KR20130030750A - 기판의 예비처리 및 처리 방법 - Google Patents

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스티븐 윌리엄 콕스
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피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드
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Abstract

본 발명은 기판의 예비처리 및 처리 방법에 관한 것이다. 상기 방법은 (a) 기판의 적어도 일부에, 적어도 유기산을 포함하는 세정액을 적용하는 단계; (b) 상기 세정액의 적어도 일부를 제 1 세척 단계로 세척하는 단계; (c) 단계 (b)로 처리된 기판의 일부에 화학 세정제 조성물을 적용하는 단계; (d) 단계 (c)의 화학 세정제 조성물을 갖춘 기판의 적어도 일부를 제 2 세척 단계로 세척하는 단계; 및 (e) 단계 (d)로 처리된 기판의 적어도 일부 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시키는 단계를 포함한다. 추가 단계는 (f) 상기 전처리 코팅 조성물을 갖춘 기판의 적어도 일부를 제 3 세척 단계로 세척하는 단계; 및 (g) 단계 (f)로 처리된 기판 상에 보호 코팅 조성물을 침착시키는 단계를 포함한다. 상이한 배열의 유사 단계들을 포함하는 추가적 방법들이 또한 개시된다.

Description

기판의 예비처리 및 처리 방법{PROCESS FOR PREPARING AND TREATING A SUBSTRATE}
본 발명은 기판, 예컨대 마그네슘 기판의 예비처리 및 처리 방법에 관한 것이다.
마그네슘은 많은 상업적 용도를 갖는 금속이다. 마그네슘은 샌드, 다이, 영구 주형 및 정밀 인베스트먼트(investment) 방법으로 주조될 수 있고; 많은 형태로 압출될 수 있고; 시트, 플레이트 또는 스트립 금속으로 압연(또는 단조(wrought))될 수 있다. 대부분의 마그네슘의 최종 용도는 부식에 대해 어느 정도의 보호성을 필요로 하고, 페인트를 필요로 하는 최종 용도에서는 페인트 부착을 필요로 한다. 따라서, 마그네슘의 내부식성 및 페인트 부착성을 개선하는 코팅이 종종 최종 페인트 또는 다른 장식적 마무리재의 적용 이전에 금속에 적용된다. 이런 코팅은 전처리재로 불린다. 그러나, 전처리재의 침착 이전에, 마그네슘 표면을 충분히 예비처리시키는 것이 중요하다. 그렇지 않으면, 불량하게 예비처리된 영역은 불량한 페인트 부착성을 가질 것이고, 부식에 대해서도 유사할 것이다. 많은 경우, 불량한 페인트 부착성은, 전처리재 자체의 성능이 아닌 불량하게 예비처리된 시편에 기인할 수 있는 것으로 알려져 왔다.
마그네슘을 세정하기 위해 사용되어 온 많은 표면 처리 방법 및 예비처리 욕이 존재한다. 논문[Reese W. Murray and James E. Hillis, "Magnesium Finishing: Chemical Treatment and Coating Practices"]에서, 4종의 일반적 마그네슘 세정 공정, 즉 기계적 세정, 용매 세정, 알칼리 세정 및 산 피클링(acid pickling)이 개시되어 있다. 이 논문은 이들 방법들이 단독으로 또는 조합으로 이용될 수 있음을 언급한다. 이 논문은, 마그네슘 표면의 스케일(scale) 제거에 사용되는 다양한 산 피클(pickle)을 열거하고, 선택되는 피클링제는 마그네슘이 형성되는 방식에 좌우된다고 언급한다. 단지 크롬산만이 모든 형태의 마그네슘에 대한 피클링제로서 기재되어 있고, 아세틱 니트레이트 조합물이 단조된 마그네슘에서 밀 스케일(mill scale) 제거에 유용한 것으로 개시되어 있다. 밀 스케일은 마그네슘 옥사이드 및 그의 수화물, 미분된(finely divided) 마그네슘 금속 및 탄소 또는 탄화된 오일성 윤활제로 주로 구성된다. 밀 스케일은 가공 동안 압연되는 마그네슘 제품에 의해 픽킹(pick up)되어 압연되는 제품에서 산재된 반점 또는 결합을 나타낸다.
미국 특허 제6,126,997호는 하이드록실 아세트산을 사용한 마그네슘 다이 주조물의 처리 방법을 개시한다.
특정 양태에서, 본 발명은 기판, 예컨대, 마그네슘 기판의 예비처리 및 처리 방법에 관한 것이다. 이 방법은, (a) 기판의 적어도 일부에, 하나 이상의 유기산을 포함하는 세정액을 적용하는 단계; (b) 단계 (a)의 세정액으로 세정된 기판의 적어도 일부에 대해 제 1 세척 단계를 수행하는 단계; (c) 제 1 세척 단계 (b)에서 세척된 기판의 일부에 화학 세정제 조성물을 적용하는 단계; (d) 단계 (c)의 화학 세정제 조성물로 세정된 기판의 적어도 일부에 대해 제 2 세척 단계를 수행하는 단계; 및 (e) 단계 (d)로 처리된 기판의 적어도 일부 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시키는 단계를 포함한다. 특정 실시양태에서, 이 방법은, (f) 단계 (e)의 전처리 코팅 조성물을 갖는 기판의 적어도 일부에 대해 제 3 세척 단계를 수행하는 단계; 및 (g) 단계 (f)로 처리된 기판 상에 보호 코팅 조성물을 침착시키는 단계를 추가로 포함한다.
다른 양태에서, 본 발명은 기판, 예컨대, 마그네슘 기판의 예비처리 및 처리 방법에 관한 것이다. 이 방법은, (a) 기판의 적어도 일부에 대해 제 1 세척 단계를 수행하는 단계; (b) 제 1 세척 단계로 세척된 기판의 적어도 일부에, 적어도 유기산을 포함하는 세정액을 적용하는 단계; (c) 단계 (b)에서 세정된 기판의 적어도 일부에 대해 제 2 세척 단계를 수행하는 단계; 및 (d) 제 2 세척 단계 (c)로 세척된 기판의 적어도 일부 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시키는 단계를 포함한다. 특정 실시양태에서, 이 방법은 (e) 상기 전처리 코팅 조성물을 갖는 기판의 적어도 일부에 대해 제 3 세척 단계를 수행하는 단계; 및 (f) 제 3 세척 단계 (e)로 세척된 기판 상에 보호 코팅 조성물을 침착시키는 단계를 추가로 포함한다.
또 다른 양태에서, 본 발명은 기판, 예컨대, 마그네슘 기판의 예비처리 및 처리 방법에 관한 것이다. 이 방법은, (a) 기판의 적어도 일부에 화학 세정제 조성물을 적용하는 단계; (b) 단계 (a)의 화학 세정제 조성물로 세정된 기판의 적어도 일부에 대해 제 1 세척 단계를 수행하는 단계; (c) 단계 (b)로 처리된 기판의 적어도 일부 상에, 아세트산을 제외한 유기산을 적어도 포함하는 세정액을 적용하는 단계; (d) 단계 (c)로 처리된 기판의 적어도 일부에 대해 제 2 세척 단계를 수행하는 단계; 및 (e) 단계 (d)로 처리된 기판의 적어도 일부 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시키는 단계를 포함한다. 특정 실시양태에서, 이 방법은 (f) 단계 (e)로 처리된 기판의 적어도 일부에 대해 제 3 세척 단계를 수행하는 단계; 및 (g) 단계 (f)로 처리된 기판 상에 보호 코팅 조성물을 침착시키는 단계를 추가로 포함한다.
하기의 발명의 상세한 설명에서, 명시적으로 반대로 특정된 경우를 제외하고는, 본 발명은 다양한 대안적 변형 및 단계 순서를 가정할 수 있음을 이해하여야 한다. 또한, 임의의 실시예 외에 또는 달리 기재된 경우 외에, 본 명세서 및 특허청구범위에서 사용되는 예컨대 성분들의 양을 나타내는 모든 수는, 모든 경우에서 "약"이라는 용어에 의해 변형되는 것으로 이해될 것이다. 따라서, 달리 기재되지 않는 한, 명세서 및 첨부된 특허청구범위에 개시된 수치 파라미터는, 본 발명에 의해 수득되는 목적하는 성질에 따라 변할 수 있는 근사치이다. 적어도, 특허청구범위에 균등론의 적용을 한정하지 않으면서, 각 수치 파라미터는 적어도, 보고된 유의한 자리수의 수치의 견지에서 통상의 반올림 기법을 적용하여 해석되어야 한다.
