KR101114024B1 - Touch panel - Google Patents

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KR101114024B1 KR1020100074422A KR20100074422A KR101114024B1 KR 101114024 B1 KR101114024 B1 KR 101114024B1 KR 1020100074422 A KR1020100074422 A KR 1020100074422A KR 20100074422 A KR20100074422 A KR 20100074422A KR 101114024 B1 KR101114024 B1 KR 101114024B1
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Abstract

실시예에 따른 터치 패널은, 서로 반대되는 제1 면 및 제2 면을 포함하는 기판; 상기 기판의 제1 면에 형성되는 중간층; 및 상기 중간층에 형성되는 투명 전극을 포함한다.According to at least one example embodiment, a touch panel includes: a substrate including first and second surfaces opposite to each other; An intermediate layer formed on the first surface of the substrate; And a transparent electrode formed on the intermediate layer.

Description

터치 패널{TOUCH PANEL}TOUCH PANEL {TOUCH PANEL}

본 기재는 터치 패널에 관한 것이다. The present description relates to a touch panel.

최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 입력을 하는 터치 패널이 적용되고 있다. Recently, various electronic products have been applied to a touch panel for inputting a method of contacting an input device such as a finger or a stylus to an image displayed on a display device.

터치 패널은 크게 저항막 방식의 터치 패널과 정전 용량 방식의 터치 패널로 구분될 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 입력 장치의 압력에 의하여 전극이 단락되어 위치가 검출된다. 정전 용량 방식의 터치 패널은 손가락이 접촉했을 때 전극 사이의 정전 용량이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다. The touch panel may be largely classified into a resistive touch panel and a capacitive touch panel. In the resistive touch panel, the electrode is short-circuited by the pressure of the input device to detect a position. The capacitive touch panel detects a change in capacitance between electrodes when a finger touches and detects a position thereof.

이러한 터치 패널이 다양한 디스플레이 장치에 적용되는 경우에, 로고 및 비산 방지 필름이 형성된 기판과 투명 전극이 형성된 필름을 별도로 제작하여 이들을 광학용 투명 접착제(optically clear adhesive, OCA)를 이용하여 접착한다. When such a touch panel is applied to various display devices, a substrate on which a logo and a scattering prevention film are formed and a film on which a transparent electrode is formed are separately manufactured and adhered to each other using an optically clear adhesive (OCA).

그러나 가공성이 낮은 광학용 투명 접착제를 사용하므로 접착 불량이 발생할 수 있으며, 필름과 기판 등이 다층으로 적층되어 투과율이 저하될 수 있다. 또한, 투명 전극이 형성된 필름을 대체로 수입에 의존하여 가격이 비싸 제조 단가가 상승될 수 있다. However, since the optically transparent adhesive having low workability may be used, poor adhesion may occur, and a film and a substrate may be laminated in multiple layers, thereby decreasing transmittance. In addition, the cost of manufacturing the transparent electrode formed film is largely dependent on the import price can be increased.

실시예는 투과율을 향상하고 불량 및 제조 단가를 저감할 수 있는 터치 패널을 제공하고자 한다. Embodiments provide a touch panel capable of improving transmittance and reducing defects and manufacturing costs.

실시예에 따른 터치 패널은, 서로 반대되는 제1 면 및 제2 면을 포함하는 기판; 상기 기판의 제1 면에 형성되는 중간층; 및 상기 중간층에 형성되는 투명 전극을 포함한다. According to at least one example embodiment, a touch panel includes: a substrate including first and second surfaces opposite to each other; An intermediate layer formed on the first surface of the substrate; And a transparent electrode formed on the intermediate layer.

다른 실시예에 따른 터치 패널은, 서로 반대되는 제1 면 및 제2 면을 포함하는 기판; 상기 기판의 상기 제1 면 및 상기 제2 면 중 적어도 어느 하나에 형성되는 외곽 더미층; 및 상기 기판의 제1 면에 형성되는 투명 전극을 포함한다. According to another exemplary embodiment, a touch panel may include a substrate including first and second surfaces opposite to each other; An outer dummy layer formed on at least one of the first and second surfaces of the substrate; And a transparent electrode formed on the first surface of the substrate.

