KR20120081984A - 광촉매 도장체 및 그를 위한 광촉매 코팅액 - Google Patents
광촉매 도장체 및 그를 위한 광촉매 코팅액 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120081984A KR20120081984A KR1020127007344A KR20127007344A KR20120081984A KR 20120081984 A KR20120081984 A KR 20120081984A KR 1020127007344 A KR1020127007344 A KR 1020127007344A KR 20127007344 A KR20127007344 A KR 20127007344A KR 20120081984 A KR20120081984 A KR 20120081984A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- photocatalyst
- mass
- photocatalyst coating
- less
- coating liquid
- Prior art date
Links
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 title claims abstract description 212
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 126
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 123
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 65
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 155
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 46
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 52
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 43
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 30
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 30
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 14
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 3
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 claims 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 51
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 31
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 28
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 24
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 19
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 12
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 10
- 239000004908 Emulsion polymer Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- -1 organo silicate Chemical compound 0.000 description 9
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 8
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 8
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 229920005822 acrylic binder Polymers 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 3
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000972756 Boronia Species 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCUCCJIRFHNWBP-IYEMJOQQSA-L Copper gluconate Chemical class [Cu+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O OCUCCJIRFHNWBP-IYEMJOQQSA-L 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000588731 Hafnia Species 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N O.O.O.[Al] Chemical compound O.O.O.[Al] MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 150000003893 lactate salts Chemical class 0.000 description 2
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- 150000004701 malic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004972 metal peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 230000001473 noxious effect Effects 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 2
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N (Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one titanium Chemical compound [Ti].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O RYSXWUYLAWPLES-MTOQALJVSA-N 0.000 description 1
- CUVLMZNMSPJDON-UHFFFAOYSA-N 1-(1-butoxypropan-2-yloxy)propan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)OCC(C)O CUVLMZNMSPJDON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 1-(2-butoxyethoxy)butane Chemical compound CCCCOCCOCCCC GDXHBFHOEYVPED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRWADRITRNUCIY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propan-2-yloxyethoxy)ethanol Chemical compound CC(C)OCCOCCO HRWADRITRNUCIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUFRRBHGGJPNGG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propan-2-yloxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CC(C)OC(C)COC(C)CO HUFRRBHGGJPNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHOOWURXQGAXHL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-propan-2-yloxyethoxy)ethoxy]propane Chemical compound CC(C)OCCOCCOC(C)C JHOOWURXQGAXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylhex-1-yn-3-ol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#C NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSJBSUHYCGQTHZ-UHFFFAOYSA-N 3-Methoxy-1,2-propanediol Chemical compound COCC(O)CO PSJBSUHYCGQTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1606—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the anti-fouling agent
- C09D5/1612—Non-macromolecular compounds
- C09D5/1618—Non-macromolecular compounds inorganic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
- B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
-
- B01J35/30—
-
- B01J35/39—
-
- B01J35/40—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/0215—Coating
- B01J37/0219—Coating the coating containing organic compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/0215—Coating
- B01J37/0221—Coating of particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/0215—Coating
- B01J37/0232—Coating by pulverisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5076—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with masses bonded by inorganic cements
- C04B41/5089—Silica sols, alkyl, ammonium or alkali metal silicate cements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/08—Anti-corrosive paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E04—BUILDING
- E04F—FINISHING WORK ON BUILDINGS, e.g. STAIRS, FLOORS
- E04F13/00—Coverings or linings, e.g. for walls or ceilings
- E04F13/02—Coverings or linings, e.g. for walls or ceilings of plastic materials hardening after applying, e.g. plaster
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E04—BUILDING
- E04F—FINISHING WORK ON BUILDINGS, e.g. STAIRS, FLOORS
- E04F13/00—Coverings or linings, e.g. for walls or ceilings
- E04F13/07—Coverings or linings, e.g. for walls or ceilings composed of covering or lining elements; Sub-structures therefor; Fastening means therefor
- E04F13/08—Coverings or linings, e.g. for walls or ceilings composed of covering or lining elements; Sub-structures therefor; Fastening means therefor composed of a plurality of similar covering or lining elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
- C04B2111/0081—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 as catalysts or catalyst carriers
- C04B2111/00827—Photocatalysts
Abstract
기재, 특히 유기 기재로의 침식을 방지하면서, 갖가지 특성, 특히 유해 가스 분해성과 내후성이 우수한 광촉매 도장체가 개시되어 있다. 이 광촉매 도장체는, 기재와, 그 기재 상에 설치된 광촉매층을 갖추어 이루어진 광촉매 도장체로서, 상기 광촉매층이 그 광촉매층 전체를 100질량%로 했을 때, 1질량%를 넘고 3질량% 미만의 광촉매 입자와, 92질량%를 넘고 99질량% 미만의 무기 산화물 입자를 주성분으로서 포함하는 것이다. 이 광촉매 코팅체는, 특히 저위도의 열대, 아열대 지방 등의 자외선량이 많고 고온다습한 기상 조건 하에 있어서도 사용이 가능하다.