본 발명의 폭 넓은 범위를 개시하는 수치 범위 및 파라미터가 근사치임에도 불구하고, 구체적 실시예에 개시된 수치 값은 가능한 정밀하게 기재된다. 그러나, 본질적으로 임의의 수치 값은 개별적 시험 측정값에서 나타나는 표준 편차로부터 필수적으로 기인하는 소정의 오차를 함유한다.
본원에 인용된 임의의 수치 범위는 그에 포함되는 하위 범위를 포함하는 것으로 의도됨을 이해해야 한다. 예를 들어, "1 내지 10"의 범위는 최소 값 1과 최대 값 10 사이의 임의의 모든 하위범위, 즉 최소값 1 이상 최대값 10 이하를 갖는 임의의 모든 하위범위를 포함하는 것으로 의도된다.
달리 명시되지 않는 한, 본원에서 단수형의 사용은 복수형을 포함하고, 복수형은 단수형을 포함한다. 또한, 본원에서 특정 경우, "및/또는"이 명시적으로 사용될 수 있지만, 달리 명시되지 않는 한, 본원에서 "또는"의 사용은 "및/또는"을 의미한다.
용어 "활성화", "활성화하다" 및 "표면 예비처리"는 상호교환적으로 사용되고, 보다 동역학적으로 후속 화학 처리 단계에 친화적인 방식으로 반응하는 기판 표면을 생성하는 방법을 의미한다.
용어 "처리하다" 및 "처리"는 본래의 기판 표면을 변화시켜 내부식성 및 페인트 부착성을 개선시키는 공정에서의 임의의 단계를 의미한다.
용어 "마그네슘 합금"은 금속 합금에서 임의의 다른 원소에 비해 보다 높은 함량으로 마그네슘을 함유하는 상업적으로 입수가능한 임의의 금속 합금을 의미한다.
용어 "주변 온도"는 실온에서 수행되는 처리액(treatment solution)을 의미한다.
용어 "체류 시간"은, 기판이 세척수 및/또는 처리액과 접촉하는 시간량을 의미한다.
본 발명은 기판 표면의 내부식성 및/또는 페인트 부착성을 증진시키기 위한 몇몇 기판 표면의 예비처리 및 처리 방법에 관한 것이다. 일부 비제한적 실시양태에서, 기판은 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 포함한다. 본 발명의 방법에서 마그네슘 합금은 적합하게는 AZ91D 및 AM60B를 포함할 수 있다. 마그네슘 합금 시트, 주조물 또는 압출물은 본 발명의 방법에 의해 처리될 수 있다. 본 발명에 의한 처리에 적합한 다른 금속 및 금속 합금은 스틸(steel) 및 알루미늄 합금을 포함한다. 이런 다른 금속 및/또는 금속 합금을 포함하는 기판이 본 발명의 방법에 의해 처리하기에 적합할 수 있지만, 이후 본 발명은 마그네슘 기판에 대해 기재될 것이다.
본 발명의 실시양태에서, 기판, 예컨대, 마그네슘 기판의 표면의 예비처리 및 처리 방법은, 전처리재의 침착 및 페인트 필름에 의해 제공되는 추후의 추가적 부식 보호재의 침착 이전에, 상기 표면을 활성화 및 세정하는 것을 포함한다. 구체적인 비제한적 예에서, 이 방법은 마그네슘 기판을 저온 산성 용액에 노출시킴으로써 표면을 활성화 및 세정하는 제 1 단계를 포함한다. 그 후 산-활성화된 표면은, 활성화 단계를 중단시키고 활성화 화학물질을 제거하기 위한, 적어도 물 세척액, 예컨대, 수돗물을 포함하는 제 1 세척 단계로 세척된다. 이후 세척된 표면을 고 알칼리성 용액에 노출시켜, 활성화 및 세정 단계 동안 형성된 스멋(smut)을 제거한다. 그 후 알칼리 처리된 기판 표면을 다시 세척한다. 일부 실시양태에서, 상기 기판을 2종 이상의 세척액(물을 포함하는 제 1 세척액 및 물, 예컨대, 수돗물을 포함하는 제 2 세척액)으로 처리하여 알칼리성 스멋제거 용액을 제거한다. 그 후 활성화되고 세정되고 스멋제거된 마그네슘 기판 표면을, 내부식성 및 페인트 부착성을 증진시키기 위해 전처리 코팅 조성물, 예를 들면 비-크롬계 조성물, 예컨대 지르코늄계 조성물 및 크롬계 화학 처리 용액으로 전처리한다. 그 후, 기판 표면 상에서의 전처리 코팅 조성물의 침착을 중단하고 상기 표면으로부터 미반응된 전처리 염을 제거하고 본 방법의 다양한 단계에서 사용된 임의의 화학물질 잔류물을 제거하기 위해, 전처리 코팅 조성물로 전처리된 기판을 제 3 세척 단계로 전체적으로 세척하며, 이때 제 1 세척액은 물, 예컨대 수돗물을 포함하고, 제 2 세척액은 순수한 물, 즉 탈이온수 또는 역삼투수를 포함한다. 이 방법의 최종 단계는 마그네슘 기판을 페인팅하는 것을 포함한다.
전술된 본 발명의 제 1 실시양태에 다른 기판의 예비처리 및 처리 방법의 구체적 보기는 다음과 같다:
방법 A:
(a) 활성화 및 세정 - 마그네슘 기판을 산성 용액, 예컨대 시트르산과 접촉시킨다.
(b) 물 세척.
(c) 스멋제거 및 세정 - 마그네슘 기판을 알칼리성 용액과 접촉시킨다.
(d) 2회 물 세척.
(e) 전처리 - 활성화 및 스멋제거된 마그네슘 기판을 비-크롬계, 예컨대 지르코늄 또는 크롬계 화학 처리 용액과 접촉시킨다.
(f) 2회 물 세척(1회는 순수한 물 세척 포함).
(g) 보호.
방법 A의 또 다른 실시양태는 다음과 같을 수 있다:
(a) 활성화 및 세정 - 적어도 유기산, 예컨대 시트르산을 포함하는 세정액을 기판에 적용한다.
(b) 세척 - 상기 기판을, 적어도 물 세척액을 포함하는 제 1 세척 단계로 세척한다.
(c) 스멋제거 및 세정 - 상기 기판에 화학 세정제 조성물을 적용한다.
(d) 세척 - 상기 기판을, 2종 이상의 물 세척액을 포함하는 제 2 세척 단계로 세척한다.
(e) 전처리 - 상기 기판 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시킨다.
(f) 세척 - 상기 기판을, 2종 이상의 물 세척액을 포함하는 제 3 세척 단계로 세척하며, 이때 제 1 세척액은 물을 포함하고 제 2 세척액은 순수한 물을 포함한다.
(g) 보호 - 상기 기판 상에 보호 코팅 조성물, 예컨대 전착 코팅(전기코트)을 침착시킴.
상기 단계 (a) 내지 (g)에서, 용액 및 조성물은 분무, 침지(담금), 유동 코팅 및 롤 코팅을 비롯한 임의의 공지의 코팅 기법으로 기판 표면을 접촉, 또는 기판 표면 상에 적용 또는 침착시킬 수 있다.
방법 A의 단계 (a)는 상기 기판에 적어도 유기산을 포함하는 세정액을 적용하여 마그네슘 합금 표면을 세정 및 활성화시키는 것을 포함한다. 이렇게 함에 있어서, 형성된 산-활성화된 마그네슘 기판이 형성되어, 산화물 및 금속 불순물이 기판의 표면으로부터 제거된다. 소정의 비제한적 실시양태에서, 상기 세정액은 유기산의 수용액이다. 적합한 유기산의 구체적 예는, 많은 다른 것들 중에서, 시트르산, 아세트산, 락트산, 말레산, 말산, 옥살산, 석신산, 세박산, 타르타르산, 및 글루콘산을 포함하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 일부 비제한적 실시양태에서, 상기 세정액은 시트르산의 수용액이다. 적합한 시트르산계 활성화 용액은 PPG 인더스트리즈 인코포레이티드에서 상표명 코로솔(CORROSOL)(등록상표) 32로 시판된다.
방법 A의 특정 실시양태에서, 단계 (a)의 세정액은 종종 주변 온도에서 수행된다. 본원에 기재된 "주변 온도"는 처리 용액이 실온에서 수행되는 것을 의미한다. 일부 실시양태에서, 세정액의 온도는 60℉(15.5℃) 내지 100℉(37.8℃), 예컨대 70℉(21.1℃) 내지 90℉(32.2℃)일 수 있다. 또 다른 실시양태에서, 상기 온도는 75℉(23.9℃) 내지 85℉(29.4℃)일 수 있다. 일부 실시양태에서, 상기 세정액의 pH는 0.5 내지 4.0, 예컨대 1.0 내지 3.0일 수 있다. 다른 실시양태에서, 상기 세정액의 pH는 1.5 내지 2.0일 수 있다.
