KR101241469B1 - Touch panel - Google Patents

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Abstract

실시예에 따른 터치 패널은, 유효 영역과 더미 영역이 정의되는 기판; 상기 기판의 유효 영역에 형성되는 투명 전극; 및 상기 기판의 더미 영역에 형성되고 상기 투명 전극과 전기적으로 연결되는 배선을 포함하고, 상기 투명 전극과 상기 배선이 상기 기판의 동일한 층에서 동일한 물질로 형성된다.According to an embodiment, a touch panel may include a substrate on which an effective area and a dummy area are defined; A transparent electrode formed in the effective region of the substrate; And a wire formed in the dummy region of the substrate and electrically connected to the transparent electrode, wherein the transparent electrode and the wire are formed of the same material in the same layer of the substrate.

Description

터치 패널{TOUCH PANEL}TOUCH PANEL {TOUCH PANEL}

본 기재는 터치 패널에 관한 것이다.The present disclosure relates to a touch panel.

최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 입력을 하는 터치 패널이 적용되고 있다.Recently, various electronic products have been applied to a touch panel for inputting a method of contacting an input device such as a finger or a stylus to an image displayed on a display device.

터치 패널은 크게 저항막 방식의 터치 패널과 정전 용량 방식의 터치 패널로 구분될 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 입력 장치의 압력에 의하여 유리와 전극이 단락되어 위치가 검출된다. 정전 용량 방식의 터치 패널은 손가락이 접촉했을 때 전극 사이의 정전 용량이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다.The touch panel can be largely divided into a resistance film type touch panel and a capacitive type touch panel. In the resistive touch panel, the glass and the electrode are short-circuited by the pressure of the input device and the position is detected. A capacitance type touch panel senses a change in electrostatic capacitance between electrodes when a finger touches them, thereby detecting the position.

이러한 터치 패널에서는 전극을 외부 회로와 연결하기 위한 배선들이 적어도 터치 패널의 좌, 우 및 하단으로 위치한다. 이와 같이 위치하는 더미 영역이 유효 영역의 적어도 세 측부에 위치하여 유효 영역이 줄어드는 문제가 발생될 수 있다.In such a touch panel, wirings for connecting an electrode to an external circuit are located at least left, right, and bottom of the touch panel. The dummy region located in this way may be located on at least three sides of the effective region, thereby reducing the effective region.

또한 이러한 더미 영역, 특히 좌우 영역에 위치한 더미 영역을 가리기 위한 베젤(bezel)에 의해 디자인에 한계를 가져올 수 있다.In addition, a bezel for covering the dummy area, particularly the left and right areas, may limit the design.

실시예는 불량 및 제조 단가를 저감할 수 있는 간단한 구조의 터치 패널을 제공하고자 한다. 또한, 베젤을 제거할 수 있는 터치 패널을 제공하고자 한다.Embodiments provide a touch panel having a simple structure that can reduce defects and manufacturing costs. Another object of the present invention is to provide a touch panel capable of removing the bezel.

실시예에 따른 터치 패널은, 유효 영역과 더미 영역이 정의되는 기판; 상기 기판의 유효 영역에 형성되는 투명 전극; 및 상기 기판의 더미 영역에 형성되고 상기 투명 전극과 전기적으로 연결되는 배선을 포함하고, 상기 투명 전극과 상기 배선이 상기 기판의 동일한 층에서 동일한 물질로 형성된다.According to an embodiment, a touch panel may include a substrate on which an effective area and a dummy area are defined; A transparent electrode formed in the effective region of the substrate; And a wire formed in the dummy region of the substrate and electrically connected to the transparent electrode, wherein the transparent electrode and the wire are formed of the same material in the same layer of the substrate.

터치 패널의 구조를 단순화하여 투과율을 향상할 수 있으며 두께 및 제조 비용을 줄일 수 있다. 또한, 배선 전극을 가리기 위해 필요하였던 베젤을 제거할 수 있다. 이로써 화면의 크기를 확보할 수 있고 베젤의 제약 없는 디자인의 다양성을 확보할 수 있다. The structure of the touch panel can be simplified to improve transmittance, and to reduce thickness and manufacturing cost. In addition, the bezel needed to cover the wiring electrode can be removed. This ensures the size of the screen and ensures a variety of bezel-free designs.

