TW202301924A - 垂直設備 - Google Patents
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Abstract
本發明涉及如電路板等待處理件淸潔的技術領域,尤其涉及一種垂直設備,包括定位夾具、上料裝置、化學處理裝置、藥液供應裝置、清潔裝置、下料裝置及磁力傳輸裝置。所述上料裝置、化學處理裝置、清潔裝置及下料裝置順次設置。所述定位夾具用於對電路板進行夾持。所述磁力傳輸裝置用於帶動上料裝置、定位夾具及下料裝置運動。所述上料裝置將定位夾具通過磁力傳輸裝置移送至化學處理裝置處。所述化學處理裝置對定位夾具上的電路板進行化學處理後磁力傳輸裝置將定位夾具移至清潔裝置處。清潔裝置對電路板進行清潔後磁力傳輸裝置將定位夾具移至下料裝置處。下料裝置通過磁力傳輸裝置將定位夾具移出。所述藥液供應裝置用於供液。
Description
本發明涉及如電路板等待處理件淸潔的技術領域,尤其涉及一種垂直設備。
市面上的一些電路板加工處理裝置,僅具備單一的加工處理功能,無法靈活切換不同的工作模式,導致電路板需要在多個加工工位元上才能進行不同的製程處理,裝置的整體集成度較低,不利於提高產品的生產效率、良率。
因此,習知技術存在不足,需要改進。
為克服上述電路板加工處理裝置功能單一、自動化程度較低的技術問題,本發明提供了一種垂直設備。
本發明解決技術問題的方案是提供一種垂直設備,包括定位夾具、上料裝置、化學處理裝置、藥液供應裝置、清潔裝置、下料裝置及磁力傳輸裝置。所述上料裝置、化學處理裝置、清潔裝置及下料裝置順次設置。所述定位夾具用於對如電路板等待處理件進行夾持。所述磁力傳輸裝置用於帶動上料裝置、定位夾具及下料裝置運動。所述上料裝置將定位夾具通過磁力傳輸裝置移送至化學處理裝置處。所述化學處理裝置對定位夾具上的電路板進行化學處理後磁力傳輸裝置將定位夾具移至清潔裝置處。清潔裝置對電路板進行清潔後磁力傳輸裝置將定位夾具移至下料裝置處。下料裝置通過磁力傳輸裝置將定位夾具移出。所述藥液供應裝置用於供液。
較佳地,所述定位夾具包括框架、夾持部、上承載部及下承載部。所述上承載部與下承載部分別設置在框架的兩端。所述夾持部部分設置在上承載部上,部分設置在下承載部上。所述下承載部與框架滑動連接。
較佳地,所述定位夾具包括框架、夾持部、上承載部、下承載部及彈性件。所述上承載部與下承載部分別設置在框架的兩端。所述夾持部部分設置在上承載部上,部分設置在下承載部上。所述彈性件位於下承載部與框架之間並分別與下承載部及框架連接。所述下承載部與框架滑動連接。
較佳地,所述化學處理裝置包括上下運動元件及噴盤元件。所述上下運動元件與噴盤元件固定連接。所述噴盤元件與藥液供應裝置管路連通。所述噴盤元件在上下運動元件工作時被帶動進行上下運動。
較佳地,所述藥液供應裝置包括下槽及第一功能管道、第二功能管道。所述第一功能管道與第二功能管道分體設置。所述第一功能管道連通至下槽內。所述第二功能管道連通至下槽內。
較佳地,所述清潔裝置包括風切部。所述風切部包括第一風切組及第二風切組。所述第一風切組設置在第二風切組的正上方或前上方。
較佳地,所述磁力傳輸裝置包括磁力從動輪及磁力主動輪。所述磁力從動輪與磁力主動輪呈90°間隔設置。所述磁力主動輪在轉動時帶動磁力從動輪轉動。
較佳地,所述上下運動元件包括旋轉電機與偏心連接組。所述偏心連接組一部分與旋轉電機的輸出端固定連接,一部分與噴盤元件固定連接。
較佳地,所述定位夾具還包括至少設置有一個的配重。所述配重與下承載部固定連接。
較佳地,所述夾持部包括分別用於夾持電路板的第一夾持件與第二夾持件。所述第一夾持件可拆卸式設置在上承載部上。所述第二夾持件可拆卸式設置在下承載部上。
