KR101199047B1 - Touch panel and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
실시예에 따른 터치 패널은, 제1 기판; 상기 제1 기판 상에 제1 방향으로 형성되는 제1 투명 전극; 상기 제1 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제1 배선; 상기 제1 기판과 이격되어 위치하는 제2 기판; 상기 제1 투명 전극과 전기적으로 절연되고, 제2 기판 상에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되는 제2 투명 전극; 및 상기 제2 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제2 배선을 포함한다.In one embodiment, a touch panel includes: a first substrate; A first transparent electrode formed on the first substrate in a first direction; A first wiring electrically connecting the first transparent electrode; A second substrate spaced apart from the first substrate; A second transparent electrode electrically insulated from the first transparent electrode and formed on a second substrate in a second direction crossing the first direction; And a second wiring electrically connecting the second transparent electrode.
Description
본 기재는 터치 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present disclosure relates to a touch panel and a method of manufacturing the same.
최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 입력을 하는 터치 패널이 적용되고 있다.Recently, various electronic products have been applied to a touch panel for inputting a method of contacting an input device such as a finger or a stylus to an image displayed on a display device.
터치 패널은 크게 저항막 방식의 터치 패널과 정전 용량 방식의 터치 패널로 구분될 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 입력 장치의 압력에 의하여 유리와 전극이 단락되어 위치가 검출된다. 정전 용량 방식의 터치 패널은 손가락이 접촉했을 때 전극 사이의 정전 용량이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다.The touch panel can be largely divided into a resistance film type touch panel and a capacitive type touch panel. In the resistive touch panel, the glass and the electrode are short-circuited by the pressure of the input device and the position is detected. A capacitance type touch panel senses a change in electrostatic capacitance between electrodes when a finger touches them, thereby detecting the position.
이러한 터치 패널에서 터치의 감도를 좋게 하고 멀티 센싱(multi sensing)을 위해 두 장의 필름(film) 각각에 투명 전극을 형성하는데, 이 경우 터치 패널의 두께가 두꺼워진다는 문제가 있다. 또한 필름과 기판 등이 다층으로 적층되어 투과율이 저하될 수 있고, 대체로 수입에 의존하는 투명 전극이 형성된 필름이 고가여서 제조 단가가 상승될 수 있다.In such a touch panel, a transparent electrode is formed on each of two films to improve touch sensitivity and multi-sensing. In this case, the thickness of the touch panel is increased. In addition, the film and the substrate and the like may be laminated in a multi-layer, the transmittance may be lowered, and the manufacturing cost can be increased because the film on which the transparent electrode is generally formed depending on the import is expensive.
한편, 터치 패널에서는 투명 전극을 외부 회로와 연결하기 위한 배선들이 위치하게 되는데, 이러한 배선들을 가리기 위해서는 5 내지 10 mm 의 더미 영역이 필요하다. 이로 인해 유효 영역이 줄어들고, 디자인에 한계를 가져올 수 있다.Meanwhile, in the touch panel, wirings for connecting the transparent electrode to an external circuit are positioned. In order to cover the wirings, a dummy area of 5 to 10 mm is required. This reduces the effective area and can limit the design.
실시예는 투과율을 향상하고 불량 및 제조 단가를 저감할 수 있는 터치 패널을 제공하고자 한다. 또한, 더미 영역을 줄일 수 있는 터치 패널을 제공하고자 한다.Embodiments provide a touch panel capable of improving transmittance and reducing defects and manufacturing costs. Another object of the present invention is to provide a touch panel which can reduce a dummy area.
실시예에 따른 터치 패널은, 제1 기판; 상기 제1 기판 상에 제1 방향으로 형성되는 제1 투명 전극; 상기 제1 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제1 배선; 상기 제1 기판과 이격되어 위치하는 제2 기판; 상기 제1 투명 전극과 전기적으로 절연되고, 제2 기판 상에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되는 제2 투명 전극; 및 상기 제2 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제2 배선을 포함한다.In one embodiment, a touch panel includes: a first substrate; A first transparent electrode formed on the first substrate in a first direction; A first wiring electrically connecting the first transparent electrode; A second substrate spaced apart from the first substrate; A second transparent electrode electrically insulated from the first transparent electrode and formed on a second substrate in a second direction crossing the first direction; And a second wiring electrically connecting the second transparent electrode.
