KR20130034337A - Mems형 전기화학식 가스 센서 - Google Patents
Mems형 전기화학식 가스 센서 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20130034337A KR20130034337A KR1020110098298A KR20110098298A KR20130034337A KR 20130034337 A KR20130034337 A KR 20130034337A KR 1020110098298 A KR1020110098298 A KR 1020110098298A KR 20110098298 A KR20110098298 A KR 20110098298A KR 20130034337 A KR20130034337 A KR 20130034337A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- gas sensor
- electrochemical gas
- insulating film
- mems
- substrate
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 72
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 10
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 9
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 7
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910001233 yttria-stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000873 Beta-alumina solid electrolyte Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002227 LISICON Substances 0.000 claims description 3
- 229910018119 Li 3 PO 4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910012851 LiCoO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910015643 LiMn 2 O 4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002228 NASICON Substances 0.000 claims description 3
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910012314 Li3.6Ge0.6V0.4O4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 13
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 6
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000011540 sensing material Substances 0.000 description 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000010416 ion conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000029553 photosynthesis Effects 0.000 description 1
- 238000010672 photosynthesis Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/14—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of an electrically-heated body in dependence upon change of temperature
- G01N27/18—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of an electrically-heated body in dependence upon change of temperature caused by changes in the thermal conductivity of a surrounding material to be tested
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/403—Cells and electrode assemblies
- G01N27/406—Cells and probes with solid electrolytes
- G01N27/407—Cells and probes with solid electrolytes for investigating or analysing gases
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0009—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
- G01N33/0027—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector
- G01N33/0036—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector specially adapted to detect a particular component
- G01N33/004—CO or CO2
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Measuring Oxygen Concentration In Cells (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
Abstract
본 발명은 MEMS형 전기화학식 가스 센서에 관한 것으로서, 하부 중앙 영역이 일정 두께만큼 식각되어 있는 기판; 상기 기판 상부에 형성되는 제1 절연막; 상기 제1 절연막 상부에 형성되는 발열 저항체; 상기 발열 저항체 상부에 형성되는 제2 절연막; 상기 제2 절연막 상부 중앙 영역에 형성되는 기준 전극; 상기 기준 전극 상부에 형성되는 고체 전해질; 및 상기 고체 전해질 상부에 형성되는 감지 전극을 포함한다.
Description
본 발명은 전기화학식 가스 센서에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 미세기전집적시스템(Micro Electro Mechanical Systems, MEMS)을 이용한 전기화학식 가스 센서에 관한 것이다.
전기화학식 가스 센서가 감지하는 대표적인 가스로서 CO2 가스가 있다. CO2 가스는 무해하고 식물의 광합성에 필요한 요소지만, 인류 문명의 발전과 더불어 계속적으로 증가하여 온실효과 등에 의한 지구 온난화와 이상 기후 등의 환경 문제를 야기시키고 있다. 따라서, 산업 현장에서의 탄소배출권이나 자동차의 배기가스를 규제하기 위한 CO2 가스 센서의 요구는 앞으로 더더욱 필요한 실정이다.
한편, CO2 가스 센서로서 현재 비분산적외선방식(Non-dispersive Infrared Absorption, NDIR)을 이용한 광학식 가스 센서가 주로 이용되고 있다. 광학식 가스 센서는 정확한 측정이 가능하고 수명이 길며 안정적인 반면에, 가격이 매우 비싸서 범용센서로 사용하기 어려우며 습도가 높은 환경에서는 오차가 커지는 단점이 있다.
이러한 광학식 가스 센서의 단점을 극복할 수 있는 센서로서 고체이온전도체(고체 전해질)를 이용한 전위차형 전기화학식 가스 센서에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 전기화학식 가스 센서는 구조가 단순하고 가스 선택성이 우수하며 ppm 수준의 저농도 가스 검출이 가능하다. 또한, 전기화학식 가스 센서는 광학식 가스 센서에 비해 낮은 가격으로 생산이 가능하므로 보급형 가스분석기나 가정 및 사무실 등에서 이용할 수 있는 범용센서로서 사용 가능성이 높다.
한편, 종래의 전기화학식 가스 센서를 제작하는 방법에는 고체 전해질 세라믹의 한 면에 감지 전극과 기준 전극을 증착하고 반대 면에 센서 동작을 위한 고온용 히터를 증착하는 방법과, 알루미나나 쿼츠 등의 기판 한 면에 고체 전해질 후막과 감지 전극, 기준 전극을 올리고 다른 한 면에 센서 동작용 히터를 증착하여 제작하는 방법이 있다.
