CN103624029B - 一种涮洗灌装瓶系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种涮洗灌装瓶系统，包括旋转组件、涮洗组件、辅助轨道组件和动力组件，所述旋转组件包括转架轴、卡槽和卡槽固定板，所述卡槽固定板与所述转架轴相连接，所述转架轴与所述动力组件相连接；所述涮洗组件为无盖箱体结构，其上设置有卡口；所述辅助轨道组件包括支架和轨道，所述支架设置涮洗组件一侧的边缘，所述轨道的截面与所述卡槽的截面相同，并与所述卡槽相近设置；所述动力组件包括转架电机，所述转架电机设置于所述转架轴的一端。本发明能够达到有效提高灌装瓶瓶体清洗质量的目的。

Description

一种涮洗灌装瓶系统

技术领域

本发明涉及一种涮洗灌装瓶系统，属于灌装技术领域。

背景技术

在化学试剂等产品的生产灌装过程中，需要在灌装前先对玻璃瓶或者其它材质的瓶体进行清洗，以保证生产灌装质量。而液体药物对灌装瓶体的清洗要求更加严格，通过对灌装瓶优质的清洗，除保证了药体中无杂质出现外，还保证了液体药物药效的药体特点。

现有的洗瓶方法有多种，其中最常用的是链条式洗瓶装置。这种洗瓶装置一般包括进瓶区、瓶体清洗区和出瓶区三个区域。所述的瓶体清洗区由水槽、在其上安装有夹持瓶体的夹瓶器的瓶体输送链条、驱动所述瓶体输送链条移动的传动链轮，瓶体输送链条与传动链轮配合，随着传动链轮的转动，将需要清洗的瓶体同步输送水槽中。然后在瓶体输送链条外侧的机架上单独设置一组用于清洗瓶体的喷水嘴。使用时，通过喷水嘴先对瓶体外壁进行冲洗，然后由外向内对输送过程中的瓶体进行单束喷射水冲洗即类似于高压水枪喷洗。上述结构的洗瓶装置由于喷嘴是固定不动的，使得对瓶体的清洗效果不理想，一些细小的纤维丝或者杂质在冲洗后仍然存在于瓶体内，无法达到彻底清洗瓶体内部的目的。

发明内容

本部分的目的在于概述本发明的实施例的一些方面以及简要介绍一些较佳实施例。在本部分以及本申请的说明书摘要和发明名称中可能会做些简化或省略以避免使本部分、说明书摘要和发明名称的目的模糊，而这种简化或省略不能用于限制本发明的范围。

鉴于上述和/或现有涮洗灌装瓶系统中存在的问题，提出了本发明。

因此，本发明的一个目的是提供一种能够有效提高灌装瓶瓶体清洗质量的全自动涮洗灌装瓶系统。

为解决上述技术问题，本发明提供了如下技术方案：一种涮洗灌装瓶系统，包括，旋转组件、涮洗组件、辅助轨道组件和动力组件，所述旋转组件包括转架轴、卡槽和卡槽固定板，所述卡槽固定板与所述转架轴相连接，所述转架轴与所述动力组件相连接；所述涮洗组件为无盖箱体结构，其上设置有卡口，所述转架轴穿过所述卡口，将所述旋转组件架设于所述涮洗组件上，所述涮洗组件包括消毒箱、清洗箱和沥水烘干箱，所述消毒箱和清洗箱的两侧相对设置有搅拌叶轮，所述消毒箱的不同于设置有所述搅拌叶轮的一侧设置有超声波发生器，所述卡槽卡住灌装瓶深入至所述涮洗组件的箱体内且灌装瓶距离箱体底部距离为箱体高度的2/15～4/15，所述搅拌叶轮中心距离箱体底部的距离为所述超声波发生器中心距离箱体底部的距离的6/13～9/13；所述辅助轨道组件包括支架和轨道，所述支架设置涮洗组件一侧的边缘，所述轨道的截面与所述卡槽的截面相同，并与所述卡槽相近设置；所述动力组件包括转架电机，所述转架电机设置于所述转架轴的一端。

