KR20130037799A - 기판처리장치용 트레이 및 트레이 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 복수개의 기판들을 트레이에 적재 및 이송하여 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 기판처리장치용 트레이 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 다수의 기판들을 적재하여 이송하면서 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 트레이로서, 편평한 플레이트 형상을 가지는 모재와; 기판이 적재되는 편평한 적재면을 이루도록 상기 모재의 상면 전체에 형성되는 기저층을 포함하며, 상기 기저층은 기판이 상기 적재면에 로딩 또는 언로딩될 때 기판 및 적재면 사이와 그 외부 사이의 공기흐름을 형성하도록 상기 적재면에 "다수의 돌기들" 및 "하나 이상의 에어패스홈" 중 적어도 어느 하나가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이를 개시한다.
본 발명은 다수의 기판들을 적재하여 이송하면서 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 트레이로서, 편평한 플레이트 형상을 가지는 모재와; 기판이 적재되는 편평한 적재면을 이루도록 상기 모재의 상면 전체에 형성되는 기저층을 포함하며, 상기 기저층은 기판이 상기 적재면에 로딩 또는 언로딩될 때 기판 및 적재면 사이와 그 외부 사이의 공기흐름을 형성하도록 상기 적재면에 "다수의 돌기들" 및 "하나 이상의 에어패스홈" 중 적어도 어느 하나가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이를 개시한다.
Description
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 복수개의 기판들을 트레이에 적재 및 이송하여 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 기판처리장치용 트레이 및 그 제조방법에 관한 것이다.
기판처리장치란 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와, 공정챔버 내에 설치되어 기판이 안착되는 기판지지부를 포함하며, 처리공간에 처리가스를 주입하면서 전원을 인가하여 기판의 표면을 식각하거나 증착하는 등 기판처리를 수행하는 장치를 말한다.
여기서 상기 기판처리장치에 의하여 처리되는 기판은 반도체용 웨이퍼, LCD패널용 유리기판, 태양전지용 기판 등이 있다.
그리고 종래의 기판처리장치는 복수개의 기판들을 트레이에 적재하여 이송하여 트레이지지부 상에 안착시킨 후에 기판에 대한 증착공정 등을 수행함으로써 더욱 많은 수의 기판들을 처리하도록 구성될 수 있다.
그리고 상기 트레이는 안착되는 기판으로의 열전달효율을 높이기 위하여 열전달특성이 좋은 그래파이트로 제작되며, 플라즈마 처리환경, NF3 가스가 사용되는 것을 고려하여 플라즈마 및 불화가스에 강한 재질인 Al2O3와 같은 세라믹으로 용사에 의하여 코팅되어 사용된다.
한편 상기와 같이 세라믹 재질에 의하여 코팅된 트레이는 기판 안착시 슬라이딩되는 현상, 공정완료 후 언로딩시 정전기 현상 등으로 인하여 용이하지 않는 현상 등을 개선하기 위하여 기판이 적재되는 적재면에 일정한 패턴의 홈들이 형성된다.
그런데 종래의 기판처리장치용 트레이는 상기와 같이 적재면에 홈들이 형성된 경우 홈 주위로 세라믹 코팅이 불균일하고 얇게 이루어지게 되며, 이는 세라믹 코팅이 박리되는 원인으로 작용하여 트레이의 수명을 단축시키거나 보수를 필요로 하여 유지비용을 증가시키는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 기판 및 적재면 사이와 그 외부 사이의 공기흐름을 형성하는 에어패스를 그래파이트 등의 모재의 상면에 코팅 후 코팅막인 기저층에 형성함으로써 홈형성에 따른 모서리 등에서의 기저층이 박리되는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치용 트레이 및 트레이 제조방법을 제공하는데 있다.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은 다수의 기판들을 적재하여 이송하면서 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 트레이로서, 편평한 플레이트 형상을 가지는 모재와; 기판이 적재되는 편평한 적재면을 이루도록 상기 모재의 상면 전체에 형성되는 기저층을 포함하며, 상기 기저층은 기판이 상기 적재면에 로딩 또는 언로딩될 때 기판 및 적재면 사이와 그 외부 사이의 공기흐름을 형성하도록 상기 적재면에 "다수의 돌기들" 및 "하나 이상의 에어패스홈" 중 적어도 어느 하나가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이를 개시한다.
