KR20120085712A - 여과재 세정 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명의 목적은 액체 정화를 위해 여과재를 세정하는 여과재 세정 장치의 내구성을 개선하기 위한 것이다.
세정 장치(1)는 직립 외부 실린더(2); 회전할 수 있게 외부 실린더 내에 제공되고 여과재가 세척되는 동안 외부 실린더(2)의 하부 끝에 있는 인렛(36)을 통해 유입된 여과재를 외부 실린더(2)의 상부 끝에 있는 아웃렛으로 위로 나르기 위한 나선 블레이드(18)를 갖춘 스크류 컨베이어(4); 스크류 컨베이어(4)를 순환적으로 구동하는 드라이브 섹션(6); 드라이브 섹션(6)의 회전을 제어하는 컨트롤 섹션(30); 외부 실린더(2)로 여과재를 유입하는 유입 파이프(38) 및 세척된 여과재를 외부 실린더(2) 내에서 여과 탱크로 배출하는 배출 파이프(61)가 갖춰진다. 여과재의 상향 움직임을 조절하는 조절 블레이드(19)는 스크류 컨베이어와 동일한 축을 갖는 아웃렛 위에 및 중앙 샤프트(20)의 주변 근처에 제공된다. 세정 액체 유입 구멍(70)은 외부 실린더 내에서 조절 블레이드(19) 위에 제공된다.

Description

여과재 세정 장치{FILTRATION MEDIA CLEANSING APPARATUS}

본 발명은 여과재 세정 장치에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 물과 같은 액체에서 오염물질들을 여과하기 위해 여과재를 이용하는 여과장치의 외부에 제공되고 적용되는 여과재 세정 장치에 관한 것이다.

만약 여과 장치가 오랜 시간 이용된다면, 여과장치의 여과 탱크들 내의 여과재는 물과 같은 여과되는 액체 내의 부유물질 때문에 막히게 된다. 이것은 효율적인 여과의 수행을 막고 여과된 물의 질을 나쁘게 한다. 이런 이유로, 막힘은 오염물질들의 제거로 인해 제거되며, 오염물질들은 여과지에 부착된다. 이를 위해, 여과재를 교체하거나 여과 탱크로부터 수동으로 제거 및 세정하는 것 및 부유물질(suspended matter)이 여과지로부터 분리된 후에 세정된 여과재를 여과 탱크에 되돌리는 것이 필요하다. 이러한 작용들은 매우 노동집중적이며 또한 제거된 여과재를 세정하기 위한 공간이 요구된다. 게다가, 상기 여과재가 폐기되는 경우에 많은 양의 산업쓰레기가 발생된다. 따라서 상기 세정작용이 자동으로 및 효율적인 방법으로 수행될 수 있게 하는 알려진 여과 장치들이 있다.

여과재를 자동으로 세정하는 능력이 있는 여과 장치의 예로서 여과탱크 내에서 여과재를 세정하기 위한 세정 메카니즘(cleansing mechanism)(세정 장치(cleansing apparatus))을 가지는 알려진 여과 장치가 있다. 상기 세정 메카니즘(cleansing mechanism)은 여과재를 세정하기 위해 미리 결정된 시간적 간격에서 작동되도록 발생되며, 여과재로부터 분리되는 부유물질(suspended matter)은 여과 탱크로부터 외부로 배출된다(특허 문서 1 및 특허 문서 2).

그러나, 만약 세정장치가 설치되지 않은 기존의 여과 탱크를 이용하는 이용자가 단순한 방법 및 약간의 노력으로 여과재를 세정하기를 원한다면, 이용자의 전체 여과장치를 대체 하는 특허 문서 1 또는 특허 문서 2에 개시된 것과 같은 세정 장치를 가지는 여과 장치의 구입이 필요하게 되며, 비용의 증가로 이어진다.

상기 문제를 해결하기 위해 본 출원은 기존의 여과 장치들의 외부에 장착할 수 있는 여과재 세정 장치를 제안한다.

특허 문서 1 :

국제 공개 NO. WO01/83076

특허 문서 2 :

일본 특허 공보 NO. 2004-121885

특허 문서 3 :

일본 특허 공보 NO. 2008-284457

상기 기존 여과 장치의 외부에 장착될 수 있는 여과재 세정 장치(401)의 구성은 도 15를 참조하여 상술될 것이다.

상기 여과재 세정 장치(401)는 금속 원통 외부 실린더(402), 외부 실린더(402)의 내부에 위치한 스크류 컨베이어(screw conveyor)(404) 및 스크류 컨베이어(404)의 상부 끝에 연결된 드라이브 섹션(drive section)(406)을 가진다. 상기 스크류 컨베이어의 샤프트(shaft)(416)를 축 방향으로 지지하는 베어링(bearing)(414)을 가지는 베이스(base)(412)는 외부 실린더(402)의 상부 끝에 연결된다. 여과재 및 물과 같은 액체가 유입되고 형성되는 인렛(inlet)(436)을 가지는 큰 직경 부분(434)은 외부 실린더(402)의 하부 끝에 연결된다. 유입 파이프(introducing pipe)(438)는 상기 인렛(436)으로 용접된다. 게다가,여과재를 배출시키는 아웃렛(outlet)(460)은 외부 실린더(402)의 상부 끝 부분의 표면내에서 형성되고 배출 파이프(expelling pipe)(461)는 상기 아웃렛(460)에 장착된다. 상기 유입 파이프(438) 및 배출 파이프(461)는 여과 장치내에 삽입된다. 유입 파이프(438)를 통해 흡입된 여과재들은 여과재 세정 장치(401)내에서 세정된다. 그 후에, 상기 세정된 여과재들은 배출 파이프(461)를 통해 여과 장치로 배출된다.

여과재 세정 장치(401)에서 상기 스크류 컨베이어(404)는 여과재를 세척하는 동안 인렛(436)을 통해 흡입된 여과재를 상부쪽으로 전달하기 위해 회전된다. 그 후에, 세정된 여과재(460)들은 아웃렛(460)을 통해 배출된다. 그러나, 상기 스크류 컨베이어(404)의 상부쪽으로 전달하는 힘이 강하기 때문에, 상기 스크류 컨베이어 직접 위의 베어링(414)의 실(seal)부분(414c)을 통해 여과재의 조각들이 베어링(414)으로 들어간다. 여과재가 베어링(414) 및 샤프트(shaft)(416)을 닳게 하고 축이동이 발생하는 원인 및 베어링을 손상시킬 가능성이 있다. 이런 이유로, 향상된 내구성을 가지는 여과재 세정 장치가 요구된다.