특정 실시양태에서, 단계 (a)의 세정액의 총 산도는 종종 10 포인트 및 30 포인트, 예컨대 15 포인트 및 25 포인트의 총 산도일 수 있다. 일부 실시양태에서, 단계 (a)의 세정액의 총 산도는 종종 20 포인트의 총 산도일 수 있다. 총 산 포인트는 산-염기 적정에서 페놀프탈레인(적정 지시제) 종말점에 도달하는 데에 필요한 표준 농도의 나트륨 하이드록사이드 용액의 부피(밀리리터)로서 정의될 수 있다. 총 산도는 농도의 정량적 척도이고, 공정 용액에서의 산의 활성 수준과 관련될 수 있다.
방법 A의 단계 (a)의 세정액의 온도 및 pH 범위는 종종 체류 시간에 따라 변할 수 있으며, 이는 단계 (a)의 세정액이 기판과 접촉하는 시간량이다.
특정 실시양태에서, 방법 A의 단계 (a)의 세정액은 계면활성제를 포함할 수 있다. 계면활성제는 종종 활성화 및/또는 세정되는 기판의 보다 우수한 습윤화 및 세척을 수행하기 위해 혼입된다. 임의의 산 상용성 계면활성제가 이 목적에 적합할 수 있다. 단계 (a)의 세정액에 사용될 수 있는 계면활성제의 예는 다우 케미칼 캄파니에서 상표명 트리톤 DF-16로 시판된다.
전술한 바와 같이, 단계 (a)의 세정액은 유기 및/또는 무기 불순물을 제거함으로써 기판의 표면을 활성화 및 세정하게 위해 유기산을 적어도 포함한다. 단계 (a) 동안, 스멋은 종종 마그네슘 합금 표면 상에 형성된다. 기판의 표면 상에 형성된 스멋은 산화물, 수산화물 및/또는 옥시-수산화물(oxy-hydroxide) 및 무기 불순물을 종종 함유한다. 이들 산화물, 수산화물 및 불순물의 제거는, 기판 표면에 화학 세정제 조성물을 적용하는 것을 포함하는 후술되는 단계 (c)에 의해 영향을 받는다.
상기 단계 (b), (d) 및 (f)는 기판을 세척하는 것을 포함한다. 특정 실시양태에서, 단계 (b)는 상기 기판의 일부에 대해 제 1 세척 단계를 수행하는 것을 포함한다. 소정의 비제한적 실시양태에서, 이런 단계 (b)는 물 세척액으로 1회 이상 상기 기판을 세정하는 것을 포함한다. 단계 (b)의 물 세척액은 기판 상의 단계 (a)의 세정액의 활성화를 중단 및/또는 감소시키기 위해 단계 (a)의 세정액을 함유하는 기판의 적어도 일부에 적용됨으로써 적절하게 활성화된 마그네슘 기판을 형성한다.
특정 실시양태에서, 단계 (d)는 상기 기판의 일부에 대해 제 2 세척 단계를 수행하는 것을 포함한다. 소정의 비제한적 실시양태에서, 이 단계 (d)는 2종의 세척액(두 세척액 모두 물을 포함)으로 2회 이상 상기 기판을 세척하는 것을 포함한다.
특정 실시양태에서, 단계 (f)는 상기 기판의 일부에 대해 제 3 세척 단계를 수행하는 것을 포함한다. 소정의 비제한적 실시양태에서, 이 단계 (f)는 2종의 세척액(하나의 세척액은 물, 예컨대 수돗물을 포함하고 다른 세척액은 순수한 물, 예컨대, 탈이온수 또는 역삼투수를 포함함)으로 상기 기판을 2회 이상 세척하는 것을 포함한다.
특정 실시양태에서, 단계 (b), (d) 및 (f)의 세척액은 물을 포함한다. 이 물은 통상의 수돗물 공급원으로부터 수득될 수 있다. 특정 실시양태에서, 상기 물의 온도는 주변 온도일 수 있다. 주변 온도는 실온에서 수행되는 처리 용액을 의미한다. 일부 경우, 상기 물의 온도는 60℉(15.5℃) 내지 100℉(37.8℃), 예컨대 70℉(21.1℃) 내지 90℉(32.2℃)일 수 있다. 일부 경우, 이 온도는 75℉(23.9℃) 내지 85℉(29.4℃)일 수 있다.
특정 실시양태에서, 단계 (b), (d) 및 (f)의 세척액의 물은 종종 용해된 마그네슘 및 칼슘 이온으로서 150 ppm의 최대 경도(hardness)를 갖는다. 특정 실시양태에서, 물 공급원은 종종 450 마이크로지멘스의 최대 전도도를 가질 수 있다. 특정 실시양태에서, 단계 (f)의 세척액의 순수한 물 공급원은 200 마이크로지멘스의 최대 전도도를 가질 수 있다. 특정 실시양태에서, 단계 (f)의 세척액의 순수한 물 공급원은 50 마이크로지멘스의 최대 전도도를 가질 수 있다. 특정 실시양태에서, 순수한 물 공급원은 높은 순도의 공급원, 예컨대 신선한 (또는 버진(virgin)) 탈이온수 공급원 및/또는 신선한 (또는 버진) 역삼투수 공급원을 포함한다.
방법 A의 단계 (c)는 단계 (b)로 처리된 기판의 일부에 화학 세정제 조성물을 적용하는 것을 포함한다. 이 단계 (c)는 오염물이 감소되고 스멋이 기판으로부터 제거되는 정도로 기판을 세정한다. 특정 실시양태에서, 단계 (c)의 화학 세정제 조성물은 수용액을 포함한다. 특정 실시양태에서, 단계 (c)의 화학 세정제 조성물은 고도의 알칼리성 용액, 중성 용액, 용매계 용액, 및 용매 에멀젼을 포함한다.
특정 실시양태에서, 단계 (c)의 화학 세정제 조성물은 수산화물, 실리케이트, 카보네이트, 글루코네이트, 단순형 및 착체형 포스페이트, 포스포네이트, 지방족 및 방향족 용매, 글리콜 에터, 유기 표면 활성제, 에멀젼화제 및 이들의 혼합물을 포함한다. 수산화물의 적합한 예는 나트륨 하이드록사이드 및 칼륨 하이드록사이드를 포함한다. PPG 인더스트리즈 인코포레이티드에서 상표명 코로솔(등록상표) 52921 하에 시판되는 적합한 나트륨 하이드록사이드계 스멋제거제가 이런 단계 (c)의 목적에 효과적인 것으로 밝혀졌다. 상표명 켐클린™, 매그너스프레이(MAGNUSPRAY)(등록상표), 질라이트(GILLITE)(등록상표), 및 울트락스(ULTRAX)(등록상표) 하에 시판되는 PPG 인더스트리즈에서 적합한 알칼리성 그리스제거제가 단계 (c)의 화학 세정제 조성물로서 사용될 수 있다.
적합한 실리케이트의 예는 나트륨 실리케이트 또는 나트륨 메타실리케이트를 포함한다. 적합한 카보네이트의 예는 나트륨 카보네이트 또는 나트륨 세스퀴카보네이트를 포함한다. 적합한 글루코네이트의 예는 나트륨 글루코네이트를 포함한다. 적합한 단순형 포스페이트의 예는 트라이나트륨 포스페이트 및 다이나트륨 포스페이트를 포함한다. 적합한 착체형 포스페이트의 예는 나트륨 트라이폴리포스페이트 및 테트라칼륨 피로포스페이트를 포함한다. 적합한 포스포네이트의 예는 하이드록시-에틸리덴 다이포스폰산을 포함한다. 적합한 지방족 용매의 예는 미네랄 스피릿을 포함한다. 적합한 방향족 용매의 예는 톨루엔 및 자일렌을 포함한다. 적합한 글리콜 에터의 예는 에틸렌 글리콜 모노부틸 에터 및 프로필렌 글리콜 다이에틸 에터를 포함한다. 적합한 유기 표면 활성제의 예는 알킬 아릴 설포네이트, 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드 블록 중합체, 선형 설포네이트, 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드 블록 중합체, 선형 알콜, 및 알킬 페놀 에톡실레이트를 포함한다. 적합한 에멀젼화제의 예는 포스페이트 에스터를 포함한다.
