KR101114028B1 - Touch panel - Google Patents

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KR101114028B1
KR101114028B1 KR1020100074419A KR20100074419A KR101114028B1 KR 101114028 B1 KR101114028 B1 KR 101114028B1 KR 1020100074419 A KR1020100074419 A KR 1020100074419A KR 20100074419 A KR20100074419 A KR 20100074419A KR 101114028 B1 KR101114028 B1 KR 101114028B1
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Abstract

실시예에 따른 터치 패널은, 서로 반대되는 제1 면 및 제2 면을 포함하는 기판; 상기 기판의 제1 면에 형성되는 투명 전극; 및 상기 투명 전극에 형성되는 반사 방지막을 포함한다.According to at least one example embodiment, a touch panel includes: a substrate including first and second surfaces opposite to each other; A transparent electrode formed on the first surface of the substrate; And an anti-reflection film formed on the transparent electrode.

Description

터치 패널{TOUCH PANEL}TOUCH PANEL {TOUCH PANEL}

본 기재는 터치 패널에 관한 것이다.The present description relates to a touch panel.

최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 입력을 하는 터치 패널이 적용되고 있다.Recently, various electronic products have been applied to a touch panel for inputting a method of contacting an input device such as a finger or a stylus to an image displayed on a display device.

터치 패널은 크게 저항막 방식의 터치 패널과 정전 용량 방식의 터치 패널로 구분될 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 입력 장치의 압력에 의하여 유리와 전극이 단락되어 위치가 검출된다. 정전 용량 방식의 터치 패널은 손가락이 접촉했을 때 전극 사이의 정전 용량이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다.The touch panel may be largely classified into a resistive touch panel and a capacitive touch panel. In the resistive touch panel, the glass and the electrode are short-circuited by the pressure of the input device to detect the position. The capacitive touch panel detects a change in capacitance between electrodes when a finger touches and detects a position thereof.

이러한 터치 패널이 다양한 디스플레이 장치에 적용되는 경우에, 로고 및 비산 방지 필름이 형성된 기판과 투명 전극이 형성된 필름을 별도로 제작하여 이들을 광학용 투명 접착제(optically clear adhesive, OCA)를 이용하여 접착한다.When such a touch panel is applied to various display devices, a substrate on which a logo and a scattering prevention film are formed and a film on which a transparent electrode is formed are separately manufactured and adhered to each other using an optically clear adhesive (OCA).

그러나 가공성이 낮은 광학용 투명 접착제를 사용하므로 접착 불량이 발생할 수 있으며, 필름과 기판 등이 다층으로 적층되어 투과율이 저하될 수 있다. 또한, 대체로 수입에 의존하는 투명 전극이 형성된 필름이 고가여서 제조 단가가 상승될 수 있다.However, since the optically transparent adhesive having low workability may be used, poor adhesion may occur, and a film and a substrate may be laminated in multiple layers, thereby decreasing transmittance. In addition, since the film on which the transparent electrode which is largely dependent on imports is formed is expensive, the manufacturing cost can be increased.

실시예는 반사 방지 효율을 높이고 투과율을 향상하여 불량 및 제조 단가를 저감할 수 있는 터치 패널을 제공하고자 한다.      Embodiments provide a touch panel capable of reducing reflection and manufacturing costs by increasing reflection prevention efficiency and improving transmittance.

실시예에 따른 터치 패널은, 서로 반대되는 제1 면 및 제2 면을 포함하는 기판; 상기 기판의 제1 면에 형성되는 투명 전극; 및 상기 투명 전극에 형성되는 반사 방지막을 포함한다.According to at least one example embodiment, a touch panel includes: a substrate including first and second surfaces opposite to each other; A transparent electrode formed on the first surface of the substrate; And an anti-reflection film formed on the transparent electrode.

실시예에 따른 터치 패널에서는 외곽 더미층과 투명 전극을 동일한 기판상에 형성하므로, 가공성이 낮은 광학용 투명 접착제를 사용하지 않아도 된다. 이에 의하여 불량을 저감하여 신뢰성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널의 적층 구조를 단순화하여 투과율을 향상할 수 있으며 두께를 줄이면서 제조 비용을 절감할 수 있다.In the touch panel according to the embodiment, since the outer dummy layer and the transparent electrode are formed on the same substrate, it is not necessary to use an optically transparent adhesive having low workability. Thereby, defects can be reduced and reliability can be improved. In addition, the transmittance can be improved by simplifying the laminated structure of the touch panel, and the manufacturing cost can be reduced while reducing the thickness.