Description
본 발명은 건축물 등의 외장재로서의 광촉매 코팅체와 그 형성을 위한 광촉매 코팅액에 관한 것이다.
산화 티탄 등의 광촉매가 건축물 외장재 등 다양한 용도에 있어서 근래 이용되고 있다. 광촉매의 이용에 의해 광에너지를 이용하여 각종 유해 물질을 분해하거나 또는 광촉매가 도포된 기재 표면을 친수화(親水化)하여 표면에 부착한 오염을 쉽게 물로 씻어 내는 것이 가능하게 된다.
예를 들어, 바인더 성분으로서의 실리카 졸과 광촉매성 이산화 티탄을 함유하는 도막을 기체(基體)에 형성하여 광촉매체를 얻는 기술이 알려져 있다(예를 들어 일본 특개평 11-169727호 공보(특허문헌 1)). 이 기술에 있어서는, 실리카 졸의 첨가량이 SiO2 기준으로 이산화 티탄에 대해 20~200중량부로 되어 있다.
이러한 광촉매층을 기재 표면에 형성하는 구성에 있어서, 기재(基材)가 유기 재료이면, 광촉매의 광촉매 활성에 의해 유기 재료가 분해 또는 열화될 우려가 있다. 이 문제에 대처하기 위해, 광촉매층과 담체(擔體)와의 사이에 실리콘 변성 수지 등의 접착층을 설치하여, 밑바탕(下地)의 담체를 광촉매 작용에 의한 열화로부터 보호하는 기술이 알려져 있다(국제 공개 제97/00134호(특허문헌 2)). 이 선행 기술에 있어서는, 광촉매량이 20중량%를 초과하는 양의 예가 구체적으로 개시되고, 또 기재의 분해 또는 열화가 유효하게 방지된다고 하고 있다.
더욱이, 광촉매층과 기재 사이에 실리콘 변성 수지와 유기 곰팡이 방지제를포함하는 중간층을 설치하여 기재의 분해 또는 열화를 방지하는 제안도 되어 있다(일본 특허 제4092434호(특허문헌 3)).
광촉매층에서의 광촉매량이 적으면, 상술한 기재의 분해 또는 열화의 가능성은 작아지지만, 그 결과 광촉매에 의한 제작용도 작아질 우려가 있다. 따라서, 국제 공개 제98/03607호(특허문헌 4), 일본 특개 2004-51644호(특허문헌 5) 등에는 광촉매량이 5중량% 이하로 된 광촉매층의 개시가 있지만, 이들은 제특성, 특히 유해 가스 분해성에 관해 적절한 조성 또는 구조로 되어 있다고는 말하기 어렵다. 예를 들어 국제 공개 제98/03607호에 있어서는, 광촉매량에 대하여 실리카 입자의 존재량이 본 발명의 그것보다 극히 적고, 또 일본 특개 2004-51644호는 소수성 수지의 첨가에 있어서 본 발명과 상위하다.
본 발명자들은 금번에 광촉매 입자와 무기 산화물 입자를 특정의 비율로 포함하고, 또한 가수분해성 실리콘을 포함하지 않거나 또는 극력 소량으로 억제한 특정의 조성으로 광촉매층을 구성함으로써, 기재, 특히 유기 기재로의 침식을 억제하면서 갖가지 특성, 특히 양호한 유해 가스 분해성과 내후성이 우수한 광촉매 도장체가 얻어진다고 하는 지견(知見)을 얻었다.
