KR20120023243A - Touch panel - Google Patents

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KR20120023243A
KR20120023243A KR1020100085429A KR20100085429A KR20120023243A KR 20120023243 A KR20120023243 A KR 20120023243A KR 1020100085429 A KR1020100085429 A KR 1020100085429A KR 20100085429 A KR20100085429 A KR 20100085429A KR 20120023243 A KR20120023243 A KR 20120023243A
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touch panel
transparent electrode
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reflection film
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KR1020100085429A
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이선화
김병수
이근식
서충원
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엘지이노텍 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A touch panel is provided to improve the productivity and to diversify the structure of the touch panel by reducing the fault of the touch panel. CONSTITUTION: A transparent electrode(40) is formed at the one side of a circuit board. An anti-lacerative film(70) includes a reflecting prevention film(30) by being formed at the transparent electrode. The reflection prevention layer is formed at the anti-lacerative film. The reflection prevention layer is located at the opposite of the transparent electrode. The reflection prevention layer is located at the transparent electrode and includes an OCA(Optical Cleared Adhesive) layer.

Description

터치 패널{TOUCH PANEL}TOUCH PANEL {TOUCH PANEL}

본 기재는 터치 패널에 관한 것이다.The present description relates to a touch panel.

최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 입력을 하는 터치 패널이 적용되고 있다.Recently, various electronic products have been applied to a touch panel for inputting a method of contacting an input device such as a finger or a stylus to an image displayed on a display device.

터치 패널은 크게 저항막 방식의 터치 패널과 정전 용량 방식의 터치 패널로 구분될 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 입력 장치의 압력에 의하여 유리와 전극이 단락되어 위치가 검출된다. 정전 용량 방식의 터치 패널은 손가락이 접촉했을 때 전극 사이의 정전 용량이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다.The touch panel may be largely classified into a resistive touch panel and a capacitive touch panel. In the resistive touch panel, the glass and the electrode are short-circuited by the pressure of the input device to detect the position. The capacitive touch panel detects a change in capacitance between electrodes when a finger touches and detects a position thereof.

이러한 터치 패널이 다양한 디스플레이 장치에 적용되는 경우에, 로고 및 비산 방지 필름이 형성된 기판과 투명 전극이 형성된 필름을 별도로 제작하여 이들을 광학용 투명 접착제(optically clear adhesive, OCA)를 이용하여 접착한다.When such a touch panel is applied to various display devices, a substrate on which a logo and a scattering prevention film are formed and a film on which a transparent electrode is formed are separately manufactured and adhered to each other using an optically clear adhesive (OCA).

그러나 가공성이 낮은 광학용 투명 접착제를 사용하므로 접착 불량이 발생할 수 있으며, 필름과 기판 등이 다층으로 적층되어 투과율이 저하될 수 있다. 또한, 대체로 수입에 의존하는 투명 전극이 형성된 필름이 고가여서 제조 단가가 상승될 수 있다.However, since the optically transparent adhesive having low workability may be used, poor adhesion may occur, and a film and a substrate may be laminated in multiple layers, thereby decreasing transmittance. In addition, since the film on which the transparent electrode which is largely dependent on imports is formed is expensive, the manufacturing cost can be increased.

실시예는 반사 방지 효율을 높이고 투과율을 향상하여 불량 및 제조 단가를 저감할 수 있는 터치 패널을 제공하고자 한다. 또한, 비산 방지 필름에 반사 방지막 역할을 부여하거나 비산 방지 필름의 위치를 다양화함에 따라 제조 공정을 단순화 할 수 있는 터치 패널을 제공하고자 한다.Embodiments provide a touch panel capable of reducing reflection and manufacturing costs by increasing reflection prevention efficiency and improving transmittance. In addition, to provide a touch panel that can simplify the manufacturing process by giving the anti-scattering film role to the anti-scattering film or to diversify the position of the anti-scattering film.

실시예에 따른 터치 패널은, 기판; 상기 기판의 일면에 형성되는 투명 전극; 및 상기 투명 전극에 형성되며, 반사 방지막이 형성된 비산 방지 필름을 포함한다.In one embodiment, a touch panel includes a substrate; A transparent electrode formed on one surface of the substrate; And a scattering prevention film formed on the transparent electrode and having an antireflection film formed thereon.