한편, 실시예에 따른 터치 패널에서는, 기판에 투명 전극을 증착 후 투명 전극에 반사 방지막을 증착하여 반사 방지 효율을 높이고 투과율을 향상하면서도 제조 비용을 절감할 수 있다. 또한 이에 의한 터치 패널이 적용된 디스플레이 장치의 시인성을 향상할 수 있다.      Meanwhile, in the touch panel according to the embodiment, after the transparent electrode is deposited on the substrate, an anti-reflection film is deposited on the transparent electrode to increase the anti-reflection efficiency and improve the transmittance while reducing the manufacturing cost. In addition, the visibility of the display device to which the touch panel is applied can be improved.

도 1은 제1 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다.
도 3은 도 1의 A 부분을 확대하여 도시한 평면도이다.
도 4는 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.1 is a schematic plan view of a touch panel according to a first embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1.
3 is an enlarged plan view of a portion A of FIG. 1.
4 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. In the description of embodiments, each layer, region, pattern, or structure may be “on” or “under” the substrate, each layer, region, pad, or pattern. Substrate formed in ”includes all formed directly or through another layer. Criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer will be described with reference to the drawings.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 3을 참조하여 제1 실시예에 따른 터치 패널을 상세하게 설명한다. 도 1은 제1 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 잘라서 본 단면도이다. 도 3은 도 1의 A 부분을 확대하여 도시한 평면도이다.A touch panel according to a first embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3. 1 is a schematic plan view of a touch panel according to a first embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 1. 3 is an enlarged plan view of a portion A of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 실시예에 따른 터치 패널(100)에는, 입력 장치의 위치를 감지하는 유효 영역(AA)과, 이 유효 영역(AA)의 외곽으로 위치하는 더미 영역(DA)이 정의된다. 1 and 2, the touch panel 100 according to the embodiment includes an effective area AA for detecting a position of an input device and a dummy area DA positioned outside the effective area AA. Is defined.

여기서, 유효 영역(AA)에는 입력 장치를 감지할 수 있도록 투명 전극(40)이 형성될 수 있다. 그리고 더미 영역(DA)에는 투명 전극(40)에 연결되는 배선(50) 및 이 배선(50)을 외부 회로(도시하지 않음, 이하 동일)에 연결하는 인쇄 회로 기판(60) 등이 위치할 수 있다. 이러한 더미 영역(DA)에는 외곽 더미층(20)이 형성될 수 있으며, 이 외곽 더미층(20)에는 로고(logo)(20a) 등이 형성될 수 있다. 이러한 터치 패널(100)을 좀더 상세하게 설명하면 다음과 같다.Here, the transparent electrode 40 may be formed in the effective area AA so as to detect the input device. In the dummy area DA, a wiring 50 connected to the transparent electrode 40 and a printed circuit board 60 that connects the wiring 50 to an external circuit (not shown) may be disposed. have. An outer dummy layer 20 may be formed in the dummy area DA, and a logo 20a may be formed in the outer dummy layer 20. The touch panel 100 will be described in more detail as follows.

도 2를 참조하면, 기판(10)에 외곽 더미층(20), 투명 전극(40) 및 반사 방지막(30)이 형성될 수 있다. 그리고 이 투명 전극(40)에 배선(50)이 연결되고, 이 배선(50)에 인쇄 회로 기판(60)이 연결될 수 있다. 그리고 투명 전극(40), 배선(50) 및 인쇄 회로 기판(60)을 덮으면서 비산 방지 필름(70)이 형성될 수 있다. Referring to FIG. 2, the outer dummy layer 20, the transparent electrode 40, and the anti-reflection film 30 may be formed on the substrate 10. The wiring 50 may be connected to the transparent electrode 40, and the printed circuit board 60 may be connected to the wiring 50. The scattering prevention film 70 may be formed while covering the transparent electrode 40, the wiring 50, and the printed circuit board 60.

