CN106053355B - 光刻胶的参数检测方法及装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种光刻胶的参数检测方法及装置，属于显示技术领域。所述装置包括：控制模块和与所述控制模块连接的检测模块，所述检测模块用于在所述控制模块的作用下采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶；所述检测模块还用于在所述控制模块的控制下，采集所述光源照射所述待测光刻胶后产生的光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块；所述控制模块用于将所述光谱信号转换为相应的电信号，并根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数，所述指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种。本发明解决了检测的参数较单一的问题，实现了丰富检测参数的效果，用于光刻胶的参数检测。

Description

光刻胶的参数检测方法及装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种光刻胶的参数检测方法及装置。

背景技术

在液晶显示器的制造过程中，光刻工艺是极为重要的制造工艺之一。光刻工艺中，需要对涂覆在阵列基板指定位置的光刻胶的参数(如光刻胶的厚度)进行检测。

现有技术中有一种光刻胶的参数检测装置，该装置采用光的反射原理检测待测光刻胶的厚度，具体的，该装置采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶，一部分光被待测光刻胶的表面反射，另一部分光被待测光刻胶与阵列基板之间的临界面反射。由于该装置得到的反射波是由同一光源发射出来的可干涉性光，所以这些反射波会根据波长出现互补干涉现象或相消干涉现象，从而产生某一形状的波形。由于不同厚度的光刻胶会出现不同形状的波形，所以根据产生的波形的形状可以逆推出待测光刻胶的厚度。

但上述装置仅用于检测光刻胶的厚度，检测的参数较单一。

发明内容

为了解决检测的参数较单一的问题，本发明提供了一种光刻胶的参数检测方法及装置。所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种光刻胶的参数检测装置，所述装置包括：控制模块和与所述控制模块连接的检测模块，

所述检测模块用于在所述控制模块的作用下采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶；

所述检测模块还用于在所述控制模块的控制下，采集所述光源照射所述待测光刻胶后产生的光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块；

所述控制模块用于将所述光谱信号转换为相应的电信号，并根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数，所述指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种。

可选的，所述检测模块包括至少一个检测子模块，每个所述检测子模块包括发光单元和采集单元，

所述发光单元用于在所述控制模块的作用下采用所述光源照射所述待测光刻胶；

所述采集单元用于在所述控制模块的控制下，采集所述光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块。

可选的，所述发光单元包括光源探头和聚焦透镜，

所述光源探头通过电源线与所述控制模块连接，用于在所述控制模块的作用下产生光，所述光源探头产生的光能够通过所述聚焦透镜，并集中照射所述待测光刻胶的指定位置。

可选的，所述发光单元还包括滤波片，

所述滤波片用于对所述光源探头产生的光进行滤光处理，得到处理后的光，经过滤光处理后的光能够通过所述聚焦透镜，并集中照射所述待测光刻胶的指定位置。

可选的，所述采集单元包括光纤探头和采集透镜，

所述光纤探头通过光纤与所述控制模块连接，用于在所述控制模块的控制下，通过所述采集透镜采集所述光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块。

可选的，所述控制模块包括处理单元、分光转换单元和供电单元；

所述处理单元用于控制所述分光转换单元，以使所述分光转换单元控制所述至少一个检测子模块中每个所述检测子模块的采集单元采集所述光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述分光转换单元；

所述分光转换单元用于对所述光谱信号进行分光处理和光电转换处理，得到所述电信号，并将所述电信号传输至所述处理单元；

所述处理单元还用于根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数；

所述供电单元用于给所述发光单元供电。

可选的，所述装置还包括固定模块，

所述固定模块用于将所述检测模块设置在所述控制模块指定的位置上。

可选的，所述固定模块包括探头固定单元和移动支架，所述控制模块还包括支架控制单元，

所述支架控制单元分别与所述处理单元和所述移动支架连接，用于在所述处理单元的控制下，控制所述移动支架移动；

所述探头固定单元与所述移动支架连接，用于固定所述检测模块。

可选的，所述控制模块包括一个分光转换单元，所述检测模块包括至少两个检测子模块，所述采集单元还包括光纤切换器，

所述光纤切换器的一端与所述分光转换单元连接，另一端与所述至少两个检测子模块中每个所述检测子模块的采集单元连接，所述光纤切换器用于控制至少两个采集单元按照顺序依次轮流工作。

