KR101199155B1 - Touch panel and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

실시예에 따른 터치 패널은, 기판; 상기 기판에 제1 방향으로 형성되는 제1 센서부 및 상기 제1 센서부를 전기적으로 연결하는 제1 전극 연결부를 포함하는 제1 투명 전극; 및 상기 제1 투명 전극과 전기적으로 절연되며, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되는 제2 센서부 및 상기 제2 센서부를 전기적으로 연결하는 제2 전극 연결부를 포함하는 제2 투명 전극을 포함하고, 상기 제2 전극 연결부가 메쉬(mesh) 형상이다.In one embodiment, a touch panel includes a substrate; A first transparent electrode including a first sensor part formed on the substrate in a first direction and a first electrode connection part electrically connecting the first sensor part; And a second sensor part electrically insulated from the first transparent electrode and formed in a second direction crossing the first direction, and a second electrode connection part electrically connecting the second sensor part. It includes, wherein the second electrode connection portion is a mesh (mesh) shape.

Description

터치 패널 및 이의 제조 방법{TOUCH PANEL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}TOUCH PANEL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

본 기재는 터치 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present disclosure relates to a touch panel and a method of manufacturing the same.

최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 입력을 하는 터치 패널이 적용되고 있다.Recently, various electronic products have been applied to a touch panel for inputting a method of contacting an input device such as a finger or a stylus to an image displayed on a display device.

터치 패널은 크게 저항막 방식의 터치 패널과 정전 용량 방식의 터치 패널로 구분될 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 입력 장치의 압력에 의하여 유리와 전극이 단락되어 위치가 검출된다. 정전 용량 방식의 터치 패널은 손가락이 접촉했을 때 전극 사이의 정전 용량이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다.The touch panel can be largely divided into a resistance film type touch panel and a capacitive type touch panel. In the resistive touch panel, the glass and the electrode are short-circuited by the pressure of the input device and the position is detected. A capacitance type touch panel senses a change in electrostatic capacitance between electrodes when a finger touches them, thereby detecting the position.

이러한 터치 패널에서 두께를 줄이고 광 특성을 향상하기 위해 연결(bridge) 전극을 활용한 1층(1 layer) 터치 패널이 각광받고 있다. 그러나 유효 영역에서 연결 전극의 크기에 따라 연결 전극의 패턴이 보이는 문제가 있다.In such touch panels, in order to reduce thickness and improve optical characteristics, one-layer touch panels using bridge electrodes have been in the spotlight. However, there is a problem in that the pattern of the connection electrode is visible according to the size of the connection electrode in the effective region.

실시예에서는 신뢰성 및 특성을 향상할 수 있는 터치 패널 및 이의 제조 방법을 제공하고자 한다.Embodiments provide a touch panel and a method of manufacturing the same that can improve reliability and characteristics.

실시예에 따른 터치 패널은, 기판; 상기 기판에 제1 방향으로 형성되는 제1 센서부 및 상기 제1 센서부를 전기적으로 연결하는 제1 전극 연결부를 포함하는 제1 투명 전극; 및 상기 제1 투명 전극과 전기적으로 절연되며, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되는 제2 센서부 및 상기 제2 센서부를 전기적으로 연결하는 제2 전극 연결부를 포함하는 제2 투명 전극을 포함하고, 상기 제2 전극 연결부가 메쉬(mesh) 형상이다.In one embodiment, a touch panel includes a substrate; A first transparent electrode including a first sensor part formed on the substrate in a first direction and a first electrode connection part electrically connecting the first sensor part; And a second sensor part electrically insulated from the first transparent electrode and formed in a second direction crossing the first direction, and a second electrode connection part electrically connecting the second sensor part. It includes, wherein the second electrode connection portion is a mesh (mesh) shape.

실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판에 메쉬 형상의 제2 전극 연결부를 형성하는 단계; 및 상기 제2 전극 연결부에 투명 전도성 물질로 제1 센서부, 제2 센서부 및 상기 제2 전극 연결부와 전기적으로 절연되는 제1 전극 연결부를 형성하는 단계를 포함한다.Method of manufacturing a touch panel according to the embodiment, preparing a substrate; Forming a second electrode connection part having a mesh shape on the substrate; And forming a first electrode connection part electrically insulated from the first sensor part, the second sensor part, and the second electrode connection part by using a transparent conductive material on the second electrode connection part.

실시예에 따른 터치 패널은, 연결 전극을 메쉬 형상으로 형성함으로써 유효 영역 상에서 연결 전극의 패턴이 보이지 않게 할 수 있다.In the touch panel according to the embodiment, the connection electrode may be formed in a mesh shape so that the pattern of the connection electrode is not visible on the effective area.