상기 적재면은 각 기판이 안착되는 복수개의 안착위치들이 설정되며, 상기 에어패스홈은 상기 안착위치의 가장자리로 밖으로 연장될 수 있다.
상기 에어패스홈으로부터 상기 모재의 저면으로 하나 이상의 관통공이 관통 형성될 수 있다.
상기 적재면은 각 기판이 안착되는 복수개의 안착위치들이 설정되며, 상기 에어패스홈은 상기 안착위치 내에 형성될 수 있다.
상기 안착위치의 가장자리로부터 기판의 가장자리 사이의 거리를 D라고 할 때, 상기 에어패스홈은 상기 안착위치의 가장자리로부터 내측으로 2D의 거리 이내에 형성될 수 있다.
상기 에어패스홈은 복수개로 구성되며, 상기 복수개의 에어패스홈들은 격자형태로 형성될 수 있다.
상기 적재면은 상기 안착위치의 가장자리를 따라서 하나 이상의 가이드부가 설치될 수 있다.
상기 가이드부는 상기 기저부에 설치된 가이드핀 또는 상기 기저부로부터 돌출 형성된 돌기일 수 있다.
상기 가이드부는 상기 안착위치를 향하는 쪽으로 가면서 하향 경사로 형성될 수 있다.
본 발명은 또한 트레이에 다수의 기판들을 적재하여 이송하면서 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 트레이의 제조방법으로서, 편평한 플레이트 형상을 가지는 모재의 상면 전체에 기판이 적재되는 편평한 적재면을 이루도록 기저층을 형성하는 기저층 형성 단계와; 상기 기저층의 적재면에 기판이 상기 적재면에 로딩 또는 언로딩될 때 기판 및 적재면 사이와 그 외부 사이의 공기흐름을 형성하도록 "다수의 돌기들" 및 "하나 이상의 에어패스홈" 중 적어도 어느 하나를 형성하는 적재면 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이 제조방법을 개시한다.
상기 모재는 알루미늄, 알루미늄합금, 씨씨컴퍼지트(CC Composite), 그래파이트, 글라스(Glass), 및 네오세라믹 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
상기 기저층은 상기 모재의 상면에 용사, 습식 및 건식 중 어느 하나의 방법의 코팅에 의하여 형성된 산화막 또는 질화막으로 이루어질 수 있다.
상기 기저층은 알루미나, Y203, Al2O3, AlN, 산화알루미늄 및 질화알미늄 중 어느 하나의 재질을 가질 수 있다.
상기 적재면 형성 단계는 기계가공에 의하여 상기 에어패스홈을 형성할 수 있다.
상기 적재면 형성 단계는 상기 돌기들의 형성을 위한 다수의 개구부들이 형성된 돌기형성용 마스크를 상기 기저층 상에 위치시키고 용사에 의하여 상기 다수의 돌기들을 형성하는 돌기형성단계를 포함할 수 있다.
상기 적재면은 각 기판이 안착되는 복수개의 안착위치들이 설정되며, 상기 적재면 형성 단계 전 또는 상기 적재면 형성 단계 후에 상기 안착위치의 가장자리를 따라서 하나 이상의 가이드부가 설치하는 가이드부 설치 단계를 추가로 포함할 수 있다.
상기 가이드부 설치 단계는 상기 가이드부의 형성을 위한 하나 이상의 개구부들이 형성된 가이드부 형성용 마스크를 상기 기저층 상에 위치시키고 용사에 의하여 상기 하나 이상의 돌기들을 형성할 수 있다.
상기 적재면 형성 단계 후에는 상기 에어패스홈으로부터 상기 모재의 저면으로 하나 이상의 관통공을 관통 형성하는 관통공 형성 단계를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이 및 트레이 제조방법은 편평한 평면형상을 가지는 그래파이트 등의 모재 상에 기저층을 형성한 후 기저층 상에 돌기, 홈 등이 형성함으로써 불완전한 코팅 등으로 인하여 모재로부터 기저층이 박리되는 것을 방지하여 트레이의 수명이 증가시키며 유지보수비용을 현저하게 절감할 수 있게 된다.
또한 본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이 및 트레이 제조방법은 종래에는 홈 등의 형성을 위한 모재의 기계적 가공과정에서 모재의 파손 등이 발생될 수 있는데 편평한 평면형상을 가지는 그래파이트 등의 모재 상에 기저층을 형성한 후 기저층 상에 돌기, 홈 등이 형성함으로써 모재에 대한 손상을 방지하여 트레이의 제조비용을 현저히 절감할 수 있는 이점이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이가 사용되는 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도 2는 도 1의 기판처리장치용 트레이를 보여주는 평면도이다.