따라서, 본 발명은 기재, 특히 유기 기재로의 침식을 방지하면서 갖가지 특성, 특히 유해 가스 분해성과 내후성이 우수한 광촉매 도장체와 그 형성을 위해 사용되는 광촉매 코팅액의 제공을 그 목적으로 하고 있다.
그리고, 본 발명에 따른 광촉매 도장체는, 기재와 그 기재 상에 설치된 광촉매층을 갖추어 이루어진 광촉매 도장체로서, 상기 광촉매층이, 그 광촉매층 전체를 100질량%로 했을 때, 1질량%를 넘고 3질량% 미만의 광촉매 입자와, 92질량%를 넘고 99질량% 미만의 무기 산화물 입자와, 0질량% 이상 5질량% 미만의 바인더를 포함하여 이루어진다.
또, 본 발명에 따른 광촉매 코팅액은, 상기 광촉매 도장체의 제조에 사용되는 광촉매 코팅액으로서, 광촉매 코팅액의 건조물 질량을 100질량%로 했을 때, 용매와 1질량%를 넘고 3질량% 미만의 광촉매 입자와, 92질량%를 넘고 99질량% 미만의 무기 산화물 입자와, 0질량% 이상 5질량% 미만의 바인더를 포함하여 이루어진다.
본 발명에 따른 광촉매 코팅체는, 기재, 특히 유기 기재로의 침식을 유효하게 방지하면서, 갖가지 특성, 특히 유해 가스 분해성과 내후성이 우수하다. 더욱이, 본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 친수성 및 소망하는 각종 피막 특성(투명성, 막강도 등)도 우수한 광촉매 도장체가 제공된다.
광촉매
도장체
본 발명의 한 형태에 따르면, 광촉매 도장체는, 기재와 그 기재 상에 설치된 광촉매층을 갖추어 이루어진 광촉매 도장체로서, 상기 광촉매층이, 그 광촉매층 전체를 100질량%로 했을 때, 1.0질량%를 넘고 3.0질량% 미만의 광촉매 입자와, 92.0질량%를 넘고 99.0질량% 미만의 무기 산화물 입자와, 0질량% 이상 5.0질량% 미만의 바인더를 포함하여 이루어진다.
본 발명에 따른 광촉매층은, 종래 광촉매 도장체에 대해 일반적으로 필요하다고 인식되어 왔던 광촉매량, 나아가서는 무기 산화물 입자에 대한 양과 비교하여 상당히 적은 광촉매량을 포함하여 이루어진다. 이러한 적은 광촉매량에 의해, 광촉매와 기재와의 직접적인 접촉을 억제할 수 있고, 그에 따라 기재의 분해 또는 침식이 유효하게 억제된다고 생각된다. 한편으로, 높은 내후성이 실현되면서, 광촉매 활성, 특히 유해 가스 분해성은 광촉매량이 적은 양임에도 불구하고 유지되거나 또는 오히려 개선이 도모되고 있으며, 이것은 당업자에 있어 뜻밖의 사실이라고 할 수 있다.
본 발명에 따른 광촉매 도장체의 상술한 바와 같은 뜻밖의 작용 효과가 얻어지는 이유는 분명하지 않지만, 그것은 다음과 같다고 생각된다. 그러나, 이하의 설명은 어디까지나 가설이며, 본 발명은 이에 따라 하등 한정되는 것은 아니다.
우선, 본 발명에 있어서 광촉매층은 광촉매 입자 및 무기 산화물 입자의 두 종류의 입자로부터 기본적으로 구성되기 때문에, 입자간의 간극(틈새)이 풍부하게 존재한다. 광촉매층의 바인더로서 널리 사용되는 가수분해성 실리콘을 다량으로 사용한 경우에는, 그러한 입자 사이의 간극을 치밀하게 메워버리기 때문에, 가스의 확산을 막는 것이라고 생각된다. 본 발명에 있어서 광촉매층은 가수분해성 실리콘을 포함하지 않거나, 포함해도 그 광촉매층 전체를 100질량%로 했을 때에, 그 양에 대해 적은 양이기 때문에, 입자 사이의 간극을 충분히 확보할 수 있다. 그리고, 이 간극에 의해 NOx와 SOx 등의 유해 가스가 광촉매층 중에 확산하기 쉬운 구조가 실현되고, 그 결과 유해 가스가 광촉매 입자와 효율좋게 접촉하여 광촉매 활성에 의해 분해되는 것이 아닌가 생각된다. 또한, 본 발명의 광촉매 도장체에 있어서는, 특히 유기 물질을 포함하는 수지를 함유하는 기재의 내후성에 있어서의, 광촉매가 기재를 공격하는 부정적인 효과와 광촉매 자체의 자외선 흡수에 의해 기재에 도달하는 자외선량을 저감하는 긍정적인 효과에 있어서, 긍정적인 효과가 부정적인 효과를 극복하는 광촉매량과 무기 산화물량과 그들에 의해 형성되는 공극의 균형이 존재하는 것은 뜻밖의 사실이라 할 수 있다.