한편, 실시예에 따른 터치 패널에서는, 기판과 투명 전극 사이에 인덱스 매칭을 할 수 있는 중간층을 개재하여, 투과율, 반사율 및 색차(b*, yellowish) 특성을 향상하면서도 투명 전극을 중간층 상에 직접 형성할 수 있다. 따라서 투과율을 향상하면서도 제조 비용을 절감할 수 있다. 더욱이, 인덱스 매칭에 의하여 투명 전도성 물질로 형성된 투명 전극을 보이지 않도록(invisible) 할 수 있다. 이에 의하여 터치 패널이 적용된 디스플레이의 시인성을 향상할 수 있다.Meanwhile, in the touch panel according to the embodiment, the transparent electrode is directly formed on the intermediate layer while improving the transmittance, reflectance, and color difference (b *, yellowish) characteristics through an intermediate layer capable of index matching between the substrate and the transparent electrode. can do. Therefore, the manufacturing cost can be reduced while improving the transmittance. Furthermore, it is possible to make the transparent electrode formed of the transparent conductive material invisible by index matching. Thereby, the visibility of the display to which the touch panel is applied can be improved.

실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, 상술한 효과를 가지는 터치 패널을 제조할 수 있다.The method for manufacturing a touch panel according to the embodiment can manufacture a touch panel having the above-described effects.

도 1은 실시예에 따른 터치 패널의 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다.
도 3은 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 4는 Ⅳ-Ⅳ선을 따라 잘라서 본 단면도이다.
도 5는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 6은 제3 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 7 내지 도 9는 터치 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다.1 is a plan view of a touch panel according to an embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1.
3 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.
4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV.
5 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.
6 is a cross-sectional view of a touch panel according to a third embodiment.
7 to 9 are plan views and cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch panel.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of embodiments, each layer, region, pattern, or structure may be “on” or “under” the substrate, each layer, region, pad, or pattern. Substrate formed in ”includes all formed directly or through another layer. Criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer will be described with reference to the drawings.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 5를 참조하여 실시예에 따른 터치 패널을 상세하게 설명한다. 도 1은 실시예에 따른 터치 패널의 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다. 도 3은 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이고, 도 4는 Ⅳ-Ⅳ선을 따라 잘라서 본 단면도이며, 도 5는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.A touch panel according to an embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 5. 1 is a plan view of a touch panel according to an embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1. 3 is a cross-sectional view of the touch panel according to the second embodiment, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV, and FIG. 5 is a cross-sectional view of the touch panel according to the second embodiment.

도 1 및 도 2를 참조하면, 실시예에 따른 터치 패널에는, 입력 장치의 위치를 감지하는 유효 영역(AA)과, 이 유효 영역(AA)의 외곽으로 위치하는 더미 영역(DA)이 정의된다.1 and 2, in the touch panel according to the embodiment, an effective area AA for detecting a position of an input device and a dummy area DA positioned outside the effective area AA are defined. .

여기서, 유효 영역(AA)에는 입력 장치를 감지할 수 있도록 투명 전극(20)이 형성될 수 있다. 그리고 더미 영역(DA)에는 투명 전극(20)에 연결되는 배선(40) 및 이 배선(40)을 외부 회로(도시하지 않음, 이하 동일)에 연결하는 인쇄 회로 기판(도시하지 않음, 이하 동일) 등이 위치할 수 있다. 이러한 터치 패널을 좀더 상세하게 설명하면 다음과 같다.Here, the transparent electrode 20 may be formed in the effective area AA to detect the input device. In the dummy area DA, a wiring 40 connected to the transparent electrode 20 and a printed circuit board connecting the wiring 40 to an external circuit (not shown) are the same. Etc. may be located. The touch panel will be described in more detail as follows.

도 2를 참조하면, 제1 실시예에 따른 터치 패널(100)은, 서로 반대되는 제1 면(10a) 및 제2 면(10b)을 포함하는 기판(10), 이 기판의 제1 면(10a)에 형성되는 중간층(60), 투명 전극(도 1의 참조부호 20, 이하 동일) 및 반사 방지층(70) 등을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the touch panel 100 according to the first embodiment includes a substrate 10 including a first surface 10a and a second surface 10b opposite to each other, and a first surface of the substrate ( The intermediate layer 60 formed at 10a), a transparent electrode (reference numeral 20 of FIG. 1, the same below), an antireflection layer 70, and the like may be included.

기판(10)은 이 위에 형성되는 중간층(60), 투명 전극(20) 등을 지지할 수 있는 다양한 물질로 형성될 수 있다. 이러한 기판(10)은 일례로 유리 기판 또는 플라스틱 기판으로 이루어질 수 있다.The substrate 10 may be formed of various materials capable of supporting the intermediate layer 60, the transparent electrode 20, and the like formed thereon. The substrate 10 may be made of, for example, a glass substrate or a plastic substrate.

이 기판(10)의 제1 면(이하 “상면”)(10a)에 투명 전극(20)이 형성된다.The transparent electrode 20 is formed on the first surface (hereinafter, “top surface”) 10a of the substrate 10.

이러한 투명 전극(20)은 제1 전극(22) 및 제2 전극(24)을 포함할 수 있다. 그리고 제1 전극(22)은 제1 센서부(22a) 및 제1 전극 연결부(22b)을 포함하고, 제2 전극(24)은 제2 센서부(24a) 및 제2 전극 연결부(24b)을 포함한다. The transparent electrode 20 may include a first electrode 22 and a second electrode 24. The first electrode 22 includes a first sensor part 22a and a first electrode connection part 22b, and the second electrode 24 connects the second sensor part 24a and the second electrode connection part 24b. Include.