도 1은 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다.
도 3은 제2 및 제3 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이다.
도 4는 도 3을 구체적으로 도시한 터치 패널의 평면도이다.
도 5는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 6은 제3 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 7은 제4 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 8은 제5 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.
도 9는 제6 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.1 is a schematic plan view of a touch panel according to an embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1.
3 is a schematic plan view of a touch panel according to the second and third embodiments.
FIG. 4 is a plan view of the touch panel of FIG. 3 in detail.
5 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.
6 is a cross-sectional view of a touch panel according to a third embodiment.
7 is a cross-sectional view of a touch panel according to a fourth embodiment.
8 is a cross-sectional view of a touch panel according to a fifth embodiment.
9 is a cross-sectional view of a touch panel according to a sixth embodiment.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of embodiments, each layer, region, pattern, or structure may be “on” or “under” the substrate, each layer, region, pad, or pattern. Substrate formed in ”includes all formed directly or through another layer. Criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer will be described with reference to the drawings.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 1 및 도 2를 참조하여, 제1 실시예에 따른 터치 패널을 설명한다.First, a touch panel according to a first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

도 1은 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 실시예에 따른 터치 패널(100)에는, 입력 장치의 위치를 감지하는 유효 영역(AA)과, 이 유효 영역(AA)의 외곽으로 위치하는 더미 영역(DA)이 정의된다. 1 is a schematic plan view of a touch panel according to an embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1. 1 and 2, the touch panel 100 according to the embodiment includes an effective area AA for detecting a position of an input device and a dummy area DA positioned outside the effective area AA. Is defined.

여기서, 유효 영역(AA)에는 입력 장치를 감지할 수 있도록 투명 전극(20a)이 형성될 수 있다. 그리고 더미 영역(DA)에는 투명 전극(30)에 연결되는 배선(30a) 및 이 배선(30a)을 외부 회로(도시하지 않음, 이하 동일)에 연결하는 인쇄 회로 기판(도시하지 않음, 이하 동일) 등이 위치할 수 있다.Here, the transparent electrode 20a may be formed in the effective area AA to detect the input device. In the dummy area DA, a wiring 30a connected to the transparent electrode 30 and a printed circuit board connecting the wiring 30a to an external circuit (not shown) are the same. Etc. may be located.

이와 같은 터치 패널에 손가락 등의 입력 장치가 접촉되면, 입력 장치가 접촉된 부분에서 정전 용량의 차이가 발생되고, 이 차이가 발생된 부분을 접촉 위치로 검출할 수 있다.When an input device such as a finger is in contact with such a touch panel, a difference in capacitance occurs at a portion where the input device contacts, and a portion where the difference is generated can be detected as a contact position.

이러한 터치 패널을 좀더 상세하게 설명하면 다음과 같다.The touch panel will be described in more detail as follows.

기판(10)은 이 위에 형성되는 투명 전극(20a), 배선(30a) 등을 지지할 수 있는 다양한 물질로 형성될 수 있다. 이러한 기판(10)은 일례로 유리 기판 또는 플라스틱 기판으로 이루어질 수 있다.The substrate 10 may be formed of various materials capable of supporting the transparent electrode 20a, the wiring 30a, and the like formed thereon. The substrate 10 may be made of, for example, a glass substrate or a plastic substrate.

도 2를 참조하면, 제1 실시예에 따른 터치 패널(100)에서는, 기판(10)의 유효 영역(AA) 및 더미 영역(DA)에 투명 전극(20a)이 형성된다. Referring to FIG. 2, in the touch panel 100 according to the first embodiment, the transparent electrode 20a is formed in the effective area AA and the dummy area DA of the substrate 10.

투명 전극(20a)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있다.The transparent electrode 20a may be formed in various shapes capable of detecting whether an input device such as a finger is touched.

이러한 투명 전극(20a)은 광의 투과를 방해하지 않으면서 전기가 흐를 수 있도록 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 이를 위하여 투명 전극(30)은 인듐 주석 산화물(indium tin oxide), 인듐 아연 산화물(indium zinc oxide), 구리 산화물(copper oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT) 등의 다양한 물질을 포함할 수 있다.The transparent electrode 20a may include a transparent conductive material so that electricity can flow without disturbing the transmission of light. To this end, the transparent electrode 30 may include various materials such as indium tin oxide, indium zinc oxide, copper oxide, and carbon nanotube (CNT). Can be.

기판(10)의 더미 영역(DA)에 투명 전극(20a)을 전기적으로 연결하는 배선(30a)이 형성된다. 이러한 배선(30a)은 구리, 은 및 금을 포함할 수 있다. A wiring 30a for electrically connecting the transparent electrode 20a is formed in the dummy area DA of the substrate 10. The wiring 30a may include copper, silver, and gold.