相對於習知技術,本發明的垂直設備具有如下優點:
本發明的垂直設備可對電路板在加工完成後進行一系列的製程處理,能夠有序地對電路板進行多道製程處理,使得整體集成化程度較高,自動化程度較高,有利於提高電路板的製程處理的良率、效率以及擴大企業的生產規模;同時可方便快捷地切換不同的製程處理模式,使得電路板在一裝置中便可進行多製程處理,有利於對電路板進行有規劃的製程處理。
為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖及實施實例,對本發明進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅用於解釋本發明,並不用於限定本發明。
請參閱圖1-圖16。本發明提供一種垂直設備10,用於對電路板等板件進行藥液處理、清潔處理等製程處理。垂直設備10包括定位夾具11、上料裝置13、化學處理裝置15、藥液供應裝置17、清潔裝置19、下料裝置21及磁力傳輸裝置23。其中,上料裝置13、化學處理裝置15、清潔裝置19及下料裝置21順次設置。定位夾具11用於對電路板進行夾持。磁力傳輸裝置23用於帶動上料裝置13、定位夾具11及下料裝置21運動。上料裝置13將定位夾具11通過磁力傳輸裝置23移送至化學處理裝置15處。化學處理裝置15對定位夾具11上的電路板進行化學處理後磁力傳輸裝置23將定位夾具11移至清潔裝置19處。清潔裝置19對電路板進行清潔後磁力傳輸裝置23將定位夾具11移至下料裝置21處。下料裝置21通過磁力傳輸裝置23將定位夾具11移出。所述藥液供應裝置17用於供液,具體可根據電路板的不同製程處理需要提供不同的藥液。
當該垂直設備10在使用時,上料裝置13將定位夾具11通過磁力傳輸裝置23移送至化學處理裝置15處;具體地,化學處理裝置15對電路板進行顯影、蝕銅、去膜等化學處理;當化學處理裝置15對電路板進行顯影處理時,藥液供應裝置17提供顯影藥水給化學處理裝置15;當化學處理裝置15對電路板進行蝕銅處理時,藥液供應裝置17提供蝕銅藥水給化學處理裝置15。在化學處理完成後,磁力傳輸裝置23將定位夾具11及其上的電路板運送至清潔裝置19處,清潔裝置19對電路板進行清潔以去除電路板上殘留的藥液。在清潔完成後,磁力傳輸裝置23將定位夾具11移至下料裝置21處,下料裝置21通過磁力傳輸裝置23將定位夾具11移出,以完成電路板的一次處理製程。
進一步地,定位夾具11包括框架111、夾持部112、上承載部113及下承載部114。上承載部113與下承載部114分別設置在框架111的兩端;其中,上承載部113與框架111固定連接,下承載部114與框架111滑動連接。夾持部112部分設置在上承載部113上,部分設置在下承載部114上。夾持部112及上承載部113、下承載部114的設置,可以較好地對電路板進行夾持,使得電路板的位置相對穩固,有利於電路板在後續的作業如檢測、噴塗藥液等的順利進行,也有利於防止對電路板因使用按壓固定等方式而導致外觀出現扭曲不平整、影響實際性能情形的產生。
進一步地,在上承載部113及下承載部114上開設有多個螺紋孔(圖未示),夾持部112通過與螺紋孔的連接實現與上承載部113及下承載部114的連接;具體地,工作人員可通過將夾持部112連接至不同螺紋孔實現夾持部112位置的排布設置,以實現夾持部112可以對多種不同形狀的電路板進行相對應的夾持。可以理解,對螺紋孔在上承載部113及下承載部114上開設的位置及開設的數目不做限制,具體可根據實際情形進行設置。