이와 같은 터치 패널에 손가락 등의 입력 장치가 접촉되면, 입력 장치가 접촉된 부분에서 정전 용량의 차이가 발생되고, 이 차이가 발생된 부분을 접촉 위치로 검출할 수 있다.When an input device such as a finger is in contact with such a touch panel, a difference in capacitance occurs at a portion where the input device contacts, and a portion where the difference is generated can be detected as a contact position.

구체적으로, 제1 전극(22)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지하는 제1 센서부(22a)와 이러한 제1 센서부(22a)를 연결하는 제1 전극 연결부(22b)을 포함한다. 제1 센서부(22a)는 제1 방향(도면의 X축 방향, 이하 동일)으로 형성될 수 있고, 제1 전극 연결부(22b)은 이러한 제1 센서부(22a)을 제1 방향으로 연결한다. 제1 전극 연결부(22b)은 제1 센서부(22a)와 일체로 형성될 수 있다. Specifically, the first electrode 22 includes a first sensor part 22a that detects whether an input device such as a finger is in contact with the first electrode connector 22b that connects the first sensor part 22a. The first sensor part 22a may be formed in a first direction (X-axis direction in the drawing, hereinafter the same), and the first electrode connection part 22b connects the first sensor part 22a in the first direction. . The first electrode connection part 22b may be integrally formed with the first sensor part 22a.

이와 유사하게, 제2 전극(24)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지하는 제2 센서부(24a)와 이러한 제2 센서부(24a)를 연결하는 제2 전극 연결부(24b)을 포함한다. 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지하는 제2 센서부(24a)는 제1 방향과 교차하는 제2 방향(도면의 Y축 방향, 이하 동일)으로 형성될 수 있다. 제2 전극 연결부(24b)은 이러한 제2 센서부(24a)를 제2 방향으로 연결한다. 이러한 제2 전극 연결부(24b)에 대해서는 뒤에서 상세하게 설명하기로 한다.Similarly, the second electrode 24 includes a second sensor part 24a for detecting whether an input device such as a finger is in contact with the second electrode connection part 24b for connecting the second sensor part 24a. . The second sensor unit 24a which detects whether an input device such as a finger is in contact with each other may be formed in a second direction (Y-axis direction in the drawing, hereinafter same) that crosses the first direction. The second electrode connection part 24b connects the second sensor part 24a in the second direction. The second electrode connection part 24b will be described in detail later.

도면에서는 제1 및 제2 센서부(22a, 24a)가 마름모 형상을 가지는 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 제1 및 제2 센서부(22a, 24a)는 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지를 감지할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 일례로, 사각형, 오각형 등의 다각형, 원형 또는 타원형 등의 형상을 가질 수 있다.In the drawing, although the first and second sensor units 22a and 24a have a rhombus shape, the embodiment is not limited thereto. Accordingly, the first and second sensor units 22a and 24a may be formed in various shapes capable of detecting whether an input device such as a finger is in contact with each other. For example, it may have a shape such as a polygon, a circle or an oval, such as a quadrangle or a pentagon.

이러한 제1 센서부(22a), 제1 전극 연결부(22b) 및 제2 센서부(24a)는 광의 투과를 방해하지 않으면서 전기가 흐를 수 있도록 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 구체적으로, 인듐 틴 산화물(indium tin oxide), 인듐 징크 산화물(indium zinc oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머 및 은 나노 와이어 잉크(Ag nano wire ink) 등의 물질을 포함할 수 있다. The first sensor unit 22a, the first electrode connection unit 22b, and the second sensor unit 24a may include a transparent conductive material so that electricity can flow without disturbing the transmission of light. Specifically, materials such as indium tin oxide, indium zinc oxide, carbon nano tube (CNT), conductive polymer, and silver nano wire ink may be included. can do.

이어서, 위의 제2 센서부(24a)을 연결하기 위한 제2 전극 연결부(24b)은 메쉬(mesh) 형상을 가진다.Subsequently, the second electrode connection part 24b for connecting the second sensor part 24a has a mesh shape.

이러한 제2 전극 연결부(24b)의 선폭이 1 nm 내지 5 um 일 수 있다. 1 nm 이하의 선폭을 갖는 제2 전극 연결부(24b)은 공정 상 불가능하고, 선폭이 5um 보다 클 경우, 이러한 제2 전극 연결부(24b)의 메쉬 형상이 눈에 보일 수 있다. 이러한 선폭을 갖는 경우, 메쉬의 형상에 관계없이 육안으로 확인되지 않기 때문에 다양한 형상을 가질 수 있다.The line width of the second electrode connection part 24b may be 1 nm to 5 um. The second electrode connection part 24b having a line width of 1 nm or less is impossible in the process, and when the line width is larger than 5 μm, the mesh shape of the second electrode connection part 24b may be visible. In the case of having such a line width, since it is not visually confirmed regardless of the shape of the mesh, it may have various shapes.