더미 영역(DA)에도 투명 전극(20a)이 형성되므로 배선(30a)과 투명 전극(20a)과의 단선에 의한 불량을 방지할 수 있다. 즉, 더미 영역(DA)에 형성된 투명 전극(20a)에 의해 배선(30a)과 투명 전극(20a)과의 전기적 연결이 유지될 수 있다. Since the transparent electrode 20a is formed also in the dummy area DA, the defect by the disconnection between the wiring 30a and the transparent electrode 20a can be prevented. That is, the electrical connection between the wiring 30a and the transparent electrode 20a may be maintained by the transparent electrode 20a formed in the dummy area DA.

이어서, 투명 전극(20a) 및 배선(30a)을 덮으면서 비산 방지 필름(40)이 형성할 수 있다.Next, the scattering prevention film 40 can be formed covering the transparent electrode 20a and the wiring 30a.

비산 방지 필름(40)은 터치 패널이 충격에 의해 파손될 때 파편이 비산되는 것을 방지하기 위한 것으로, 다양한 물질 및 구조로 형성될 수 있다.The anti-scattering film 40 is to prevent the debris from scattering when the touch panel is broken by an impact, and may be formed of various materials and structures.

도면에는 도시하지 않았으나, 이러한 비산 방지 필름(40)을 대신하여 절연층(도시하지 않음, 이하 동일)이 형성될 수 있다. 이러한 절연층은 투명 전극(20a) 및 배선(30a)의 손상을 방지하는 보호막 역할을 할 수 있다.Although not shown, an insulating layer (not shown) may be formed in place of the scattering prevention film 40. The insulating layer may serve as a protective film to prevent damage to the transparent electrode 20a and the wiring 30a.

이러한 비산 방지 필름(40)의 외곽부에 외곽 더미층(40a)을 더 포함할 수 있다. 이러한 외곽 더미층(40a)은 비산 방지 필름(40)에 인쇄하여 형성될 수 있다.The outer dummy layer 40a may be further included in an outer portion of the scattering prevention film 40. The outer dummy layer 40a may be formed by printing on the scattering prevention film 40.

도면에는 도시하지 않았으나, 비산 방지 필름(40) 대신 절연층을 형성하여 이 절연층에 외곽 더미층(40a)을 인쇄할 수 있다.Although not shown in the drawing, instead of the shatterproof film 40, an insulating layer may be formed to print the outer dummy layer 40a on the insulating layer.

이하, 도 3 내지 도 6을 참조하여 제2 실시예 및 제3 실시예에 대해 상세하게 설명한다. Hereinafter, the second embodiment and the third embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 6.

도 3은 제2 및 제3 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이고, 도 4는 도 3을 구체적으로 도시한 터치 패널의 평면도이다. 도 5는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이고, 도 6은 제3 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.3 is a schematic plan view of a touch panel according to the second and third embodiments, and FIG. 4 is a plan view of the touch panel specifically showing FIG. 3. 5 is a cross-sectional view of the touch panel according to the second embodiment, and FIG. 6 is a cross-sectional view of the touch panel according to the third embodiment.

먼저, 도 3 내지 도 5을 참조하면, 투명 전극(20b)과 배선(30b)이 기판(10)의 동일한 층에서 동일한 물질로 형성된다. 즉, 투명 전극 물질을 기판(10)의 유효 영역(AA) 및 더미 영역(DA) 전체에 형성한 후, 유효 영역(AA)에 형성된 투명 전극 물질은 투명 전극(20b) 패턴으로 에칭하고, 더미 영역(DA)에 형성된 투명 전극 물질은 배선(30b) 패턴으로 에칭할 수 있다. First, referring to FIGS. 3 to 5, the transparent electrode 20b and the wiring 30b are formed of the same material in the same layer of the substrate 10. That is, after the transparent electrode material is formed over the effective area AA and the dummy area DA of the substrate 10, the transparent electrode material formed on the effective area AA is etched by the transparent electrode 20b pattern, and the dummy The transparent electrode material formed in the area DA may be etched in the wiring 30b pattern.

