KR20130031802A - Processing solution discharge nozzle and substrate processing apparatus - Google Patents

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KR20130031802A
KR20130031802A KR1020120104625A KR20120104625A KR20130031802A KR 20130031802 A KR20130031802 A KR 20130031802A KR 1020120104625 A KR1020120104625 A KR 1020120104625A KR 20120104625 A KR20120104625 A KR 20120104625A KR 20130031802 A KR20130031802 A KR 20130031802A
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KR1020120104625A
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무네히사 고다마
가즈히또 미야자끼
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: A processing solution discharge nozzle and a substrate processing apparatus are provided to spread uniform liquid on a substrate. CONSTITUTION: Nozzle tips(70) are formed on a nozzle header pipe(68) in a row. A warpage correction tool(74) prevents the warpage of the nozzle header pipe due to gravity. The warpage correction apparatus comprises a first intermediate joint part(78), a second intermediate joint part(80), a center joint part(76), and the second rigid wheel(84). [Reference numerals] (AA) Processing solution

Description

처리액 토출 노즐 및 기판 처리 장치 {PROCESSING SOLUTION DISCHARGE NOZZLE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}Processing liquid discharge nozzle and substrate processing apparatus {PROCESSING SOLUTION DISCHARGE NOZZLE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명은, 피처리 기판에 처리액을 분사하기 위한 장척형의 처리액 토출 노즐 및 이것을 사용하는 평류 방식의 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a long processing liquid discharge nozzle for injecting a processing liquid onto a substrate to be processed and a substrate processing apparatus of a flat flow method using the same.

최근, 플랫 패널 디스플레이(FPD) 제조에 있어서의 레지스트 도포 현상 처리 시스템에서는, 피처리 기판(예를 들어, 글래스 기판)의 대형화에 유리하게 대응할 수 있는 세정 처리 방법, 혹은 현상 처리 방법으로서, 반송 롤러나 반송 벨트를 수평 방향으로 부설하여 이루어지는 반송로 상에서 기판을 반송하면서 세정 처리, 혹은 현상 처리를 행하도록 한, 소위 평류 방식이 다용 내지 상용되고 있다. 이와 같은 평류 방식은, 기판을 회전 운동시키는 스피너 방식과 비교하여, 기판의 취급이나 반송계 및 구동계의 구성이 간단하다는 등의 이점이 있다.In recent years, in the resist coating and developing system in flat panel display (FPD) production, a conveyance roller as a cleaning processing method or development processing method that can advantageously cope with an increase in size of a substrate to be processed (for example, a glass substrate). The so-called flat flow method which carries out the washing process or the developing process while conveying a board | substrate on the conveyance path formed by installing a conveyance belt in the horizontal direction is used abundantly or commercially. Such a flat flow method has the advantage that the handling of a board | substrate, the structure of a conveyance system, and a drive system are simple compared with the spinner system which rotates a board | substrate.

이와 같은 평류 방식을 채용하는 세정 처리 장치는, 평류 반송로 상에서 이동하는 기판에 세정액이나 린스액을 분사하기 위해, 장척형의 처리액 토출 노즐을 많이 사용하고 있다. 또한, 평류 방식의 현상 처리 장치도, 평류 반송로 상에서 이동하는 기판에 현상액을 분사하거나, 또는 도포(liquid swell)하기 위해, 장척형의 처리액 토출 노즐을 사용하고 있다.In the cleaning processing apparatus employing such a flat flow method, a long processing liquid discharge nozzle is often used to inject a cleaning liquid or a rinse liquid onto a substrate moving on the flat flow conveying path. In addition, the developing method of the flat flow system also uses a long treatment liquid discharge nozzle for injecting or liquid swelling the developing solution onto the substrate moving on the flat flow conveying path.

종래의 이러한 종류의 기판 처리 장치는, 도 10 및 도 11에 도시한 바와 같이, 장척형의 처리액 토출 노즐, 예를 들어 스프레이 노즐(200)을 평류 반송로(202) 상에 반송 방향과 교차(통상은 직교)하는 방향으로 수평하게 걸쳐 보유 지지하기 위한 노즐 보유 지지 기구(206)를 구비하고 있다. 이 노즐 보유 지지 기구(206)는, 평류 반송로(202)의 양측에 세워 설치된 한 쌍의 지주(208, 210)의 사이에 수평하게 걸쳐지는 빔(212)에 일정 간격으로 다수(예를 들어 4개)의 브래킷(214)을 설치하고, 이들 다수의 브래킷(214) 상에 1개 또는 복수개(도시한 예의 경우에는 2개)의 스프레이 노즐(200)을 고정구(215)로 고정한다.In the conventional substrate processing apparatus of this kind, as shown in FIGS. 10 and 11, the long processing liquid discharge nozzle, for example, the spray nozzle 200, intersects the conveying direction on the flat flow conveying path 202. The nozzle holding mechanism 206 for holding in the horizontal direction (normally orthogonal) is provided. The nozzle holding mechanism 206 is a plurality of the nozzle holding mechanisms 206 horizontally between a pair of struts 208 and 210 which are installed on both sides of the flat flow conveying path 202 at regular intervals (for example, Four brackets 214 are provided, and one or more (two in the example shown) spray nozzles 200 are fixed on the plurality of brackets 214 with the fixture 215.

스프레이 노즐(200)은, 예를 들어 폴리염화비닐(PVC) 등의 가요성의 수지로 이루어지고, 평류 반송로(202) 상을 이동하는 기판(G)의 횡폭 사이즈보다도 긴 노즐 헤더 관(216)에 다수의 노즐 팁(218)을 길이 방향 일렬로 나란히 설치하고 있고, 전체 길이가 수 m를 초과하는 것도 드물지 않다. 이로 인해, 평류 반송로(202)의 양측에서 스프레이 노즐(200)의 양단부만을 지지한 것만으로는 스프레이 노즐(200)이 자중에 의해 그 중심부가 가라앉듯이 휘어 버린다. 스프레이 노즐(200)이 휘면, 스프레이 노즐(200)의 길이 방향에 있어서 각 노즐 팁(218)과 평류 반송로(202) 상의 기판(G)의 거리 간격이 변동되어, 기판(G) 상의 액 처리에 편차가 발생한다. 그러나 상기한 바와 같은 노즐 보유 지지 기구(206)를 구비함으로써, 스프레이 노즐(200)을 수평하게 보유 지지하여, 그 길이 방향에 있어서 각 노즐 팁(218)과 기판(G)의 거리 간격을 균일하게 유지하여, 기판(G) 상의 각 부에 균일한 액 처리를 실시할 수 있다.The spray nozzle 200 consists of flexible resin, such as polyvinyl chloride (PVC), for example, and is a nozzle header tube 216 longer than the width | variety size of the board | substrate G which moves on the flat stream conveyance path 202. Many nozzle tips 218 are provided side by side in the longitudinal line, and it is not uncommon for the total length to exceed several m. For this reason, only supporting both ends of the spray nozzle 200 on both sides of the flat flow conveyance path 202 will bend the spray nozzle 200 so that the center part may sink by self weight. When the spray nozzle 200 is bent, the distance interval between the nozzle tip 218 and the substrate G on the flat flow conveyance path 202 in the longitudinal direction of the spray nozzle 200 is varied, and the liquid treatment on the substrate G is performed. Deviation occurs in However, by providing the nozzle holding mechanism 206 as described above, the spray nozzle 200 is held horizontally, and the distance between each nozzle tip 218 and the substrate G is uniform in the longitudinal direction. It can hold | maintain and can perform uniform liquid process to each part on the board | substrate G.

일본 특허 출원 공개 제2007-300129호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2007-300129

상기한 바와 같은 평류 방식의 기판 처리 장치에 있어서는, 평류 반송로(202)를 따라 설치되는 스프레이 노즐(200) 및 그 외의 툴의 수리ㆍ부품 교환은 물론, 평류 반송로(202)를 구성하는 롤러(220)의 수리ㆍ부품 교환도 수시 또는 정기적으로 행해진다.In the above-described flat flow type substrate processing apparatus, the roller constituting the flat flow conveyance path 202 as well as repair and replacement of the spray nozzle 200 and other tools provided along the flat flow conveyance path 202. Repair and replacement of parts 220 are also performed at any time or periodically.

그런데 상기한 바와 같은 노즐 보유 지지 기구(206)를 설치하면, 이 노즐 보유 지지 기구(206)에서의 스프레이 노즐(200)의 제거나 재장착이 매우 번거로워, 스프레이 노즐(200)의 메인터넌스성이 나빠진다고 하는 문제가 있었다. 또한, 작업원이 노즐 보유 지지 기구(206)의 바로 아래에 위치하는 평류 반송로의 롤러(220)의 점검ㆍ수리를 행할 때에, 노즐 보유 지지 기구(206)의 빔(212)이나 브래킷(214) 등이 방해되어, 롤러(220)에의 액세스가 어렵다고 하는 불편도 있었다.When the nozzle holding mechanism 206 as described above is provided, the removal and remounting of the spray nozzle 200 in the nozzle holding mechanism 206 is very cumbersome, resulting in poor maintenance of the spray nozzle 200. There was a problem. Moreover, when a worker inspects and repairs the roller 220 of the flat flow conveyance path located just below the nozzle holding mechanism 206, the beam 212 or the bracket 214 of the nozzle holding mechanism 206 is carried out. ), Etc. are hindered, and access to the roller 220 is difficult.

본 발명은, 상기 종래 기술의 문제점을 해결하는 것으로, 착탈성이나 메인터넌스성이 우수하고, 빔형의 노즐 보유 지지 기구가 없어도 휘지 않는 장척형의 처리액 토출 노즐 및 이것을 사용하는 평류 방식의 기판 처리 장치를 제공한다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This invention solves the problem of the said prior art, and is a long process liquid discharge nozzle which is excellent in detachability and maintenance property, and does not bend, even without a beam-type nozzle holding mechanism, and the flat-flow type substrate processing apparatus using the same. To provide.

본 발명의 처리액 토출 노즐은, 처리액 공급원에 접속되는 노즐 헤더 관과, 상기 노즐 헤더 관에 길이 방향으로 분포 또는 개방되어 설치되고, 상기 처리액 공급원으로부터 상기 노즐 헤더 관으로 도입된 처리액을 분출하는 토출부와, 상기 노즐 헤더 관의 길이 방향의 일단부와 중심 사이의 제1 중간점에서, 상기 노즐 헤더 관의 상기 토출부와는 반대측의 보강면으로 돌출되어 설치되는 제1 중간 조인트부와, 상기 노즐 헤더 관의 길이 방향의 타단부와 중심 사이의 제2 중간점에서, 상기 노즐 헤더 관의 상기 보강면으로 돌출되어 설치되는 제2 중간 조인트부와, 상기 노즐 헤더 관의 상기 제1 중간점과 상기 제2 중간점 사이에서, 상기 노즐 헤더 관의 상기 보강면으로 돌출되어 설치되는 중심 조인트부와, 상기 중심 조인트부와 상기 제1 중간 조인트부 사이에 걸쳐지는 제1 막대 형상 연결부와, 상기 중심 조인트부와 상기 제2 중간 조인트부 사이에 걸쳐지는 제2 막대 형상 연결부를 갖는다.The treatment liquid discharge nozzle of the present invention is provided with a nozzle header tube connected to the treatment liquid supply source and distributed or opened in the longitudinal direction in the nozzle header tube, and the treatment liquid introduced into the nozzle header tube from the treatment liquid supply source. A first intermediate joint portion protruding from a discharge portion to eject and a reinforcing surface on the side opposite to the discharge portion of the nozzle header tube at a first intermediate point between one end portion and a center in the longitudinal direction of the nozzle header tube; And a second intermediate joint portion protruding from the reinforcing surface of the nozzle header tube at a second intermediate point between the other end portion in the longitudinal direction of the nozzle header tube and the center thereof, and the first header of the nozzle header tube. Between the intermediate point and the second intermediate point, a center joint portion protruding from the reinforcement surface of the nozzle header tube, the center joint portion and the first intermediate joint portion And the first rod-like connection over which, the central joint section and the second has a second rod-shaped connecting portion that spans between the intermediate joint unit.

상기한 구성에 있어서는, 노즐 헤더 관의 중심점(무게 중심)에 가해지는 전체의 중력이, 중심 조인트부, 제1 및 제2 막대 형상 연결부, 및 제1 및 제2 중간 조인트부를 통해 노즐 헤더 관의 제1 및 제2 중간점에 전해져, 제1 및 제2 중간점에도 하향의 힘이 작용한다. 이로 인해, 노즐 헤더 관의 중심점이 중력(중심 중력)에 의해 아래로 변위하려고 해도, 제1 및 제2 중간점이 중심점으로부터 중심 조인트부, 제1 및 제2 막대 형상 연결부, 및 제1 및 제2 중간 조인트부를 통해 전달되는 중력(중간 중력)에 의해 동일하게 아래로 변위하려고 하므로, 노즐 헤더 관 전체의 만곡 변형, 즉 휨이 저지된다. 이에 의해, 노즐 헤더 관에 설치되어 있는 다수의 노즐 팁이, 예를 들어 동일한 높이 위치에서 일직선 상에 배열된다. 따라서 노즐 길이 방향에서 토출부와 평류 반송로 상의 기판의 거리 간격을 균일하게 할 수 있다.In the above configuration, the total gravity applied to the center point (center of gravity) of the nozzle header tube is connected to the nozzle header tube through the center joint portion, the first and second rod-shaped connecting portions, and the first and second intermediate joint portions. It is transmitted to the first and second intermediate points, and downward force also acts on the first and second intermediate points. For this reason, even if the center point of the nozzle header tube tries to shift downward by gravity (center gravity), the center joint portion, the first and second rod-shaped connecting portions, and the first and second intermediate points from the center point Since it tries to displace down equally by the gravity (median gravity) transmitted through the intermediate joint part, curvature deformation, ie, warping, of the entire nozzle header tube is prevented. Thereby, the many nozzle tip provided in the nozzle header tube is arranged in a straight line, for example in the same height position. Accordingly, the distance between the discharge portion and the substrate on the flat stream conveyance path can be made uniform in the nozzle length direction.