본 발명의 목적은 향상된 내구성을 가지는 기존의 여과 장치의 외부에 장착될 수 있는 여과재 세정 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 여과재 세정 장치는

여과재들 외부 실린더의 내부로 유입되는 통로인 인렛 및 세정이 완료된 후 외부실린더의 외부로 여과재를 배출하는 아웃렛을 가지는 직립의 외부 실린더;

여과재가 세척되는 동안 인렛을 통해 상부쪽으로 유입되는 여과재를 전달하기 위한 나선 블레이드(spiral blade)가 장착되고 회전될 수 있도록 외부 실린더 내에서 제공되는 스크류 컨베이어;

상기 스크류 컨베이어를 순환적으로 구동하는 드라이브 섹션(drive section); 및

상기 드라이브 섹션의 회전을 제어하는 컨트롤 센션(control section);을 포함하는 액체들을 정화하기 위해 여과재를 세정하는 여과재 세정 장치에 있어서,

상기 스크류 컨베이어가 여과재의 상부로의 이동을 조절하는 조절 블레이드(regulating blade)를 가지고, 스크류 컨베이어와 공통 축을 가지고 나선 블레이드 위 및 중앙 샤프트의 주변 근처에 제공되며;

상기 아웃렛은 스크류 컨베이어의 나선 블레이드와 조절 블레이드 사이의 공간으로부터 전달되는 여과재를 배출하기 위해 제공되는것을 특징으로 하는 여과재 세정 장치이다.

본 발명의 여과재 세정 장치의 외부 실린더는 외부실린더 내에 적어도 하나의 조절 블레이드 위에 세정 액체가 유입되는 구멍이 갖춰진 것이 바람직하다.

여기서, "조절 블레이드...위에" 구는 세정 액체가 유입되는 구멍의 상부 끝이 조절 블레이드의 상부 끝의 위에 위치한다는 것을 의미한다.

게다가, 상기 "세정 액체"는 조절 블레이드의 아래로 흐르게 하기 위해 조절 블레이드 위로 올라오는 여과재를 발생시키기 위한 액체이며, 일반적으로 물이다.

상기 조절 블레이드는 나선 블레이드의 나선과 반대 방향에서 나선을 가지는 나선 블레이드로서 형성되는 블레이드이다. 이 경우, 조절 블레이드의 나선의 피치(pitch)는 나선 블레이드의 나선의 피치보다 작게 되는 것이 바람직하다.

그렇지 않으면, 상기 조절 블레이드는 평면의 형상으로 형성되거나 또는 하방으로 열려있는 우산 형상으로 형성된다.

상기의 경우에, 조절 블레이드의 평면에 수직방향으로 연장되고 조절 블레이드의 회전 방향을 향하는 표면을 가지는 평면 블레이드가 상기 조절 블레이드의 상부 및/또는 하부 표면에 제공되는 것이 바람직하다.

상기 평면 블레이드는 조절 블레이드의 평면에 완전히 수직 방향으로 연장되는 것으로 제한되지 않으며 조절 블레이드의 평면의 수직 방향에 대해 경사가 진다. 조절 블레이드의 회전 방향에 대해 평면 블레이드의 끝이 뒤쪽으로 경사가 지게 되는 것이 바람직하다.

상기 평면 블레이드의 표면이 조절 블레이드의 회전방향(회전 방향에 수직 평면)을 완전히 향하도록 제한되는 것이 아니고 회전 방향을 향하는 방향에 대해 경사가 진다. 상기 평면 블레이드의 표면이 조절 블레이드의 회전방향에 대하여 뒤쪽으로의 경사가 조절 블레이드의 외부 주변 부분에서 조절 블레이드의 내부 주변 부분에서보다 큰 것이 바람직하며, 참고로 조절 블레이드의 반경 방향을 이용한다.

세정 액체 유입 구멍을 통해 유입된 세정 액체가 통과하는 침투 구멍(permeation aperture)은 조절 블레이드 안에 형성되는 것이 바람직하다.

게다가, 본 발명의 여과재 세정 장치는 공급된 액체를 여과재 층으로 여과하는 여과 탱크의 내부에 여과재 층을 가지는 여과 탱크가 구비된 여과 장치를 위한 외부에 장착된 여과재가 사용되고 여과된 액체를 여과 탱크 밖으로 배출한다. 이 경우에, 여과재 세정 장치는 외부 실린더의 인렛 및 아웃렛과 여과 탱크를 연결하는 파이프를 더 포함한다.

상기 본 발명의 여과재 세정 장치는 여과재들이 외부 실린더의 내부로 유입되는 통로가 되는 인렛 및 세정이 완료된 후 여과재가 외부 실린더의 바깥으로 배출되기 위한 아웃렛을 가지는 직립의 외부 실린더; 회전할 수 있도록 외부 실린더 내에 제공되고, 여과재를 닦는 동안 인렛 위쪽을 통해 유입되는 여과재를 전달하기 위한 나선 블레이드를 구비한 스크류 컨베이어; 순환적으로 스크류 컨베이어를 구동시키는 드라이브 섹션; 및 드라이브 섹션의 회전을 제어하는 제어 섹션을 포함하고; 상기 스크류 컨베이어는 여과재의 상부로 이동을 조절하는 조절 블레이드를 가지고, 스크류 컨베이어와 축을 같이 하는 나선 블레이드 위에 및 중앙 샤프트의 주변 근처에 제공되며; 아웃렛이 상기 스크류 컨베이어의 나선 블레이드와 조적 블레이드 사이의 공간으로부터 전달된 여과재를 배출하기 위해 제공되는 것을 특징으로 한다. 따라서, 여과재들이 상기 스크류 컨베이어의 구조 부분들(structural portions)에 유입되는 것이 방지되고, 여과재 세정 장치의 내구성은 개선될 수 있다.

본 발명의 여과재 세정 장치의 외부 실린더는 외부 실린더 내의 적어도 하나의 조절 블레이드 위에 세정 액체 유입 구멍을 구비한다. 이 경우에, 세정 액체는 조절 블레이드 위의 세정 액체 유입 구멍을 통해 유입되고, 조절 블레이드의 아래 방향으로 흐를 수 있게 조절 블레이드 위에 여과재가 올라오도록 한다. 만약 그런 특징들이 적용된다면, 본 발명의 유리한 효과들은 더욱 강화될 수 있다.

상기 조절 블레이드는 나선 블레이드의 반대쪽 방향에서 나선을 가지는 나선 블레이드로서 형성된 블레이드이다. 만약 이 특징이 적용된다면, 아웃렛 위에 전달된 여과재는 다시 아래로 밀어질 수 있다. 따라서, 여과재가 스크류 컨베이어 위의 구조 부분들에 들어가는 것이 효과적으로 방지될 수 있다.