상기와 같은 작용 효과 및 특성 때문에, 본 발명에 따른 광촉매 도장체는 특히 저위도의 열대, 아열대 지방 등의 자외선량이 많고 고온다습한 기상 조건 하에 있어서도 이용이 가능하다.
기재
본 발명에 있어서, 기재는 그 위에 광촉매층을 형성 가능한 재료이면 무기재료, 유기재료를 불문하고 갖가지 재료여도 좋고, 그 형상도 특별히 한정되지 않는다.
재료의 관점에서 본 기재의 바람직한 예로서는, 금속, 세라믹, 유리, 수지, 고무, 돌, 시멘트, 콘크리트, 섬유, 직물, 나무, 종이, 그들의 조합, 그들의 적층체, 그들의 표면에 적어도 1층의 피막을 갖는 것을 들 수 있다.
용도의 관점에서 본 기재의 바람직한 예로서는, 건축 자재, 건물 외장, 창틀, 창유리, 구조 부재, 차량의 외장 및 도장, 기계 장치나 물품의 외장, 방진 커버 및 도장, 교통 표지판, 각종 표시 장치, 광고탑, 도로용 차음벽, 철도용 차음벽, 교량, 가드레일의 외장 및 도장, 터널 내장 및 도장, 애자, 태양 전지 커버, 태양열 온수기 집열 커버, 비닐 하우스, 차량용 조명등의 커버, 옥외용 조명기구, 받침대 및 상기 물품 표면에 접착시키기 위한 필름, 시트, 봉인(seal) 등과 같은 외장재 전반을 들 수 있다.
본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 기재는 기재의 표면이 유기 물질을 포함하는 수지를 함유하고 있는 것이 바람직하다. 기재 전체가 유기 재료로 구성되어 있는 것이어도 좋고, 또 무기 재료로 구성된 기재의 표면이 유기 재료로 피복된 것(예를 들어 화장판)이어도 좋다. 더욱이, 유기 재료를 포함하는 수지 이외에 무기 안료나 무기질의 체질 안료 등이 첨가되어 있어도 좋다. 본 발명에 따른 광촉매 도장체는, 광촉매 활성에 의해 손상을 받기 쉬운 유기재료를 침식하기 어려운 것이기 때문에, 중간층을 개재시키지 않고, 광촉매층이라는 하나의 층으로 우수한 기능을 갖는 광촉매 도장체를 제조할 수 있다.
더욱이, 본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 상기 수지가 비실리콘계 수지여도 좋다. 종래 광촉매 도장체에 있어서는, 광촉매층의 광촉매 활성에 의한 기재로의 영향을 실리콘 수지로 된 층을 기재와의 사이에 설치함으로써 억제하는 것이 일반적으로 행해져 왔다. 본 발명에 의하면, 이러한 종래 일반적으로 설치되어 온 실리콘계 수지가 아니라, 비실리콘계 수지에 직접 광촉매층을 설치할 수 있다. 그 결과, 본 발명은 그 이용, 적용 범위가 크게 확대된다고 하는 점에서 매우 유리하게 된다.
광촉매
도장체의
광촉매층
본 발명에 있어서, 광촉매층은 기재 표면에 광촉매 입자가 존재하면, 완전한 막모양에 더하여, 예를 들어 부분적으로 막모양으로 되어 있는 상태도 포함한다. 또, 기재 표면 상에 섬모양으로 흩어져 존재하고 있어도 좋다. 본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 이 광촉매층은 코팅액을 적용하여 얻어지는 것이다.