이러한 제2 전극 연결부(24b)은 전기 전도도가 우수한 금속을 포함할 수 있다. 일례로, 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 몰리브덴(Mo) 및 이들의 합금으로 형성될 수 있다. The second electrode connection part 24b may include a metal having excellent electrical conductivity. For example, it may be formed of chromium (Cr), nickel (Ni), copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), molybdenum (Mo), and alloys thereof.

그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니므로 제2 전극 연결부(24b)은 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 일례로, 제2 전극 연결부(24b)은 인듐 틴 산화물(indium tin oxide), 인듐 징크 산화물(indium zinc oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머 및 은 나노 와이어 잉크(Ag nano wire ink) 중 어느 하나를 포함할 수 있다.However, since the embodiment is not limited thereto, the second electrode connection part 24b may include a transparent conductive material. For example, the second electrode connection part 24b may be formed of indium tin oxide, indium zinc oxide, carbon nano tube (CNT), conductive polymer, and silver nano wire ink (Ag nano). wire ink) may be included.

또한, 메쉬 형상이 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다. 이는 제2 전극 연결부(24b)을 형성하는 물질에 따라 유연성(flexibility) 또는 접착력(adhesion)이 달라지는데, 이러한 성질에 따라 다층으로 형성되어 더욱 유리한 성질을 가지도록 할 수 있다. In addition, the mesh shape may be formed in a single layer or multiple layers. The flexibility or adhesion varies depending on the material forming the second electrode connection part 24b, and may be formed in multiple layers according to such properties to have more advantageous properties.

이러한 제2 전극 연결부(24b)에 컨택홀(60a)을 구비하는 중간층(60)이 형성될 수 있다. The intermediate layer 60 having the contact hole 60a may be formed in the second electrode connection part 24b.

이 중간층(60)은 금속 산화물 또는 금속 불화물을 포함할 수 있는데, 일례로, 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물 등을 포함할 수 있다. 중간층(60)은 특정한 굴절률을 가지도록 하여 인덱스 매칭(index matching)이 되도록 할 수 있다.The intermediate layer 60 may include metal oxides or metal fluorides, for example magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and the like. Niobium oxide and the like. The intermediate layer 60 may have a specific refractive index to be index matching.

중간층(60)은 특정한 굴절률을 가질 수 있도록 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다. 일례로, 중간층(60)이 고굴절률의 제1 층과 저굴절률의 제2 층을 기판(10) 상에 차례로 형성하여 유효 영역(AA)에서 터치 패널의 투과율을 향상시킬 수 있다. The intermediate layer 60 may be formed in a single layer or multiple layers to have a specific refractive index. For example, the intermediate layer 60 may sequentially form the first layer having the high refractive index and the second layer having the low refractive index on the substrate 10 to improve the transmittance of the touch panel in the effective area AA.

일례로, 제1 층은 굴절률이 높은 탄탈륨 산화물, 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 지르코늄 산화물 또는 납 산화물을 포함할 수 있으며, 제2 층은 굴절률이 낮은 규소 산화물을 포함할 수 있다. 일례로, 티타늄 산화물의 굴절률이 2.2, 니오븀 산화물의 굴절률이 2.4, 규소 산화물의 굴절률이 1.4 일 수 있다. 이 경우 터치 패널의 투과율을 90% 이상, 바람직하게는 92% 이상, 최대로는 99%까지 향상할 수 있다. 또한, 복수의 제1 층과 제2 층이 교대로 적층될 수도 있다. In one example, the first layer may include high refractive index tantalum oxide, titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide or lead oxide, and the second layer may include silicon oxide having low refractive index. For example, the refractive index of titanium oxide may be 2.2, the refractive index of niobium oxide is 2.4, and the refractive index of silicon oxide may be 1.4. In this case, the transmittance of the touch panel can be improved to 90% or more, preferably 92% or more, up to 99%. Also, a plurality of first layers and second layers may be alternately stacked.

한편, 기판(10)의 더미 영역(DA)으로 투명 전극(20)에 연결되는 배선(40) 및 이 배선(40)에 연결되는 인쇄 회로 기판이 형성된다. 이러한 배선(40)은 더미 영역(DA)에 위치하므로 전기 전도성이 우수한 금속으로 이루어질 수 있다. 인쇄 회로 기판으로는 다양한 형태의 인쇄 회로 기판이 적용될 수 있는데, 일례로 플렉서블 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB) 등이 적용될 수 있다.Meanwhile, a wiring 40 connected to the transparent electrode 20 and a printed circuit board connected to the wiring 40 are formed as the dummy area DA of the substrate 10. Since the wiring 40 is located in the dummy area DA, the wiring 40 may be made of a metal having excellent electrical conductivity. As the printed circuit board, various types of printed circuit boards can be applied. For example, a flexible printed circuit board (FPCB) or the like can be applied.