可选的，所述控制模块还包括显示单元，

所述处理单元与所述显示单元连接，用于根据所述电信号确定所述电信号对应的光谱图，所述光谱图用于确定所述待测光刻胶的指定参数；

所述显示单元用于输出所述光谱图。

可选的，所述探头固定单元靠近所述待测光刻胶的位置设置有光学窗片，

所述光学窗片用于阻挡外界气体或尘埃进入所述检测模块。

第二方面，提供了一种光刻胶的参数检测方法，所述方法包括：

采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶；

采集所述光源照射所述待测光刻胶后产生的光谱信号；

将所述光谱信号转换为相应的电信号；

根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数，所述指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种。

本发明提供了一种光刻胶的参数检测方法及装置，由于该装置能够采集光源照射待测光刻胶后产生的光谱信号，并将光谱信号转换为相应的电信号，再根据电信号检测待测光刻胶的指定参数，该指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种，相较于现有技术，能够检测光刻胶的厚度和指定成分的含量中的至少一种，因此，丰富了检测的参数。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种光刻胶的参数检测装置的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的一种检测模块的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的另一种光刻胶的参数检测装置的结构示意图；

图4是本发明实施例提供的一种检测子模块的结构示意图；

图5是本发明实施例提供的又一种光刻胶的参数检测装置的结构示意图；

图6-1是本发明实施例提供的近红外光源照射三种不同厚度的待测光刻胶后形成的近红外漫反射的光谱图；

图6-2是本发明实施例提供的近红外光源照射三种不同厚度的待测光刻胶后形成的近红外漫透射的光谱图；

图6-3是本发明实施例提供的一种探头固定单元的结构示意图；

图7是本发明实施例提供的一种光刻胶的参数检测方法的流程图。

通过上述附图，已示出本发明明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。

本发明实施例提供了一种光刻胶的参数检测装置01，如图1所示，该装置01包括：控制模块100和与控制模块100连接的检测模块200。

检测模块200用于在控制模块100的作用下采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶。

检测模块200还用于在控制模块100的控制下，采集光源照射待测光刻胶后产生的光谱信号，并将光谱信号传输至控制模块100。

控制模块100用于将光谱信号转换为相应的电信号，并根据电信号检测待测光刻胶的指定参数，该指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种。

综上所述，本发明实施例提供的光刻胶的参数检测装置，由于该装置能够采集光源照射待测光刻胶后产生的光谱信号，并将光谱信号转换为相应的电信号，再根据电信号检测待测光刻胶的指定参数，该指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种，相较于现有技术，能够检测光刻胶的厚度和指定成分的含量中的至少一种，因此，丰富了检测的参数。

可选的，光源为近红外光源。

可选的，光刻胶的指定成分可以为感光树脂、增感剂及溶剂等，也就是说，该装置可以对待测光刻胶中的感光树脂、增感剂及溶剂等成分的含量进行检测。根据待测光刻胶的指定成分的含量，可以确定待测光刻胶的质量。

进一步的，如图2所示，检测模块200包括至少一个检测子模块210，每个检测子模块210包括发光单元211和采集单元212。图2以检测子模块是两个为例进行说明。需要说明的是，实际应用中，可以根据阵列基板和光刻胶的尺寸来确定检测子模块的数量，也可以结合待测光刻胶上预先设置的点数(每个点对应一个位置)来确定检测子模块的数量。多个检测子模块可以平行排列，这样一来，在采用多个检测子模块检测完待测光刻胶的当前位置的指定参数后，可以将多个检测子模块同时移动至待测光刻胶的下一个位置的上方，以便于采用多个检测子模块检测下一个位置的指定参数。移动的距离可以根据实际应用中阵列基板和光刻胶的尺寸来确定。此外，为了防止外界气体或尘埃进入检测子模块内部而对检测结果产生影响，该检测子模块可以为全封闭式。