이러한 벌크형 전기화학식 가스 센서는 갑작스런 충격에 강한 반면 센서 동작을 위한 높은 온도를 유지하기 위해 전력 소모가 높고 크기가 큰 단점이 있어 휴대용 단말기나 유비쿼터스(Ubiquitous Sensor Network, USN) 센서 노드에 적용이 어려웠다.
따라서, 전기화학식 가스 센서가 휴대용 단말기 또는 USN 센서 네트워크 등에 범용센서로 탑재되어 다양한 서비스에 이용되기 위해서는, 가능한 전력 소모가 적으면서도 크기가 작고 대량 생산이 가능한 MEMS형 전기화학식 가스 센서가 요구된다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 초소형이면서 소모 전력이 현저히 줄어든 MEMS형 전기화학식 가스 센서를 제공하는 데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은 다양한 환경에서 서비스를 제공할 수 있는 MEMS형 전기화학식 가스 센서를 제공한다.
이와 같은 목적을 달성하기 위한, 본 발명의 제1 측면에 따르면, 본 발명에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서는, 하부 중앙 영역이 일정 두께만큼 식각되어 있는 기판; 상기 기판 상부에 형성되는 제1 절연막; 상기 제1 절연막 상부에 형성되는 발열 저항체; 상기 발열 저항체 상부에 형성되는 제2 절연막; 상기 제2 절연막 상부 중앙 영역에 형성되는 기준 전극; 상기 기준 전극 상부에 형성되는 고체 전해질; 및 상기 고체 전해질 상부에 형성되는 감지 전극을 포함한다.
본 발명의 제2 측면에 따르면, 본 발명에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서는, 하부 중앙 영역이 일정 두께만큼 식각되어 있는 기판; 상기 기판 상부에 형성되는 제1 절연막; 상기 제1 절연막 상부에 형성되는 발열 저항체; 상기 발열 저항체 상부에 형성되는 제2 절연막; 상기 제2 절연막 상부 중앙 영역에 형성되는 고체 전해질; 상기 고체 전해질 상부 일측에 형성되는 기준 전극; 및 상기 고체 전해질 상부 타측에 형성되는 감지 전극을 포함한다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 기판이 일정 두께만큼 식각되어 절연막들과 발열 저항체를 열적으로 격리시키는 MEMS형 전기화학식 가스 센서를 제공함으로써, 기존의 벌크형 전기화학식 가스 센서와 비교하여 전력 소모가 줄어드는 효과가 있다.
또한, 수직의 감지 전극/고체 전해질/기준 전극 구조를 가지는 MEMS형 전기화학식 가스 센서를 제공함으로써, 반도체 공정을 이용하여 신호 처리/전송 회로를 기판 상에 집적 가능하고, 이에 따라 여러 시스템(예를 들면, 휴대용 단말기나 센서 노드 등)에 탑재되어 극한 환경에서도 다양한 서비스를 제공할 수 있다.
또한, 저전력 특성을 갖는 MEMS형 전기화학식 가스 센서를 제공함으로써, 제한된 전지 용량 내에서도 장시간 사용될 수 있고, 열전 소자 및 압전 소자 등의 에너지 변환 소자가 동작하는 다양한 환경에서도 자가충전 전원을 이용하여 안정적으로 구동될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 단면도,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 기준 전극 및 감지 전극의 다양한 모양을 나타낸 도면,
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 단면도,
도 4 및 도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 단면도,
도 6a 내지 도 6g는 본 발명의 일실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 제조 방법을 나타낸 공정 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 기준 전극 및 감지 전극의 다양한 모양을 나타낸 도면,
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 단면도,
도 4 및 도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 단면도,
도 6a 내지 도 6g는 본 발명의 일실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 제조 방법을 나타낸 공정 흐름도이다.
이하, 본 발명의 일실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 단면도를 나타낸다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)형 전기화학식 가스 센서는 기판(110), 기판(110) 상부에 형성되는 제1 절연막(120), 제1 절연막(120) 상부에 형성되는 발열 저항체(130), 발열 저항체(130) 상부에 형성되는 제2 절연막(140), 제2 절연막(140) 상부 중앙 영역에 형성되는 기준 전극(150), 기준 전극(150) 상부에 형성되는 고체 전해질(160) 및 고체 전해질(160) 상부에 형성되는 감지 전극(170) 등을 포함한다. 또한, 본 발명에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서는 발열 저항체(130) 형성시 접착력을 더 높이기 위하여 제1 절연막(120)과 발열 저항체(130) 사이에 크롬(Cr) 또는 티타늄(Ti) 등을 이용한 부착층(미도시)을 더 포함할 수 있다.