실시예에 따른 터치 패널에서는 외곽 더미층과 투명 전극을 동일한 기판상에 형성하므로, 가공성이 낮은 광학용 투명 접착제를 사용하지 않아도 된다. 이에 의하여 불량을 저감하여 신뢰성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널의 적층 구조를 단순화하여 투과율을 향상할 수 있으며 두께를 줄이면서 제조 비용을 절감할 수 있다.In the touch panel according to the embodiment, since the outer dummy layer and the transparent electrode are formed on the same substrate, it is not necessary to use an optically transparent adhesive having low workability. Thereby, defects can be reduced and reliability can be improved. In addition, the transmittance can be improved by simplifying the laminated structure of the touch panel, and the manufacturing cost can be reduced while reducing the thickness.

한편, 실시예에 따른 터치 패널에서는, 비산 방지 필름에 반사 방지막 역할을 부여하여 비산 방지 필름과 반사 방지막을 개별적으로 사용할 때보다 비용을 절감할 수 있고 제조 공정을 단순화할 수 있다. 또한, 비산 방지 필름의 위치를 다양화함에 따라 터치 패널의 구조를 다양화시킬 수 있고, 생산성을 향상할 수 있다.On the other hand, in the touch panel according to the embodiment, by providing the anti-reflection film role to the anti-scattering film can reduce the cost and simplify the manufacturing process than when using the anti-scattering film and the anti-reflection film separately. In addition, as the position of the scattering prevention film is diversified, the structure of the touch panel may be diversified and productivity may be improved.

도 1은 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다.
도 3은 도 1의 A 부분을 확대하여 도시한 평면도이다.
도 4는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 5는 제3 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 6은 제4 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 7은 제5 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.1 is a schematic plan view of a touch panel according to an embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1.
3 is an enlarged plan view of a portion A of FIG. 1.
4 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.
5 is a cross-sectional view of a touch panel according to a third embodiment.
6 is a cross-sectional view of a touch panel according to a fourth embodiment.
7 is a cross-sectional view of a touch panel according to a fifth embodiment.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of embodiments, each layer, region, pattern, or structure may be “on” or “under” the substrate, each layer, region, pad, or pattern. Substrate formed in ”includes all formed directly or through another layer. Criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer will be described with reference to the drawings.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 3을 참조하여 제1 실시예에 따른 터치 패널을 상세하게 설명한다. 도 1은 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다. 도 3은 도 1의 A 부분을 확대하여 도시한 평면도이다. A touch panel according to a first embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3. 1 is a schematic plan view of a touch panel according to an embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1. 3 is an enlarged plan view of a portion A of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 실시예에 따른 터치 패널에는, 입력 장치의 위치를 감지하는 유효 영역(AA)과, 이 유효 영역(AA)의 외곽으로 위치하는 더미 영역(DA)이 정의된다. 1 and 2, in the touch panel according to the embodiment, an effective area AA for detecting a position of an input device and a dummy area DA positioned outside the effective area AA are defined. .

여기서, 유효 영역(AA)에는 입력 장치를 감지할 수 있도록 투명 전극(40)이 형성될 수 있다. 또한 비산 방지 필름(70)과 반사 방지막(30)이 형성될 수 있다. 그리고 더미 영역(DA)에는 투명 전극(40)에 연결되는 배선(50) 및 이 배선(50)을 외부 회로(도시하지 않음, 이하 동일)에 연결하는 인쇄 회로 기판(60) 등이 위치할 수 있다. 이러한 더미 영역(DA)에는 외곽 더미층(20)이 형성될 수 있으며, 이 외곽 더미층(20)에는 로고(logo)(20a) 등이 형성될 수 있다. 이러한 터치 패널(100)을 좀더 상세하게 설명하면 다음과 같다.Here, the transparent electrode 40 may be formed in the effective area AA so as to detect the input device. In addition, the anti-scattering film 70 and the anti-reflection film 30 may be formed. In the dummy area DA, a wiring 50 connected to the transparent electrode 40 and a printed circuit board 60 that connects the wiring 50 to an external circuit (not shown) may be disposed. have. An outer dummy layer 20 may be formed in the dummy area DA, and a logo 20a may be formed in the outer dummy layer 20. The touch panel 100 will be described in more detail as follows.

