KR20130016116A - 배출 공기 시스템 및 이를 위한 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판의 습식 화학 인라인 처리의 상황에서 반응 가스로 충전된 개선된 공기 제거를 위한 기구 및 방법에 관한 것이다.
수송 가스 (G)에 의해 판형 대상체 (3)의 단일면 습식 화학 처리를 위한 인라인 플랜트 (1)로부터의 기체 반응 생산물 (2)의 제거를 위한 본 발명에 따른 기구는 입구 (8), 처리 액체 (F)의 수용을 위한 처리조 (4), 수송 방향 (7)으로 판형 대상체 (3)의 수평 수송을 위한 수송면 (6)을 갖는 인라인 수송 장치 (5), 출구 (9), 뿐만 아니라 수송면 (6) 위에 마련된 기체 반응 생산물 (2)를 위한 수집 챔버 (10)을 갖는다. 상기 기구는, 상기 수집 챔버 (10)는, 배출 공기 채널 (13)의 형성 시에, 수송 가스 (G)가 수송 방향 (7)과 반대일 뿐만 아니라 본질적으로 수송면 (6) 및 수송 방향 (7)에 평행인 배출 공기 채널 (13)을 통해 흐를 수 있는 방식으로 출구 (9)의 영역에서 유입 개구 (11) 및 입구 (8)의 영역에서 유출 개구 (12)를 제공하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 방법은, 배출 공기 채널 (13)에서 상기 수송 가스 (G)가 수송 방향 (7)과 반대로 그리고 본질적으로 수송면 (6) 및 수송 방향 (7) 모두에 평행하게 안내되는 것을 특징으로 한다.

Description

배출 공기 시스템 및 이를 위한 방법 {Exhaust air system and method therefor}
서론
본 발명은 기판의 화학 인라인 처리의 상황에서 반응 가스로 충전된 개선된 공기 제거를 위한 기구 및 방법에 관한 것이다.
선행기술의 상태 및 불리한 점
선행기술의 상태로부터, 판형 대상체의 습식 화학 처리를 위한 인라인 플랜트는 공지되어 있다. 그와 같은 대상체는 예를 들면 반도체 및 태양전지 생산에서 사용되는 실리콘 기판이다. 어떤 공정 단계에 대해, 단지 그와 같은 기판의 단일면 습식 화학 처리가 바람직하다. 이 처리 동안에, 기판의 한 면에 대해서만 처리가 수행되고, 반면에 다른 면은 원래 상태로 남아 있을 것이다. 전형적으로, 그와 같은 처리는 습식 화학 플랜트에서 일어나고, 여기서 기판은 처리 액체를 통해, 또는 그 표면을 따라 수송된다.
다양한 방법은 단일면 습식 화학 처리에 대해 기술로부터 공지되어 있다.
제1 변형에 따라, 처리되어서는 안 되는 면은 (습식 화학) 공정 단계 전에 적용되어야 하고, 이 공정 단계 후에 다시 통상적으로 제거되어야 하는 보호 층으로 보호된다. 여기서, 보호 코팅 및 제거에 대한 추적인 노력은 불리한 점이다.
제2 변형에 따라, 처리되어서는 안 되는 면은, 예를 들면 진공 척(vacuum chuck)에 대항하여 그의 전체 표면에 의해, 또는 밀봉 립(lip)에 의해 형성될 수 있는 적어도 경계 영역에서 밀봉 반대 표면에 대항하여 남아 있다. 이와 같이, 처리 액체는 화학 공정 단계 동안에 기판의 미처리 면에 도달할 수 없다. 하찮지 않은 기술적 노력, 뿐만 아니라 종종 터치 민감성 기판 표면이 보호 반대 표면에 의하여 손상 또는 더렵혀질 수 있다는 사실은 불리한 점이다.
추가 변형에 따라, 처리되어야 하는 기판은 처리 액체의 표면을 따르는 방식으로 안내되고, 이로써 단지 그의 밑면, 및 임의로 그의 모서리가 처리 액체와 접촉하게 된다. 그와 같은 처리 방법은 예를 들면 문헌 EP 1 733 418에 개시되어 있다. 처리 액체를 통한 수송이 이렇게 주의 깊게 일어나는 한, 기판의 최상면은, 반대 표면에의 접촉에 대한 필요없이 미처리 상태로 남아 있다.
그러나, 문제는, 수송 방향에서 볼 때, 모난 기판의 뒤쪽 모서리에서 또는 원형 기판의 뒤쪽 영역에서, 결국 액체 표면에 떠오르도록, 습식 화학 처리 동안에 생기고 화학 반응으로부터 유래하는 가스 기포, 예컨대 기판의 밑면에서 모이는 질소 산화물 (NOX)에 있고, 여기서 이들이 폭발한다. 가스 기포의 폭발 시, 기판의 최상면 및 거기에 특히 후방으로 향하는 영역을 원하지 않는 방식으로 오염시키는 미세 소적이 형성될 수 있다. 따라서 처리 결과에 부정적으로 영향을 미친다. 또한, (보호되지 않은) 기판 최상면에 대해 이들 뿐만 아니라 임의로 이 면의 원하지 않는 변형이 또한 생길 수 있는 추가 반응 가스가 적용된다.