실시예에 따른 터치 패널에서는, 외곽 더미층과 투명 전극을 동일한 기판 상에 형성하므로, 가공성이 낮은 광학용 투명 접착제를 사용하지 않아도 된다. 이에 의하여 불량을 저감하여 신뢰성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널의 적층 구조를 단순화하여 투과율을 향상할 수 있으며 두께 및 제조 비용을 줄일 수 있다. In the touch panel according to the embodiment, since the outer dummy layer and the transparent electrode are formed on the same substrate, it is not necessary to use an optically transparent adhesive having low workability. Thereby, defects can be reduced and reliability can be improved. In addition, the laminated structure of the touch panel may be simplified to improve transmittance, and to reduce thickness and manufacturing cost.

한편, 실시예에 따른 터치 패널에서는, 기판과 투명 전극 사이에 인덱스 매칭을 할 수 있는 중간층을 개재하여, 투과율, 반사율 및 색차(b*, yellowish) 특성을 향상하면서도 투명 전극을 중간층 상에 직접 형성할 수 있다. 따라서 투과율을 향상하면서도 제조 비용을 절감할 수 있다. 더욱이, 인덱스 매칭에 의하여 투명 전도성 물질로 형성된 투명 전극을 보이지 않도록(invisible) 할 수 있다. 이에 의하여 터치 패널이 적용된 디스플레이의 시인성을 향상할 수 있다. Meanwhile, in the touch panel according to the embodiment, the transparent electrode is directly formed on the intermediate layer while improving the transmittance, reflectance, and color difference (b *, yellowish) characteristics through an intermediate layer capable of index matching between the substrate and the transparent electrode. can do. Therefore, the manufacturing cost can be reduced while improving the transmittance. Furthermore, it is possible to make the transparent electrode formed of the transparent conductive material invisible by index matching. Thereby, the visibility of the display to which the touch panel is applied can be improved.

도 1은 제1 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이다.
도 2는 도 1의 -선을 따라 잘라서 본 단면도이다.
도 3은 도 1의 A 부분을 확대하여 도시한 평면도이다.
도 4는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다. 1 is a schematic plan view of a touch panel according to a first embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line of FIG. 1. FIG.
3 is an enlarged plan view of a portion A of FIG. 1.
4 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 상/위(on)에 또는 하/아래(under)에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of the embodiments, each layer (film), region, pattern or structure is formed on or under or on a substrate, each layer (film), region, pad or pattern. The substrate includes all formed directly or through another layer. Criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer will be described with reference to the drawings.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 3을 참조하여 제1 실시예에 따른 터치 패널을 상세하게 설명한다. 도 1은 제1 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이고, 도 2는 도 1의 -선을 따라 잘라서 본 단면도이다. 도 3은 도 1의 A 부분을 확대하여 도시한 평면도이다. A touch panel according to a first embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3. FIG. 1 is a schematic plan view of a touch panel according to a first embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line of FIG. 1. 3 is an enlarged plan view of a portion A of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 실시예에 따른 터치 패널(100)에는, 입력 장치의 위치를 감지하는 유효 영역(AA)과, 이 유효 영역(AA)의 외곽으로 위치하는 더미 영역(DA)이 정의된다. 1 and 2, the touch panel 100 according to the embodiment includes an effective area AA for detecting a position of an input device and a dummy area DA positioned outside the effective area AA. Is defined.

여기서, 유효 영역(AA)에는 입력 장치를 감지할 수 있도록 투명 전극(40)이 형성될 수 있다. 그리고 더미 영역(DA)에는 투명 전극(40)에 연결되는 배선(50) 및 이 배선(50)을 외부 회로(도시하지 않음, 이하 동일)에 연결하는 인쇄 회로 기판(60) 등이 위치할 수 있다. 이러한 더미 영역(DA)에는 외곽 더미층(20)이 형성될 수 있으며, 이 외곽 더미층(20)에는 로고(logo)(20a) 등이 형성될 수 있다. 이러한 터치 패널(100)을 좀더 상세하게 설명하면 다음과 같다. Here, the transparent electrode 40 may be formed in the effective area AA so as to detect the input device. In the dummy area DA, a wiring 50 connected to the transparent electrode 40 and a printed circuit board 60 that connects the wiring 50 to an external circuit (not shown) may be disposed. have. An outer dummy layer 20 may be formed in the dummy area DA, and a logo 20a may be formed in the outer dummy layer 20. The touch panel 100 will be described in more detail as follows.