도 2를 참조하면, 기판(10)에 외곽 더미층(20), 투명 전극(40) 및 반사 방지막(30)이 형성된 비산 방지 필름(70)이 형성될 수 있다. 그리고 이 투명 전극(40)에 배선(50)이 연결되고, 이 배선(50)에 인쇄 회로 기판(60)이 연결될 수 있다.Referring to FIG. 2, the scattering prevention film 70 having the outer dummy layer 20, the transparent electrode 40, and the anti-reflection film 30 may be formed on the substrate 10. The wiring 50 may be connected to the transparent electrode 40, and the printed circuit board 60 may be connected to the wiring 50.

기판(10)은 이 위에 형성되는 외곽 더미층(20), 투명 전극(40), 반사 방지막(30)이 코팅된 비산 방지 필름(70), 배선(50) 등을 지지할 수 있는 다양한 물질로 형성될 수 있다. 이러한 기판(10)은 일례로 유리 기판 또는 플라스틱 기판으로 이루어질 수 있다.The substrate 10 is made of various materials capable of supporting the outer dummy layer 20, the transparent electrode 40, the anti-scattering film 70 coated with the anti-reflection film 30, the wiring 50, and the like formed thereon. Can be formed. The substrate 10 may be made of, for example, a glass substrate or a plastic substrate.

기판(10)의 제1 면(12)의 외곽 영역(DA)에 외곽 더미층(20)이 형성된다. 외곽 더미층(20)은 배선(50)과 인쇄 회로 기판(60) 등이 외부에서 보이지 않도록 할 수 있게 소정의 색을 가지는 물질을 도포하여 형성될 수 있다. 외곽 더미층(20)은 원하는 외관에 적합한 색을 가질 수 있는데, 일례로 흑색 안료 등을 포함하여 흑색을 나타낼 수 있다. 그리고 이 외곽 더미층(20)에는 다양한 방법으로 원하는 로고(도 1의 참조부호 20a) 등을 형성할 수 있다. 이러한 외곽 더미층(20)은 증착, 인쇄, 습식 코팅 등에 의하여 형성될 수 있다.The outer dummy layer 20 is formed in the outer area DA of the first surface 12 of the substrate 10. The outer dummy layer 20 may be formed by applying a material having a predetermined color so that the wiring 50 and the printed circuit board 60 may not be seen from the outside. The outer dummy layer 20 may have a color suitable for a desired appearance, for example, black, including a black pigment. In addition, the outer dummy layer 20 may have a desired logo (reference numeral 20a of FIG. 1) or the like in various ways. The outer dummy layer 20 may be formed by deposition, printing, wet coating, or the like.

이 기판(10)의 제1 면(12)에 투명 전극(40)이 형성된다. 투명 전극(40)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지를 감지할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 이때, 외곽 더미층(20)이 형성된 부분에서는 투명 전극(40)이 외곽 더미층(20) 위로 형성될 수 있다. The transparent electrode 40 is formed on the first surface 12 of the substrate 10. The transparent electrode 40 may be formed in various shapes to detect whether an input device such as a finger is in contact. In this case, in the portion where the outer dummy layer 20 is formed, the transparent electrode 40 may be formed on the outer dummy layer 20.

일례로 도 3에 도시한 바와 같이, 투명 전극(40)이 제1 전극(42)과 제2 전극(44)을 포함할 수 있다. 제1 및 제2 전극(42, 44)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지하는 센서부(42a, 44a)와, 이러한 센서부(42a, 44a)를 연결하는 연결부(42b, 44b)를 포함한다. 제1 전극(42)의 연결부(42b)는 센서부(42a)를 제1 방향(도면의 좌우 방향)으로 연결하고, 제2 전극(44)의 연결부(44b)는 센서부(44a)를 제2 방향(도면의 상하 방향)으로 연결한다.For example, as illustrated in FIG. 3, the transparent electrode 40 may include a first electrode 42 and a second electrode 44. The first and second electrodes 42 and 44 include sensor parts 42a and 44a for detecting whether an input device such as a finger is in contact with each other, and connection parts 42b and 44b for connecting the sensor parts 42a and 44a. do. The connecting portion 42b of the first electrode 42 connects the sensor portion 42a in the first direction (left and right directions in the drawing), and the connecting portion 44b of the second electrode 44 removes the sensor portion 44a. Connect in two directions (up and down in the drawing).