실시예에 따른 터치 패널은, 터치 패널의 적층 구조를 단순화하여 투과율을 향상할 수 있고 두께 및 제조 비용을 줄일 수 있다.The touch panel according to the embodiment may simplify the laminated structure of the touch panel to improve transmittance and reduce thickness and manufacturing cost.
특히, 투명 전극을 각각 다른 기판에 형성시켜 합착함으로써, 센싱을 더욱 민감하게 할 수 있고 이에 의해 터치의 정확성을 향상할 수 있다.In particular, by forming the transparent electrodes on different substrates and bonding them, the sensing can be made more sensitive, thereby improving the accuracy of the touch.
또한, 실시예에 따른 터치 패널에서는, 기판과 투명 전극 사이에 인덱스 매칭을 할 수 있는 중간층을 개재하여, 투과율, 반사율 및 색차(b*, yellowish) 특성을 향상하면서도 투명 전극을 중간층 상에 직접 형성할 수 있다. 따라서 투과율을 향상하면서도 제조 비용을 절감할 수 있다. 더욱이, 인덱스 매칭에 의하여 투명 전도성 물질로 형성된 투명 전극을 보이지 않도록(invisible) 할 수 있다. 이에 의하여 터치 패널이 적용된 디스플레이의 시인성을 향상할 수 있다. In addition, in the touch panel according to the embodiment, a transparent electrode is directly formed on the intermediate layer while improving transmittance, reflectance, and color difference (b *, yellowish) characteristics through an intermediate layer capable of index matching between the substrate and the transparent electrode. can do. Therefore, the manufacturing cost can be reduced while improving the transmittance. Furthermore, it is possible to make the transparent electrode formed of the transparent conductive material invisible by index matching. Thereby, the visibility of the display to which the touch panel is applied can be improved.
한편, 실시예에 따른 터치 패널에서 배선이 얇은 선폭으로 형성되어 좁은 더미 영역을 구현할 수 있다. 이에 따라 유효 영역의 면적이 넓어지고 디자인의 다양성을 확보할 수 있다.Meanwhile, in the touch panel according to the embodiment, the wiring may be formed to have a thin line width to implement a narrow dummy region. As a result, the area of the effective area can be widened and the diversity of designs can be ensured.
실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, 상술한 효과를 가지는 터치 패널을 제조할 수 있다.The method for manufacturing a touch panel according to the embodiment can manufacture a touch panel having the above-described effects.
도 1은 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다.
도 3은 도 1의 A 부분을 확대하여 도시한 평면도이다.
도 4는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.1 is a schematic plan view of a touch panel according to an embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1.
3 is an enlarged plan view of a portion A of FIG. 1.
4 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.
실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of embodiments, each layer, region, pattern, or structure may be “on” or “under” the substrate, each layer, region, pad, or pattern. Substrate formed in ”includes all formed directly or through another layer. Criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer will be described with reference to the drawings.
도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 내지 도 3을 참조하여 제1 실시예에 따른 터치 패널을 상세하게 설명한다. 도 1은 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다. 도 3은 도 1의 A 부분을 확대하여 도시한 평면도이다. A touch panel according to a first embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3. 1 is a schematic plan view of a touch panel according to an embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1. 3 is an enlarged plan view of a portion A of FIG. 1.