기판(10)은 이 위에 형성되는 외곽 더미층(20), 투명 전극(40), 반사 방지막(30), 배선(50) 등을 지지할 수 있는 다양한 물질로 형성될 수 있다. 이러한 기판(10)은 일례로 유리 기판 또는 플라스틱 기판으로 이루어질 수 있다.The substrate 10 may be formed of various materials capable of supporting the outer dummy layer 20, the transparent electrode 40, the anti-reflection film 30, and the wiring 50 formed thereon. The substrate 10 may be made of, for example, a glass substrate or a plastic substrate.

기판(10)의 제1 면(이하 “하면”)(12)의 외곽 영역(DA)에 외곽 더미층(20)이 형성된다. 외곽 더미층(20)은 배선(50)과 인쇄 회로 기판(60) 등이 외부에서 보이지 않도록 할 수 있게 소정의 색을 가지는 물질을 도포하여 형성될 수 있다. 외곽 더미층(20)은 원하는 외관에 적합한 색을 가질 수 있는데, 일례로 흑색 안료 등을 포함하여 흑색을 나타낼 수 있다. 그리고 이 외곽 더미층(20)에는 다양한 방법으로 원하는 로고(도 1의 참조부호 20a) 등을 형성할 수 있다. 이러한 외곽 더미층(20)은 증착, 인쇄, 습식 코팅 등에 의하여 형성될 수 있다.The outer dummy layer 20 is formed on the outer area DA of the first surface (hereinafter referred to as “lower surface”) 12 of the substrate 10. The outer dummy layer 20 may be formed by applying a material having a predetermined color so that the wiring 50 and the printed circuit board 60 may not be seen from the outside. The outer dummy layer 20 may have a color suitable for a desired appearance, for example, black, including a black pigment. In addition, the outer dummy layer 20 may have a desired logo (reference numeral 20a of FIG. 1) or the like in various ways. The outer dummy layer 20 may be formed by deposition, printing, wet coating, or the like.

이 기판(10)의 하면(12)에 투명 전극(40)이 형성된다. 투명 전극(40)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지를 감지할 수 있는 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 이때, 외곽 더미층(20)이 형성된 부분에서는 투명 전극(40)이 외곽 더미층(20) 위로 형성될 수 있다. The transparent electrode 40 is formed on the lower surface 12 of the substrate 10. The transparent electrode 40 may be formed in various shapes to detect whether an input device such as a finger is in contact. In this case, in the portion where the outer dummy layer 20 is formed, the transparent electrode 40 may be formed on the outer dummy layer 20.

일례로 도 4에 도시한 바와 같이, 투명 전극(40)이 제1 전극(42)과 제2 전극(44)을 포함할 수 있다. 제1 및 제2 전극(42, 44)은 손가락 등의 입력 장치가 접촉되었는지 감지하는 센서부(42a, 44a)와, 이러한 센서부(42a, 44a)를 연결하는 연결부(42b, 44b)를 포함한다. 제1 전극(42)의 연결부(42b)는 센서부(42a)를 제1 방향(도면의 좌우 방향)으로 연결하고, 제2 전극(44)의 연결부(44b)는 센서부(44a)를 제2 방향(도면의 상하 방향)으로 연결한다.For example, as illustrated in FIG. 4, the transparent electrode 40 may include a first electrode 42 and a second electrode 44. The first and second electrodes 42 and 44 include sensor parts 42a and 44a for detecting whether an input device such as a finger is in contact with each other, and connection parts 42b and 44b for connecting the sensor parts 42a and 44a. do. The connecting portion 42b of the first electrode 42 connects the sensor portion 42a in the first direction (left and right directions in the drawing), and the connecting portion 44b of the second electrode 44 removes the sensor portion 44a. Connect in two directions (up and down in the drawing).

제1 전극(42)의 연결부(42b)와 제2 전극(44)의 연결부(44b)가 서로 교차하는 부분에는 이들 사이에 절연층(46)이 위치하여 제1 전극(42)과 제2 전극(44)의 전기적 단락을 방지할 수 있다. 이러한 절연층(46)은 연결부(42b, 44b)를 절연할 수 있는 투명 절연성 물질로 형성될 수 있다. 일례로, 절연층(46)은 실리콘 산화물과 같은 금속 산화물, 또는 아크릴 등의 수지 등으로 이루어질 수 있다.The insulating layer 46 is positioned between the connecting portion 42b of the first electrode 42 and the connecting portion 44b of the second electrode 44 so that the first electrode 42 and the second electrode are located therebetween. The electrical short circuit of 44 can be prevented. The insulating layer 46 may be formed of a transparent insulating material that may insulate the connecting portions 42b and 44b. For example, the insulating layer 46 may be made of a metal oxide such as silicon oxide, a resin such as acrylic, or the like.