제1 전극(42)의 연결부(42b)와 제2 전극(44)의 연결부(44b)가 서로 교차하는 부분에는 이들 사이에 절연층(46)이 위치하여 제1 전극(42)과 제2 전극(44)의 전기적 단락을 방지할 수 있다. 이러한 절연층(46)은 연결부(42b, 44b)를 절연할 수 있는 투명 절연성 물질로 형성될 수 있다. 일례로, 절연층(46)은 실리콘 산화물과 같은 금속 산화물, 또는 아크릴 등의 수지 등으로 이루어질 수 있다.The insulating layer 46 is positioned between the connecting portion 42b of the first electrode 42 and the connecting portion 44b of the second electrode 44 so that the first electrode 42 and the second electrode are located therebetween. The electrical short circuit of 44 can be prevented. The insulating layer 46 may be formed of a transparent insulating material that may insulate the connecting portions 42b and 44b. For example, the insulating layer 46 may be made of a metal oxide such as silicon oxide, a resin such as acrylic, or the like.

실시예에서는 일례로 제1 및 제2 전극(42,44)의 센서부(42a, 44a)가 동일한 층에 형성되어 센서부(42a, 44a)를 단일층으로 형성할 수 있다. 이에 의하여 투명 전도성 물질층의 사용을 최소화할 수 있고, 터치 패널(100)의 두께를 줄일 수 있다.In the embodiment, for example, the sensor parts 42a and 44a of the first and second electrodes 42 and 44 may be formed in the same layer to form the sensor parts 42a and 44a as a single layer. As a result, the use of the transparent conductive material layer can be minimized, and the thickness of the touch panel 100 can be reduced.

이와 같은 터치 패널(100)에 손가락 등의 입력 장치가 접촉되면, 입력 장치가 접촉된 부분에서 정전 용량의 차이가 발생되고, 이 차이가 발생된 부분을 접촉 위치로 검출할 수 있다. 실시예에서는 투명 전극(40)이 정전 용량 방식의 터치 패널에 적용되는 구조를 가지는 것을 예시하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서 투명 전극(40)을 저항 방식의 터치 패널에 적용되는 구조로 형성할 수도 있다.When an input device such as a finger contacts the touch panel 100, a difference in capacitance occurs at a portion where the input device contacts, and a portion where the difference occurs is detected as a contact position. In the exemplary embodiment, the transparent electrode 40 has a structure applied to the capacitive touch panel, but is not limited thereto. Therefore, the transparent electrode 40 may be formed in a structure applied to the resistive touch panel.

이러한 투명 전극(40)은 광의 투과를 방해하지 않으면서 전기가 흐를 수 있도록 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 이를 위하여 투명 전극(40)은 인듐 주석 산화물(indium tin oxide), 인듐 아연 산화물(indium zinc oxide), 구리 산화물(copper oxide), 주석 산화물(tin oxide), 아연 산화물(zinc oxide), 티타늄 산화물(titanium oxide) 등의 금속 산화물이나 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 고분자 물질 등의 다양한 물질을 포함할 수 있다.The transparent electrode 40 may include a transparent conductive material to allow electricity to flow without disturbing the transmission of light. To this end, the transparent electrode 40 may be formed of indium tin oxide, indium zinc oxide, copper oxide, tin oxide, zinc oxide, or titanium oxide. Metal oxides such as titanium oxide), carbon nanotubes (CNT), and various materials such as conductive polymer materials may be included.

이러한 투명 전극(40)은 물리적 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD)등 다양한 박막 증착 기술에 의하여 형성될 수 있다. 일례로, 물리적 증착법의 한 예인 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의하여 형성될 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 방법으로 투명 전극(40)을 형성할 수 있음은 물론이다.The transparent electrode 40 may be formed by various thin film deposition techniques such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). For example, it may be formed by reactive sputtering, which is an example of physical vapor deposition. However, the embodiment is not limited thereto, and the transparent electrode 40 may be formed in various ways.

다시 도 2를 참조하면, 기판(10)의 더미 영역(DA)으로 투명 전극(40)에 연결되는 배선(50) 및 이 배선(50)에 연결되는 인쇄 회로 기판(60)이 형성된다. 이러한 배선(50)은 더미 영역(DA)에 위치하므로 전기 전도성이 우수한 금속으로 이루어질 수 있다. 인쇄 회로 기판(60)으로는 다양한 형태의 인쇄 회로 기판이 적용될 수 있는데, 일례로 플렉서블 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB) 등이 적용될 수 있다. Referring back to FIG. 2, a wiring 50 connected to the transparent electrode 40 and a printed circuit board 60 connected to the wiring 50 are formed in the dummy area DA of the substrate 10. Since the wiring 50 is located in the dummy area DA, the wiring 50 may be made of a metal having excellent electrical conductivity. Various types of printed circuit boards may be applied to the printed circuit board 60. For example, a flexible printed circuit board (FPCB) may be applied.

