KR20120084205A - Touch panel - Google Patents

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KR20120084205A
KR20120084205A KR1020110005611A KR20110005611A KR20120084205A KR 20120084205 A KR20120084205 A KR 20120084205A KR 1020110005611 A KR1020110005611 A KR 1020110005611A KR 20110005611 A KR20110005611 A KR 20110005611A KR 20120084205 A KR20120084205 A KR 20120084205A
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Abstract

PURPOSE: A touch panel is provided to form a connection electrode in a mesh shape so that a pattern of the connection electrode is not seen in a valid area. CONSTITUTION: A hardware for a transparent electrode is separated from a substrate in order to be formed. The transparent electrode(20) is formed on the hardware for the transparent electrode. The transparent electrode includes a first and a second electrodes(22,24). The first electrode includes both a first sensor(22a) formed in a first direction and a first electrode connection unit(22b) connecting the first sensor. The second electrode is insulated from the first electrode, and includes both a second sensor(24a) formed in a second direction intersecting with the first direction and a second electrode connection unit(24b) connecting the second sensor. The second electrode connection unit is in a mesh shape.

Description

터치 패널{TOUCH PANEL}TOUCH PANEL {TOUCH PANEL}

본 기재는 터치 패널에 관한 것이다.The present description relates to a touch panel.

최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 입력을 하는 터치 패널이 적용되고 있다.Recently, various electronic products have been applied to a touch panel for inputting a method of contacting an input device such as a finger or a stylus to an image displayed on a display device.

터치 패널은 크게 저항막 방식의 터치 패널과 정전 용량 방식의 터치 패널로 구분될 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 입력 장치의 압력에 의하여 유리와 전극이 단락되어 위치가 검출된다. 정전 용량 방식의 터치 패널은 손가락이 접촉했을 때 전극 사이의 정전 용량이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다.The touch panel may be largely classified into a resistive touch panel and a capacitive touch panel. In the resistive touch panel, the glass and the electrode are short-circuited by the pressure of the input device to detect the position. The capacitive touch panel detects a change in capacitance between electrodes when a finger touches and detects a position thereof.

이러한 터치 패널에서 두께를 줄이고 광 특성을 향상하기 위해 연결(bridge) 전극을 활용한 1층(1 layer) 터치 패널이 각광받고 있다. 그러나 유효 영역에서 연결 전극의 크기에 따라 연결 전극의 패턴이 보이는 문제가 있다.In such touch panels, in order to reduce thickness and improve optical characteristics, one-layer touch panels using bridge electrodes have been in the spotlight. However, there is a problem in that the pattern of the connection electrode is visible according to the size of the connection electrode in the effective region.

실시예에서는 신뢰성 및 특성을 향상할 수 있는 터치 패널을 제공하고자 한다.Embodiments provide a touch panel capable of improving reliability and characteristics.

실시예에 따른 터치 패널은, 기판; 상기 기판과 이격되어 형성되는 투명 전극용 기재; 및 상기 투명 전극용 기재에 형성되는 투명 전극을 포함하고, 상기 투명 전극은 제1 방향으로 형성되는 제1 센서부 및 상기 제1 센서부를 전기적으로 연결하는 제1 전극 연결부를 포함하는 제1 전극; 및 상기 제1 전극과 전기적으로 절연되며, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되는 제2 센서부 및 상기 제2 센서부를 전기적으로 연결하는 제2 전극 연결부를 포함하는 제2 전극을 포함하고, 상기 제2 전극 연결부가 메쉬(mesh) 형상이다. In one embodiment, a touch panel includes a substrate; A transparent electrode base material spaced apart from the substrate; And a transparent electrode formed on the substrate for the transparent electrode, wherein the transparent electrode comprises: a first electrode including a first sensor part formed in a first direction and a first electrode connection part electrically connecting the first sensor part; And a second electrode electrically insulated from the first electrode and including a second sensor part formed in a second direction crossing the first direction and a second electrode connection part electrically connecting the second sensor part. In addition, the second electrode connection part has a mesh shape.