이는 게이트 인 패널(gate in panel, GIP) 타입의 터치 패널에서 배선 패턴이 기판의 외곽에 형성되는 것과 동일하나, 본 실시예에서는 배선(30b)을 가리기 위한 별도의 공정을 생략할 수 있다. 즉, 종래의 게이트 인 패널 타입의 터치 패널에서 기판의 외곽에 형성되는 배선 패턴을 가리기 위해, 기판의 외곽에 흑색 안료 등을 이용한 외곽 더미층을 형성하였다. 그러나, 본 실시예에서는 배선 패턴이 기판의 외곽에 형성되되, 배선(30b)이 투명 전극(20b)과 동일한 물질을 포함하므로, 배선 패턴이 눈에 보이지 않고, 이에 따라 외곽 더미층을 생략할 수 있다.This is the same as that in which the wiring pattern is formed on the outer side of the substrate in the gate in panel (GIP) type touch panel, but in this embodiment, a separate process for covering the wiring 30b may be omitted. That is, in order to mask the wiring pattern formed on the outer side of the substrate in the conventional gate-in panel type touch panel, an outer dummy layer using black pigment or the like is formed on the outer side of the substrate. However, in the present embodiment, since the wiring pattern is formed on the outer side of the substrate, and the wiring 30b includes the same material as the transparent electrode 20b, the wiring pattern is not visible and thus the outer dummy layer can be omitted. have.

따라서, 투명 전극(20b) 및 배선(30b) 모두 인듐 틴 산화물(indium tin oxide), 인듐 징크 산화물(indium zinc oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머 및 은 나노 와이어(Ag nano wire) 중 어느 하나의 물질을 포함할 수 있다.Therefore, both the transparent electrode 20b and the wiring 30b are indium tin oxide, indium zinc oxide, carbon nano tube (CNT), conductive polymer, and silver nanowire (Ag). nanowire) may include any one material.

이로써, 투명 전극(20b) 및 배선(30b)을 형성하기 위한 공정 단계를 줄일 수 있고, 배선(30b)이 투명 전도성 물질로 형성되어 이를 가리기 위한 외곽 더미층을 생략할 수 있어, 디자인의 다양성을 확보할 수 있다.As a result, process steps for forming the transparent electrode 20b and the wiring 30b can be reduced, and the wiring 30b is formed of a transparent conductive material, so that an outer dummy layer for covering the wiring can be omitted, thereby increasing the variety of designs. It can be secured.

도 6을 참조하면, 제3 실시예에 따른 터치 패널(300)에서는 제2 실시예에 따른 터치 패널(200)의 구조에서, 비산 방지 필름(40)을 더 포함한다. 도면에는 도시하지 않았으나, 비산 방지 필름(40) 대신 절연층이 더 포함될 수 있다.Referring to FIG. 6, the touch panel 300 according to the third embodiment further includes a scattering prevention film 40 in the structure of the touch panel 200 according to the second embodiment. Although not shown, an insulating layer may be further included instead of the scattering prevention film 40.

이하, 도 7을 참조하여 제4 실시예에 따른 터치 패널(400)을 설명한다. 도 7은 제4 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.Hereinafter, the touch panel 400 according to the fourth embodiment will be described with reference to FIG. 7. 7 is a cross-sectional view of a touch panel according to a fourth embodiment.

제4 실시예에 따른 터치 패널(400)에서는 비산 방지 필름(40)의 외곽부에 외곽 더미층(40a)을 더 포함할 수 있다. 외곽 더미층(40a)이 디자인의 외관 상 필요한 경우, 비산 방지 필름(40)에 인쇄하여 형성될 수 있다.In the touch panel 400 according to the fourth embodiment, the outer dummy layer 40a may be further included in the outer portion of the scattering prevention film 40. If the outer dummy layer 40a is necessary for the appearance of the design, it may be formed by printing on the scattering prevention film 40.

이하, 도 8을 참조하여 제5 실시예에 따른 터치 패널(500)을 설명한다. 도 8은 제5 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.Hereinafter, the touch panel 500 according to the fifth embodiment will be described with reference to FIG. 8. 8 is a cross-sectional view of a touch panel according to a fifth embodiment.

제5 실시예에 따른 터치 패널(500)에서는, 필요에 따라 배선(30b)에 외곽 더미층(40a)이 형성될 수 있다. 외곽 더미층(40a)은 원하는 외관에 적합한 색을 가질 수 있고, 이에 따라 터치 패널에 다양한 디자인을 구현할 수 있다. In the touch panel 500 according to the fifth embodiment, an outer dummy layer 40a may be formed on the wiring 30b as necessary. The outer dummy layer 40a may have a color suitable for a desired appearance, and thus various designs may be implemented in the touch panel.