進一步地,框架111包括兩豎桿115及兩橫桿116。其中,兩豎桿115平行設置,兩橫桿116平行設置;兩豎桿115與兩橫桿116依次首尾固定連接。具體地,上承載部113固定在框架111的一端並分別與豎桿115、橫桿116固定連接,下承載部114的兩端分別與兩豎桿115滑動連接。
進一步地,夾持部112包括第一夾持件117與第二夾持件118。第一夾持件117可拆卸式設置在上承載部113上,第二夾持件118可拆卸式設置在下承載部114上。通過第一夾持件117與第二夾持件118分別對電路板的夾持實現對電路板的相對固定。
較佳地,第一夾持件117與第二夾持件118包括多個彈力夾119,對彈力夾119設置的數目及型號不做限定,其可根據實際進行設置,以實現對不同尺寸、厚度的電路板均可以較好地夾持。
進一步地,下承載部114包括固定部120及兩滑塊121,兩滑塊121固定設置在固定部120的兩端且分別與兩豎桿115匹配連接,滑塊121可在外力的作用下沿豎桿115運動實現下承載部114的運動,進而有利於下承載部114靠近電路板以對電路板進行夾持。可以理解,滑塊121可以連接在框架111的一側、兩側、三側或四側,對此不做限制,只要能實現滑塊121在豎桿115上並沿著豎桿115運動即可,所述滑塊121的運動範圍為豎桿115的一端到另一端。
作為本發明的第一變形實施例,第一變形實施例的元件以及元件之間的連接關係與第一實施例一致,兩者的區別僅在於第一變形實施例的定位夾具31還包括彈性件311。其中,彈性件311位於下承載部312與框架313之間並分別與下承載部312及框架313連接。彈性件311的設置可以對下承載部312進行拉伸,使得電路板在被夾持時得以或多或少的伸展,有利於保持電路板的表面平整及降低電路板因彎曲而導致性能下降的概率。較佳地,彈性件311為彈簧,包括但不限於此,其他可提供拉伸力如彈力柱等的物品亦可。
作為一些具體實施例,定位夾具11還包括至少設置有一個的配重122。配重122與下承載部114固定連接。配重122用於在第二夾持件118與電路板夾持後對依靠重力給電路板提供一定的拉力,有利於將或多或少存在一定彎曲幅度的電路板伸展開,有利於保持電路板的表面平整程度、利於降低電路板因彎曲而導致性能下降的概率,對配重122的數目不做限制,具體可根據實際進行設置。
進一步地,化學處理裝置15包括上下運動元件151及噴盤元件152。上下運動元件151與噴盤元件152固定連接;噴盤元件與藥液供應裝置17的管路連通。上下運動元件151在工作時帶動噴盤元件152進行上下運動,噴盤元件152將藥液供應裝置17提供的藥液噴出以對電路板進行製程處理。本發明的化學處理裝置15可以在工作時上下運動以進行更全面的噴液作業,有利於提升噴液的效果及合格率,噴液較為均勻,降低因噴液均勻而導致電路板報廢的概率,有利於節約噴液成本,有利於擴大企業生產效益。
進一步地,上下運動元件151包括旋轉電機153與偏心連接組154。偏心連接組154的一部分與旋轉電機153的輸出端固定連接,且一部分與噴盤元件152固定連接。旋轉電機153在通電後帶動偏心連接組154的部分上下運動,部分上下運動的偏心連接組154帶動噴盤元件152從動,進而實現噴盤元件152的上下運動,通過噴盤元件152上下運動可較為全面地對電路板進行噴液。
進一步地,噴盤元件152包括呈方形的固定框架155及多根噴射管156。多根噴射管156的兩端固定設置在固定框架155中。較佳地,噴射管156斜接在固定框架155上,相較於橫接在固定框架155上,斜接的噴射管156噴出的液體具有更佳的沖刷力度,更有利於進行清潔、保養等。