실시예에 따른 터치 패널은, 연결 전극을 메쉬 형상으로 형성함으로써 유효 영역 상에서 연결 전극의 패턴이 보이지 않게 할 수 있다. In the touch panel according to the embodiment, the connection electrode may be formed in a mesh shape so that the pattern of the connection electrode is not visible on the effective area.

한편, 실시예에 따른 터치 패널에서는, 인덱스 매칭을 할 수 있는 중간층 및 반사 방지층을 개재하여, 투과율, 반사율 및 색차(b*, yellowish) 특성을 향상하면서도 제조 비용을 절감할 수 있다. 더욱이, 인덱스 매칭에 의하여 투명 전도성 물질로 형성된 전극을 보이지 않도록(invisible) 할 수 있다. 이에 의하여 터치 패널이 적용된 디스플레이의 시인성을 향상할 수 있다.On the other hand, in the touch panel according to the embodiment, it is possible to reduce the manufacturing cost while improving the transmittance, reflectance and color difference (b *, yellowish) characteristics through the intermediate layer and the anti-reflective layer that can be index matched. Furthermore, the electrode formed of the transparent conductive material may be invisible by index matching. Thereby, the visibility of the display to which the touch panel is applied can be improved.

도 1은 실시예에 따른 터치 패널의 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다.
1 is a plan view of a touch panel according to an embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of embodiments, each layer, region, pattern, or structure may be “on” or “under” the substrate, each layer, region, pad, or pattern. Substrate formed in ”includes all formed directly or through another layer. Criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer will be described with reference to the drawings.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 및 도 2를 참조하여 실시예에 따른 터치 패널을 상세하게 설명한다. 도 1은 실시예에 따른 터치 패널의 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다.A touch panel according to an embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2. 1 is a plan view of a touch panel according to an embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 실시예에 따른 터치 패널에는, 입력 장치의 위치를 감지하는 유효 영역(AA)과, 이 유효 영역(AA)의 외곽으로 위치하는 더미 영역(DA)이 정의된다.1 and 2, in the touch panel according to the embodiment, an effective area AA for detecting a position of an input device and a dummy area DA positioned outside the effective area AA are defined. .

여기서, 유효 영역(AA)에는 입력 장치를 감지할 수 있도록 투명 전극(20)이 형성될 수 있다. 그리고 더미 영역(DA)에는 투명 전극(20)에 연결되는 배선(40) 및 이 배선(40)을 외부 회로(도시하지 않음, 이하 동일)에 연결하는 인쇄 회로 기판(도시하지 않음, 이하 동일) 등이 위치할 수 있다. 이러한 터치 패널을 좀더 상세하게 설명하면 다음과 같다.Here, the transparent electrode 20 may be formed in the effective area AA to detect the input device. In the dummy area DA, a wiring 40 connected to the transparent electrode 20 and a printed circuit board connecting the wiring 40 to an external circuit (not shown) are the same. Etc. may be located. The touch panel will be described in more detail as follows.

도 2를 참조하면, 실시예에 따른 터치 패널은, 서로 반대되는 제1 면(이하 ”상면”)(10a) 및 제2 면(이하 “하면”)(10b)을 포함하는 기판(10), 이 기판(10)의 하면(10b)과 이격되어 형성되는 투명 전극용 기재(30), 투명 전극용 기재(30)에 형성되는 투명 전극(20) 등을 포함할 수 있다. 그리고 이러한 투명 전극용 기재(30)에 반사 방지층(70)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 2, the touch panel according to the embodiment may include a substrate 10 including a first surface (hereinafter referred to as “top surface”) 10a and a second surface (hereinafter referred to as “bottom surface”) 10b opposite to each other. The substrate 10 may include a transparent electrode substrate 30 formed to be spaced apart from the bottom surface 10b of the substrate 10, a transparent electrode 20 formed on the transparent electrode substrate 30, and the like. In addition, the anti-reflection layer 70 may be formed on the transparent electrode substrate 30.