제1 실시예에 따른 터치 패널(100)에는, 입력 장치의 위치를 감지하는 유효 영역(AA)과, 이 유효 영역(AA)의 외곽으로 위치하는 더미 영역(DA)이 정의된다.In the
여기서, 유효 영역(AA)에는 입력 장치를 감지할 수 있도록 제1 및 제2 투명 전극(42, 44)이 형성될 수 있다. 그리고 더미 영역(DA)에는 제1 및 제2 투명 전극(42, 44)에 각각 연결되는 제1 및 제2 배선(52, 54) 및 이 제1 및 제2 배선(52, 54)을 외부 회로(도시하지 않음, 이하 동일)에 연결하는 인쇄 회로 기판(도시하지 않음, 이하 동일) 등이 위치할 수 있다. 이러한 더미 영역(DA)에는 외곽 더미층(20)이 형성될 수 있으며, 이 외곽 더미층(20)에는 로고(logo)(20a) 등이 형성될 수 있다. 이러한 터치 패널을 좀더 상세하게 설명하면 다음과 같다.Here, the first and second
도 2 및 도 3을 참조하면, 제1 기판(10)에 외곽 더미층(20), 중간층(30), 제1 투명 전극(42)이 형성되고, 제1 기판(10)과 이격되어 위치하는 제2 기판(60)에 제2 투명 전극(44)이 형성될 수 있다. 그리고 이 제1 및 제2 투명 전극(42, 44) 각각에 제1 및 제2 배선(52, 54)이 연결되고, 이 제1 및 제2 배선(52, 54)에 인쇄 회로 기판(도시하지 않음, 이하 동일)이 연결될 수 있다. 그리고 제2 기판(60)의 하면(62)에 반사 방지층(70)이 형성될 수 있다. 2 and 3, the
제1 기판(10)은 이 위에 형성되는 외곽 더미층(20), 중간층(30), 제1 투명 전극(42), 제1 배선(52) 등을 지지할 수 있는 다양한 물질로 형성될 수 있다. 이러한 제1 기판(10)은 일례로 유리 기판 또는 플라스틱 기판으로 이루어질 수 있다.The
제1 기판(10)의 제1 면(이하 “하면”)(12)의 더미 영역(DA)에 외곽 더미층(20)이 형성된다. 외곽 더미층(20)은 제1 및 제2 배선(52, 54)과 인쇄 회로 기판 등이 외부에서 보이지 않도록 할 수 있게 소정의 색을 가질 수 있다. 외곽 더미층(20)은 원하는 외관에 적합한 색을 가질 수 있는데, 일례로 흑색 안료 등을 포함하여 흑색을 나타낼 수 있다. 이러한 외곽 더미층(20)은 스크린 프린팅을 통해 형성될 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니므로, 증착 등 다양한 방법에 의하여 형성될 수 있다. 그리고 이 외곽 더미층(20)에는 다양한 방법으로 원하는 로고(도 1의 참조부호 20a) 등을 형성할 수 있다.The
이 제1 기판(10)의 하면(12)에 중간층(30)이 형성된다. 이러한 중간층(30)은 하면(12)의 전면(全面)에 형성될 수 있다. The
이 중간층(30)은 금속 산화물 또는 금속 불화물을 포함할 수 있는데, 일례로, 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물 등을 포함할 수 있다. 중간층(30)은 특정한 굴절률을 가지도록 하여 인덱스 매칭(index matching)이 되도록 할 수 있다.The
중간층(30)은 특정한 굴절률을 가질 수 있도록 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다. 일례로, 중간층(30)이 고굴절률의 제1 층(32)과 저굴절률의 제2 층(34)을 제1 기판(10) 상에 차례로 형성하여 유효 영역(AA)에서 터치 패널의 투과율을 향상시킬 수 있다. The
일례로, 제1 층(32)은 굴절률이 높은 탄탈륨 산화물, 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 지르코늄 산화물 또는 납 산화물을 포함할 수 있으며, 제2 층(34)은 굴절률이 낮은 규소 산화물을 포함할 수 있다. 일례로, 티타늄 산화물의 굴절률이 2.2, 니오븀 산화물의 굴절률이 2.4, 규소 산화물의 굴절률이 1.4 일 수 있다. 이 경우 터치 패널의 투과율을 90% 이상, 바람직하게는 92% 이상, 최대로는 99%까지 향상할 수 있다. 또한, 복수의 제1 층(32)과 제2 층(34)이 교대로 적층될 수도 있다.For example, the
이러한 중간층(30)에 제1 투명 전극(42)이 형성된다. 제1 투명 전극(42)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지를 감지할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있다. The first
도 2에서는 중간층(30)에 제1 투명 전극(42)이 형성되는 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 제1 투명 전극(42)이 제1 기판(10) 상에 직접 형성될 수 있다. In FIG. 2, the first
이어서, 제1 기판(10) 이격되어 위치하는 제2 기판(60)에 제2 투명 전극(44)이 형성된다. 제2 기판(60)은 유리, 폴리 에틸렌테레프탈레이트(poly (ethylene terephthalate), PET) 필름 및 다양한 필름을 포함할 수 있다. 이러한 제2 기판(60)에 형성되는 제2 투명 전극(44)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지를 감지할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있다.Subsequently, a second