도 2를 참조하면, 기판(10)에 외곽 더미층(20), 중간층(30) 및 투명 전극(40)이 형성될 수 있다. 그리고 이 투명 전극(40)에 배선(50)이 연결되고, 이 배선(50)에 인쇄 회로 기판(60)이 연결될 수 있다. 그리고 투명 전극(40), 배선(50) 및 인쇄 회로 기판(60)을 덮으면서 비산 방지 필름(70)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 2, the outer dummy layer 20, the intermediate layer 30, and the transparent electrode 40 may be formed on the substrate 10. The wiring 50 may be connected to the transparent electrode 40, and the printed circuit board 60 may be connected to the wiring 50. The scattering prevention film 70 may be formed while covering the transparent electrode 40, the wiring 50, and the printed circuit board 60.

기판(10)은 이 위에 형성되는 외곽 더미층(20), 중간층(30), 투명 전극(40), 배선(50) 등을 지지할 수 있는 다양한 물질로 형성될 수 있다. 이러한 기판(10)은 일례로 유리 기판 또는 플라스틱 기판으로 이루어질 수 있다. The substrate 10 may be formed of various materials capable of supporting the outer dummy layer 20, the intermediate layer 30, the transparent electrode 40, and the wiring 50 formed thereon. The substrate 10 may be made of, for example, a glass substrate or a plastic substrate.

기판(10)의 제1 면(이하 "하면")(12)의 외곽 영역(DA)에 외곽 더미층(20)이 형성된다. 외곽 더미층(20)은 배선(50)과 인쇄 회로 기판(60) 등이 외부에서 보이지 않도록 할 수 있게 소정의 색을 가지는 물질을 도포하여 형성될 수 있다. 외곽 더미층(20)은 원하는 외관에 적합한 색을 가질 수 있는데, 일례로 흑색 안료 등을 포함하여 흑색을 나타낼 수 있다. 그리고 이 외곽 더미층(20)에는 다양한 방법으로 원하는 로고(도 1의 참조부호 20a) 등을 형성할 수 있다. 이러한 외곽 더미층(20)은 증착, 인쇄, 습식 코팅 등에 의하여 형성될 수 있다. The outer dummy layer 20 is formed on the outer area DA of the first surface (hereinafter referred to as “lower surface”) 12 of the substrate 10. The outer dummy layer 20 may be formed by applying a material having a predetermined color so that the wiring 50 and the printed circuit board 60 may not be seen from the outside. The outer dummy layer 20 may have a color suitable for a desired appearance, for example, black, including a black pigment. In addition, the outer dummy layer 20 may have a desired logo (reference numeral 20a of FIG. 1) or the like in various ways. The outer dummy layer 20 may be formed by deposition, printing, wet coating, or the like.

이 기판(10)의 하면(12)에 외곽 더미층(20)을 덮으면서 중간층(30)이 형성된다. 이러한 중간층(30)은 하면(12)의 전면(全面)에 형성될 수 있다. The intermediate layer 30 is formed on the lower surface 12 of the substrate 10 while covering the outer dummy layer 20. The intermediate layer 30 may be formed on the entire surface of the lower surface 12.

이 중간층(30)은 산화물을 포함할 수 있는데, 일례로, 탄탈륨 산화물, 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 규소 산화물 등을 포함할 수 있다. 중간층(30)은 특정한 굴절률을 가지도록 하여 인덱스 매칭(index matching)이 되도록 한다. The intermediate layer 30 may include an oxide. For example, the intermediate layer 30 may include tantalum oxide, titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, lead oxide, silicon oxide, or the like. The intermediate layer 30 has a specific refractive index so as to be index matching.