作为本发明所述涮洗灌装瓶系统的一种优选方案，其中：所述涮洗组件包括消毒箱、清洗箱和沥水烘干箱，所述消毒箱两个侧面分别对应设有进液口和出液口，所述清洗箱两个侧面分别对应设有进液口和出液口，所述沥水烘干箱的侧面上设有出液口和烘干机。

作为本发明所述涮洗灌装瓶系统的一种优选方案，其中：所述卡槽其截面为E型，且卡槽截面两侧设有软性卡条，所述软性卡条能够卡住灌装瓶防止灌装瓶掉下。

作为本发明所述涮洗灌装瓶系统的一种优选方案，其中：所述轨道与所述卡槽底部相贯通。

本发明的有益效果：

（1）本发明能够达到有效提高灌装瓶瓶体清洗质量的目的；

（2）由于本发明设置有辅助轨道组件，使得灌装瓶能够通过连续挤压推进的方式进行更换。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。其中：

图1为本发明一个实施例中所述一种涮洗灌装瓶系统的主体示意图；

图2为本发明图1所示一个实施例中所述涮洗灌装瓶系统的俯视示意图；

图3为本发明图1所示一个实施例中所述动力组件连接所述旋转组件示意图；

图4为本发明图1所示一个实施例中所述烘干机的主体示意图；

图5为本发明图1所示一个实施例中所述涮洗灌装瓶系统的拆分示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合具体实施例对本发明的具体实施方式做详细的说明。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

其次，此处所称的“一个实施例”或“实施例”是指可包含于本发明至少一个实现方式中的特定特征、结构或特性。在本说明书中不同地方出现的“在一个实施例中”并非均指同一个实施例，也不是单独的或选择性的与其他实施例互相排斥的实施例。

如图1～图5所示，其示出了一种涮洗灌装瓶系统的一个实施例中的主体示意图。其中，所述的涮洗灌装瓶系统包括：旋转组件1、涮洗组件2、辅助轨道组件3和动力组件4，在该实施例中，涮洗灌装瓶系统当然还包括了控制电路，用以对整个涮洗灌装瓶系统的运行控制。

在图1中所示的实施例，一种涮洗灌装瓶系统，包括旋转组件1、涮洗组件2、辅助轨道组件3和动力组件4，旋转组件1为三组，动力组件4包括转架电机41和固定在电机轴上的转架轴11，每组旋转组件1都包括了转架轴11、E型的卡槽12以及卡槽固定板13，若干个卡槽固定板13呈放射状均布阵列安装在转架轴11上，每个卡槽固定板13另一端都安装有卡槽12，涮洗组件2为三组无盖箱体，三组无盖箱体依次设置在三组旋转组件1下，转架电机41设置在涮洗组件2一侧上部，转架电机41一端设置有转轴42，转架轴11平行贯穿三组无盖箱体，两个卡槽12之间设有一个辅助轨道组件3，辅助轨道组件3截面形状和卡槽12截面相同。

涮洗组件2三组无盖箱体分别为消毒箱21、清洗箱22和沥水烘干箱23，消毒箱21侧面上设有进液口211、出液口212、搅拌叶轮24和超声波发生器213，清洗箱22侧面上设有进液口221、出液口222和搅拌叶轮24，搅拌叶轮24连接有叶轮电机25，叶轮电机25能够驱动搅拌叶轮24进行旋转搅拌；沥水烘干箱23侧面上设有出液口231和烘干机232，烘干机26由外壳233、烘干风扇234和电热丝235组成。

旋转组件1的三组盖瓶旋转架依次架设在消毒箱21、清洗箱22和沥水烘干箱23上，下半部在箱体内，卡槽12设有瓶槽121和盖槽122，瓶槽121和盖槽122上下被限位，中部通槽结构，通槽两端设有软性卡条123。