그 후에, 반응 가스는 처리 액체 및 기판의 위의 영역에서 모인다. 따라서, 그와 같은 인라인 플랜트는 전형적으로 반응 가스의 배출을 제공한다. 공지된 플랜트에서의 배출은, 전형적으로 보호 격자(grating)를 통해, 항상 수직 상향으로 직접적으로 일어한다. 반응 가스의 빠른 배출을 달성하기 위해, 배출은 대개 완전한 하중 하에서 작동한다. 그 결과, 배출의 파워의 추가 증가는 가능하지 않다. 보호 격자는 배출의 양적 수율을 추가로 감소시키는 추가 유체 저항을 나타낸다. 그러나, 유입 파워의 추가 증가는 경제적이지 못하고, 따라서 배출에도 불구하고, 원하지 않는 기체 반응 생산물의 농도는 높게 남아 있다. 그와 같은 배출에 관한 추가 문제는, 웨이브(wave)가 기판의 최상면이 습윤될 수 있는 처리 액체의 표면에서 형성할 수 있다는 사실에 있다. 더욱이, 위쪽을 향하는 너무 강한 흡입으로 기판을 들어 올릴 수 있는데, 이는 모든 상황에서 피해야 한다. 또한, 수직 흡입이 가스 기포의 폭발 동안에 기판의 최상면 상에 형성하는 액체의 소적을 던지는 것이 완전히 배제될 수는 없다.
본 발명의 목적 및 해결책
따라서 본 발명의 목적은, 발달 반응 가스의 배출 동안에 판형 대상체 예컨대 실리콘 기판의 단일면 습식 화학 처리를 허용하는 기구 및 방법에 있고, 폭발 가스 기포로 인한 최상면의 원하지 않는 습윤의 언급된 쟁점은, 이 면의 보호가 필요없이 회피된다. 이는 유입 파워의 추가 증가 없이 달성될 것이다.
본 발명은 또한, 불충분한 배출의 문제와 만나기 위해 단순하고 비용 효과적인 방식으로 존재하는 기구를 변형시키는 것이 적합할 것이다.
상기 목적은 주요 청구항에 따른 기구 뿐만 아니라 청구항 8에 따른 방법에 의해 해결된다. 추가 바람직한 구현예는 하위청구항, 설명, 뿐만 아니라 도면들로부터 취할 수 있다.
설명
이하에서, 먼저, 본 발명의 기반이 되는 기구가 기재된다. 그 후에, 그와 같은 기구에 의해 실시될 수 있는 본 발명에 따른 방법이 제공된다.
본 발명에 따른 기구는 판형 대상체의 단일면 습식 화학 처리를 위해 결국 제공되는 인라인 플랜트로부터 기체 반응 생산물의 제거를 위해 쓰인다. 기구는 입구; 예를 들면 에칭 또는 세정 액체인 처리 액체의 수용을 위한 처리조; 수송 라인을 따라 수송 방향으로 판형 대상체의 수평 수송을 위한 수송면을 갖는 인라인 수송 장치, 여기서 예를 들면 롤러, 벨트(belt), 밴드(band) 또는 로드(rod)는 수송 장치로서의 사항임; 처리될 대상체가 기구에 각각 들어가거나 나오는 출구; 뿐만 아니라 수송면 위에 마련된 기체 반응 생산물을 위한 수집 챔버를 포함한다. 수송 방향은 입구로부터 출구까지의 방향에 의해 정의된다. 전형적으로, 수집 챔버는 벽에 따르는 것의 측면에서, 및 천장에 의해 상향으로 한정된다. 본 발명에 따라, 기구는 배출 공기 채널의 형성시, 수집 챔버가, 수송 가스가 수송 방향과 반대로 배출 공기 채널을 통해 흐를 수 있는 방식으로 출구의 영역에서 유입 개구 및 입구의 영역에서 유출 개구를 제공하는 것을 특징으로 한다.
바꾸어 말하면, 기구는 수송 라인의 한 말단의 영역에서 유입 개구, 및 수송 라인의 다른 말단의 영역에서 유출 개구를 가지며, 이로써 새로운 공기 입구와 배출 공기 출구 사이에서 배출 공기 채널이 형성되는데, 그 채널은 수집 챔버를 포함하고 수평 방향으로 상기 언급된 수송 가스와 함께 일률적으로 흐를 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 기구는, 배출 공기, 즉 기체 반응 생산물로 충전된 수송가스가 수직 방향에서 제거되는 것이 아니라, 수송면과 평행하게 움직이는 적어도 하나의 흐름 구성요소를 갖는다는 점에서, 공지된 기구와 상이하다.