중간층(30)은 특정한 굴절률을 가질 수 있도록 단일 또는 다층으로 형성될 수 있다. 일례로, 중간층(30)이 고굴절률의 제1 층(22)과 저굴절률의 제2 층(24)을 기판(10) 상에 차례로 형성하여 유효 영역(AA)에서 터치 패널(100)의 투과율을 향상시킬 수 있다. The intermediate layer 30 may be formed in a single or multiple layers to have a specific refractive index. For example, the intermediate layer 30 sequentially forms the first layer 22 having the high refractive index and the second layer 24 having the low refractive index on the substrate 10 to transmit the transmittance of the touch panel 100 in the effective area AA. Can improve.

일례로, 제1 층(22)은 굴절률이 높은 탄탈륨 산화물, 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 지르코늄 산화물 또는 납 산화물을 포함할 수 있으며, 제2 층(24)은 굴절률이 낮은 규소 산화물을 포함할 수 있다. 일례로, 티타늄 산화물의 굴절률이 2.2, 니오븀 산화물의 굴절률이 2.4, 규소 산화물의 굴절률이 1.4 일 수 있다. 이 경우 터치 패널(100)의 투과율을 90% 이상, 바람직하게는 92% 이상, 최대로는 99%까지 향상할 수 있다. 도면에서는 하나의 제1 층(22)과 하나의 제2 층(24)이 적층된 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 복수의 제1 층(22)과 제2 층(24)이 교대로 적층될 수도 있다. For example, the first layer 22 may include high refractive index tantalum oxide, titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, or lead oxide, and the second layer 24 may include silicon oxide having low refractive index. . For example, the refractive index of titanium oxide may be 2.2, the refractive index of niobium oxide is 2.4, and the refractive index of silicon oxide may be 1.4. In this case, the transmittance of the touch panel 100 may be improved to 90% or more, preferably 92% or more, and up to 99%. In the drawing, although one first layer 22 and one second layer 24 are stacked, the embodiment is not limited thereto, and the plurality of first layers 22 and the second layer 24 may be formed. It may be laminated alternately.

이러한 중간층(30)은 증착 등에 의하여 형성될 수 있다. 이때, 중간층(30)은 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의해 형성될 수 있다. 즉, 금속 증착원과 증착 타켓이 위한 스퍼터 장치 내에 비활성 기체(Ar, Ne)과 함께 산소(O2) 및/또는 질소(N2)를 추가하여, 금속 증착원이 산화되면서 증착 타켓에 증착되도록 할 수 있다. The intermediate layer 30 may be formed by vapor deposition or the like. In this case, the intermediate layer 30 may be formed by reactive sputtering. That is, by adding oxygen (O 2 ) and / or nitrogen (N 2 ) together with the inert gas (Ar, Ne) in the sputtering apparatus for the metal deposition source and the deposition target, the metal deposition source is oxidized and deposited on the deposition target. can do.

이러한 중간층(30)에 투명 전극(40)이 형성된다. 투명 전극(40)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지를 감지할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있다.The transparent electrode 40 is formed on the intermediate layer 30. The transparent electrode 40 may be formed in various shapes to detect whether an input device such as a finger is in contact.

일례로, 도 3에 도시한 바와 같이, 투명 전극(40)이 제1 전극(42)과 제2 전극(44)을 포함할 수 있다. 제1 및 제2 전극(42, 44)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지는 감지하는 센서부(42a, 44a)와, 이러한 센서부(42a, 44a)를 연결하는 연결부(42b, 44b)를 포함한다. 제1 전극(42)의 연결부(42b)는 센서부(42a)를 제1 방향(도면의 좌우 방향)으로 연결하고, 제2 전극(44)의 연결부(44b)는 센서부(44a)를 제2 방향(도면의 상하 방향)으로 연결한다. For example, as illustrated in FIG. 3, the transparent electrode 40 may include a first electrode 42 and a second electrode 44. The first and second electrodes 42 and 44 may include sensor units 42a and 44a for detecting whether an input device such as a finger is in contact with each other, and connecting portions 42b and 44b for connecting the sensor units 42a and 44a. Include. The connecting portion 42b of the first electrode 42 connects the sensor portion 42a in the first direction (left and right directions in the drawing), and the connecting portion 44b of the second electrode 44 removes the sensor portion 44a. Connect in two directions (up and down in the drawing).