辅助轨道组件3设有支架31和轨道32，辅助轨道与三组盖瓶旋转架11最上端的卡槽12形成一条完成的通道。

涮洗组件2上设置有卡口20，所述转架轴11穿过所述卡口20，将所述旋转组件1架设于所述涮洗组件2上。

一组灌装瓶和灌装瓶瓶盖被外力推入卡槽12的瓶槽121和盖槽122，受软性卡条123作用，在旋转组件1旋转倒立过程中灌装瓶和盖子不会掉落，每推进来一组灌装瓶，旋转组件1就旋转一定角度，将下一组卡槽12对准辅助轨道组件3，依次类推，灌装瓶和盖子依次充满三组盖瓶旋转架11，经过辅助轨道组件3，最终清洁干燥完毕，消毒箱21的进液口211进的是带有清洁剂和消毒剂的液体，辅助以搅拌叶轮24和超声波发生器213，对灌装瓶和盖子彻底清洁和消毒，清洗箱22的液体是纯净水，沥水烘干箱23烘干灌装瓶。

经反复实验证明，卡槽12卡住灌装瓶深入至所述涮洗组件2的箱体内且灌装瓶距离箱体底部距离为箱体高度的2/15～4/15，所述消毒箱21的不同于设置有所述搅拌叶轮24的一侧设置有超声波发生器213时（即超声波发生器213与搅拌叶轮24相交叉发生作用），且搅拌叶轮24中心距离箱体底部的距离为所述超声波发生器213中心距离箱体底部的距离的6/13～9/13时，清洗效果最好。

进一步深入分析原因为：所述超声波发生器213利用超声波照射具有一定溶解浓度的溶液，使得溶液中的微气核空化泡在声波的作用下振动，当声压达到一定值时发生的生长和崩溃，以完成对工件的清洗，其中，当搅拌叶轮24中心距离箱体底部的距离为所述超声波发生器213中心距离箱体底部的距离的6/13～9/13时，搅拌叶轮24的搅拌使得箱体内清洁液体产生多个直径在0.2mm～0.7mm的小气泡，而加入超声波发生器213的交叉相对作用，使得将溶液中0.2mm～0.7mm的气泡“击碎”，从而产生复数个直径为100μm～500μm的微小气泡，超声波作用于液体中时，液体中每个气泡的破裂瞬间会产生能量极大的冲击波，相当于瞬间产生几百度的高温和高达上千个大气压，这种现象被称之为“空化作用”，在这种被称之为“空化”效应的过程中，气泡闭合可形成超过1000个气压的瞬间高压，连续不断地产生瞬间高压就象一连串小“爆炸”不断地冲击灌装瓶表面，使灌装瓶的表面及其缝隙中的污垢迅速剥落，从而达到对灌装瓶进行清洗净化的目的，而灌装瓶深入至所述涮洗组件2的箱体内且灌装瓶距离箱体底部距离为箱体高度的2/15～4/15时，正处于“爆炸”中心，清洗效果最好。

一、采用该涮洗灌装瓶系统的实际测试对比：本次实验选取了未清洗的特定灌装瓶（件号为D200）20个，编号1～10采用了普通清洗（即单纯用超声波发生器进行的清洗）的检测流程；编号11～20在普通清洗流程的基础上利用搅拌叶轮原理（即超声波和搅拌清洗）对产品进行了深度的清洗。