기판(10)은 유리 기판 또는 플라스틱 기판으로 이루어질 수 있다.The substrate 10 may be made of a glass substrate or a plastic substrate.

이 기판(10)에 후술한 투명 전극용 기재(30)를 합착하기 위해 광학용 투명 접착제(optically clear adhesive, OCA)(80) 가 형성될 수 있다. An optically clear adhesive (OCA) 80 may be formed to bond the substrate 30 for a transparent electrode described later to the substrate 10.

기판(10)과 이격되어 투명 전극용 기재(30)가 위치한다. 투명 전극용 기재(30)는 유리 또는 폴리 에틸렌테레프탈레이트(poly (ethylene terephthalate), PET) 필름을 포함할 수 있다.The substrate 30 for the transparent electrode is positioned to be spaced apart from the substrate 10. The transparent electrode base material 30 may include glass or a polyethylene (terephthalate, PET) film.

이러한 투명 전극용 기재(30)에 중간층(60)이 형성된다. 구체적으로, 투명 전극용 기재(30)의 기판(10)과 마주보는 제3 면(30a)에 중간층(60)이 형성된다. 이러한 중간층(60)은 제3 면(30a)의 전면(全面)에 형성될 수 있다. The intermediate layer 60 is formed on the transparent electrode base material 30. Specifically, the intermediate layer 60 is formed on the third surface 30a facing the substrate 10 of the transparent electrode substrate 30. The intermediate layer 60 may be formed on the entire surface of the third surface 30a.

이 중간층(60)은 금속 산화물 또는 금속 불화물을 포함할 수 있는데, 일례로, 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물 등을 포함할 수 있다. 중간층(60)은 특정한 굴절률을 가지도록 하여 인덱스 매칭(index matching)이 되도록 할 수 있다.The intermediate layer 60 may include metal oxides or metal fluorides, for example magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and the like. Niobium oxide and the like. The intermediate layer 60 may have a specific refractive index to be index matching.

중간층(60)은 특정한 굴절률을 가질 수 있도록 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다. 일례로, 중간층(60)이 고굴절률의 제1 층(61)과 저굴절률의 제2 층(62)을 기판(10) 상에 차례로 형성하여 유효 영역(AA)에서 터치 패널의 투과율을 향상시킬 수 있다. The intermediate layer 60 may be formed in a single layer or multiple layers to have a specific refractive index. For example, the intermediate layer 60 may sequentially form the high refractive index first layer 61 and the low refractive index second layer 62 on the substrate 10 to improve transmittance of the touch panel in the effective area AA. Can be.

일례로, 제1 층(61)은 굴절률이 높은 탄탈륨 산화물, 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 지르코늄 산화물 또는 납 산화물을 포함할 수 있으며, 제2 층(62)은 굴절률이 낮은 규소 산화물을 포함할 수 있다. 일례로, 티타늄 산화물의 굴절률이 2.2, 니오븀 산화물의 굴절률이 2.4, 규소 산화물의 굴절률이 1.4 일 수 있다. 이 경우 터치 패널의 투과율을 90% 이상, 바람직하게는 92% 이상, 최대로는 99%까지 향상할 수 있다. 또한, 복수의 제1 층(61)과 제2 층(62)이 교대로 적층될 수도 있다.For example, the first layer 61 may include high refractive index tantalum oxide, titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, or lead oxide, and the second layer 62 may include silicon oxide having low refractive index. . For example, the refractive index of titanium oxide may be 2.2, the refractive index of niobium oxide is 2.4, and the refractive index of silicon oxide may be 1.4. In this case, the transmittance of the touch panel can be improved to 90% or more, preferably 92% or more, up to 99%. In addition, the plurality of first layers 61 and the second layers 62 may be alternately stacked.