이 시점에서, 만약 여과재들이 과도한 양의 힘으로 다시 밀어진다면, 아래로 밀어진 여과재는 인렛으로부터 위로 전달된 여과재를 충격하게 되며 여과재들이 아웃렛을 통해 부드럽게 배출되지 않는다. 이런 이유로, 조절 블레이드의 나선의 피치(pitch)는 나선 블레이드의 나선의 피치보다 작게 형성되며, 발생되는 문제들을 방지하고 여과재의 부드러운 배출을 위한 것이다.

상기 조절 블레이드는 평면 형상으로 형성되거나 하방이 열린 우산 형상으로 형성된다. 이 경우, 본 발명은 단순한 구조로 이루어질 수 있다.

이 시점에서, 조절 블레이드의 평면에 수직 방향으로 연장되고 조절 블레이드의 회전 방향을 향하는 표면을 갖는 평면 블레이드는 조절 블레이드의 상부 및/또는 하부에 제공된다. 이 경우, 여과재의 배출은 보다 부드럽게 이루어질 수 있다.

게다가, 세정 액체 유입 구멍을 통해 유입되는 세정 액체가 지나는 침투 구멍(permeation aperture)은 조절 블레이드에 형성된다. 이 경우에, 조절 블레이드의 위로부터 유입된 세정 액체는 아래로 부드럽게 흐를 수 있게 된다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 외부에 장착된 여과재 세정 장치를 보여주는 개략적인 수직 단면도이다.
도 2는 여과재 세정 장치의 부분 확대도이다.
도 3a는 여과재 세정 장치의 (정면) 부분 확대도이다.
도 3b는 여과재 세정 장치의 (저면) 부분 확대도이다.
도 4는 여과재 세정 장치의 스크류 컨베이어의 평면도이다.
도 5는 여과재 세정 장치의 수정된 스크류 컨베이어의 부분 확대도이다.
도 6은 여과재 세정 장치의 수정된 스크류 컨베이어의 부분 확대도이다.
도 7은 여과재 세정 장치의 수정된 스크류 컨베이어의 평면도이다.
도 8은 여과재 세정 장치의 수정된 스크류 컨베이어의 측면도이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 여과재 세정 장치의 제1 션애플리케이을 보여주는 도해이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 여과재 세정 장치의 제2 애플리케이션을 보여주는 도해이다
도 11은 도 9의 여과재 세정 장치의 개략적인 평면도이다.
도 12는 도 10 및 도 11의 적용에 대한 수정의 수직 단면도이다.
도 13은 도 10 및 도 11의 애플리케이션에 대한 수정의 개략적인 평면도이다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 여과재 세정 장치의 제3 애플리케이션을 보여주는 도해이다.
도 15는 종래의 외부에 장착되는 여과재 세정 장치를 보여주는 개략적인 수직 단면도이다.

이하에서는, 본 발명에 따른 여과 장치들의 외부에 장착되는 여과재 세정 장치(이하, 단순히 "세정 장치"라 한다.)는 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명될 것이다. 도 1은 본 발명의 실시예에 따른 외부에 장착된 여과재 세정 장치(1)를 보여주는 개략적인 단면도이다. 도 2, 3a 및 3b는 여과재 세정 장치의 부분 확대도이다. 도 4는 여과재 세정 장치의 스크류 컨베이어의 평면도이다.

도 1에서 보여지듯이, 상기 세정 장치(1)는: 원통형 금속 외부 실린더(2); 외부 실린더(2)의 내부에 제공된 스크류 컨베이어(4); 및 상기 스크류 컨베이어(4)의 상부 끝에 연결된 드라이브 섹션(6)을 갖추고 있다. 상기 외부 실린더(2)는 실린더의 상부 끝에 플랜지(flange)(8)를 갖추고 있다. 상기 플랜지(8)에 상응하는 플랜지(10)를 가진 베이스(12)는 플랜지(8)에 제공된다. 상기 베이스(12)는 볼트들(10a)에 의해 서로 고정되는 플랜지들(8,10)에 의해 외부 실린더(12)에 고정된다.

스크류 컨베이어(4)의 샤프트(16)를 축의 방향으로 지지하기 위한 베어링(14)은 베이스(12)에 형성된다. 상기 베어링(14)은 플랜지(10)의 측면을 향하는 베어링(14a) 및 베이스(12)의 높이 방향에 중간 위치에 제공되는 베어링(14b)에 의해 구성된다. 상기 스크류 컨베이어의 샤프트(16)는: 나선 블레이드(18)가 형성되는 할로우(hollow) 즉, 파이프 형상의 할로우 샤프트(20); 및 상기 할로우 샤프트(20)보다 약간 작은 지름을 가지며 할로우 샤프트(20)의 상부 끝에 삽입되고 용접에 의해 고정되는 서포트 샤프트 부분(support shaft portion)(22)에 의해 형성된다. 상기 서포트 샤프트 부분(support shaft portion)(22)은 베어링(14)에 의해 축 방향으로 지지된다. 조인트(joint)(24)는 서포트 샤프트 부분(22)의 상부 끝에 연결된다. 상기 드라이브 섹션(6) 즉, 브레이킹 메커니즘(braking mechanism)(26) 및 브레이킹 메커니즘에 연결되는 모터(28)는 베이스(12)에 제공된다. 인버터 회로(inverter circuit)을 가지는, 예를 들어, 상기 모터(28)의 회전 속도를 제어하는, 컨트롤 섹션(30)은 상기 모터(28)에 전기적으로 연결된다. 여기에, 상기 컨트롤 섹션(30)이 개략적으로 보여진다.

플랜지(32)는 외부 실린더(2)의 하부 부분에 형성되고, 큰 직경 부분(large diameter portion)(34)은 볼트들(32a)에 의해 상기 플랜지(32)에 연결된다. 다시 말해서, 외부 실린더(2)의 하부 부분이 큰 직경 부분(34)으로서 형성된다. 상기 큰 직경 부분(34)은 낮은 키와 외부 실린더(2)의 지름보다 큰 직경을 갖는 실린더로서 형태를 가진다. 상기 스크류 컨베이어(4)의 하부 끝(4a)은 큰 직경 부분(34) 내에 위치한다. 여과재(112a)(도 9 참조) 및 물과 같은 액체(역류 액체(122) 도 9 참조)들이 유입되는 통로인 아웃렛(36)은 큰 직경 부분(34)의 측면에 형성된다. 유입 파이프(38)는 인렛(36)에 용접되고 부착된다. 본 실시예에서, 상기 유입 파이프(38)는 플랜지(40)를 통해 바람직한 형태의 파이프 또는 호스에 일체로 연결되는 파이프이다. 그렇지 않으면, 상기 유입 파이프는 매개 플랜지(40) 없이 인렛(36)에 연결되는 하나의 긴 파이프가 된다. 상기 유입 파이프(36)의 재료는 금속, 합성 수지, 고무, 등이 된다.