二、实验结果：

三、实验结果分析：

（1）杂质总量分析：

①检验结果可知普通清洗（编号1-10）的杂质总量的平均值为2.68mg

②超声波和搅拌清洗（编号11-20）的杂质总量的平均值为4.43mg

分析：普通清洗的杂质平均重量2.68mg<超声波和搅拌清洗的杂质平均重量4.43mg，且超声波和搅拌清洗杂质的平均重量比普通清洗杂质的平均重量高出65.3%。

（2）最大颗粒度检测分析：

①普通清洗（编号1-10）的最大颗粒度平均值为505.91um

②超声波深度清洗（编号11-20）的最大颗粒度的平均值为705.02um

分析：使用超声波发生器进行深度清洁后，检测的最大颗粒值比普通清洗最大颗粒值平均提高39.4%。

（3）颗粒度检测分析：

A.0/200um颗粒数分析

①普通清洗（编号1-10）测得0/200um颗粒的平均数为2.2个

②超声波和搅拌清洗（编号11-20）测得0/200um颗粒的平均数为14.9个

分析：超声波和搅拌清洗比普通清洗0/200um颗粒的平均个数高出577%。

B.201/300um颗粒数分析：

①普通清洗（编号1-10）测得201/300um颗粒的平均数为2.6个

②超声波和搅拌清洗（编号11-20）测得201/300um颗粒的平均数为7.5个

分析：超声波和搅拌清洗比普通清洗201/300um颗粒的平均个数高出188%。

C.301/400um颗粒数分析：

①普通清洗（编号1-10）测得301/400um颗粒的平均数为1.8个

②超声波和搅拌清洗（编号11-20）测得301/400um颗粒的平均数为4.7个

分析：超声波和搅拌清洗比普通清洗301/400um颗粒的平均个数高出161%。

D.400um以上颗粒数分析：

①普通清洗（编号1-10）测得400um颗粒以上的平均数为1.2个

②超声波和搅拌清洗（编号11-20）测得400um颗粒以上的平均数为2.3个

分析：超声波和搅拌清洗比普通清洗400um以上的颗粒平均个数高出91%。

四、结论：通过实验数据的前后对比可知，利用超声波发生器213和搅拌叶轮24的特定设置，对传统清洁方式进行改良，能够最大程度地清除杂质，更加精确地检测出灌装瓶含杂质的总量，及各个范围间的颗粒个数，确保了清洁的质量。

应说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

Claims (4)

1.一种涮洗灌装瓶系统，其特征在于：包括，旋转组件、涮洗组件、辅助轨道组件和动力组件，

所述旋转组件包括转架轴、卡槽和卡槽固定板，所述卡槽固定板与所述转架轴相连接，所述转架轴与所述动力组件相连接；

所述涮洗组件为无盖箱体结构，其上设置有卡口，所述转架轴穿过所述卡口，将所述旋转组件架设于所述涮洗组件上，所述涮洗组件包括消毒箱、清洗箱和沥水烘干箱，消毒箱和清洗箱的两侧相对设置有搅拌叶轮，所述消毒箱的不同于设置有所述搅拌叶轮的一侧设置有超声波发生器，所述卡槽卡住灌装瓶深入至所述涮洗组件的箱体内且灌装瓶距离箱体底部距离为箱体高度的2/15～4/15，所述搅拌叶轮中心距离箱体底部的距离为所述超声波发生器中心距离箱体底部的距离的6/13～9/13；

所述辅助轨道组件包括支架和轨道，所述支架设置涮洗组件一侧的边缘，所述轨道的截面与所述卡槽的截面相同，并与所述卡槽相近设置；

所述动力组件包括转架电机，所述转架电机设置于所述转架轴的一端。

2.根据权利要求1所述的涮洗灌装瓶系统，其特征在于：所述涮洗组件包括消毒箱、清洗箱和沥水烘干箱，所述消毒箱两个侧面分别对应设有进液口和出液口，所述清洗箱两个侧面分别对应设有进液口和出液口，所述沥水烘干箱的侧面上设有出液口和烘干机。

3.根据权利要求1所述的涮洗灌装瓶系统，其特征在于：所述卡槽其截面为E型，且卡槽截面两侧设有软性卡条，所述软性卡条能够卡住灌装瓶防止灌装瓶掉下。

4.根据权利要求1所述的涮洗灌装瓶系统，其特征在于：所述轨道与所述卡槽底部相贯通。