기판(110)은 제1 절연막(120)과 발열 저항체(130)를 열적으로 격리시키기 위해 하부 중앙 영역이 일정 두께만큼 식각되어 있다. 여기서, 기판(110)은 일반적인 반도체 공정에서 사용되는 실리콘 기판을 이용할 수 있고, 산화 알루미늄(Al2O3), 산화 마그네슘(MgO), 석영(Quartz), 갈륨-질소(GaN) 또는 갈륨-비소(GaAs)가 도핑된 기판을 이용할 수도 있다.
제1 절연막(120)은 단일 또는 다수의 산화 실리콘막 또는 질화 실리콘막으로 구성되고, 구조적으로 발열 저항체(130)를 지지하며, 기판(110)을 식각할 때 발열 저항체(130)를 보호하는 역할을 한다.
발열 저항체(130)는 가스 감지 특성을 향상시키기 위하여 주변 온도를 상승시키는 역할을 한다. 여기서, 발열 저항체(130)는 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 텅스텐(W) 또는 금(Au) 등의 금속 또는 실리콘 또는 전도성 금속 산화물 등을 이용하여 형성될 수 있고, 선으로 구성된 다양한 형태로 형성될 수 있다.
제2 절연막(140)은 단일 또는 다수의 산화 실리콘막 또는 질화 실리콘막으로 구성되고, 발열 저항체(130)와 기준 전극(150) 사이에 위치하여 발열 저항체(130)와 기준 전극(150)을 전기적으로 절연시킨다. 또한, 제2 절연막(140)은 발열 저항체(130)의 일부가 노출되도록 식각되어 있다. 따라서, 발열 저항체(130)는 히터 전극 패드(미도시) 및 본딩 와이어(미도시)에 의하여 외부 회로와 연결될 수 있다.
기준 전극(150)은 감지하고자 하는 가스와의 반응성이 없는 적어도 하나의 소재를 사용하는데, 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 텅스텐(W) 또는 금(Au) 등의 금속과 고체 전해질(160)의 종류에 따른 Ag2SO4, Na2Ti6O13-TiO2, Li2TiO3-TiO2, LiMn2O4, LiCoO2-Co3O4 및 Na2ZrO3-ZrO3 등의 산화물 소재로 이루어질 수 있다. 여기서, 기준 전극(150)은 도 2에 도시된 바와 같이 인터디지털 형태, 빈 사각형 또는 사각형 형태의 단일 또는 조합으로 형성될 수 있다. 또한, 기준 전극(150)의 양단에는 신호 전달을 위한 본딩 와이어(미도시)가 접촉될 수 있다.
고체 전해질(160)은 절연체이면서 전기가 통하는 물질로 이온이 고체 내를 10-6~10-2 Ω-1cm-1 정도의 빠른 속도로 이동하여 전기전도성을 나타내는 물질로서, Ag+, Cu+, Na+, Li+, K+ 및 H+ 등의 양이온이 이동하는 경우와 O2 -, F-, Cl- 및 I- 등의 음이온이 이동하는 경우가 있는데, 이산화탄소의 감지를 위해서 YSZ(Yttria Stabilized Zirconia), K2CO3, NASICON(Na1 + xZr2SixP3 - xO12), β-Al2O3(Na2O·11Al2O3), Li3PO4, LISICON(Li2 +2 xZn1 - xGeO4), LIPON(Lithium Phosphorous Oxynitride), Li2CO3-MgO, Li2SO4, Li4SiO4, Li14ZnGe4O16, γ-Li3 .6Ge0 .6V0 .4O4, Li3N, Li-β-alumina, Li1 + xTi2 -xMx(PO4)3(M=Al, Sc, Y 또는 La) 및 LixLa(2-x)/3TiO3 등을 포함할 수 있다.
감지 전극(170)은 감지하고자 하는 가스와의 반응에 의한 기전력 변화를 일으키는 적어도 하나의 소재를 사용하는데, 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 텅스텐(W) 또는 금(Au) 등의 금속과 고체 전해질의 종류에 따른 Na2CO3 또는 혼합 Na2CO3(Na2CO3-BaCO3, Na2CO3-Li2CO3, Li2CO3-BaCO3 및 Li2CO3-CaCO3 등), Li2CO3 또는 혼합 Li2CO3(Li2CO3-BaCO3, Li2CO3-SrCO3 및 Li2CO3-CaCO3 등) 등의 산화물 소재로 이루어질 수 있다. 여기서, 감지 전극(170)은 기준 전극(150)과 마찬가지로 인터디지털 형태, 빈 사각형 또는 사각형 형태의 단일 또는 조합으로 형성될 수 있다. 또한, 감지 전극(170)의 양단에는 신호 전달을 위한 본딩 와이어(미도시)가 접촉될 수 있다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 단면도를 나타낸다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서는 도 1의 MEMS형 전기화학식 가스 센서와 마찬가지로 기판(310), 제1 절연막(320), 발열 저항체(330), 제2 절연막(340), 고체 전해질(350), 기준 전극(360) 및 감지 전극(370) 등을 포함한다.