주입 구멍(injection aperture)(42)은 큰 직경 부분(34)의 하부 벽(34b)에 형성되고, 주입 파이프(injection pipe)(44)는 주입 구멍(42)에 연결된다. 상기 주입 파이프(44)는 플랜지(44a)를 통해 작은 직경 파이프(46)에 연결된다. 볼 밸브(ball valve)(48)는 파이프(46)에 장착된다. 상기 볼 밸브(48)는 일반적으로 닫혀있지만 외부 실린더(2)의 내부로 물 등을 공급할 필요가 있을 때 열리게 된다. 상기 주입 파이프(44)는 유입 파이프(38)로부터 유입된 여과재(112a) 및 부유물질을 포함하는 역류된 액체(122)를 희석하는데 이용되며, 즉, 슬러리(slurry), 만약 슬러리의 농도가 높다면 수송을 촉진하기 위해 외부 실린더(2)에 마중물(priming water)을 주입하는데 이용된다.

한편, 여과재(112a)들이 배출되는 통로가 되는 아웃렛(60)은 외부 실린더(2)의 상부 끝의 측면에 형성된다. 배출 파이프(expelling pipe)(61)는 용접에 의해 아웃렛(60)에 부착된다. 볼 밸브(62)는 배출 파이프(61)안에 장착된다. 그러나 후에 기술되는 세정 장치(1)의 적용에 따라 볼 밸브(62)가 필요하지는 않다. 상기 볼 밸브(61) 대신에 핀치 밸브가 될 수 있음을 유의해야 한다.

스크류 컨베이어(4)의 샤프트(16)는 할로우 샤프트(hollow shaft)(20)의 하부 끝(4a)으로부터 서포트 샤프트 부분(support shaft portion)(22)의 하부 끝까지의 빈 공간이다. 다수의 구멍들(56)은 할로우 샤프트(20)의 중간 부분에 형성된다.

이제, 상기 스크류 컨베이어(4)가 도 2에서 도 4를 참조해 상세히 설명될 것이다. 도 2는 세정 장치(1)의 외부 실린더(2)의 아웃렛 부근의 부분 확대 단면도이다. 도 4는 여과재 세정 장치(1)의 스크류 컨베이어의 평면도이다. 상기 스크류 컨베이어(4)의 외형은 도 2에서 보여지는 것을 유의하자. 상기 스크류 컨베이어의 나선 블레이드(18)는 할로우 샤프트(20)의 외부 주변에 나선으로서 형성된다. 나선 블레이드(18)에는 구멍이나 슬롯들이 형성되지 않고, 전체 표면이 스크류의 형태에 있다. 따라서, 여과재(122a)를 포함하는 역류된 액체는 효과적으로 위로 전달될 수 있다.

나선 블레이드(18)의 외부 주변과 외부 실린더(2)의 내부 표면 사이의 약간의 틈(S1)이 존재한다. 상기 틈(S1)의 크기는 여과재(112a)의 입자 크기가 0.6mm에서 1.0mm인 경우 0.6mm에서 1.0mm보다 약간 크게 설정된다. 그 이유는 다음과 같다. 여과재(112a)가 스크류 컨베이어에 의해 위로 전달될 때, 스크류 컨베이어(4)의 회전에 의해 발생된 원심력 때문에 여과재들은 나선 블레이드(18)의 외부 주변을 향해 이동한다. 상기 틈(S1)은 여과재들(112a)이 나선 블레이드(18)의 외부 모서리와 외부 실린더(2)의 내부 표면(2a) 사이에서 부서지는 것을 방지한다. 게다가, 스크류 컨베이어(4)와 외부 실린더(2) 사이의 밀봉의 정도는 여과재(112a) 및 상기 틈(S1) 내에서 보여지는 분리된 부유물질로 인해 개선되며, 따라서 여과재(112a) 및 역류 액체(122)의 수송 효율을 개선한다.

상기 구멍들(apertures)(56)(도 1 참조)은 나선 블레이드(18)를 할로우 샤프트(20)에 장착하는 장착 부분 바로 위의 위치에 형성된다. 나선 블레이드(18)에 역류 액체(122)는 나선 블레이드(18)를 따라 부드럽게 구멍(56)으로 들어갈 수 있으며, 구멍 옆 나선 블레이드(18) 직접 위에 위치한다. 상기 구멍들(56)은 나선 블레이드(18)의 두 개의 피치들에 걸쳐 45도의 각도 간격에 장착 부분을 따라 형성된다. 상기 세정 장치(1)는 여과재들이 세정되는 여과 탱크 내에서 역류 액체의 물 높이 위에 구멍들(56)의 위치가 있도록 설치된다. 할로우 샤프트(20)의 내부는 속이 비어 있기 때문에 구멍들(56)을 통해 위로 전달된 역류 액체(122)의 부분이 속이 빈 부분으로 들어갈 수 있게 된다. 이 방법으로, 상기 구멍들(56)은 전달된 역류 액체(122)를 빼내는 기능을 하게 된다. 구멍들(56) 및 할로우 샤프트(20)의 주변을 따라 있는 간격의 수는 위에 설명된 실시예에서 제한되지 않는다. 용도에 따라 적당한 값을 설정할 수 있는 것은 당연하다.

게다가, 스크류 컨베이어(4)와 공통 축을 가지는 할로우 샤프트(20)의 주변 근처 및 아웃렛(60) 위에 형성되고 여과재(112a)가 위로 이동하는 것을 조절하는 조절 블레이드(19) 가 제공된다. 더욱이, 세정 액체 유입 구멍(70)은 조절 블레이드(19) 위의 외부 실린더에 형성된다. 상기 세정 액체 유입 구멍(70)은 호스 또는 그와 유사한 것에 의해 외부 물 소스(source)에 연결된다.

상기 조절 블레이드(19)는 나선 블레이드(18)의 반대 방향에 형성된 나선들을 가지는 나선 블레이드이다. 상기 조절 블레이드(19)는 조절 블레이드(19)의 외부 주변과 외부 실린더(2)의 내부 표면 사이에 나타나는 약간의 틈(S2) 정도의 크기로 형성된다. 조절 블레이드(19)의 나선의 피치는 나선 블레이드(18)의 나선의 피치보다 작다는 것을 유의해야한다. 게다가, 다수의 구멍들(19a)은 도 4에서 보여지듯이 조절 블레이드(19)안에 제공된다.