具體地,偏心連接組154包括圓形輪盤157、呈方形的傳動板158、導向件159及連接件160。在圓形輪盤157上開設有連接孔161;其中,連接孔161開設在圓形輪盤157的圓心與邊緣之間,也即連接孔161不開設在圓心處,在傳動板158上開設有橢圓軌道孔162,圓形輪盤157置於橢圓軌道孔162中,傳動板158位於導向件159內且運動方向被導向件159限制為噴盤元件152的上下運動方向,連接件160一端與傳動板158固定連接,一端與噴盤元件152固定連接。
其中,旋轉電機153的輸出端部分伸入連接孔161內並與連接孔161固定以實現與圓形輪盤157的固定連接,由於連接孔161的偏心設置,旋轉電機153在帶動圓形輪盤157轉動時可實現偏心轉動。
較佳地,橢圓軌道孔162在噴盤元件152上下運動方向上的尺寸與圓形輪盤157的直徑相匹配,如此,位於橢圓軌道孔162內的圓形輪盤157在上下運動時會對傳動板158產生上下作用力,使得傳動板158上下運動,進而實現傳動板158帶動噴盤元件152上下運動。
進一步地,導向件159包括兩固定架163、導向桿164及導向墊165。導向桿164通過導向墊165分別與兩固定架163固定連接,傳動板158位於導向桿164之間且尺寸與兩導向桿164之間的距離相匹配,具體為與兩導向桿164在傳動板158上下運動方向的垂直方向上的距離相匹配。導向桿164的設置使得傳動板158不會朝兩端導向桿164所在的方向運動,增加了結構的穩定性,降低因穩定性較差結構出現鬆動而損壞的概率。
較佳地,導向桿164在垂直於噴盤元件152的上下運動方向上的尺寸小於導向墊165的尺寸,且一導向桿164兩端的導向墊165之間的距離與傳動板158在垂直於噴盤元件152的上下運動方向上的尺寸相匹配,所述傳動板158部分位於一導向桿164兩端的導向墊165之間。如此,傳動板158的前後左右方向均因導向墊165及導向桿164的限制而無法運動,進一步增加了結構的穩定性,使得傳動板158僅能進行上下運動,可以更平穩地帶動噴盤元件152進行上下運動,也降低了噴盤元件152因傳動板158出現晃動而造成噴液混亂影響噴液效果的概率。
進一步地,固定框架155包括兩固定框架豎桿166與兩固定框架橫桿167,其中兩固定框架豎桿166平行設置,兩個固定框架橫桿167平行設置,且固定框架豎桿166與固定框架橫桿167依次首尾固定連接。噴射管156的兩端分別與兩固定框架豎桿166固定連接;噴射管156的傾斜角度,在本發明中即為與固定框架橫桿167的夾角為0-10°,具體夾角可根據實際需要進行設置。
進一步地,在噴射管156的一端均勻設置有多個噴嘴168,在噴射管156的另一端開設有進液孔169,外部盛液設備通過進液孔169輸入液體和/或液體與氣體,通過噴嘴168實現相應噴出液體和/或二流體。
較佳地,相鄰兩噴射管156上的噴嘴168交錯設置,如此,噴嘴168在上下運動時可對外界產品進行更均勻的噴液作業,有利於提高噴液效果及噴液品質,降低因噴液不均勻而導致電路板報廢的可能性,利於提高噴液作業的合格率。較佳地,噴嘴168的型號為錐形、扇形、喇叭形、鴨嘴型或二流體型,包括但不限於此,具體可根據實際需要進行設置;在本發明中,噴射管156設置有7根,包括但不限於此,具體可根據實際需要進行設置。
較佳地,噴嘴168的噴液角度與固定框架豎桿166的延伸方向上的夾角為15-30°,有利於對外界產品進行力度更佳的清潔效果及保養等。
