 상에, Fe, Ni 및 Co중 1종 또는 2종 이상을 0.2~3 g/㎡의 부착량으로 도금하는 제 1도금단계;
상기 제 1도금된 강판을, 이슬점온도 -30~10℃, H2: 2~20 vol% 및 잔부 N2 분위기에서, 2℃/s 이상의 속도로 가열하는 단계;
상기 가열된 강판을 유지하는 단계;
상기 유지된 강판을 냉각하는 단계; 및
상기 냉각된 강판을 용융아연도금욕에 침지하여 도금하는 제 2도금단계를 포함하는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 소지강판은 중량%로, Si, Mn 및 Al 중 1종 또는 2종 이상이 0.5~6.0%로 포함되는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 소지강판은 C, Cr, P, Ti, V, Ni, Nb, Mo, B, Co, Cu 및 기타 불가피한 불순물 중 1종 또는 2종 이상을 포함하며, 상기 각 원소는 0.5 중량% 이하로 포함되는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 제 1도금단계는 전기도금법에 의하여 실시되는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 가열하는 단계는 750~850℃까지 가열되는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 유지하는 단계는 10~70초간 실시되는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 용융아연도금욕의 온도는 440~480℃인 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 제조방법은, 상기 제 2도금단계 후, 480~650℃에서 합금화 열처리하는 단계를 추가로 포함하는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판의 제조방법.
- 소지강판; 상기 소지강판 상에 형성된 Fe, Ni 및 Co중 1종 또는 2종 이상을 포함하는 제 1도금층; 및 상기 제 1도금층 상에 형성된 Zn을 포함하는 제 2도금층을 포함하며,
상기 제 1도금층과 제 2도금층의 계면에서 SiO2 및 Al2O3 중 1종 또는 2종의 총량은 0.01g/㎡ 이하이며,
상기 제 1도금층과 용융아연도금층의 계면으로부터 상기 소지강판 방향으로 1㎛ 이내에 Si산화물, Mn산화물, Al산화물 및 이들의 복합산화물 중 1종 또는 2종 이상이 불연속적으로 분산되어 포함되는 용융아연도금강판.
- 청구항 9에 있어서, 상기 소지강판은 중량%로, Si, Mn 및 Al 중 1종 또는 2종 이상이 0.5~6.0%로 포함되는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판.
- 청구항 9에 있어서, 상기 소지강판은 C, Cr, P, Ti, V, Ni, Nb, Mo, B, Co, Cu 및 기타 불가피한 불순물 중 1종 또는 2종 이상을 포함하며, 상기 각 원소는 0.5 중량% 이하로 포함되는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판.
- 청구항 9에 있어서, 상기 제 1도금층의 부착량은 0.2~3 g/㎡인 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판.
- 청구항 9에 있어서, 상기 제 1도금층은 Fe 산화물, Ni 산화물 및 Co 산화물 중 1종 또는 2종 이상을 포함하며, 상기 산화물의 총합은 제 1도금층 중 5 중량% 이하로 포함되는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판.