스크류 컨베이어(4)가 회전하는 동안, 조절 블레이드(19)는 여과재(112a)들이 아웃렛(60) 위로 이동하는 것을 막는다. 게다가, 세정 액체는 조절 블레이드(19)위에 제공된 세정 액체 유입 구멍(70)을 통해 유입된다. 상기 세정 액체는 조절 블레이드(19)의 외부 주변과 외부 실린더(2)의 내부 표면 사이의 틈(S2)을 통해 및 조절 블레이드(19)에 형성된 다수의 구멍들(19a)을 통해 흐름으로써 조절 블레이드(19) 위로 올라온 여과재들(112a)을 아래로 흐르게 한다. 상기 여과재들(112a)은 상기 방법으로 스크류 컨베이어 위에 제공된 베어링(14)의 실(seal)부분으로 들어가는 것이 방지되고, 따라서 세정 장치(1)의 내구성이 개선된다.

다음으로, 스크류 컨베이어(4)의 하부 끝의 형태는 도 3을 참고로 하여 상술될 것이다. 도 3은 스크류 컨베이어(4)의 하부 끝 부분의 부분 확대도들의 모음이다. 도 3A는 정면도이고, 도 3B는 저면도이다. 도 3A 및 도 3B에서 보여지듯이, 교반(agitating) 블레이드(58)는 스크류 컨베이어(4)의 할로우 샤프트(20)의 하부 끝(4a)에 부착된다. 상기 교반 블레이드(58)는 같은 길이를 가지는 네 개의 립(rib)들(58a)로 구성된다. 상기 립들(58a)은 크로스(cross)를 형성하기 위해 할로우 샤프트(20)의 지름보다 긴 길이를 가지는 두 개의 금속판들을 구성하여 형성된다. 상기 교반 블레이드(58)는 크로스의 중심의 위치 즉, 두 개의 금속 판들의 교차점(58b) 및 샤프트(16)의 회전 중심의 위치가 일치 되도록 용접에 의해 할로우 샤프트(20)의 하부 끝(4a)에 부착된다. 따라서, 할로우 샤프트(20)의 속이 빈 부분은 외부와 통하게 된다.

상기 교반 블레이드(58)는 여과재(112a) 및 유입 파이프(38)로부터 유입된 부유물질을 포함하는 역류 액체(122) 즉, 슬러리의 농도가 높아지는 경우 여과재(112a)를 교반한다. 교반 블레이드에 의한 교반은 여과재(112a)가 외부 실린더(2)의 하부에 남아있게 되는 것을 방지한다. 액체의 농도가 낮게 되는 경우 교반 블레이드가 제공되지 않은 곳에 상기 구성이 적용된다. 예를 들어, 상기 교반 블레이드(58)는 쉽게 생략될 수 있거나, 상기 하부 끝은 닫힌 형태로 될 수 있다.

스크류 컨베이어와 공통 축으로 제공되는 조절 블레이드(19)의 형태는 위에 설명된 것으로 제한되지 않는다. 상기 조절 블레이드(19)는 도 5 및 도 6에서 보여진 것처럼 다른 형태로 형성될 수 있다. 도 5 및 도 6 은 모두 도 2에 상응하는 부분의 확대된 단면도이다. 즉, 조절 블레이드(19)가 여과재들이 위로 이동하는 것을 방지할 수 있는 한 어떤 형태도 적용될 수 있으며, 도 5에서 보여진 평면 조절 블레이드 및 도 6에서 보여진 하부가 열린 우산 모양으로 조절 블레이드가 형성될 수 있다.

상기 조절 블레이드가 평면의 형태 또는 우산의 형태로 되는 경우, 조절 블레이드(19´)의 평면에 수직방향으로 연장되고 조절 블레이드(19´)의 회전 방향을 향하는 표면을 가지는 평면 블레이드(19b)는 도 7 및 도 8에서 보여진 것처럼 조절 블레이드(19´)의 상부 및 하부 표면에 제공되는 것이 바람직하다. 도 7은 상기 스크류 컨베이어의 평면도이고 도 8은 도 7의 화살(A)의 방향에 따른 측면도이다. 도 7 및 도 8은 평면 형태의 조절 블레이드의 예를 보여준다. 그러나 다음 설명은 우산 형태로 형성된 조절 블레이드에 적용되는 것이다.

도 8에서 보여진 것처럼, 평면 블레이드(19b)의 끝(tip)들은 조절 블레이드의 회전 방향에 대해 뒤쪽으로 경사지게 되는 것이 바람직하다.

게다가, 도 7에서 보여진 것처럼, 평면 블레이드(19b)의 표면은 조절 블레이드의 반경 방향을 사용하는(상기 방향은 도 7에서 점선으로 표시됨) 조절 블레이드의 내부 주변 부분에서 보다 조절 블레이드의 외부 주변 부분에서 조절 블레이드의 회전 방향에 대해 뒤쪽으로 경사가 더 지는 것이 바람직하다.

도 7 및 도 8은 6개의 평면 블레이드(19b)들이 조절 블레이드(19´)의 상부 표면(및 하부 표면)에 제공되는 것의 예를 보여준다. 그러나, 평면 블레이드(19b)의 수는 특별히 제한되지 않으며, 어떤 수의 평면 블레이드(19b)라도 제공된다.

게다가, 도 7 및 도 8은 평면 블레이드들(19b)이 평행사변형 형태로 형성되는 것의 예를 보여준다. 그러나, 평면 블레이드들(19b)의 형태는 특별히 제한되지 않으며, 평면 블레이드들(19b)은 어떤 형태로도 될 수 있다.

게다가, 평면 블레이드들(19b)은 조절 블레이드(19´)의 상부 표면 및 하부 표면에 모두 제공된다. 그렇지 않으면, 평면 블레이드들(19b)은 단지 조절 블레이드(19´)의 상부 표면 및 하부 표면 중 하나에 제공된다.