도 3a는 도 2의 트레이의 일예를 보여주는 일부 평면도, 도 3b는 도 3a의 트레이의 단면 일부를 보여주는 일부단면도이다.
도 4a는 도 2의 트레이의 다른 예를 보여주는 일부 평면도, 도 4b는 도 4a의 트레이의 단면 일부를 보여주는 일부단면도이다.
도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이의 제조방법에 따른 제조공정을 보여주는 일부단면도들이다.
도 6은 본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이의 제조방법의 흐름도이다.
도 2는 도 1의 기판처리장치용 트레이를 보여주는 평면도이다.
도 3a는 도 2의 트레이의 일예를 보여주는 일부 평면도, 도 3b는 도 3a의 트레이의 단면 일부를 보여주는 일부단면도이다.
도 4a는 도 2의 트레이의 다른 예를 보여주는 일부 평면도, 도 4b는 도 4a의 트레이의 단면 일부를 보여주는 일부단면도이다.
도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이의 제조방법에 따른 제조공정을 보여주는 일부단면도들이다.
도 6은 본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이의 제조방법의 흐름도이다.
이하 본 발명에 따른 본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이 및 트레이 제조방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이가 사용되는 기판처리장치를 보여주는 단면도이고, 도 2는 도 1의 기판처리장치용 트레이를 보여주는 평면도이고, 도 3a는 도 2의 트레이의 일예를 보여주는 일부 평면도, 도 3b는 도 3a의 트레이의 단면 일부를 보여주는 일부단면도이고, 도 4a는 도 2의 트레이의 다른 예를 보여주는 일부 평면도, 도 4b는 도 4a의 트레이의 단면 일부를 보여주는 일부단면도이다.
본 발명에 따른 기판처리장치는 기판처리에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 도 1에 도시된 바와 같이, 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 공정챔버(100)와; 공정챔버(S) 내부에 설치되어 하나 이상의 기판(10)이 적재되는 트레이(200)를 지지하는 트레이지지부(130)와; 공정챔버(100)의 상부에 설치되어 처리공간(S)으로 가스를 분사하는 가스공급부(140)를 포함하여 구성될 수 있다. 상기 기판처리장치는 증착, 식각 등의 기판처리를 수행할 수 있으며, 바람직하게는 PECVD, LPCVD 등의 증착공정을 수행할 수 있다.
여기서 기판처리의 대상인 기판(10)은 실리콘 재질 등의 태양전지용 기판 등의 기판으로서 어떠한 재질도 가능하며, 그 형상은 직사각형, 원형 등 다양한 형상을 가질 수 있다.
상기 공정챔버(100)는 기판처리를 수행하기 위한 처리공간(S)을 형성하기 위한 구성으로서, 다양한 구성이 가능하며, 도 1에 도시된 바와 같이, 상측이 개방된 챔버본체(110)와 챔버본체(110)와 탈착가능하게 결합되는 상부리드(120)를 포함하여 구성될 수 있다.
상기 챔버본체(110)는 상측이 개방된 그릇 형태를 가지며, 기판(10)이 입출될 수 있는 게이트(111, 112)가 하나 이상 형성된다. 본 실시예에서는 장방형의 챔버본체(110)에서 한 쌍의 게이트(111, 112)들이 서로 대향되도록 형성된다.
상기 상부리드(120)는 챔버본체(110)의 상측에 실링부재(미도시)가 개재되어 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하기 위한 구성으로서, 플레이트 또는 하측이 개방된 그릇 형태를 가질 수 있다.
상기 트레이지지부(130)는 기판처리가 원활하게 수행될 수 있도록 트레이(200)를 지지하기 위한 구성으로서, 설계조건 및 공정조건에 따라서 다양한 구성이 가능하다. 여기서 상기 트레이지지부(130)는 트레이(200)의 안착을 위하여 도 1에 도시된 바와 같이 상하로 이동될 수 있다.
한편 본 발명에 따른 기판처리장치는 복수개의 기판(10)들을 트레이(200)에 적재하여 이송하면서 기판처리를 수행하는 것을 특징으로 한다.