특정 실시양태에서, 단계 (c)의 화학 조성물은, 온도 범위가 화학 세정제 조성물의 수용액의 농도, 화학 세정제 조성물의 pH 값 및 기판 상에서의 화학 세정제 조성물의 체류 시간에 따라 변할 수 있지만, 130℉(54.4℃) 내지 150℉(65.5℃), 예컨대 135℉(57.2℃) 내지 145℉(62.8℃), 및 일부 실시양태에서 140℉(60℃) 온도에서 기능하는 수용액을 포함한다. 특정 실시양태에서, 화학 세정제 조성물의 pH 범위는 7.0 내지 14.00, 예컨대 10.5 내지 12.5, 및 일부 실시양태에서 11.0 내지 12.0이다. 특정 실시양태에서, 단계 (c)의 화학 세정제 조성물은 5 포인트 내지 50 포인트의 유리 알칼리도(free alkalinity), 예컨대 5 포인트 내지 15 포인트의 유리 알칼리도, 및 일부 실시양태에서, 25 포인트 내지 40 포인트의 유리 알칼리도 범위에 있다. 유리 알칼리도 포인트는 산-염기 적정에서 페놀프탈레인(적정 지시제) 종말점에 도달하는 데에 필요한 표준 농도의 황산 또는 염산 적정의 부피(밀리리터)로서 정의될 수 있다. 유리 알칼리도는 농도의 정량적 척도이고, 공정 용액에서의 알칼리의 활성 수준과 관련될 수 있다.
특정 실시양태에서, 단계 (c)의 화학 세정제 조성물은 수용액 형태이고, 임의적으로 하나 이상의 계면활성제를 함유할 수 있다. 계면활성제는 종종 스멋제거되는 기판의 보다 우수한 습윤화, 세정 및 세척에 영향을 주기 위해 수용액으로 혼입된다. 임의의 알칼리성 상용성 계면활성제가 단계 (c)의 화학 세정제 조성물을 포함하는 수용액에 적합할 수 있다. 많은 다양한 적합한 계면활성제가 상업적으로 입수가능하다. 특정 실시양태에서, 단계 (c)의 스멋제거 욕은 임의적으로 킬레이트화제 또는 금속이온 봉쇄제를 함유할 수 있다. 이런 제제의 적합한 예는 글루콘산, 타르타르산, 시트르산의 염, 및 특정의 포스페이트 및 포스포네이트를 포함한다. 단계 (c)의 스멋제거 욕에 나트륨 글루코네이트를 첨가하는 것은 금속이온 봉쇄제로서 특히 효과적이다. 킬레이트화제 또는 금속이온 봉쇄제는 종종 특정 금속 이온을 착화시키기 위해 스멋제거 욕으로 혼입된다. 스멋제거 욕에서의 금속 이온의 착화는 종종 스멋제거 용액의 보다 효과적 사용을 가능케 한다.
일반적으로, 상기 단계 (a) 내지 (d)는 기판의 표면으로부터 모든 불순물을 효과적으로 제거하고, 이후의 단계 (e)의 처리를 위한 예비처리에서 기판의 표면을 활성화시킨다.
방법 A의 단계 (e)는 단계 (d)로 처리된 기판의 적어도 일부 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시키는 단계를 포함한다. 일부 실시양태에서, 이런 전처리 코팅 조성물은 비-크롬계, 크롬계 및 아연 포스페이트계 전환 코팅 조성물을 포함한다. 특정 실시양태에서, 이 전처리 코팅 조성물은 금속 표면, 예컨대, 마그네슘 또는 마그네슘 합금 기판의 페인트 부착성 및/또는 내부식성을 개선하는 수용액이다.
소정의 비제한적 실시양태에서, 이런 단계 (e)의 전처리 코팅 조성물은 지르코늄계 제제를 포함한다. 일부 실시양태에서, 이 지르코늄계 제제는 지르코늄 이온의 수용액이다. 지르코늄 이온의 공급원은 전형적으로 지르코늄 카보네이트, 지르코늄 니트레이트, 헥사플루오로지르콘산, 및 이들의 혼합물로부터 수득된다. 종종, 이러한 지르코늄 이온의 공급원은 헥사플루오로지르콘산으로부터 수득된다. PPG 인더스트리즈에서 상표명 엑스본드(XBOND)(등록상표) 또는 지르코본드(ZIRCOBOND)(등록상표) 하에 시판되는 지르코늄계 전처리제가 단계 (e)에 효과적인 것으로 확인되었다.
일부 실시양태에서, 단계 (e)의 전처리 코팅 조성물은 크로메이트계 제제를 포함한다. 일부 실시양태에서, 크로메이트계 제제는 수용액이다. PPG 인더스트리즈에서 상표명 제타크롬(ZETACHROME)™ 400으로 시판되는 적합한 크로메이트계 전처리제가 단계 (e)에 효과적인 것으로 확인되었다.
일부 실시양태에서, 단계 (e)는 주변 온도에서 수행된다. 주변 온도는 실온, 예컨대 55℉(12.8℃) 내지 110℉(43.3℃)에서 수행되는 처리 용액을 의미할 것이다. 일부 실시양태에서, 단계 (e)의 전처리 코팅 조성물의 pH는 1.5 내지 5.0, 예컨대 2.0 내지 3.0의 pH, 및 일부 실시양태에서 pH 2.5이다.
전술된 바와 같이, 단계 (e)의 전처리 후, 단계 (f)에 따라 단계 (e)로 처리된 기판의 일부는 이후 제 3 세척 단계로 처리된다. 소정의 비제한적 실시양태에서, 이런 제 3 세척 단계는 2종의 상이한 세척액(물을 포함하는 제 1 세척액 및 순수한 물을 포함하는 제 2 세척액)으로 상기 기판을 2회 이상 세척하는 것을 포함한다. 일부 실시양태에서, 물을 포함하는 제 1 세척액은 단계 (b) 및 (d)의 세척액에서의 물과 동일한 특징을 가질 수 있다. 일부 실시양태에서, 순수한 물은 55℉(12.8℃) 내지 130℉(54.4℃) 범위의 온도를 갖는다. 일부 실시양태에서, 단계 (f) 후에, 상기 기판은 종종 오븐에 의해 건조된 후, 단계 (g)에 따라 건조된 기판에 장식 및 보호 코팅이 적용된다.
방법 A의 기판의 예비처리 및 처리 방법의 단계 (g)는 단계 (f)로 처리된 기판의 적어도 일부 상에 보호 코팅 조성물을 침착시키는 단계를 포함한다. 소정의 비제한적 실시양태에서, 보호 코팅 조성물은 장식 페인트, 예컨대 분말 페인트 및 액체 페인트, 및 일부 실시양태에서, 전착형 페인트 코팅을 포함할 수 있다. 일부 실시양태에서, 단계 (g)는 상기 기판 표면을 양이온성 에폭시 전기코트로 페인팅하는 것을 포함한다. 적합한 양이온성 에폭시 전기코트는 PPG 인더스트리즈에서 상표명 파워크론(등록상표) 590-534 하에 상업적으로 입수가능하다. 일부 실시양태에서, 상기 기판의 표면 상의 보호 코팅 조성물의 필름 두께는 0.6 mil(15μm) 내지 1.3 mil(33μm) 범위이다.
추가의 본 발명의 기판의 처리 방법은 방법 B를 포함한다. 또한, 이 방법 B는 지르코늄계 용액 또는 크로메이트계 용액과 기판을 접촉하는 것을 포함하는 전처리 단계 이전에 기판, 예를 들면, 금속 기판, 예컨대 마그네슘 및 마그네슘 합금의 표면을 활성화시키는 데에 효과적인 것으로 밝혀졌다.
방법 B:
(a) 고온수 세정
(b) 활성화 및 세정 - 마그네슘 기판을 산성 용액, 예컨대 시트르산과 접촉시킨다.
(c) 2회 물 세척 - 1회의 물 세척 및 1회의 순수한 물 세척.
(d) 전처리 - 활성화된 및 스멋제거된 마그네슘 기판을 비-크롬 또는 크롬계 화학 처리 용액과 접촉시킨다.
(e) 2회 물 세척 - 1회의 물 세척 및 1회의 순수한 물 세척.
(g) 보호.
방법 B의 또 다른 실시양태는 다음과 같다:
(a) 세척 - 기판을, 고온수를 포함하는 세척액을 포함하는 제 1 세척 단계로 세척한다.
(b) 활성화 및 세정 - 상기 기판에 적어도 유기산을 포함하는 세정액을 적용한다.
(c) 세척 - 상기 기판을 2종 이상의 세척액을 포함하는 제 2 세척 단계로 세척하며, 이때 제 1 세척액은 고온수를 포함하고 제 2 세척액은 순수한 물을 포함한다.