이러한 중간층(60)은 코팅 또는 증착 등에 의하여 형성될 수 있다. 일례로, 중간층(60)은 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의해 형성될 수 있다. 즉, 금속 증착원과 증착 타켓을 위한 스퍼터 장치 내에 비활성 기체(Ar, Ne)와 함께 산소(O2) 및/또는 질소(N2)를 추가하여, 금속 증착원이 산화되면서 증착 타켓에 증착되도록 할 수 있다. The intermediate layer 60 may be formed by coating or deposition. In one example, the intermediate layer 60 may be formed by reactive sputtering. That is, by adding oxygen (O 2 ) and / or nitrogen (N 2 ) together with the inert gas (Ar, Ne) in the sputtering apparatus for the metal deposition source and the deposition target, the metal deposition source is oxidized and deposited on the deposition target. can do.

이어서, 중간층(60)에 투명 전극(20)이 형성된다. 이러한 투명 전극(20)은 제1 전극(22) 및 제2 전극(24)을 포함할 수 있다. 그리고 제1 전극(22)은 제1 센서부(22a) 및 제1 전극 연결부(22b)을 포함하고, 제2 전극(24)은 제2 센서부(24a) 및 제2 전극 연결부(24b)을 포함한다. Subsequently, the transparent electrode 20 is formed on the intermediate layer 60. The transparent electrode 20 may include a first electrode 22 and a second electrode 24. The first electrode 22 includes a first sensor part 22a and a first electrode connection part 22b, and the second electrode 24 connects the second sensor part 24a and the second electrode connection part 24b. Include.

이와 같은 터치 패널에 손가락 등의 입력 장치가 접촉되면, 입력 장치가 접촉된 부분에서 정전 용량의 차이가 발생되고, 이 차이가 발생된 부분을 접촉 위치로 검출할 수 있다.When an input device such as a finger is in contact with such a touch panel, a difference in capacitance occurs at a portion where the input device contacts, and a portion where the difference is generated can be detected as a contact position.

구체적으로, 제1 전극(22)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지하는 제1 센서부(22a)와 이러한 제1 센서부(22a)를 연결하는 제1 전극 연결부(22b)을 포함한다. 제1 센서부(22a)는 제1 방향(도면의 X축 방향, 이하 동일)으로 형성될 수 있고, 제1 전극 연결부(22b)은 이러한 제1 센서부(22a)을 제1 방향으로 연결한다. 제1 전극 연결부(22b)은 제1 센서부(22a)와 일체로 형성될 수 있다.Specifically, the first electrode 22 includes a first sensor part 22a that detects whether an input device such as a finger is in contact with the first electrode connector 22b that connects the first sensor part 22a. The first sensor part 22a may be formed in a first direction (X-axis direction in the drawing, hereinafter the same), and the first electrode connection part 22b connects the first sensor part 22a in the first direction. . The first electrode connection part 22b may be integrally formed with the first sensor part 22a.

이와 유사하게, 제2 전극(24)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지하는 제2 센서부(24a)와 이러한 제2 센서부(24a)를 연결하는 제2 전극 연결부(24b)을 포함한다. 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지하는 제2 센서부(24a)는 제1 방향과 교차하는 제2 방향(도면의 Y축 방향, 이하 동일)으로 형성될 수 있다. 제2 전극 연결부(24b)은 이러한 제2 센서부(24a)를 제2 방향으로 연결한다. 이러한 제2 전극 연결부(24b)에 대해서는 뒤에서 상세하게 설명하기로 한다.Similarly, the second electrode 24 includes a second sensor part 24a for detecting whether an input device such as a finger is in contact with the second electrode connection part 24b for connecting the second sensor part 24a. . The second sensor unit 24a which detects whether an input device such as a finger is in contact with each other may be formed in a second direction (Y-axis direction in the drawing, hereinafter same) that crosses the first direction. The second electrode connection part 24b connects the second sensor part 24a in the second direction. The second electrode connection part 24b will be described in detail later.