제1 전극(42)의 연결부(42b)와 제2 전극(44)의 연결부(44b)가 서로 교차하는 부분에는 이들 사이에 절연층(46)이 위치하여 제1 전극(42)과 제2 전극(44)의 전기적 단락을 방지할 수 있다. 이러한 절연층(46)은 연결부(42b, 44b)를 절연할 수 있는 투명 절연성 물질로 형성될 수 있다. 일례로, 절연층(46)은 실리콘 산화물과 같은 금속 산화물, 또는 아크릴 등의 수지 등으로 이루어질 수 있다. The insulating layer 46 is positioned between the connecting portion 42b of the first electrode 42 and the connecting portion 44b of the second electrode 44 so that the first electrode 42 and the second electrode are located therebetween. The electrical short circuit of 44 can be prevented. The insulating layer 46 may be formed of a transparent insulating material that may insulate the connecting portions 42b and 44b. For example, the insulating layer 46 may be made of a metal oxide such as silicon oxide, a resin such as acrylic, or the like.

실시예에서는 일례로 제1 및 제2 전극(42, 44)의 센서부(42a, 44a)가 동일한 층에 형성되어 센서부(42a, 44a)를 단일층으로 형성할 수 있다. 이에 의하여 투명 전도성 물질층의 사용을 최소화할 수 있고, 터치 패널(100)의 두께를 줄일 수 있다. In an embodiment, for example, the sensor units 42a and 44a of the first and second electrodes 42 and 44 may be formed in the same layer to form the sensor units 42a and 44a as a single layer. As a result, the use of the transparent conductive material layer can be minimized, and the thickness of the touch panel 100 can be reduced.

이와 같은 터치 패널(100)에 손가락 등의 입력 장치가 접촉되면, 입력 장치가 접촉된 부분에서 정전 용량의 차이가 발생되고, 이 차이가 발생된 부분을 접촉 위치로 검출할 수 있다. 실시예에서는 투명 전극(40)이 정전 용량 방식의 터치 패널에 적용되는 구조를 가지는 것을 예시하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서 투명 전극(40)을 저항 방식의 터치 패널에 적용되는 구조로 형성할 수도 있다. When an input device such as a finger contacts the touch panel 100, a difference in capacitance occurs at a portion where the input device contacts, and a portion where the difference occurs is detected as a contact position. In the exemplary embodiment, the transparent electrode 40 has a structure applied to the capacitive touch panel, but is not limited thereto. Therefore, the transparent electrode 40 may be formed in a structure applied to the resistive touch panel.

이러한 투명 전극(40)은 광의 투과를 방해하지 않으면서 전기가 흐를 수 있도록 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 이를 위하여 투명 전극(40)은 인듐 주석 산화물(indium tin oxide), 인듐 아연 산화물(indium zinc oxide), 구리 산화물(copper oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT) 등의 다양한 물질을 포함할 수 있다. The transparent electrode 40 may include a transparent conductive material to allow electricity to flow without disturbing the transmission of light. To this end, the transparent electrode 40 may include various materials such as indium tin oxide, indium zinc oxide, copper oxide, and carbon nano tube (CNT). Can be.

이러한 투명 전극(40)은 증착 등에 의하여 형성될 수 있는데, 일례로 반응성 스퍼터링에 의하여 형성될 수 있다. 이때, 투명 전극(40)이 인듐 주석 산화물로 형성될 경우에, 주석의 함량이 10% 이하일 수 있다. 이에 의하여 투과율을 향상시키고, 이후에 어닐링(annealing) 공정으로 인듐 주석 화합물을 결정화하여 전기 전도도를 향상할 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 방법으로 투명 전극(40)을 형성할 수 있음은 물론이다. The transparent electrode 40 may be formed by deposition, for example, may be formed by reactive sputtering. In this case, when the transparent electrode 40 is formed of indium tin oxide, the content of tin may be 10% or less. As a result, the transmittance may be improved, and then the indium tin compound may be crystallized by an annealing process to improve electrical conductivity. However, the embodiment is not limited thereto, and the transparent electrode 40 may be formed in various ways.