다음으로, 기존의 여과 장치에 위에서 설명된 것과 같이 구성된 세정 장치(1)를 적용하는 예들이 도 9 부터 도 11을 참조하여 상술 될 것이다. 여기서, 여과 장치들은 여과 탱크들, 서포트 레그(support leg)들 및 다른 구성부품을 갖는 장치 전체로서 언급된다. 도 9, 도 10 및 도 11은 각각 제1 예, 제2 예 및 제3 예를 보여준다. 첫째로, 세정 장치(1a)가 여과 장치(100)의 여과 탱크(101)에 적용된 경우가 도 9를 참조하여 설명될 것이다. 여기서 이용된 다른 실시예에 따른 세정 장치(1a)는 세정 장치(1)의 배출 파이프(61) 및 유입 파이프(38)와 배출 파이프(61a) 및 유입 파이프(38a)의 위치 및 형태가 다른 것을 제외하고는 기본적으로 위에서 설명된 세정 장치(1)와 동일하다. 게다가, 상기 세정 장치(1a)는 외부 실린더(2)의 하부에 큰 직경 부분(34)을 가지지 않고 교반 블레이드(58) 또한 가지지 않는 점에서 상기 세정 장치(1)와 다르다. 캡(cap)(60)은 샤프트(16´)의 입구를 밀봉하기 위해 세정 장치(1a)의 스크류 컨베이어(4´)의 샤프트(16´)의 하부 끝에 제공된다. 상기 세정 장치(1a)는 적절한 서포트(support)(70)에 의해 지지된다. 다음 설명에서 동일한 구성요소들은 동일한 참조 번호를 사용해 설명되는 것에 유의해야 한다. 게다가, 설명이 필요없는 구성 요소들은 도 1의 실시예의 구성요소들에 상응하는 참조 번호들로 표시되며, 그에 대한 설명은 생략될 것이다.

상기 여과 탱크(101)는 전형적인 형태이고, 원통형 외부 쉘(shell)(102)을 가지고, 그 맨 위와 맨 아래는 곡선으로 튀어나온 표면으로 밀봉되며, 서포트 레그들(support legs)(103)로 지지된다. 부유물질을 포함한 물이 주입되는 통로가 되는 물 주입구(104)는 외부 쉘(102)의 측면의 상부에 형성되고 배출구(103)는 외부 쉘(102)의 하부에 형성된다. 게다가 큰 직경 맨홀(manhole)(118)은 외부 쉘(102)의 상부 표면에 형성된다.

예를 들어, 여과 탱크(101)는 도 9 에서 보여진 것과 같이, 여과기(strainer)(114)가 있는 플레이트(plate)(110), 플레이트(110)에 큰 입자 크기를 가지는 자갈(108)의 자갈층(108) 및 자갈층(108)에 레벨(112b)까지 작은 입자 크기를 가지는 여과재(112a)의 여과재 층(112)을 가진다. 여과되는 물은 물 주입구(104)를 통해 주입되고, 여과재 층(112)에 있는 여과재(112a) 및 자갈층(108)에 있는 자갈(108a)을 통과함으로써 여과된다. 부유물질이 제거된 정화된 액체는 여과기(114)를 통해 배출구(106)로부터 외부로 공급된다.

위에서 설명된 것처럼 구성된 여과 탱크(101)의 경우, 맨홀(118)의 입구 부분은 비교적 크다. 따라서 기존의 여과 탱크(101)의 구성을 수정 또는 변경하지 않고 세정 장치(1a)를 이용하기 위해 상기 배출 파이프(61a) 및 유입 파이프(38a)가 맨홀(118)을 통해 삽입될 수 있다.

여과 탱크(101) 및 세정 장치(1a)가 상기 방법으로 설치된 후에 여과 탱크(101)의 여과재(112a)가 세정되는 것에 의한 방법은 이하에서 설명될 것이다. 정상적인 여과 동안, 여과재들(112a)은 레벨(112b)의 높이에 있다. 그러나 세정의 예비단계인 여과가 정지되거나 역류 세정이 이루어지는 때는, 상기 역류 액체(122)가 팽창되고, 레벨(120) 표시가 된 내부 파이프(107)의 입구(107a)까지 올라간다. 즉, 세정 액체(122)가 역류 세정을 수행하기 위해 배출구(103)를 통해 여과 탱크(101)로 뿌려질 때, 역류 액체(122)는 여과재 층(112)에 뿌려지기 위해 여과기(114) 및 자갈(108)을 통해 지나게 된다. 역류 액체(122)는 여과재 층(112)에 뿌려질 때, 여과재(112a)들은 흐르게 된다. 그러나, 여과재(112a) 레벨(120)에 팽창된 역류 액체(122)의 액체 표면까지 올라가지 않고, 대략 레벨(109)까지 위쪽으로 흐르며 이는 레벨(112b) 보다 약간 위에 위치한다. 상기 액체 아래의 레벨(109)은 슬러리(부유 액체)이다. 따라서, 슬러리 안에 분포되는 여과재(112a)의 분포 밀도는 낮아진다. 그러나 역류 작용에 의해 여과재(112a)로부터 분리된 부유물질은 여과재(112a)보다 가볍기 때문에 레벨(120)까지 위로 흐른다.

상기 모터(28)는 이 상태에서 구동된다. 모터가 작동되는 경우, 상기 스크류 컨베이어(4´)는 역류 액체(122)의 액체 표면 레벨(120)보다 높은 위치에 놓인다. 따라서, 단지 스크류 컨베이어(4´)의 회전에 의해서만은 역류 액체(122)를 흡입하기 어렵다. 이런 이유로, 주입 파이프(44´)로부터 마중물을 주입하는 것이 필요하다. 그 후에, 상기 역류 액체(122) 및 여과재(112a)를 여과 탱크(101)내로부터 외부 실린더(2)로 유입하기 위해 모터(28)가 작동된다.

외부 실린더(2)의 하부로 유입된 여과재(112a)들은 스크류 컨베이어(4´)의 나선 블레이드(18)에 의해 씻어질 때 위쪽으로 전달된다. 상기 여과재들(112a)은 위쪽으로 전달될 때 세정되며, 부유물질은 여과재(112a)로부터 분리된다. 세정된 여과재(112a)들은 분리된 부유물질을 포함하는 역류 액체(122)와 함께 배출 파이프(61a)를 통해 여과 탱크(101)로 배출된다. 여과재(112a)들이 레벨(109)과 레벨(120) 사이의 슬러리에 흐르지 않기 때문에 부유물질을 포함하는 역류 액체(122)만이 내부 파이프(107)를 통해 밖으로 흐른다. 이때, 역류 액체(122)는 배출구(106)를 통해 끊임없이 여과 탱크(101)로 주입된다. 따라서 부유물질을 포함하는 역류 액체(122)는 내부 파이프(107)를 통해 끊임없이 밖으로 배출된다. 따라서, 여과 탱크(101)와 세정 장치(1a) 사이를 순환하는 역류 액체(122)에 포함되는 부유물질의 양은 점차 감소한다. 상기 컨트롤 섹션(30)은 스크류 컨베이어(4´)가 세척에 적합한 속도로 회전될 수 있게 하는 작업을 수행한다. 상기 스크류 컨베이어(4´)의 반경이 10cm인 경우에, 스크류 컨베이어(4´)의 외부 모서리들이 원주로 4m/초 또는 그 이하의 속도로 이동하게 회전 속도가 설정되는 것이 바람직하다.