- 청구항 9에 있어서, 상기 용융아연도금강판은 합금화 용융아연도금강판이며, 상기 제 2도금층은 Fe: 7~13 중량%를 포함하는 도금표면 품질 및 도금밀착성이 우수한 용융아연도금강판.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10305101B2 (en) | 2015-08-24 | 2019-05-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Cathode active material, cathode and lithium secondary battery including the same, and method of preparing cathode active material |
| WO2019124997A1 (ko) * | 2017-12-24 | 2019-06-27 | 주식회사 포스코 | 도금성이 우수한 고강도 용융아연도금강판 및 그 제조방법 |
| KR20210000027A (ko) * | 2019-06-24 | 2021-01-04 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판 및 그 제조방법 |
| KR20210000029A (ko) * | 2019-06-24 | 2021-01-04 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 용융아연도금강판 및 그 제조방법 |
| KR20210016462A (ko) * | 2018-07-06 | 2021-02-15 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 표면 처리 강판 및 표면 처리 강판의 제조 방법 |
| WO2022124826A1 (ko) * | 2020-12-13 | 2022-06-16 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2022124825A1 (ko) * | 2020-12-13 | 2022-06-16 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 |
| CN115613030A (zh) * | 2022-05-05 | 2023-01-17 | 首钢集团有限公司 | 一种具有优良表面质量的汽车用含磷镀锌钢的生产方法 |
| KR20230077509A (ko) * | 2021-11-25 | 2023-06-01 | 현대제철 주식회사 | 우수한 표면 특성을 가지는 초고강도 용융아연도금 강재 및 그 제조방법 |
| KR20230077508A (ko) * | 2021-11-25 | 2023-06-01 | 현대제철 주식회사 | 굽힘 가공성이 우수한 고강도 강판 및 그 제조방법 |
| WO2023239211A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 강판 및 그 제조방법 |
| WO2023239207A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 열간 프레스 성형용 도금강판, 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2023239209A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 열간 프레스 성형용 도금강판, 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2023239206A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2023239212A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 강판 및 그 제조방법 |
| WO2023239208A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2023244075A1 (ko) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 주식회사 포스코 | 강판 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2561331B2 (ja) * | 1988-11-07 | 1996-12-04 | 川崎製鉄株式会社 | 溶融ＺｎめっきＣｒ含有鋼帯の製造方法 |
| JP2904809B2 (ja) * | 1989-06-22 | 1999-06-14 | 新日本製鐵株式会社 | 溶融亜鉛めっき熱延鋼板の製造方法 |
| JP2004124187A (ja) * | 2002-10-03 | 2004-04-22 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 密着性・溶接性に優れた高強度溶融亜鉛めっき鋼板 |
-
2011
- 2011-12-28 KR KR1020110145232A patent/KR101382910B1/ko active IP Right Grant
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10305101B2 (en) | 2015-08-24 | 2019-05-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Cathode active material, cathode and lithium secondary battery including the same, and method of preparing cathode active material |
| WO2019124997A1 (ko) * | 2017-12-24 | 2019-06-27 | 주식회사 포스코 | 도금성이 우수한 고강도 용융아연도금강판 및 그 제조방법 |
| KR20210016462A (ko) * | 2018-07-06 | 2021-02-15 | 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 | 표면 처리 강판 및 표면 처리 강판의 제조 방법 |
| KR20210000027A (ko) * | 2019-06-24 | 2021-01-04 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판 및 그 제조방법 |
| KR20210000029A (ko) * | 2019-06-24 | 2021-01-04 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 용융아연도금강판 및 그 제조방법 |
| KR20220084227A (ko) * | 2020-12-13 | 2022-06-21 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2022124825A1 (ko) * | 2020-12-13 | 2022-06-16 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 |
| KR20220084228A (ko) * | 2020-12-13 | 2022-06-21 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2022124826A1 (ko) * | 2020-12-13 | 2022-06-16 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 |
| KR20230077509A (ko) * | 2021-11-25 | 2023-06-01 | 현대제철 주식회사 | 우수한 표면 특성을 가지는 초고강도 용융아연도금 강재 및 그 제조방법 |
| KR20230077508A (ko) * | 2021-11-25 | 2023-06-01 | 현대제철 주식회사 | 굽힘 가공성이 우수한 고강도 강판 및 그 제조방법 |
| CN115613030A (zh) * | 2022-05-05 | 2023-01-17 | 首钢集团有限公司 | 一种具有优良表面质量的汽车用含磷镀锌钢的生产方法 |
| WO2023239211A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 강판 및 그 제조방법 |
| WO2023239207A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 열간 프레스 성형용 도금강판, 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2023239209A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 열간 프레스 성형용 도금강판, 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2023239206A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2023239212A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 강판 및 그 제조방법 |
| WO2023239208A1 (ko) * | 2022-06-10 | 2023-12-14 | 주식회사 포스코 | 도금품질이 우수한 고강도 용융아연도금강판, 도금용 강판 및 이들의 제조방법 |
| WO2023244075A1 (ko) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 주식회사 포스코 | 강판 및 그 제조방법 |
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