이어서, 투명 전극(40)에 반사 방지막(30)이 형성된 비산 방지 필름(70)이 형성된다. 비산 방지 필름(70)은 서로 반대되는 제1 면(72) 및 제2 면(73)을 포함하고, 제1 실시예(100)는 반사 방지막(30)이 비산 방지 필름(70)의 제1 면(72)에 코팅으로 형성된다. 즉, 반사 방지막(30)이 투명 전극(40)의 반대쪽에 위치한다.Next, the scattering prevention film 70 in which the anti-reflection film 30 was formed in the transparent electrode 40 is formed. The anti-scattering film 70 includes a first face 72 and a second face 73 opposite to each other. In the first embodiment 100, the anti-reflection film 30 is formed by the first anti-scattering film 70. It is formed by coating on face 72. That is, the anti-reflection film 30 is located on the opposite side of the transparent electrode 40.

비산 방지 필름(70)은 터치 패널이 충격에 의해 파손될 때 파편이 비산되는 것을 방지하기 위한 것으로, 다양한 물질 및 구조로 형성될 수 있다.The anti-scattering film 70 is to prevent the debris from scattering when the touch panel is broken by an impact, and may be formed of various materials and structures.

반사 방지막(30)은 반사에 의한 눈부심이나 화면이 보이지 않는 현상을 막기 위해 가시광 영역의 빛의 반사율을 낮추는 역할을 한다. 즉, 반사 방지막(30)은 반사의 악영향을 효과적으로 감소시켜 우수한 해상도를 제공할 수 있고 시인성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널의 투과율을 90% 이상, 바람직하게는 92% 이상, 최대로는 99%까지 향상하는 역할을 할 수 있다.The anti-reflection film 30 serves to lower the reflectance of light in the visible region in order to prevent glare or reflection of the screen. In other words, the anti-reflection film 30 can effectively reduce the adverse effects of reflection to provide excellent resolution and improve visibility. In addition, the transmittance of the touch panel may serve to improve 90% or more, preferably 92% or more, and up to 99%.

반사 방지막(30)은 산화물 또는 불화물을 포함할 수 있다. 구체적으로, 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택되는 물질을 적어도 하나 포함할 수 있다.The antireflection film 30 may include an oxide or a fluoride. Specifically, at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide may be included.

제1 실시예에 따른 터치 패널에서, 반사 방지막(30)은 비산 방지 필름(70)에 스핀 코팅(spin coating) 등의 방법으로 코팅될 수 있다. 스핀 코팅은 반사 방지막(30) 제조용 조성물의 용액이나 액체 물질을 비산 방지 필름(70) 위에 떨어뜨리고 고속으로 회전시켜 얇게 퍼지게 하는 코팅 방법이다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니므로 반사 방지막(30)은 다양한 코팅법을 통해 비산 방지 필름(70)에 형성될 수 있다.In the touch panel according to the first embodiment, the anti-reflection film 30 may be coated on the scattering prevention film 70 by spin coating or the like. Spin coating is a coating method in which a solution or a liquid substance of the composition for manufacturing the anti-reflection film 30 is dropped on the anti-scattering film 70 and rotated at a high speed to spread thinly. However, since the embodiment is not limited thereto, the anti-reflection film 30 may be formed on the anti-scattering film 70 through various coating methods.

제1 실시예(100)에 따른 터치 패널에서는 외곽 더미층(20)과 투명 전극(40)을 동일한 기판(10) 상에 형성하므로, 외곽 더미층이 형성된 기판과 투명 전극 필름을 별도로 제조하여 접착할 필요가 없다. 따라서, 가공성이 낮은 광학용 투명 접착제를 사용하지 않아도 되므로, 이에 의한 불량을 저감하여 신뢰성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널의 두께를 줄이면서 제조 비용을 절감할 수 있다.In the touch panel according to the first embodiment 100, since the outer dummy layer 20 and the transparent electrode 40 are formed on the same substrate 10, the substrate and the transparent electrode film on which the outer dummy layer is formed are separately manufactured and bonded. There is no need to do it. Therefore, since the optical transparent adhesive with low workability does not need to be used, the defect by this can be reduced and reliability can be improved. In addition, the manufacturing cost can be reduced while reducing the thickness of the touch panel.