본 발명의 기판 처리 장치는, 피처리 기판을 수평한 방향으로 평류로 반송하기 위한 평류 반송로를 갖는 반송부와, 상기 평류 반송로 상의 상기 기판에 상기 처리액을 분사하기 위해, 상기 평류 반송로의 상방 또는 하방에서 반송 방향과 교차하는 방향으로 걸쳐지는 본 발명의 처리액 토출 노즐과, 상기 평류 반송로의 양측에서 상기 처리액 토출 노즐의 양단부를 보유 지지하는 노즐 보유 지지부와, 상기 처리액 토출 노즐에 상기 처리액을 공급하는 처리액 공급원과, 상기 반송로의 양측에서 상기 처리액 토출 노즐의 양단부를 지지하는 노즐 지지부를 갖는다.The substrate processing apparatus of this invention is a said conveyance part which has a conveying part which has a flat flow conveyance path for conveying a to-be-processed board | substrate to horizontal flow in a horizontal direction, and the said board | substrate on the said flat flow conveyance path, The said flat flow conveyance path The processing liquid discharge nozzle of the present invention which extends in a direction intersecting with the conveying direction from above or below, a nozzle holding portion for holding both ends of the processing liquid discharge nozzle on both sides of the flat stream conveying path, and the processing liquid discharge A processing liquid supply source for supplying the processing liquid to the nozzle, and a nozzle support portion for supporting both ends of the processing liquid discharge nozzle on both sides of the conveying path.

상기한 장치 구성에 있어서는, 처리액 토출 노즐의 노즐 헤더 관이 휘지 않으므로, 노즐 헤더 관의 토출부가 평류 반송로 상의 기판에 대해 일직선 상의 높이 위치로부터 처리액을 길이 방향에서 균일하게 분사하는 것이 가능하고, 그에 의해 기판 상의 각 부에 균일한 액 처리를 실시할 수 있다.In the above apparatus configuration, since the nozzle header tube of the treatment liquid discharge nozzle is not bent, the discharge portion of the nozzle header tube can uniformly spray the treatment liquid in the longitudinal direction from a height position in a straight line with respect to the substrate on the flat flow conveyance path. Thereby, uniform liquid treatment can be performed on each part on the substrate.

본 발명의 처리액 토출 노즐은, 상기한 바와 같은 구성 및 작용에 의해, 착탈성이나 메인터넌스성이 우수하고, 빔형의 노즐 보유 지지 기구가 없어도 휘지 않아 노즐 헤더 관의 토출부를 그 길이 방향에서 일직선 상에 유지할 수 있다.The treatment liquid discharge nozzle of the present invention is excellent in detachability and maintainability due to the above-described configuration and operation, and does not bend even without a beam-type nozzle holding mechanism, so that the discharge portion of the nozzle header tube is straight in the length direction. Can keep on.

본 발명의 기판 처리 장치는, 상기한 바와 같은 구성 및 작용에 의해, 장척 형상의 처리액 토출 노즐을 사용하는 평류 방식의 액 처리의 정밀도 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.The substrate processing apparatus of this invention can improve the precision and reliability of the liquid processing of the flat stream system using a long process liquid discharge nozzle by the structure and operation | movement mentioned above.

도 1은 본 발명의 처리액 토출 노즐을 적용할 수 있는 세정 처리 장치의 전체 구성을 도시하는 대략적인 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 스프레이 노즐 및 노즐 지지부의 전체 구성을 도시하는 사시도.
도 3은 상기 스프레이 노즐 및 상기 노즐 지지부, 및 그 주위의 구성을 도시하는 일부 단면 정면도.
도 4a는 상기 노즐 지지부에 포함되는 클램프의 구성(보유 지지 상태)을 도시하는 측면도.
도 4b는 상기 노즐 지지부에 포함되는 클램프의 구성(개방 상태)을 도시하는 측면도.
도 5a는 휨 보정 기구를 설치하기 전의 상기 스프레이 노즐이 자중에 의해 공중에서 휘는 모습을 도시하는 정면도.
도 5b는 상기 스프레이 노즐에 휨 보정 기구를 설치하는 공정의 일 단계를 도시하는 평면도.
도 5c는 상기 스프레이 노즐에 휨 보정 기구를 설치하는 공정의 일 단계를 도시하는 평면도.
도 5d는 상기 스프레이 노즐에 휨 보정 기구를 설치하는 공정의 일 단계를 도시하는 평면도.
도 5e는 휨 보정 기구를 설치한 상기 스프레이 노즐의 설치 상태와 그 작용을 도시하는 정면도.
도 6은 휨 보정 기구로부터 노즐 헤더 관에 부여하는 노즐 길이 방향의 응력을 조절하기 위한 나사 기구의 일 구성예를 도시하는 부분 확대 정면도.
도 7은 상기 나사 기구의 다른 구성예를 도시하는 부분 확대 정면도.
도 8a는 휨 보정 기구를 처리액 공급로의 일부에 사용하는 일 구성예를 도시하는 도면.
도 8b는 휨 보정 기구를 처리액 공급로의 일부에 사용하는 일 구성예를 도시하는 도면.
도 9a는 다른 실시 형태에 있어서 휨 보정 기구를 설치하기 전의 스프레이 노즐이 자중에 의해 공중에서 휘는 모습을 도시하는 정면도.
도 9b는 상기 다른 실시 형태에 있어서 상기 스프레이 노즐에 휨 보정 기구를 설치하는 공정의 일 단계를 도시하는 정면도.
도 9c는 상기 다른 실시 형태에 있어서 상기 스프레이 노즐에 휨 보정 기구를 설치하는 공정의 일 단계를 도시하는 정면도.
도 9d는 도 9a의 휨 보정 기구를 설치한 상기 스프레이 노즐의 설치 상태를 도시하는 도면.
도 10은 종래의 장척형 처리액 토출 노즐 및 이것을 보유 지지하는 노즐 보유 지지 기구의 구성을 도시하는 사시도.
도 11은 도 10의 노즐 및 노즐 보유 지지 기구의 구성을 도시하는 측면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic cross-sectional view showing the overall configuration of a cleaning processing apparatus to which the processing liquid discharge nozzle of the present invention can be applied.
The perspective view which shows the whole structure of the spray nozzle and the nozzle support part in one Embodiment of this invention.
3 is a partial cross-sectional front view showing a configuration of the spray nozzle and the nozzle support and the surroundings thereof;
4A is a side view showing the configuration (holding state) of a clamp included in the nozzle support.
Fig. 4B is a side view showing the configuration (open state) of the clamp included in the nozzle support.
Fig. 5A is a front view showing how the spray nozzle bends in the air by its own weight before installing the warpage correction mechanism.
5B is a plan view showing one step in the process of installing a warpage correction mechanism in the spray nozzle;
5C is a plan view illustrating one step in the process of installing a warpage correction mechanism in the spray nozzle.
FIG. 5D is a plan view illustrating one step in the process of installing a deflection correction mechanism in the spray nozzle; FIG.
Fig. 5E is a front view showing the installation state of the spray nozzle with its warpage correction mechanism and its action.
Fig. 6 is a partially enlarged front view showing a configuration example of a screw mechanism for adjusting the stress in the nozzle longitudinal direction applied to the nozzle header tube from the warpage correction mechanism.
Fig. 7 is a partially enlarged front view showing another configuration example of the screw mechanism.
8A is a diagram illustrating one configuration example in which the warpage correction mechanism is used as part of a processing liquid supply passage.
8B is a diagram illustrating one configuration example in which the warpage correction mechanism is used for a part of the treatment liquid supply passage.
FIG. 9A is a front view illustrating a state in which the spray nozzle before bending the warpage correction mechanism is bent in the air by its own weight in another embodiment; FIG.
FIG. 9B is a front view illustrating one step of the process of installing a warpage correction mechanism in the spray nozzle in the other embodiment; FIG.
FIG. 9C is a front view illustrating one step in the process of installing a warpage correction mechanism in the spray nozzle in the other embodiment. FIG.
FIG. 9D is a diagram illustrating an installation state of the spray nozzle in which the warpage correction mechanism of FIG. 9A is provided. FIG.
Fig. 10 is a perspective view showing the structure of a conventional long processing liquid discharge nozzle and a nozzle holding mechanism for holding the same.
FIG. 11 is a side view illustrating the configuration of the nozzle and the nozzle holding mechanism of FIG. 10. FIG.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 적합한 실시 형태를 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described with reference to an accompanying drawing.

[기판 처리 장치의 실시 형태][Embodiment of Substrate Processing Apparatus]

도 1에 본 발명의 처리액 토출 노즐 및 기판 처리 장치를 적용할 수 있는 평류식 세정 처리 장치의 전체 구성을 도시한다.The overall structure of the flat flow type washing processing apparatus which can apply the process liquid discharge nozzle and substrate processing apparatus of this invention to FIG. 1 is shown.

이 세정 처리 장치는, 예를 들어 FPD용의 레지스트 도포 현상 처리 시스템에 내장되고, 피처리 기판(예를 들어, 글래스 기판)에 레지스트를 도포하기 전에 기판 상의 불순물이나 파티클을 제거하기 위해 사용된다.This cleaning treatment apparatus is embedded in, for example, a resist coating and developing system for FPD, and is used to remove impurities and particles on a substrate before applying a resist to a substrate to be processed (for example, a glass substrate).

이 세정 처리 장치는, 2개의 챔버(10, 12)를 나란히 배치하고, 양쪽 챔버(10, 12) 내를 종단하는 롤러 반송로(14)를 구비하고 있다. 상류측의 세정 챔버(10)는, 내부에 설치한 2개의 격벽(16, 18)에 의해 3개의 처리실, 즉 브러싱 세정실 R1, 블로우 세정실 R2 및 린스실 R3으로 분할되어 있다. 반송 방향(X 방향)으로 마주 보는 챔버(10)의 외벽(10a, 10b) 및 양쪽 격벽(16, 18)에는, 롤러 반송로(14) 상을 이동하는 기판(G)이 통과되는 슬릿 형상의 개구(기판 출입구)(20, 22, 24, 26)가 각각 형성되어 있다. 여기서, 개구(20)는, 브러싱 세정실 R1의 입구이다. 개구(22)는, 브러싱 세정실 R1의 출구이고, 또한 블로우 세정실 R2의 입구이기도 하다. 개구(24)는, 블로우 세정실 R2의 출구이고, 또한 린스실 R3의 입구이기도 하다. 개구(26)는, 린스실 R3의 출구이다.This cleaning processing apparatus is provided with the roller conveyance path 14 which arrange | positions two chambers 10 and 12 side by side and terminates the inside of both chambers 10 and 12. As shown in FIG. The upstream cleaning chamber 10 is divided into three processing chambers, namely, a brush cleaning chamber R1, a blow cleaning chamber R2, and a rinse chamber R3, by two partition walls 16 and 18 provided therein. The slit-like shape through which the board | substrate G which moves on the roller conveyance path 14 passes through the outer wall 10a, 10b and both partitions 16, 18 of the chamber 10 facing in a conveyance direction (X direction). Openings (substrate entrances) 20, 22, 24, and 26 are formed, respectively. Here, the opening 20 is an inlet of the brushing cleaning chamber R1. The opening 22 is an outlet of the brush cleaning chamber R1 and is also an inlet of the blow cleaning chamber R2. The opening 24 is an outlet of the blow cleaning chamber R2 and is also an inlet of the rinse chamber R3. The opening 26 is an outlet of the rinse chamber R3.

브러싱 세정실 R1에는, 롤러 반송로(14)를 따라 그 상하 양측에 프리웨트 노즐(28U／28L), 롤 브러시(30U／30L) 및 린스 노즐(32U／32L)이 배치되어 있다. 프리웨트 노즐(28U／28L)은, 기판(G)을 횡폭 방향(Y 방향)에서 단부로부터 단부까지 커버하는 길이를 갖고 있고, 약액 공급부(도시하지 않음)로부터 보내져 오는 약액을 분출하도록 되어 있다. 롤 브러시(30U, 30L)는, 기판(G)을 횡폭 방향에서 단부로부터 단부까지 커버하는 길이를 갖고 있고, 모터 등의 브러시 구동부(도시하지 않음)에 의해 회전 구동되도록 되어 있다. 린스 노즐(32U／32L)은, 기판(G)을 횡폭 방향에서 단부로부터 단부까지 커버하는 길이를 갖고 있고, 린스액 공급부(도시하지 않음)로부터 보내져 오는 린스액을 분출하도록 되어 있다. 브러싱 세정실 R1에는, 챔버 배면측의 벽(10d)의 상부에 1개 또는 복수의 배기 포트(34)가 설치되어 있고, 바닥에 드레인 입구(36)가 형성되어 있다.Prewet nozzles 28U / 28L, roll brush 30U / 30L, and rinse nozzle 32U / 32L are arrange | positioned along the roller conveyance path 14 at upper and lower sides along the roller conveyance path 14. The prewet nozzle 28U / 28L has the length which covers the board | substrate G from the edge part to the edge part in the horizontal width direction (Y direction), and is made to eject the chemical liquid sent from a chemical | medical solution supply part (not shown). The roll brushes 30U and 30L have a length that covers the substrate G from the end to the end in the lateral direction, and are rotationally driven by a brush drive unit (not shown) such as a motor. The rinse nozzle 32U / 32L has the length which covers the board | substrate G from the edge part to the edge part in the horizontal direction, and is made to eject the rinse liquid sent from a rinse liquid supply part (not shown). In the brushing washing | cleaning chamber R1, one or several exhaust port 34 is provided in the upper part of the wall 10d of the chamber back side, and the drain inlet 36 is formed in the bottom.

블로우 세정실 R2 내에는, 롤러 반송로(14)의 상하 양측에 고압의 2유체 노즐(38U／38L)이 배치되어 있다. 이들 2유체 노즐(38U／38L)은, 기판(G)의 횡폭 사이즈를 커버하는 길이를 갖고 있고, 세정액 공급부(도시하지 않음)로부터 보내져 오는 세정액과 고압 가스 공급부(도시하지 않음)로부터 보내져 오는 고압 기체를 혼합하여, 입상의 액적을 제트류로, 또는 스프레이 형상으로 분사하도록 되어 있다. 블로우 세정실 R2에도, 챔버 배면측의 벽(10d)의 상부에 1개 또는 복수의 배기 포트(40)가 설치되고, 바닥에 드레인 입구(42)가 형성되어 있다.In blow cleaning chamber R2, the high-pressure two-fluid nozzles 38U / 38L are arrange | positioned at the upper and lower sides of the roller conveyance path 14. These two-fluid nozzles 38U / 38L have a length which covers the width | variety size of the board | substrate G, and the high pressure sent from the washing | cleaning liquid sent from a washing | cleaning liquid supply part (not shown) and the high pressure gas supply part (not shown) is carried out. The gas is mixed so that the granular droplets are jetted or sprayed. In the blow washing chamber R2, one or a plurality of exhaust ports 40 are provided in the upper part of the wall 10d on the chamber back side, and a drain inlet 42 is formed at the bottom.