도 2 및 도 4를 참조하면, 기판(10)의 제2 면(이하, “하면”)(10b) 및 투명 전극(20) 중 적어도 어느 한 면에 반사 방지층(70)이 형성될 수 있다. 도면에서는 투명 전극(20)에 반사 방지층(70)이 형성되는 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서 기판(10)의 하면(10b)에만 반사 방지층(70)이 형성될 수 있고, 반사 방지층(70)의 효과를 극대화하기 위해 기판(10)의 하면(10b) 및 투명 전극(20)의 양면에 형성될 수 있다.2 and 4, an anti-reflection layer 70 may be formed on at least one of the second surface (hereinafter referred to as “lower surface”) 10b of the substrate 10 and the transparent electrode 20. In the drawings, the anti-reflection layer 70 is formed on the transparent electrode 20, but the embodiment is not limited thereto. Accordingly, the antireflection layer 70 may be formed only on the bottom surface 10b of the substrate 10, and in order to maximize the effect of the antireflection layer 70, both surfaces of the bottom surface 10b of the substrate 10 and the transparent electrode 20 may be formed. Can be formed on.

반사 방지층(70)은 반사에 의한 눈부심이나 화면이 보이지 않는 현상을 막기 위해 가시광 영역의 빛의 반사율을 낮추는 역할을 한다. 즉, 반사 방지층(70)은 반사의 악영향을 효과적으로 감소시켜 우수한 해상도를 제공할 수 있고 시인성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널의 투과율을 90% 이상, 바람직하게는 92% 이상, 최대로는 99%까지 향상하는 역할을 할 수 있다.The anti-reflection layer 70 serves to lower the reflectance of light in the visible region in order to prevent glare or reflection of the screen. In other words, the anti-reflection layer 70 can effectively reduce the adverse effects of reflection to provide excellent resolution and improve visibility. In addition, the transmittance of the touch panel may serve to improve 90% or more, preferably 92% or more, and up to 99%.

이러한 반사 방지층(70)은 굴절률이 1.35 내지 2.7인 산화물 또는 불화물을 포함할 수 있다. 이러한 굴절률은 반사 방지에 적합한 범위로 결정된 것이며, 이러한 반사 방지층(70)은 서로 다른 굴절률을 가지는 물질을 한 층 이상 적층하여 형성될 수 있다.The anti-reflection layer 70 may include an oxide or fluoride having a refractive index of 1.35 to 2.7. The refractive index is determined to be a range suitable for antireflection, and the antireflection layer 70 may be formed by stacking one or more layers of materials having different refractive indices.

상술한 산화물 또는 불화물로는, 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물 등이 사용될 수 있다.As the above-described oxide or fluoride, magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, or the like may be used.

이때, 반사 방지층(70)은, 스퍼터링(sputtering)이나 롤투롤(roll to roll)공정 에 의해 형성될 수 있다. 스퍼터링은 이온화된 원자를 전기장에 의해 가속시켜 박막 재료(source material)에 충돌시키고, 이 충돌에 의해 박막 재료의 원자들이 증착되는 방법이다. 롤투롤 공정은 종이나 필름 같은 소재를 롤에 감아 그대로 가공하는 공정을 말한다.In this case, the anti-reflection layer 70 may be formed by a sputtering or roll to roll process. Sputtering is a method in which ionized atoms are accelerated by an electric field to impinge on a thin film material, whereby the atoms of the thin film material are deposited. The roll-to-roll process refers to a process in which a material such as paper or film is wound on a roll and processed as it is.

도 3 및 도 5를 참조하면, 제2 실시예에 따른 터치 패널(200)에서는, 투명 전극(20)에 보호층(80)이 형성될 수 있다. 이러한 보호층(80)은 투명 전극(20)의 손상을 방지하는 보호막 역할을 할 수 있다.3 and 5, in the touch panel 200 according to the second embodiment, a protective layer 80 may be formed on the transparent electrode 20. The protective layer 80 may serve as a protective film for preventing damage to the transparent electrode 20.

보호층(80)은 고굴절률을 가지는 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 탄탈륨 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물 등을 포함할 수 있다. 이러한 고굴절률의 보호층(80)을 다층으로 적층하여 투과율을 좀더 향상할 수 있다. 또한 이러한 보호층(80)을 하드 코팅(hard coating)층으로 형성하여 긁힘을 방지할 수 있다. The protective layer 80 may include titanium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, lead oxide, or the like having a high refractive index. The high refractive index protective layer 80 may be laminated in multiple layers to further improve transmittance. In addition, the protective layer 80 may be formed as a hard coating layer to prevent scratches.

이하, 도 6을 참조하여, 제3 실시예에 따른 터치 패널을 설명한다. 도 6은 제3 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다. Hereinafter, the touch panel according to the third embodiment will be described with reference to FIG. 6. 6 is a cross-sectional view of a touch panel according to a third embodiment.

제3 실시예에 따른 터치 패널(300)에서는, 중간층(60) 상에 제1 전극 연결부(22b)와 제2 전극 연결부(24b)를 절연할 수 있는 투명 절연층(90)이 더 형성될 수 있다.In the touch panel 300 according to the third exemplary embodiment, a transparent insulating layer 90 may be further formed on the intermediate layer 60 to insulate the first electrode connection part 22b and the second electrode connection part 24b. have.