여기서 상기 기판처리장치에 있어서 트레이(200)는 각 모듈들 및 각 모듈들을 지지하는 프레임 등에 설치된 롤러, 벨트 등 다양한 방법에 의하여 이송될 수 있다.
한편 본 발명에 따른 기판처리장치는 로드락모듈 및 언로드락모듈과 함께 인라인으로 배치되거나, 반송챔버를 추가로 설치되어 클러스터 형태로 배치될 수 있다.
상기 트레이(200)는 다수의 기판(10)을 적재하여 이송하기 위한 구성으로서, 외곽프레임 등을 추가로 구비하는 등 다양한 구성이 가능하다.
특히 상기 트레이(200)는 도 3a에 도시된 바와 같이, 편평한 플레이트 형상을 가지는 모재(210)와; 기판(10)이 적재되는 편평한 적재면(201)을 이루도록 모재(210)의 상면 전체에 형성되는 기저층(220)을 포함한다.
상기 모재(210)는 트레이(200)의 본체를 이루는 구성으로서, 기판(10)으로의 양호한 열전달 특성 등 요구되는 기판처리를 위하여 그 재질이 선택되며, 예로서, 알루미늄, 알루미늄합금, 씨씨컴퍼지트(CC Composite), 그래파이트, 글라스(Glass), 및 네오세라믹 중 어느 하나의 재질을 가질 수 있다.
그리고 상기 모재(210)는 직사각형의 기판(10)의 이송을 고려하여 실질적으로 직사각형의 플레이트 형상을 가질 수 있다.
상기 기저층(220)은 모재(210)의 표면에서 적어도 상면에 형성되어 기판(10)이 적재되는 적재면(201)을 이루는 한편 모재(210)를 보호하는 층이다.
여기서 상기 적재면(201)은 기판(10)의 로딩 및 언로딩이 원활하도록 도 2에 도시된 바와 같이, 각 기판(10)이 안착되는 복수개의 안착위치(202)들이 설정됨이 바람직하다.
상기 기저층(220)의 재질은 기판처리가 플라즈마 등에 의하여 이루어짐을 고려하여 플라즈마에 강한 재질이 사용됨이 바람직하며, 예로서, 모재(210)의 상면에 용사, 습식 및 건식 중 어느 하나의 방법의 코팅에 의하여 형성된 산화막 또는 질화막으로 이루어질 수 있다.
또한 상기 기저층(220)의 재질은 알루미나, Y203, Al2O3, AlN, 산화알루미늄 및 질화알미늄 중 어느 하나의 재질을 가질 수 있다.
한편 상기 기저층(220)은 기판(10)이 적재되는 적재면(201)을 이루게 되는데, 기판(10)의 로딩 및 언로딩시 슬라이딩이 발생될 수 있는바 이를 방지하기 위하여 기판(10)이 적재면(201)에 로딩 또는 언로딩될 때 기판(10) 및 적재면(201) 사이와 그 외부 사이의 공기흐름을 형성하는 에어패스가 형성될 필요가 있다.
상기 에어패스는 기판(10)이 적재면(201)에 로딩 또는 언로딩될 때 기판(10) 및 적재면(201) 사이와 그 외부 사이의 공기흐름을 형성하기 위한 구성으로서, 도 3a 내지 도 4b에 도시된 바와 같이, 적재면(201)에 형성된 "다수의 돌기(310)들" 및 "하나 이상의 에어패스홈(320)" 중 적어도 어느 하나로 구성될 수 있다.
상기 에어패스의 일예로서, 적재면(201)에 형성된 "다수의 돌기(310)들은 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이, 적재면(201)에 골고루 형성되거나, 안착위치(202)에만 형성될 수 있는 등 다양한 패턴으로 형성될 수 있다.
상기 에어패스의 다른 예로서, 에어패스홈(320)은 적재면(201) 상에 다양한 패턴으로 형성될 수 있으며, 안착위치(202)의 가장자리로 밖으로 연장되어 형성될 수 있다.
또한 상기 에어패스홈(320)은 도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 안착위치(202) 내에 형성될 수 있다. 이때 상기 기저층(220)에는 에어패스홈(320)으로부터 모재(210)의 저면으로 하나 이상의 관통공(330)이 관통 형성될 수 있다.