進一步地,藥液供應裝置17包括下槽171、副槽172、第一功能管道173、第二功能管道174、控制部175、藥液回收裝置176及藥液過濾裝置177。下槽171與副槽172分體設置;第一功能管道173與第二功能管道174分體設置;第一功能管道173的一端連通至下槽171內,第二功能管道174的一端連通至下槽171內。藥液回收裝置176位於化學處理裝置15的下方;藥液過濾裝置177分別與藥液回收裝置176及副槽172管路連通;藥液回收裝置176及藥液過濾裝置177分別與控制部175電性連接。通過第一功能管道173及第二功能管道174向下槽171內注入藥液,無需工作人員搬運藥液,以提高在進行藥液供應及清潔作業時的自動化程度,有利於節省人工搬運的成本;當藥液為酸液或鹼液時,也降低了在人工搬運過程中因藥液漏出部分而對環境及人造成的不利影響,有利於環境保護及人身安全。
較佳地,第一功能管道173為加酸管道,第二功能管道174為加鹼管道,包括但不限於此,具體第一功能管道173與第二功能管道174的功能可根據所要實現的功能進行相應設置。
具體地,副槽172的整體尺寸比下槽171的整體尺寸大。副槽172用作藥液的儲蓄池並提供藥液給下槽171。下槽171用於提供藥液給化學處理裝置15。第一功能管道173的另一端及第二功能管道174的另一端分別與外部酸鹼提供裝置的管路連通以獲取酸液或鹼液。藥液回收裝置176用於回收化學處理裝置15噴射出並流下的藥液,以實現藥液的回收收集,降低藥液的浪費及對環境的污染。藥液過濾裝置177用於將藥液回收裝置176裡的藥液進行過濾並輸送至副槽172以使藥液的清潔程度符合產品的要求,降低產品被污染的可能性。
進一步地,藥液供應裝置17還包括預處理裝置178。預處理裝置178與副槽172連通。預處理裝置178與控制部175電性連通。預處理裝置178用於將副槽172內的藥液進行稀釋、混合或暫存等,有利於解決副槽172內藥液需要進行稀釋、混合、調溫以滿足下槽171中對藥液等需求。
進一步地,清潔裝置19包括底座191、第一框架板192、第二框架板193、水洗部194、緩衝區195、風切部196及烘乾部197。第一框架板192與第二框架板193平行設置。底座191位於第一框架板192與第二框架板193之間且分別與第一框架板192的一端及第二框架板193的一端固定連接。水洗部194、風切部196及烘乾部197依次設置且位於底座191、第一框架板192與第二框架板193所形成的整體之間,緩衝區195設置在水洗部194及風切部196之間,部分的風切部196設置在緩衝區195。清潔裝置19通過水洗部194先對定位夾具11及電路板進行水洗以將定位夾具11及電路板上絕大多數殘留的雜質沖刷掉,風切部196對定位夾具11及電路板進行吹風風乾及在風乾過程中將剩下的極少部分摻雜有雜質的水滴吹落以實現進一步的清潔及風乾,最後通過烘乾部197將定位夾具11及電路板上所剩不多的液體蒸發出去以保持乾燥程度,有效地實現了對電路板的清潔及烘乾,有利於提升電路板的性能及清潔程度。
該清潔裝置19除對定位夾具11及電路板進行清潔外,也可進行自我保養;即,通過水洗部194對水洗部194進行水洗作業,通過風切部196對風切部196進行吹風風乾及通過烘乾部197對烘乾部197進行烘乾作業,通過自我進行保養,有利於提升清潔裝置19的清潔程度及使用壽命。
較佳地,在第一框架板192上開設有視窗198。視窗198便於工作人員對清潔過程進行觀察。在視窗198上安裝有透明觀察件(圖未示),透明觀察件的設置使得在不影響觀察的情形下有效阻止水漬、氣體從窗口198處漏出。
進一步地,在底座191上開設有導槽199。導槽199與定位夾具11的一端相匹配,導槽199用於部分定位夾具11的置入及對定位夾具11的運行路線進行引導,便於定位夾具11及電路板順利完成清潔作業。