일례로, 도 3에 도시한 바와 같이, 제1 및 제2 투명 전극(42, 44)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지는 감지하는 센서부(42a, 44a)와, 이러한 센서부(42a, 44a)를 연결하는 연결부(42b, 44b)를 포함한다. 제1 투명 전극(42)의 연결부(42b)는 센서부(42a)를 제1 방향(도면의 좌우 방향)으로 연결하고, 제2 투명 전극(44)의 연결부(44b)는 센서부(44a)를 제2 방향(도면의 상하 방향)으로 연결한다.For example, as shown in FIG. 3, the first and second
이와 같은 터치 패널에 손가락 등의 입력 장치가 접촉되면, 입력 장치가 접촉된 부분에서 정전 용량의 차이가 발생되고, 이 차이가 발생된 부분을 접촉 위치로 검출할 수 있다. 실시예에서는 제1 및 제2 투명 전극(42, 44)이 정전 용량 방식의 터치 패널에 적용되는 구조를 가지는 것을 예시하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서 제1 및 제2 투명 전극(42, 44)을 저항막 방식의 터치 패널에 적용되는 구조로 형성할 수도 있다. When an input device such as a finger is in contact with such a touch panel, a difference in capacitance occurs at a portion where the input device contacts, and a portion where the difference is generated can be detected as a contact position. In the exemplary embodiment, the first and second
이러한 제1 및 제2 투명 전극(42, 44)은 광의 투과를 방해하지 않으면서 전기가 흐를 수 있도록 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 이를 위하여 제1 및 제2 투명 전극(42, 44)은 인듐 주석 산화물(indium tin oxide), 인듐 아연 산화물(indium zinc oxide), 구리 산화물(copper oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT) 등의 다양한 물질을 포함할 수 있다. The first and second
이어서, 제1 투명 전극(42)을 전기적으로 연결하는 제1 배선(52) 및 제2 투명 전극(44)을 전기적으로 연결하는 제2 배선(54)이 형성된다. 이러한 제1 및 제2 배선(52, 54)은 더미 영역(DA)에 위치하므로 전기 전도성이 우수한 금속으로 이루어질 수 있다. Subsequently, a
한편, 이러한 제1 및 제2 배선(52, 54)을 가리기 위해 더미 영역이 형성되는데, 이러한 더미 영역으로 인해 유효 영역(AA)이 줄어들고 디자인에 제약이 있다는 문제점이 있다. 따라서, 본 실시예에서는 제1 및 제2 배선(52, 54)을 인쇄 공정 등으로 형성하고, 그 선폭을 80 um 이하로 형성할 수 있다. 이를 통해 더미 영역을 줄여 좁은 더미 영역을 구현할 수 있다. 이에 대해서는 후술한 터치 패널의 제조 방법에서 상세하게 설명한다.On the other hand, a dummy region is formed to cover the first and
위와 같이 제1 및 제2 투명 전극(42, 44)이 각각 형성된 제1 및 제2 기판(10, 60) 사이에 광학용 투명 접착제(optically clear adhesive, OCA)(80)가 형성된다. 이러한 광학용 투명 접착제(80)는 제1 및 제2 기판(10, 60)을 접착할 뿐만 아니라, 제1 및 제2 투명 전극(42, 44)을 절연하는 역할도 할 수 있다. As described above, an optically clear adhesive (OCA) 80 is formed between the first and
이어서, 제1 기판(10)의 상면(11) 또는 제2 기판(60)의 하면(62) 중 적어도 어느 하나의 면에 반사 방지층(70)이 형성될 수 있다. 도면에서는 제2 기판(60)의 하면(62)에만 반사 방지층(70)이 형성되는 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서 제1 기판(10)의 상면(11)에만 반사 방지층(70)이 형성될 수 있고, 반사 방지층(70)의 효과를 극대화하기 위해 제1 기판(10)의 상면(11) 및 제2 기판(60)의 하면(62)의 양면에 형성될 수 있다.Subsequently, an
반사 방지층(70)은 반사에 의한 눈부심이나 화면이 보이지 않는 현상을 막기 위해 가시광 영역의 빛의 반사율을 낮추는 역할을 한다. 즉, 반사 방지층(70)은 반사의 악영향을 효과적으로 감소시켜 우수한 해상도를 제공할 수 있고 시인성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널의 투과율을 90% 이상, 바람직하게는 92% 이상, 최대로는 99%까지 향상하는 역할을 할 수 있다.The
이러한 반사 방지층(70)은 굴절률이 1.35 내지 2.7인 산화물 또는 불화물을 포함할 수 있다. 이러한 굴절률은 반사 방지에 적합한 범위로 결정된 것이며, 이러한 반사 방지층(70)은 서로 다른 굴절률을 가지는 물질을 한 층 이상 적층하여 형성될 수 있다.The