앞서 설명한 제1 실시예 및 제2 실시예에 따른 터치 패널(100, 200)에서는, 중간층(60)을 통해 제1 전극 연결부(22b)와 제2 전극 연결부(24b)의 절연이 가능하다. 그러나, 제3 실시예에 따른 터치 패널(300)에서는 중간층(60)상에 투명 절연층(90)을 더 형성하여, 전기적 단락을 방지하기 위한 특성을 더욱 향상할 수 있다. In the touch panels 100 and 200 according to the first and second embodiments described above, the first electrode connection part 22b and the second electrode connection part 24b may be insulated through the intermediate layer 60. However, in the touch panel 300 according to the third exemplary embodiment, the transparent insulating layer 90 may be further formed on the intermediate layer 60 to further improve characteristics for preventing an electrical short circuit.

투명 절연층(90)은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물 등을 포함할 수 있다.The transparent insulating layer 90 may include magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, or the like.

또한, 도면에 도시하지 않았으나, 제2 전극 연결부(24b) 상에 부분적으로 투명 절연층(90)만이 형성될 수 있다. 이러한 투명 절연층(90)을 통해 제1 전극 연결부(22b)와 제2 전극 연결부(24b)를 전기적으로 절연할 수 있다.In addition, although not shown in the drawings, only the transparent insulating layer 90 may be partially formed on the second electrode connection part 24b. The first electrode connecting portion 22b and the second electrode connecting portion 24b may be electrically insulated through the transparent insulating layer 90.

이하, 도 7 내지 도 9를 참조하여, 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 상세하게 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 앞서 설명한 내용과 동일 또는 극히 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략하고 서로 다른 부분에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 7 to 9. For the sake of clarity and simplicity, the same or very similar parts to those described above will be omitted, and the different parts will be described in detail.

도 7 내지 도 9는 터치 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다. 여기서, (a)에는 도 1의 A 영역을 기준으로 도시한 평면도를, (b)에는 (a)의 B-B선을 기준으로 한 단면도를 도시하였다.7 to 9 are plan views and cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch panel. Here, (a) is a plan view shown on the basis of region A of FIG. 1, and (b) is a cross sectional view on the line B-B of (a).

먼저 도 7을 참조하면, 기판(10)에 메쉬 형상의 제2 전극 연결부(24b)을 형성한다.First, referring to FIG. 7, a mesh-shaped second electrode connector 24b is formed on the substrate 10.

제2 전극 연결부(24b)을 메쉬 형상으로 형성하기 위해서, 전극 물질을 도포한 후 포토레지스트 공정(photoresist)으로 에칭하여 형성할 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니므로 메쉬 형상을 형성할 수 있는 다양한 공정을 이용할 수 있다.In order to form the second electrode connection part 24b in a mesh shape, the electrode material may be formed by applying an electrode material and then etching it by a photoresist process. However, the embodiment is not limited thereto, and thus various processes capable of forming a mesh shape may be used.

이어서, 도 8을 참조하면, 제2 전극 연결부(24b)에 컨택홀(60a)을 구비하는 중간층(60)이 형성된다. 구체적으로, 컨택홀(60a)은 제2 전극 연결부(24b)의 일부를 노출하는데, 컨택홀(60a)은 추후에 형성되는 제2 센서부(도 8의 참조부호 24a)가 연결되도록 하는 역할을 할 수 있다.Subsequently, referring to FIG. 8, an intermediate layer 60 having a contact hole 60a is formed in the second electrode connection portion 24b. Specifically, the contact hole 60a exposes a part of the second electrode connection part 24b, and the contact hole 60a serves to connect the second sensor part (reference numeral 24a of FIG. 8) formed later. can do.

이러한 중간층(60)은 코팅 또는 증착 등에 의하여 형성될 수 있다. 일례로, 중간층(60)은 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의해 형성될 수 있다. 즉, 금속 증착원과 증착 타켓을 위한 스퍼터 장치 내에 비활성 기체(Ar, Ne)와 함께 산소(O2) 및/또는 질소(N2)를 추가하여, 금속 증착원이 산화되면서 증착 타켓에 증착되도록 할 수 있다.The intermediate layer 60 may be formed by coating or deposition. In one example, the intermediate layer 60 may be formed by reactive sputtering. That is, by adding oxygen (O 2 ) and / or nitrogen (N 2 ) together with the inert gas (Ar, Ne) in the sputtering apparatus for the metal deposition source and the deposition target, the metal deposition source is oxidized and deposited on the deposition target. can do.

이어서, 도 9를 참조하면, 중간층(60)에 투명 전도성 물질로 제1 센서부(22a), 제1 전극 연결부(22b) 및 제2 센서부(24a)가 형성된다. 이때, 제2 센서부(24a)가 컨택홀(60a)을 통해 제2 전극 연결부(24b)과 연결될 수 있도록 얼라인(align)된다.Subsequently, referring to FIG. 9, the first sensor part 22a, the first electrode connection part 22b, and the second sensor part 24a are formed of a transparent conductive material in the intermediate layer 60. At this time, the second sensor unit 24a is aligned to be connected to the second electrode connection unit 24b through the contact hole 60a.