이렇게 형성된 가스 스트림은 본질적으로 수평으로, 즉 수송면과 평행하게, 및 더욱이 수송 방향과 평행하게 움직인다. 기판 표면을 오염시킬 수 있는 강한 흡입, 또는 웨이브의 생성에 의한 기판의 들어올림이 효과적으으로 회피된다. 유체 장애물이 새로운 공기 입구로부터 배출 공기 출구로의 길 위에 제공되지 않기 때문에, 수직적 작업 기구에 필요한 것보다 더 낮은 파워로도 충분하다.
오염을 피하는 효과는, 새로운 공기 입구가 출구의 영역에서 마련되고 배출 공기 출구는 입구의 영역에서 마련된다는 점에서 특별히 달성되고, 이로써 배출 공기 채널은 기구의 출구에서부터 입구로의 수송 가스에 의해 흐를 수 있다. 그 결과, 수송 가스를 통한 흐름은 수송 방향과 반대로 일어난다. 새로운 공기 입구 및 배출 공기 출구의, 본 발명에 따른 마련의 효과는, 기판의 뒤쪽 영역에서 생기고 거기에서 폭발하는 가스 기포로부터 생긴 상기 언급된 소적이 기판의 표면으로부터 떨어져서 수송된다는 것이다. 따라서, 소적의 미세 미스트(mist)는, 소적 생성 가스 기포가 상승하는 뒤쪽 모서리로부터 그 기판의 표면에 도달할 수 없다.
이전의 기판까지의 거리는, 이전 것의 뒤쪽 모서리에서 형성된 소적에 의해 뒤이은 기판을 오염을 피하기 위해 충분히 커야한다는 것을 명확하다.
유입 개구는 출구에 의해 형성되고/되거나, 유출 개구는 기구의 (기판-)입구에 의해 형성되는 것이 바람직하다. 이렇게 해서, 특히 기구의 간단한 제작이 달성된다.
대안적으로, 입구 및 출구의 영역에서 특별한 개구가 또한 제공될 수 있고, 이를 통해 수송 가스가 기구에 들어가고 떠난다. 그와 같은 개구는 예를 들면 입구 및/또는 출구 위에 측면으로 직접적으로 마련될 수 있다. 또한, 또 다른 위치에서 수송 가스를 흡입 또는 방출하는 파이프는, 입구 또는 출구 각각의 영역에서 일치한 위치에서 시작 또는 종료하는 한, 또한 가능하다.
수송 가스를 운반하기 위한 일치한 가스 운반 장치가 존재해야 하거나 기구에 기능적으로 할당되어야 하는 것은 명확하다. 따라서, 본 발명에 따른 기구가 배출 공기 채널의 영역에서 마련되고/되거나 그 채널에 유동가능하게 연결된 가스 운반 장치를 갖는 것이 바람직하다. 그와 같은 가스 운반 장치 중 몇 개가 존재할 수 있고, 그 장치는 본 발명에 따른 기구의 각각의 서브-세그먼트에 새로운 공기를 공급하거나, 또는 그 세그먼트 각각으로부터 배출 공기를 뽑아낸다는 것도 명확하다. 공급 및 배출 장치를 또한 조합할 수 있다. 장치(들)은 직접적으로 마련될 수 있고, 수집 챔버 (예를 들면 팬으로서), 또는 수송 가스는, 일시적으로, 그리고 본 발명에 따라 청구된 바와 같은 수평 흐름을 유의미하게 변화시키지 않고, 수직으로 또는 측면으로 되어 있는 파이프를 통해 안내되고, 따라서 이 파이프에서 가속된다.
특히 바람직한 구현예에 따라, 기구는 입구의 영역에서 마련되어 있는 흡입 벨(bell)을 갖는다. 흡입 벨은 배출 공기가 흡입되고 기구 외부로 운반되는 충분한 크기의 흡입 벨 개구를 갖는다. 특히 바람직하게는, 흡입 벨 개구는 배출 공기 채널의 영역에서 마련된다 (가스 상 내, 수평 흡입). 대안적으로, 배출 공기 채널 위에 위치한다 (가스 상 위, 수직 흡입).
또 다른 구현예에 따라, 기구는 수송 가스, 즉 새로운 및/또는 배출 공기의 유속에 영향을 주는 수단을 포함한다. 그와 같은 수단은 새로운 공기를 공급하고/하거나 배출 공기를 뽑아내는 구성요소의 횡단면을 변경시키는 댐퍼 플랩(damper flap)이고, 이로써 배출 공기의 흐름의 크기 및 가스 운반 장치의 파워 변화는 적당한 방식에서 영향을 받을 수 있다.
가스 운반 장치를 제어하기 위한 제어 유닛 또는 유속에 영향을 주는 수단 각각을 또한 포함하는 것은 그때 특히 바람직하다. 이렇게 해서, 유속의 변화는 또한 자동적으로 일어날 수 있다.