상술한 산화물 또는 불화물로는, 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물 등이 사용될 수 있다.As the above-described oxide or fluoride, magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, or the like may be used.
이때, 반사 방지층(70)은, 스퍼터링(sputtering)이나 롤투롤(roll to roll)공정 에 의해 형성될 수 있다. 스퍼터링은 이온화된 원자를 전기장에 의해 가속시켜 박막 재료(source material)에 충돌시키고, 이 충돌에 의해 박막 재료의 원자들이 증착되는 방법이다. 롤투롤 공정은 종이나 필름 같은 소재를 롤에 감아 그대로 가공하는 공정을 말한다.In this case, the
이하, 도 4를 참조하여 제2 실시예에 따른 터치 패널에 대해 상세하게 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 제1 실시예와 동일 또는 극히 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략하고, 서로 다른 부분만을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the touch panel according to the second exemplary embodiment will be described in detail with reference to FIG. 4. For the sake of clarity and simplicity, detailed descriptions of parts that are the same as or similar to those of the first embodiment will be omitted, and only different parts will be described in detail.
제2 실시예에 따른 터치 패널(200)에서는, 제2 기판(62)의 하면(62)에 보호층(90)이 형성된다. 이러한 보호층(90)은 제2 투명 전극(44)이 형성된 제2 기판(62)의 손상을 방지하는 보호막 역할을 할 수 있다.In the
보호층(90)은 고굴절률을 가지는 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 탄탈륨 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물 등을 포함할 수 있다. 이러한 고굴절률의 보호층(90)을 다층으로 적층하여 투과율을 좀더 향상할 수 있다. 또한 이러한 보호층(90)을 하드 코팅(hard coating)층으로 형성하여 긁힘을 방지할 수 있다.The
이하, 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 상세하게 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 앞서 설명한 내용과 동일 또는 극히 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략하고 서로 다른 부분에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method of the touch panel according to the embodiment will be described in detail. For the sake of clarity and simplicity, the same or very similar parts to those described above will be omitted, and the different parts will be described in detail.
먼저, 제1 기판을 준비하는 단계에서는 유리 기판 또는 플라스틱 기판을 준비할 수 있다.First, in the preparing of the first substrate, a glass substrate or a plastic substrate may be prepared.
이어서 제1 기판에 중간층을 형성하는 단계를 포함한다. 이러한 중간층은 증착 등에 의하여 형성될 수 있다. 이때, 중간층은 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의해 형성될 수 있다. 즉, 금속 증착원과 증착 타켓을 위한 스퍼터 장치 내에 비활성 기체(Ar, Ne)와 함께 산소(O2) 및/또는 질소(N2)를 추가하여, 금속 증착원이 산화되면서 증착 타켓에 증착되도록 할 수 있다. And forming an intermediate layer on the first substrate. Such an intermediate layer may be formed by vapor deposition or the like. In this case, the intermediate layer may be formed by reactive sputtering. That is, by adding oxygen (O 2 ) and / or nitrogen (N 2 ) together with the inert gas (Ar, Ne) in the sputtering apparatus for the metal deposition source and the deposition target, the metal deposition source is oxidized and deposited on the deposition target. can do.