더욱이, 인덱스 매칭에 의하여 투명 전도성 물질로 형성된 투명 전극(40)을 보이지 않도록(invisible) 할 수 있다. 이에 의하여 터치 패널이 적용된 디스플레이 장치의 시인성을 향상할 수 있다.In addition, the transparent electrode 40 formed of the transparent conductive material may be invisible by index matching. As a result, the visibility of the display device to which the touch panel is applied can be improved.

이어서, 제1 실시예(100)에 따른 터치 패널에서는, 반사 방지막(30)이 코팅된 비산 방지 필름(70)을 사용함으로써 비산 방지 필름(70)에 반사 방지막(30)의 역할을 부여할 수 있고, 반사 방지막(30)과 비산 방지 필름(70)을 각각 형성할 때보다 공정을 단순화하고 비용을 절감할 수 있다. Subsequently, in the touch panel according to the first embodiment 100, the anti-reflection film 30 may be imparted to the anti-scattering film 70 by using the anti-scattering film 70 coated with the anti-reflection film 30. In addition, the process can be simplified and the cost can be reduced compared to when the anti-reflection film 30 and the scattering prevention film 70 are respectively formed.

이하, 도 4를 참조하여 제2 실시예에 따른 터치 패널을 좀더 상세하게 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 제1 실시예와 동일 또는 극히 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략하고, 서로 다른 부분만을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the touch panel according to the second exemplary embodiment will be described in more detail with reference to FIG. 4. For the sake of clarity and simplicity, detailed descriptions of parts that are the same as or similar to those of the first embodiment will be omitted, and only different parts will be described in detail.

도 4는 제2 실시예(200)에 따른 터치 패널의 단면도이다. 4 is a cross-sectional view of the touch panel according to the second embodiment 200.

제1 실시예와 달리, 반사 방지막(30)이 비산 방지 필름(70)의 제2 면(73)에 코팅으로 형성된 터치 패널이다. 즉, 반사 방지막(30)은 비산 방지 필름(70)의 서로 반대되는 제1 면(72) 및 제2 면(73) 중 적어도 어느 한 면에 형성될 수 있다.Unlike the first embodiment, the anti-reflection film 30 is a touch panel formed by coating on the second surface 73 of the anti-scattering film 70. That is, the anti-reflection film 30 may be formed on at least one of the first surface 72 and the second surface 73 opposite to each other of the scattering prevention film 70.

이하, 도 5를 참조하여 제3 실시예에 따른 터치 패널을 좀더 상세하게 설명한다. Hereinafter, the touch panel according to the third embodiment will be described in more detail with reference to FIG. 5.

도 5는 제3 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a touch panel according to a third embodiment.

도 5를 참조하면, 제3 실시예(300)에서는 기판(10)의 제1 면(12)에 투명 전극(40)이 형성되고 이 투명 전극(40)에 반사 방지막(30)이 형성된다. 이어서, 이 반사 방지막(30)에 비산 방지 필름(70)이 형성된다. 제1 실시예(100) 및 제2 실시예(200)와 달리 코팅이 아닌 방법으로 반사 방지막(30)을 비산 방지 필름(70)에 형성하는 터치 패널이다. 일례로, 반사 방지막(30)은 비산 방지 필름(70)에 스퍼터링(sputtering), 롤투롤(roll to roll)등의 방법으로 형성될 수 있다. 스퍼터링은 이온화된 원자를 전기장에 의해 가속시켜 박막 재료(source material)에 충돌시키고, 이 충돌에 의해 박막 재료의 원자들이 증착되는 방법이다. 롤투롤 공정은 종이나 필름 같은 소재를 롤에 감아 그대로 가공하는 공정을 말한다.Referring to FIG. 5, in the third embodiment 300, the transparent electrode 40 is formed on the first surface 12 of the substrate 10, and the anti-reflection film 30 is formed on the transparent electrode 40. Next, the scattering prevention film 70 is formed in this anti-reflection film 30. Unlike the first embodiment 100 and the second embodiment 200, the anti-reflection film 30 is formed on the anti-scattering film 70 by a non-coating method. For example, the anti-reflection film 30 may be formed on the anti-scattering film 70 by sputtering, roll to roll, or the like. Sputtering is a method in which ionized atoms are accelerated by an electric field to impinge on a thin film material, whereby the atoms of the thin film material are deposited. The roll-to-roll process refers to a process in which a material such as paper or film is wound on a roll and processed as it is.