상기 공정은 여과 탱크(101)의 내부로부터 부유물질을 제거하기 위해 미리 정해진 시간 동안 반복적으로 수행된다. 따라서 정상적인 여과 작업이 진행될 수 있도록 상기 유입 파이프(38a) 및 배출 파이프(61a)는 제거된다. 상기 세정 장치(1a)는 여과 탱크(101) 주변의 미리 결정된 위치에 설치되거나, 단지 필요할 때 혀와 탱크(101)의 주변에 설치된다. 역류 액체 내에서 부유물질을 배출하기 위해 세정 장치(1a)에 의한 세정이 완료된 후 일정 시간 동안 역류 세정은 계속 된다.

다음으로, 본 발명의 다른 실시예에 따른 세정 장치(1b)의 애플리케이션의 제2 예는 도 10 및 도 11을 참조하여 설명될 것이다. 도 10은 세정 장치(1b)의 수직 단면도이며, 도 11은 여과 탱크(201) 내에 위치한 배출 파이프의 위치를 보여주는 여과 탱크(201)의 개략적인 평면도이다. 여기서, 도 10에서 보여진 세정 장치(1b)는 기본적으로 도 1에서 보여진 세정 장치(1)와 동일하며, 배출 파이프(61b)의 위치 및 형태가 배출 파이프(61)의 위치 및 형태만이 다르다. 게다가, 도 10으로부터 상기 컨트롤 섹션(30)이 생략되었다. 다음 설명에서, 여과 장치(200)의 여과 탱크(201)는 이론상으로 여과 탱크(101)와 동일하다. 따라서, 중요한 구성요소들만이 설명되고 상세한 설명은 생략될 것이다. 스크류 컨베이어(4＂)는 도 9의 스크류 컨베이어(4´)와 동일한 형태를 가진다. 제2 애플리케이션의 경우에, 기존의 여과 탱크(201)에 약간의 수정이 요구된다. 상기 수정들은 배출 파이프(61b)를 위한 장착 부분(222)가 외부 쉘(202)의 상부에 제공되는 것과 유입 파이프(38b)를 위한 장착 부분(224)이 외부 쉘(202)의 높이 방향의 중심에 제공되는 것이다. 여과 탱크(201)에서 역류 세정이 이루어지는 동안 물 레벨은 도 10의 참조번호 220에 의해 표시된다. 한편, 상기 세정 장치(1b)의 하부 끝 부분 즉, 큰 직경 부분(34)은 실질적으로 수평인 유입 파이프(38b)에 의해 장착 부분(224)에 연결된다. 따라서, 외부 실린더(2＂)의 그 중간보다 낮은 부분은 레벨(220)보다 아래에 놓인다. 따라서, 역류 세정이 실시되는 동안 유입 파이프(38b)를 통해 역류 액체는 외부실린더로(2＂) 외부 실린더의 중간 부분까지 들어간다. 따라서 제2 애플리케이션에서는 마중물이 필요하지 않다. 모터(28)의 작동은 제1 애플리케이션에서와 동일한 방법으로 역류 세정이 실시되는 동안 수행된다. 여과 탱크(201)에서, 여과 탱크(201)의 외부와 통하는 원뿔형의 내부 파이프(226)에 의해 역류 액체(122)의 배출이 수행된다.

도 10 및 도 11에 보여진 것처럼, 배출 파이프(61b)는 길다. 만약 배출 파이프(61b)가 여과 탱크(201)의 내부 주위를 따라 배치된다면, 배출 파이프(61b)를 통해 배출된 역류 액체(122)는 도 11에서 보여진 화살들에 의해 표시된 것처럼 여과 탱크(201)의 내부 주위를 따라 흘러나갈 것이다. 상기 역류 액체(122)의 흐름은 여과재(112a)를 휘젓고, 이는 여과재(112a)를 포함하는 슬러리를 평평하게 유입 파이프(38b)로 유입시키기 위한 것이며, 세정 효과는 더 개선된다.

도 10 및 도 11에서 보여진 애플리케이션에서, 배출 파이프(61b)가 위치한 곳의 장착 부분(222)은 유입 파이프(38b)가 위치한 곳의 장착 부분(224)처럼 여과 탱크(201)의 동일한 면에 제공된다. 그렇지 않으면, 상기 장착 부분(222)은 장착 부분(224)이 제공되는 여과 탱크(201)의 반대쪽 면에 즉, 장착 부분(224)으로부터 더 먼 면에 제공된다. 이 경우에, 배출 파이프(61b)로부터 배출된 여과재(112a)들은 장착 부분(224)으로부터 멀리 떨어진 위치로 배출되고, 세정되지 않은 슬러리의 세정 장치(1b)로의 유입은 촉진된다. 이 점은 도 9를 참조하여 위에 설명된 애플리케이션 및 아래에 설명되는 애플리케이션에 적용된다. 상기 배출 파이프(61b)는 유연한 물질로 형성되는 것이 바람직하다.

다음으로, 도 10 및 도 11에 보여진 애플리케이션에 대한 수정은 도 12 및 도 13을 참조하여 설명될 것이다. 동일한 구성요소들은 동일한 참조 번호로 표시되고, 그 상세한 설명은 생략됨을 유의해야 한다. 도 12 및 도 13은 각각 도 10 및 도 11에 상응하는 수직 단면도 및 개략적인 평면도이다. 상기 수정은 도 10 및 도 11에서 보여진 애플리케이션과 배출 파이프(61b)의 팁(tip)(61b´)이 금속 파이프인 점에서 차이가 있다. 따라서 상기 팁(61b´)은 용접에 의해 직접 및 일체로 여과 탱크(201)에 부착된다. 금속의 배출 파이프(51b´)가 여과 탱크(201)에 밀봉의 방법으로 고정되기 때문에, 효율을 향상시키는 배출 파이프(61b)를 제거하지 않고 정상적인 여과 작용이 진행되는 동안 여과되기 위해 물로 가득 채워진다. 게다가, 배출 파이프(61b)의 사용 연한이 길고 설치 위치가 이동되지 않은 것과 같은 다른 유리한 효과들이 얻어진다.