특히 상기 안착위치(202)의 정중앙에 기판이 안착되었을 때, 기판(10)의 가장자리로부터 안착위치(202)의 가장자리 사이의 거리를 오차간격 D라고 할 때, 에어패스홈(320)은 안착위치(202)의 가장자리로부터 내측으로 오차간격의 두 배, 즉 2D의 거리 이내에 형성됨이 바람직하다.
또한 상기 에어패스홈(320)은 복수개로 구성되며, 복수개의 에어패스홈(320)들은 격자형태로 형성되는 등 다양한 구성이 가능하다.
한편 상기 트레이(200) 상에서 기판(10)이 로딩 및 언로딩될 때 기판(10)이 안착위치(202) 상에 정확하게 안착될 수 있도록 가이드하기 위하여, 적재면(201)에는 안착위치(202)의 가장자리를 따라서 하나 이상의 가이드부(350)가 설치될 수 있다.
상기 가이드부(350)는 기판(10)이 로딩 및 언로딩을 가이드하기 위한 구성으로서, 다양한 구성이 가능하며, 도 2 및 도 3a에 도시된 바와 같이, 기저부(220)로부터 돌출 형성된 돌기로 구성되는 등 다양한 구성이 가능하다.
또한 상기 가이드부(350)는 도 4b에 도시된 바와 같이, 안착위치(202)를 향하는 쪽으로 가면서 하향 경사로 형성될 수 있다.
한편 강기 가이드부(350)는 기저부(220)에 삽입홈(미도시)을 형성하고, 형성된 삽입홈에 끼워져 고정되어 설치되는 가이드핀(미도시)으로 구성될 수도 있음은 물론이다.
상기와 같은 구성이 편평한 플레이트 형상의 모재(210) 상에 기저층(220)을 형성하고, 기저층(220)에 에어패스인 "다수의 돌기(310)들" 및 "하나 이상의 에어패스홈(320)", 가이드부(350) 등을 형성함으로써 모재(210) 상에 홈형성에 따른 모서리 등으로 기인하는 기저층(220)의 박리를 방지할 수 있다.
한편 상기와 같은 구성을 가지는 트레이의 제조방법에 관하여 첨부된 도면을 참고하여 설명한다.
도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이의 제조방법에 따른 제조공정을 보여주는 일부단면도들이고, 도 6은 본 발명에 따른 기판처리장치용 트레이의 제조방법의 흐름도이다.
본 발명에 따른 트레이의 제조방법은 도 5a 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 모재(210)의 상면 전체에 적재면(201)을 이루도록 기저층(220)을 형성하는 기저층 형성 단계(S10)와; 기저층(220)의 적재면(201)에 기판(10)이 적재면(201)에 로딩 또는 언로딩될 때 기판(10) 및 적재면(201) 사이와 그 외부 사이의 공기흐름을 형성하는 에어패스를 형성하는 적재면 형성 단계(S20)를 포함한다.
상기 기저층 형성 단계(S10)는 도 5a에 도시된 바와 같이, 편평한 플레이트 형상을 가지는 모재(210)의 상면 전체에 기판(10)이 적재되는 편평한 적재면(201)을 이루도록 기저층(220)을 형성하는 단계이다.
상기 기저층 형성 단계(S10)는 모재(210)의 표면, 특히 기판(10)이 안착되는 적재면(201)을 형성하기 위하여 모재(210)의 상면에 기저층(220)을 형성하는 단계로서 다양한 방법에 의하여 수행될 수 있다.
일예로서, 상기 기저층 형성 단계(S10)는 앞서 설명한 바와 같이, 용사에 의하여 세라믹 재질 등을 가지는 기저층(220)을 형성할 수 있다.
상기 적재면 형성 단계(S20)는 기저층(220)에 에어패스를 형성하는 단계로서, 에어패스의 구성에 따라서 다양한 방식에 의하여 수행될 수 있다.
일예로서, 상기 적재면 형성 단계(S20)는 에어패스를 구성하는 "다수의 돌기(310)들" 및 "하나 이상의 에어패스홈(320)" 중 적어도 어느 하나를 기계가공에 의하여 수행할 수 있다.
즉, 상기 적재면 형성 단계(S20)는 기저층 형성 단계(S10)에 의하여 형성된 기저층(220)에서 연마장치 등의 장치를 이용하여 에어패스를 구성하는 "다수의 돌기(310)들" 및 "하나 이상의 에어패스홈(320)"을 형성할 수 있다.
