KR20130031277A

KR20130031277A - 진공 셀 조립 장치 및 셀 조립 방법

Info

Publication number: KR20130031277A
Application number: KR1020127031368A
Authority: KR
Inventors: 빙위 쳔; 후안 탕; 팅저 동; 잉 리우
Original assignee: 베이징 비오이 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드
Priority date: 2011-08-01
Filing date: 2012-07-20
Publication date: 2013-03-28
Also published as: WO2013017022A1; EP2741132B1; US8876569B2; US20140127962A1; EP2741132A4; CN102681233B; JP6013479B2; CN102681233A; KR101496534B1; JP2014521997A; EP2741132A1

Abstract

본 발명의 실시예는 진공 셀 조립 장치 및 셀 조립 방법을 공개한다. 진공 셀 조립 장치는 상부 기판, 신호 처리 장치, 상기 상부 기판의 반대쪽에 구비된 하부 기판을 포함하고, 상기 상부 기판 위에는 발광 장치가 구비되고, 상기 하부 기판 위에는 상기 상부 기판으로부터의 광을 수광하기 위한 감광성 수광소자 어레이가 구비되고, 상기 감광성 수광소자 어레이는 상기 신호 처리 장치에 접속되고, 상기 신호 처리 장치는 상기 감광성 수광소자 어레이로부터의 전기 신호를 액정 확산 시뮬레이션 영상으로 변환하도록 되어 있다.

Description

진공 셀 조립 장치 및 셀 조립 방법{VACUUM CELL-ASSEMBLING DEVICE AND CELL-ASSEMBLING METHOD}

본 발명은 액정 패널의 제조 분야, 보다 상세하게는 진공 셀 조립 장치 및 셀 조립 방법에 관한 것이다.

액정 패널의 제조공정 동안에는, 액정 패널의 상부 유리 기판 및 하부 유리기판(일반적으로 어레이 기판 및 컬러 필터 기판)을 조립하여 셀을 형성하는 과정 (셀 조립)에서 통상적으로 버블(bubble) 등과 같은 결함(defect)이 발생한다. 이것이 액정 패널의 수율 뿐만 아니라 품질에 큰 영향을 미친다. 또한, 버블의 생성 과정은 모니터링 할 수 없어서 공정 개선에 큰 장애를 일으킨다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상부 기판, 신호 처리 장치, 및 상기 상부 기판의 반대쪽에 구비되는 하부 기판을 포함하고, 상기 상부 기판 위에는 발광 장치가 구비되고, 상기 하부 기판 위에는 상기 상부 기판으로부터의 광을 수광하기 위한 감광성 수광소자 어레이(photosensitive receiving element array)가 구비되고, 또한 상기 감광성 수광소자 어레이는 상기 신호 처리 장치에 접속되고, 상기 신호 처리 장치는 상기 감광성 수광소자 어레이로부터의 전기 신호를 액정 확산 시뮬레이션 영상(liquid crystal diffusion-simulation image)으로 변환하도록 된 진공 셀 조립 장치가 제공된다.

일부 예에서, 감광성 수광소자 어레이는 상기 상부 기판에 대향하는 상기 하부 기판의 표면 상에 제공된다.

상기 발광 장치는 예를 들면, 광원, 광반사판, 및 도광판을 포함할 수 있고, 상기 광원은 상기 도광판의 일측에 제공되고, 상기 도광판은 상기 광반사판 하부에 제공된다.

일부 예에서, 상기 광원은 UV(자외선) 광전원이고, 상기 감광성 수광소자 어레이는 상기 상부 기판의 상기 자외선 광전원으로부터의 자외선광을 수광하기 위한 복수의 자외선 민감 저항(UV-sensitive resistor)으로 구성된 배열이다.

상기 도광판은 예를 들면 평평한 형태의 도광판(light guide plate)일 수 있다.

일부 예에서, 상기 신호 처리 장치는 상기 감광성 수광소자 어레이로부터의 상기 전기 신호를 상기 액정 확산 시뮬레이션 영상으로 변환하기 위한 이차원 모델링 유닛(two-dimensional modeling unit)을 포함할 수 있다.

일부 예에서, 진공 셀 조립 장치는 상기 액정 확산 시뮬레이션 영상을 디스플레이하기 위해 상기 신호 처리 장치에 접속되는 디스플레이 장치를 추가로 포함할 수 있다.

상기 감광성 수광소자 어레이는 예를 들면 복수의 포토레지스터(photoresistor)를 포함할 수 있다.

상기 포토레지스터는 예를 들면 각각 사각형의 얇은 시트 형상일 수 있다.