실시예에서는 일례로 제1 및 제2 전극(42,44)의 센서부(42a, 44b)가 동일한 층에 형성되어 센서부(42a, 44a)를 단일층으로 형성할 수 있다. 이에 의하여 투명 전도성 물질층의 사용을 최소화할 수 있고, 터치 패널(100)의 두께를 줄일 수 있다.In an embodiment, for example, the sensor units 42a and 44b of the first and second electrodes 42 and 44 may be formed in the same layer to form the sensor units 42a and 44a as a single layer. As a result, the use of the transparent conductive material layer can be minimized, and the thickness of the touch panel 100 can be reduced.

이와 같은 터치 패널(100)에 손가락 등의 입력 장치가 접촉되면, 입력 장치가 접촉된 부분에서 정전 용량의 차이가 발생되고, 이 차이가 발생된 부분을 접촉 위치로 검출할 수 있다. 실시예에서는 투명 전극(40)이 정전 용량 방식의 터치 패널에 적용되는 구조를 가지는 것을 예시하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 따라서 투명 전극(40)을 저항 방식의 터치 패널에 적용되는 구조로 형성할 수도 있다.When an input device such as a finger contacts the touch panel 100, a difference in capacitance occurs at a portion where the input device contacts, and a portion where the difference occurs is detected as a contact position. In the exemplary embodiment, the transparent electrode 40 has a structure applied to the capacitive touch panel, but is not limited thereto. Therefore, the transparent electrode 40 may be formed in a structure applied to the resistive touch panel.

이러한 투명 전극(40)은 광의 투과를 방해하지 않으면서 전기가 흐를 수 있도록 투명 전도성 물질을 포함할 수 있다. 이를 위하여 투명 전극(40)은 인듐 주석 산화물(indium tin oxide), 인듐 아연 산화물(indium zinc oxide), 구리 산화물(copper oxide), 주석 산화물(tin oxide), 아연 산화물(zinc oxide), 티타늄 산화물(titanium oxide) 등의 금속 산화물이나 탄소 나노 튜브(carbon nano tube, CNT), 전도성 고분자 물질 등의 다양한 물질을 포함할 수 있다.The transparent electrode 40 may include a transparent conductive material to allow electricity to flow without disturbing the transmission of light. To this end, the transparent electrode 40 may be formed of indium tin oxide, indium zinc oxide, copper oxide, tin oxide, zinc oxide, or titanium oxide. Metal oxides such as titanium oxide), carbon nanotubes (CNT), and various materials such as conductive polymer materials may be included.

이러한 투명 전극(40)은 물리적 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD)등 다양한 박막 증착 기술에 의하여 형성될 수 있다. 일례로, 물리적 증착법의 한 예인 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의하여 형성될 수 있다. 이때, 투명 전극(40)이 인듐 주석 산화물로 형성될 경우에, 주석의 함량이 10% 이하일 수 있다. 이에 의하여 투과율을 향상시키고, 이후에 어닐링(annealing) 공정으로 인듐 주석 화합물을 결정화하여 전기 전도도를 향상할 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 방법으로 투명 전극(40)을 형성할 수 있음은 물론이다.The transparent electrode 40 may be formed by various thin film deposition techniques such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). For example, it may be formed by reactive sputtering, which is an example of physical vapor deposition. In this case, when the transparent electrode 40 is formed of indium tin oxide, the content of tin may be 10% or less. As a result, the transmittance may be improved, and then the indium tin compound may be crystallized by an annealing process to improve electrical conductivity. However, the embodiment is not limited thereto, and the transparent electrode 40 may be formed in various ways.

다시 도 2를 참조하면, 투명 전극(40)에 반사 방지막(30)이 형성된다. 구체적으로, 이러한 반사 방지막(30)은 투명 전극(40)의 배면에 형성될 수 있다.Referring back to FIG. 2, an anti-reflection film 30 is formed on the transparent electrode 40. Specifically, the anti-reflection film 30 may be formed on the rear surface of the transparent electrode 40.