이때, 투명 전극(40)과 반사 방지막(30) 사이에 광학용 투명 접착제(80)를 더 형성하여 광투과율을 떨어뜨리지 않으면서도 두 개 층이 안정적으로 접합할 수 있도록 할 수 있다.At this time, the optical transparent adhesive 80 may be further formed between the transparent electrode 40 and the anti-reflection film 30 so that the two layers can be stably bonded without lowering the light transmittance.

이하, 도 6을 참조하여 제4 실시예에 따른 터치 패널을 좀더 상세하게 설명한다. Hereinafter, the touch panel according to the fourth embodiment will be described in more detail with reference to FIG. 6.

도 6은 제4 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a touch panel according to a fourth embodiment.

도 6을 참조하면, 제4 실시예(400)에서는 기판(10)의 제1 면(12)에 외곽 더미층(20)이 형성되고, 이 외곽 더미층(20)에 비산 방지 필름(70)이 형성된다. 이 비산 방지 필름(70)에 투명 전극(40)이 형성되며, 이 투명 전극(40)을 덮으면서 반사 방지막(30)이 형성될 수 있다. 이때, 투명 전극(40)과 반사 방지막(30)사이에 광학용 투명 접착제(80, optically clear adhesive, OCA)를 더 형성하여 광투과율을 떨어뜨리지 않으면서도 두 개 층이 안정적으로 접합할 수 있도록 할 수 있다.Referring to FIG. 6, in the fourth exemplary embodiment 400, the outer dummy layer 20 is formed on the first surface 12 of the substrate 10, and the scattering prevention film 70 is formed on the outer dummy layer 20. Is formed. The transparent electrode 40 is formed on the scattering prevention film 70, and the antireflection film 30 may be formed while covering the transparent electrode 40. At this time, an optically clear adhesive (OCA) 80 is further formed between the transparent electrode 40 and the anti-reflection film 30 so that the two layers can be stably bonded without lowering the light transmittance. Can be.

즉, 제4 실시예(400)에서는 기판(10)자체에 비산 방지 필름(70)을 형성함으로써 그 자체가 기판(10)으로 인식되는 구조를 가질 수 있다. 이로써 터치 패널의 구조를 단순화시킬 수 있고 제조 공정을 감소시킬 수 있다.That is, in the fourth exemplary embodiment 400, the scattering prevention film 70 may be formed on the substrate 10 itself to have a structure recognized as the substrate 10. This can simplify the structure of the touch panel and reduce the manufacturing process.

이러한 제4 실시예(400)와, 앞서 설명한 제3 실시예(300)를 통해 비산 방지 필름(70)을 서로 다른 위치에 형성하여 터치 패널의 구조적 다양성을 확보할 수 있다. Through the fourth embodiment 400 and the third embodiment 300 described above, the scattering prevention film 70 may be formed at different positions to secure structural diversity of the touch panel.

이하, 도 7을 참조하여 제5 실시예에 따른 터치 패널을 좀더 상세하게 설명한다. Hereinafter, the touch panel according to the fifth embodiment will be described in more detail with reference to FIG. 7.

도 7은 제5 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a touch panel according to a fifth embodiment.

도 7을 참조하면, 제5 실시예(500)에서는 기판(10)의 제2 면(13)에 외곽 더미층(20)이 위치하고, 이를 덮으면서 보호층(90)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 7, in the fifth embodiment 500, the outer dummy layer 20 may be disposed on the second surface 13 of the substrate 10, and the protective layer 90 may be formed while covering the outer dummy layer 20.