또한, 기존의 터치 패널의 구조와 달리 외곽 더미층(40a)이 배선(30b) 위에 형성되므로, 이러한 외곽 더미층(40a)이 전기적 절연 역할 또한 할 수 있다. 즉, 종래에는 기판에 먼저 외곽 더미층이 위치하고, 투명 전극 및 배선이 차례로 위치하는 적층 구조를 가졌기 때문에, 외곽 더미층은 배선을 가리기 위한 역할만 할 수 있었다. 그러나 본 실시예에서는, 기판(10) 위에 투명 전극(20b) 및 배선(30b)이 동일한 층에서 위치하므로, 외곽 더미층(40a)을 배선(30b) 위에 형성할 수 있다.In addition, unlike the structure of the existing touch panel, since the outer dummy layer 40a is formed on the wiring 30b, the outer dummy layer 40a may also serve as electrical insulation. That is, in the related art, since the outer dummy layer is first placed on the substrate and has a laminated structure in which transparent electrodes and wirings are sequentially positioned, the outer dummy layer could only serve to cover the wiring. However, in the present embodiment, since the transparent electrode 20b and the wiring 30b are positioned on the same layer on the substrate 10, the outer dummy layer 40a can be formed on the wiring 30b.

이하, 도 9를 참조하여 제6 실시예에 따른 터치 패널(600)을 설명한다. 도 9는 제6 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다. Hereinafter, the touch panel 600 according to the sixth embodiment will be described with reference to FIG. 9. 9 is a cross-sectional view of a touch panel according to a sixth embodiment.

제6 실시예에 따른 터치 패널에서는, 투명 전극(20a) 및 외곽 더미층(40a)이 형성된 배선(30b)을 덮으면서 비산 방지 필름(40)이 형성할 수 있다.In the touch panel according to the sixth embodiment, the scattering prevention film 40 may be formed while covering the wiring 30b on which the transparent electrode 20a and the outer dummy layer 40a are formed.

상술한 제4, 제5 및 제6 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도는 도 1에 도시한 바와 같다. 즉, 더미 영역(DA)에 외곽 더미층(40a)이 형성되어 색을 나타낼 수 있다. A schematic plan view of a touch panel according to the fourth, fifth and sixth embodiments described above is shown in FIG. 1. That is, the outer dummy layer 40a may be formed in the dummy area DA to represent color.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. In addition, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

10: 기판
20a, 20b: 투명 전극
30a, 30b: 배선
40: 비산 방지 필름
40a: 외곽 더미층10: substrate
20a, 20b: transparent electrode
30a, 30b: wiring
40: shatterproof film
40a: Outer dummy layer

Claims (6)

유효 영역과 더미 영역이 정의되는 기판;
상기 기판의 유효 영역에 형성되는 투명 전극; 및
상기 기판의 더미 영역에 형성되고 상기 투명 전극과 전기적으로 연결되는 배선을 포함하고,
상기 투명 전극과 상기 배선이 상기 기판의 동일한 층에서 동일한 물질로 형성되고,
상기 배선은 상기 기판과 직접 접촉하고, 외부 회로와 연결되는 터치 패널.A substrate in which an effective region and a dummy region are defined;
A transparent electrode formed in the effective region of the substrate; And
A wire formed in the dummy region of the substrate and electrically connected to the transparent electrode;
The transparent electrode and the wiring are formed of the same material in the same layer of the substrate,
And the wiring is in direct contact with the substrate and connected to an external circuit. 제1항에 있어서,
상기 기판의 상기 더미 영역에 외곽 더미층을 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
And an outer dummy layer in the dummy region of the substrate. 제2항에 있어서,
상기 외곽 더미층은 상기 배선 위에 형성되는 터치 패널.The method of claim 2,
The outer dummy layer is formed on the wiring. 제1항에 있어서,
상기 투명 전극 및 상기 배선을 덮으면서 절연층 및 비산 방지 필름 중 적어도 어느 하나가 형성되는 터치 패널.The method of claim 1,
At least one of an insulating layer and a scattering prevention film is formed while covering the transparent electrode and the wiring. 제4항에 있어서,
상기 절연층 및 상기 비산 방지 필름 중 적어도 어느 하나의 외곽부에 외곽 더미층을 포함하는 터치 패널.5. The method of claim 4,
The touch panel including an outer dummy layer on an outer portion of at least one of the insulating layer and the scattering prevention film. 제1항에 있어서,
상기 투명 전극 및 상기 배선은 인듐 틴 산화물(indium tin oxide), 인듐 징크 산화물(indium zinc oxide), 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 폴리머 및 은 나노 와이어(Ag nano wire)로 이루어진 군에서 선택된 물질을 적어도 어느 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The transparent electrode and the wiring are made of indium tin oxide, indium zinc oxide, carbon nano tube (CNT), conductive polymer and silver nano wire. Touch panel comprising at least one material selected from.
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