반사 방지막(30)은 반사에 의한 눈부심이나 화면이 보이지 않는 현상을 막기 위해 가시광 영역의 빛의 반사율을 낮추는 역할을 한다. 즉, 반사 방지막(30)은 반사의 악영향을 효과적으로 감소시켜 우수한 해상도를 제공할 수 있고 시인성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널(100)의 투과율을 90% 이상, 바람직하게는 92% 이상, 최대로는 99%까지 향상하는 역할을 할 수 있다.The anti-reflection film 30 serves to lower the reflectance of light in the visible region in order to prevent glare or reflection of the screen. In other words, the anti-reflection film 30 can effectively reduce the adverse effects of reflection to provide excellent resolution and improve visibility. In addition, the transmittance of the touch panel 100 may serve to improve 90% or more, preferably 92% or more, and up to 99%.

이러한 반사 방지막(30)은 굴절률이 1.35 내지 2.7인 산화물 또는 불화물을 포함할 수 있다. 이러한 굴절률은 반사 방지에 적합한 범위로 결정된 것이며, 이러한 반사 방지막(30)은 서로 다른 굴절률을 가지는 물질을 한 층 이상 적층하여 형성될 수 있다. The anti-reflection film 30 may include an oxide or fluoride having a refractive index of 1.35 to 2.7. The refractive index is determined in a range suitable for antireflection, and the antireflection film 30 may be formed by stacking one or more layers of materials having different refractive indices.

상술한 산화물 또는 불화물로는, 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물, 니오븀 산화물 등이 사용될 수 있다. As the above-described oxide or fluoride, magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, niobium oxide, or the like may be used.

본 실시예에서는 반사 방지막(30)이 한층 이상으로 이루어질 수 있다. 구체적으로 반사 방지막(30)은, 기판(10)의 하면(12)에 형성되는 제1 굴절률의 제1 층(32)과, 제1 층(32)에 형성되며 제1 굴절률보다 작은 제2 굴절률의 제2 층(34)을 포함할 수 있다. 즉, 반사 방지막(30)이 상대적으로 높은 굴절률의 제1 층(32)과 상대적으로 낮은 굴절률의 제2 층(34)을 기판(10) 상에 차례로 형성하여 반사를 방지하는 역할과 함께 유효 영역(AA)에서 터치 패널(100)의 투과율을 향상시킬 수 있다. In this embodiment, the anti-reflection film 30 may be formed in more than one layer. Specifically, the anti-reflection film 30 includes a first layer 32 having a first refractive index formed on the bottom surface 12 of the substrate 10 and a second refractive index formed on the first layer 32 and smaller than the first refractive index. May comprise a second layer 34. That is, the anti-reflection film 30 sequentially forms the first layer 32 having a relatively high refractive index and the second layer 34 having a relatively low refractive index on the substrate 10 to prevent reflection, and also to form an effective region. In AA, the transmittance of the touch panel 100 may be improved.

이때, 제1 층(32)이 고굴절률 재료로 형성되고, 제2 층(34)이 중굴절률 재료 또는 저굴절률 재료로 형성될 수 있다. 또는, 제1 층(32)이 중굴절률 재료로 형성되고, 제2 층(34)이 저굴절률 재료로 형성될 수 있다. In this case, the first layer 32 may be formed of a high refractive index material, and the second layer 34 may be formed of a medium refractive index material or a low refractive index material. Alternatively, the first layer 32 may be formed of a medium refractive index material, and the second layer 34 may be formed of a low refractive index material.

일례로, 저굴절률 재료로 MgF2, SiO2 등이 사용될 수 있다. MgF2는 굴절률이 1.38일 수 있고, SiO2는 굴절률이 1.46일 수 있다. For example, MgF 2 , SiO 2, or the like may be used as the low refractive index material. MgF 2 may have a refractive index of 1.38 and SiO 2 may have a refractive index of 1.46.

중굴절률 재료로 Al2O3, CeF3, SiO, In2O3, HfO2 등이 사용될 수 있다. Al2O3의 굴절률이 1.62, CeF3의 굴절률이 1.63, SiO, In2O3 및 HfO2의 굴절률이 2.00일 수 있다. Al 2 O 3 , CeF 3 , SiO, In 2 O 3 , HfO 2, etc. may be used as the medium refractive index material. The refractive index of Al 2 O 3 may be 1.62, the refractive index of CeF 3 is 1.63, and the refractive indices of SiO, In 2 O 3, and HfO 2 may be 2.00.