다만, 본 발명의 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서는 도 1의 MEMS형 전기화학식 가스 센서와 달리 기준 전극(360), 고체 전해질(350) 및 감지 전극(370)이 수평 구조로 이루어진다. 자세하게는, 고체 전해질(350) 상부 일측에 기준 전극(360)이 형성되고, 고체 전해질(350) 상부 타측에 감지 전극(370)이 형성된다.
따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서는 도 1의 MEMS형 전기화학식 가스 센서와 마찬가지로 소모 전력을 최소화할 수 있는 반면, 도 1의 MEMS형 전기화학식 가스 센서에 비해 집적도가 떨어진다.
도 4 및 도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 단면도를 나타낸다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서는 도 3의 MEMS형 전기화학식 가스 센서와 마찬가지로 기판(410, 510), 제1 절연막(420, 520), 발열 저항체(430, 530), 제2 절연막(440, 540), 고체 전해질(450, 560), 기준 전극(460, 550) 및 감지 전극(470, 570) 등을 포함한다.
다만, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서는 도 3의 MEMS형 전기화학식 가스 센서와 달리 제1 절연막(420, 520)과 발열 저항체(430, 530)를 열적으로 격리시키기 위해 기판(410, 510)의 상부 중앙 영역이 일정 두께만큼 식각되어 있다. 이를 위해, 기판(410, 510)의 상부 중앙 영역을 표면 식각법(Surface-micromachining)을 통해 식각한다.
따라서, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서는 도 1 및 도 3의 MEMS형 전기화학식 가스 센서와 마찬가지로 소모 전력을 최소화할 수 있고, 이와 더불어 기판의 뒷면이 닫혀 있어서 제작 공정이나 취급이 용이하다.
도 6a 내지 도 6g는 본 발명의 일실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서의 제조 방법을 나타낸 공정 흐름도이다.
도 6a를 참조하면, 기판(110) 상부에 단일 또는 다수의 산화 실리콘막 또는 질화 실리콘막을 열 증착법, 스퍼터링 증착법 또는 화학 기상 증착법 등의 증착 공정을 통해 증착하여 제1 절연막(120)을 형성한다.
도 6b를 참조하면, 제1 절연막(120) 상부에 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 텅스텐(W) 또는 금(Au) 등의 금속막 또는 실리콘막 또는 전도성 금속 산화물막 등을 스퍼터링 증착법, 전자빔 증착법 또는 기화 증착법 등의 증착 공정을 통해 증착하여 발열 저항체(130)를 형성한다.
도 6c를 참조하면, 발열 저항체(130) 상부에 단일 또는 다수의 산화 실리콘막 또는 질화 실리콘막을 열산화 증착법, 스퍼터링 증착법 또는 화학 기상 증착법 등의 증착 공정을 통해 증착하여 제2 절연막(140)을 형성한다.
도 6d를 참조하면, 제2 절연막(140) 상부에 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 텅스텐(W) 또는 금(Au) 등의 금속막 또는 전도성 금속 산화물 등을 스퍼터링 증착법, 전자빔 증착법 또는 열 증착법 등의 증착 공정을 통해 증착하고, 그 위에 열증착법, 스퍼터링법, 스크린 프린팅법, 솔-젤법, 화학적 기상 증착법, 잉크젯 프린팅법 등의 증착 공정을 통해 Ag2SO4, Na2Ti6O13-TiO2, Li2TiO3-TiO2, LiMn2O4, LiCoO2-Co3O4, Na2ZrO3-ZrO3 등의 산화물 소재를 증착하여 기준 전극(150)을 형성한다. 이후, 기준 전극(150)을 패터닝하여 제2 절연막(140) 상부 중앙 영역에 기준 전극(150)이 위치하도록 한다.