이어서, 중간층에 제1 방향으로 제1 투명 전극을 형성하는 단계를 포함한다. 이러한 제1 투명 전극은 증착 등에 의하여 형성될 수 있는데, 일례로 반응성 스퍼터링에 의하여 형성될 수 있다. 이때, 제1 투명 전극이 인듐 주석 산화물로 형성될 경우에, 주석의 함량이 10% 이하일 수 있다. 이에 의하여 투과율을 향상시키고, 이후에 어닐링(annealing) 공정으로 인듐 주석 화합물을 결정화하여 전기 전도도를 향상할 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 방법으로 제1 투명 전극을 형성할 수 있음은 물론이다.Subsequently, forming the first transparent electrode in the first direction in the intermediate layer. The first transparent electrode may be formed by deposition or the like, for example, may be formed by reactive sputtering. In this case, when the first transparent electrode is formed of indium tin oxide, the content of tin may be 10% or less. As a result, the transmittance may be improved, and then the indium tin compound may be crystallized by an annealing process to improve electrical conductivity. However, the embodiment is not limited thereto, and the first transparent electrode may be formed in various ways.
이러한 제1 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제1 배선을 형성하는 단계를 포함한다. 제1 배선은 그라비아 오프 셋(gravure off set), 스크린(screen) 인쇄, 그라비아(gravure) 인쇄 및 스퍼터링(sputtering) 중 적어도 어느 하나를 포함하여 형성될 수 있다. And forming a first wiring electrically connecting the first transparent electrode. The first wire may be formed including at least one of gravure off set, screen printing, gravure printing, and sputtering.
그라비아 오프셋 인쇄는 패턴이 새겨진 요판에 페이스트를 채운 후 블랭킷(blanket)이라고 부르는 실리콘 고무로 1차 전사를 시키고, 상기 블랭킷과 도전성 막이 형성된 기판을 밀착시켜 2차 전사를 시키는 방식으로 수행될 수 있다.Gravure offset printing may be performed by filling a paste on a patterned intaglio and then performing a first transfer with a silicone rubber called a blanket, and then performing a second transfer by bringing the blanket and the conductive film into contact with the substrate.
스크린 인쇄는 패턴이 있는 스크린 위에 페이스트를 위치시킨 후, 스퀴지를 밀면서 공간이 비워져 있는 스크린을 통하여 직접적으로 도전성 막이 형성된 기판에 페이스트를 위치시키는 방식으로 수행될 수 있다. Screen printing can be performed by placing the paste on a screen having a pattern, then placing the paste directly on the substrate on which the conductive film has been formed through a screen in which the space is left empty by pushing the squeegee.
그라비아 인쇄는 롤 위에 패턴이 새겨진 블랭킷을 감고 페이스트를 패턴 안에 채운 후, 도전성 막이 형성된 기판에 전사시키는 방식으로 수행될 수 있다.Gravure printing may be performed by winding a blanket engraved with a pattern on a roll, filling a paste into a pattern, and transferring the resultant to a substrate on which a conductive film is formed.
이로써, 제1 배선의 선폭은 80 um 이하로 형성될 수 있다. 또한, 좀 더 얇은 배선의 선폭을 위해 스퍼터링 공정으로 형성할 경우, 배선 물질을 스퍼터링 증착하고 노광, 현상 및 에칭 공정을 거칠 수 있다. 이때, 제1 배선은 30 um 이하의 선폭을 가질 수 있다.As a result, the line width of the first wiring may be formed to be 80 μm or less. In addition, when forming a sputtering process for the line width of the thinner wiring, the wiring material may be sputter deposited and subjected to exposure, development, and etching processes. In this case, the first wiring may have a line width of 30 μm or less.