고굴절률 재료로 ZrO2, Pb5O11, TiO2, Ta2O5, Nb2O5, TiO2 등이 사용될 수 있다. ZrO2의 굴절률이 2.10, Pb5O11과 TiO2를 함께 사용한 경우의 굴절률이 2.10, Ta2O5의 굴절률이 2.15, Nb2O5의 굴절률이 2.2~2.4, TiO2의 굴절률이 2.2~27일 수 있다. ZrO 2 , Pb 5 O 11 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , Nb 2 O 5 , TiO 2, or the like may be used as the high refractive index material. The refractive index of ZrO 2 is 2.10, the refractive index of Pb 5 O 11 and TiO 2 together is 2.10, the refractive index of Ta 2 O 5 is 2.15, the refractive index of Nb 2 O 5 is 2.2-2.4, the refractive index of TiO 2 is 2.2- May be 27.

도면에서는 하나의 제1 층(32)과 하나의 제2 층(34)이 적층된 것으로 도시하였으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 복수의 제1 층(32)과 제2 층(34)이 교대로 적층될 수도 있다.In the drawings, one first layer 32 and one second layer 34 are stacked, but the embodiment is not limited thereto, and the plurality of first layers 32 and the second layer 34 may be formed. It may be laminated alternately.

상기 실시예에서는 상대적으로 높은 굴절률의 제1 층(32)을 형성한 후 상대적으로 낮은 굴절률의 제2 층(34)을 기판(10) 상에 형성하였으나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니고 상대적으로 낮은 굴절률의 제2 층(34)을 먼저 형성한 후 상대적으로 높은 굴절률의 제1 층(32)을 형성할 수 있다.In the above embodiment, after forming the first layer 32 having a relatively high refractive index, a second layer 34 having a relatively low refractive index is formed on the substrate 10, but the embodiment is not limited thereto. The second layer 34 may be formed first, and then the first layer 32 having a relatively high refractive index may be formed.

이때, 반사 방지막(30)은 스퍼터링(sputtering)이나 롤투롤(roll to roll)공정 에 의해 형성될 수 있다. 스퍼터링은 이온화된 원자를 전기장에 의해 가속시켜 박막 재료(source material)에 충돌시키고, 이 충돌에 의해 박막 재료의 원자들이 증착되는 방법이다. 롤투롤 공정은 종이나 필름 같은 소재를 롤에 감아 그대로 가공하는 공정을 말한다.In this case, the anti-reflection film 30 may be formed by a sputtering or roll to roll process. Sputtering is a method in which ionized atoms are accelerated by an electric field to impinge on a thin film material, whereby the atoms of the thin film material are deposited. The roll-to-roll process refers to a process in which a material such as paper or film is wound on a roll and processed as it is.

기판(10)의 더미 영역(DA)으로 투명 전극(40)에 연결되는 배선(50) 및 이 배선(50)에 연결되는 인쇄 회로 기판(60)이 형성된다. 이러한 배선(50)은 더미 영역(DA)에 위치하므로 전기 전도성이 우수한 금속으로 이루어질 수 있다. 인쇄 회로 기판(60)으로는 다양한 형태의 인쇄 회로 기판이 적용될 수 있는데, 일례로 플렉서블 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB) 등이 적용될 수 있다.A wiring 50 connected to the transparent electrode 40 and a printed circuit board 60 connected to the wiring 50 are formed in the dummy area DA of the substrate 10. Since the wiring 50 is located in the dummy area DA, the wiring 50 may be made of a metal having excellent electrical conductivity. Various types of printed circuit boards may be applied to the printed circuit board 60. For example, a flexible printed circuit board (FPCB) may be applied.