進一步地,水洗部194呈對稱結構且分別設置在底座191上靠近第一框架板192及第二框架板193的一端,如此,水洗部194可對外部設備的兩面進行水洗,提高了水洗效率及水洗的潔淨程度;風切部196呈對稱結構且分別設置在底座191上靠近第一框架板192及第二框架板193的一端,如此,風切部196可對外界設備的兩面進行吹風風乾作業,提高了風切的效率及風切品質;烘乾部197呈對稱結構且分別設置在底座191上靠近第一框架板192及第二框架板193的一端,如此,烘乾部197可對外界設備的兩面進行烘乾作業,提高了烘乾的效率及烘乾品質。
進一步地,水洗部194包括多個噴管組201。多個噴管組201呈對稱設置在底座191上。具體地,噴管組201包括第一噴管202與第二噴管203。第一噴管202設置在第二噴管203之間。水洗部194通過噴管組201連接外界水管實現噴水清潔作業。
較佳地,第一噴管202與第二噴管203為二流體型噴管、錐形噴管、扇形噴管、喇叭形噴管、鴨嘴型噴管中的任一種或多種。在本發明中,第一噴管202為二流體型噴管;第二噴管203為錐形噴管、扇形噴管、喇叭形噴管、鴨嘴型噴管中的任一種或多種。其中,錐形噴管為設置有錐形噴頭的噴管,扇形噴管為設置有扇形噴頭的噴管,喇叭形噴管為設置有喇叭形噴頭的噴管,鴨嘴型噴管為設置有鴨嘴型噴頭的噴管。由於二流體噴管的噴射範圍較窄,通過將第一噴管202設置在第二噴管203之間有利於提升清潔程度,降低因二流體噴管設置在最後而導致清潔不完全的可能性。
進一步地,風切部196包括第一風切組204及第二風切組205。第一風切組204設置在第二風切組205的正上方或設置在緩衝區195中且位於緩衝區195的頂端,即第二風切組205的前上方。第一風切組204的設置主要用於在緩衝區195內對定位夾具11的頂端處進行風切作業,有利於降低運送定位夾具11的頂端殘留水滴的概率,有利於降低定位夾具11的頂端被水漬腐蝕的概率,同時也降低電路板在被第二風切組205進行風吹風幹作業時位於電路板上方的定位夾具11滴落水滴至電路板上的可能性,也有利於降低電路板上殘留水滴的概率。
其中,第一風刀組和/或第二風切組205傾斜設置。在本發明中第二風切組205傾斜設置,如此,傾斜的第二風切組205出風方向結合重力作用,有利於提升吹水的效率。較佳地,第二風切組205與豎直方向之間的夾角為15-30°,包括但不限於此,第一風刀組和第二風切組205也可呈傾斜設置,或其中第一風刀組傾斜設置,如此,有利於提升第一風刀組吹水的效率,進一步降低位於產品上方的裝置的頂端處水滴殘留的概率,進一步降低運送產品的裝置的頂端被水漬腐蝕的概率。
進一步地,磁力傳輸裝置23包括磁力主動輪231與磁力從動輪232。磁力主動輪231與磁力從動輪232呈90°間隔設置,磁力主動輪231在轉動時帶動磁力從動輪232轉動。磁力主動輪231用於主動轉動並通過磁力作用提供給磁力從動輪232轉動的力,磁力從動輪232用於被動轉動以及帶動與之連接的定位夾具11運動以對電路板進行傳送。
進一步地,磁力從動輪232包括第一連接桿233、第一磁動件234及傳送件235。第一磁動件234與傳送件235呈圓環結構且均套設在第一連接桿233上。第一磁動件234與傳送件235相鄰設置。較佳地,第一磁動件234的材質為磁鐵或磁粉。較佳地,傳送件235為注塑件或PVC件,具有較佳的化學穩定性,包括但不限於此,其也可以為PVC件與橡膠的組合,在傳送運動時具有較佳的穩定性,傳送物品時不易晃動,具體可根據實際工作環境進行選取。較佳地,傳送件235為一體成型設置,包括但不限於此,其也可以為分體成型設置。