린스실 R3 내에는, 롤러 반송로(14)의 상하 양측에 적당한 간격을 두고 복수의 린스 노즐(42U／42L)이 배치되어 있다. 이들 린스 노즐(42U／42L)은, 기판(G)의 횡폭 사이즈를 커버하는 길이를 갖고 있고, 린스액 공급부(도시하지 않음)로부터 보내져 오는 린스액을 분출하도록 되어 있다. 린스실 R3에 있어서도, 챔버 배면측의 벽(10d)의 상부에 1개(또는 복수)의 배기 포트(44)가 설치되어 있고, 바닥에는 드레인 입구(46)가 형성되어 있다.In the rinse chamber R3, the some rinse nozzle 42U / 42L is arrange | positioned at the upper and lower sides of the roller conveyance path 14 at suitable intervals. These rinse nozzles 42U / 42L have the length which covers the width | variety size of the board | substrate G, and is made to eject the rinse liquid sent from a rinse liquid supply part (not shown). Also in the rinse chamber R3, one (or more) exhaust port 44 is provided in the upper part of the wall 10d of the chamber back side, and the drain inlet 46 is formed in the bottom.

하류측의 챔버(12)는, 전용의 액 제거 건조실 R4로 되어 있다. 반송 방향(X 방향)으로 마주 보는 챔버(12)의 외벽(12a, 12b)에는, 롤러 반송로(14) 상을 이동하는 기판(G)이 통과되는 슬릿 형상의 개구(48, 50)가 각각 형성되어 있다. 여기서, 개구(48)는 입구이고, 개구(50)는 출구이다.The downstream chamber 12 is a dedicated liquid removal drying chamber R4. In the outer walls 12a and 12b of the chamber 12 facing in the conveying direction (X direction), the slit-shaped openings 48 and 50 through which the substrate G moving on the roller conveying path 14 pass are respectively passed. Formed. Here, the opening 48 is an inlet and the opening 50 is an outlet.

액 제거 건조실 R4 내에는, 롤러 반송로(14)를 사이에 두고 반송 방향(X 방향)에 대해 비스듬히 상부 및 하부 에어 나이프(52U, 52L)가 배치되어 있다. 양쪽 에어 나이프(52U, 52L)는, 기판(G)의 횡폭 사이즈를 커버하는 길이를 갖고 있고, 각각의 토출구를 액 제거 건조실 R4의 입구(48)측 및 정면측의 중간의 방위를 향해, 건조 가스 공급부(도시하지 않음)로부터 보내져 오는 액 제거 건조용의 고압의 기체(통상은 에어, 경우에 따라서는 질소 가스)를 예리한 나이프 형상의 기류로 분사하도록 되어 있다.In the liquid removal drying chamber R4, upper and lower air knives 52U and 52L are arranged obliquely with respect to the conveyance direction (X direction) with the roller conveyance path 14 interposed. Both air knives 52U and 52L have the length which covers the width | variety size of the board | substrate G, and dry each discharge port toward the orientation of the inlet 48 side and front side of liquid removal drying chamber R4, and the intermediate | middle of the front side. The high-pressure gas (usually air or nitrogen gas in some cases) for liquid removal drying sent from a gas supply part (not shown) is sprayed by the sharp knife-shaped air stream.

액 제거 건조실 R4에는, 챔버 정면측의 벽(10c)의 상부에 1개(또는 복수)의 상부 배기 포트(54)가 설치되는 동시에, 실내의 바닥부에 복수(또는 1개)의 배기 포트(56)가 설치되어 있다. 또한, 액 제거 건조실 R4에는, 양쪽 에어 나이프(52U, 52L)의 후방 또는 하류측의 천장에, FFU(팬ㆍ필터ㆍ유닛)(58)가 설치되어 있다. 이 FFU(58)는, 실외의 공기를 끌어들이는 팬과, 공기 중의 먼지를 제거하는 필터를 갖고, 청정한 공기를 다운 플로우로 실내에 공급한다. 액 제거 건조실 R4의 바닥에는, 드레인 입구(60)가 형성되어 있다.In the liquid removal drying chamber R4, one (or plural) upper exhaust ports 54 are provided on the upper part of the wall 10c on the chamber front side, and a plurality (or one) exhaust ports ( 56) is installed. Further, in the liquid removal drying chamber R4, an FFU (fan filter unit) 58 is provided on the ceiling behind or downstream of both air knives 52U and 52L. The FFU 58 has a fan that draws in outdoor air, a filter that removes dust in the air, and supplies clean air to the room in a downflow. The drain inlet 60 is formed in the bottom of the liquid removal drying chamber R4.

롤러 반송로(14)에는, 기판(G)의 폭 사이즈를 커버하는 길이의 반송 롤러, 또는 롤러(62)가 반송 방향(X 방향)으로 일정 간격으로 부설되어 있다. 이 실시 형태에서는, 롤러(62)가, 챔버(10, 12) 중에 수용되고, 챔버(10, 12)의 외부에 배치되어 있는 반송 구동원에 의해 전동 기구를 통해 회전 구동되도록 되어 있다.In the roller conveyance path 14, the conveyance roller or the roller 62 of the length which covers the width size of the board | substrate G is attached in a conveyance direction (X direction) at regular intervals. In this embodiment, the roller 62 is accommodated in the chambers 10 and 12, and is rotationally driven through the transmission mechanism by the conveyance drive source arrange | positioned outside the chambers 10 and 12. As shown in FIG.

여기서, 이 세정 처리 장치에 있어서의 전체의 동작 및 작용을 설명한다. 당해 레지스트 도포 현상 처리 시스템에 있어서, 카세트 스테이션으로부터 프로세스 라인에 투입된 기판(G)은, 처음에 엑시머 UV 조사 유닛(도시하지 않음)에서 자외선 조사 처리를 받아 기판 표면의 유기 오염물이 제거되고, 그로부터 롤러 반송로(14) 상을 평류로 이동하여 이 세정 처리 장치의 브러싱 세정실 R1에 입구(20)로부터 반입된다.Here, the whole operation and effect | action in this washing | cleaning processing apparatus are demonstrated. In the resist coating and developing processing system, the substrate G introduced into the process line from the cassette station is first subjected to ultraviolet irradiation treatment in an excimer UV irradiation unit (not shown) to remove organic contaminants on the surface of the substrate, from which a roller It moves on the conveyance path 14 to a flat stream, and is carried in from the inlet 20 to the brushing washing | cleaning chamber R1 of this washing | cleaning processing apparatus.

브러싱 세정실 R1에 있어서, 기판(G)은, 처음에 프리웨트용의 상부 및 하부 프리웨트 노즐(28U, 28L)에 의해 기판 전체에, 예를 들어 산 또는 알칼리계의 약액이 분사된다. 계속해서, 기판(G)은, 상부 및 하부 롤 브러시(30U, 30L)의 아래를 순차적으로 스치면서 빠져나간다. 양쪽 롤 브러시(30U, 30L)는, 브러시 구동부의 회전 구동력으로 반송 방향과 대항하는 방향으로 회전하여, 기판 표면의 이물질(진애, 파편, 오염물 등)을 쓸어낸다. 그 직후에, 린스용의 상부 및 하부 린스 노즐(32U, 32L)이 기판(G)에 린스액, 예를 들어 순수(純水)를 분사하여, 기판 상에 부유하고 있는 이물질을 씻어낸다. 브러싱 세정실 R1 내에서 기판(G)으로부터 바닥에 떨어진 액(약액, 린스액 등)은, 드레인 입구(36)로부터 배출된다.In the brushing cleaning chamber R1, the substrate G is first sprayed with, for example, an acid or an alkaline chemical liquid on the entire substrate by the upper and lower prewet nozzles 28U and 28L for prewetting. Subsequently, the substrate G is pulled out while rubbing the upper and lower roll brushes 30U and 30L sequentially. Both roll brushes 30U and 30L rotate in the direction opposite to a conveyance direction by the rotational driving force of a brush drive part, and wipe out the foreign material (dust, debris, contaminants, etc.) on the board | substrate surface. Immediately thereafter, upper and lower rinse nozzles 32U and 32L for rinsing spray a rinse liquid, for example, pure water, onto the substrate G to wash off foreign matter suspended on the substrate. The liquid (chemical liquid, rinse liquid, etc.) dropped from the substrate G to the bottom in the brushing cleaning chamber R1 is discharged from the drain inlet 36.

기판(G)은, 린스 노즐(32U, 32L)을 빠져나간 직후에, 격벽(16)의 기판 출입구(22)를 통하여 블로우 세정실 R2에 들어간다. 블로우 세정실 R2에서는, 상부 및 하부 2유체 노즐(38U, 38L)이, 노즐 내에서 세정액을 고압의 기체(예를 들어, 에어)와 혼합하여 입상의 액적을 생성하고, 생성한 액적을 기판(G)의 표면(상면) 및 이면(하면)을 향해 고압의 제트류로, 또는 스프레이 형상으로 분사한다. 이와 같이 하여, 유동체의 액적이 기판(G)의 표면에 충돌함으로써, 기판 표면에 잔존하고 있었던 이물질이 확실하게 제거된다. 블로우 세정실 R2 내에서 기판(G)으로부터 바닥에 떨어진 액(세정액 등)은, 드레인 입구(42)로부터 배출된다.Immediately after exiting the rinse nozzles 32U and 32L, the substrate G enters the blow cleaning chamber R2 through the substrate entrance and exit 22 of the partition 16. In the blow cleaning chamber R2, the upper and lower two-fluid nozzles 38U and 38L mix the cleaning liquid with a high-pressure gas (for example, air) in the nozzle to generate granular droplets, and generate the droplets as a substrate ( It sprays by the high pressure jets or spray shape toward the surface (upper surface) and back surface (lower surface) of G). In this way, when the droplets of the fluid collide with the surface of the substrate G, the foreign matter remaining on the surface of the substrate is reliably removed. The liquid (cleaning liquid, etc.) which fell to the bottom from the board | substrate G in blow cleaning chamber R2 is discharged | emitted from the drain inlet 42. FIG.

블로우 세정실 R2의 다음에 기판(G)은 린스실 R3을 통과한다. 린스실 R3에서는, 상부 및 하부 린스 노즐(42U, 42L)이 롤러 반송로(14) 상의 기판(G)에 린스액, 예를 들어 순수를 분사한다. 이에 의해, 블로우 세정실 R2로부터 반입된 기판(G) 상의 액(이물질이 부유하고 있는 액)이 린스액으로 치환된다. 린스실 R3 내에서 기판(G)으로부터 바닥에 떨어진 액(세정액, 린스액 등)은, 드레인 입구(46)로부터 배출된다.After the blow cleaning chamber R2, the substrate G passes through the rinse chamber R3. In the rinse chamber R3, the upper and lower rinse nozzles 42U and 42L spray a rinse liquid, for example, pure water, onto the substrate G on the roller conveyance path 14. As a result, the liquid on the substrate G carried in from the blow cleaning chamber R2 (the liquid in which foreign matter is suspended) is replaced with the rinse liquid. The liquid (washing liquid, rinse liquid, etc.) which fell to the bottom from the board | substrate G in the rinse chamber R3 is discharged | emitted from the drain inlet 46.

기판(G)은, 린스실 R3을 나감과 동시에 이웃하는 액 제거 건조실 R4에 들어간다. 액 제거 건조실 R4에서는, 롤러 반송로(14) 상의 기판(G)에 대해, 상부 및 하부 에어 나이프(52U, 52L)가 나이프 형상의 예리한 고압의 기체류, 예를 들어 에어류를 반송 방향으로 비스듬히 거스르는 방향으로 분사한다. 이에 의해, 기판(G)에 부착되어 있었던 액(대부분이 린스액)은 고압 에어류의 풍력으로 떨어지고, 액 제거 건조실 R4의 바닥에 떨어진 액은 드레인 입구(60)로부터 배출된다. 이와 같이 하여, 상부 및 하부 에어 나이프(52U, 52L)의 사이를 통과한 기판(G)의 표면은 건조된 상태로 된다.The substrate G leaves the rinse chamber R3 and enters the neighboring liquid removal drying chamber R4. In the liquid removal drying chamber R4, the upper and lower air knives 52U and 52L rotate the knife-shaped sharp high-pressure gas stream, for example, the air stream, at an angle to the transport direction with respect to the substrate G on the roller conveyance path 14. Spray in the opposite direction. Thereby, the liquid (mostly the rinse liquid) adhering to the board | substrate G falls by the wind power of high pressure air flow, and the liquid which fell to the bottom of the liquid removal drying chamber R4 is discharged | emitted from the drain inlet 60. FIG. In this manner, the surface of the substrate G that has passed between the upper and lower air knives 52U and 52L is in a dried state.

액 제거 건조실 R4의 출구(50)를 나온 기판(G)은, 그대로 롤러 반송로(14)를 평류로 이동하여 후단의 열처리 장치(도시하지 않음)로 들어간다.The board | substrate G which exited the outlet 50 of the liquid removal drying chamber R4 moves the roller conveyance path 14 to flat stream as it is, and enters into the heat processing apparatus (not shown) of the following stage.

이 세정 처리 장치에 있어서는, 브러싱 세정실 R1에 설치되는 프리웨트 노즐(28U／28L) 및 린스 노즐(32U／32L), 블로우 세정실 R2에 설치되는 2유체 노즐(38U／38L), 및 린스실 R3에 설치되는 린스 노즐(42U／42L) 중 어느 것에도 본 발명의 장척형 처리액 토출 노즐을 적용하는 것이 가능하고, 그에 의해, 기판(G) 상의 각 부에 균일한 액 처리(약액 웨트 처리, 린스 처리 등)를 실시하여, 세정 처리 능력 및 신뢰성을 향상키고 있다.In this cleaning processing apparatus, a prewet nozzle (28U / 28L) and a rinse nozzle (32U / 32L) provided in the brushing cleaning chamber R1, a two-fluid nozzle (38U / 38L) provided in the blow cleaning chamber R2, and a rinse chamber It is possible to apply the long process liquid discharge nozzle of the present invention to any of the rinse nozzles 42U / 42L provided in R3, whereby a uniform liquid treatment (chemical liquid wet treatment) is applied to each part on the substrate G. , Rinse treatment, etc.) to improve the washing treatment capability and reliability.

[처리액 토출 노즐의 제1 실시 형태]First Embodiment of Treatment Liquid Discharge Nozzle

다음에, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 처리액 토출 노즐의 구성 및 작용을 설명한다. 도 2 및 도 3에 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 스프레이 노즐(처리액 토출 노즐)(64)과 이것을 지지하기 위한 노즐 지지부(66)의 구성을 도시한다.Next, the configuration and operation of the processing liquid discharge nozzle in the embodiment of the present invention will be described. 2 and 3 show the structure of the spray nozzle (process liquid discharge nozzle) 64 and the nozzle support part 66 for supporting this in one Embodiment of this invention.