도 6e를 참조하면, 기준 전극(150) 상부에 열증착법, 스퍼터링법, 스크린 프린팅법, 솔-젤법, 화학적 기상 증착법, 원자층 증착법 및 잉크젯 프린팅법 등의 증착 공정을 통해 YSZ(Yttria Stabilized Zirconia), K2CO3, NASICON(Na1 + xZr2SixP3 -xO12), β-Al2O3(Na2O·11Al2O3), Li3PO4, LISICON(Li2 +2 xZn1 - xGeO4), LIPON(Lithium Phosphorous Oxynitride), Li2CO3-MgO, Li2SO4, Li4SiO4, Li14ZnGe4O16, γ-Li3.6Ge0.6V0.4O4, Li3N, Li-β-alumina, Li1 + xTi2 - xMx(PO4)3(M=Al, Sc, Y 또는 La) 및 LixLa(2-x)/3TiO3 등의 고체 전해질(160)을 금속 마스크 등을 이용하거나 직접 원하는 부분에 증착한다.
도 6f를 참조하면, 고체 전해질(160) 상부에 스퍼터링 증착법, 전자빔 증착법, 화학적 기상 증착법 또는 열 증착법, 잉크젯 프린팅법 등의 증착 공정을 통해 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 텅스텐(W) 또는 금(Au) 등의 금속막 또는 전도성 금속 산화물 등을 금속 마스크 등을 이용하거나 직접 원하는 부분에만 증착하고, 그 위에 열증착법, 스퍼터링법, 스크린 프린팅법, 솔-젤법, 화학적 기상 증착법, 원자층 증착법, 잉크젯 프린팅법 등을 통해 Na2CO3 또는 혼합 Na2CO3(Na2CO3-BaCO3, Na2CO3-Li2CO3, Li2CO3-BaCO3 및 Li2CO3-CaCO3 등), Li2CO3 또는 혼합 Li2CO3(Li2CO3-BaCO3, Li2CO3-SrCO3 및 Li2CO3-CaCO3 등) 등의 산화물 소재를 증착하여 감지 전극(170)을 형성한다.
도 6g를 참조하면, 제1 절연막(120)과 발열 저항체(130)를 열적으로 격리시키기 위해, XeF2를 이용한 건식 식각, Deep RIE(Reactive Ion Etching) 및 KOH 또는 TMAH를 이용한 습식 식각 등의 식각 공정을 통해 기판(110) 하부 중앙 영역을 일정 두께만큼 식각한다. 이와 동시에, 발열 저항체(130)의 일부가 노출되도록 제2 절연막(140)을 식각할 수 있다. 따라서, 발열 저항체(130)는 히터 전극 패드(미도시) 및 본딩 와이어(미도시)에 의하여 외부 회로와 연결될 수 있다.
본 발명의 일실시예에서는 소재 증착 공정 이후에 기판 식각 공정을 수행하고 있으나, 기준 전극, 고체 전해질 및 감지 전극의 증착 방법에 따라 소재 증착 공정과 기판 식각 공정의 순서가 달라질 수 있다. 예를 들면, 스크린 프린팅법과 같이 기판에 압력이 가해지는 감지 소재 증착법을 이용하는 경우 소재 증착을 먼저 하고 기판을 식각하여 MEMS형 전기화학식 가스 센서를 제작하며, 솔-젤법, 잉크젯 프린팅법, 스퍼터링 증착법 및 화학적 기상 증착법과 같이 기판에 압력이 가해지지 않는 감지 소재 증착법을 이용하는 경우 기판 식각 공정을 먼저 하고 소재 증착 공정을 나중에 할 수도 있다.
상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 일실시예에 따른 MEMS형 전기화학식 가스 센서는, 소모 전력을 최소화하면서도 반도체 공정을 기반으로 감지 신호 처리/전송 회로의 집적화가 가능하여 대량 생산이 용이하며 다양한 기능을 부가할 수 있는 이점이 있다.
본 발명의 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명을 한정하는 것이 아니다. 본 발명의 범위는 아래의 특허청구범위에 의해 해석되어야 하며, 그와 균등한 범위 내에 있는 모든 기술도 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석해야 할 것이다.