具体的，发光单元211用于在控制模块的作用下采用光源照射待测光刻胶。采集单元212用于在控制模块的控制下，采集光谱信号，并将光谱信号传输至控制模块。

图3示出了本发明实施例提供的另一种光刻胶的参数检测装置01的结构示意图，如图3所示，检测模块200包括至少一个检测子模块210。图3以检测子模块是四个为例进行说明。参考图2，每个检测子模块210包括发光单元211和采集单元212。

具体的，如图4所示，发光单元211包括光源探头2111和聚焦透镜2112。光源探头2111通过电源线001与控制模块连接，用于在控制模块的作用下产生光，光源探头2111产生的光能够通过聚焦透镜2112，并集中照射待测光刻胶002的指定位置A。光源探头产生的光通过聚焦透镜集中照射在待测光刻胶的指定位置，提高了待测光刻胶上光的能量密度，进而提高了光谱信号的强度。需要说明的是，照射在待测光刻胶上的光，一部分光被待测光刻胶的表面反射，另一部分光被待测光刻胶与阵列基板之间的临界面反射，即穿透待测光刻胶发生折射再发生反射。

进一步的，如图4所示，发光单元211还包括滤波片2113。滤波片2113用于对光源探头2111产生的光进行滤光处理，得到处理后的光。经过滤光处理后的光能够通过聚焦透镜2112，并集中照射待测光刻胶002的指定位置A。滤波片是一种用于选取所需辐射波段的光学器件。光源探头产生的光的波段较宽，所以可以通过滤波片对光源探头产生的光进行滤光处理，过滤掉不需要的波段的光，如可以过滤掉对待测光刻胶有影响的紫外光线(英文：Ultraviolet Rays；简称：UV)和其他一些波段的光，这样一来，避免了待测光刻胶被这些光照射后发生损坏，且提高了光源照射待测光刻胶的效率。经过滤光处理后的光通过聚焦透镜集中照射在待测光刻胶上，提高了待测光刻胶上光的能量密度，进而提高了光谱信号的强度。

如图4所示，采集单元212包括光纤探头2121和采集透镜2122。光纤探头2121通过光纤004与控制模块连接，用于在控制模块的控制下，通过采集透镜2122采集光谱信号，并将光谱信号传输至控制模块。采集单元能够采集被待测光刻胶的表面反射的光，以及被待测光刻胶与阵列基板之间的临界面反射的光，采集单元采集到光谱信号后，再将光谱信号传输至控制模块，由控制模块对光谱信号进行解析，进而检测待测光刻胶的指定参数。由于光谱信号的强度与待测光刻胶的厚度和指定成分的含量有关，所以控制模块可以根据光谱信号的强度检测待测光刻胶的指定参数。该装置通过采集透镜实现了对光谱信号的高效收集的效果。此外，根据光纤探头和待测光刻胶之间的距离，可以适当调节光纤探头和采集透镜之间的距离，从而进一步实现对光谱信号的高效收集。

具体的，如图3所示，控制模块100包括处理单元110、分光转换单元120和供电单元130。

处理单元110用于控制分光转换单元120，以使分光转换单元120控制至少一个检测子模块中每个检测子模块210的采集单元采集光谱信号，并将光谱信号传输至分光转换单元120。示例的，处理单元可以为微处理器。