도면에서는 제1 및 제2 센서부(22a, 24a)가 마름모 형상을 가지는 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 제1 및 제2 센서부(22a, 24a)는 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지를 감지할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 일례로, 사각형, 오각형 등의 다각형, 원형 또는 타원형 등의 형상을 가질 수 있다.In the drawing, although the first and second sensor units 22a and 24a have a rhombus shape, the embodiment is not limited thereto. Accordingly, the first and second sensor units 22a and 24a may be formed in various shapes capable of detecting whether an input device such as a finger is in contact with each other. For example, it may have a shape such as a polygon, a circle or an oval, such as a quadrangle or a pentagon.

이러한 제1 센서부(22a), 제1 전극 연결부(22b) 및 제2 센서부(24a)는 광의 투과를 방해하지 않으면서 전기가 흐를 수 있도록 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 구체적으로, 인듐 틴 산화물(indium tin oxide), 인듐 징크 산화물(indium zinc oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머 및 은 나노 와이어 잉크(Ag nano wire ink) 등의 물질을 포함할 수 있다.The first sensor unit 22a, the first electrode connection unit 22b, and the second sensor unit 24a may include a transparent conductive material so that electricity can flow without disturbing the transmission of light. Specifically, materials such as indium tin oxide, indium zinc oxide, carbon nano tube (CNT), conductive polymer, and silver nano wire ink may be included. can do.

이러한 제1 센서부(22a), 제1 전극 연결부(22b) 및 제2 센서부(24a)는 물리적 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 등 다양한 박막 증착 기술에 의하여 형성될 수 있다.The first sensor unit 22a, the first electrode connection unit 22b, and the second sensor unit 24a may be used in various thin film deposition techniques such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). Can be formed.

이어서, 위의 제2 센서부(24a)을 연결하기 위해 제2 전극 연결부(24b)이 형성되는데, 제2 전극 연결부(24b)은 메쉬(mesh) 형상으로 형성된다.Subsequently, a second electrode connection part 24b is formed to connect the second sensor part 24a, and the second electrode connection part 24b is formed in a mesh shape.

제2 전극 연결부(24b)을 메쉬 형상으로 형성하기 위해서, 전극 물질을 도포한 후 포토레지스트 공정(photoresist)으로 에칭하여 형성할 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니므로 메쉬 형상을 형성할 수 있는 다양한 공정을 이용할 수 있다.In order to form the second electrode connection part 24b in a mesh shape, the electrode material may be formed by applying an electrode material and then etching it by a photoresist process. However, the embodiment is not limited thereto, and thus various processes capable of forming a mesh shape may be used.

이러한 제2 전극 연결부(24b)의 선폭이 1 um 내지 5 um 일 수 있다. 1 um 이하의 선폭을 갖는 제2 전극 연결부(24b)은 공정 상 불가능하고, 선폭이 5 um 보다 클 경우, 이러한 제2 전극 연결부(24b)의 메쉬 형상이 눈에 보일 수 있다. 이러한 선폭을 갖는 경우, 메쉬의 형상에 관계없이 육안으로 확인되지 않기 때문에 다양한 형상을 가질 수 있다.The line width of the second electrode connection part 24b may be 1 um to 5 um. The second electrode connecting portion 24b having a line width of 1 um or less is impossible in the process, and when the line width is larger than 5 um, the mesh shape of the second electrode connecting portion 24b may be visible. In the case of having such a line width, since it is not visually confirmed regardless of the shape of the mesh, it may have various shapes.

이러한 제2 전극 연결부(24b)은 전기 전도도가 우수한 금속을 포함할 수 있다. 일례로, 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag) 및 몰리브덴(Mo)의 금속 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다. The second electrode connection part 24b may include a metal having excellent electrical conductivity. For example, it may be formed of a metal of chromium (Cr), nickel (Ni), copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), and molybdenum (Mo) or an alloy thereof.