다시 도 2를 참조하면, 기판(10)의 더미 영역(DA)으로 투명 전극(40)에 연결되는 배선(50) 및 이 배선(50)에 연결되는 인쇄 회로 기판(60)이 형성된다. 이러한 배선(50)은 더미 영역(DA)에 위치하므로 전기 전도성이 우수한 금속으로 이루어질 수 있다. 인쇄 회로 기판(60)으로는 다양한 형태의 인쇄 회로 기판이 적용될 수 있는데, 일례로 플렉서블 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB) 등이 적용될 수 있다. Referring back to FIG. 2, a wiring 50 connected to the transparent electrode 40 and a printed circuit board 60 connected to the wiring 50 are formed in the dummy area DA of the substrate 10. Since the wiring 50 is located in the dummy area DA, the wiring 50 may be made of a metal having excellent electrical conductivity. Various types of printed circuit boards may be applied to the printed circuit board 60. For example, a flexible printed circuit board (FPCB) may be applied.

이 중간층(30), 투명 전극(40), 배선(50) 및 인쇄 회로 기판(60)을 덮으면서 비산 방지 필름(70)이 형성될 수 있다. 비산 방지 필름(70)은 터치 패널(100)이 충격에 의해 파손될 때 파편이 비산되는 것을 방지하기 위한 것으로, 다양한 물질 및 구조로 형성될 수 있다. 실시예에서는 비산 방지 필름(70)이 기판(10)의 하면(12) 쪽에 위치한 것을 예시하였다. 그러나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 비산 방지 필름(70)이 다양한 위치로 형성될 수 있다. The scattering prevention film 70 may be formed while covering the intermediate layer 30, the transparent electrode 40, the wiring 50, and the printed circuit board 60. The anti-scattering film 70 is for preventing the fragments from scattering when the touch panel 100 is broken by an impact, and may be formed of various materials and structures. In the embodiment, the anti-scattering film 70 is located on the lower surface 12 side of the substrate 10. However, the embodiment is not limited thereto, and the anti-scattering film 70 may be formed at various positions.

실시예에 따른 터치 패널(100)에서는 외곽 더미층(20)과 투명 전극(40)을 동일한 기판(10) 상에 형성하므로, 외곽 더미층이 형성된 기판과 투명 전극 필름을 별도로 제조하여 접착할 필요가 없다. 따라서, 가공성이 낮은 광학용 투명 접착제를 사용하지 않아도 되므로, 이에 의한 불량을 저감하여 신뢰성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널(100)의 적층 구조를 단순화하여 투과율을 향상할 수 있고, 이와 함께 터치 패널(100)의 두께를 줄이면서 제조 비용을 절감할 수 있다. In the touch panel 100 according to the embodiment, since the outer dummy layer 20 and the transparent electrode 40 are formed on the same substrate 10, it is necessary to separately prepare and bond the substrate and the transparent electrode film on which the outer dummy layer is formed. There is no. Therefore, since the optical transparent adhesive with low workability does not need to be used, the defect by this can be reduced and reliability can be improved. In addition, the transmittance may be improved by simplifying the laminated structure of the touch panel 100, and at the same time, manufacturing cost may be reduced while reducing the thickness of the touch panel 100.

기판(10)과 투명 전극(40) 사이에 인덱스 매칭을 할 수 있는 중간층(30)을 개재하여, 투명 전극(40)을 중간층(30) 상에 형성할 수 있다. 이러한 인덱스 매칭에 의하여 투과율, 반사율, 색차(b*, yellowish) 특성을 최적화할 수 있다. The transparent electrode 40 may be formed on the intermediate layer 30 through the intermediate layer 30 capable of index matching between the substrate 10 and the transparent electrode 40. By such index matching, transmittance, reflectance, and color difference (b *, yellowish) characteristics can be optimized.