分光转换单元120用于对光谱信号进行分光处理和光电转换处理，得到电信号，并将电信号传输至处理单元110。示例的，分光转换单元可以为光谱仪，该光谱仪为近红外光谱仪。光谱仪的数量与检测子模块的数量可以相同，即每个检测子模块单独由一个光谱仪来控制，一个光谱仪控制一个检测子模块，使得检测控制过程更加灵活。另外，分光处理过程指的是利用色散现象将波长范围很宽的复合光分散成许多波长范围狭小的单色光的过程。

处理单元110还用于根据电信号检测待测光刻胶002的指定参数。处理单元110可采用分析软件对电信号对应的数据进行建模和定量分析，检测待测光刻胶的指定参数。分光转换单元根据光谱信号得到的电信号携带有光谱信号的强度数据，光谱信号的强度数据用于确定待测光刻胶的厚度，该电信号还携带有待测光刻胶中指定成分的特征光谱数据，指定成分的特征光谱数据用于确定指定成分的含量。

供电单元130用于给至少一个检测子模块中每个检测子模块210的发光单元供电。

进一步的，如图3所示，该装置还包括固定模块300。固定模块300用于将检测模块200设置在控制模块100指定的位置上。该固定模块300用于将检测模块200固定在待测光刻胶002的当前指定位置的上方；控制模块100还用于在检测模块200检测完待测光刻胶002的指定位置的指定参数后，控制固定模块300带动检测模块200，移动至待测光刻胶002的下一个指定位置的上方。该装置通过固定模块将检测模块设置在控制模块指定的位置上，以便于该装置检测完待测光刻胶的一个位置的指定参数后，直接去检测待测光刻胶的下一个位置的指定参数，实现快速检测的效果。

具体的，如图3所示，固定模块300包括探头固定单元310和移动支架320，控制模块100还包括支架控制单元140。

支架控制单元140分别与处理单元110和移动支架320连接，用于在处理单元110的控制下，控制移动支架320移动。探头固定单元310与移动支架320连接，用于固定检测模块200。其中，支架控制单元140通过控制线与移动支架320连接。支架控制单元140通过信号线与处理单元110连接。处理单元通过支架控制单元控制移动支架移动，进而使多个检测子模块同时移动。当处理单元完成一次检测分析过程后，处理单元向支架控制单元发出指示信号，以使支架控制单元根据该指示信号控制移动支架移动。示例的，移动支架320可以设置有相应的导轨005，这样，移动支架可以在支架控制单元的控制下，沿着导轨005移动。此外，图3中的001为电源线，002为待测光刻胶，004为光纤，A为待测光刻胶的指定位置。

本发明实施例提供的光刻胶的参数检测装置的固定模块是移动式的，在检测待测光刻胶的指定参数时，可以固定阵列基板，使处理单元通过支架控制单元控制移动支架移动。此外，固定模块还可以是固定式的，在检测待测光刻胶的指定参数时，可以移动阵列基板，以使待测光刻胶移动。

图5示出了本发明实施例提供的又一种光刻胶的参数检测装置01的结构示意图，如图5所示，控制模块100包括一个分光转换单元120，检测模块200包括至少两个检测子模块210，采集单元还包括光纤切换器2123。图5以检测子模块是四个为例进行说明。

如图5所示，光纤切换器2123的一端与分光转换单元120连接，光纤切换器2123的另一端与至少两个检测子模块中每个检测子模块210的采集单元连接。光纤切换器2123用于控制至少两个采集单元按照顺序依次轮流工作。本发明实施例中，当分光转换单元为一个，检测子模块为至少两个时，可以通过光纤切换器控制采集单元按照顺序依次轮流工作。当一个采集单元完成一次采集过程并将光谱信号传输至控制模块后，光纤切换器迅速控制下一个采集单元完成采集过程，从而实现了采用一个分光转换单元控制多个检测子模块检测的效果。