그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니므로 제2 전극 연결부(24b)은 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 일례로, 제2 전극 연결부(24b)은 인듐 틴 산화물(indium tin oxide), 인듐 징크 산화물(indium zinc oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머, 은 나노 와이어 잉크(Ag nano wire ink) 중 어느 하나를 포함할 수 있다.However, since the embodiment is not limited thereto, the second electrode connection part 24b may include a transparent conductive material. For example, the second electrode connection part 24b may be formed of indium tin oxide, indium zinc oxide, carbon nano tube (CNT), conductive polymer, and silver nano wire ink. wire ink) may be included.

또한, 메쉬 형상이 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다. 이는 제2 전극 연결부(24b)을 형성하는 물질에 따라 유연성(flexibility) 또는 접착력(adhesion)이 달라지는데, 이러한 성질에 따라 다층으로 형성되어 더욱 유리한 성질을 가지도록 할 수 있다.In addition, the mesh shape may be formed in a single layer or multiple layers. The flexibility or adhesion varies depending on the material forming the second electrode connection part 24b, and may be formed in multiple layers according to such properties to have more advantageous properties.

제1 전극 연결부(22b)과 제2 전극 연결부(24b)의 전기적 단락을 방지하기 위해 투명 절연층(50)이 형성된다. 구체적으로, 이러한 투명 절연층(50)은 제1 전극 연결부(22b)과 제2 전극 연결부(24b)을 절연할 수 있는 투명 절연성 물질로 형성될 수 있다. 일례로, 투명 절연층(50)은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물 등을 포함 할 수 있고, 이러한 투명 절연층(50)이 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다. The transparent insulating layer 50 is formed to prevent an electrical short between the first electrode connection part 22b and the second electrode connection part 24b. Specifically, the transparent insulating layer 50 may be formed of a transparent insulating material capable of insulating the first electrode connecting portion 22b and the second electrode connecting portion 24b. For example, the transparent insulating layer 50 may include magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, and the like. The transparent insulating layer 50 may be formed in a single layer or multiple layers.

기판(10)의 더미 영역(DA)으로 투명 전극(20)에 연결되는 배선(40) 및 이 배선(40)에 연결되는 인쇄 회로 기판이 형성된다. 이러한 배선(40)은 더미 영역(DA)에 위치하므로 전기 전도성이 우수한 금속으로 이루어질 수 있다. 인쇄 회로 기판으로는 다양한 형태의 인쇄 회로 기판이 적용될 수 있는데, 일례로 플렉서블 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB) 등이 적용될 수 있다.A wiring 40 connected to the transparent electrode 20 and a printed circuit board connected to the wiring 40 are formed in the dummy area DA of the substrate 10. Since the wiring 40 is located in the dummy area DA, the wiring 40 may be made of a metal having excellent electrical conductivity. As the printed circuit board, various types of printed circuit boards may be applied. For example, a flexible printed circuit board (FPCB) may be applied.

기판(10)의 상면(10a) 및 투명 전극용 기재(30)의 제4 면(30b) 중 적어도 어느 한 면에 반사 방지층(70)이 형성될 수 있다. 도면에서는 투명 전극용 기재(30)의 제4 면(30b)에 반사 방지층(70)이 형성되는 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서 기판(10)의 상면(10a)에만 반사 방지층(70)이 형성될 수 있고, 반사 방지층(70)의 효과를 극대화하기 위해 기판(10)의 상면(10a) 및 투명 전극용 기재(30)의 제4 면(30b) 양면에 모두 형성될 수 있다.An anti-reflection layer 70 may be formed on at least one of the upper surface 10a of the substrate 10 and the fourth surface 30b of the transparent electrode substrate 30. In the drawing, although the anti-reflection layer 70 is formed on the fourth surface 30b of the substrate 30 for transparent electrodes, the embodiment is not limited thereto. Therefore, the anti-reflection layer 70 may be formed only on the top surface 10a of the substrate 10, and in order to maximize the effect of the anti-reflection layer 70, the top surface 10a of the substrate 10 and the substrate 30 for the transparent electrode 30 may be formed. It may be formed on both sides of the fourth surface (30b) of.