이 투명전극(40), 반사 방지막(30), 배선(50) 및 인쇄 회로 기판(60)을 덮으면서 비산 방지 필름(70)이 형성될 수 있다. 비산 방지 필름(70)은 터치 패널(100)이 충격에 의해 파손될 때 파편이 비산되는 것을 방지하기 위한 것으로, 다양한 물질 및 구조로 형성될 수 있다. 실시예에서는 비산 방지 필름(70)이 기판(10)의 하면(12)쪽에 위치한 것을 예시하였다. 그러나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 비산 방지 필름(70)이 다양한 위치로 형성될 수 있다.The scattering prevention film 70 may be formed while covering the transparent electrode 40, the antireflection film 30, the wiring 50, and the printed circuit board 60. The anti-scattering film 70 is for preventing the fragments from scattering when the touch panel 100 is broken by an impact, and may be formed of various materials and structures. In the embodiment, the anti-scattering film 70 is located on the lower surface 12 side of the substrate 10. However, the embodiment is not limited thereto, and the anti-scattering film 70 may be formed at various positions.

실시예에 따른 터치 패널(100)에서는 외곽 더미층(20)과 투명 전극(40)을 동일한 기판(10) 상에 형성하므로, 외곽 더미층이 형성된 기판과 투명 전극 필름을 별도로 제조하여 접착할 필요가 없다. 따라서, 가공성이 낮은 광학용 투명 접착제를 사용하지 않아도 되므로, 이에 의한 불량을 저감하여 신뢰성을 향상할 수 있다. 또한, 터치 패널(100)의 두께를 줄이면서 제조 비용을 절감할 수 있다.In the touch panel 100 according to the embodiment, since the outer dummy layer 20 and the transparent electrode 40 are formed on the same substrate 10, it is necessary to separately prepare and bond the substrate and the transparent electrode film on which the outer dummy layer is formed. There is no. Therefore, since the optical transparent adhesive with low workability does not need to be used, the defect by this can be reduced and reliability can be improved. In addition, the manufacturing cost may be reduced while reducing the thickness of the touch panel 100.

투명 전극(40)을 먼저 증착한 후 인덱스 매칭을 할 수 있는 반사 방지막(30)을 증착할 수 있다. 즉, 종래에는 투과율 등을 고려하여 폴리 에틸렌 테레프탈레이트(poly (ethylene terephthalate), PET)필름에 인듐 주석 산화물이 형성된 고가의 소재를 투명 전극(40)의 형성을 위하여 사용하였다. 그러나 본 실시예에서는 인덱스 매칭을 하는 반사 방지막(30)에 의해 투과율이 최소 90% 이상이므로, 터치 패널(100)의 투과율을 향상하면서도 투명 전극(40)을 기판 (10) 상에 직접 형성할 수 있다. 따라서 고가의 소재를 사용하지 않아 제조 단가를 절감하면서도 투과율을 향상할 수 있다.The transparent electrode 40 may be deposited first, and then the anti-reflection film 30 capable of index matching may be deposited. That is, in the related art, an expensive material in which indium tin oxide is formed on a polyethylene terephthalate (poly (ethylene terephthalate), PET) film in consideration of transmittance and the like is used for forming the transparent electrode 40. However, in the present embodiment, since the transmittance is at least 90% by the anti-reflection film 30 performing index matching, the transparent electrode 40 may be directly formed on the substrate 10 while improving the transmittance of the touch panel 100. have. Therefore, it is possible to improve the transmittance while reducing the manufacturing cost by not using expensive materials.

더욱이, 인덱스 매칭에 의하여 투명 전도성 물질로 형성된 투명 전극(40)을 보이지 않도록(invisible) 할 수 있다. 이에 의하여 터치 패널(100)이 적용된 디스플레이 장치의 시인성을 향상할 수 있다.In addition, the transparent electrode 40 formed of the transparent conductive material may be invisible by index matching. As a result, the visibility of the display device to which the touch panel 100 is applied may be improved.

이하, 도 3을 참조하여 제2 실시예에 따른 터치 패널을 좀더 상세하게 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 제1 실시예와 동일 또는 극히 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략하고, 서로 다른 부분만을 상세하게 설명한다. Hereinafter, the touch panel according to the second embodiment will be described in more detail with reference to FIG. 3. For the sake of clarity and simplicity, detailed descriptions of parts that are the same as or similar to those of the first embodiment will be omitted, and only different parts will be described in detail.

도 3은 제2 실시예에 따른 터치 패널의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a touch panel according to a second embodiment.