(d) 전처리 - 상기 기판 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시킨다.
(e) 세척 - 상기 기판을 2종 이상의 세척액을 포함하는 제 3 세척 단계로 세정하며, 이때 제 1 세척액은 물을 포함하고 제 2 세척액은 순수한 물을 포함한다.
(f) 보호 - 상기 기판 상에 보호 코팅 조성물, 예컨대 전착 코팅(전기코트)를 침착시킨다.
실제로는, 방법 B는 방법 A의 단계 (d)를 제거하고 일련의 세척 단계 (a), (c) 및 (e)를 수행하는 것을 포함한다. 일부 실시양태에서, 제 1 세척 단계 (a)는 제 1 고온수를 포함하는 세척액을 포함한다. 일부 실시양태에서, 제 2 세척 단계 (c)는 2종 이상의 세척액(고온수, 예컨대 수돗물을 포함하는 제 1 세척액, 및 순수한 물, 예컨대 탈이온수 및 역삼투수를 포함하는 제 2 세척액)을 포함한다. 일부 실시양태에서, 제 3 세척 단계 (e)는 2종 이상의 세척액(물을 포함하는 제 1 세척액, 및 순수한 물, 예컨대 탈이온수 및 역삼투수를 포함하는 제 2 세척액)을 포함한다.
방법 B의 특정 실시양태에서, 단계 (a) 및 (c)의 고온수의 온도는 212℉(100℃) 내지 180℉(82.2℃), 예컨대 130℉(54.4℃) 내지 150℉(65.5℃); 일부 경우, 예컨대 135℉(57.2℃) 내지 145℉(62.8℃)의 온도; 및 일부 경우, 140℉(60℃)의 온도일 수 있다. 대조적으로, 방법 B의 특정 실시양태에서, 단계 (e)의 물(깨꿋헌 수돗물일 수 있음)의 온도는 60℉(15.5℃) 내지 100℉(37.8℃), 예컨대 70℉(21.1℃) 내지 90℉(32.2℃)일 수 있다. 일부 경우, 이 온도는 75℉(23.9℃) 내지 85℉(29.4℃)일 수 있다.
전술된 것을 제외하고는, 방법 B의 단계 (a) 내지 (g)의 파라미터 및 추가적 특징사항은 방법 A의 단계 (a) 내지 (g)에 대해 전술된 것들과 유사하다.
추가의 본 발명의 방법은 방법 C를 포함한다. 방법 C의 구체적 단계들은 하기를 포함한다:
방법 C:
(a) 스멋제거 및 세정 - 마그네슘 기판을 알칼리성 용액, 예컨대, 알칼리성 그리스제거제와 접촉시킨다.
(b) 물 세척 - 1회 물 세척.
(c) 활성화 및 세정 - 마그네슘 기판을 산성 용액, 예컨대 시트르산과 접촉시킨다.
(d) 2회 물 세척 - 1회의 물 세척 및 1회의 순수한 물 세척.
(e) 전처리 - 활성화된 마그네슘 기판을 비-크롬 또는 크롬계 화학 처리 용액과 접촉시킨다.
(f) 2회 물 세척 - 1회의 물 세척 및 1회의 순수한 물 세척.
(g) 보호.
방법 C의 또 다른 실시양태는 하기와 같다:
(a) 스멋제거 및 세정 - 화학 세정제 조성물을 기판에 적용한다.
(b) 세척 - 상기 기판을, 물을 포함하는 하나 이상의 세척액을 포함하는 제 1 세척 단계로 세척한다.
(c) 활성화 및 세정 - 상기 기판에 적어도 유기산을 포함하는 세정액을 적용한다.
(d) 세척 - 상기 기판을, 2종 이상의 세척액을 포함하는 제 2 세척 단계로 세척하며, 이때 제 1 세척액은 물을 포함하고 제 2 세척액은 순수한 물을 포함한다.
(e) 전처리 - 상기 기판 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시킨다.
(f) 세척 - 상기 기판을, 2종 이상의 세척액을 포함하는 제 3 세척 단계로 세척하며, 이때 제 1 세척액은 물을 포함하고 제 2 세척액은 순수한 물을 포함한다.
(g) 보호 - 상기 기판 상에 보호 코팅 조성물, 예컨대 전착 코팅(전기코트)를 침착시킴.
실제로, 방법 C는 스멋제거 및 세정 단계 (a)로 시작하고, 일련의 세척 단계 (b), (d) 및 (f), 활성화 및 세정 단계 (c), 전처리 단계 (e) 및 보호 단계 (g)를 수행하는 것을 포함한다. 일부 실시양태에서, 제 1 세척 단계 (b)를 수행하는 것은, 물을 포함하는 세척액을 포함한다. 일부 실시양태에서, 제 2 세척 단계 (d)를 수행하는 것은 2종 이상의 세척액(물, 예컨대 수돗물을 포함하는 제 1 세척액, 및 순수한 물, 예컨대 탈이온수 및 역삼투수를 포함하는 제 2 세척액)을 포함한다. 일부 실시양태에서, 제 3 세척 단계 (f)를 수행하는 것은 2종 이상의 세척액(물, 예컨대 수돗물을 포함하는 제 1 세척액, 및 순수한 물, 예컨대 탈이온수 및 역삼투수를 포함하는 제 2 세척액)을 포함한다.
방법 C의 특정 실시양태에서, 단계 (b), (d) 및 (f)의 물은 깨끗한 물, 일부 경우 깨끗한 수돗물일 수 있다. 단계 (b), (d) 및 (f)의 물 및 순수한 물의 온도는 60℉(15.5℃) 내지 100℉(37.8℃), 예컨대 70℉(21.1℃) 내지 90℉(32.2℃)일 수 있다. 일부 경우, 이 온도는 75℉(23.9℃) 내지 85℉(29.4℃)일 수 있다.
방법 C의 특정 실시양태에서, 스멋제거 및 세정 단계 (a)는 알칼리성 그리스제거제를 포함하는 화학 세정제 조성물을 포함할 수 있다. 특정 실시양태에서, 활성화 및 세정 단계 (a)는 적어도 유기산을 포함하는 세정액을 포함한다. 소정의 비제한적 실시양태에서, 상기 세정액은 유기산의 수용액이다. 적합한 유기산의 구체적 예는, 많은 다른 것들 중에서도, 시트르산, 아세트산, 락트산, 말레산, 말산, 옥살산, 석신산, 세박산, 타르타르산, 및 글루콘산을 포함하지만 이로 한정되지는 않는다. 일부 비제한적 실시양태에서, 상기 세정액은 시트르산의 수용액이다. 적합한 시트르산계 활성화 용액은 PPG 인더스트리즈 인코포레이티드에서 상표명 코로솔(등록상표) 32 하에 시판된다. 소정의 비제한적 실시양태에서, 상기 세정액은 아세트산을 제외한 유기산의 수용액이다.
전술된 것을 제외하고는, 방법 C의 단계 (a) 내지 (g)의 파라미터 및 추가적 특징사항은 방법 A의 단계 (a) 내지 (g)에 대해 전술된 것들과 유사하다.
하기의 실시예는 본 발명의 일반 원리를 보여주기 위해 제공된다. 그러나, 본 발명은 제공된 특정 실시예에 한정되는 것으로 고려되어서는 안된다. 실시예 1은 본 발명의 방법 A의 대표적 예이고 실시예 2는 본 발명의 방법 B의 대표적 예이고 실시예 3은 본 발명의 방법 C의 대표적 예임을 주지해야 한다.
실시예
실시예 1 - 본 발명의 방법 A
실시예 1에서, 몇몇 AM60B 마그네슘 패널을 페인팅 방법으로 처리하였다. 몇몇 처리 방식을 표 1에 개략한다. 마그네슘 시험편을 침지 적용법을 이용하여 처리하였다. 실험 번호 1, 2 및 3을 종래 기술에 따라 처리하였다. 실험 번호 4는 대조 실험이다. 실험 번호 5 및 6을 본 발명의 방법 A의 단계 (a) 내지 (f)에 따라 처리하였다.
처리 방식
실험 번호 단계 1 단계 2 단계 3 단계 4 단계 5 단계 6 단계 7 단계 8
1 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 인산
탈산화		 수돗물 세척 탈이온수 세척 na na na
2 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 인산
탈산화		 수돗물 세척 크로메이트 처리 수돗물
세척		 탈이온수 세척 na
3 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 인산
탈산화		 수돗물 세척 지르코늄 처리 수돗물
세척		 탈이온수 세척 na
4 시트르산 수돗물 세척 알칼리
스멋제거		 수돗물 세척 수돗물
세척		 탈이온수 세척 na na
5 시트르산 수돗물 세척 알칼리
스멋제거		 수돗물 세척 수돗물
세척		 크로메이트 처리 수돗물
세척		 탈이온수 세척
6 시트르산 수돗물 세척 알칼리
스멋제거		 수돗물 세척 수돗물
세척		 지르코늄 처리 수돗물
세척		 탈이온수 세척
*na는 적용 불가함을 의미함.
실시예 1에서 사용된 처리 유형, 상응하는 시판품, 및 적용 파라미터가 표 2에 요약되어 있다.
모든 시험편을 표 1에 개략된 방식에 따라 처리하였고, 그 후 이어서 하기의 조건 하에 파워크론(등록상표) 590-534(PPG에서 시판되는 양이온성 에폭시 전기코트)으로 페인팅하였다: (1) 욕 온도 - 90℉(32℃); (2) DC 전압 - 230 볼트; (3) 체류 시간 - 90 초; 및 (4) 페인트 경화 - 375℉(190℃)의 피크 금속 온도에서 20 분. 표적화된 최종 전기코팅된 필름 두께는 0.8 - 1.0 mil(20 - 25 μm)이었다.
마그네슘 합금의 침지 가공에 대한 처리 설명 및 파라미터
처리 PPG 제품 농도 온도 체류 시간
알칼리성
그리스제거제		 켐클린 611L 2 v/o% 140℉(60℃) 60 초
세척 수돗물 Na 70℉(21℃) 30 초
세척 탈이온수 Na 70℉(21℃) 30 초
크로메이트
처리		 제타크롬 400 4.4 v/o% 110℉(43℃) 60 초
지르코늄 처리 엑스본드 4000 6.0 v/o% 85℉(29℃) 60 초
시트르산 처리 코로솔 32 10.0 v/o% 70℉(21℃) 60 초
알칼리성
스멋제거제		 코로솔 52921 10.0 v/o% 140℉(60℃) 60 초
산성 탈산화제 DX533 10.0 v/o% 70℉(21℃) 60 초
각각 약 4 in x 6 in(10.2 cm x 15.2 cm)의 치수를 갖는 5개의 시험편을 시험 변수마다 사용하였다. 처리 및 페인팅된 시편을 표 3에 개략된 바와 같이 성능 시험하였다. 중성 염-스프레이, 주기적 부식, 및 고온 염수 침지로 지명된 시험 및 페인팅된 시험편을 시험 전에 사전-스크라이빙(pre-scribe) 하였다. 2개의 교차 진단 스크라이브를 E-5, C6 스크라이빙 장비를 사용하여 페인트 시험편에 도입하였다. 성능 시험의 결론부에서, 시험편을 시험 챔버로부터 제거하고, 수돗물로 세척하고, 깨끗한 백색 1회용 종이 타월로 건조시키고, 시험 챔버로부터 제거 후 10 분 내에 부착 시험하였다. 페인트 손실을 ASTM D1654에 따른 테이프 당김법(tape pulled method)을 이용하여 측정하였다. 사용된 테이프는 스카치 브랜드 8981이었다. 페인트 부착 손실을, 스크라이브 라인의 중심으로부터 페인트가 기판의 표면에 부착되어 남아 있는 지점까지 측정하였다. 합격 결과는 또한 다양한 성능 시험에 대한 표 3에 열거되어 있다.
성능 시험
시험 명세 시험 기간 합격기준 (2)
중성 염 분무 ASTM B117 744 시간 3.0 mm 이하
비등수 습윤 부착성(1) 20 분 4B 이상(3)
5% 고온 염수 침지 혼다 96 시간 3.0mm 이하
(1) 페인팅된 시험편을 비등수에 노출 전에 크로스-해치 스크라이빙하였다.
(2) 테이프 당김 시험으로 측정된, 스크라이브 선에 따른 페인트 부착 손실.
(3) 패널을 ASTM D3359에 따라 등급화하였다.
성능 시험 데이터는 표 4에 요약되어 있다. 회색으로 칠해진 실험은 모든 성능 시험을 합격하였다. 이들 실험은 실험 번호 5 및 6이고, 이는 본 발명의 방법 A의 단계들을 나타낸다. 이들 실험 번호 5 및 6은 동일한 성능 시험 결과를 제공하였다. 실험 번호 5 및 6은 둘 다 단계 1에서 시트르산을 사용한 표면 활성화 처리 및 단계 3에서 알칼리 스멋제거 단계, 이후 크롬계 처리(실험 번호 5) 또는 지르코늄계 처리(실험 번호 6)를 포함하였다. 다른 실험 번호 1 내지 4는 모두 성능 시험들 중 하나 이상에서 불합격하였다.
이 실시예 1은, 단계 1에서 알칼리성 그리스제거제 및 단계 3에서 미네랄산 탈산화제를 포함하는 종래 기술의 산업 공정의 단계들로 처리된 AM60B 마그네슘 합금(실험 번호 1, 2 및 6)에 비해 단계 1에서 시트르산의 사용을 포함하는 공정인 방법 A의 단계들로 처리된 AM60B 마그네슘 합금(실험 번호 5 및 6)에 대한 시험에서 개선된 성능을 보였다. 실험 번호 4는 대조군이다.
Figure pct00001
실시예 2 - 본 발명의 방법 B
실시예 2에서, 몇몇 AZ91D 마그네슘 패널을 페인팅 방법으로 처리하였다. 몇몇 처리 방식을 표 5에 개략한다. 마그네슘 시험편을 침지 적용법을 이용하여 처리하였다.
처리 방식
실험 번호 단계 1 단계 2 단계 3 단계 4 단계 5 단계 6 단계 7
1 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 인산 탈산화 수돗물 세척 탈이온수 세척 na na
2 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 인산 탈산화 수돗물 세척 크로메이트 처리 수돗물 세척 탈이온수 세척
3 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 인산 탈산화 수돗물 세척 지르코늄 처리 수돗물 세척 탈이온수 세척
4 고온 수돗물 세척 시트르산 고온 수돗물 세척 탈이온수 세척 크로메이트 처리 수돗물 세척 탈이온수 세척
5 고온 수돗물 세척 시트르산 고온 수돗물 세척 탈이온수 세척 지르코늄 처리 수돗물 세척 탈이온수 세척
실험 번호 1은 대조군이다. 실험 번호 2 및 3을 종래 기술의 공정에 따라 처리하였다. 실험 번호 4 및 5를 본 발명의 방법 B의 단계들에 따라 처리하였다.
실시예 2에서 사용된 처리 유형, 상응하는 시판품, 및 적용 파라미터가 표 6에 요약되어 있다.
마그네슘 합금의 침지 가공에 대한 처리 설명 및 파라미터
처리 PPG 제품 농도 온도 체류 시간
알칼리성
그리스제거제		 켐클린 611L 2 v/o% 140℉(60℃) 60 초
세척 수돗물 na 70 ℉(21℃) 30 초
세척 탈이온수 na 70 ℉(21℃) 30 초
고온 세척 수돗물 na 140℉(60℃) 30 초
크로메이트 처리 제타크롬 400 4.4 v/o% 110℉(43℃) 60 초
지르코늄 처리 엑스본드 4000 6.0 v/o% 85℉(29℃) 60 초
시트르산 처리 코로솔 32 10.0 v/o% 70℉(21℃) 60 초
산성 탈산화제 DX533 10.0 v/o% 70℉(21℃) 60 초
모든 시험편을 표 5에 개략된 방식에 따라 처리하였고, 그 후 이어서 하기의 조건 하에 파워크론(등록상표) 590-534(PPG에서 시판되는 양이온성 에폭시 전기코트)으로 페인팅하였다: (1) 욕 온도 - 90℉(32℃); (2) DC 전압 - 230 볼트; (3) 체류 시간 - 90 초; 및 (4) 페인트 경화 - 375℉(190℃)의 피크 금속 온도에서 20 분. 표적화된 최종 전기코팅된 필름 두께는 0.8 - 1.0 mil(20 - 25 μm)이었다.