반사 방지층(70)은 반사에 의한 눈부심이나 화면이 보이지 않는 현상을 막기 위해 가시광 영역의 빛의 반사율을 낮추는 역할을 한다. 즉, 반사 방지층(70)은 반사의 악영향을 효과적으로 감소시켜 우수한 해상도를 제공할 수 있고 시인성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널의 투과율을 90% 이상, 바람직하게는 92% 이상, 최대로는 99%까지 향상하는 역할을 할 수 있다.The anti-reflection layer 70 serves to lower the reflectance of light in the visible region in order to prevent glare or reflection of the screen. In other words, the anti-reflection layer 70 can effectively reduce the adverse effects of reflection to provide excellent resolution and improve visibility. In addition, the transmittance of the touch panel may serve to improve 90% or more, preferably 92% or more, and up to 99%.

이러한 반사 방지층(70)은 굴절률이 1.35 내지 2.7인 산화물 또는 불화물을 포함할 수 있다. 이러한 굴절률은 반사 방지에 적합한 범위로 결정된 것이며, 이러한 반사 방지층(70)은 서로 다른 굴절률을 가지는 물질을 한 층 이상 적층하여 형성될 수 있다.The anti-reflection layer 70 may include an oxide or fluoride having a refractive index of 1.35 to 2.7. The refractive index is determined to be a range suitable for antireflection, and the antireflection layer 70 may be formed by stacking one or more layers of materials having different refractive indices.

상술한 산화물 또는 불화물로는, 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물 등이 사용될 수 있다.As the above-described oxide or fluoride, magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, or the like may be used.

이때, 반사 방지층(70)은, 스퍼터링(sputtering)이나 롤투롤(roll to roll)공정 에 의해 형성될 수 있다. 스퍼터링은 이온화된 원자를 전기장에 의해 가속시켜 박막 재료(source material)에 충돌시키고, 이 충돌에 의해 박막 재료의 원자들이 증착되는 방법이다. 롤투롤 공정은 종이나 필름 같은 소재를 롤에 감아 그대로 가공하는 공정을 말한다.In this case, the anti-reflection layer 70 may be formed by a sputtering or roll to roll process. Sputtering is a method in which ionized atoms are accelerated by an electric field to impinge on a thin film material, whereby the atoms of the thin film material are deposited. The roll-to-roll process refers to a process in which a material such as paper or film is wound on a roll and processed as it is.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. In addition, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

10: 기판
20: 투명 전극
22: 제1 전극
22a: 제1 센서부
22b: 제1 전극 연결부
24: 제2 전극
24a: 제2 센서부
24b: 제2 전극 연결부
50: 투명 절연층
60: 중간층
70: 반사 방지층
10: Substrate
20: transparent electrode
22: first electrode
22a: first sensor unit
22b: first electrode connecting portion
24: second electrode
24a: second sensor unit
24b: second electrode connection portion
50: transparent insulation layer
60: middle layer
70: antireflection layer

Claims (15)