한편 상기 적재면 형성 단계(S20)는 기저층 형성 단계(S10)와 함께 및 용사에 의하여 수행될 수 있다.
이때 상기 적재면 형성 단계(S20)는 도 5b에 도시된 바와 같이, 돌기(310)들의 형성을 위한 다수의 개구부(411)들이 형성된 돌기형성용 마스크(410)를 기저층(220) 상에 위치시키고 용사에 의하여 다수의 돌기(310)들을 형성하는 돌기형성단계를 포함할 수 있다.
즉, 상기 적재면 형성 단계(S20)는 기저층 형성 단계(S10)에 의하여 형성된 기저층(220) 상에 돌기형성용 마스크(410)를 위치시키고 용사에 의하여 다수의 돌기(310)들을 형성한다.
또한 상기 에어패스가 "하나 이상의 에어패스홈(320)"으로 이루어진 경우에도 에어패스홈(320)에 대응되는 위치를 제외한 부분에서만 용사가 이루어지도록 함으로써 마스크를 이용한 용사에 의하여 에어패스홈(320)이 기저층(220) 상에 형성될 수 있다.
한편 상기 적재면 형성 단계(S20) 전 또는 적재면 형성 단계(S20) 후에 안착위치(202)의 가장자리를 따라서 하나 이상의 가이드부(350)가 설치하는 가이드부 설치 단계(S30)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 가이드부 설치 단계(S30)는 기저층(220) 상에 가이드부(350)를 형성하기 위한 단계로서, 도 5c에 도시된 바와 같이, 가이드부(350)의 형성을 위한 복수의 개구부(421)들이 형성된 가이드부 형성용 마스크(420)를 기저층(220) 상에 위치시키고 용사에 의하여 다수의 돌기들을 형성하여 수행될 수 있다.
한편 도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 에어패스가 "하나 이상의 에어패스홈(320)"으로 이루어지고 에어패스홈(320)에 관통공(330)이 형성된 경우, 적재면 형성 단계(S20) 후에는 에어패스홈(320)으로부터 모재(210)의 저면으로 하나 이상의 관통공(330)을 관통 형성하는 관통공 형성 단계를 추가로 포함할 수 있다.
종래의 트레이 제조방법에 의하여 제도된 트레이는 그래파이트 등의 재질을 가지는 모재(210)에 홈 등을 미리 형성한 후 세라믹 재질의 기저층을 형성하게 되면 홈의 형성부위에 각진부분, 모서리 등을 원인으로 한 불안정한 코팅이 기저층의 박리를 유발하여 트레이의 수명을 단축시키거나 잦은 유지보수가 필요하였다.
그런데 상기와 같은 제조방법에 의하여 트레이(200)가 제조되면, 모재(210)는 편평한 평면을 형성하고 기저층(220) 상에 돌기, 홈 등이 형성됨에 따라서 기저층(220)의 박리가 일어나지 않아 트레이의 수명이 증가시키며 유지보수비용을 현저하게 절감할 수 있게 된다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께 하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.
200 : 트레이 210 : 모재
220 : 기저층
310 : 돌기 320 : 에어패스홈
350 : 가이드부
220 : 기저층
310 : 돌기 320 : 에어패스홈
350 : 가이드부
Claims (18)
- 다수의 기판들을 적재하여 이송하면서 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 트레이로서,
편평한 플레이트 형상을 가지는 모재와; 기판이 적재되는 편평한 적재면을 이루도록 상기 모재의 상면 전체에 형성되는 기저층을 포함하며,
상기 기저층은 기판이 상기 적재면에 로딩 또는 언로딩될 때 기판 및 적재면 사이와 그 외부 사이의 공기흐름을 형성하도록 상기 적재면에 "다수의 돌기들" 및 "하나 이상의 에어패스홈" 중 적어도 어느 하나가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이. - 청구항 1에 있어서,
상기 적재면은 각 기판이 안착되는 복수개의 안착위치들이 설정되며, 상기 에어패스홈은 상기 안착위치의 가장자리로 밖으로 연장된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이. - 청구항 1에 있어서,
상기 에어패스홈으로부터 상기 모재의 저면으로 하나 이상의 관통공이 관통 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이. - 청구항 3에 있어서,
상기 적재면은 각 기판이 안착되는 복수개의 안착위치들이 설정되며, 상기 에어패스홈은 상기 안착위치 내에 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이. - 청구항 3에 있어서,
상기 안착위치의 가장자리로부터 기판의 가장자리 사이의 거리를 D라고 할 때, 상기 에어패스홈은 상기 안착위치의 가장자리로부터 내측으로 2D의 거리 이내에 형성된 기판처리장치의 트레이. - 청구항 1에 있어서,
상기 에어패스홈은 복수개로 구성되며, 상기 복수개의 에어패스홈들은 격자형태로 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이. - 청구항 1에 있어서,
상기 적재면은 상기 안착위치의 가장자리를 따라서 하나 이상의 가이드부가 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이. - 청구항 7에 있어서,