본 발명의 일부 다른 실시예에 따르면, 상부 기판, 신호 처리 장치, 및 상기 상부 기판의 반대쪽에 구비된 하부 기판을 포함하고, 상기 상부 기판 위에는 발광 장치가 구비되고, 상기 하부 기판 위에는 상기 상부 기판으로부터의 광을 수광하기 위한 감광성 수광소자 어레이가 구비되고, 그리고 상기 감광성 수광소자 어레이는 상기 신호 처리 장치에 접속되고, 상기 신호 처리 장치는 상기 감광성 수광소자 어레이로부터의 전기 신호를 액정 확산 시뮬레이션 영상으로 변환하도록 된 진공 셀 조립 장치를 이용한 셀 조립 방법이 제공되는데, 상기 조립 방법은 상기 하부 유리 기판 상에 액정을 적하 충전(drop-filling)하는 단계와; 상기 상부 유리 기판과 상기 하부 유리 기판을 셀 조립하는 단계와; 상기 액정의 확산 과정에서 형성되는 상기 액정 확산 시뮬레이션 영상을 관찰하는 단계와; 및 상기 액정 확산 시뮬레이션 영상에 따라 상기 셀 조립 과정의 상기 파라미터를 조정하는 단계를 포함한다.

일부 예에서, 상기 액정은 태그된 액정이다.

예를 들면, 상기 태그된 액정은 통상의 액정 분자의 탄소 사슬(carbon chain)에 분자 그룹(molecular group)을 개재하여 형성된 자외선 흡수 태그된 액정(UV-absorbing tagged liquid crystal)을 포함할 수 있다.

일부 예에서, 상기 태그된 액정은 하부 유리 기판의 제1 위치에 적하 충전되고, 상기 제1 위치를 제외한 상기 하부 유리 기판의 기타 영역에 통상의 액정이 적하 충전된다. 이 예에서, 상기 방법은, 선택적으로, 상기 액정을 제거한 뒤, 상기 하부 유리 기판의 제2 위치에 상기 태그된 액정을 적하 충전하고, 상기 제2 위치를 제외한 상기 하부 유리 기판의 다른 영역에 통상의 액정을 적하 충전하고, 상기 제1 위치 및 상기 제2 위치에 형성된 상기 액정 확산 시뮬레이션 영상을 중첩(superimposing)시켜서 통합된 액정 확산 시뮬레이션 영상을 얻고, 상기 통합된 액정 확산 시뮬레이션 영상에 따라 상기 셀 조립 과정의 상기 파라미터를 조정하는 과정을 더 포함할 수 있다.

상기 셀 조립 과정의 상기 파라미터는 예를 들면 상기 액정의 양, 상기 액정의 간극(liquid crystal interval), 상기 액정의 온도 및 상기 셀 조립의 압력을 포함할 수 있다.

본 발명의 실시예 또는 종래기술의 기술적 방안을 보다 명확하게 설명하기 위해, 실시예의 설명에 필요한 첨부 도면에 대해 아래에 간략히 소개한다. 다음에 기술하는 도면은 본 발명의 몇 가지 실시예에 불과하고, 당업자라면 이들 도면으로부터 창조적인 노력 없이 다른 도면을 얻을 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 셀 조립 장치의 개략적 구조도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 셀 조립 장치의 또 다른 개략적 구조도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 하부 유리 기판의 제1 위치의 개략도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 하부 유리 기판의 제2 위치의 개략도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에서의 셀 조립 방법의 흐름도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에서의 셀 조립 방법의 또 다른 흐름도.

본 발명의 실시예들은 액정 확산 과정(liquid crystal diffusion process)을 실시간으로 모니터링 할 수 있는 진공 셀 조립 장치 및 셀 조립 방법을 제공한다.

본 발명의 실시예들에 대해 첨부 도면을 참조하여 아래에 기술한다.

제1 실시예

본 실시예는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같은 진공 셀 조립 장치를 제공하는데, 진공 셀 조립 장치는 상부 기판(1)과, 상부 기판(1)에 대향하며 구비되는 하부 기판(2)과, 신호 처리 장치(3)를 포함한다. 상부 기판(1)은 그 위에 발광 장치를 포함하고, 하부 기판(2)은 그 위에 감광성 수광소자 어레이(21)를 포함하여 상부 기판(1)으로부터의 광을 수광한다. 감광성 수광소자 어레이(21)는 신호 처리 장치(3)에 접속되어 있고 신호 처리 장치(3)는 감광성 수광소자 어레이(21)로부터의 전기 신호를 액정 확산 시뮬레이션 영상(liquid crystal diffusion-simulation image)으로 변환하도록 되어 있다.