기판;
상기 기판과 이격되어 형성되는 투명 전극용 기재; 및
상기 투명 전극용 기재에 형성되는 투명 전극
을 포함하고,
상기 투명 전극은 제1 방향으로 형성되는 제1 센서부 및 상기 제1 센서부를 전기적으로 연결하는 제1 전극 연결부를 포함하는 제1 전극; 및
상기 제1 전극과 전기적으로 절연되며, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되는 제2 센서부 및 상기 제2 센서부를 전기적으로 연결하는 제2 전극 연결부를 포함하는 제2 전극
을 포함하고,
상기 제2 전극 연결부가 메쉬(mesh) 형상인 터치 패널.
Board;
A transparent electrode base material spaced apart from the substrate; And
Transparent electrode formed on the substrate for transparent electrode
Including,
The transparent electrode may include a first electrode including a first sensor part formed in a first direction and a first electrode connection part electrically connecting the first sensor part; And
A second electrode electrically insulated from the first electrode and including a second sensor part formed in a second direction crossing the first direction and a second electrode connection part electrically connecting the second sensor part;
Including,
The second electrode connector is a mesh (mesh) shape touch panel.
제1항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부의 선폭이 1 nm 내지 5 um 인 터치 패널.
The method of claim 1,
The line width of the second electrode connection portion is 1 nm to 5 um.
제1항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부는 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 몰리브덴(Mo) 및 이를 포함하는 합금으로 이루어진 군에서 적어도 하나를 포함하는 터치 패널.
The method of claim 1,
The second electrode connection part includes at least one of chromium (Cr), nickel (Ni), copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), molybdenum (Mo), and an alloy including the same. panel.
제1항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부는 인듐 틴 산화물(indium tin oxide), 인듐 징크 산화물(indium zinc oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머, 및 은 나노 와이어 잉크(Ag nano wire ink)로 이루어진 군에서 적어도 하나를 포함하는 터치 패널.
The method of claim 1,
The second electrode connection portion is formed of indium tin oxide, indium zinc oxide, carbon nano tube (CNT), conductive polymer, and silver nano wire ink. Touch panel comprising at least one from the group consisting of.
제2항에 있어서,
상기 메쉬 형상이 한 층 이상으로 이루어지는 터치 패널.
The method of claim 2,
The touch panel which the said mesh shape consists of one or more layers.
제1항에 있어서,
상기 투명 전극용 기재와 상기 투명 전극 사이에 중간층이 형성되는 터치 패널.
The method of claim 1,
A touch panel in which an intermediate layer is formed between the transparent electrode base material and the transparent electrode.
제6항에 있어서,
상기 중간층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 적어도 어느 하나를 포함하는 터치 패널.
The method of claim 6,
The intermediate layer includes at least one of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide and niobium oxide.
제7항에 있어서,
상기 중간층이 단층 또는 다층으로 형성되는 터치 패널.
The method of claim 7, wherein
A touch panel in which the intermediate layer is formed of a single layer or a multilayer.
제1항에 있어서,
상기 제1 전극 연결부와 상기 제2 전극 연결부 사이에 투명 절연층을 포함하는 터치 패널.
The method of claim 1,
A touch panel comprising a transparent insulating layer between the first electrode connection portion and the second electrode connection portion.
제9항에 있어서,
상기 투명 절연층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 적어도 어느 하나를 포함하는 터치 패널.
10. The method of claim 9,
The transparent insulation layer includes at least one of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide.
제10항에 있어서,
상기 투명 절연층이 단층 또는 다층으로 형성되는 터치 패널.
The method of claim 10,
Touch panel wherein the transparent insulating layer is formed of a single layer or multiple layers.
제1항에 있어서,
상기 기판과 상기 투명 전극용 기재 사이에 광학용 투명 접착제(optically clear adhesive, OCA)가 형성되는 터치 패널.
The method of claim 1,
An optically clear adhesive (OCA) is formed between the substrate and the substrate for transparent electrode.
제1항에 있어서,
상기 기판 및 상기 투명 전극용 기재 중 적어도 어느 한 면에 반사 방지층이 형성되는 터치 패널.
The method of claim 1,
A touch panel having an antireflection layer formed on at least one surface of the substrate and the substrate for transparent electrode.
제13항에 있어서,
상기 반사 방지층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 적어도 어느 하나를 포함하는 터치 패널.
The method of claim 13,
The anti-reflection layer includes at least one of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide.
제14항에 있어서,
상기 반사 방지층이 단층 또는 다층으로 형성되는 터치 패널.
15. The method of claim 14,
The anti-reflection layer is a touch panel formed of a single layer or multiple layers.
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