즉, 종래에는 투과율 등을 고려하여 폴리 에틸렌 테레프탈레이트(poly(ethylene terephthalate), PET) 필름에 인듐 주석 산화물이 형성된 고가의 소재를 투명 전극(40)의 형성을 위하여 사용하였다. 그러나 본 실시예에서는 인덱스 매칭을 하는 중간층(30)에 의해 투과율이 최소 90% 이상이므로, 터치 패널(100)의 투과율, 반사율, 색차 특성을 향상하면서도 투명 전극(40)을 중간층(30) 상에 직접 형성할 수 있다. 따라서 고가의 소재를 사용하지 않아 제조 단가를 절감하면서도 투과율을 향상할 수 있다. That is, in the related art, an expensive material in which indium tin oxide is formed on a polyethylene terephthalate (poly (ethylene terephthalate) film) in consideration of transmittance and the like is used for forming the transparent electrode 40. However, in this embodiment, since the transmittance is at least 90% by the intermediate layer 30 performing index matching, the transparent electrode 40 is disposed on the intermediate layer 30 while improving the transmittance, reflectance, and color difference characteristics of the touch panel 100. It can be formed directly. Therefore, it is possible to improve the transmittance while reducing the manufacturing cost by not using expensive materials.

더욱이, 인덱스 매칭에 의하여 투명 전도성 물질로 형성된 투명 전극(40)을 보이지 않도록(invisible) 할 수 있다. 이에 의하여 터치 패널(100)이 적용된 디스플레이 장치의 시인성을 향상할 수 있다. In addition, the transparent electrode 40 formed of the transparent conductive material may be invisible by index matching. As a result, the visibility of the display device to which the touch panel 100 is applied may be improved.

이하, 도 4를 참조하여 제2 실시예에 따른 터치 패널을 좀더 상세하게 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 제1 실시예와 동일 또는 극히 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략하고, 서로 다른 부분만을 상세하게 설명한다. Hereinafter, the touch panel according to the second exemplary embodiment will be described in more detail with reference to FIG. 4. For the sake of clarity and simplicity, detailed descriptions of parts that are the same as or similar to those of the first embodiment will be omitted, and only different parts will be described in detail.

도 4는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다. 4 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.

도 4를 참조하면, 본 실시예에서는 기판(10)의 상면(14)에 외곽 더미층(20)이 위치하고, 이를 덮으면서 보호층(80)이 형성될 수 있다. Referring to FIG. 4, in the present exemplary embodiment, the outer dummy layer 20 is positioned on the upper surface 14 of the substrate 10, and the protective layer 80 may be formed while covering the outer dummy layer 20.

이 외곽 더미층(20)은 더미 영역(DA)에 형성되며, 특정한 로고 등이 형성될 수 있다. 보호층(80)은 고굴절률을 가지는 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 탄탈륨 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물 등을 포함할 수 있다. 이러한 고굴절률의 보호층(80)에 의하여 투과율을 좀더 향상할 수 있다. 또한 이러한 보호층(80)을 하드 코팅(hard coating)층으로 형성하여 긁힘을 방지할 수 있다. The outer dummy layer 20 may be formed in the dummy area DA, and a specific logo may be formed. The protective layer 80 may include titanium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, lead oxide, or the like having a high refractive index. The transmittance can be further improved by the high refractive index protective layer 80. In addition, the protective layer 80 may be formed as a hard coating layer to prevent scratches.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. In addition, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
In addition, the above description has been made with reference to the embodiments, which are merely examples and are not intended to limit the invention. It will be appreciated that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified and implemented. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

Claims (10)