각각 약 4 in x 6 in(10.2 cm x 15.2 cm)의 치수를 갖는 5개의 시험편을 시험 변수마다 사용하였다. 처리 및 페인팅된 시편을 표 7에 개략된 바와 같이 성능 시험하였다. 중성 염-스프레이, 주기적 부식, 및 고온 염수 침지로 지명된 시험 및 페인팅된 시험편을 시험 전에 사전-스크라이빙 하였다. 2개의 교차 진단 스크라이브를 E-5, C6 스크라이빙 장비를 사용하여 페인트 시험편에 도입하였다. 성능 시험의 결론부에서, 시험편을 시험 챔버로부터 제거하고, 수돗물로 세척하고, 깨끗한 백색 1회용 종이 타월로 건조시키고, 시험 챔버로부터 제거 후 10 분 내에 부착 시험하였다. 페인트 손실을 ASTM D1654에 따른 테이프 당김법을 이용하여 측정하였다. 사용된 테이프는 스카치 브랜드 8981이었다. 페인트 부착 손실을, 스크라이브 라인의 중심으로부터 페인트가 기판의 표면에 부착되어 남아 있는 지점까지 측정하였다. 합격 결과는 또한 다양한 성능 시험에 대한 표 7에 열거되어 있다.
성능 시험
시험 명세 시험 기간 합격기준 (2)
중성 염 분무 ASTM B117 744 시간 3.0 mm 이하
비등수 습윤 부착성(1) 20 분 4B 이상(3)
5% 고온 염수 침지 혼다 120 시간 3.0mm 이하
(1) 페인팅된 시험편을 비등수에 노출 전에 크로스-해치 스크라이빙하였다.
(2) 테이프 당김 시험으로 측정된, 스크라이브 선에 따른 페인트 부착 손실.
(3) 패널을 ASTM D3359에 따라 등급화하였다.
성능 시험 데이터는 표 8에 요약되어 있다. 회색으로 칠해진 실험만이 모든 성능 시험을 합격하였다. 본 발명의 방법 B의 단계들에 따라 처리된 실험 번호 5만이 모든 성능 시험에서 합격 결과를 제공하였다. 실험 번호 5는 단계 2에서 시트르산 세정 및 표면 활성화 단계를 이용하고, 그 후 몇몇 세척 단계 후에, 이어서 지르코늄 처리 단계(단계 5)를 포함하였다. 다른 실험 번호 1 내지 4는 성능 시험에서 합격 결과를 제공하지 못했다. 단계 2의 시트르산 세정 및 활성화 단계의 효과는 140℉(60℃)의 온도를 갖는 고온 수돗물(단계 1 및 3)로 AZ91D 마그네슘 합금을 세척한 것에 기인할 수 있다. 실험 번호 4의 크로메이트 처리 단계(단계 5) 조차도 140℉(60℃)의 온도를 갖는 단계 1 및 3의 고온 수돗물 세척 단계를 이용하는 경우 비효과적이었다.
Figure pct00002
실시예 3 - 본 발명의 방법 C
실시예 3에서, 몇몇 AM60B 마그네슘 패널을 페인팅 방법으로 처리하였다. 몇몇 처리 방식을 표 9에 개략한다. 마그네슘 시험편을 침지 적용법을 이용하여 처리하였다.
처리 방식
실험 번호 단계 1 단계 2 단계 3 단계 4 단계 5 단계 6 단계 7
1 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 인산 탈산화 수돗물 세척 탈이온수 세척 na na
2 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 인산 탈산화 수돗물 세척 크로메이트 처리 수돗물 세척 탈이온수 세척
3 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 인산 탈산화 수돗물 세척 지르코늄 처리 수돗물 세척 탈이온수 세척
4 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 시트르산 탈이온수 세척 크로메이트 처리 수돗물 세척 탈이온수 세척
5 알칼리
그리스제거		 수돗물 세척 시트르산 탈이온수 세척 지르코늄 처리 수돗물 세척 탈이온수 세척
실험 번호 1은 대조군이다. 실험 번호 2 및 3을 종래 기술의 공정에 따라 처리하였다. 실험 번호 4 및 5를 본 발명의 방법 C의 단계들에 따라 처리하였다.
실시예 3에서 사용된 처리 유형, 상응하는 시판품, 및 적용 파라미터가 표 10에 요약되어 있다.
마그네슘 합금의 침지 가공에 대한 처리 설명 및 파라미터
처리 PPG 제품 농도 온도 체류 시간
알칼리성
그리스제거제		 켐클린 611L 2 v/o% 140℉(60℃) 60 초
세척 수돗물 na 70℉(21℃) 30 초
세척 탈이온수 na 70℉(21℃) 30 초
크로메이트 처리 제타크롬 400 4.4 v/o% 110℉(43℃) 60 초
지르코늄 처리 엑스본드 4000 6.0 v/o% 85℉(29℃) 60 초
시트르산 처리 코로솔 32 10.0 v/o% 70℉(21℃) 60 초
산성 탈산화제 DX533 10.0 v/o% 70℉(21℃) 60 초
모든 시험편을 표 9에 개략된 방식에 따라 처리하였고, 그 후 이어서 하기의 조건 하에 파워크론(등록상표) 590-534(PPG에서 시판되는 양이온성 에폭시 전기코트)으로 페인팅하였다: (1) 욕 온도 - 90℉(32℃); (2) DC 전압 - 230 볼트; (3) 체류 시간 - 90 초; 및 (4) 페인트 경화 - 375℉(190℃)의 피크 금속 온도에서 20 분. 표적화된 최종 전기코팅된 필름 두께는 0.8 - 1.0 mil(20 - 25 μm)이었다.
각각 약 4 in x 6 in(10.2 cm x 15.2 cm)의 치수를 갖는 5개의 시험편을 시험 변수마다 사용하였다. 처리 및 페인팅된 시편을 표 11에 개략된 바와 같이 성능 시험하였다. 중성 염-스프레이, 주기적 부식, 및 고온 염수 침지로 지명된 시험 및 페인팅된 시험편을 시험 전에 사전-스크라이빙 하였다. 2개의 교차 진단 스크라이브를 E-5, C6 스크라이빙 장비를 사용하여 페인트 시험편에 도입하였다. 성능 시험의 결론부에서, 시험편을 시험 챔버로부터 제거하고, 수돗물로 세척하고, 깨끗한 백색 1회용 종이 타월로 건조시키고, 시험 챔버로부터 제거 후 10 분 내에 부착 시험하였다. 페인트 손실을 ASTM D1654에 따른 테이프 당김법을 이용하여 측정하였다. 사용된 테이프는 스카치 브랜드 8981이었다. 페인트 부착 손실을, 스크라이브 라인의 중심으로부터 페인트가 기판의 표면에 부착되어 남아 있는 지점까지 측정하였다. 합격 결과는 또한 다양한 성능 시험에 대한 표 11에 열거되어 있다.
성능 시험
시험 명세 시험 기간 합격기준 (2)
중성 염 분무 ASTM B117 744 시간 3.0 mm 이하
비등수 습윤 부착성(1) 20 분 4B 이상(3)
5% 고온 염수 침지 혼다 120 시간 3.0mm 이하
(1) 페인팅된 시험편을 비등수에 노출 전에 크로스-해치 스크라이빙하였다.
(2) 테이프 당김 시험으로 측정된, 스크라이브 선에 따른 페인트 부착 손실.
(3) 패널을 ASTM D3359에 따라 등급화하였다.
성능 시험 데이터는 표 12에 요약되어 있다. 회색으로 칠해진 실험만이 모든 성능 시험을 합격하였다. 실험 번호 3, 4 및 5은 모든 성능 시험에서 합격 결과를 제공하였다. 이 실험은 통상의 알칼리 세정 단계(단계 1), 이후 미네랄산을 사용한 단계에서의 탈산화 단계(종래 기술의 실험 번호 1, 2 및 3) 또는 이후 단계 3에서의 시트르산 단계(본 발명의 실험 번호 4 및 5)를 이용하였다. 본 발명의 방법에 따라 처리되지 않은 실험 번호 3에서 합격 결과가 수득되었지만, 전통적 공정의 알칼리 세정 단계(단계 1) 이후 시트르산을 사용한 탈산화 단계(단계 3)를 이용하는 실험 번호 4 및 5(본 발명)는 실험 번호 3에 비해 보다 우수한 결과를 생성하였다. 즉, 실험 번호 3의 결과는 본 발명의 방법 C에 따라 예비처리된 실험 번호 4 및 5에서의 결과에 비하면 최저치(marginal)일 뿐이다. 데이터는, 본 발명이 보다 강한 방법을 제공함을 보여 준다. 즉, 이는 품질 결과를 성취하기 위해 보다 넓은 공정 파라미터 범위를 제공한다.
Figure pct00003
본원의 실시양태가 마그네슘 또는 마그네슘 합금 기판을 이용하여 예시되었지만, 다른 금속 및 비-금속이 본 발명의 방법에 따라 효과적으로 처리될 수 있음을 이해할 것이다.