進一步地,磁力主動輪231包括第二連接桿236及第二磁動件237。第二磁動件237呈圓環結構且套設在第二連接桿236上。較佳地,第二磁動件237的材質為磁鐵或磁粉。其中,第一連接桿233與第二連接桿236呈90°設置。
在本發明中,為了防止第一磁動件234及第二磁動件237在工作時被外界水漬、泥漬等污漬的污染,在第一磁動件234的外表還塗覆有第一PVC保護層238,第一PVC保護層238具有較佳的化學穩定性,可有效防止外界的污染、腐蝕;在第二磁動件237的外表還塗覆有第二PVC保護層239,第二PVC保護層239具有較佳的化學穩定性,可有效防止外界的污染、腐蝕。
本發明的磁力從動輪232通過第一磁動件234在被帶動轉動時帶動傳送件235轉動,傳送件235的尺寸比第一連接桿233的尺寸大,通過傳送件235直接傳送物品,在物品傳送過程中具有較佳的穩定程度,傳送件235不會在工作時產生較大的振動,物品不會產生較大的晃動,有利於提高物品的加工精度,有利於保持物品在傳送過程中的穩定程度,提高能力的利用率。
進一步地,在第一磁動件234與傳送件235的周側開設有第一連接孔240。第一磁動件234與傳送件235通過頂絲穿過第一連接孔240實現與第一連接桿233的固定;進一步地,在第二磁動件237的周側開設有第二連接孔241。第二磁動件237通過頂絲穿過第二連介面實現與第二連接桿236的固定。
本發明的垂直設備可對電路板在加工完成後進行一系列的製程處理,能夠有序地對電路板進行多道製程處理,使得整體集成化程度較高,自動化程度較高,有利於提高電路板的製程處理的良率、效率以及擴大企業的生產規模;同時可方便快捷地切換不同的製程處理模式,使得電路板在一裝置中便可進行多製程處理,有利於對電路板進行有規劃的製程處理。
以上所述僅為本發明的較佳實施例,並非因此限制本發明的專利範圍,凡是在本發明的構思之內所作的任何修改,等同替換和改進等均應包含在本發明的專利保護範圍內。
10:垂直設備
11:定位夾具
111:框架
112:夾持部
113:上承載部
114:下承載部
115:豎桿
116:橫桿
117:第一夾持件
118:第二夾持件
119:彈力夾
120:固定部
121:滑塊
122:配重
13:上料裝置
15:化學處理裝置
151:上下運動組件
152:噴盤元件
153:旋轉電機
154:偏心連接組
155:固定框架
156:噴射管
157:圓形輪盤
158:傳動板
159:導向件
160:連接件
161:連接孔
162:橢圓軌道孔
163:固定架
164:導向桿
165:導向墊
166:固定框架豎桿
167:固定框架橫桿
168:噴嘴
169:進液孔
17:藥液供應裝置
171:下槽
172:副槽
173:第一功能管道
174:第二功能管道
175:控制部
176:藥液回收裝置
177:藥液過濾裝置
178:預處理裝置
19:清潔裝置
191:底座
192:第一框架板
193:第二框架板
194:水洗部
195:緩衝區
196:風切部
197:烘乾部
198:窗口
199:導槽
201:噴管組
202:第一噴管
203:第二噴管
204:第一風切組
205:第二風切組
21:下料裝置
23:磁力傳輸裝置
231:磁力主動輪
232:磁力從動輪
233:第一連接桿
234:第一磁動件
235:傳送件
236:第二連接桿
237:第二磁動件
238:第一PVC保護層
239:第二PVC保護層
240:第一連接孔
241:第二連接孔
31:定位夾具
311:彈性件
312:下承載部
313:框架
圖1是本發明垂直設備的立體結構示意圖。
圖2是本發明定位夾具的立體結構示意圖。
圖3是本發明定位夾具一變形的立體結構示意圖。