이러한 제1 센서부(22a), 제1 전극 연결부(22b) 및 제2 센서부(24a)는 물리적 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD) 등 다양한 박막 증착 기술에 의하여 형성될 수 있다.The first sensor unit 22a, the first electrode connection unit 22b, and the second sensor unit 24a may be used in various thin film deposition techniques such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). Can be formed.

도면에 도시하지 않았으나, 제1 센서부(22a), 제1 전극 연결부(22b) 및 제2 센서부(24a) 형성 후, 반사 방지층 또는 보호막 등이 더 형성될 수 있다. Although not shown in the drawings, an anti-reflection layer or a protective film may be further formed after the formation of the first sensor part 22a, the first electrode connection part 22b, and the second sensor part 24a.

또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 중간층(60)을 형성하는 단계와 제1 센서부(22a), 제2 센서부(24a) 및 제1 전극 연결부(22b)를 형성하는 단계 사이에 투명 절연층(도 6의 참조부호 90)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. In addition, although not shown in the drawings, a transparent insulating layer may be formed between forming the intermediate layer 60 and forming the first sensor part 22a, the second sensor part 24a, and the first electrode connection part 22b. The method may further include forming reference numeral 90 of FIG. 6. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. In addition, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

10: 기판
20: 투명 전극
22a: 제1 전극
22b: 제1 전극 연결부
24a: 제2 전극
24b: 제2 전극 연결부
60: 중간층
60a: 컨택홀
70: 반사 방지층
80: 보호층
90: 투명 절연층10: substrate
20: transparent electrode
22a: first electrode
22b: first electrode connecting portion
24a: second electrode
24b: second electrode connection portion
60: middle layer
60a: contact hole
70: antireflection layer
80: protective layer
90: transparent insulation layer

Claims (22)

기판;
상기 기판에 제1 방향으로 형성되는 제1 센서부 및 상기 제1 센서부를 전기적으로 연결하는 제1 전극 연결부를 포함하는 제1 투명 전극; 및
상기 제1 투명 전극과 전기적으로 절연되며, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되는 제2 센서부 및 상기 제2 센서부를 전기적으로 연결하는 제2 전극 연결부를 포함하는 제2 투명 전극을 포함하고,
상기 제2 전극 연결부가 메쉬(mesh) 형상인 터치 패널.Board;
A first transparent electrode including a first sensor part formed on the substrate in a first direction and a first electrode connection part electrically connecting the first sensor part; And
A second transparent electrode electrically insulated from the first transparent electrode and including a second sensor part formed in a second direction crossing the first direction and a second electrode connection part electrically connecting the second sensor part; Including,
The second electrode connector is a mesh (mesh) shape touch panel. 제1항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부 상에 위치하고, 상기 기판에 전면적으로 형성되는 중간층을 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
And an intermediate layer disposed on the second electrode connection part and formed on the substrate. 제2항에 있어서,
상기 중간층은 컨택홀을 포함하여 상기 제2 센서부 및 상기 제2 전극 연결부를 전기적으로 연결하는 터치 패널.The method of claim 2,
The intermediate layer includes a contact hole to electrically connect the second sensor unit and the second electrode connection unit. 제1항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부 상에 부분적으로 형성되는 투명 절연층을 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
And a transparent insulating layer partially formed on the second electrode connection part. 제1항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부 상에 위치하고, 상기 기판에 전면적으로 형성되는 중간층 및 상기 제2 전극 연결부 상에 부분적으로 형성되는 투명 절연층을 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
A touch panel disposed on the second electrode connection part and including an intermediate layer formed entirely on the substrate and a transparent insulating layer partially formed on the second electrode connection part. 제1항에 있어서,
상기 제1 투명 전극과 상기 제2 투명 전극의 적어도 일부가 동일한 층에 위치하는 터치 패널.The method of claim 1,
The touch panel, wherein at least a portion of the first transparent electrode and the second transparent electrode are positioned on the same layer. 제5항에 있어서,
상기 중간층 및 상기 투명 절연층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 5,
The intermediate layer and the transparent insulating layer include at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide. Touch panel. 제2항에 있어서,
상기 중간층이 한 층 이상으로 이루어지는 터치 패널.The method of claim 2,
The touch panel which consists of one or more said intermediate | middle layers. 제1항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부의 선폭이 1 nm 내지 5 um 인 터치 패널.The method of claim 1,
The line width of the second electrode connection portion is 1 nm to 5 um. 제1항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부는 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag) 및 몰리브덴(Mo)의 금속 및 이를 포함하는 합금으로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The second electrode connection part may include at least a material selected from the group consisting of metals including chromium (Cr), nickel (Ni), copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), and molybdenum (Mo) and alloys including the same. One touch panel. 제1항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부는 인듐 틴 산화물(indium tin oxide), 인듐 징크 산화물(indium zinc oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머, 및 은 나노 와이어 잉크(Ag nano wire ink)로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The second electrode connection portion is formed of indium tin oxide, indium zinc oxide, carbon nano tube (CNT), conductive polymer, and silver nano wire ink. Touch panel comprising at least one material selected from the group consisting of. 제1항에 있어서,
상기 메쉬 형상이 한 층 이상으로 이루어지는 터치 패널.The method of claim 1,
The touch panel which the said mesh shape consists of one or more layers. 제1항에 있어서,
상기 기판의 제2 면 및 상기 투명 전극 중 적어도 어느 한 쪽에 반사 방지층이 형성되는 터치 패널.The method of claim 1,
The anti-reflection layer is formed on at least one of the second surface and the transparent electrode of the substrate. 제13항에 있어서,
상기 반사 방지층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 13,
The anti-reflective layer includes at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide. 제1항에 있어서,
상기 투명 전극에 보호층이 형성되는 터치 패널.The method of claim 1,
A touch panel having a protective layer formed on the transparent electrode. 제15항에 있어서,
상기 보호층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.16. The method of claim 15,
The protective layer includes at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide. 기판을 준비하는 단계;
상기 기판에 메쉬 형상의 제2 전극 연결부를 형성하는 단계; 및
상기 제2 전극 연결부에 투명 전도성 물질로 제1 센서부, 제2 센서부 및 상기 제2 전극 연결부와 전기적으로 절연되는 제1 전극 연결부를 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.Preparing a substrate;
Forming a second electrode connection part having a mesh shape on the substrate; And
And forming a first sensor part, a second sensor part, and a first electrode connection part electrically insulated from the second electrode connection part by using a transparent conductive material on the second electrode connection part. 제17항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부를 형성하는 단계 후,
상기 제2 전극 연결부의 일부를 노출하는 컨택홀을 구비하는 중간층을 형성하는 단계를 더 포함하고,
상기 제2 센서부는 상기 제2 전극 연결부와 상기 컨택홀을 통해 연결되는 터치 패널의 제조 방법.18. The method of claim 17,
After forming the second electrode connection portion,
Forming an intermediate layer having a contact hole exposing a part of the second electrode connection part;
And the second sensor unit is connected to the second electrode connection unit through the contact hole. 제17항에 있어서,
상기 제2 전극 열결부를 형성하는 단계 후,
상기 제2 전극 연결부 상에 투명 절연층이 부분적으로 형성되는 단계를 더 포함하는 터치 패널의 제조 방법.18. The method of claim 17,
After forming the second electrode thermal connection portion,
And forming a transparent insulating layer partially on the second electrode connection part. 제17항에 있어서,
상기 제2 전극 열결부를 형성하는 단계 후,
상기 제2 전극 연결부의 일부를 노출하는 컨택홀을 구비하는 중간층 및 상기 제2 전극 연결부 상에 투명 절연층을 부분적으로 형성하는 단계를 더 포함하는 터치 패널의 제조 방법.18. The method of claim 17,
After forming the second electrode thermal connection portion,
And forming a transparent insulating layer partially on the intermediate layer including a contact hole exposing a portion of the second electrode connection part and the second electrode connection part. 제17항에 있어서,
상기 제2 전극 연결부의 선폭이 1 nm 내지 5 um 인 터치 패널의 제조 방법.18. The method of claim 17,
The line width of the second electrode connecting portion is 1 nm to 5 um of the manufacturing method of the touch panel. 제20항에 있어서,
상기 중간층 및 상기 투명 절연층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널의 제조 방법.21. The method of claim 20,
The intermediate layer and the transparent insulating layer include at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide. The manufacturing method of the touch panel.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2015529899A (en) * 2012-07-31 2015-10-08 インターフレックス カンパニー リミテッド Sensor panel including antireflection layer and method of manufacturing the same
WO2014021657A1 (en) * 2012-08-03 2014-02-06 (주)인터플렉스 Touch panel having improved insulation layer and method for manufacturing same
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KR102173060B1 (en) * 2014-03-03 2020-11-02 엘지이노텍 주식회사 Digitizer
KR102183097B1 (en) * 2014-03-10 2020-11-25 엘지전자 주식회사 Conductive film and touch panel including the same
WO2015167212A1 (en) * 2014-04-29 2015-11-05 동우 화인켐 주식회사 Capacitive-type touchpanel
KR102376977B1 (en) * 2015-01-12 2022-03-21 삼성디스플레이 주식회사 Touch panel
KR101913395B1 (en) * 2016-07-29 2018-10-31 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009230735A (en) 2008-03-21 2009-10-08 Elan Microelectronics Corp Touch panel device
JP2010231533A (en) 2009-03-27 2010-10-14 Citizen Electronics Co Ltd Transparent electrode substrate and touch panel provided therewith

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009230735A (en) 2008-03-21 2009-10-08 Elan Microelectronics Corp Touch panel device
JP2010231533A (en) 2009-03-27 2010-10-14 Citizen Electronics Co Ltd Transparent electrode substrate and touch panel provided therewith

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