110: 기판 120: 제1 절연막
130: 발열 저항체 140: 제2 절연막
150: 기준 전극 160: 고체 전해질
170: 감지 전극
130: 발열 저항체 140: 제2 절연막
150: 기준 전극 160: 고체 전해질
170: 감지 전극
Claims (11)
- 하부 중앙 영역이 일정 두께만큼 식각되어 있는 기판;
상기 기판 상부에 형성되는 제1 절연막;
상기 제1 절연막 상부에 형성되는 발열 저항체;
상기 발열 저항체 상부에 형성되는 제2 절연막;
상기 제2 절연막 상부 중앙 영역에 형성되는 기준 전극;
상기 기준 전극 상부에 형성되는 고체 전해질; 및
상기 고체 전해질 상부에 형성되는 감지 전극;
을 포함하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
- 제1항에 있어서,
상기 기판은 실리콘 기판 또는 산화 알루미늄(Al2O3), 산화 마그네슘(MgO), 석영(Quartz), 갈륨-질소(GaN) 및 갈륨-비소(GaAs) 중 어느 하나가 도핑된 기판인 것을 특징으로 하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
- 제1항에 있어서,
상기 제1 절연막 및 상기 제2 절연막은 단일 또는 다수의 산화 실리콘막 또는 질화 실리콘막으로 구성되는 것을 특징으로 하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
- 제1항에 있어서,
상기 발열 저항체는 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 텅스텐(W) 및 금(Au) 중 적어도 하나를 포함하는 금속 또는 실리콘 또는 전도성 금속 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
- 제1항에 있어서,
상기 제1 절연막과 상기 발열 저항체 사이에 형성되고, 크롬(Cr) 또는 티타늄(Ti)을 포함하는 부착층;
을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
- 제1항에 있어서,
상기 기준 전극은 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 텅스텐(W) 및 금(Au) 중 적어도 하나를 포함하는 금속과 Ag2SO4, Na2Ti6O13-TiO2, Li2TiO3-TiO2, LiMn2O4, LiCoO2-Co3O4 및 Na2ZrO3-ZrO3 중 적어도 하나를 포함하는 산화물 소재로 구성되는 것을 특징으로 하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
- 제1항에 있어서,
상기 고체 전해질은 YSZ(Yttria Stabilized Zirconia), K2CO3, NASICON(Na1+xZr2SixP3-xO12), β-Al2O3(Na2O·11Al2O3), Li3PO4, LISICON(Li2 +2 xZn1 - xGeO4), LIPON(Lithium Phosphorous Oxynitride), Li2CO3-MgO, Li2SO4, Li4SiO4, Li14ZnGe4O16, γ-Li3 .6Ge0 .6V0 .4O4, Li3N, Li-β-alumina, Li1 + xTi2 - xMx(PO4)3(M=Al, Sc, Y 또는 La) 및 LixLa(2-x)/3TiO3 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
- 제1항에 있어서,
상기 감지 전극은 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 텅스텐(W) 및 금(Au) 중 적어도 하나를 포함하는 금속과 Na2CO3, 혼합 Na2CO3(Na2CO3-BaCO3, Na2CO3-Li2CO3, Li2CO3-BaCO3 및 Li2CO3-CaCO3), Li2CO3 및 혼합 Li2CO3(Li2CO3-BaCO3, Li2CO3-SrCO3 및 Li2CO3-CaCO3) 중 적어도 하나를 포함하는 산화물 소재로 구성되는 것을 특징으로 하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
- 제1항에 있어서,
상기 기준 전극 및 상기 감지 전극은 인터디지털 형태, 빈 사각형 형태 또는 사각형 형태의 단일 또는 조합으로 형성되는 것을 특징으로 하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
- 하부 중앙 영역이 일정 두께만큼 식각되어 있는 기판;
상기 기판 상부에 형성되는 제1 절연막;
상기 제1 절연막 상부에 형성되는 발열 저항체;
상기 발열 저항체 상부에 형성되는 제2 절연막;
상기 제2 절연막 상부 중앙 영역에 형성되는 고체 전해질;
상기 고체 전해질 상부 일측에 형성되는 기준 전극; 및
상기 고체 전해질 상부 타측에 형성되는 감지 전극;
을 포함하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
- 제10항에 있어서,
상기 기준 전극 및 상기 감지 전극은 인터디지털 형태, 빈 사각형 형태 또는 사각형 형태의 단일 또는 조합으로 형성되는 것을 특징으로 하는 MEMS형 전기화학식 가스 센서.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110098298A KR101773954B1 (ko) | 2011-09-28 | 2011-09-28 | Mems형 전기화학식 가스 센서 |
US13/620,546 US9494543B2 (en) | 2011-09-28 | 2012-09-14 | MEMS electrochemical gas sensor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110098298A KR101773954B1 (ko) | 2011-09-28 | 2011-09-28 | Mems형 전기화학식 가스 센서 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130034337A true KR20130034337A (ko) | 2013-04-05 |
KR101773954B1 KR101773954B1 (ko) | 2017-09-05 |
Family
ID=47910049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110098298A KR101773954B1 (ko) | 2011-09-28 | 2011-09-28 | Mems형 전기화학식 가스 센서 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9494543B2 (ko) |