进一步的，如图5所示，控制模块100还包括显示单元150。处理单元110与显示单元150连接，用于根据电信号确定电信号对应的光谱图，该光谱图用于确定待测光刻胶002的指定参数；显示单元150用于输出该光谱图。该装置通过显示单元显示光谱图，从而使得操作人员可以根据光谱图检测待测光刻胶的指定参数。此外，图5中的其他标号的含义可以参考图3进行说明，在此不再赘述。

图6-1示出了近红外光源照射三种不同厚度的待测光刻胶后形成的近红外漫反射的光谱图。图6-1中，横坐标表示波长，单位为nm(纳米)，纵坐标表示吸光度。曲线a表示厚度为1mm(毫米)的待测光刻胶对应的近红外漫反射的光谱图，曲线b表示厚度为3mm的待测光刻胶对应的近红外漫反射的光谱图，曲线c表示厚度为5mm的待测光刻胶对应的近红外漫反射的光谱图。由于光在不同厚度的光刻胶中传输的光程(即光在媒质中通过的路程和该媒质折射率的乘积)不同，所以光照射不同厚度的光刻胶后形成的光谱图中光谱信号的强度和光谱信号的形状不同，因此，结合图6-1所示的光谱图，根据近红外光谱结合算法，即可反演得到待测光刻胶的厚度。此外，由于待测光刻胶中指定成分的特征光谱对应的近红外光谱波段不同，所以，根据待测光刻胶中指定成分的特征光谱，结合定量分析算法即可得到待测光刻胶中相应成分的含量。

图6-2示出了近红外光源照射三种不同厚度的待测光刻胶后形成的近红外漫透射的光谱图。图6-2中，横坐标表示波长，纵坐标表示吸光度，曲线a表示厚度为1mm的待测光刻胶对应的近红外漫透射的光谱图，曲线b表示厚度为3mm的待测光刻胶对应的近红外漫透射的光谱图，曲线c表示厚度为5mm的待测光刻胶对应的近红外漫透射的光谱图。根据图6-2所示的光谱图检测待测光刻胶的指定参数的过程可以参考图6-1的相关检测过程，在此不再赘述。

进一步的，如图6-3所示，探头固定单元310靠近待测光刻胶002的位置设置有光学窗片311，光学窗片311用于阻挡外界气体或尘埃进入检测模块200。该装置采用光学窗片实现了防止外界气体或尘埃进入检测模块的效果。示例的，该光学窗片可以为近红外光学窗片。

需要补充说明的是，光刻胶的膜层厚度和质量的检测工作在薄膜晶体管-液晶显示器(英文：Thin Film Transistor Liquid Crystal Display；简称：TFT-LCD)行业的mask工艺(即构图工艺)的涂胶工序中起着非常重要的作用。本发明实施例提供的光刻胶的参数检测装置可用于检测光刻胶的膜层厚度和质量。采用该装置检测光刻胶的指定参数时，将该装置放置在待测光刻胶的上方，可以对待测光刻胶的厚度和指定成分的含量进行在线、快速检测。由于该装置设置有多个检测子模块，所以该装置可以同时对待测光刻胶的多个位置的厚度和指定成分的含量进行检测。多个检测子模块相对于待测光刻胶是可移动的，所以该装置可以对待测光刻胶的厚度和指定成分的含量进行扫描检测。该装置采用光学滤波技术能够滤除不需要的波段的光(如UV光)，这样，不仅消除了UV光对待测光刻胶的影响，还提高了光源照射待测光刻胶的效率。通过该装置可以实时评价光刻胶涂覆的均一性，降低了后期产品的返工率和报废率，降低了产品的生产成本。可见，相较于现有技术中的光刻胶的参数检测装置，本发明实施例提供的光刻胶的参数检测装置具有如下优点：1、该装置可以检测光刻胶的厚度和指定成分的含量中的至少一种，该装置可以同时检测光刻胶的厚度和指定成分的含量，该装置可以同时评价光刻胶的厚度和光刻胶的质量。2、近红外光谱仪对光谱信号的探测和解析的时间是毫秒量级，所以该装置可以对光刻胶进行在线、快速检测。3、该装置的检测模块对外界环境的要求较低。4、实际应用中，可以根据阵列基板和光刻胶的尺寸来确定该装置的检测子模块的数量，进而实现对光刻胶多个位置同时检测的效果。5、该装置在对光刻胶的指定参数进行检测时，无需任何化学药剂，整个检测过程不会产生任何污染。

综上所述，本发明实施例提供的光刻胶的参数检测装置，由于该装置能够采集光源照射待测光刻胶后产生的光谱信号，并将光谱信号转换为相应的电信号，再根据电信号检测待测光刻胶的指定参数，该指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种，相较于现有技术，能够检测光刻胶的厚度和指定成分的含量中的至少一种，可以同时评价光刻胶的厚度和光刻胶的质量，丰富了检测的参数，同时能够实现在线、快速检测，对外界环境的要求较低，能够对光刻胶多个位置同时检测，降低了后期产品的返工率和报废率，降低了产品的生产成本，此外，整个检测过程不会产生任何污染。

本发明实施例提供了一种光刻胶的参数检测方法，该光刻胶的参数检测方法可以应用于图3或图5所示的光刻胶的参数检测装置，如图7所示，该方法包括：

步骤501、采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶。

参见图3或图5，检测模块200在控制模块100的作用下采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶002。如图2所示，检测模块200包括至少一个检测子模块210，每个检测子模块210包括发光单元211和采集单元212。发光单元211在控制模块的作用下采用光源照射待测光刻胶。

步骤502、采集光源照射待测光刻胶后产生的光谱信号。

参见图3或图5，检测模块200在控制模块100的控制下，采集光源照射待测光刻胶002后产生的光谱信号，并将光谱信号传输至控制模块100。具体的，如图2所示，采集单元212在控制模块的控制下，采集光谱信号，并将光谱信号传输至控制模块。

步骤503、将光谱信号转换为相应的电信号。

参见图3或图5，控制模块100将光谱信号转换为相应的电信号。控制模块100包括处理单元110、分光转换单元120和供电单元130。其中，处理单元110控制分光转换单元120，以使分光转换单元120控制至少一个检测子模块中每个检测子模块210的采集单元采集光谱信号，并将光谱信号传输至分光转换单元120。分光转换单元120对光谱信号进行分光处理和光电转换处理，得到电信号，并将电信号传输至处理单元110。

步骤504、根据电信号检测待测光刻胶的指定参数，该指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种。

参见图3或图5，控制模块100根据电信号检测待测光刻胶的厚度和指定成分的含量中的至少一种。具体的，控制模块的处理单元110根据电信号检测待测光刻胶002的指定参数。示例的，处理单元110可采用分析软件对电信号对应的数据进行建模和定量分析，检测待测光刻胶的指定参数。分光转换单元根据光谱信号得到的电信号携带有光谱信号的强度数据，光谱信号的强度数据用于确定待测光刻胶的厚度，该电信号还携带有待测光刻胶中指定成分的特征光谱数据，指定成分的特征光谱数据用于确定指定成分的含量。

所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述方法实施例中的过程，可以参考前述装置实施例中的对应的装置和模块的具体工作过程，在此不再赘述。

综上所述，本发明实施例提供的光刻胶的参数检测方法，由于该方法能够采集光源照射待测光刻胶后产生的光谱信号，并将光谱信号转换为相应的电信号，再根据电信号检测待测光刻胶的指定参数，该指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种，相较于现有技术，能够检测光刻胶的厚度和指定成分的含量中的至少一种，可以同时评价光刻胶的厚度和光刻胶的质量，丰富了检测的参数，同时能够实现在线、快速检测，对外界环境的要求较低，能够对光刻胶多个位置同时检测，降低了后期产品的返工率和报废率，降低了产品的生产成本，此外，整个检测过程不会产生任何污染。