상기 가이드부는 상기 기저부에 설치된 가이드핀 또는 상기 기저부로부터 돌출 형성된 돌기인 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이. - 청구항 7에 있어서,
상기 가이드부는 상기 안착위치를 향하는 쪽으로 가면서 하향 경사로 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이. - 트레이에 다수의 기판들을 적재하여 이송하면서 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 트레이의 제조방법으로서,
편평한 플레이트 형상을 가지는 모재의 상면 전체에 기판이 적재되는 편평한 적재면을 이루도록 기저층을 형성하는 기저층 형성 단계와;
상기 기저층의 적재면에 기판이 상기 적재면에 로딩 또는 언로딩될 때 기판 및 적재면 사이와 그 외부 사이의 공기흐름을 형성하도록 "다수의 돌기들" 및 "하나 이상의 에어패스홈" 중 적어도 어느 하나를 형성하는 적재면 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이 제조방법. - 청구항 10에 있어서,
상기 모재는 알루미늄, 알루미늄합금, 씨씨컴퍼지트(CC Composite), 그래파이트, 글라스(Glass), 및 네오세라믹 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이 제조방법. - 청구항 10에 있어서,
상기 기저층은 상기 모재의 상면에 용사, 습식 및 건식 중 어느 하나의 방법의 코팅에 의하여 형성된 산화막 또는 질화막인 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이 제조방법. - 청구항 10에 있어서,
상기 기저층은 알루미나, Y203, Al2O3, AlN, 산화알루미늄 및 질화알미늄 중 어느 하나의 재질을 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이 제조방법. - 청구항 10에 있어서,
상기 적재면 형성 단계는 기계가공에 의하여 상기 에어패스홈을 형성하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이 제조방법. - 청구항 10에 있어서,
상기 적재면 형성 단계는 상기 돌기들의 형성을 위한 다수의 개구부들이 형성된 돌기형성용 마스크를 상기 기저층 상에 위치시키고 용사에 의하여 상기 다수의 돌기들을 형성하는 돌기형성단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이 제조방법. - 청구항 10에 있어서,
상기 적재면은 각 기판이 안착되는 복수개의 안착위치들이 설정되며,
상기 적재면 형성 단계 전 또는 상기 적재면 형성 단계 후에 상기 안착위치의 가장자리를 따라서 하나 이상의 가이드부가 설치하는 가이드부 설치 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이 제조방법. - 청구항 16에 있어서,
상기 가이드부 설치 단계는 상기 가이드부의 형성을 위한 하나 이상의 개구부들이 형성된 가이드부 형성용 마스크를 상기 기저층 상에 위치시키고 용사에 의하여 상기 하나 이상의 돌기들을 형성하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이 제조방법. - 청구항 10에 있어서,
상기 적재면 형성 단계 후에는
상기 에어패스홈으로부터 상기 모재의 저면으로 하나 이상의 관통공을 관통 형성하는 관통공 형성 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 트레이 제조방법.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020110102239A KR20130037799A (ko) | 2011-10-07 | 2011-10-07 | 기판처리장치용 트레이 및 트레이 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020110102239A KR20130037799A (ko) | 2011-10-07 | 2011-10-07 | 기판처리장치용 트레이 및 트레이 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20130037799A true KR20130037799A (ko) | 2013-04-17 |
Family
ID=48438649
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020110102239A KR20130037799A (ko) | 2011-10-07 | 2011-10-07 | 기판처리장치용 트레이 및 트레이 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20130037799A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101532415B1 (ko) * | 2013-11-20 | 2015-06-29 | 주식회사 엘지에스 | 웨이퍼 트레이 |
-
2011
- 2011-10-07 KR KR1020110102239A patent/KR20130037799A/ko not_active Application Discontinuation
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