서로 반대되는 제1 면 및 제2 면을 포함하는 기판;
상기 기판의 제1 면에 형성되는 중간층;
상기 중간층에 형성되는 투명 전극; 및
상기 투명 전극에 형성되고, 비산을 방지하는 비산 방지 필름을 포함하고,
상기 투명 전극은 제1 방향으로 형성되는 제1 전극; 및
상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되고, 상기 제1 전극과 절연되는 제2 전극을 포함하고,
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극이 동일 평면 상에 위치하는 터치 패널. A substrate comprising a first side and a second side opposite to each other;
An intermediate layer formed on the first surface of the substrate;
A transparent electrode formed on the intermediate layer; And
A scattering prevention film formed on the transparent electrode and preventing scattering,
The transparent electrode may include a first electrode formed in a first direction; And
A second electrode formed in a second direction crossing the first direction and insulated from the first electrode,
The touch panel wherein the first electrode and the second electrode is on the same plane. 제1항에 있어서,
상기 중간층은 산화물을 포함하는 터치 패널. The method of claim 1,
The intermediate layer includes an oxide. 제1항에 있어서,
상기 중간층은,
상기 기판의 상기 제1 면에 형성되는 제1 굴절률의 제1 층; 및
상기 제1 층에 형성되며, 상기 제1 굴절률보다 작은 제2 굴절률의 제2 층
을 포함하는 터치 패널. The method of claim 1,
The intermediate layer,
A first layer of a first refractive index formed on said first surface of said substrate; And
A second layer having a second refractive index that is formed in the first layer and is less than the first refractive index
Touch panel comprising a. 제3항에 있어서,
상기 제1 층은 탄탈륨 산화물, 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물 및 티타늄 산화물으로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 하나 포함하고,
상기 제2 층은 규소 산화물을 포함하는 터치 패널. The method of claim 3,
The first layer comprises at least one material selected from the group consisting of tantalum oxide, titanium oxide, niobium oxide, zirconium oxide, lead oxide and titanium oxide,
And the second layer comprises silicon oxide. 제1항에 있어서,
상기 투명 전극에 연결되는 배선을 더 포함하는 터치 패널. The method of claim 1,
The touch panel further comprises a wire connected to the transparent electrode. 제1항에 있어서,
상기 기판의 상기 제1 면 및 상기 제2 면 중 적어도 어느 하나에 형성되는 외곽 더미층을 포함하는 터치 패널. The method of claim 1,
And an outer dummy layer formed on at least one of the first and second surfaces of the substrate. 서로 반대되는 제1 면 및 제2 면을 포함하는 기판;
상기 기판의 상기 제1 면 및 상기 제2 면 중 적어도 어느 하나에 형성되는 외곽 더미층;
상기 기판의 제1 면에 형성되는 투명 전극; 및
상기 투명 전극에 형성되고, 비산을 방지하는 비산 방지 필름을 포함하고,
상기 투명 전극은 제1 방향으로 형성되는 제1 전극; 및
상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되고, 상기 제1 전극과 절연되는 제2 전극을 포함하고,
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극이 동일 평면 상에 위치하는 터치 패널. A substrate comprising a first side and a second side opposite to each other;
An outer dummy layer formed on at least one of the first and second surfaces of the substrate;
A transparent electrode formed on the first surface of the substrate; And
A scattering prevention film formed on the transparent electrode and preventing scattering,
The transparent electrode may include a first electrode formed in a first direction; And
A second electrode formed in a second direction crossing the first direction and insulated from the first electrode,
The touch panel wherein the first electrode and the second electrode is located on the same plane. 제7항에 있어서,
상기 기판의 상기 제1 면에 상기 외곽 더미층이 위치하고,
상기 외곽 더미층과 상기 투명 전극 사이에 위치하는 중간층을 더 포함하는 터치 패널. The method of claim 7, wherein
The outer dummy layer is positioned on the first surface of the substrate,
The touch panel further comprises an intermediate layer positioned between the outer dummy layer and the transparent electrode. 제7항에 있어서,
상기 기판의 상기 제2 면에 상기 외곽 더미층이 위치하고,
상기 외곽 더미층을 덮으면서 상기 기판의 상기 제2 면에 형성되는 보호층을 더 포함하는 터치 패널. The method of claim 7, wherein
The outer dummy layer is positioned on the second surface of the substrate,
And a protective layer formed on the second surface of the substrate while covering the outer dummy layer. 제9항에 있어서,
상기 기판의 상기 제1 면과 상기 투명 전극 사이에 위치하는 중간층을 더 포함하는 터치 패널.
10. The method of claim 9,
And a middle layer positioned between the first surface of the substrate and the transparent electrode.
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