이를 통해 배선을 가리기 위한 베젤(bezel)을 줄여 디자인의 다양성을 확보할 수 있다. 또한, 배선이 얇을 선폭을 가지기 때문에 좁은 베젤에서도 많은 수의 배선을 기판에 형성할 수 있고, 이를 통해 해상도를 확보할 수 있다.This reduces the bezel to cover the wiring, thereby increasing the variety of designs. In addition, since the wire has a thin line width, a large number of wires can be formed on the substrate even in a narrow bezel, thereby securing a resolution.
이어서, 제1 기판과 이격되어 위치하는 제2 기판을 준비한다. 이 단계에서 제2 기판으로 유리, 폴리 에틸렌테레프탈레이트 필름 및 다양한 필름을 준비할 수 있다.Subsequently, a second substrate spaced apart from the first substrate is prepared. In this step, glass, polyethylene terephthalate film, and various films may be prepared as the second substrate.
이러한 제2 기판에 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 제2 투명 전극을 형성한다. 제2 투명 전극을 형성하는 방법은 앞서 설명한 제1 투명 전극을 형성하는 방법과 동일한 방법으로 형성될 수 있다.A second transparent electrode is formed on the second substrate in a second direction crossing the first direction. The method of forming the second transparent electrode may be formed by the same method as the method of forming the first transparent electrode described above.
이어서, 제2 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제2 배선을 형성할 수 있다. 제2 배선을 형성하는 방법은 앞서 설명한 제1 배선을 형성하는 방법과 동일한 방법으로 형성될 수 있다.Subsequently, a second wiring for electrically connecting the second transparent electrode can be formed. The method of forming the second wiring may be formed by the same method as the method of forming the first wiring described above.
이어서, 제1 기판과 상기 제2 기판을 합착하는 단계를 포함한다. 이 단계에서는, 광학용 투명 접착제를 통해 합착할 수 있다. Subsequently, bonding the first substrate and the second substrate. In this step, it can adhere through an optically clear adhesive.
이러한 단계 후, 빛의 반사율을 낮추기 위한 반사 방지층 또는 터치 패널의 손상을 방지하는 보호층 등이 더 형성될 수 있다.After this step, an anti-reflection layer for lowering the reflectance of light or a protective layer for preventing damage to the touch panel may be further formed.
이러한 터치 패널의 제조 방법을 통해, 터치의 정확성 및 센싱 감도를 높이는 터치 패널을 좀더 쉽게 제조할 수 있다. 즉, 터치의 정확성 및 센싱 감도를 위해서는 제1 투명 전극 및 제2 투명 전극의 얼라인(align)이 매우 중요한데, 제1 투명 전극 및 제2 투명 전극을 각각 다른 기판에 형성함으로써 얼라인 공정을 쉽게 할 수 있다. 그러나, 하나의 기판에 중간층, 제1 및 제2 투명 전극 등을 모두 형성하는 방법에 있어서는, 이러한 얼라인 공정에 있어서 매우 높은 정확성과 정밀성을 요구하기 때문에 불량율이 증가할 수 있다.Through the manufacturing method of the touch panel, it is possible to more easily manufacture the touch panel to increase the accuracy and sensing sensitivity of the touch. That is, alignment of the first transparent electrode and the second transparent electrode is very important for the accuracy of the touch and the sensing sensitivity. The alignment process is easily performed by forming the first transparent electrode and the second transparent electrode on different substrates. can do. However, in the method of forming all the intermediate layers, the first and the second transparent electrodes, etc. in one substrate, the defect rate may increase because very high accuracy and precision are required in this alignment process.
상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. In addition, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.
또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.
10: 제1 기판
30: 중간층
42: 제1 투명 전극
60: 제2 기판
44: 제2 투명 전극
70: 반사 방지층
90: 보호층10: first substrate
30: middle layer
42: first transparent electrode
60: second substrate
44: second transparent electrode
70: antireflection layer
90: protective layer
Claims (18)
상기 제1 기판의 하면에 위치하는 중간층;
상기 중간층에 제1 방향으로 형성되는 제1 투명 전극;
상기 제1 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제1 배선;
상기 제1 기판과 이격되어 위치하는 제2 기판;
상기 제1 투명 전극과 전기적으로 절연되고, 제2 기판 상에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되는 제2 투명 전극; 및
상기 제2 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제2 배선
을 포함하는 터치 패널.