상부 기판(1)의 발광 장치는 바람직하게는 균일한 면광원(uniform surface light source)이다. 구체적으로 설명하면, 발광 장치는 광원(11), 광반사판(12), 및 도광판(13)을 포함할 수 있는데, 광원(11)은 도광판(13)의 일측에 구비되고, 도광판(13)은 광반사판(12) 아래에 구비된다.

본 실시예의 일 예에서, 감광성 수광소자 어레이(21)는 상부 기판(1)에 대향하는 하부 기판(2)의 표면상에 구비될 수 있다. 상부 기판(1)에 비해 하부 기판(2)이 투명한 경우와 같은 다른 예에서, 감광성 수광소자 어레이(21)는 또한 기판(1)으로부터 먼 쪽의 하부 기판(2)의 표면상에 구비되거나 하부 기판(2)의 중간층에 형성될 수도 있다.

감광성 수광소자 어레이(21)는 복수의 자외선 민감 저항(UV-sensitive resistor)과 같은 복수의 포토레지스터(photoresistor)를 포함할 수 있다.

본 실시예의 진공 셀 조립 장치에서, 발광장치가 켜진 후 광원(11)으로부터 방출된 광은 도광판(13)에 의해 산란되고 광반사판(12)에 의해 반사된 후 하방 조명의 면광원(surface light source)을 형성한다. 셀 조립 과정 동안, 그 사이에 액정층이 삽입된 상부 유리 기판 및 하부 유리 기판은 상부 기판(1)과 하부 기판(2) 사이에 위치되고, 광원(11)으로부터 방출된 광은 액정층을 통과하여 감광성 수광소자 어레이(21)의 복수의 포토레지스터 위로 조사된다.

포토레지스트터 또한 도광관으로 알려져 있다. 통상적으로 사용되는 포토레지스터 생산재료는 황화카드뮴(CdS)이고, 이외에도 셀레늄(selenium), 황화알루미늄, 황화납, 황화비스무스(bismuth sulfide) 등의 재료를 포함한다. 이러한 생산재료는 특정 파장의 광에 조사되면 급격하게 그 저항이 감소하는 성질을 갖는다. 따라서, 포토레지스터의 저항은 입사광의 강도에 따라 변하는데, 그 저항은 입사광이 강할 때 감소하고 입사광이 약할 때 증가한다.

액정 분자의 각 액적(drop of liquid crystal molecules)은 서로 다른 확산 경로 및 확산 과정을 가지기 때문에, 액정 분자의 확산에 따라 광에 대해 서로 다른 흡수 및 투과성을 보인다. 광원(11)으로부터 방출된 광이 액정층을 통해 감광성 수광소자 어레이(21)에 조사되면, 다양한 광의 강도가 각 포토레지스터에 변화를 일으킨다. 즉, 포토레지스터를 통해 흐르는 전류나 포토레지스터에 인가된 전압에 변화가 일어난다. 이러한 방법으로, 광의 변화가 전기신호의 변화로 변환된다. 신호 처리 장치(3)는 전기 신호의 변화에 따라 액정 확산 시뮬레이션 영상을 얻을 수 있다. 또한, 신호 처리 장치(3)는 감광성 수광소자 어레이(21)로부터 특정 주파수에 따른 전기 신호를 수신할 수도 있고, 그 전기 신호를 액정 확산 시뮬레이션 영상으로 변환할 수도 있다.

또한, 신호 처리 장치(3)는 감광성 수광소자 어레이(21)로부터의 전기 신호를 액정 확산 시뮬레이션 영상으로 변환하기 위한 이차원 모델링 유닛을 포함한다. 이차원 모델링 유닛은 일 시간대에서의 전기신호를 영상으로 처리하고, 연속의 시간의 기간에 걸쳐 관찰되는 대로, 신호 처리 장치(3)의 이차원 모델링 유닛은 전기신호의 변화를 영상의 변화로 처리한다. 본 실시예에 따른 진공 셀 조립 장치는 또한 디스플레이 장치(4)를 포함하고, 이 디스플레이 장치(4)는 액정 확산 시뮬레이션 영상을 연속적으로 디스플레이하기 위해 신호 처리 장치(3)에 접속되어 있다. 따라서, 액정 확산 과정의 실시간 모니터링이 가능하다.

또한, 본 실시예에서의 포토레지스터는 더욱 많은 광 에너지를 흡수하기 위해 각각 사각형의 얇은 시트 형상으로 제조할 수 있다.