추가 구현예에 따라, 본 발명에 따른 기구는 수송 가스의 흐름의 수평 정렬을 위한 수단을 포함한다. 이는, 수직으로, 또는 측면으로부터 수집 챔버로 흐를 수 있는 수송 가스가 본 발명에 따라 청구된 흐름이 형성되는 방식으로 블라인드(blind), 배플(baffle) 또는 이들과 동일한 것에 의해 벗어날 수 있다는 것을 의미한다. 유사하게, 상기 언급은 수송 클래스 외부로의 흐름 또는 배출 공기 각각에 대해 또한 유효할 수 있다는 것은 명확하다.
특히 바람직하게는, 하나 또는 몇 개의 이탈 벨은 상기로부터 배출 공기 채널로 전형적으로 흐르는 새로운 공기의 이탈을 위해 존재하고, 상기 이탈 벨은 (기판-)출구의 영역에서, 즉 수송 라인의 말단에서 위치한다. 균질화의 이유로, 공기는 바람직하게는 관통된 천장 영역 (격자)으로부터 그와 같은 이탈 벨로 안내될 수 있다. 수송 가스는 결국 수평 방향 및 따라서 수송면 및 후자로 수송되는 판형 대상체에 평행하게, 뿐만 아니라 수송 방향과 반대로 이탈 벨을 떠난다.
특히 바람직하게는, 관통의 면적은 적어도 이탈 벨(들)의 개구(들)의 면적 만큼 크다. 이들 개구의 면적은 바람직하게는, 적어도 바람직하게 존재하는 흡입 벨의 상기 언급된 흡입 벨 개구의 면적 만큼 크다.
추가 구현예에 따라, 적어도 하나의 추가 유입 개구 및/또는 유출 개구는 수집 챔버의 영역에서 마련되어 있다. 이는, 본 발명에 따른 기구가 아주 길 때, 또는 수집 챔버가 상이한 처리 배쓰 및 따라서 세그먼트를 포함할 때, 항상 유익하다. 각각의 이들 입구 및/또는 출구가 별개의 가스 운반 장치에 연결되는 것이 특히 바람직하다. 이 방식으로, 수송 가스의 충분한 수송 속도는 극도로 강력한 가스 운반 수단의 제공 없이 항상 보장될 수 있거나, 인라인 플랜트의 상이한 세그먼트에서 발달된 상이한 반응 가스가 서로 혼합되지 않는 것을 보장할 수 있다. 또한, 상이하고 쉽게 변하는 유속 및 임의로 흐름 방향은, 가스 운반 수단이 부응하여 융통성 있게 제어가능한한 간단한 방식으로 생성될 수 있다.
특정 바람직한 구현예에 따라, 수송 가스는 공기이다. 당연히, 다른 가스도 각각의 적용에 따라 가능하다. 세정 또는 처리 가스도 상기에 포함된다.
더욱이, 배출 공기 채널의 1　m2 단면적에 대한 수송 가스의 바람직한 유량은 0.1 내지 5 m3/min, 특히 바람직하게는 0.1 내지 1 m3/min로 조정되고/되거나 수송 방향에 대항하여 (및 그 방향에 평행하게) 향하는 유속의 구성요소는 그 양이 수송면의 영역에서, 0.01 내지 5 m/s, 및 특히 바람직하게는 0.01 내지 1 m/s이다.
본 발명은 당해기술로부터 공지된 기구를 변환하기 위한 변환 키트의 제공을 위해 또한 쓰일 수 있다. 따라서, 그와 같은 변환 키트는 수직 통과를 위해 제공되고 최상부 방향으로 수집 챔버를 한정하는 원래의 배출 공기 개구를 폐쇄하기 위한 스톱 플레이트(stop plate), 뿐만 아니라 입구 또는 출구의 영역에서 마련된 새로운 공기 입구 및/또는 배출 공기 출구를 포함하고, 상기 새로운 공기 입구는 외부에의 유체 연결을 가지며, 배출 공기 출구는 가스 운반 장치에의 유제 연결을 갖는다. 바꾸어 말하면, 변환 키트는 수직 배출 공기 흡입을 갖는 통상적인 플랜트를 수평 흐름 통과를 갖는 본 발명에 따른 플랜트로 전환시키는데 필요한 모든 필수적인 구성요소를 제공한다. 바람직하게는, 새로운 공기 입구 뿐만 아니라 배출 공기 출구가 제공되며 전형적으로 이미 존재하는 가스 운반 장치의 상호연결은 수송 방향과 반대로 흐름 통과로 된다는 것은 명확하다. 추가의 상기 언급된 구성요소, 예컨대 특히 수송 가스의 흐름의 수평 정렬을 위한 수단이, 기재된 변환 키트에 의해 포함될 수 있다는 것은 또한 명학하다.
기재된 변환 키트의 바람직한 구현예에 따라, 배출 공기 출구 (및 이 플레이트 단독) 위에 마련된 스톱 플레이트는 상기에 위치된 원래의 배출 공기 개구에 대한 컷아웃(cutout)을 갖는다. 이 방식으로, 배출 공기가 수직 방향에서 (이 방향이긴 하지만) 배출 공기 챔버를 통해 인도되는 흐름 경로의 말단에서, 및 따라서 변환된 인라인 플랜트의 입구에서만 흡입된다는 것이 보장되고, 반면에 수집 챔버의 잔여 영역에서 오직 수평으로, 및 본 발명에 따라 청구된 바와 같이 흐를 수 있는 것은, 원래 존재하는 수직 개구가 잔여 스톱 플레이트에 의해 폐쇄되기 때문이다.