이 스프레이 노즐(64)은, 기본 구성으로서, 기판(G)의 횡폭 사이즈(Y 방향 사이즈)를 상회하는, 예를 들어 2 내지 3m의 전체 길이를 갖는 관 형상의 노즐 본체 또는 노즐 헤더 관(68)과, 이 노즐 헤더 관(68)에 길이 방향 일렬로 나란히 설치되는 다수의 노즐 팁(70)을 갖고, 이들 노즐 팁(70)을 아래를 향하게 하여, 그 양단부가 노즐 지지부(66)에 의해 지지된다.This spray nozzle 64 is, as a basic configuration, a tubular nozzle body or nozzle header tube 68 having a total length of, for example, 2 to 3 m, which exceeds the width size (Y direction size) of the substrate G. ) And a plurality of nozzle tips 70 which are installed in the nozzle header tube 68 side by side in a longitudinal line, and these nozzle tips 70 face downward, and both ends thereof are connected by the nozzle support 66. Supported.

노즐 헤더 관(68)은, 일단부(도면의 좌측 단부)가 처리액 공급원(도시하지 않음)에 통해 있는 배관(72)에 접속되고, 타단부(도면의 우측 단부)가 폐색되어 있다. 노즐 헤더 관(68)의 재질은, 바람직하게는 가공성 및 내약성이 우수한 폴리염화비닐(PVC)이지만, 다른 수지 혹은 스테인리스강 등의 금속을 사용해도 된다. 노즐 팁(70)도, 폴리염화비닐 혹은 다른 수지 또는 금속으로 이루어지고, 노즐 헤더 관(68)에 착탈 가능하게 나사 삽입되고, 혹은 용접으로 고착된다. 도 3에 도시한 바와 같이, 각각의 노즐 팁(70)은, 처리액 공급원으로부터 배관(72)을 통하여 노즐 헤더 관(68)으로 도입된 처리액(약액, 린스액 등)을 스프레이 형상으로 분출하도록 구성되어 있다.The nozzle header tube 68 is connected to a pipe 72 having one end (left end of the drawing) via a processing liquid supply source (not shown), and the other end (right end of the drawing) is closed. The material of the nozzle header tube 68 is preferably polyvinyl chloride (PVC) which is excellent in workability and chemical resistance, but a metal such as another resin or stainless steel may be used. The nozzle tip 70 is also made of polyvinyl chloride or other resin or metal, is detachably screwed into the nozzle header tube 68, or is fixed by welding. As shown in FIG. 3, each nozzle tip 70 sprays the process liquid (chemical liquid, rinse liquid, etc.) introduced into the nozzle header tube 68 from the process liquid supply source through the piping 72, in a spray form. It is configured to.

스프레이 노즐(64)에 있어서, 노즐 헤더 관(68)의 노즐 팁(70)을 설치하고 있는 바닥의 면과는 반대측의 정상면(보강면)(68a)에는, 노즐 헤더 관(68)이 중력으로 휘는 것을 방지하기 위한 휨 보정 기구(74)가 설치되어 있다. 이 휨 보정 기구(74)는, 다음과 같은 다수의 부품으로 이루어지는 조립체로서 구성되어 있다.In the spray nozzle 64, the nozzle header tube 68 is gravity on the top surface (reinforcement surface) 68a on the side opposite to the bottom surface on which the nozzle tip 70 of the nozzle header tube 68 is provided. The warpage correction mechanism 74 for preventing a warpage is provided. This bending correction mechanism 74 is comprised as an assembly which consists of many components as follows.

즉, 휨 보정 기구(74)는, 노즐 헤더 관(68)의 길이 방향의 중심과 일단부 사이의 제1 중간점 PM1에서 노즐 헤더 관(68)의 보강면(68a)으로 돌출되어 설치되는 제1 중간 조인트부(78)와, 노즐 헤더 관(68)의 길이 방향의 중심과 타단부 사이의 제2 중간점 PM2에서 노즐 헤더 관(68)의 보강면(68a)으로 돌출되어 설치되는 제2 중간 조인트부(80)와, 노즐 헤더 관(68)의 제1 및 제2 중간 조인트부(78, 80)의 사이, 예를 들어 길이 방향의 중심점 PC에서 노즐 헤더 관(68)의 보강면(68a)으로 돌출되어 설치되는 중심 조인트부(76)와, 중심 조인트부(76)와 제1 중간 조인트부(78) 사이에 걸쳐지는 제1 연결 막대(82)와, 중심 조인트부(76)와 제2 중간 조인트부(80) 사이에 걸쳐지는 제2 연결 막대(84)를 갖고 있다. 휨 보정 기구(74)의 각 부(76 내지 84)도, 그 재질로서, 폴리염화비닐(PVC)을 적절하게 사용해도 되지만, 다른 수지 혹은 스테인리스강 등의 금속을 사용해도 된다. 휨 보정 기구(74)의 보다 상세한 구성 및 조립 방법에 대해서는 이후에 설명한다.That is, the deflection correcting mechanism 74, is projected from the first intermediate point P M1 between the center and one end of the longitudinal direction of the nozzle header pipe 68 into the backing surface (68a) of the nozzle header pipe 68 is installed Protruding from the first intermediate joint portion 78 and the second intermediate point P M2 between the center in the longitudinal direction of the nozzle header tube 68 and the other end to the reinforcement surface 68a of the nozzle header tube 68. Between the second intermediate joint portion 80 and the first and second intermediate joint portions 78, 80 of the nozzle header tube 68, for example, at the central point P C in the longitudinal direction. A center joint portion 76 protruding to the reinforcing surface 68a, a first connecting rod 82 spanning between the center joint portion 76 and the first intermediate joint portion 78, and a center joint portion ( And a second connecting rod 84 spanning between 76 and the second intermediate joint portion 80. Although each part 76-84 of the curvature correction mechanism 74 may be suitably used polyvinyl chloride (PVC) as a material, you may use metal, such as another resin or stainless steel. A more detailed configuration and assembling method of the warpage correction mechanism 74 will be described later.

노즐 지지부(66)는, 챔버(10)의 정면측 및 배면측의 벽(10c, 10d)에 각각 동일한 높이 위치에서 볼트(86)에 의해 고정되는 한 쌍의 설치 금속 부재(88)와, 각각의 설치 금속 부재(88) 상에서 스프레이 노즐(64)의 노즐 헤더 관(68)의 양단부를 착탈 가능하게 보유 지지하는 1개 또는 복수의 클램프(90)를 갖고 있다.The nozzle support part 66 is a pair of mounting metal member 88 which is respectively fixed by the bolt 86 at the same height position to the wall 10c, 10d of the front side and the back side of the chamber 10, respectively. It has one or several clamps 90 which detachably hold the both ends of the nozzle header tube 68 of the spray nozzle 64 on the installation metal member 88 of the present invention.

도 4a 및 도 4b에, 클램프(90)의 구성 및 작용을 도시한다. 클램프(90)는, 예를 들어 수지로 이루어지는 일체 성형품으로서 형성되고, 베이스부(92)와, 이 베이스부(92)에 개폐 변위 가능하게 일체 결합되어 있는 한 쌍의 원호 형상 보유 지지편(94, 96)을 갖고 있다. 이들 한 쌍의 원호 형상 보유 지지편(94, 96)의 상단부에는, 서로 결합 가능한 볼록부 또는 갈고리부(98) 및 오목부(100)가 각각 형성되어 있다. 원호 형상 보유 지지편(94, 96)을 각각의 상단부가 겹치도록 맞대어, 원호 형상 보유 지지편(94)의 갈고리부(98)와 원호 형상 보유 지지편(96)의 오목부(100)를 결합시킴으로써, 양쪽 원호 형상 보유 지지편(94, 96)의 내측에 장입된 노즐 헤더 관(68)을 확실히 보유 지지할 수 있다. 이 보유 지지 상태로부터 갈고리부(98)와 오목부(100)를 제거하면, 양쪽 원호 형상 보유 지지편(94, 96)이 분리되어 개방 상태로 되어, 노즐 헤더 관(68)의 장입 또는 제거가 가능해진다. 이와 같이, 노즐 지지부(66)는, 클램프(90)를 통하여, 스프레이 노즐(64)을 안정ㆍ견고하게 보유 지지하고, 또한 그 착탈을 용이하게 행할 수 있도록 되어 있다.4A and 4B show the configuration and operation of the clamp 90. The clamp 90 is formed as an integrally molded article made of resin, for example, and a pair of arc-shaped holding pieces 94 are integrally coupled to the base portion 92 so as to be openable and displaceable. , 96). On the upper ends of the pair of arc-shaped holding pieces 94 and 96, convex portions or hook portions 98 and concave portions 100 which are engageable with each other are formed, respectively. The arcuate retaining pieces 94 and 96 are abutted so that their upper ends overlap, thereby engaging the hook portion 98 of the arcuate retaining piece 94 and the recess 100 of the arcuate retaining piece 96. By doing so, the nozzle header pipe 68 inserted into the inner side of both arc-shaped holding pieces 94 and 96 can be reliably hold | maintained. When the hook portion 98 and the recessed portion 100 are removed from the holding state, both arc-shaped holding pieces 94 and 96 are separated to be in an open state, and charging or removing of the nozzle header tube 68 is prevented. It becomes possible. Thus, the nozzle support part 66 can hold | maintain the spray nozzle 64 stably and firmly through the clamp 90, and can attach / detach easily.

다시 도 3에 있어서, 롤러 반송로(14)는, 스프레이 노즐(64) 및 노즐 지지부(66)의 아래를 통과하고 있다. 롤러 반송로(14)를 구성하는 각 롤러(62)의 양단부는, 챔버(10)의 정면측 및 배면측의 벽(10c, 10d)에 고정된 좌우 한 쌍의 베어링(100, 102)에 회전 가능하게 각각 지지되어 있다. 롤러(62)는, 일정한 굵기(직경)를 갖는 강체의 샤프트를 갖고, 이 샤프트의 양단부에 기판(G)의 양측 단부(장변 테두리부)를 지지하는 원통형의 롤러부(62a)를 설치하고, 샤프트 중간부에 기판(G)의 중간부를 지지하는 복수의 원통형 롤러부(62b)를 설치하고 있다. 양단부의 롤러부(62a)에는 기판(G)의 하단부측의 측면을 받는 플랜지 형상의 굵은 직경부가 일체로 형성되어 있다. 반송 구동부(104)는, 챔버 배면측의 벽(10d)에 지지대(106)를 통해 고정된 전기 모터(108)와, 이 전기 모터(108)의 회전 구동력을 각 롤러(62)에 전달하기 위한 전동 기구를 갖는다. 이 전동 기구는, 전기 모터(108)의 회전축에 무단 벨트(110)를 통해 접속된 반송 방향(X 방향)으로 연장되는 회전 구동 샤프트(112)와, 이 회전 구동 샤프트(112)와 각 롤러(62)를 작동 결합하는 교차 축형의 기어(114)를 갖고 있다. 반송 구동부(104)와 롤러 반송로(14)에 의해, 평류 반송부가 구성되어 있다. 롤러 반송로(14)의 아래에는, 기판(G) 상에서 흘러넘친 처리액, 혹은 연속하는 기판(G)의 틈에 스프레이 노즐(64)로부터 토출된 처리액을 받아 모으기 위한 팬(116)이 설치되어 있다.3, the roller conveyance path 14 has passed under the spray nozzle 64 and the nozzle support part 66 again. Both ends of the rollers 62 constituting the roller conveying path 14 are rotated by a pair of left and right bearings 100 and 102 fixed to the front and back walls 10c and 10d of the chamber 10. Each is possibly supported. The roller 62 has a rigid shaft having a constant thickness (diameter), and is provided with cylindrical roller portions 62a that support both end portions (long edge portions) of the substrate G at both ends of the shaft, A plurality of cylindrical roller portions 62b supporting the intermediate portion of the substrate G are provided in the shaft intermediate portion. In the roller part 62a of both ends, the flange-shaped thick diameter part which receives the side surface of the lower end part side of the board | substrate G is integrally formed. The conveyance drive part 104 is an electric motor 108 fixed to the wall 10d of the chamber back side via the support base 106, and for transmitting the rotational driving force of this electric motor 108 to each roller 62. Has a power mechanism The transmission mechanism includes a rotation drive shaft 112 extending in the conveying direction (X direction) connected to the rotation shaft of the electric motor 108 via the endless belt 110, the rotation drive shaft 112 and the respective rollers ( It has a cross axial gear 114 for cooperating 62. The conveyance drive part 104 and the roller conveyance path 14 comprise the flat stream conveyance part. Under the roller conveyance path 14, a fan 116 is installed to collect the processing liquid overflowed on the substrate G or the processing liquid discharged from the spray nozzle 64 in the gap between the continuous substrate G. It is.

다음에, 도 5a 내지 도 5e를 참조하여, 이 실시 형태에 있어서의 휨 보정 기구(74)의 보다 상세한 구성 및 조립 방법을 설명한다.Next, with reference to FIG. 5A-FIG. 5E, the more detailed structure and the assembling method of the curvature correction mechanism 74 in this embodiment are demonstrated.

우선, 도 5a에 도시한 바와 같이, 휨 보정 기구(74)를 설치하기 전의 스프레이 노즐(64), 즉 노즐 헤더 관(68)은, 그 양단부가 대략 동일한 높이 위치에서 지지된 상태로 공중에 놓여지면, 자중에 의해 중심부가 가라앉듯이 아래로 휜다. 예를 들어, 노즐 헤더 관(68)이 PVC제이고, 그 전체 길이 LT가 약 2500㎜의 경우, 관 내가 빈 상태(처리액이 들어 있지 않은 상태)에서도, 휨량(중심부의 가라앉음량) D는 약 20㎜나 된다. 노즐 헤더 관(68) 중에 처리액이 들어 있을 때는, 휨량 D는 더욱 커진다.First, as shown in FIG. 5A, the spray nozzle 64, ie, the nozzle header tube 68, before the installation of the warpage correction mechanism 74 is placed in the air with its both ends supported at approximately the same height position. The ground, which is driven down by its own weight, sinks downward. For example, when the nozzle header tube 68 is made of PVC, and the full length LT is about 2500 mm, the amount of warpage (submerged amount of the center portion) D even when the tube is empty (the state does not contain the processing liquid). Is about 20 mm. When the processing liquid is contained in the nozzle header tube 68, the warpage amount D becomes larger.

이 실시 형태에 있어서는, 도 5b에 도시한 바와 같이, 휨 보정 기구(74)를 설치하기 전의 스프레이 노즐(64), 즉 노즐 헤더 관(68)을 자중이 작용하지 않는 상태로, 예를 들어 수평한 작업 테이블(도시하지 않음) 상에 실은 상태로, 곧게 연장시킨다. 그리고 노즐 헤더 관(68)에 휨 보정 기구(74)를 설치하는 것에 앞서, 그 길이 방향의 중심점 PC, 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2의 3개소에서, 노즐 헤더 관(68)의 보강면(68a)에 고정 핀(118, 120, 122)을, 예를 들어 용접으로 각각 고착시킨다. 또한, 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2는, 중심점 PC와 노즐 헤더 관(68)의 양단부의 한가운데 부근에 각각 설정되는 것이 바람직하고, 중심점 PC와 제1 중간점 PM1 사이의 거리를 LM1, 중심점 PC와 제2 중간점 PM2 사이의 거리를 LM2라고 하면, LM1＝LM2 또는 LM1≒LM2의 관계가 바람직하다.In this embodiment, as shown in FIG. 5B, the spray nozzle 64 before installing the warpage correction mechanism 74, ie, the nozzle header tube 68, is horizontal, for example, in a state where its own weight does not act. It is mounted straight on one work table (not shown). And before providing the bending correction mechanism 74 to the nozzle header tube 68, the nozzle header tube 68 is provided at three places of the center point P C of the longitudinal direction, the 1st, 2nd intermediate point P M1 , P M2 . The fixing pins 118, 120, and 122 are respectively fixed to the reinforcing surface 68a of the slit by welding, for example. Further, the first and second intermediate point P M1, P M2, the center point P C and to be respectively set in the vicinity of the middle of the both ends of the nozzle header pipe 68 are preferred, and the center point P C and the between the first intermediate point P M1 If the distance between L M1 , the center point P C, and the second intermediate point P M2 is L M2 , the relationship of L M1 = L M2 or L M1 -L M2 is preferable.

한편, 휨 보정 기구(74)에 있어서는, 중심 조인트부(76), 제1 및 제2 중간 조인트부(78, 80), 제1 및 제2 연결 막대(82, 84)의 각 부품을 준비한다. 여기서, 중심 조인트부(76)에는 T자 조인트, 예를 들어 T자 관을 적절하게 사용하고, 제1 및 제2 중간 조인트부(78, 80)에는 엘보우 조인트, 예를 들어 엘보우 관을 적절하게 사용할 수 있다. 제1 및 제2 연결 막대(82, 84)는 중공관 또는 중실관 중 어느 것이어도 좋고, 환봉으로 한정되지 않고, 각봉이어도 된다.On the other hand, in the bending correction mechanism 74, each component of the center joint part 76, the 1st and 2nd intermediate joint parts 78 and 80, and the 1st and 2nd connecting rods 82 and 84 is prepared. . Here, a T-joint, for example, a T-shaped tube, is appropriately used for the center joint portion 76, and an elbow joint, for example, an elbow tube, is appropriately used for the first and second intermediate joint portions 78, 80. Can be used. The first and second connecting rods 82 and 84 may be either hollow tubes or solid tubes, and are not limited to round bars, but may be square bars.

그리고 제1 연결 막대(82)의 양단부를 중심 조인트부(T자 관)(76)의 한쪽의 가로 통부 및 제1 중간 조인트부(엘보우 관)(78)의 가로 통부에 각각 삽입하여, 제1 보강 조립체(124)를 제작한다. 또한, 제2 연결 막대(84)의 양단부를 중심 조인트부(76)의 다른 쪽의 가로 통부 및 제2 중간 조인트부(엘보우 관)(80)의 가로 통부에 각각 삽입하여, 제2 보강 조립체(126)를 제작한다. 제1 및 제2 보강 조립체(124, 126)의 강도를 높이기 위해, 각각의 연결 개소에 접착제를 사용하는 것도 바람직하다. 제1 및 제2 보강 조립체(124, 126)가 이와 같이 일체적으로 합쳐져, 휨 보정 기구(74)의 조립체가 완성된다.Then, both ends of the first connecting rod 82 are inserted into one horizontal tube portion of the center joint portion (T-shaped tube) 76 and the horizontal tube portion of the first intermediate joint portion (elbow tube) 78, respectively. Build the reinforcement assembly 124. In addition, both ends of the second connecting rod 84 are inserted into the horizontal tube portion of the other side of the center joint portion 76 and the horizontal tube portion of the second intermediate joint portion (elbow tube) 80, respectively, to form a second reinforcing assembly ( 126). In order to increase the strength of the first and second reinforcing assemblies 124 and 126, it is also preferable to use an adhesive at each connection point. The first and second reinforcement assemblies 124, 126 are thus integrally joined together to complete the assembly of the warpage correction mechanism 74.

다음에, 도 5c에 도시한 바와 같이, 자중이 작용하지 않는 작업 테이블 상에서, 휨 보정 기구(74)의 중심 조인트부(76), 및 제1 및 제2 중간 조인트부(78, 80)를 노즐 헤더 관(68)의 고정 핀(118, 120, 122)에 각각 대향시킨다. 여기서, 휨 보정 기구(74)에 있어서, 중심 조인트부(76)의 중심 종축과 제1 중간 조인트부(78)의 중심 종축 사이의 거리, 즉 제1 보강 조립체(124)의 유효 길이를 LH1이라고 하고, 중심 조인트부(76)의 중심 종축과 제2 중간 조인트부(80)의 중심 종축 사이의 거리, 즉 제2 보강 조립체(126)의 유효 길이를 LH2라고 하면, LM1＜LH1, LM2＜LH2의 관계가 바람직하다. 일례로서, LM1, LM2＝700㎜의 경우에는, LH1, LH2＝710㎜로 선택되는 것이 바람직하다.Next, as shown in Fig. 5C, on the work table to which the self-weight does not act, the nozzles are moved to the center joint portion 76 of the bending correction mechanism 74 and the first and second intermediate joint portions 78 and 80. The fixing pins 118, 120, and 122 of the header tube 68 are respectively opposed. Here, in the bending correction mechanism 74, the distance between the central longitudinal axis of the center joint portion 76 and the central longitudinal axis of the first intermediate joint portion 78, that is, the effective length of the first reinforcing assembly 124 is determined by L H1. When the distance between the central longitudinal axis of the center joint portion 76 and the central longitudinal axis of the second intermediate joint portion 80, that is, the effective length of the second reinforcing assembly 126 is L H2 , L M1 <L H1 , L M2 &lt; L H2 is preferable. As an example, in the case of L M1 and L M2 = 700 mm, it is preferable that L H1 and L H2 = 710 mm.

그리고 중심 조인트부(T자 관)(76)의 세로 통부를 고정 핀(118)에 끼워 맞추는 동시에, 제1 및 제2 중간 조인트부(엘보우 관)(78, 80)의 세로 통부를 고정 핀(120, 122)에 각각 끼워 맞춘다. 그렇게 하면, 도 5d에 도시한 바와 같이, 자중이 작용하지 않는 작업 테이블 상의 조립 상태에서는, 상기한 바와 같은 LM1＜LH1, LM2＜LH2의 관계에 의해, 휨 보정 기구(74)[제1 및 제2 보강 조립체(124, 126)]가 외측에 위치하고, 노즐 헤더 관(68)이 내측에 위치하는 관계로, 양자(74, 68)가 대략 동심원 형상으로 휜다. 이 경우, 휨 보정 기구(74)의 중심 조인트부(76)와 노즐 헤더 관(68)의 중심부 사이에 발생하는 응력 FM이, 서로 만곡 변형을 발생시키는 모멘트로서 작용한다. 이와 같이 하여, 노즐 헤더 관(68)의 보강면(68a)에 휨 보정 기구(74)가 일체적으로 설치된다.Then, the vertical tube portion of the center joint portion (T-shaped tube) 76 is fitted to the fixing pin 118, and the vertical tube portions of the first and second intermediate joint portions (elbow tube) 78, 80 are fixed with pins ( 120, 122) respectively. Then, the one, in the assembled state in the work its own weight does not act on the table, and warpage correction mechanism 74 by the relationship L M1 <L H1, L M2 <L H2 as described above, as shown in Figure 5d [ The first and second reinforcing assemblies 124 and 126 are located on the outside and the nozzle header tubes 68 are located on the inside, so that both 74 and 68 are roughly concentric. In this case, the stresses F M generated between the central joint portion 76 of the bending correction mechanism 74 and the central portion of the nozzle header tube 68 act as moments for generating curved deformations. In this way, the warpage correction mechanism 74 is integrally provided on the reinforcement surface 68a of the nozzle header tube 68.

다음에, 상기한 바와 같이 하여 휨 보정 기구(74)를 설치한 스프레이 노즐(64)을 평류 반송로 상에 걸치도록 하여 양측의 노즐 지지부(66, 66)에 설치한다. 그와 같이 하면, 도 5e에 도시한 바와 같이, 스프레이 노즐(64)을 공중에 설치한 상태에서는, 스프레이 노즐(64) 전체에 중력이 작용함으로써, 각 부에 작용하는 힘의 밸런스로 노즐 헤더 관(68)이 곧은 자세로 되고, 휨 보정 기구(74)의 제1 및 제2 연결 막대(82, 84)도 곧게 된다. 여기서, 제1 및 제2 연결 막대(82, 84)가 노즐 헤더 관(68)과 평행하게 일직선 상에 나란히 연장되는 것이 바람직하다.Next, the spray nozzle 64 provided with the warpage correction mechanism 74 is attached to the nozzle support parts 66 and 66 on both sides so that the spray nozzle 64 may be mounted on a flat flow conveyance path as mentioned above. In such a case, as shown in FIG. 5E, in the state where the spray nozzle 64 is installed in the air, gravity acts on the entire spray nozzle 64, so that the nozzle header tube is balanced by the force acting on each part. The 68 is in a straight posture, and the first and second connecting rods 82 and 84 of the bending correction mechanism 74 are also straightened. Here, it is preferred that the first and second connecting rods 82, 84 extend side by side in a straight line parallel to the nozzle header tube 68.

이 경우, 공중에 걸쳐진 스프레이 노즐(64)에 있어서는, 노즐 헤더 관(68)의 중심점 PC(무게 중심)에 가해지는 중력 Fc가 상기 모멘트력 FM을 견딘다. 또한, 이 무게 중심 중력 Fc가, 중심 조인트부(76), 제1 및 제2 연결 막대(82, 84), 및 제1 및 제2 중간 조인트부(78, 80)를 통해 노즐 헤더 관(68)의 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2에 전해져, 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2에도 하향의 힘 FM1, FM2가 작용한다. 이로 인해, 노즐 헤더 관(68)의 중심점 PC가 무게 중심 중력 Fc에 의해 아래로 변위하려고 해도, 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2가 중심점 PC로부터 휨 보정 기구(74)를 통해 전달되는 중력(중간 중력) FM1, FM2에 의해 동일하게 아래로 변위하려고 하므로, 노즐 헤더 관(68) 전체의 만곡 변형, 즉 휨이 저지된다.In this case, in the spray nozzle 64 over the air, the gravity Fc applied to the center point P C (center of weight) of the nozzle header tube 68 withstands the moment force F M. In addition, this center of gravity gravity Fc passes through the nozzle header tube 68 through the center joint portion 76, the first and second connecting rods 82 and 84, and the first and second intermediate joint portions 78 and 80. ) and the first and second intermediate point P M1, P M2 transmitted to, the first and second intermediate point P M1, P M2 acting in a force F M1, F M2 of the downward. For this reason, even if the center point P C of the nozzle header tube 68 tries to shift down by the gravity center gravity Fc, the 1st and 2nd intermediate points P M1 and P M2 will bend the bending correction mechanism 74 from the center point P C. Since the gravity (intermediate gravity) F M1 , F M2 transmitted through is about to be displaced equally, curvature deformation, that is, warping, of the entire nozzle header tube 68 is prevented.

또한, 이 실시 형태에서는, 상기한 바와 같이 LM1＜LH1, LM2＜LH2의 관계 하에서 중심 조인트부(76)의 세로 통부를 고정 핀(118)에 끼워 맞추는 동시에, 제1 및 제2 중간 조인트부(78, 80)의 세로 통부를 고정 핀(120, 122)에 각각 끼워 맞추고 있으므로, 중심 조인트부(76)와 제1 및 제2 중간 조인트부(78, 80) 사이에서 제1 및 제2 연결 막대(82, 84)가 줄어드는 방향으로 응력을 받아 극히 약간이지만 변형하고 있다. 따라서 제1 및 제2 연결 막대(82, 84)는, 이 변형 상태로부터 원상태로 복귀하려고 하여 중심 조인트부(76)와 제1 및 제2 중간 조인트부(78, 80)에 횡방향 외향의 힘(반작용) FN1, FN2를 미치고, 나아가서는 노즐 헤더 관(68)의 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2에 횡방향(노즐 길이 방향) 외향의 응력 FT1, FT2를 부여한다. 이들 노즐 길이 방향의 응력 FT1, FT2도, 노즐 헤더 관(68)의 만곡 변형, 즉 휨을 저지하는 방향으로 작용한다.Further, in the present embodiment, the vertical cylindrical portion of the L M1 <central joint section (76) in the relationship of L H1, L M2 <L H2, as described above at the same time fitting the fixing pin 118, the first and second Since the vertical tube portions of the intermediate joint portions 78 and 80 are fitted to the fixing pins 120 and 122, respectively, the first and second intermediate joint portions 78 and 80 are interposed therebetween. The second connecting rods 82 and 84 are stressed in the decreasing direction and are deformed only slightly. Accordingly, the first and second connecting rods 82 and 84 are laterally outwardly applied to the center joint portion 76 and the first and second intermediate joint portions 78 and 80 in an attempt to return to the original state from this deformation state. (Reaction) F N1 , F N2 extends, and further, the first and second intermediate points P M1 and P M2 of the nozzle header tube 68 are provided with stresses F T1 and F T2 outward in the lateral direction (the nozzle length direction). do. The stresses F T1 and F T2 in the nozzle longitudinal direction also act in the direction of preventing bending deformation, that is, bending of the nozzle header tube 68.

이와 같이, 이 실시 형태의 처리액 토출 노즐(64)은, 노즐 헤더 관(68)에 상기 구성의 휨 보정 기구(74)를 일체적으로 설치함으로써, 노즐 지지부(66)에 의해 노즐 헤더 관(68)의 양단부만이 지지되면 그것으로 충분하고, 노즐 헤더 관(68)의 중심부가 중력으로 가라앉듯이 휘는 일은 없어, 항상 수평 일직선의 자세를 유지할 수 있다.Thus, the process liquid discharge nozzle 64 of this embodiment is integrally provided with the warpage correction mechanism 74 of the said structure in the nozzle header pipe 68, and the nozzle support pipe 66 is connected to the nozzle header pipe ( If only the both ends of 68 are supported, it will be enough, and it will not bend like the center part of the nozzle header tube 68 sinks by gravity, and can always maintain a horizontal straight posture.

이와 같이 하여, 처리액 토출 노즐(64)에 있어서는, 도 3에 도시한 바와 같이, 노즐 헤더 관(68)에 설치되어 있는 다수의 노즐 팁(70)이 동일한 높이 위치에서 일직선 상에 배열되고, 노즐 길이 방향에서 각 노즐 팁(70)과 롤러 반송로(14) 상의 기판(G)의 거리 간격이 균일해진다. 이에 의해, 기판(G) 상의 각 부에 균일한 액 처리(약액 웨트 처리, 린스 처리 등)가 실시된다.Thus, in the process liquid discharge nozzle 64, as shown in FIG. 3, many nozzle tips 70 provided in the nozzle header tube 68 are arranged in a straight line at the same height position, In the nozzle longitudinal direction, the distance between each nozzle tip 70 and the substrate G on the roller conveyance path 14 becomes uniform. Thereby, the uniform liquid process (chemical liquid wet process, rinse process, etc.) is performed to each part on the board | substrate G.

[다른 실시 형태 또는 변형예][Other Embodiments or Modifications]

상기 실시 형태의 스프레이 노즐(64)에 있어서는, 휨 보정 기구(74)로부터 노즐 헤더 관(68)에 부여되는 노즐 길이 방향의 응력 FT1, FT2를 조정하기 위한 나사 기구를 구비할 수 있다.In the spray nozzle 64 of the above embodiment, it may include a screw mechanism for adjusting the stress of the nozzle longitudinal direction F T1, F T2 given to the nozzle header pipe 68 from the deflection correction mechanism 74.

도 6에 도시하는 구성예는, 노즐 헤더 관(68)의 제1 중간점 PM1에 부여하는 노즐 길이 방향의 응력 FT1을 조정하기 위해, 제1 엘보우 조인트(78)에 제1 연결 막대(82)를 나사 결합시키고 있다. 보다 상세하게는, 엘보우 조인트(78)의 가로 통부를 관통시켜, 그 가로 통부에 암나사부(130)를 형성하는 동시에, 엘보우 조인트(78)의 가로 통부를 관통하는 연결 막대(82)의 동부(胴部)에 엘보우 조인트(78)의 암나사부(130)와 나사 결합 가능한 수나사부(132)를 형성한다. T자 조인트(76)에는, 연결 막대(82)의 선단부를 수납하는 가로 통부에 스폿 페이싱 구멍(맹공)(134)이 형성되어 있다. 이 스폿 페이싱 구멍(134)의 종단부면에 연결 막대(82)의 선단이 닿도록 한다. 엘보우 조인트(78)의 외측으로 나와 있는 연결 막대(82)의 헤드부(138)를 돌리고, 그 회전의 방향과 회전량에 따라, 연결 막대(82)를 축 방향에서 쌍방향으로 움직이게 할 수 있다.In the structural example shown in FIG. 6, in order to adjust the stress F T1 in the nozzle longitudinal direction applied to the first intermediate point P M1 of the nozzle header tube 68, the first connecting rod ( 82) is screwed in. In more detail, the eastern part of the connecting rod 82 which penetrates the horizontal tube part of the elbow joint 78, forms the female screw part 130 in the horizontal tube part, and penetrates the horizontal tube part of the elbow joint 78, A male screw portion 132 that can be screwed with the female screw portion 130 of the elbow joint 78 is formed in the recess. In the T-joint 76, a spot facing hole (blind hole) 134 is formed in the horizontal tube portion for accommodating the distal end portion of the connecting rod 82. The tip of the connecting rod 82 is brought into contact with the end face of the spot facing hole 134. The head portion 138 of the connecting rod 82 extending out of the elbow joint 78 can be turned, and the connecting rod 82 can be moved in both directions in the axial direction, depending on the direction of rotation and the amount of rotation thereof.

이 경우, 제1 연결 막대(82)를 전진시키는 방향으로 그 헤드부(138)를 돌리면, 제1 보강 조립체(124)의 유효 길이 LH1이 길어져, 노즐 헤더 관(68)의 중심점 PC 및 제1 중간점 PM1에 각각 부여되는 길이 방향의 응력 FTC, FT1이 증대된다. 반대로, 제1 연결 막대(82)를 후퇴시키는 방향으로 그 헤드부(138)를 돌리면, 제1 보강 조립체(124)의 유효 길이 LH1이 짧아져, 노즐 헤더 관(68)의 중심점 PC 및 제1 중간점 PM1에 각각 부여되는 길이 방향의 응력 FTC, FT1이 감소한다.In this case, when the head portion 138 is turned in the direction of advancing the first connecting rod 82, the effective length L H1 of the first reinforcing assembly 124 becomes long, and the center point P C of the nozzle header tube 68 and The stresses F TC and F T1 in the longitudinal direction respectively applied to the first intermediate point P M1 are increased. On the contrary, when the head portion 138 is turned in the direction of retracting the first connecting rod 82, the effective length L H1 of the first reinforcing assembly 124 is shortened, and the center point P C of the nozzle header tube 68 and The stresses F TC and F T1 in the longitudinal direction respectively applied to the first intermediate point P M1 decrease.

도시 생략하지만, 노즐 헤더 관(68)의 제2 중간점 PM2에 부여하는 노즐 길이 방향의 응력 FT2를 조정하기 위해, 제2 연결 막대(84) 둘레에도 상기한 바와 같은 나사 기구를 설치할 수 있다. 또한, 도시 생략하지만, 연결 막대(82)(84)의 동부를, 길이 방향에서 헤드부(138)측의 암나사부(132)와, 나사산이 없는 부분(133)으로 2분할하는 것도 가능하다.Although not shown, in order to adjust the stress F T2 in the nozzle longitudinal direction imparted to the second intermediate point P M2 of the nozzle header tube 68, the screw mechanism as described above may be provided around the second connecting rod 84. have. In addition, although not shown in figure, the eastern part of the connecting rod 82 and 84 can be divided into 2 parts by the female screw part 132 of the head part 138 side, and the threadless part 133 in a longitudinal direction.

도 7에 도시하는 구성예는, 제1 연결 막대(82)를 더블 수나사의 중간 연결 막대(140)를 사이에 두고 제1 및 제2 편측 연결 막대(142, 144)로 2분할하고, 중간 연결 막대(140)에 대해 제1 및 제2 편측 연결부를 역방향에서 나사 결합시키고 있다. 보다 상세하게는, 제1 및 제2 편측 연결 막대(142, 144)의 서로 대향하는 선단부에 암나사부(146, 148)를 각각 형성하고, 중간 연결 막대(140)의 한쪽의 수나사부(140a)를 제1 편측 연결 막대(142)의 암나사부(146)에 나사 결합시키고, 중간 연결 막대(140)의 다른 쪽의 수나사부(140b)를 제2 편측 연결 막대(144)의 암나사부(148)에 나사 결합시키고 있다. 여기서, 중간 연결 막대(140)의 한쪽의 수나사부(140a)와 다른 쪽의 수나사부(140b)는 나사산의 나선 방향이 역방향으로 되어 있다. 이에 의해, 중간 연결 막대(140)의 중심부에 설치된 손잡이부(149)를 돌리면, 그 회전 방향 및 회전량에 따라, 제1 및 제2 편측 연결 막대(142, 144)를 동시에 서로 접근하는 방향 혹은 서로 멀어지는 방향으로 움직이게 할 수 있다. 엘보우 조인트(78) 및 T자 조인트(76)에는, 편측 연결 막대(142, 144)의 다른 쪽의 단부를 수납하는 가로 통부에 스폿 페이싱 구멍(맹공)(150, 152)이 각각 형성되어 있다. 이들 스폿 페이싱 구멍(맹공)(150, 152)의 종단부면에 편측 연결 막대(142, 144)의 선단이 각각 닿도록 한다.In the structural example shown in FIG. 7, the first connecting rod 82 is divided into two first and second one-side connecting rods 142 and 144 with an intermediate connecting rod 140 of a double male thread interposed therebetween, and an intermediate connecting. The first and second one-sided connections to the rod 140 are screwed in the reverse direction. More specifically, female threaded portions 146 and 148 are formed at the distal ends of the first and second one-sided connecting rods 142 and 144, respectively, and one male threaded portion 140a of the intermediate connecting rod 140 is formed. To the female threaded portion 146 of the first one-side connecting rod 142, and the female threaded portion 140b of the other side of the intermediate connecting rod 140 is the female threaded portion 148 of the second one-side connecting rod 144. Screwing in. Here, in one male screw portion 140a and the other male screw portion 140b of the intermediate connecting rod 140, the spiral direction of the screw thread is reversed. As a result, when the knob 149 provided at the center of the intermediate connecting rod 140 is turned, the first and second one-side connecting rods 142 and 144 simultaneously approach each other according to the rotational direction and the amount of rotation thereof. Can move in a direction away from each other. In the elbow joint 78 and the T-joint 76, spot facing holes (blanks) 150 and 152 are formed in the horizontal tube which accommodates the other ends of the one-side connecting rods 142 and 144, respectively. The tip ends of the one-side connecting rods 142 and 144 are respectively in contact with the end faces of the spot facing holes 150 and 152, respectively.

이 경우, 제1 및 제2 편측 연결 막대(142, 144)를 서로 멀어지는 방향으로 중간 연결 막대(140)의 손잡이부(149)를 돌리면, 제1 보강 조립체(124)의 유효 길이 LH1이 길어져, 노즐 헤더 관(68)의 중심점 PC 및 제1 중간점 PM1에 각각 부여되는 길이 방향의 응력 FTC, FT1이 증대된다. 반대로, 제1 및 제2 편측 연결 막대(142, 144)를 서로 근접하는 방향으로 중간 연결 막대(140)의 손잡이부(149)를 돌리면, 제1 보강 조립체(124)의 유효 길이 LH1이 짧아져, 노즐 헤더 관(68)의 중심점 PC 및 제1 중간점 PM1에 각각 부여되는 길이 방향의 응력 FTC, FT1이 감소한다. 도 7의 구성예는, 제2 연결 막대(84) 둘레에도 마찬가지로 적용 가능하다.In this case, turning the handle portion 149 of the intermediate connecting rod 140 in a direction away from the first and second one-side connecting rods 142 and 144 extends the effective length L H1 of the first reinforcing assembly 124. The stresses F TC and F T1 in the longitudinal direction applied to the center point P C and the first intermediate point P M1 of the nozzle header tube 68 are increased. Conversely, turning the handle 149 of the intermediate connecting rod 140 in a direction in which the first and second one-side connecting rods 142 and 144 are close to each other, the effective length L H1 of the first reinforcing assembly 124 is shortened. Thus, the longitudinal stresses F TC and F T1 applied to the center point P C and the first intermediate point P M1 of the nozzle header tube 68 are reduced. The configuration example of FIG. 7 is similarly applicable to the circumference of the second connecting rod 84.

상기 실시 형태의 처리액 토출 노즐(64)에 있어서는, 다른 변형예로서, 도 8a에 도시한 바와 같이, 휨 보정 기구(74)의 T자 조인트(T자 관)(76), 제1 및 제2 엘보우 조인트(엘보우 관)(78, 80)에 유로 커넥터(160, 162, 164)를 통해 처리액 공급관(72)(또는 그 분기관)에 접속하는 구성도 가능하다. 이 경우, 처리액 공급원으로부터의 처리액은, 처리액 공급관(72), 유로 커넥터(160, 162, 164), T자 조인트(T자 관)(76), 제1 및 제2 엘보우 조인트(엘보우 관)(78, 80)를 통과하여 노즐 헤더 관(68) 내로 도입된다.In the processing liquid discharge nozzle 64 of the above embodiment, as another modification, as shown in FIG. 8A, the T-shaped joint (T-shaped tube) 76, the first and the first of the bending correction mechanism 74 are formed. It is also possible to connect the two elbow joints (elbow pipes) 78 and 80 to the processing liquid supply pipe 72 (or branch pipes thereof) through the flow path connectors 160, 162 and 164. In this case, the processing liquid from the processing liquid supply source includes the processing liquid supply pipe 72, the flow path connectors 160, 162 and 164, the T-shaped joint (T-shaped tube) 76, the first and second elbow joints (elbow). Pipes 78, 80, and into the nozzle header pipe 68.

혹은, 도 8b에 도시한 바와 같이, 휨 보정 기구(74)의 제1 및 제2 연결 막대(82, 84)에 중공관을 사용하여, T자 조인트(T자 관)(76)와 제1 및 제2 엘보우 조인트(엘보우 관)(78, 80)를 연통시키고, 처리액 공급관(72)을, 예를 들어 T자 조인트(T자 관)(76)에만 접속하는 구성도 가능하다.Alternatively, as shown in FIG. 8B, a hollow tube is used for the first and second connecting rods 82 and 84 of the bending correction mechanism 74 to form the T-joint (T-shaped tube) 76 and the first. And the second elbow joint (elbow pipe) 78 and 80, and the treatment liquid supply pipe 72 is connected to only the T-shaped joint (T-shaped pipe) 76, for example.

상기 실시 형태의 처리액 토출 노즐(64)에 있어서의 휨 보정 기구(74)는, 다수의 부품(76 내지 84)으로 이루어지는 조립체로서 구성되었다. 그러나 상기 실시 형태의 중심 조인트부(76), 제1 및 제2 중간 조인트부(78, 80) 및 제1 및 제2 연결 막대(82, 84)에 상당하는 각 부를 갖는 일체 성형품으로서, 휨 보정 기구(74)를 구성하는 것도 가능하다.The curvature correction mechanism 74 in the process liquid discharge nozzle 64 of the said embodiment was comprised as an assembly which consists of many components 76-84. However, as the integral molded article having respective portions corresponding to the center joint portion 76, the first and second intermediate joint portions 78 and 80, and the first and second connecting rods 82 and 84 of the above embodiment, the warpage correction It is also possible to configure the mechanism 74.

또한, 다른 실시 형태의 휨 보정 기구(74')로서, 도 9b에 도시한 바와 같이, 중심 조인트부(76')를 제1 및 제2 중간 조인트부(78', 80')보다도 짧게 하는 구성을 적절하게 채용할 수 있다. 또한, 도 9b는, 휨 보정 기구(74')를 설치하기 전의 스프레이 노즐(64), 즉 노즐 헤더 관(68)을 자중이 작용하지 않는 수평한 작업 테이블(도시하지 않음) 상에 적재하여 곧게 연장시키고 있는 상태를 도시하고 있다. 이 경우도, 도 9a에 도시한 바와 같이, 휨 보정 기구(74')를 설치하기 전의 스프레이 노즐(64), 즉 노즐 헤더 관(68)을 그 양단부를 지지하여 공중에 두면, 자중에 의해 중심부가 가라앉듯이 아래로 휜다.Moreover, as the bending correction mechanism 74 'of another embodiment, as shown in FIG. 9B, the structure which makes the center joint part 76' shorter than the 1st and 2nd intermediate joint parts 78 'and 80' is shown. Can be suitably employed. 9B shows that the spray nozzle 64, that is, the nozzle header tube 68, before the installation of the warpage correction mechanism 74 'is mounted on a horizontal work table (not shown) where self weight does not act, and is straightened. The extending state is shown. Also in this case, as shown in FIG. 9A, when the spray nozzle 64, ie, the nozzle header tube 68, before the installation of the warpage correction mechanism 74 'is supported and placed in the air, the center of gravity is caused by its own weight. Squeezed down as it sank.

휨 보정 기구(74')에 있어서는, 도 9b에 도시한 바와 같이, 중심 조인트부(76'), 제1 및 제2 중간 조인트부(78', 80'), 제1 및 제2 막대 형상 연결부(82', 84')를 일체 성형품으로 구성하는 것이 바람직하다. 여기서, 휨 보정 기구(74')를 노즐 헤더 관(68)에 설치하기 전에, 중심 조인트부(76')를 노즐 헤더 관(68)의 중심점 Pc에 대향시켰을 때에, 제1 및 제2 중간 조인트부(78', 80')의 하단부가 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2보다도 중심점 Pc 부근에 위치하는 구성, 즉 제1 및 제2 막대 형상 연결부(82', 84')의 길이를 각각 L1, L2라고 하면, L1＜LM1, L2＜LM2의 관계가 바람직하다.In the bending correction mechanism 74 ', as shown in Fig. 9B, the center joint portion 76', the first and second intermediate joint portions 78 ', 80', and the first and second rod-shaped connecting portions are shown. It is preferable to configure (82 ', 84') with an integrally molded article. Here, before installing the bending correction mechanism 74 'in the nozzle header tube 68, when the center joint part 76' opposes the center point Pc of the nozzle header tube 68, a 1st and 2nd intermediate joint The lower end portions of the portions 78 'and 80' are positioned closer to the center point Pc than the first and second intermediate points P M1 and P M2 , that is, the lengths of the first and second rod-shaped connecting portions 82 'and 84'. When L 1 and L 2 are respectively, a relationship of L 1 <L M1 and L 2 <L M2 is preferable.

그리고 도 9c에 도시한 바와 같이, 자중이 작용하지 않는 작업 테이블 상에서, 휨 보정 기구(74')의 중심 조인트부(76'), 제1 및 제2 중간 조인트부(78', 80')의 각각의 단부(하단부)를 노즐 헤더 관(68)의 중심점 Pc, 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2에 용접으로 결합한다. 이와 같이 하여 휨 보정 기구(74')를 노즐 헤더 관(68)에 결합하면, 가요성의 노즐 헤더 관(68)이, 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2의 사이에서 제1 및 제2 막대 형상 연결부(82', 84')에 접근하도록 변형되어, 수평한 작업 테이블 상에서 도시한 바와 같이 휜다.And as shown in FIG. 9C, of the center joint part 76 'of the bending correction mechanism 74', the 1st and 2nd intermediate joint parts 78 ', 80' of the bending correction mechanism 74 'on the worktable to which self weight does not act. Each end (lower end) is welded to the center point Pc, the first and second intermediate points P M1 , P M2 of the nozzle header tube 68. When the warpage correction mechanism 74 'is coupled to the nozzle header tube 68 in this manner, the flexible nozzle header tube 68 is formed between the first and second intermediate points P M1 and P M2 . It was deformed to approach the two rod-shaped connections 82 'and 84' and squeezed as shown on a horizontal work table.

다음에, 상기한 바와 같이 하여 휨 보정 기구(74')를 설치한 스프레이 노즐(64)을 평류 반송로 상에 걸치도록 하여 양측의 노즐 지지부(66, 66)에 설치한다. 그와 같이 하면, 도 9d에 도시한 바와 같이, 스프레이 노즐(64)을 공중에 설치한 상태에서는, 스프레이 노즐(64) 전체에 중력이 작용함으로써, 각 부에 작용하는 힘의 밸런스로 노즐 헤더 관(68)이 곧은 자세로 된다.Next, as described above, the spray nozzles 64 provided with the warpage correction mechanism 74 'are mounted on the nozzle support portions 66 and 66 on both sides so as to span the flat flow conveying path. In such a case, as shown in FIG. 9D, in the state where the spray nozzle 64 is installed in the air, gravity acts on the entire spray nozzle 64, so that the nozzle header tube has a balance of the force acting on each part. (68) is in a straight posture.

휨 보정 기구(74')에 있어서는, 제1 중간 조인트부(78')와 제1 막대 형상 연결부(82')의 접속점 A1 및 제2 중간 조인트부(80')와 제2 막대 형상 연결부(84')의 접속점 A2가 중심점 Pc 부근으로 더 시프트한다. 즉, 휨 보정 기구(74') 쪽이 변형된다. 휨 보정 기구(74')가 이 변형 상태로부터 도 9c의 원상태로 복귀하려고 하여, 노즐 헤더 관(68)의 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2에는 횡방향(노즐 길이 방향)의 내향의 응력 FT1, FT2를 부여하고, 노즐 헤더 관(68)의 중심점 Pc에는 상향의 응력 FU를 부여한다. 이들 노즐 길이 방향의 응력 FT1, FT2 및 상향의 응력 FU는, 제1 및 제2 중간점 PM1, PM2에 부여되는 중간 중력 FM1, FM2와 함께, 노즐 헤더 관(68) 전체의 만곡 변형, 즉 휨을 저지하는 방향으로 작용한다.In the bending correction mechanism 74 ', the connection point A 1 of the first intermediate joint portion 78' and the first rod-shaped connecting portion 82 'and the second intermediate joint portion 80' and the second rod-shaped connecting portion ( 84 is a connection point of the a 2 ') is further shifted to the vicinity of the center point Pc. That is, the deflection correction mechanism 74 'is deformed. Inward flexure compensation mechanism (74) that is deformed by trying from returning to its original position of Figure 9c, the first and second mid-point of the nozzle header pipe (68) P M1, P M2, the transverse direction (nozzle length direction) Stresses F T1 and F T2 , and upward stress F U is given to the center point Pc of the nozzle header tube 68. These nozzle longitudinal stresses F T1 , F T2 and upward stress F U are nozzle header tubes 68 together with intermediate gravity F M1 , F M2 applied to the first and second intermediate points P M1 , P M2 . It acts in the direction of preventing the entire bending deformation, that is, the warping.

따라서 이 실시 형태에 있어서도, 노즐 헤더 관(68)에 상기 구성의 휨 보정 기구(74')를 일체적으로 설치함으로써, 노즐 지지부(66)에 의해 노즐 헤더 관(68)의 양단부만이 지지되면 그것으로 충분하고, 노즐 헤더 관(68)의 중심부가 중력으로 가라앉듯이 휘는 일은 없어, 항상 수평 일직선의 자세를 유지할 수 있다.Therefore, also in this embodiment, when the warp correction mechanism 74 'of the said structure is integrally provided in the nozzle header tube 68, when only the both ends of the nozzle header tube 68 are supported by the nozzle support part 66, It is enough, and it does not bend like the center part of the nozzle header tube 68 sinks by gravity, and can always maintain a horizontal straight posture.

그 외에도 다양한 변형이 가능하다. 예를 들어, 상기 실시 형태의 휨 보정 기구(74)(74')는, 노즐 헤더 관(68)의 중심점 Pc의 양측에 한 쌍의 중간점 PM1, PM2를 설정하고, 한 쌍의 중간 조인트부(78, 80)를 설치하였지만, 2대 이상의 중간점 및 중간 조인트부를 설치하는 것도 가능하다. 또한, 본 발명에 있어서 중심 조인트부(76)와 결합되는 노즐 헤더 관(68)의 부위는, 반드시 노즐 헤더 관(68)의 중심점 Pc일 필요는 없고, 중심점 Pc로부터 길이 방향으로 어긋나 있어도 된다. 한 쌍의 중간점 PM1, PM2를 설치하는 경우도, 그들 중간점 PM1, PM2가 반드시 노즐 헤더 관(68) 상에서 중심점 Pc와 양단부의 한가운데일 필요는 없고, 거기에서 길이 방향으로 어긋나 있어도 상관없다. 따라서 제1 및 제2 막대 형상 연결부(연결 막대)(82, 84)의 길이가 달라도 된다.Many other variations are possible. For example, the middle part of the embodiment of the deflection correction mechanism 74 (74 '), when set, a pair of intermediate point P M1, P M2 on both sides of the center point Pc of the nozzle header pipe 68, and one pairs Although the joint parts 78 and 80 were provided, it is also possible to provide two or more intermediate points and an intermediate joint part. In addition, in this invention, the site | part of the nozzle header tube 68 couple | bonded with the center joint part 76 does not necessarily need to be the center point Pc of the nozzle header tube 68, and may shift in the longitudinal direction from center point Pc. Also when installing a pair of intermediate points P M1 and P M2 , those intermediate points P M1 and P M2 do not necessarily have to be in the middle of the center point Pc and both ends on the nozzle header tube 68, and are shifted in the longitudinal direction therefrom. It does not matter. Accordingly, the lengths of the first and second rod-shaped connecting portions (connection bars) 82 and 84 may be different.

또한, 본 발명의 처리액 토출 노즐의 토출부에 있어서도 다양한 변형이 가능하다. 예를 들어, 상기 실시 형태에서는, 노즐 헤더 관(68)에 길이 방향 일렬로 나란히 분포하는 다수의 이산형 토출구(개구)에 노즐 팁(70)을 설치하고 있다. 일 변형예로서, 노즐 헤더 관(68)의 이산형 토출구에 노즐 팁(70)을 설치하지 않고, 각 토출구(개구)로부터 처리액을 그대로 분출시키는 것도 가능하다. 또한, 노즐 헤더 관(68)에 다수의 이산형 토출구 또는 노즐 팁(70)을, 예를 들어 지그재그 형상으로 복수열 설치하는 것도 가능하다. 또한, 다른 변형예로서, 노즐 헤더 관(68)에 길이 방향으로 연장되는 슬릿 형상의 토출구를 형성하고, 그 슬릿 토출구로부터 처리액을 띠 형상으로 분출시키는 것도 가능하다.Moreover, various deformation | transformation is possible also in the discharge part of the process liquid discharge nozzle of this invention. For example, in the said embodiment, the nozzle tip 70 is provided in many discrete discharge ports (openings) distributed side by side in the longitudinal direction line in the nozzle header tube 68. As shown in FIG. As a modification, it is also possible to jet the processing liquid from each discharge port (opening) as it is without providing the nozzle tip 70 at the discrete discharge port of the nozzle header tube 68. In addition, a plurality of discrete discharge ports or nozzle tips 70 may be provided in the nozzle header tube 68 in a zigzag shape, for example. Further, as another modification, it is also possible to form a slit-shaped discharge port extending in the longitudinal direction in the nozzle header tube 68, and to eject the processing liquid in a strip form from the slit discharge port.

또한, 반송계에 있어서는, 롤러 반송로(84) 대신에, 예를 들어 벨트 컨베이어 등 다른 평류 반송로를 사용해도 된다. 본 발명의 평류 반송에 있어서, 기판은 임의의 자세를 취하는 것이 가능하고, 수평 자세의 평류 반송이어도 되지만, 경사 자세의 평류 반송도 가능하다.In addition, in the conveyance system, you may use other flat flow conveyance paths, such as a belt conveyor, instead of the roller conveyance path 84, for example. In the flat flow conveyance of this invention, a board | substrate can take arbitrary attitudes, although the horizontal flow conveyance of a horizontal attitude | position may be sufficient, but the flat stream conveyance of an inclination attitude | position is also possible.

상기 실시 형태의 기판 처리 장치는 평류 방식의 세정 처리 장치에 관한 것이었지만, 본 발명은 장척형의 처리액 토출 노즐을 구비하는 임의의 기판 처리 장치에 적용 가능하고, 예를 들어 평류 방식의 현상 처리 장치에도 적용 가능하다. 그 경우, 예를 들어 현상액 노즐이나 린스 노즐 등에 본 발명의 장척형의 처리액 토출 노즐을 적용할 수 있다.Although the substrate processing apparatus of the said embodiment is related with the washing processing apparatus of the parallel flow system, this invention is applicable to the arbitrary substrate processing apparatuses provided with the elongate process liquid discharge nozzle, For example, the development process of the parallel flow system Applicable to the device as well. In that case, the elongate process liquid discharge nozzle of this invention can be applied, for example to a developing solution nozzle or a rinse nozzle.

본 발명에 있어서의 피처리 기판은 LCD 기판으로 한정되지 않고, 다른 플랫 패널 디스플레이용 기판, 태양 전지용 기판, 반도체 웨이퍼, CD 기판, 글래스 기판, 포토마스크, 프린트 기판 등도 가능하다.The substrate to be processed in the present invention is not limited to an LCD substrate, and other flat panel display substrates, solar cell substrates, semiconductor wafers, CD substrates, glass substrates, photomasks, printed substrates, and the like are also possible.

14 : 평류 반송로
28U, 28L : 프리웨트 노즐
32U, 32L : 린스 노즐
38U, 38L : 2유체 노즐
42U, 42L : 린스 노즐
64 : 처리액 토출 노즐
66 : 노즐 지지부
68 : 노즐 헤더 관
72 : 배관(처리액 공급관)
74, 74' : 휨 보정 기구
76 : 중심 조인트부
78 : 제1 중간 조인트부
80 : 제2 중간 조인트부
82 : 제1 막대 형상 연결부(연결 막대)
84 : 제2 막대 형상 연결부(연결 막대)
90 : 클램프14: flat flow return path
28U, 28L: Prewet Nozzle
32U, 32L: Rinse Nozzle
38U, 38L: Two-fluid Nozzle
42U, 42L: Rinse Nozzle
64: treatment liquid discharge nozzle
66: nozzle support
68: nozzle header tube
72: piping (process liquid supply pipe)
74, 74 ': bending correction mechanism
76: center joint portion
78: first intermediate joint portion
80: second intermediate joint portion
82: first rod-shaped connecting portion (connection bar)
84: second rod-shaped connecting portion (connection bar)
90: clamp

Claims (23)

처리액 공급원에 접속되는 노즐 헤더 관과,
상기 노즐 헤더 관에 길이 방향으로 분포 또는 개방되어 설치되고, 상기 처리액 공급원으로부터 상기 노즐 헤더 관으로 도입된 처리액을 분출하는 토출부와,
상기 노즐 헤더 관의 길이 방향의 일단부와 중심 사이의 제1 중간점에서, 상기 노즐 헤더 관의 상기 토출부와는 반대측의 보강면으로 돌출되어 설치되는 제1 중간 조인트부와,
상기 노즐 헤더 관의 길이 방향의 타단부와 중심 사이의 제2 중간점에서, 상기 노즐 헤더 관의 상기 보강면으로 돌출되어 설치되는 제2 중간 조인트부와,
상기 노즐 헤더 관의 상기 제1 중간점과 상기 제2 중간점 사이에서, 상기 노즐 헤더 관의 상기 보강면으로 돌출되어 설치되는 중심 조인트부와,
상기 중심 조인트부와 상기 제1 중간 조인트부 사이에 걸쳐지는 제1 막대 형상 연결부와,
상기 중심 조인트부와 상기 제2 중간 조인트부 사이에 걸쳐지는 제2 막대 형상 연결부를 갖는, 처리액 토출 노즐.A nozzle header tube connected to the processing liquid supply source,
A discharge part which is distributed or opened in the nozzle header tube in a longitudinal direction, and ejects the processing liquid introduced into the nozzle header tube from the processing liquid supply source;
A first intermediate joint portion protruding from a reinforcement surface opposite to the discharge portion of the nozzle header tube at a first intermediate point between one end portion and a center in the longitudinal direction of the nozzle header tube;
A second intermediate joint portion protruding from the reinforcing surface of the nozzle header tube at a second intermediate point between the other end portion in the longitudinal direction of the nozzle header tube and the center;
A center joint portion protruding from the first intermediate point and the second intermediate point of the nozzle header tube to the reinforcing surface of the nozzle header tube;
A first rod-shaped connecting portion spanning between the center joint portion and the first intermediate joint portion,
And a second rod-shaped connecting portion spanned between the center joint portion and the second intermediate joint portion. 제1항에 있어서, 상기 중심 조인트부가, 상기 노즐 헤더 관의 길이 방향의 중심 부근에 설치되는, 처리액 토출 노즐.The process liquid discharge nozzle according to claim 1, wherein the center joint part is provided near a center in the longitudinal direction of the nozzle header tube. 제1항에 있어서, 상기 토출부가, 상기 노즐 헤더 관에 길이 방향 일렬 또는 복수열로 나란히 형성되고, 상기 처리액 공급원으로부터 상기 노즐 헤더 관으로 도입된 처리액을 각각 분출하는 다수의 이산형 토출구를 갖는, 처리액 토출 노즐.The plurality of discrete discharge ports of claim 1, wherein the discharge unit is formed in the nozzle header tube in parallel in a longitudinal row or in a plurality of rows, and discharges the treatment liquid introduced into the nozzle header tube from the processing liquid supply source, respectively. Having a processing liquid discharge nozzle. 제3항에 있어서, 상기 이산형 토출구에, 처리액을 스프레이 형상으로 분출하는 노즐 팁이 설치되는, 처리액 토출 노즐.The process liquid discharge nozzle according to claim 3, wherein a nozzle tip for ejecting the process liquid into a spray shape is provided in the discrete discharge port. 제1항에 있어서, 상기 토출부가, 상기 노즐 헤더 관에 길이 방향으로 연장되어 형성되고, 상기 처리액 공급원으로부터 상기 노즐 헤더 관으로 도입된 처리액을 띠 형상으로 분출하는 슬릿 형상의 토출구를 갖는, 처리액 토출 노즐.The said discharge part has a slit-shaped discharge port which extends in the longitudinal direction to the said nozzle header tube, and has a slit-shaped discharge port which ejects the process liquid introduce | transduced into the said nozzle header tube from the said process liquid supply source in strip shape, Treatment liquid discharge nozzle. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 막대 형상 연결부의 길이가 동등한, 처리액 토출 노즐.The processing liquid discharge nozzle according to any one of claims 1 to 5, wherein the first and second rod-shaped connecting portions have the same length. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 막대 형상 연결부가, 상기 노즐 헤더 관과 평행한, 처리액 토출 노즐.The treatment liquid discharge nozzle according to any one of claims 1 to 5, wherein the first and second rod-shaped connecting portions are parallel to the nozzle header tube. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중심 조인트부, 상기 제1 및 제2 중간 조인트부, 및 상기 제1 및 제2 막대 형상 연결부가 일체 성형되어 있는, 처리액 토출 노즐.The process liquid discharge nozzle according to any one of claims 1 to 5, wherein the center joint portion, the first and second intermediate joint portions, and the first and second rod-shaped connecting portions are integrally formed. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중심 조인트부가, 상기 제1 및 제2 막대 형상 연결부의 한쪽의 단부와 결합되는 T자 조인트를 갖고,
상기 제1 및 제2 중간 조인트부가, 상기 제1 및 제2 막대 형상 연결부의 다른 쪽의 단부와 결합되는 제1 및 제2 엘보우 조인트를 각각 갖는, 처리액 토출 노즐.The said center joint part has a T-shaped joint in any one of Claims 1-5 couple | bonded with the edge part of the said 1st and 2nd rod-shaped connection part,
And the first and second intermediate joint portions have first and second elbow joints respectively engaged with the other ends of the first and second rod-shaped connecting portions. 제9항에 있어서, 상기 중심 조인트부가, 상기 T자 조인트의 세로 통부에 끼워 맞춤 가능하고, 상기 노즐 헤더 관에 고착되는 중심 지지 핀을 갖고,
상기 제1 및 제2 중간 조인트부가, 상기 제1 및 제2 엘보우 조인트의 세로 통부와 각각 끼워 맞춤 가능하고, 상기 노즐 헤더 관에 고착되는 제1 및 제2 중간 지지 핀을 갖는, 처리액 토출 노즐.10. The method of claim 9, wherein the center joint portion has a center support pin that can be fitted to the vertical tube portion of the T-shaped joint and is fixed to the nozzle header tube,
The first and second intermediate joint portions are respectively fitted with the longitudinal cylinder portions of the first and second elbow joints, and have a first and second intermediate support pins fixed to the nozzle header tube, and the treatment liquid discharge nozzle. . 제10항에 있어서, 상기 중심 지지 핀과 끼워 맞추기 전의 상기 T자 조인트와 상기 제1 막대 형상 연결부와 상기 제1 엘보우 조인트가 일체화된 제1 보강 조립체의 유효 길이가, 상기 제1 중간 조인트부와 상기 중심 조인트부 사이의 거리보다도 길고,
상기 중심 지지 핀과 끼워 맞추기 전의 상기 T자 조인트와 상기 제2 막대 형상 연결부와 상기 제2 엘보우 조인트가 일체화된 제2 보강 조립체의 유효 길이가, 상기 제2 중간 조인트부와 상기 중심 조인트부 사이의 거리보다도 긴, 처리액 토출 노즐.The effective length of the first reinforcing assembly in which the T-shaped joint, the first rod-shaped connecting portion, and the first elbow joint are integrated with each other before the fitting with the center supporting pin is equal to the first intermediate joint portion. Longer than the distance between the center joints,
The effective length of the second reinforcing assembly in which the T-shaped joint and the second rod-shaped connecting portion and the second elbow joint are integrated before fitting with the center supporting pin is between the second intermediate joint portion and the center joint portion. The processing liquid discharge nozzle longer than the distance. 제11항에 있어서, 상기 제1 보강 조립체 또는 상기 제2 보강 조립체로부터 상기 노즐 헤더 관에 부여되는 길이 방향의 응력을 조정하기 위한 나사 기구를 갖는, 처리액 토출 노즐.The process liquid discharge nozzle according to claim 11, further comprising a screw mechanism for adjusting a longitudinal stress applied to the nozzle header tube from the first reinforcement assembly or the second reinforcement assembly. 제12항에 있어서, 상기 나사 기구가, 상기 제1 엘보우 조인트 또는 상기 제2 엘보우 조인트에 상기 제1 막대 형상 연결부 또는 상기 제2 막대 형상 연결부를 나사 결합시키고 있는, 처리액 토출 노즐.The process liquid discharge nozzle according to claim 12, wherein the screw mechanism screws the first rod-shaped connecting portion or the second rod-shaped connecting portion to the first elbow joint or the second elbow joint. 제12항에 있어서, 상기 나사 기구가, 상기 제1 막대 형상 연결부 또는 상기 제2 막대 형상 연결부를 막대 형상의 중간 연결부를 사이에 두고 제1 및 제2 편측 연결부로 2분할하고, 상기 중간 연결부에 대해 상기 제1 및 제2 편측 연결부를 역방향에서 나사 결합시키고 있는, 처리액 토출 노즐.The screw assembly of claim 12, wherein the screw mechanism divides the first rod-shaped connecting portion or the second rod-shaped connecting portion into two first and second one-side connecting portions with the rod-shaped intermediate connecting portion interposed therebetween, and the intermediate connecting portion Processing liquid discharge nozzle which is screwing the said 1st and 2nd single side connection part to the reverse direction. 제8항에 있어서, 상기 제1 및 제2 막대 형상 연결부가, 상기 중심 조인트부, 및 상기 제1 및 제2 중간 조인트부에 접착제로 접합되는, 처리액 토출 노즐.The processing liquid discharge nozzle according to claim 8, wherein the first and second rod-shaped connecting portions are bonded to the center joint portion and the first and second intermediate joint portions with an adhesive. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중심 조인트부가, 상기 제1 및 제2 중간 조인트부보다도 짧은, 처리액 토출 노즐.The process liquid discharge nozzle according to any one of claims 1 to 5, wherein the center joint part is shorter than the first and second intermediate joint parts. 제16항에 있어서, 상기 중심 조인트부, 상기 제1 및 제2 중간 조인트부, 및 상기 제1 및 제2 막대 형상 연결부가 일체 성형되어 있는, 처리액 토출 노즐.The process liquid discharge nozzle according to claim 16, wherein the center joint part, the first and second intermediate joint parts, and the first and second rod-shaped connecting parts are integrally formed. 제17항에 있어서, 상기 중심 조인트부, 및 상기 제1 및 제2 중간 조인트부가 상기 노즐 헤더 관에 용접으로 결합되는, 처리액 토출 노즐.18. The treatment liquid discharge nozzle according to claim 17, wherein the center joint portion and the first and second intermediate joint portions are welded to the nozzle header tube. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 막대 형상 연결부가, 상기 제1 중간 조인트부와 상기 중심 조인트부 사이의 거리보다도 짧고,
상기 제2 막대 형상 연결부가, 상기 제2 중간 조인트부와 상기 중심 조인트부 사이의 거리보다도 짧은, 처리액 토출 노즐.The said 1st rod-shaped connection part is shorter than the distance between the said 1st intermediate joint part, and the said center joint part,
The processing liquid discharge nozzle, wherein the second rod-shaped connecting portion is shorter than a distance between the second intermediate joint portion and the center joint portion. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 처리액 공급원으로부터의 처리액이 상기 중심 조인트부, 및 상기 제1 및 제2 중간 조인트부를 통해 상기 노즐 헤더 관으로 도입되는, 처리액 토출 노즐.The processing liquid discharge according to any one of claims 1 to 5, wherein the processing liquid from the processing liquid supply source is introduced into the nozzle header tube through the center joint portion and the first and second intermediate joint portions. Nozzle. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 헤더 관이 폴리염화비닐로 이루어지는, 처리액 토출 노즐.The process liquid discharge nozzle according to any one of claims 1 to 5, wherein the nozzle header tube is made of polyvinyl chloride. 제21항에 있어서, 상기 중심 조인트부, 상기 제1 및 제2 중간 조인트부, 및 상기 제1 및 제2 막대 형상 연결부가 모두 폴리염화비닐로 이루어지는, 처리액 토출 노즐.The processing liquid discharge nozzle according to claim 21, wherein the center joint part, the first and second intermediate joint parts, and the first and second rod-shaped connecting parts are all made of polyvinyl chloride. 피처리 기판을 수평한 방향으로 평류로 반송하기 위한 평류 반송로를 갖는 반송부와,
상기 평류 반송로 상의 상기 기판에 상기 처리액을 분사하기 위해, 상기 평류 반송로의 상방 또는 하방에서 반송 방향과 교차하는 방향으로 걸쳐지는, 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 처리액 토출 노즐과,
상기 처리액 토출 노즐에 상기 처리액을 공급하는 처리액 공급원과,
상기 반송로의 양측에서 상기 처리액 토출 노즐의 양단부를 지지하는 노즐 지지부를 갖는, 기판 처리 장치.A conveying section having a flat flow conveying path for conveying the substrate to be processed in a horizontal flow in a horizontal direction;
The processing liquid according to any one of claims 1 to 5, which extends in a direction intersecting a conveying direction from above or below the flat flow conveying path, in order to inject the processing liquid onto the substrate on the flat flow conveying path. Discharge nozzle,
A processing liquid supply source for supplying the processing liquid to the processing liquid discharge nozzle;
The substrate processing apparatus which has the nozzle support part which supports both ends of the said process liquid discharge nozzle in the both sides of the said conveyance path.
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KR20210127688A (en) * 2015-07-17 2021-10-22 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 Gas supply nozzle, substrate processing device, method of manufacturing semiconductor device and program

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CN109528093A (en) * 2018-12-21 2019-03-29 宁波富佳实业股份有限公司 A kind of automation floor cleaning apparatus
WO2022044296A1 (en) * 2020-08-28 2022-03-03 三菱重工業株式会社 Spray tube support structure of flue gas desulfurisation device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210127688A (en) * 2015-07-17 2021-10-22 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 Gas supply nozzle, substrate processing device, method of manufacturing semiconductor device and program
CN111250454A (en) * 2018-12-03 2020-06-09 河南森源重工有限公司 Nozzle reciprocating mechanism and cleaning equipment using same

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