KR (1) | KR101773954B1 (ko) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150110198A (ko) * | 2014-03-24 | 2015-10-02 | (주)나노아이오닉스코리아 | 금속 활동도가 고정되는 기준 전극과 고체 전해질을 이용한 산소 센서 |
CN105628757A (zh) * | 2015-12-30 | 2016-06-01 | 中国科学院电子学研究所 | 基于mems的orp传感芯片及其制造方法 |
US10017379B2 (en) | 2015-06-24 | 2018-07-10 | Infineon Technologies Ag | System and method for a MEMS transducer |
KR102202353B1 (ko) * | 2019-08-02 | 2021-01-13 | 주식회사 신성씨앤티 | 격리 플랫폼 |
KR102600398B1 (ko) * | 2023-06-23 | 2023-11-10 | 김세민 | 단일칩으로 집적된 열전도 가스감지소자 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2762865A1 (en) * | 2013-01-31 | 2014-08-06 | Sensirion Holding AG | Chemical sensor and method for manufacturing such a chemical sensor |
WO2014143782A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | The Cleveland Clinic Foundation | Miniaturized gas sensor device and method |
JP6347617B2 (ja) * | 2013-12-13 | 2018-06-27 | 日本特殊陶業株式会社 | ガス検出器、及び、ガス検出システム |
DE102014224587A1 (de) | 2014-12-02 | 2016-06-02 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Herstellen einer Gassensorvorrichtung zum Erfassen zumindest eines gasförmigen Analyten und Gassensorvorrichtung zum Erfassen zumindest eines gasförmigen Analyten |
EP2896962A1 (en) * | 2015-02-24 | 2015-07-22 | Sensirion AG | Gas sensor chip |
US20170067841A1 (en) * | 2015-09-09 | 2017-03-09 | Invensense, Inc. | Gas sensor platform and the method of making the same |
US10578572B2 (en) | 2016-01-19 | 2020-03-03 | Invensense, Inc. | CMOS integrated microheater for a gas sensor device |
CN107167511B (zh) * | 2016-03-07 | 2020-05-26 | 光宝光电(常州)有限公司 | 气体传感器 |
KR101868686B1 (ko) * | 2016-06-30 | 2018-06-19 | 중앙대학교 산학협력단 | 이온전도성 막의 제조 방법 |
US20180003677A1 (en) * | 2016-06-30 | 2018-01-04 | Intel Corporation | Piezoelectric package-integrated chemical species-sensitive resonant devices |
US10383967B2 (en) | 2016-11-30 | 2019-08-20 | Invensense, Inc. | Substance sensing with tracers |
CN109211983B (zh) * | 2017-07-07 | 2021-03-23 | 台湾奈米碳素股份有限公司 | 利用微机电工艺制造气体检测器的方法 |
US11002700B2 (en) | 2017-11-21 | 2021-05-11 | Honeywell International Inc. | High temperature gas sensor |
US10749199B2 (en) * | 2017-11-29 | 2020-08-18 | International Business Machines Corporation | Li1+xAlxTi2-x(PO4)3 solid-state thin film electrolyte for 3D microbattery and method of fabrication |
CN110655032B (zh) * | 2018-06-29 | 2022-12-23 | 上海汽车集团股份有限公司 | 一种带功能层的陶瓷基微热板及其制备方法 |
TWI672262B (zh) | 2018-12-28 | 2019-09-21 | 財團法人工業技術研究院 | 微機電加熱裝置 |
US20200333284A1 (en) * | 2019-04-18 | 2020-10-22 | Honeywell International Inc. | High surface area electrode for electrochemical sensor |
DE102019127924B3 (de) * | 2019-10-16 | 2021-01-21 | Tdk Electronics Ag | Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines Bauelements |
CN111044577B (zh) * | 2019-12-27 | 2020-10-27 | 安徽芯淮电子有限公司 | 基于玻璃基底的mems半导体式气体传感器及其制作方法 |
EP3971563B1 (en) * | 2020-09-21 | 2024-02-14 | Sensirion AG | Method for manufacturing an electrochemical gas sensor |
US20240019395A1 (en) * | 2020-12-04 | 2024-01-18 | Shenzhen Everbest Machinery Industry Co., Ltd. | Mems-based alcohol sensor and intelligent device |
US20230408488A1 (en) * | 2020-12-04 | 2023-12-21 | Shenzhen Everbest Machinery Industry Co., Ltd. | Air blowing method-based alcohol sensor, and smart device |