상기에서 언급된 바와 같이, 본 발명은 또한, 판형 대상체의 단일면 습식 화학 처리를 위한 인라인 플랜트로부터 기체 반응 생산물의 제거를위한 수송 가스 매개 방법에 관한 것이다.
따라서, 본 발명은, 상기에서 정의된 기구를 사용하여, 수송 가스에 의해 판형 대상체의 단일면 습식 화학 처리를 위한 인라인 플랜트로부터 기체 반응 생산물의 제거를 위한 방법에 관한 것이고, 상기 방법은 배출 공기 채널에서 상기 수송 가스는 수송 방향 및 본질적으로 수송면과 반대로 그리고 수송 방향 모두에 평행하게 안내되는 것을 특징으로 한다.
반복을 피하기 위해, 본 발명에 따른 기구에 관한 상기 설명을 참조한다.
기본적으로, 기체 반응 생산물의 제거를 위한 수송 가스의 흐름 방향은 수송 방향에 평행하게 움직이는 하나 또는 몇 개의 구성요소를 갖는다. 수집 챔버 내부 위치에서 흐름의 각 벡터는 하나 또는 몇 개의 이들 구성요소, 예를 들면 수직 구성요소, 수송 방향을 향하는 구성요소, 및 다른 2개의 구성요소 상에 수직으로 세워져 있는 측면으로 배향된 구성요소를 갖는다. 따라서, 상기 구성요소는 바람직하게는 인라인 플랜트의 일치한 주된 방향에 해당하는 직각 좌표 시스템의 축을 따라 이동한다. 이제, 본 발명에 따라, 수송면에 평행하게 및 수송 방향에 평행하게 이동하는 상기 구성요소는 제로(zero)일 수는 없고, 수송 방향과 반대로 이동해야 한다. 이는, 흐름이 수직 구성요소로 배타적으로 구성되는 것은 아니라는 것을 의미한다. 흐름이 세그먼트에 움직이는, 즉 입구로부터 출구까지 연속적이고 수송면에 평행인 경로를 가질 수 없는 경우에, 개별 또는 세그먼트 흐름의 각각의 구성요소는 일치한 방식으로 유사하게 배향되어야 한다. 후자는, 인라인 플랜트가, 서로로부터 별개로, 본 발명에 따른 흐름 구성요소를 각각 결과적으로 갖는 몇 개의 배출 공기 세그먼트를 포함한다면, 특히 그 경우이다. 하기에서, 달리 언급되지 않으면, 하나의 단일 배출 공기 채널의 존재는 간단함을 위한 것으로 추정된다.
바람직한 구현예에 따라, 수송 가스의 흐름 방향은 수송면에 평행하게 움직이는 그와 같은 구성 요소를 배타적으로 갖는다. 이는, 흐름은 배타적으로 수평 구성요소로 이루어진다는 것을 의미한다. 그와 같은 구성요소는 예를 들면 수송 방향, 즉 (수송 방향에서 볼 때)에 왼쪽으로부터 오른쪽으로, 및/또는 반대인 경우도 마찬가지로 대각선으로 움직일 수 있다.
다른, 특히 바람직한 구현예에 따라, 수송 가스의 흐름 방향은 수송 방향에 평행하게 움직이는 그와 같은 구성 요소를 배타적으로 추가로 갖는다. 이는, 흐름이 수송 방향으로 및/또는 그 방향과 반대로 움직으로 수평 구성요소로 배타적으로 이루어진다는 것을 의미한다.
수송면에 평행하게 움직이는 구성요소는 또한 수송 방향에 평행하게 강제적으로 움직여서는 안 된다는 것은 명확하다. 그러나, 반대로, 수송 방향에 평행하게 움직이는 구성요소는 또한 수송면에 평행하게 강제적으로 움직인다.
이들 구성요소가 수송면에 평행하게 움직일 뿐만 아니라, 가능한한 수송 방향에 평행하게, 즉 인라인 플랜트의 입구와 출구 사이에서 움직이는 것은 추가로 바람직하다.
(적어도 가장 가능하게는) 각각/모든 구성요소(들)은 각각, 출구로부터 입구로, 그리고 따라서 수송 방향과 반대로 배향된다는 것이 특히 바람직하다. 예를 들면 유입 개구 및/또는 유출 개구의 영역에서, 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서 건설적인 이유로 이 방향으로부터 벗어나야 된다는 것은 명확하다. 상기 향류에 관하여, 이것이 인라인 플랜트의 입구 영역에서 특히 문제가 되지 않는 것은, 여기서, 가스 기포가, 기판의 처리가 막 시작하기 때문인 것을 기대하는 것은 아니기 때문이다.
수송 가스가 적어도 하나의 가스 운반 장치에 의해 생성되고/되거나 (이 장치는 배출 공기 채널의 영역에서 마련되고/되거나 그 채널에 유동가능하게 연결됨), 및/또는 배향되는, 즉 수송 가스의 흐름의 수평 정렬을 위한 수단에 의해 벗어나는 흐름을 갖는 것은 또한 바람직하다. 이를 위해 사용되는 것이 바람직한 장치 및 수단은 상기에서 이미 기재되었기 때문에, 반복할 필요는 없다.
추가 구현예에 따라, 이탈의 정도 및 세기는 유속에 따른다. 이는, 저유속에 대해, 더 세고, 더 돌연한 이탈이 더 큰 반경 및 스트림선(streamlined) 형상과 함께 더 완만한 이탈을 필요로 하는 유속보다 더 높은 것이 가능하다는 것을 의미한다.
저유속은 그 범위가 0.01 내지 1 m/s이고, 반면에 높은 유속은 5 m/s 이상에 달할 수 있다.
추가 구현예에 따라, 배출 공기 채널에서 수송 가스의 흐름의 속도는 운반 by 수송 가스에 의해 운반되는 기체 반응 생산물의 농도에 따라 제어된다. 따라서, 저유속은 저농도에 충분하다. 이 방식으로, 각각의 상황에 대해 가장 경제적으로 반응할 수 있다. 바람직하게는, 배출 공기의 오염의 수준을 측정하고, 공기를 제어 유닛 또는 부응하여 제공된 댐퍼 플랩 각각에 통과시키는 일치한 센서가 제공되고, 이로써 유속의 요구사항 중심의 제어가 가능하게 된다.
하기에서, 본 발명은 도면에 의해 바람직한 구현예로 도식적으로 기재된다.
도 1은 선행기술의 상태에 따른 배출 공기 장치를 갖는 인라인 플랜트를 보여준다.
도 2는 본 발명에 따른 기구를 갖는 인라인 플랜트를 보여준다.
도 3은 본 발명에 따른 방법을 실시하는 동안 단일 판형 대상체의 영역에서 상황을 보여준다.
도 1에서 도시된 기구는 공지된 인라인 플랜트 (1)의 배출 공기 장치의 구조의 개략적인 도식 묘사를 제공한다. 플랜트는 처리 액체 (F)로 채워진 처리조 (4)로 이뤄어진다. 처리 액체 (F)의 표면에서, 본 명세서에서 기판으로 불리는 판형 대상체 (3)는 수송면 (6) 상을 따라 수송 방향 (7)으로 수형으로 안내된다. 이를 위해, 도시된 예에서, 다른 것 뒤에 하나가 충분히 가까이 마련된 다수의 롤러(큰 채원진 원으로서 도시됨)를 갖는 인라인 수송 장치 (5)가 사용된다. 기판 (3)은 처리 액체 (F)에 의해, 수직으로 정확하게 조정된 위치 때문에, 즉 그의 밑면에서 그 단일면만이 처리된다.
수집 챔버 (10)는 처리 액체 (F)로 채워진 처리조 (4) 위에 존재한다. 수집 챔버 (10)은 수집 챔버 (10) 위에 위치한 배출 공기 챔버로부터 격자에 의해 분리되어 있다. 기판 (3)은 입구 (8)을 통해 수집 챔버 (10)에 들어가고, 출구 (9)를 통해 떠난다. 수집 챔버 (10)은 기체 반응 생산물 (2) (작은, 채워지지 않은 원으로서 모든 도면에서 도시됨)의 수집을 위해 쓰인다. 이들 반응 생산물 (2)은 특히 기판 (3)의 밑면에서 화학 처리 동안에 형성되고, 처리 액체 (F)로부터 나오고, 기판 최상면의 원하지 않는 처리를 피하기 위해 수송되어야 한다. 이를 위해, 수송 가스 (G), 이 경우에 주위 공기는, 입구 (8) 및 출구 (9)를 통해 흡입된다. 수송 가스 (G)는 상방향에서 수집 챔버 (10)을 한정하는 격자를 통해 오는 중에 그 가스를 갖는 반응 생산물 (2)를 취한다. 수송 가스의 흐름 (G)는 두꺼운, 연속 화살표로 나타낸다. 반응 생산물 (2)의 흐름 경로의 일부는 얇은 구두점의 화살표로 나타낸다. 도 1로부터 유도될 수 있는 바와 같이, 이들 경로는 격자 방향으로 및 격자를 통해 처리 액체 (F)의 표면으로의 가장 짧은 방식으로 움직이지 않지만, 그 경로는 먼저, 격자에 충분히 가까울 때, 수집 챔버 (10)을 통해 미제어된 방식으로 이동한다. 그 이유는 수집 챔버 (10)의 중심 영역에서 수직 수송 가스의 흐름 (G)이 너무 낮기 때문이다. 따라서, 특히 중심 영역에서, 증가된 위험은 기체 반응 생산물 (2)에 의해 기판 최상면의 원하지 않는 처리의 존재이다. 더욱이, 형성 소적은, 반응 생산물 (2)이 처리 액체 (F)의 표면을 돌파할 때, 모든 방향에서 미제어된 방식이 떨어진다 (도시되지 않음). 따라서, 기판 표면의 오염의 위험이 또한 존재한다.
이들 문제는 도 2에 따른 본 발명에 따른 기구에 의해 효과적으로 피한다. 기구는 수송 라인의 하나의 말단의 영역 (출구 (9)에서 유입 개구 (11), 및 수송 라인의 다른 말단의 영역 (입구 (8)에서 유출 개구 (12)를 가지며, 이로써 배출 공기 채널 (13)은 유입 개구 (11)와 출구 개구 (12) 사이에서 형성되고, 그 채널은 수집 챔버 (10)를 포함하고, 그 채널을 통해 수송 가스 (G)는 수송 방향 (7)과 반대로 흐를 수 있다.
출구 (9)의 영역에서 수집 챔버 (10)로 흐르는 수송 가스 (G)가 최대로 가능하게 수직 구성요소를 갖지 않는 것을 보장하기 위해, 수송 가스의 흐름 (G)의 수평 정렬 (14)의 수단은 그 챔버에 존재하고, 이 경우에 그 수단은 배플 플레이트(baffle plate)로서 디자인된다.
배출 채널 (13)은 그의 말단 앞이 아니라, 이 경우에, 인라인 플랜트 (1)의 입구 (8) 의 영역에서 배열되는 유출 개구 (12)를 갖기 때문에, 수송 가스 (G)는 본질적으로 수집 챔버 (10)를 통해 수평으로 흐른다. 이 결과로부터 하기 이점을 갖는다.
스트림은 동일한 속도 및 세기로 수집 챔버 (10) 어디에든 흐른다. 이질적인 제거는, 공지된 플랜트의 경우에서와 같이, 기대되어서는 안 된다.
격자 등이 수송 가스의 흐름 (G)을 방해하지 않기 때문에, 가스 운반 장치 (도시되지 않음)는 따라서 더 작은 규모로 될 수 있거나, 또는 전형적으로, 주어진 크기를 위해, 파워 저장소를 갖는다.
스플래쉬(splash)에 의한 기판 최상면의 오염은 수송 방향 (7)과 반대로 움직이는 수송 가스의 흐름 (G) 때문에 피한다.
이는 도 3에서 보여진다. 수송 방향 (7)은 왼쪽에서 오른쪽으로 그림에서 움직이는 것은, 회전 화살표로 나타낸 바와 같이 인라인 수송 장치 (5)의 롤러가 시계방향으로 회전하기 때문이다. 기판 (3)의 수직 위치는, 단지 그의 밑면이 처리 액체 (F)와 접촉하도록, 정확하게 조정된다. 더욱이, 비교가능한 처리 결과는, (미도시된 변형에 따라) 처리 액체 (F)가 롤러 (5)에 의해 취해지고, 도에서 보여진 것 보다 약간 더 높이 위치한 기판 (3) 상에 "간접적으로" 옮겨질 때, 또한 달성가능하다.
본 발명에 따라 청구된 바와 같이, 수송 가스의 흐름 방향 (G)는 기체 반응 생산물 (2)의 제거를 위해, 수송 방향 (7)과 반대로 향하는 구성요소를 갖는다. 수송면 (6)에 평행하게 움직이는 그와 같은 구성요소를 더욱 본질적으로 갖는다. 새로운 공기 입구 (11), 뿐만 아니라 배출 공기 출구 (12)의 영역은 제외되고, 여기서, 흐름은 더욱, 구조적 이유로, 수직 구성요소를 또한 갖는다.
볼 수 있는 바와 같이, 기판 (3)의 밑면에서 축적되는 기체 반응 생산물 (2)은 (그림에서 왼쪽 상에) 그의 뒤쪽 모서리의 영역에서 상승한다. 두껍고 연속적으로 그려진 화살표로 나타낸 수송 가스의 흐름 (G) 때문에, 가스 기포의 폭박 동안에 형성된 스플래쉬는 기판 (3)의 뒤쪽 모서리 및 표면으로부터 (그림에서 왼쪽으로) 수송된다. 그 결과, 기판 최상면의 오염은 걱정할 필요없다. 본 발명에 따른 기구 및 방법은 당해기술로부터 공지된 기구 및 방법으로부터 이점에서 상당히 차이가 있다.
본 발명은 유익한 방식으로 기구 및 방법을 제공하고, 이는 발달 반응 가스를 배출하는 동안, 판형 대상체 예컨대 실리콘 기판의 단일면, 습식 화학 처리를 허용하고, 여기서 가스 기포의 폭발로 인한 최상면의 원하지 않는 습윤의 상기 언급된 문제는, 측면 보호의 필요 없이 피한다. 일 구현예는 간단하고 비용 효과적인 방식으로 본 기구의 변형을 허용한다.
1 인라인 플랜트
2 기체 반응 생산물
3 판형 대상체, 기판
4 처리조
5 인라인 수송 장치, 롤러
6 수송면
7 수송 방향
8 입구
9 출구
10 수집 챔버
11 새로운 공기 입구, 유입 개구
12 배출 공기 출구, 유출 개구
13 배출 공기 채널
14 수평 정렬을 위한 수단
F 처리 액체
G 수송 가스

Claims (11)

  1. 수송 가스 (G)에 의해 판형 대상체 (3)의 단일면 습식 화학 처리를 위한 인라인 플랜트 (1)로부터의 기체 반응 생산물 (2)의 제거용 기구로서,
    상기 기구는 입구 (8), 처리 액체 (F)의 수용을 위한 처리조 (4), 수송 방향 (7)으로 판형 대상체 (3)의 수평 수송을 위한 수송면 (6)을 갖는 인라인 수송 장치 (5), 출구 (9), 뿐만 아니라 수송면 (6) 위에 마련된 기체 반응 생산물 (2)를 위한 수집 챔버 (10)를 가지며, 상기 수집 챔버 (10)는, 배출 공기 채널 (13)의 형성 시에, 상기 수송 가스 (G)가 수송 방향 (7)과 반대일뿐만 아니라 수송면 (6) 및 수송 방향 (7)과 본질적으로 평행인 배출 공기 채널 (13)을 통해 흐를 수 있는 방식으로 출구 (9)의 영역에서 유입 개구 (11) 및 입구 (8)의 영역에서 유출 개구 (12)를 제공하는 것을 특징으로 하는 기구.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 유입 개구 (11)는 상기 출구 (9)에 의해 형성되고/되거나, 상기 유출 개구 (12)는 상기 기구의 입구 (8)에 의해 형성되는 기구.
  3. 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 배출 공기 채널 (13)의 영역에서 마련되고/되거나 그 채널에 유동가능하게 연결된 가스 운반 장치, 및/또는 상기 수송 가스 (G)의 유속에 영향을 주는 수단을 추가로 포함하는 기구.
  4. 청구항 3에 있어서, 상기 가스 운반 장치를 제어하기 위한 제어 유닛 및/또는 유속에 영향을 주는 수단을 추가로 포함하는 기구.
  5. 청구항 1 내지 4 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 수송 가스 (G)의 흐름의 수평 정렬 (14)을 위한 수단을 추가로 포함하는 기구.
  6. 청구항 1 내지 5 중 어느 하나의 항에 있어서, 적어도 하나의 추가 유입 개구 및/또는 유출 개구는 상기 수집 챔버 (10)의 영역에서 마련되는 기구.
  7. 청구항 1 내지 6 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 수송 가스 (G)는 공기이고/이거나, 상기 배출 공기 채널 (13)의 1　m2 단면적에 대한 유량은 0.1 내지 5 m3/min, 바람직하게는 0.1 내지 1 m3/min으로 조정되고/되거나, 수송 방향 (7)에 대항하여 향하는 유속의 구성요소는 그 양이 수송면 (6)의 영역에서 0.01 내지 5 m/s, 바람직하게는 0.01 내지 1 m/s인 기구.
  8. 청구항 1 내지 7 중 어느 하나의 항에서 마련된 기구를 사용하여, 수송 가스 (G)에 의해 판형 대상체 (3)의 단일면 습식 화학 처리를 위한 인라인 플랜트 (1)로부터의 기체 반응 생산물 (2)의 제거 방법으로서,
    배출 공기 채널 (13)에서의 상기 수송 가스 (G)는 수송 방향 (7)과 반대로 그리고 본질적으로 수송면 (6) 및 수송 방향 (7) 모두에 평행하게 안내되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 청구항 8에 있어서, 상기 기구는 입구 (8), 처리 액체 (F)의 수용을 위한 처리조 (4), 수송 방향 (7)으로 판형 대상체 (3)의 수평 수송을 위한 수송면 (6)을 갖는 인라인 수송 장치 (5), 출구 (9), 뿐만 아니라 수송면 (6) 위에 마련된 기체 반응 생산물 (2)를 위한 수집 챔버 (10)을 가지며, 상기 수집 챔버 (10)는, 배출 공기 채널 (13)의 형성 시에, 상기 출구 (9)의 영역에서 유입 개구 (11) 및 상기 입구 (8)의 영역에서 유출 개구 (12)를 갖는 방법.
  10. 청구항 8 또는 9에 있어서, 상기 수송 가스 (G)는 배출 공기 채널 (13)의 영역에서 마련되고/되거나 그 채널에 유동가능하게 연결된 적어도 하나의 가스 운반 장치에 의해 생성되고/되거나, 상기 수송 가스 (G)의 흐름의 수평 정렬 (14)을 위한 수단에 의해 벗어나는 흐름을 갖는 방법.
  11. 청구항 8 내지 10 중 어느 하나의 항에 있어서, 배출 공기 채널 (13)에서 상기 수송 가스 (G)의 흐름의 속도는 상기 수송 가스 (G)에 의해 운반된 기체 반응 생산물 (2)의 농도에 따라 제어되는 방법.
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