在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种光刻胶的参数检测装置，其特征在于，所述装置包括：控制模块和与所述控制模块连接的检测模块，

所述检测模块用于在所述控制模块的作用下采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶；

所述检测模块还用于在所述控制模块的控制下，采集所述光源照射所述待测光刻胶后产生的光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块；

所述控制模块用于将所述光谱信号转换为相应的电信号，并根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数，所述指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种；

其中，所述检测模块包括至少两个检测子模块，且所述至少两个检测子模块平行排列，每个所述检测子模块为全封闭式结构；

每个所述检测子模块包括发光单元和采集单元，所述发光单元包括光源探头、聚焦透镜和滤波片，所述采集单元包括光纤探头和采集透镜，所述控制模块包括处理单元、至少两个分光转换单元和供电单元，所述处理单元为微处理器，所述分光转换单元为近红外光谱仪，且所述控制模块包括的分光转换单元的数量与所述检测模块包括的检测子模块的数量相同，所述装置还包括光纤切换器；

所述发光单元用于在所述控制模块的作用下采用所述光源照射所述待测光刻胶；所述采集单元用于在所述控制模块的控制下，采集所述光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块；

所述光源探头通过电源线与所述控制模块连接，用于在所述控制模块的作用下产生光，所述光源探头产生的光能够通过所述聚焦透镜，并集中照射所述待测光刻胶的指定位置；所述滤波片用于对所述光源探头产生的光进行滤光处理，得到处理后的光，经过滤光处理后的光能够通过所述聚焦透镜，并集中照射所述待测光刻胶的指定位置；

所述光纤探头通过光纤与所述控制模块连接，用于在所述控制模块的控制下，通过所述采集透镜采集所述光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块；

所述处理单元用于控制所述分光转换单元，以使所述分光转换单元控制所述至少两个检测子模块中每个所述检测子模块的采集单元采集所述光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述分光转换单元；所述分光转换单元用于对所述光谱信号进行分光处理和光电转换处理，得到所述电信号，并将所述电信号传输至所述处理单元；所述处理单元还用于根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数；所述供电单元用于给所述发光单元供电；

所述光纤切换器的一端与所述分光转换单元连接，另一端与所述至少两个检测子模块中每个所述检测子模块的采集单元连接，所述光纤切换器用于控制至少两个采集单元按照顺序依次轮流工作。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括固定模块，

所述固定模块用于将所述检测模块设置在所述控制模块指定的位置上；

所述控制模块还用于在所述检测模块检测完所述待测光刻胶的指定位置的指定参数后，控制所述固定模块带动所述检测模块，移动至所述待测光刻胶的下一个指定位置的上方；

所述固定模块为移动式的，或者，所述固定模块为固定式的。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述固定模块包括探头固定单元和移动支架，所述控制模块还包括支架控制单元，所述移动支架包括导轨；

所述支架控制单元通过控制线与所述移动支架连接，所述支架控制单元通过信号线与所述处理单元连接，所述支架控制单元用于在所述处理单元的控制下，控制所述移动支架沿所述导轨移动；

所述探头固定单元与所述移动支架连接，用于固定所述检测模块。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述控制模块还包括显示单元，

所述处理单元与所述显示单元连接，用于根据所述电信号确定所述电信号对应的光谱图，所述光谱图用于确定所述待测光刻胶的指定参数；

所述显示单元用于输出所述光谱图。

5.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述探头固定单元靠近所述待测光刻胶的位置设置有光学窗片，

所述光学窗片用于阻挡外界气体或尘埃进入所述检测模块。

6.一种光刻胶的参数检测方法，其特征在于，应用于权利要求1至5任一所述的光刻胶的参数检测装置，所述方法包括：

采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶；

采集所述光源照射所述待测光刻胶后产生的光谱信号；

将所述光谱信号转换为相应的电信号；

根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数，所述指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种。