圖4是本發明化學處理裝置的立體結構示意圖。
圖5是本發明偏心連接組的立體結構示意圖。
圖6是本發明導向件的立體結構示意圖。
圖7是本發明噴盤元件的平面結構示意圖。
圖8是本發明噴盤元件的立體結構示意圖。
圖9是本發明藥液供應裝置的立體結構示意圖。
圖10是本發明藥液供應裝置的具體電路連接結構示意圖。
圖11是本發明清潔裝置的立體結構示意圖。
圖12是圖11中A處的放大圖。
圖13是圖11中B處的放大圖。
圖14是本發明磁力傳輸裝置一視角的立體結構示意圖。
圖15是本發明磁力主動輪的剖面結構示意圖。
圖16是本發明磁力從動輪除傳動件部分的剖面結構示意圖。
10:垂直設備
15:化學處理裝置
21:下料裝置
Claims (10)
- 一種垂直設備,用於對一待處理件進行一藥液處理、一清潔處理,其中:該垂直設備包括一定位夾具、一上料裝置、一化學處理裝置、一藥液供應裝置、一清潔裝置、一下料裝置及一磁力傳輸裝置,該上料裝置、該化學處理裝置、該清潔裝置及該下料裝置順次設置,該定位夾具用於對該待處理件進行夾持,該磁力傳輸裝置用於帶動該上料裝置、該定位夾具及該下料裝置運動,該上料裝置將該定位夾具通過該磁力傳輸裝置移送至該化學處理裝置處,該化學處理裝置對該定位夾具上的該待處理件進行化學處理後該磁力傳輸裝置將該定位夾具移至該清潔裝置處,該清潔裝置對該待處理件進行清潔後該磁力傳輸裝置將該定位夾具移至該下料裝置處,該下料裝置通過該磁力傳輸裝置將該定位夾具移出,該藥液供應裝置用於供液。
- 如請求項1所述的垂直設備,其中:該定位夾具包括一框架、一夾持部、一上承載部及一下承載部,該上承載部與該下承載部分別設置在該框架的兩端,該夾持部的部分設置在該上承載部上,且部分設置在該下承載部上,該下承載部與該框架滑動連接。
- 如請求項1所述的垂直設備,其中:該定位夾具包括一框架、一夾持部、一上承載部、一下承載部及一彈性件,該上承載部與該下承載部分別設置在該框架的兩端,該夾持部的部分設置在該上承載部上,且部分設置在該下承載部上,該彈性件位於該下承載部與該框架之間並分別與該下承載部及該框架連接,該下承載部與該框架滑動連接。
- 如請求項1所述的垂直設備,其中:該化學處理裝置包括一上下運動元件及一噴盤元件,該上下運動元件與該噴盤元件固定連接,該噴盤元件與該藥液供應裝置的管路連通,該噴盤元件在該上下運動元件工作時被帶動進行上下運動。
- 如請求項1所述的垂直設備,其中:該藥液供應裝置包括一下槽及一第一功能管道、一第二功能管道,該第一功能管道與該第二功能管道分體設置,該第一功能管道連通至該下槽內,該第二功能管道連通至該下槽內。
- 如請求項1所述的垂直設備,其中:該清潔裝置包括一風切部,該風切部包括一第一風切組及一第二風切組,該第一風切組設置在該第二風切組的正上方或前上方。
- 如請求項1所述的垂直設備,其中:該磁力傳輸裝置包括一磁力從動輪及一磁力主動輪,該磁力從動輪與該磁力主動輪呈90°間隔設置,該磁力主動輪在轉動時帶動該磁力從動輪轉動。
- 如請求項4所述的垂直設備,其中:該上下運動元件包括一旋轉電機與一偏心連接組,該偏心連接組的一部分與該旋轉電機的輸出端固定連接,且一部分與該噴盤元件固定連接。
- 如請求項2所述的垂直設備,其中:該定位夾具還包括至少設置有一個的配重,該配重與該下承載部固定連接。
- 如請求項2或3所述的垂直設備,其中:該夾持部包括分別用於夾持該待處理件的一第一夾持件與一第二夾持件,該第一夾持件可拆卸式設置在該上承載部上,該第二夾持件可拆卸式設置在該下承載部上。
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