이 외곽 더미층(20)은 더미 영역(DA)에 형성되며, 특정한 로고 등이 형성될 수 있다. 보호층(90)은 고굴절률을 가지는 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 탄탈륨 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물 등을 포함할 수 있다. 이러한 고굴절률의 보호층(90)에 의하여 투과율을 좀더 향상할 수 있다. 또한 이러한 보호층(90)을 하드 코팅(hard coating)층으로 형성하여 긁힘을 방지할 수 있다.The outer dummy layer 20 may be formed in the dummy area DA, and a specific logo may be formed. The protective layer 90 may include titanium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, lead oxide, or the like having a high refractive index. The transmittance can be further improved by the high refractive index protective layer 90. In addition, the protective layer 90 may be formed as a hard coating layer to prevent scratches.

도 7에서는 제1 실시예(100)를 변형하여 기판(10)의 제2 면(13)에 외곽 더미층(20)이 위치하고, 이를 덮으면서 보호층(90)이 형성되는 것을 도시하였으나 실시예가 이에 한정되지 않는다. 따라서 제2 실시예(200), 제3 실시예(300) 및 제4 실시예(400)를 변형하여 기판(10)의 제2 면(13)에 외곽 더미층(20)이 위치하고, 이를 덮으면서 보호층(90)이 형성될 수 있다.In FIG. 7, the outer dummy layer 20 is positioned on the second surface 13 of the substrate 10 by deforming the first embodiment 100, and the protective layer 90 is formed while covering the outer dummy layer 20. It is not limited to this. Accordingly, the outer dummy layer 20 is positioned on and covers the second surface 13 of the substrate 10 by modifying the second embodiment 200, the third embodiment 300, and the fourth embodiment 400. While the protective layer 90 may be formed.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. In addition, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

Claims (12)

기판;
상기 기판의 일면에 형성되는 투명 전극; 및
상기 투명 전극에 형성되며, 반사 방지막이 형성된 비산 방지 필름
을 포함하는 터치 패널.Board;
A transparent electrode formed on one surface of the substrate; And
Shatterproof film formed on the transparent electrode, the anti-reflection film is formed
Touch panel comprising a. 제1항에 있어서,
상기 반사 방지막이 상기 비산 방지 필름에 코팅으로 형성되는 터치 패널.The method of claim 1,
The anti-reflection film is a touch panel formed of a coating on the anti-scattering film. 제2항에 있어서,
상기 반사 방지막이 상기 투명 전극의 반대쪽에 위치하는 터치 패널.The method of claim 2,
The anti-reflection film is positioned on the opposite side of the transparent electrode. 제1항에 있어서,
상기 반사 방지막이 상기 투명 전극 쪽으로 위치하고,
상기 반사 방지막과 상기 투명 전극 사이에 광학용 투명 접착제를 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The anti-reflection film is positioned toward the transparent electrode,
Touch panel comprising an optical transparent adhesive between the anti-reflection film and the transparent electrode. 제1항에 있어서,
상기 반사 방지막이 산화물 및 불화물 중 적어도 어느 하나를 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The anti-reflection film includes at least one of an oxide and a fluoride. 제5항에 있어서,
상기 반사 방지막이 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택되는 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 5,
The anti-reflection film includes a touch panel including at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide. . 제1항에 있어서,
상기 기판의 적어도 하나의 면에 형성되는 외곽 더미층을 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
And an outer dummy layer formed on at least one surface of the substrate. 기판;
상기 기판의 일면에 형성되는 비산 방지 필름;
상기 비산 방지 필름에 형성되는 투명 전극; 및
상기 투명 전극에 형성되는 반사 방지막
을 포함하는 터치 패널.Board;
Shatterproof film formed on one surface of the substrate;
A transparent electrode formed on the scattering prevention film; And
Anti-reflection film formed on the transparent electrode
Touch panel comprising a. 제8항에 있어서,
상기 투명 전극과 상기 반사 방지막 사이에 광학용 투명 접착제가 형성되는 터치 패널.The method of claim 8,
The optical panel is an optical transparent adhesive is formed between the transparent electrode and the anti-reflection film. 제8항에 있어서,
상기 반사 방지막이 산화물 및 불화물 중 적어도 어느 하나를 포함하는 터치 패널.The method of claim 8,
The anti-reflection film includes at least one of an oxide and a fluoride. 제10항에 있어서,
상기 반사 방지막이 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택되는 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 10,
The anti-reflection film includes a touch panel including at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide. . 제8항에 있어서,
상기 기판의 적어도 하나의 면에 형성되는 외곽 더미층을 포함하는 터치 패널.

The method of claim 8,
And an outer dummy layer formed on at least one surface of the substrate.

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