특정한 본 발명의 실시양태가 예시를 목적으로 본원에 전술되었지만, 본 발명의 세부 사항의 많은 변화가 첨부된 특허청구범위에 정의된 발명으로부터 벗어남이 없이 행해질 수 있음은 당업자에게 자명할 것이다.

Claims (21)

  1. (a) 기판의 적어도 일부에, 적어도 유기산을 포함하는 세정액(cleaning solution)을 적용하는 단계;
    (b) 단계 (a)의 세정액으로 세정된 기판의 적어도 일부에 대해 제 1 세척 단계를 수행하는 단계;
    (c) 제 1 세척 단계 (b)에서 세척된 기판의 일부에 화학 세정제 조성물을 적용하는 단계;
    (d) 단계 (c)의 화학 세정제 조성물로 세정된 기판의 적어도 일부에 대해 제 2 세척 단계를 수행하는 단계; 및
    (e) 단계 (d)로 처리된 기판의 적어도 일부 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시키는 단계
    를 포함하는, 기판의 예비처리 및 처리 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    (f) 단계 (e)의 전처리 코팅 조성물을 갖는 기판의 적어도 일부에 대해 제 3 세척 단계를 수행하는 단계; 및
    (g) 단계 (f)로 처리된 기판 상에 보호 코팅 조성물을 침착시키는 단계
    를 추가로 포함하는 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    제 1 세척 단계 (b)가 적어도, 물을 포함하는 제 1 세척액을 포함하고;
    제 2 세척 단계 (d)가 적어도, 물을 포함하는 제 1 세척액 및 물을 포함하는 제 2 세척액을 포함하고;
    제 3 세척 단계 (f)가 적어도, 물을 포함하는 제 1 세척액 및 순수한 물을 포함하는 제 2 세척액을 포함하는, 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    단계 (a)가 60℉(15.5℃) 내지 100℉(37.8℃) 범위의 온도에서 수행되는, 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 단계 (a)의 세정액이 0.5 내지 5.0의 pH를 갖고; 상기 단계 (c)의 화학 세정제 조성물이 7.4 내지 14.0의 pH를 갖는, 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 단계 (a)의 세정액 중의 유기산이 시트르산, 아세트산, 락트산, 말레산, 말산, 옥살산, 석신산, 세박산, 타르타르산, 글루콘산 또는 이들의 혼합물을 포함하는, 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 단계 (c)의 화학 세정제 조성물이 알칼리성 세정액, 중성 세정액, 용매계 세정액, 용매 에멀젼 세정액 또는 이들의 혼합물을 포함하는, 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 단계 (e)의 전처리 코팅 조성물이 비-크롬계 코팅 조성물 또는 크롬계 코팅 조성물을 포함하는, 방법.
  9. (a) 기판의 적어도 일부에 대해 제 1 세척 단계를 수행하는 단계;
    (b) 상기 기판의 적어도 일부에, 적어도 유기산을 포함하는 세정액을 적용하는 단계;
    (c) 단계 (b)의 세정액으로 세정된 기판의 적어도 일부에 대해 제 2 세척 단계를 수행하는 단계; 및
    (d) 단계 (c)로 처리된 기판의 적어도 일부 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시키는 단계
    를 포함하는, 기판의 예비처리 및 처리 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    (e) 단계 (d)의 전처리 코팅 조성물을 갖는 기판의 적어도 일부에 대해 제 3 세척 단계를 수행하는 단계; 및
    (f) 제 3 세척 단계 (e)로 세척된 기판 상에 보호 코팅 조성물을 침착시키는 단계
    를 추가로 포함하는 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    제 1 세척 단계 (a)가, 고온수(hot water)를 포함하는 세척액을 포함하고;
    제 2 세척 단계 (c)가 2종 이상의 세척액을 포함하며, 이때 제 1 세척액은 고온수를 포함하고 제 2 세척액은 순수한 물을 포함하고;
    제 3 세척 단계 (e)가 2종 이상의 세척액을 포함하며, 이때 제 1 세척액은 물을 포함하고 제 2 세척액은 순수한 물을 포함하는, 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 단계 (a)의 세척액의 고온수의 온도 및 제 2 세척 단계 (c)의 제 1 세척액의 고온수의 온도가 130℉(54.4℃) 내지 150℉(65.5℃)의 범위인, 방법.
  13. 제 9 항에 있어서,
    상기 단계 (b)의 유기산이 시트르산, 아세트산, 락트산, 말레산, 말산, 옥살산, 석신산, 세박산, 타르타르산, 글루콘산, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는, 방법.
  14. 제 9 항에 있어서,
    상기 단계 (d)의 전처리 코팅 조성물이 비-크롬계 코팅 조성물 또는 크롬계 코팅 조성물을 포함하는, 방법.
  15. (a) 기판의 적어도 일부에 화학 세정제 조성물을 적용하는 단계;
    (b) 단계 (a)의 화학 세정제 조성물로 세정된 기판의 적어도 일부에 대해 제 1 세척 단계를 수행하는 단계;
    (c) 단계 (b)로 처리된 기판의 일부 상에, 아세트산을 제외한 유기산을 적어도 포함하는 세정액을 적용하는 단계;
    (d) 단계 (c)로 처리된 기판의 적어도 일부에 대해 제 2 세척 단계를 수행하는 단계; 및
    (e) 단계 (d)로 처리된 기판의 적어도 일부 상에 전처리 코팅 조성물을 침착시키는 단계
    를 포함하는, 기판의 예비처리 및 처리 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    제 1 세척 단계 (b)가, 물을 포함하는 세척액을 포함하고;
    제 2 세척 단계 (d)가 2종 이상의 세척액을 포함하며, 이때 제 1 세척액은 물을 포함하고 제 2 세척액은 순수한 물을 포함하는, 방법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    (f) 단계 (e)로 처리된 기판의 적어도 일부에 대해 제 3 세척 단계를 수행하는 단계; 및
    (g) 단계 (f)로 처리된 기판의 적어도 일부 상에 보호 코팅 조성물을 침착시키는 단계
    를 추가로 포함하는 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    제 3 세척 단계 (f)가 적어도, 물을 포함하는 제 1 세척액 및 순수한 물을 포함하는 제 2 세척액을 포함하는, 방법.
  19. 제 15 항에 있어서,
    상기 단계 (c)의 유기산이 시트르산, 락트산, 말레산, 말산, 옥살산, 석신산, 세박산, 타르타르산, 글루콘산 및 이들의 혼합물로부터 선택되는, 방법.
  20. 제 15 항에 있어서,
    상기 단계 (a)의 화학 세정제 조성물이 알칼리성 세정액, 중성 세정액, 용매 세정액, 용매계 에멀젼 또는 이들의 혼합물을 포함하는, 방법.
  21. 제 15 항에 있어서,
    상기 단계 (e)의 전처리 코팅 조성물이 비-크롬계 조성물 또는 크롬계 조성물을 포함하는, 방법.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103628080A (zh) * 2013-12-09 2014-03-12 攀钢集团攀枝花钢钒有限公司 冷轧纯钛板带脱脂方法
WO2017219369A1 (zh) * 2016-06-24 2017-12-28 深圳市恒兆智科技有限公司 除油粉、金属工件及其除油处理方法
JP7311075B1 (ja) 2022-03-30 2023-07-19 Ｊｆｅスチール株式会社 前処理液および絶縁被膜付き電磁鋼板の製造方法
WO2023188594A1 (ja) * 2022-03-30 2023-10-05 Ｊｆｅスチール株式会社 前処理液および絶縁被膜付き電磁鋼板の製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3070464A (en) * 1959-09-14 1962-12-25 Dow Chemical Co Cleaning magnesium articles
US6126997A (en) * 1999-02-03 2000-10-03 Bulk Chemicals, Inc. Method for treating magnesium die castings
JP3783995B2 (ja) * 1999-05-12 2006-06-07 日本パーカライジング株式会社 マグネシウム合金の表面処理方法
DE10010758A1 (de) * 2000-03-04 2001-09-06 Henkel Kgaa Korrosionsschutzverfahren für Metalloberflächen
DE10025643B4 (de) * 2000-05-24 2007-02-01 OZF Oberflächenbeschichtungszentrum GmbH+Co. Verfahren zum Beschichten von Aluminium- und Magnesium-Druckgusskörpern mit einer kataphoretischen Elektrotauchlackierungsschicht und mit diesem Verfahren hergestellte Aluminium- und Magnesium-Druckgusskörper
US7695771B2 (en) * 2005-04-14 2010-04-13 Chemetall Gmbh Process for forming a well visible non-chromate conversion coating for magnesium and magnesium alloys
CN101463474A (zh) * 2007-12-19 2009-06-24 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镁合金工件及镁合金磷化方法

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