도 3을 참조하면, 본 실시예에서는 기판(10)의 제2 면(상면)(14)에 외곽 더미층(20)이 위치하고, 이를 덮으면서 보호층(80)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 3, in the present exemplary embodiment, the outer dummy layer 20 may be disposed on the second surface (upper surface) 14 of the substrate 10, and the protective layer 80 may be formed while covering the outer dummy layer 20.

이 외곽 더미층(20)은 더미 영역(DA)에 형성되며, 특정한 로고 등이 형성될 수 있다. 보호층(80)은 고굴절률을 가지는 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 탄탈륨 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물 등을 포함할 수 있다. 이러한 고굴절률의 보호층(80)에 의하여 투과율을 좀더 향상할 수 있다. 또한 이러한 보호층(80)을 하드 코팅(hard coating)층으로 형성하여 긁힘을 방지할 수 있다.The outer dummy layer 20 may be formed in the dummy area DA, and a specific logo may be formed. The protective layer 80 may include titanium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, lead oxide, or the like having a high refractive index. The transmittance can be further improved by the high refractive index protective layer 80. In addition, the protective layer 80 may be formed as a hard coating layer to prevent scratches.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. In addition, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified with respect to other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
In addition, the above description has been made with reference to the embodiments, which are merely examples and are not intended to limit the invention. It will be appreciated that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified and implemented. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

Claims (10)

서로 반대되는 제1 면 및 제2 면을 포함하는 기판;
상기 기판의 제1 면에 직접 형성되는 투명 전극; 및
상기 투명 전극에 형성되는 반사 방지막을 포함하고,
상기 반사 방지막은,
상기 기판의 상기 제1 면에 형성되는 제1 굴절률의 제1 층; 및
상기 제1 층에 형성되고 상기 제1 굴절률보다 작은 제2 굴절률의 제2 층
을 포함하는 터치 패널.A substrate comprising a first side and a second side opposite to each other;
A transparent electrode formed directly on the first surface of the substrate; And
An anti-reflection film formed on the transparent electrode,
The anti-reflection film,
A first layer of a first refractive index formed on said first surface of said substrate; And
A second layer of a second index of refraction formed in said first layer and less than said first index of refraction
Touch panel comprising a. 제1항에 있어서,
상기 반사 방지막이 산화물 또는 불화물을 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
The anti-reflection film includes an oxide or fluoride. 제2항에 있어서,
상기 반사 방지막이 마그네슘 불화물, 규소 산화물, 알루미늄 산화물, 세륨 불화물, 인듐 산화물, 하프늄 산화물, 지르코늄 산화물, 납 산화물, 티타늄 산화물, 탄탈륨 산화물 및 니오븀 산화물로 이루어진 군에서 선택되는 물질을 적어도 하나 포함하는 터치 패널.The method of claim 2,
The anti-reflection film includes a touch panel including at least one material selected from the group consisting of magnesium fluoride, silicon oxide, aluminum oxide, cerium fluoride, indium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, lead oxide, titanium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide. . 제2항에 있어서,
상기 산화물 또는 불화물의 굴절률이 1.35 내지 2.7인 터치 패널.The method of claim 2,
The touch panel having a refractive index of the oxide or fluoride is 1.35 to 2.7. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 투명 전극에 연결되는 배선; 및
상기 투명 전극과 상기 배선을 덮는 비산 방지 필름을 더 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
A wire connected to the transparent electrode; And
A touch panel further comprising a scattering prevention film covering the transparent electrode and the wiring. 제1항에 있어서,
상기 기판의 상기 제1 면 및 상기 제2 면 중 적어도 어느 하나에 형성되는 외곽 더미층을 포함하는 터치 패널.The method of claim 1,
And an outer dummy layer formed on at least one of the first and second surfaces of the substrate. 제8항에 있어서,
상기 외곽 더미층이 상기 기판의 상기 제1 면과 상기 투명 전극 사이에 위치하는 터치 패널.The method of claim 8,
The outer dummy layer is positioned between the first surface of the substrate and the transparent electrode. 제8항에 있어서,
상기 기판의 상기 제2 면에 상기 외곽 더미층이 위치하고,
상기 외곽 더미층을 덮으면서 상기 기판의 상기 제2 면에 형성되는 보호층을 더 포함하는 터치 패널.
The method of claim 8,
The outer dummy layer is positioned on the second surface of the substrate,
And a protective layer formed on the second surface of the substrate while covering the outer dummy layer.
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