A first substrate;
An intermediate layer disposed on the bottom surface of the first substrate;
A first transparent electrode formed on the intermediate layer in a first direction;
A first wiring electrically connecting the first transparent electrode;
A second substrate spaced apart from the first substrate;
A second transparent electrode electrically insulated from the first transparent electrode and formed on a second substrate in a second direction crossing the first direction; And
A second wiring electrically connecting the second transparent electrode
Touch panel comprising a.
상기 중간층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The intermediate layer may include at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide.
상기 중간층이 단층 또는 다층으로 형성되는 터치 패널.The method of claim 3,
A touch panel in which the intermediate layer is formed of a single layer or a multilayer.
상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이에 형성되는 광학용 투명 접착제(optically clear adhesive, OCA)를 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
And an optically clear adhesive (OCA) formed between the first substrate and the second substrate.
상기 제1 기판 및 상기 제2 기판 중 적어도 어느 하나에 반사 방지층이 형성되는 터치 패널.The method of claim 1,
A touch panel having an antireflection layer formed on at least one of the first substrate and the second substrate.
상기 반사 방지층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.The method according to claim 6,
The anti-reflective layer includes at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide.
상기 반사 방지층은 단층 또는 다층으로 형성되는 터치 패널.The method of claim 7, wherein
The anti-reflection layer is a touch panel formed of a single layer or multiple layers.
상기 제1 기판은 유리를 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
And the first substrate comprises glass.
상기 제2 기판은 유리 및 폴리 에틸렌테레프탈레이트(poly (ethylene terephthalate), PET)필름으로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The second substrate includes at least one material selected from the group consisting of glass and polyethylene (terephthalate, PET) film.
상기 제2 기판에 보호층이 형성되는 터치 패널.The method of claim 1,
A touch panel having a protective layer formed on the second substrate.
상기 보호층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 적어도 어느 하나를 포함하는 터치 패널.The method of claim 11,
The protective layer includes at least one of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide and niobium oxide.
상기 보호층이 단층 또는 다층으로 형성되는 터치 패널.The method of claim 12,
Touch panel wherein the protective layer is formed of a single layer or multiple layers.
상기 제1 및 제2 배선의 선폭이 80 um 이하인 터치 패널.The method of claim 1,
The touch panel of which the line width of the said 1st and 2nd wiring is 80 micrometers or less.
상기 제1 기판에 중간층을 형성하는 단계;
상기 중간층에 제1 방향으로 제1 투명 전극을 형성하는 단계;
상기 제1 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제1 배선을 형성하는 단계;
상기 제1 기판과 이격되어 위치하는 제2 기판을 준비하는 단계;
상기 제2 기판에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 제2 투명 전극을 형성하는 단계;
상기 제2 투명 전극을 전기적으로 연결하는 제2 배선을 형성하는 단계; 및
상기 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 합착하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
Preparing a first substrate;
Forming an intermediate layer on the first substrate;
Forming a first transparent electrode in a first direction on the intermediate layer;
Forming a first wiring electrically connecting the first transparent electrode;
Preparing a second substrate spaced apart from the first substrate;
Forming a second transparent electrode on the second substrate in a second direction crossing the first direction;
Forming a second wiring electrically connecting the second transparent electrode; And
And bonding the first substrate and the second substrate to each other.
상기 중간층은 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널의 제조 방법.16. The method of claim 15,
The intermediate layer may include at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide. Way.
상기 제1 배선을 형성하는 단계 및 상기 제2 배선을 형성하는 단계는, 그라비아 오프 셋(gravure off set), 스크린(screen) 인쇄, 그라비아(gravure) 인쇄 및 스퍼터링(sputtering) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
16. The method of claim 15,
The forming of the first wiring and the forming of the second wiring include at least one of gravure off set, screen printing, gravure printing, and sputtering. The manufacturing method of the touch panel.
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