다음으로, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 세정 장치(1c)의 제 3 애플리케이션은 도 14를 참조하여 설명될 것이다. 도 14로부터 컨트롤 섹션(30)이 생략된 것에 유의해야 한다. 게다가, 스크류 컨베이어(4x)는 도 9의 스크류 컨베이어(4´)와 동일한 형태를 가진다. 상기 애플리케이션은 세정 장치의 작동 가능성을 개선하기 위해 낮은 위치에 세정 장치가 설치된 경우이며, 일반적으로 여과 탱크의 위치보다 높은 위치에 설치된다. 상기 제3 애플리케이션에서 이용되는 여과 장치(300)의 여과 탱크(301)는 약간의 변화만 있어 제1 애플리케이션에 이용된 여과 탱크(101)와 실질적으로 동일하다. 즉, 여과 탱크(301)는 유입 파이프(38c)가 여과 탱크의 측면에 장착되는 것과 같이 구성된다. 상기 세정 장치(1c) 자체는 바닥(3)에 가까운 낮은 위치에 설치된다. 상기 유입 파이프(38c)는 여과 탱크(301)의 측면과 세정 장치(1c)의 하부 끝 부분을 연결하며, 측면에서 하부 끝 부분으로 비스듬히 아래로 연장된다. 배출 파이프(61c)는 세정 장치(1c)의 외부 실린더(2x)의 상부로부터 아래를 향하게 제공된다. 배출 파이프(61c)로부터 배출된 세정된 여과재를 포함하는 역류 액체(122)는 여과재 저장 탱크에 저장된다. 여과재 펌프(82)는 여과재 저장 탱크(80)에 설치된다. 상기 저장된 여과재들은 여과재 펌프(82)(샌드 펌프(sand pump))에 의해 배출 파이프의 기능을 하는 호스(84)를 통해 여과 탱크(301)의 맨홀(318)로 배출된다. 다시 말해서, 제 3 애플리케이션에서, 상기 여과재들은 여과재 펌프(82)에 의해 적용된 펌핑 포스(pumping force)에 의해 배출 파이프(61c)로부터 배출된다. 상기 애플리케이션의 장점은 모든 동작이 낮은 위치들에서 수행되므로 작동 가능성이 개선되었다는 것이다.

상기 실시예들 및 애플리케이션들은 세정 장치들이 여과 샌드(filtration sand)를 세정하는 경우로 설명되었음을 유의해야 한다. 그러나, 세정의 대상은 샌드에 한정되지 않고, 무연탄, 활성 탄소 및 기타 같은 종류 또는 그러한 여과재들의 조합들이 될 수 있다. 게다가, 물이 여과되는 액체로 설명되었다. 그러나, 오일과 같은 다른 액체들도 여과되는 액체가 될 수 있다.

제 3 애플리케이션에서, 상기 펌프는 배출 파이프(61c)의 경로를 따라 제공된다. 여과재(112a)를 흡입하기 위한 펌프도 역시 유입 파이프들(38, 38a 및 38c)의 경로를 따라 제공된다.

게다가, 일본 특허 출원 2009-296872에 기술된 것처럼, 본 발명의 조절 블레이드를 갖춘 다수의 여과재 세정 장치는 하나의 여과 장치에 장착된다.

게다가, 일본 특허 3693532에 공개된 것처럼, 본 발명의 조절 블레이드는 끊임없이 여과재를 세정하는 여과재 세정 장치에 적용된다.

여과재를 끊임없이 세정하는 여과재 세정 장치는 외부로부터 스크류 컨베이어에 의해 유입된 여과재를 세척하고 세척된 여과재를 외부로 배출하는 단계를 반복적으로 및 끊임없이 수행한다. 여과재 세정 장치의 아웃렛 주변에 조절 블레이드를 제공하여, 향상된 방식으로 여과재가 외부로 부드럽게 배출될 수 있는 유리한 효과가 얻어진다. 따라서, 여과재 세정 장치의 내구성이 향상될 뿐만 아니라 여과재 세정 장치의 처리 능력 또한 향상될 것이다.

본 발명의 외부에 장착되는 여과재 세정장치는 기존의 여과 탱크에 추가되고 활용될 수 있다.

Claims (9)

1. 여과재들이 외부 실린더의 내부로 유입되는 통로가 되는 인렛 및 세정이 완료된 후 외부 실린더의 외부로 여과재를 배출하기 위한 아웃렛을 가지는 직립 외부 실린더;
   회전할 수 있도록 외부 실린더 내에 제공되고, 여과재가 세척되는 동안 인렛을 통해 위쪽으로 유입된 여과재를 전달하기 위한 나선 블레이드를 갖춘 스크류 컨베이어;
   스크류 컨베이어를 순환적으로 구동시키는 드라이브 섹션; 및
   드라이브 섹션의 회전을 제어하는 컨트롤 섹션; 을 포함하는 액체 정화를 위한 여과재를 세정하는 여과재 세정 장치에 있어서,
   상기 스크류 컨베이어는 여과재의 상향 움직임을 조절하는 조절 블레이드를 가지며, 상기 스크류 컨베이어와 공통 축을 가지는 나선 블레이드의 위에 및 중앙 샤프트의 주변 근처에 제공되고;
   상기 아웃렛은 스크류 컨베이어의 나선 블레이드와 조절 블레이드 사이의 공간으로부터 전달된 여과재를 배출하기 위해 제공되는 것을 특징으로 하는 여과재 세정장치.
2. 제 1항에 있어서, 상기 외부 실린더는 외부 실린더 내에 적어도 하나의 조절 블레이드 위에 세정 액체 유입 구멍을 갖추는 것을 특징으로 하는 여과재 세정 장치.
3. 제 1항에 있어서, 상기 조절 블레이드는 나선 블레이드의 나선의 반대 방향에 나선을 가지는 나선 블레이드로 형성되는 것을 특징으로 하는 여과재 세정 장치.
4. 제 3항에 있어서, 조절 블레이드의 나선의 피치가 나선 블레이드의 나선의 피치보다 작은 것을 특징으로 하는 여과재 세정 장치.
5. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 조절 블레이드는 평면 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 여과재 세정 장치.
6. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 조절 블레이드는 하방으로 열려있는 우산 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 여과재 세정 장치.
7. 제 5항 또는 제 6항에 있어서, 조절 블레이드의 평면에 수직 방향으로 연장되고 조절 블레이드의 회전 방향을 향하는 표면을 가지는 평면 블레이드가 조절 블레이드의 상부 및/또는 하부 표면에 제공되는 것을 특징으로 하는 여과재 세정 장치.
8. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서, 세정 액체 유입 구멍을 통해 유입된 세정 액체가 지나는 통로인 침투 구멍이 조절 블레이드에 형성되는 것을 특징으로 하는 여과재 세정 장치.
9. 공급된 액체를 여과재 층으로 여과하는 여과 탱크의 내부에 여과재 층을 가지는 여과 탱크가 구비된 여과 장치를 위한 외부에 장착된 여과재가 사용되고 여과된 액체를 여과 탱크 밖으로 배출하는 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서,
   외부 실린더의 인렛 및 아웃렛을 여과 탱크와 연결하기 위한 파이프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.

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