KR102674022B1 (ko) | 2021-08-25 | 2024-06-11 | 이명진 | 가변 출력전압 공급이 가능한 mems 가스센서 칩 패키지 및 mems 가스센서 장치 |
US20230199411A1 (en) * | 2021-12-17 | 2023-06-22 | Oticon A/S | Hearing aid configured to perform a recd measurement |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5389225A (en) * | 1989-01-24 | 1995-02-14 | Gas Research Institute | Solid-state oxygen microsensor and thin structure therefor |
JP2002174618A (ja) * | 2000-12-07 | 2002-06-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体電解質型ガスセンサ |
KR100537093B1 (ko) | 2003-10-02 | 2005-12-16 | 한국과학기술연구원 | Mems 구조물을 이용한 탄소나노튜브 가스센서 및 그제작방법 |
KR200351291Y1 (ko) | 2004-02-19 | 2004-05-20 | 주식회사 오감테크놀러지 | 고체전해질식 이산화탄소 가스센서 |
US20050214170A1 (en) * | 2004-03-23 | 2005-09-29 | Webasto Ag | Gas sensor and process for producing a gas sensor |
KR100949468B1 (ko) | 2007-10-11 | 2010-03-29 | 한국과학기술원 | 초기 동작 시간이 단축된 전기화학식 이산화탄소 감지센서 |
KR20110066849A (ko) | 2009-12-11 | 2011-06-17 | 한국전자통신연구원 | 저전력소모형 반도체 가스 센서 |
-
2011
- 2011-09-28 KR KR1020110098298A patent/KR101773954B1/ko active IP Right Grant
-
2012
- 2012-09-14 US US13/620,546 patent/US9494543B2/en active Active
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150110198A (ko) * | 2014-03-24 | 2015-10-02 | (주)나노아이오닉스코리아 | 금속 활동도가 고정되는 기준 전극과 고체 전해질을 이용한 산소 센서 |
US10017379B2 (en) | 2015-06-24 | 2018-07-10 | Infineon Technologies Ag | System and method for a MEMS transducer |
CN105628757A (zh) * | 2015-12-30 | 2016-06-01 | 中国科学院电子学研究所 | 基于mems的orp传感芯片及其制造方法 |
KR102202353B1 (ko) * | 2019-08-02 | 2021-01-13 | 주식회사 신성씨앤티 | 격리 플랫폼 |
KR102600398B1 (ko) * | 2023-06-23 | 2023-11-10 | 김세민 | 단일칩으로 집적된 열전도 가스감지소자 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130075255A1 (en) | 2013-03-28 |
KR101773954B1 (ko) | 2017-09-05 |
US9494543B2 (en) | 2016-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101773954B1 (ko) | Mems형 전기화학식 가스 센서 | |
KR100812996B1 (ko) | 마이크로 가스 센서 및 그 제조방법 | |
JP6403985B2 (ja) | 限界電流式ガスセンサおよびその製造方法、およびセンサネットワークシステム | |
KR101504943B1 (ko) | 접촉 연소식 수소센서 및 그 제조방법 | |
WO2014136329A1 (ja) | 限界電流式ガスセンサ、限界電流式ガスセンサの製造方法、およびセンサネットワークシステム | |
KR20030055341A (ko) | 가스 센서 및 가스 농도의 검출 방법 및 장치 | |
US20170167999A1 (en) | Semiconductor type gas sensor, method of manufacturing semiconductor type gas sensor, and sensor network system | |
TW201105972A (en) | Radio frequency identification based thermal bubble type accelerometer | |
KR20140097714A (ko) | 다공성 멤브레인이 내장된 마이크로히터를 이용한 mems형 접촉연소식 가스 센서 | |
EP2896962A1 (en) | Gas sensor chip | |
CN104316575B (zh) | 全硅mems甲烷传感器及瓦斯检测应用和制备方法 | |
KR20110066849A (ko) | 저전력소모형 반도체 가스 센서 | |
CN210136193U (zh) | 一种气体传感器及传感器阵列 | |
KR100531376B1 (ko) | 이산화탄소 가스 센서 및 그 제조방법 | |
EP0653059A1 (en) | Thin film gas sensor and method of fabrication thereof | |
KR20180051237A (ko) | 가스센서 | |
KR20190014981A (ko) | 마이크로 가스센서 어레이 및 그 제조방법 | |
KR100575651B1 (ko) | 고체전해질 이산화탄소 센서 및 그 제조방법 | |
KR101047363B1 (ko) | 자가 발전이 가능한 다중 기능 센서 및 이의 제조 방법 | |
KR102172268B1 (ko) | 전자 후각 소자 및 그 제조방법 | |
CN117401646B (zh) | 一种mems气体传感器及其加工方法 | |
JP3778062B2 (ja) | Coセンサ | |
KR20050058795A (ko) | 고체전해질 이산화탄소 센서 및 그 제조방법 | |
KR100938673B1 (ko) | 이산화탄소센서 및 상기 이산화탄소센서가 구비된이산화탄소 측정장치 | |
WO2024185558A1 (ja) | 薄膜デバイス及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |