KR20120106147A - 포토마스크 세정 장치 - Google Patents

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KR20120106147A
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조정희
유성재
김형신
임성택
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삼성전자주식회사
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Abstract

포토마스크 세정 장치가 제안된다. 본 발명의 기술적 사상에 의한 포토마스크 세정 장치는, 포토마스크 척, 세정 아암 및 상기 세정 아암의 끝부분에 설치된 노즐 세트를 포함하고, 상기 노즐 세트는 적어도 두 개의 서로 인접하고 평행한 바(bar) 타입 모양의 제1 노즐 및 제2 노즐을 포함한다.

Description

포토마스크 세정 장치{Photomask cleaning apparatus}
본 발명은 포토마스크 세정 장치 및 그것을 이용한 포토마스크 세정 방법에 관한 것이다.
포토마스크 상에 형성된 광학적 패턴들을 보호하기 위하여, 포토마스크 상에는 펠리클이 장착된다. 펠리클을 제거한 후, 포토마스크 상에 잔존하는 펠리클 접착용 물질을 광학적 패턴에 손상을 주지 않고 안전하게 제거할 필요성이 대두되었다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 포토마스크 세정 공정 시, 특정 영역만을 세정할 수 있는 포토마스크 세정 장치를 제공함에 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는, 포토마스크 세정 공정 시, 특정 영역에 화학 약품이 접근하지 못하도록 하는 포토마스크 세정 장치를 제공함에 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는, 포토마스크 세정 공정 시, 세정액을 특정한 방향으로 흐르도록 하는 포토마스크 세정 장치를 제공함에 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는, 상기 포토마스크 세정 장치를 이용한 포토마스크 세정 방법을 제공함에 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당 업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 해결하고자 하는 과제들을 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상에 의한 포토마스크 세정 장치는, 포토마스크 척, 세정 아암 및 상기 세정 아암의 끝부분에 설치된 노즐 세트를 포함하고, 상기 노즐 세트는 적어도 두 개의 서로 인접하고 평행한 바(bar) 타입 모양의 제1 노즐 및 제2 노즐을 포함한다.
상기 해결하고자 하는 과제들을 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상에 의한 포토마스크 세정 장치는, 포토마스크 척, 세정 아암 및 상기 세정 아암의 끝부분에 설치된 노즐 세트를 포함하고, 상기 노즐 세트는 적어도 두 개의 서로 인접, 평행하고, 상기 포토마스크 척의 표면과 경사지게 설치된 액체 분사 노즐 및 에어 분사 노즐을 포함한다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제를 위한 본 발명의 기술적 사상에 의한 포토마스크 세정 장치를 이용한 포토마스크 세정 방법은, 오염된 부위에 제1 노즐로 세정액을 분사하고, 인접한 제2 노즐로 에어를 분사하여 세정액의 흐름을 특정 방향으로 강제하는 것을 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
상술한 바와 같이 본 발명의 기술적 사상에 의한 포토마스크 세정 장치는, 광학적 패턴 영역에 오염 또는 손상을 주지 않고 원하는 영역만을 세정할 수 있다. 따라서, 포토마스크의 수명이 연장되고, 화학 약품의 사용이 적어 공정 비용을 낮출 수 있고, 친환경적이다.
도 1은 본 발명의 기술적 사상의 제1 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치를 개략적으로 도시한 사시도이고, A 영역의 확대도 및 부분 절개도를 포함한다.
도 2는 본 발명의 기술적 사상의 제2 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 기술적 사상의 제3 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 4는 본 발명의 기술적 사상의 제4 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치를 개략적으로 도시한 사시도이고, B영역의 부분 확대도를 포함한다.
도 5a 및 5b는 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 의한 세정 아암과 노즐 세트의 결합 관계를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 6a 내지 8b는 본 발명의 기술적 사상의 다양한 실시예들에 의한 노즐 세트들의 모양을 개략적으로 도시한 사시도들이다.
도 9a 및 9b는 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치의 세정 아암들과 노즐 세트들의 응용 실시예들을 도시한 사시도들이다.
도 10a 및 10b는 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치의 응용 실시예를 도시한 사시도이다.
도 11a 내지 11c는 본 발명의 기술적 사상에 의한 포토마스크 세정 장치를 이용하여 포토마스크를 부분 세정하는 공정을 설명하기 위한 사시도 및 노즐 부분의 측면도들이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 도면에서 층 및 영역들의 크기 및 상대적인 크기는 설명의 명료성을 위해, 과장된 것일 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
본 명세서에서 기술하는 실 시예들은 본 발명의 이상적인 개략도인 평면도 및 단면도를 참고하여 설명될 것이다. 따라서, 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다. 따라서, 도면에서 예시된 영역들은 개략적인 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 소자의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이고, 발명의 범주를 제한하기 위한 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 기술적 사상의 제1 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치를 개략적으로 도시한 사시도이고, A 영역의 확대도 및 부분 절개도를 포함한다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 제1 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치(10a)는 포토마스크 척(11, photomask chuck), 세정 아암(30a, cleaning arm) 및 노즐 세트(50a, nozzle set)를 포함한다.
포토마스크 척(11)은 세정될 포토마스크가 위치(mount)될 구성 요소이며, 돌출한 네 개 이상의 핑거들(15, fingers)를 가질 수 있다. 핑거들(15)은 포토마스크를 지지 및 고정하기 위한 홈을 가질 수 있다. 포토 마스크 척(11)은 회전(spinable)할 수 있다.
세정 아암(30a)은 헤더 (25, header)와 연결 및/또는 고정될 수 있다. 세정 아암(30a)은 길이가 조절될 수 있다. 세정 아암(30a)은 SUS 같은 스테인레스 금속 또는 합금으로 제작될 수 있다. 세정 아암(30a)의 내부에는 노즐 세트(50a)에 액체 및 에어를 공급하기 위한 유체 공급 통로들(40a, fluid supplying paths)이 제공될 수 있다. 다른 말로, 유체 공급 통로들(40a)은 세정 아암(30a)의 내부에 삽입되거나 설치될 수 있다. 유체 공급 통로들(40a)은 제1 유체 공급 통로(41a) 및 제2 유체 공급 통로(43a)를 포함할 수 있고, 각각 서로 다른 유체를 전달, 공급할 수 있다. 유체 공급 통로들(40a)은 내부가 빈 형태일 수도 있고, 별도의 관(tube)이 설치된 것일 수도 있다. 예를 들어, 유체 공급 통로들(40a)은 테프론(tefron)으로 제작될 수 있다.
헤더(25)는 지지부(23, supporting part)로 지지될 수 있다. 지지부(23)는 상승, 하강 및 회전(rotatable)할 수 있다. 지지부(23)는 베이스부(21)와 연결 및/또는 고정될 수 있다.
노즐 세트(50a)는 세정 아암(30a)의 끝 부분에 설치될 수 있다. 노즐 세트(50a)는 적어도 두 개 이상의 노즐들(51a, 55a)을 포함할 수 있다. 노즐들(51a, 55a)은 제1 노즐(51a)과 제2 노즐(55a)을 포함할 수 있다. 제1 노즐(51a)은 포토마스크 상에 액체를 분사하는데 이용될 수 있고, 제2 노즐(55a)는 포토마스크 상에 에어를 분사하는데 이용될 수 있다. 제1 노즐(51a)과 제2 노즐(55a)의 외형들은 슬릿(slit)을 가진 바(bar) 타입 모양일 수 있다. 제1 노즐(51a)과 제2 노즐(55a)은 서로 인접하여 평행하게 설치될 수 있다. 제1 및 제2 노즐들(51a, 55a)은 세정 아암(30a)의 끝 부분에 장착될 수 있고, 유체를 원하는 각도로 분사할 수 있도록 조절될 수 있다. 노즐 세트(50a)는 세정 아암(30a)에 탈착이 가능하다. 제1 노즐(51a)과 제2 노즐(55a)들은 각각 제1 유체 공급 통로(41a) 및 제2 유체 공급 통로(43a)과 연결될 수 있다. 제1 및 제2 노즐들(51a, 55a)의 길이는 포토마스크의 패턴 영역의 한 변보다 길어야 한다. 따라서, 약 5 inches (127mm) 이상인 것이 좋다. 또한, 포토마스크의 한 변의 길이보다 과도하게 길 필요는 없다. 즉, 6 inches (152mm)를 과도하게 초과할 필요는 없다. 본 실시예에서는 예시적으로 약 15cm로 제작, 실험하였다. 제1 노즐(51a)보다 제2 노즐(55a)이 더 길 수 있다. 예를 들어, 액체를 분사하기 위한 노즐보다 에어를 분사하기 위한 노즐이 더 길 수 있다.
액체는 세정액을 포함할 수 있다. 예를 들어, 황산 수용액, 과산화 수소수, 암모니아수, 질산 수용액, 불산 수용액, 염산 수용액, 아세톤, 알코올, 솔벤트, 물 또는 기타 세정용 화학 약품을 포함할 수 있다. 에어는 질소, 산소, 이산화 탄소 또는 불활성 기체를 포함할 수 있다.
도 2는 본 발명의 기술적 사상의 제2 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 제2 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치(10b)는 포토마스크 척(11b, photomask chuck), 세정 아암(30b, cleaning arm), 노즐 세트(50b, nozzle set), 및 유체 공급부(45b)를 포함한다. 노즐 세트(50b)는 제1 노즐(51b)과 제2 노즐(3b)을 포함할 수 있다. 유체 공급부(45b)는 제1 유체 공급관(46b, first fluid supplying tube) 및 제2 유체 공급관(48b, second fluid supplying tube)을 포함할 수 있다. 제1 유체 공급관(46b)과 제2 유체 공급관(48b)은 서로 일체형 또는 분리형으로 다양하게 구성될 수 있다. 유체 공급부(45b)는 세정 아암(30b)과 결합될 수 있다. 예를 들어, 유체 공급부(45b)는 세정 아암(30b) 내에 삽입될 수도 있고, 외부에 고정될 수도 있다. 유체 공급부(45b)는 테프론으로 제작될 수 있다.
도 3은 본 발명의 기술적 사상의 제3 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 제3 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치(10c)는 포토마스크 척(11c), 세정 아암(30c), 및 노즐 세트(50c)를 포함하고, 세정 아암(30c)은 지지 아암(33c) 및 공급 아암(35c)을 포함한다. 지지 아암(33c) 및 공급 아암(35c)은 결합된 상태로 제공될 수 있다. 즉, 물리적/기계적으로 서로 분리될 수 있다. 지지 아암(33c)은 노즐 세트(50c) 및 공급 아암(35c)을 지지할 수 있다. 공급 아암(35c)은 제1 공급 아암(36c) 및 제2 공급 아암(38c)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 공급 아암(36c)은 액체를 공급하기 위한 통로를 제공할 수 있고, 제2 공급 아암(38c)은 에어를 공급하기 위한 통로를 제공할 수 있다. 공급 아암(35c)은 도 1을 참조하여 보다 상세하게 이해될 수 있을 것이다.
노즐 세트(50c)는 제1 노즐(51c) 및 제2 노즐(55c)을 포함할 수 있다. 제1 노즐(51c)은 지지 아암(33c)과 결합하여 지지될 수 있고, 제1 공급 아암(33c)와 연결되어 유체를 공급받을 있다. 제2 노즐(55c)은 지지 아암(33c)과 결합하여 지지될 수 있고, 제2 공급 아암(38c)과 연결되어 유체를 공급받을 수 있다. 예를 들어, 본 실시예에 의한 세정 아암(30c)을 구성하는 지지 아암(33c) 및 공급 아암(35c)은 별도로 제작되어 기계적으로 결합될 수 있다.
도 4는 본 발명의 기술적 사상의 제4 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치를 개략적으로 도시한 사시도이고, B영역의 부분 확대도를 포함한다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 제4 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치(10d)의 헤더(25)는 스윙부(27)를 더 포함할 수 있다. 스윙부(27)는 세정 아암(30d)을 화살표 방향으로 스윙시킬 수 있다. 헤더(25)는 세정 아암(30d)를 스윙시키기 위하여 내부에 베어링, 슬라이딩 부, 구동 기어, 및/또는 구동 벨트 등을 포함할 수 있다. 스윙부(27)의 스윙 각도는 좌우로 각각 45° 이하일 수 있다. 스윙 각도가 커지면 스윙부(27)의 구조가 복잡해진다. 따라서, 스윙 각도를 45° 이하로 설정함으로써, 포토마스크 세정 장치(10d)는 비교적 단순하게 제작될 수 있다.
도 5a 및 5b는 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 의한 세정 아암과 노즐 세트의 결합 관계를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 5a를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 세정 아암(130a)과 노즐 세트(150a)는 서로 결합 및 분리될 수 있다. 세정 아암(130a)은 내부에 유체 공급 통로(41e) 포함할 수 있고, 외부에 유체 공급구(61a) 및 제1 노즐 체결부(71a)를 포함할 수 있다. 유체 공급구(61a)는 유체 공급 통로(41e)로부터 노즐 세트(150a)로 유체를 전달할 수 있다. 제1 노즐 체결부(71a)는 세정 아암(130a)와 노즐 세트(150a를 기계적으로 체결하기 위한 것이다. 노즐 세트 체결부(71a)는 유동부, 예를 들어, 제1 기어(81a)가 포함할 수도 있다.
노즐 세트(150a)는 유체 수급구(63a)를 포함할 수 있다. 유체 수급구(63a)는 유체 공급구(61a)와 체결될 수 있다. 유체 수급구(63a)는 유체 공급구(61a)로부터 유체를 전달받아 노즐 세트(150a)로 전달할 수 있다.
노즐 세트(150a)는 제2 노즐 체결부(72a)를 포함할 수 있다. 제2 노즐 체결부(72a)는 제1 노즐 체결부(71a)와 기계적으로 체결될 수 있거나, 체결되는데 보조적인 역할을 할 수 있다. 도면에는 예시적으로, 제2 노즐 체결부(72a)가 제1 노즐 체결부(71a)의 내부로 삽입될 수 있다는 것이 도시되었다. 물론, 다른 방법으로, 제1 노즐 체결부(71a)와 제2 노즐 체결부(72a)는 볼트나 핀 등을 이용하여 체결될 수도 있다.
제2 기어(83a)가 제1 기어(81a)과 맞물릴 수 있다. 제1 기어(81a)와 제2 기어(83a)는 노즐 세트(150a)가 유체를 분사하는 범위 및 각도를 조절하기 위하여 사용될 수 있다. 제1 기어(81a)와 제2 기어(83a)는 경첩(hinge) 등으로 대체될 수도 있다. 즉, 체결 후, 체결 각도를 조절할 수 있는 다양한 체결 수단들이 적용될 수 있다.
노즐 세트(150a)는 외부 노즐(151a, outer nozzle) 및 내부 노즐(155a)을 포함할 수 있다. 외부 노즐(151a)은 슬릿(152a)을 가진 바(bar)형 중공(中空) 케이스 형태일 수 있다. 내부 노즐(155a)은 다수 개의 홀들을 가진 호스(hose) 또는 튜브(tube) 형태일 수 있다. 외부 노즐(151a)은 내부 노즐(155a)을 물리적 충격 또는 화학적 손상으로부터 보호하고, 유체의 분사 범위 및 형태를 정의할 수 있다. 내부 노즐(155a)은 외부 노즐(151a)의 내부에 위치하여 유체를 전달 또는 외부로 배출할 수 있다. 외부 노즐(151a) 및 내부 노즐(155a)은 테프론으로 제작될 수 있다. 응용 실시예에서, 외부 노즐(151a) 및 내부 노즐(155a)은 일체형으로 제작될 수 있다. 노즐 세트(150a)에 대한 보다 상세한 설명 및 다양한 실시예들이 후술될 것이다.
도 5b를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 세정 아암(130b)과 노즐 세트(150b)는 서로 결합 및 분리될 수 있다. 세정 아암(130b)은 지지 아암(131a), 제1 유체 공급 아암(131b), 및 제2 유체 공급 아암(131c)을 포함할 수 있다. 지지 아암(131a)은 노즐 세트(150b)와 결합되기 위한 제1 체결부(171a) 및 제1 기어(181a)를 포함할 수 있다. 제1 유체 공급 아암(131b)은 제1 유체 공급 통로(141a), 제1 유체 공급구(161a), 및/또는 제2 체결부(171b)를 포함할 수 있다. 제2 유체 공급 아암(131c)은 제2 유체 공급 통로(141b), 제2 유체 공급구(161b), 및/또는 제3 체결부(171c)를 포함할 수 있다.
노즐 세트(150b)는 제1 유체 노즐(151b) 및 제2 유체 노즐(152b)을 포함할 수 있다. 제1 유체 노즐(151b) 및 제2 유체 노즐(152b)은 각각 외부 케이스들(153b, 154b) 및 내부 튜브들(155b, 156b)을 포함할 수 있다. 노즐 세트(150b)는 제4 체결부(173a), 제5 체결부(173b), 제6 체결부(173c), 제1 유체 수급구(163a), 및/또는 제2 유체 수급구(163b)을 포함할 수 있다. 제2 유체 수급구(163a)에는 유체를 노즐로 전달하기 위한 보조 관(165)이 설치될 수 있다.
본 도면의 구성 요소들은 다른 도면의 유사한 참조 부호들을 참조하여 그 기능이 이해될 수 있을 것이다.
도 6a 내지 8b는 본 발명의 기술적 사상의 다양한 실시예들에 의한 노즐 세트들의 모양을 개략적으로 도시한 사시도들이다.
도 6a를 참조하면 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 노즐 세트(250a)는 외부 노즐(251a) 및 내부 노즐(255a)을 포함한다. 외부 노즐(251a)은 슬릿(252a)을 가진 케이스 모양일 수 있다. 슬릿(252a)은 두 개의 가이더(254a, guiders)로 구성될 수 있다. 가이더들(254a)는 유체의 분사 영역 및 분사 형태를 정의할 수 있다. 예를 들어, 가이더들(254a)는 슬릿(252a)을 구성하여, 내부 노즐(255a)으로부터 분사 또는 배출되는 유체가 직선 또는 바(bar) 모양으로 분사되도록 할 수 있다.
도 6b를 참조하면, 내부 노즐(255a)은 다수 개의 홀들(256a)을 포함한다. 홀들(256a)은 0.5 내지 2파이(φ) 정도의 크기로 형성될 수 있고, 약 1 내지 3mm의 간격으로 배열될 수 있다. 홀들(256a)은 일렬, 지그재그형, 격자형, 평행선형 등, 다양한 모양으로 형성될 수 있다.
도 7a를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 노즐 세트(250b)는 내부 공간(255b), 내부 파티션(257b, inner partition), 슬릿(252b) 및 가이더들(254b)을 포함한다. 내부 파티션(257b)은 다수 개의 홀을 가질 수 있다. 본 실시예에 의한 노즐 세트(250b)는 도 6a 및 6b의 노즐 세트(250a)의 외부 노즐(251a)과 내부 노즐(255a)이 일체형으로 제작된 것으로 이해할 수도 있다. 다른 경우로, 도 6a 및 6b를 참조하여, 외부 노즐(251a)의 내부에 내부 파티션(257b)이 설치되는 것으로 이해될 수도 있고, 내부 노즐(255a)의 외부에 슬릿(252b)을 정의하기 위한 가이더(254b)가 설치되는 것으로 이해될 수도 있다.
도 7b를 참조하면, 노즐 세트(250b)의 내부 파티션(257b)은 다수 개의 홀들(256b)을 포함할 수 있다. 홀들(256b)은 도 6b를 참조하여 더 상세히 이해될 수 있다.
도 8a를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 노즐 세트(250c)는 일체형 제1 노즐(257c) 및 제2 노즐(258c)을 포함한다. 제1 노즐(257c) 및 제2 노즐(258c)은 도 6a 및 6b를 참조하여 보다 상세하게 이해될 수 있을 것이다.
도 8b를 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 노즐 세트(250d)은 일체형 제1 노즐(257d) 및 제2 노즐(258d)을 포함한다. 제1 노즐(257d) 및 제2 노즐(258d)은 도 7a 및 7b를 참조하여 보다 상세하게 이해될 수 있을 것이다.
도 9a 및 9b는 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치의 세정 아암들과 노즐 세트들의 응용 실시예들을 도시한 사시도들이다.
도 9a를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치는 주 세정 아암(231M)으로부터 왼쪽에 배치된 좌측 세정 아암(231L) 및 오른쪽에 배치된 우측 세정 아암(231R)을 포함할 수 있다. 좌측 세정 아암(231L) 및 우측 세정 아암(231R)은 각각 2개 이상의 노즐 세트들(350L, 350R)을 포함할 수 있다. 노즐 세트들(350L, 350R)은 다른 도면들로부터 상세하게 이해될 수 있을 것이다. 본 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치는 동시에 두 영역들을 세정할 수 있다.
도 9b를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치는 주 세정 아암(231M)으로부터 왼쪽에 배치된 좌측 세정 아암(231L), 오른쪽에 배치된 우측 세정 아암(231L), 앞쪽에 배치된 전방 세정 아암(231F), 및 뒤쪽에 배치된 후방 세정 아암(231B)을 포함할 수 있다. 좌측 세정 아암(231L), 우측 세정 아암(231R), 전방 세정 아암(231F), 및 후방 세정 아암(231B)은 각각 2개 이상의 노즐 세트들(350L, 350R, 350F, 350B)을 포함할 수 있다. 노즐 세트들(350L, 350R, 350F, 350B)도 다른 도면들로부터 상세하게 이해될 수 있을 것이다. 본 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치는 동시에 네 영역들을 세정할 수 있다.
도 9a 및 9b에 설명된 포토마스크 세정 장치들의 기술적 사상들은, 도 1 내지 4에 도시된 실시예들에 의한 포토마스크 세정 장치들(10a-10d)의 기술적 사상들과 조합, 응용될 수 있다.
도 10a 및 10b는 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치의 응용 실시예를 도시한 사시도이다.
도 10a를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치의 노즐 세트는 프레임형태의 제1 노즐(450a)과 제2 노즐(450b)을 포함할 수 있다. 제1 노즐(450a)과 연결된 제1 세정 아암(431a) 및 제2 노즐(450b)과 연결된 제2 세정 아암(431b)을 포함할 수 있다. 제1 노즐(450a)은 제2 노즐(450b)보다 클 수 있다. 제2 노즐(450b)이 제1 노즐(450a)보다 낮게 위치할 필요는 없다.
본 실시예에 의한 노즐 세트들(450a, 450b)은 도 1 내지 4를 참조하여 설명된 기술적 사상들이 조합, 응용될 수 있다. 즉, 다양한 형태로 유체가 공급될 수 있다. 본 실시예에서, 제1 노즐(450a)은 액체를 분사할 수 있고, 제2 노즐(450b)은 에어를 분사할 수 있다.
도 10b를 참조하면, 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 의한 포토마스크 세정 장치의 노즐 세트는 프레임 형태의 일체형 노즐 세트(450c)을 포함할 수 있다. 일체형 노즐 세트(450c)는 둘 이상의 분사구를 포함하여 두 종류 이상의 유체를 동시에 분사할 수 있다. 일체형 노즐 세트(450c)는 도 5b, 8a 및 8b를 더 참조하여 이해될 수 있을 것이다. 일체형 노즐 세트(450c)은 일체형 또는 분리형 세정 아암(431c, 435a, 435b)으로 지지될 수 있다. 도면에는 두 개념을 모두 이해할 수 있도록, 일체형 세정 아암(431c) 및 분리형 세정 아암들(435a, 435b)이 모두 도시되었다. 분리형 세정 아암들(435a, 435b)는 하나가 지지용이고, 다른 하나가 유체 공급용이거나, 하나가 제1 유체를 공급하고 다른 하나가 제2 유체를 공급할 수 있다.
도 11a 내지 11c는 본 발명의 기술적 사상에 의한 포토마스크 세정 장치를 이용하여 포토마스크를 부분 세정하는 공정을 설명하기 위한 사시도 및 노즐 부분의 측면도들이다.
도 11a을 참조하면, 제1 유체(655)를 분사하는 제1 노즐(651) 및 제2 유체(656)을 분사하는 제2 노즐(652)을 갖는 노즐 세트(650)을 이용하여 포토마스크(600) 상의 오염 물질(640)을 제거한다. 오염 물질(640)은 예를 들어 펠리클을 제거한 후, 포토마스크 (600) 상에 남은 접착 물질(glue)일 수 있다. 포토마스크(600)는 광차단 층(610, opaque layer) 및 투명층(620 transparent layer)를 포함하고, 광학적 패턴 영역(PA)을 포함한다. 오염 물질(640)은 광학적 패턴 영역의 주변에 잔존할 수 있다.
도 11b를 참조하면, 포토마스크(600) 상에 잔존하는 오염 물질(640)에 제1 노즐(651)을 통하여 제1 유체(655)가 분사되고, 광학적 패턴 영역(PA)쪽에 위치한 제2 노즐(652)을 통하여 제2 유체(655)가 분사될 수 있다. 제1 유체(655)는 액체일 수 있고, 제2 유체는 에어일 수 있다. 따라서, 제1 노즐(651)로부터 분사된 제1 유체는 제2 유체의 기류에 밀려 광학적 패턴 영역(PA)의 반대 방향으로 흐른다. (655a, 화살표 참조) 따라서, 제1 유체(655)가 광학적 패턴 영역(PA)에 영향을 주지 않으므로, 광학적 패턴 영역(PA)에 2차 오염이 발생하는 것이 방지된다.
도 11b를 참조하면, 제1 노즐(651) 및 제2 노즐(652)이 포토마스크(600)의 표면과 각각 소정의 각도(θ)로 경사질 수 있다. 포토마스크(600)가 없을 경우, 지면 또는 포토마스크 척(11)과 경사지는 것으로 이해될 수 있다. 이에 의하여, 제1 유체(655)가 광학적 패턴 영역(PA)으로 유입되는 것이 효과적으로 방지될 수 있다. 또는, 제1 노즐(651)은 경사지지 않고, 제2 노즐(652)만 경사질 수도 있다. 물론, 반대로 제1 노즐(651)만 경사지고, 제2 노즐(652)은 경사지지 않을 수도 있다. 본 발명의 기술적 사상에서, 제1 노즐(651) 및 제2 노즐(652)이 각각 소정의 각도로 기울어질 수 있다는 것은 이미 설명되었다.
그 외, 도면에 참조 부호가 표시되지 않았거나, 참조 부호만 표시된 구성 요소들은 본 명세서의 다른 도면들 및 그 설명들로부터 그 이름과 기능 등이 쉽게 이해될 수 있을 것이다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 개략적으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해하여야 한다.
10a, 10b, 10c, 10d: 포토마스크 세정 장치
11: 포토마스크 척
15: 핑거
21: 베이스부
23: 지지부
25: 헤더
30: 세정 아암
40: 유체 공급 통로
50: 노즐 세트

Claims (10)

  1. 포토마스크 척,
    세정 아암 및 상기 세정 아암의 끝부분에 설치된 노즐 세트를 포함하고,
    상기 노즐 세트는 적어도 두 개의 서로 인접하고 평행한 바(bar) 타입 모양의 제1 노즐 및 제2 노즐을 포함하는 포토마스크 세정 장치.
  2. 제1항에서,
    상기 제1 노즐은 제1 외부 케이스 및 제1 내부 튜브를 포함하고, 및 상기 제2 노즐은 제2 외부 케이스 및 제2 내부 튜브를 포함하는 포토마스크 세정 장치.
  3. 제2항에서,
    상기 제1 외부 케이스는 제1 슬릿을 갖는 포토마스크 세정 장치.
  4. 제2항에서,
    상기 제1 내부 튜브 및 상기 제2 내부 튜브는 각각 다수 개의 홀을 포함하는 포토마스크 세정 장치.
  5. 제1항에서,
    상기 제2 노즐은 에어를 분사하는 포토마스크 세정 장치.
  6. 제1항에서,
    상기 노즐 세트에 유체를 공급하는 유체 공급 통로들을 더 포함하되,
    상기 유체 공급 통로들은 상기 제1 노즐과 연결된 제1 유체 공급 통로 및 상기 제2 노즐과 연결된 제2 유체 공급 통로를 포함하는 포토마스크 세정 장치.
  7. 제1항에서,
    상기 제1 노즐은 상기 포토마스크 척의 외곽 쪽에 위치하고, 상기 제2 노즐은 상기 포토마스크 척의 중앙 쪽에 위치하는 포토마스크 세정 장치.
  8. 제1항에서,
    상기 제2 노즐은 상기 포토마스크 척의 표면과 경사지게 배치되는 포토마스크 세정 장치.
  9. 포토마스크 척,
    세정 아암 및 상기 세정 아암의 끝부분에 설치된 노즐 세트를 포함하고,
    상기 노즐 세트는 적어도 두 개의 서로 인접, 평행하고, 상기 포토마스크 척의 표면과 경사지게 설치된 액체 분사 노즐 및 에어 분사 노즐을 포함하는 포토마스크 세정 장치.
  10. 제9항에서,
    상기 액체 분사 노즐 및 에어 분사 노즐은,
    각각 내부 튜브들 및 외부 케이스들을 포함하고,
    상기 내부 튜브들은 다수 개의 홀들을 포함하고, 및
    상기 외부 케이스들은 가이더들 및 상기 가이더들에 의하여 형성된 슬릿을 포함하는 포토마스크 세정 장치.
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