본 발명의 실시예의 구현예로서, 발광장치의 광원(11)은 자외선 광전원일 수 있고, 따라서, 감광성 수광소자 어레이(21)는 상부 기판으로부터 방출된 자외선광을 수광하기 위해 복수의 자외선 민감 저항을 포함한다.

본 실시예의 도광판(13)은 평평한 형태(flat-type)의 도광판 또는 쐐기형(wedge-shaped) 도광판으로 할 수 있다. 셀 조립 과정 동안, 상부 기판(1)과 하부 기판(2)은 상부 유리 기판 및 하부 유리 기판에 압력을 작용한다는 고려에 따라, 본 실시예에서의 도광판(13)은 압력의 균일성을 확보하고 압력에 의한 손상으로부터 도광판(13)을 보호하기 위해 평평한 형태의 도광판이 바람직하다.

진공 셀 조립 장치의 동작 동안, 상부 기판(1)은 액정 패널의 상부 유리 기판을 흡착하고 하부 기판(2)은 액정 패널의 하부 유리 기판을 흡착하여, 상부 기판(1)이 하부 기판(2) 위로 정확하게 이동하고, 그 후 아래로 이동하여 상부 유리 기판과 하부 유리 기판의 셀 조립을 구현하는 것이 요구된다. 통상적으로는 흡착방법으로서 진공 흡착법(vacuum adsorption) 및 정전식 흡착법(electrostatic adsorption)이 있다.

진공 흡착법이 흡착 방법으로서 사용되는 경우, 상부 유리 기판의 흡착을 구현하기 위해 상부 기판(1)에 진공 흡착 구멍을 구비하는 것이 필요하다. 정전식 흡착법이 흡착 방법으로서 사용되는 경우, 진공 흡착 구멍을 구비할 필요는 없다. 따라서, 도광판(13) 및 광반사판(12)의 무결성(integrity)을 확보하기 위해 본 실시예의 흡착 방법은 정전식 흡착법으로 하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 셀 조립되는 액정 패널의 상부 기판 및 하부 기판을 각각 "상부 유리 기판(upper glass substrate)" 및 "하부 유리 기판(lower glass substrate)"으로 지칭하지만, 이 기판들은 유리로 제조될 수도 있고 또한 셀 조립될 다른 재료 또는 다른 형태의 기판일 수 있다.

본 발명의 본 실시예에 따른 진공 셀 조립 장치는 하부 기판에 대향하는 상부 기판의 표면상에 발광 장치를 구비하고, 상부 기판에 대향하는 하부 기판의 표면상에 감광성 수광소자 어레이를 제공한다. 발광 장치가 켜지면, 광원으로부터의 광은 액정층을 통과하여 감광성 수광소자 어레이에 도달하고 감광성 수광소자 어레이의 포토레지스터의 저항은 도달하는 광의 세기에 따라 변화된다. 따라서, 상부 유리 기판 및 하부 유리 기판 사이의 액정 확산 과정은 전기신호의 변화로 변환되어, 액정 확산 과정의 실시간 모니터링이 가능하게 된다. 또한, 본 실시예에서는 사각형의 얇은 시트 형상으로 포토레지스터를 제작하였으며, 이러한 포토레지스터에 의해 광 에너지를 더욱 많이 흡수하게 한다.

제2 실시예

본 실시예는, 도 5에 도시된 바와 같이, 다음의 단계(101) 내지 단계(104)를 포함하는 셀 조립 방법을 제공한다.

단계(101): 하부 유리 기판상의 액정 적하 충전(drop-filling)

예로서 14인치 LCD 화면에 대해 액정층을 형성하는 동안, 도 3에 도시된 바와 같이, 액정 10 내지 20 방울을 하부 유리 기판(5)상에 고르게 적하 충전하기 위해 액정 적하 장치의 사용이 요구된다. 도 3의 점들의 위치가 액정이 적하 충전될 필요가 있는 위치를 의미한다.

본 발명의 구체적인 구현예로서, 액정은, 예를 들면, 통상의 액정 분자의 탄소 사슬(carbon chain)에 분자 그룹을 개재하여 형성된 자외선 흡수 액정 분자와 같이 태그된 액정(tagged liquid crystal)을 사용할 수도 있다.

통상의 액정 분자의 탄소 사슬에 예를 들면 C 〓 C 또는 C 〓 O 또는 C 〓 N 또는 N 〓 N 등과 같은 분자 그룹을 개재하면 새로 생성되는 태그된 액정 분자가 자외선을 흡수하게 만들 수 있고, 개재방법은 통상의 액정 분자로 하여금 특정 화학반응을 받게 하여 수행될 수 있다. 예로서, 액정 분자의 특정 탄소 사슬에 대해, 화학반응은 아래와 같이 표현될 수 있다:

위 반응을 통해, 통상의 액정 분자의 탄소 사슬은 C 〓 C 분자그룹을 갖고, 이 방법으로 태그된 액정이 형성된다.

단계(102): 상부 유리 기판 및 하부 유리 기판의 셀 조립.

본 실시예의 방법은 제1 실시예에 기술된 진공 셀 조립장치를 사용하고, 예로서, 자외선 광전원이 광원으로 선택되고 따라서 감광성 수광소자 어레이는 복수의 자외선 민감 저항을 포함한다. 진공 셀 조립 장치의 발광 장치가 켜지면, 발광장치로부터 방출된 자외선광은 적하 충전된 액정을 통과하여 감광성 수광소자 어레이에 도달한다.

적하 충전된 액정이 자외선 흡수 태그된 액정이기 때문에, 자외선이 상술한 액정을 통과할 때 대부분의 자외선은 태그된 액정에 의해 흡수된다. 이것은 태그된 액정으로 덮인 영역이 보다 적은 양의 자외선을 수광하고 따라서 보다 적은 자외선광이 대응하는 자외선 민감 저항에 도달함을 의미한다. 따라서, 태그된 액정에 대응하는 영역에서의 자외선 민감 저항의 저항값이 상대적으로 크다. 이에 따라, 태그된 액정에 대응하는 영역과 태그된 액정에 의해 덮여지지 않은 영역은 서로 구별되며, 태그된 액정의 밀도가 높을수록 자외선 민감 저항의 저항값이 커지게 된다.

단계(103): 액정의 확산 과정에서 형성되는 액정 확산 시뮬레이션 영상의 모니터링.

셀 조립 과정 동안, 태그된 액정의 확산 과정에서 형성되는 액정 확산 시뮬레이션 영상은 디스플레이 장치를 통해 관찰된다.

단계(104): 액정 확산 시뮬레이션 영상에 따른 셀 조립 과정의 파라미터들의 조정

여기에서, 셀 조립 과정의 파라미터에는 액정 양, 액정 간극, 액정 온도 및 셀 조립 압력이 포함된다.

본 실시예의 방법에서, 액정 양, 액정 간극, 액정 온도 및 셀 조립 압력의 값은 셀 조립 전에 사전 설정될 수 있고, 그 후 셀 조립 과정 동안, 그 파라미터 설정값 하에서 액정 확산이 필요조건을 만족하는지 여부 및 생성된 버블이 많은지 여부가 진공 셀 조립 장치를 통해 관찰될 수 있다. 액정 확산이 필요조건을 만족하지 않으면, 액정 양, 액정 간극, 액정 온도 및 셀 조립 압력의 하나 이상의 파라미터를 변화시키고 그 후 액정 확산이 필요조건을 만족하고 생성된 버블의 양이 공정의 허용 가능한 범위 내에 있을 때까지 셀 조립 테스트를 다시 수행한다. 태그된 액정의 확산 과정에서 형성된 액정 확산 시뮬레이션 영상을 관찰하여 그 영상에 따라서 셀 조립 과정의 파라미터를 조정하는 공정은 사람에 의해 수행될 수 있거나, 또는 사전 설정된 프로그래밍 명령어를 갖는 기계에 의해 자동적으로 이루어질 수도 있다.

본 발명에 따른 셀 조립 방법은 액정 분자에 마킹(marking)을 해서 태그된 액정을 형성하고, 동시에 태그된 액정이 자외선을 흡수할 수 있는 성질을 이용해서, 신호 처리 장치가 액정이 덮고 있는 두께는 물론, 액정에 의해 덮인 영역과 액정에 의해 덮여지지 않은 영역을 식별할 수 있게 한다. 이러한 방법으로, 액정 확산 과정이 모니터링 될 수 있어서 액정 패널의 생산 공정이 개선되고 수율이 증가된다.

제3 실시예

본 실시예는 도 6에 도시된 바와 같은 셀 조립 방법을 제공하며 다음의 단계(201) 내지 단계(206)를 포함한다.

단계(201): 액정 분자에 마킹을 하여 태그된 액정을 형성

마킹의 구체적인 구현예로서, 분자 그룹이 통상의 액정 분자의 탄소 사슬에 개재되어 자외선 흡수 액정 분자를 형성한다.

통상의 액정 분자의 탄소 사슬에 예를 들면 C 〓 C 또는 C 〓 O 또는 C 〓 N 또는 N 〓 N 등과 같은 분자 그룹을 개재하면 새로 생성되는 태그된 액정 분자가 자외선을 흡수하게 만들 수 있고, 개재 방법은 통상의 액정 분자로 하여금 특정 화학반응을 받게 하여 수행될 수 있다. 예로서, 액정 분자의 특정 탄소 사슬에 대해, 화학반응은 아래와 같이 표현될 수 있다:

위 반응을 통해, 통상의 액정 분자의 탄소 사슬은 C 〓 C 분자 그룹을 갖는다.

단계(202): 하부 유리 기판의 제1 위치에 태그된 액정 한 방울을 적하 충전하고 제1 위치를 제외한 하부 유리 기판의 기타 영역에 통상의 액정을 적하 충전.

예로서 14인치 LCD 디스플레이 화면에 대한 액정층의 제조 과정 동안, 도 3에 도시된 바와 같이, 하부 유리 기판(5)에 고르게 액정 10 내지 20 방울을 적하 충전하기 위해 액정 적하 장치의 사용이 요구된다. 도 3의 점들의 위치는 액정이 적하 충전될 필요가 있는 위치를 의미한다. 본 실시예는 위치 중 제1 위치(6)로 도시된 하나의 위치를 선택하고 제1 위치(6)에 태그된 액정을 적하 충전하고, 기타 위치들은 통상의 액정을 적하 충전한다.

단계(203): 진공 셀 조립 장치를 켜고, 상부 유리 기판과 하부 유리 기판을 셀 조립하고, 또한 디스플레이 장치를 통해 제1 위치에 적하 충전된 태그된 액정의 확산 과정에서 형성된 액정 확산 시뮬레이션 영상을 관찰.

본 실시예의 방법은, 제1 실시예에서 설명한 진공 셀 조립 장치를 사용하는데, 여기에서는 자외선 광전원이 광원으로서 선택되고 따라서 감광성 수광소자 어레이가 복수의 자외선 민감 저항을 포함한다. 진공 셀 조립 장치의 발광 장치가 켜지면, 발광 장치로부터 방출된 자외선광은 적하 충전된 액정을 통과하여 감광성 수광소자 어레이에 도달한다.

제1 위치(6)가 태그된 액정으로 적하 충전되기 때문에, 대부분의 자외선광은 태그된 액정을 통과할 때 상술한 액정에 의해 흡수된다. 이것은 제1 위치(6)와 그 주변 영역이 보다 덜 자외선 방사를 받고, 따라서 보다 적은 자외선광이 대응하는 자외선 민감 저항에 도달된다는 것을 의미한다. 따라서, 태그된 액정에 대응하는 영역에서의 자외선 민감 저항의 저항값이 상대적으로 크다. 이에 따라, 태그된 액정에 대응하는 영역 및 통상의 액정에 대응하는 영역은 서로 구별되며, 태그된 액정의 밀도가 클수록 자외선 민감 저항의 저항값이 커지게 된다. 상술한 방법에 의해, 진공 셀 조립 장치에서 제1 위치(6)에 적하 충전된 태그된 액정의 확산 과정을 모니터링하는 것이 가능하다.

단계(204): 하부 유리 기판의 제2 위치에 태그된 액정 한 방울을 적하 충진하고 제2 위치를 제외한 하부 유리 기판의 기타 영역에 통상의 액정을 적하 충전.

단계(203)의 완료 후에, 실험 재료를 절약하기 위해, 상부 유리 기판과 하부 유리 기판 사이에 위치된 액정은 도 4에 도시된 바와 같이 제거될 수 있고, 그 후 액정 적하 장치를 사용하여, 하부 유리 기판(5)의 제2 위치(7)에 태그된 액정 한 방울을 적하 충전하고, 제2 위치(7)를 제외한 하부 유리 기판의 기타 영역에 통상의 액정을 적하 충전한다.

단계(205): 상부 유리 기판과 하부 유리 기판을 셀 조립하고, 또한 제2 위치에 적하 충전된 태그된 액정의 확산 과정에서 형성된 액정 확산 시뮬레이션 영상을 관찰.

유사하게, 제2 위치(7)에 적하 충전된 태그된 액정의 확산 과정이 모니터링 된다.

각의 셀 조립 실험에서, 예를 들면 제1 위치(6)와 같은 위치의 동일 위치에서의 액정 확산 과정은 매번 서로 다르지만, 동일한 위치에서의 액정 방울의 응력상태는 기본적으로 동일하기 때문에, 동일한 위치에서의 액정 방울의 확산 과정은 기본적으로 유사하다. 따라서, 제1 위치 및 제2 위치에 적하 충전된 태그된 액정의 확산 과정을 반복하여 제1 영역 및 제2 영역에 대응하는 영역들의 액정 확산 과정들을 얻을 수 있다. 또한, 각각의 위치에서의 액정 방울의 개별 확산 과정 후 개별 확산 과정을 반복하여 전체 액정층의 확산 과정을 모니터링 할 수 있다. 하부 유리 기판상에 태그된 액정을 적하 충전하기 위한 구체적인 위치는 제1 위치 또는 제2 위치가 될 수 있고, 또한 액정 방울을 적하 충전하기 위한 임의의 다른 위치가 될 수 있다.

단계(206): 액정 확산 시뮬레이션 영상에 따라 셀 조립 과정의 파라미터를 조절.

여기에서, 셀 조립 과정의 파라미터는 액정 양, 액정 간극, 액정 온도 및 셀 조립 압력을 포함한다.

본 실시예의 방법에서, 액정 양, 액정 간극, 액정 온도 및 셀 조립 압력의 값은 셀 조립 전에 사전 설정될 수 있고, 그 후 셀 조립 과정 동안, 그러한 파라미터 하에서 액정 확산이 필요조건을 만족하는지 여부 및 많은 버블이 생성되었는지 여부가 진공 셀 조립 장치를 통해 관찰될 수 있다. 만약 액정 확산이 필요조건을 만족하지 않으면, 액정 양, 액정 간극, 액정 온도 및 셀 조립 압력의 파라미터 중 하나 이상을 변화시키고, 그 후 셀 조립 테스트가 다시 수행되는데, 액정 확산이 필요조건을 만족하고 또한 생성된 버블의 양이 공정의 허용 가능한 범위 내에 있을 때까지 계속된다.

본 실시예의 셀 조립 방법은 제1 위치에 태그된 액정을 적하 충전시켜 자외선광이 제1 위치에 적하 충전된 액정을 통과할 때 대부분의 자외선광이 태그된 액정에 의해 흡수되도록 하여, 태그된 액정에 대응하는 영역에서의 자외선 민감 저항의 저항값이 상대적으로 크고, 기타 영역에서의 저항값이 상대적으로 작게 한다. 이와 같은 방법으로, 진공 셀 조립 장치에서 제1 위치에 적하 충전된 태그된 액정의 확산 과정을 모니터링하는 것이 가능하다. 각각의 위치에서 얻어진 액정 방울들의 확산 과정의 반복에 의해, 전체 액정층의 확산 과정을 모니터링할 수 있고, 따라서, 액정 패널의 생산 과정이 개선되고 수율이 증가된다.

실시예들의 상술한 설명을 통해, 본 발명은 소프트웨어와 필요한 통상의 하드웨어에 의해 구현될 수 있고, 또한 하드웨어에 의해 구현될 수도 있지만, 많은 경우 전자가 보다 좋은 방법이라는 것을 당업자라면 명확하게 이해할 수 있다. 이러한 이해를 바탕으로, 본 발명의 본질적인 또는 종래기술을 넘어선 기여부분에서의 기술적 해결방안은 소프트웨어 제품 형태로 구현 가능하고, 컴퓨터 소프트웨어 제품은 예를 들면, 컴퓨터에서 사용하는 플로피 디스크, 하드 디스크 또는 CD-ROM과 같은 엑세스 가능한 저장 매체에 저장되는데, 여기서 컴퓨터 장치(개인용 컴퓨터, 서버, 또는 네트워크 장치 등이 가능)는 본 발명의 다양한 실시예에 기재된 방법을 구현하기 위한 다수의 명령어를 포함한다.

이상은 단순한 본 발명의 구체적인 실시예에 불과하며 본 발명의 보호범위는 이것으로 한정되지 않는다. 본 발명의 공개되는 기술 범위에서, 이 기술 분야에 익숙한 당업자에 의해 용이하게 도출할 수 있는 임의의 변형 또는 치환은 본 발명의 보호범위 내에 포함되어야 마땅하다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 특허청구범위의 보호범위에 의해 정의되어야 한다.

1: 상부 기판 11: 광원 12: 광반사판
13: 도광판 2: 하부 기판
21: 감광성 수광소자 어레이 3: 신호 처리 장치
4: 디스플레이 장치 5: 하부 유리 기판
6: 제1 위치 7: 제2 위치

Claims

상부 기판, 신호 처리 장치, 및 상기 상부 기판의 반대쪽에 구비된 하부 기판을 포함하고,
상기 상부 기판 위에는 발광 장치가 구비되고,
상기 하부 기판 위에는 상기 상부 기판으로부터의 광을 수광하기 위한 감광성 수광소자 어레이(photosensitive receivign element array)가 구비되고,
상기 감광성 수광소자 어레이는 상기 신호 처리 장치에 접속되고, 상기 신호 처리 장치는 상기 감광성 수광소자 어레이로부터의 전기 신호를 액정 확산 시뮬레이션 영상(liquid crystal diffusion-simulation image)으로 변환하도록 된 진공 셀 조립 장치.
제1항에 있어서, 감광성 수광소자 어레이는 상기 상부 기판에 대향하는 상기 하부 기판의 표면상에 제공되는 진공 셀 조립 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 발광 장치는 광원, 광반사판, 및 도광판을 포함하고, 상기 광원은 상기 도광판의 일측에 제공되고, 상기 도광판은 상기 광반사판 하부에 제공되는 진공 셀 조립 장치.
제3항에 있어서, 상기 광원은 자외선 광전원이고, 상기 감광성 수광소자 어레이는 상기 상부 기판의 상기 자외선 광전원으로부터의 자외선광을 수광하기 위한 복수의 자외선 민감 저항(UV-sensitive resistor)으로 이루어진 어레이인 진공 셀 조립 장치.
제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 도광판은 평평한 형태의 도광판(flat-type light guide plate)인 진공 셀 조립 장치.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 신호 처리 장치는 상기 감광성 수광소자 어레이로부터의 상기 전기 신호를 상기 액정 확산 시뮬레이션 영상으로 변환하기 위한 이차원 모델링 유닛(two-dimensional modeling unit)을 포함하는 진공 셀 조립 장치.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액정 확산 시뮬레이션 영상을 디스플레이하기 위해 상기 신호 처리 장치에 접속되는 디스플레이 장치를 더 포함하는 진공 셀 조립 장치.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 감광성 수광소자 어레이는 복수의 포토레지스터(photoresistor)를 포함하는 진공 셀 조립 장치.
제8항에 있어서, 상기 포토레지스터는 각각 사각형의 얇은 시트 형상인 진공 셀 조립 장치.
상부 기판, 신호 처리 장치, 및 상기 상부 기판의 반대쪽에 구비된 하부 기판을 포함하고, 상기 상부 기판 위에는 발광 장치가 구비되고, 상기 하부 기판 위에는 상기 상부 기판으로부터의 광을 수광하기 위한 감광성 수광소자 어레이가 구비되고, 그리고 상기 감광성 수광소자 어레이는 상기 신호 처리 장치에 접속되고, 상기 신호 처리 장치는 상기 감광성 수광소자 어레이로부터의 전기 신호를 액정 확산 시뮬레이션 영상으로 변환하도록 된 진공 셀 조립 장치를 이용한 셀 조립 방법으로서,
상기 하부 유리 기판상에 액정을 적하 충전(drop-filling)하는 단계와;
상기 상부 유리 기판과 상기 하부 유리 기판을 셀 조립하는 단계와;
상기 액정의 확산 과정에서 형성된 상기 액정 확산 시뮬레이션 영상을 관찰하는 단계와; 및
상기 액정 확산 시뮬레이션 영상에 따라 상기 셀 조립 과정의 파라미터를 조정하는 단계를 포함하는 셀 조립 방법.
제10항에 있어서, 상기 액정은 태그된 액정(tagged liquid crystal)인 셀 조립 방법.
제11항에 있어서, 상기 태그된 액정은 통상의 액정 분자의 탄소 사슬(carbon chain)에 분자 그룹(molecular group)을 개재하여 형성된 자외선 흡수 태그된 액정(UV-absorbing tagged liquid crystal)을 포함하는 셀 조립 방법.
제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 하부 유리 기판의 제1 위치에 상기 태그된 액정을 적하 충전하고, 상기 제1 위치를 제외한 상기 하부 유리 기판의 기타 영역에 통상의 액정을 적하 충전하는 셀 조립 방법.
제13항에 있어서, 상기 액정을 제거한 뒤, 상기 하부 유리 기판의 제2 위치에 상기 태그된 액정을 적하 충전하고, 상기 제2 위치를 제외한 상기 하부 유리 기판의 기타 영역에 통상의 액정을 적하 충전하는 단계와;
상기 제1 위치 및 상기 제2 위치에 형성된 상기 액정 확산 시뮬레이션 영상을 중첩(superimposing)시켜서 통합된 액정 확산 시뮬레이션 영상을 얻고, 상기 통합된 액정 확산 시뮬레이션 영상에 따라 상기 셀 조립 과정의 상기 파라미터를 조정하는 단계를 더 포함하는 셀 조립 방법.
제10항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 셀 조립 과정의 상기 파라미터는 액정 양, 액정 간극(liquid crystal interval), 액정 온도 및 셀 조립 압력을 포함하는 셀 조립 방법.