본 발명의 한 형태에 따르면, 광촉매층은 그 광촉매층 전체를 100질량%로 했을 때, 1.0질량%를 넘고 3.0질량% 미만의 광촉매 입자와, 85.0질량%를 넘고 97.0질량% 미만의 무기 산화물 입자와, 0질량% 이상 5.0질량% 미만의 바인더를 포함하여 이루어진다. 본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 광촉매 입자를 1.1질량% 이상 2.9질량% 이하, 상기 무기 산화물 입자를 92.1질량% 이상 98.9질량% 이하로 하여 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 광촉매층은 0.5μm 이상 3μm 이하의 막두께를 갖는 것이 바람직하다. 보다 바람직한 막두께의 범위는 0.5μm 이상 3.0μm 이하이며, 더욱 바람직하게는 1.0μm 이상 2.0μm 이하이다. 이러한 범위 내이면, 광촉매층과 기재 계면에 도달하는 자외선이 충분히 감쇄되기 때문에 내후성이 향상된다. 또, 무기 산화물 입자보다 함유 비율이 낮은 광촉매 입자를 두께 방향으로 증가시킬 수 있기 때문에, 유해 가스 분해성도 향상된다. 나아가서는, 투명성, 막강도에 있어서도 우수한 특성이 얻어진다.
본 발명에 사용하는 광촉매 입자는, 광촉매 활성을 가지는 입자이면 특별히 한정되지 않지만, 그 바람직한 예로서는 산화 티탄(TiO2), ZnO, SnO2, SrTiO3, WO3, Bi2O3, Fe2O3와 같은 금속 산화물 입자를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 산화 티탄 입자, 가장 바람직하게는 아나타제형 이산화 티탄 입자이다. 또, 산화 티탄은 밴드 갭 에너지가 높은바, 따라서 광여기에는 자외선을 필요로 하고, 광여기의 과정에서 가시 광선을 흡수하지 않기 때문에, 보색 성분에 의한 발색이 일어나지 않는 점에서 유리하다. 산화 티탄은 분말 형상, 졸 형상, 용액 형상 등 다양한 형태로 입수할 수 있지만, 광촉매 활성을 나타내는 것이라면, 어느 형태라도 사용 가능하다.
본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 광촉매 입자는 10nm 이상 100nm 이하의 평균 입경(粒徑: 입자 지름)을 갖는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10nm 이상 60nm 이하이다. 한편, 이 평균 입경은 주사 전자 현미경에 의해 20만배의 시야에 들어오는 임의의 100개의 입자의 길이를 측정한 개수 평균값으로서 산출된다. 입자의 형상으로서는, 진구(眞球)가 바람직하지만, 대략 원형이나 타원형이어도 좋고, 그 경우의 입자의 길이는 ((장경 + 단경)/2)로서 대략 산출된다.
본 발명에 사용하는 무기 산화물 입자는, 광촉매 입자와 함께 층을 구성할 수 있는 무기 산화물 입자이면 특별히 한정되지 않고, 그 바람직한 예로서는 실리카, 알루미나, 지르코니아, 셀리아, 이트리아, 보로니아(Boronia), 마그네시아, 칼시아(calcia: 산화칼슘), 페라이트, 무정형 티타니아(titania), 하프니아(Hafnia) 등의 단일 산화물 입자; 및 티탄산 바륨, 규산 칼슘 등의 복합 산화물 입자를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 실리카 입자이다.
본 발명의 무기 산화물 입자는, 평균 입경이 5nm를 넘고 100nm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10nm 이상 50nm 이하이다. 한편, 이 평균 입경은 주사 전자 현미경에 의해 20만배의 시야에 들어오는 임의의 100개의 입자의 길이를 측정한 개수 평균값으로서 산출된다. 입자의 형상으로서는 진구가 가장 좋지만, 대략 원형이나 타원형이어도 좋고, 그 경우의 입자의 길이는 ((장경 + 단경)/2)로서 대략 산출된다.
본 발명의 광촉매층은, 가수분해성 실리콘의 건조물, 무정형의 무기 산화물, 수지 바인더, 알칼리 실리케이트의 군에서 선택되는 적어도 1종의 바인더를 포함할 수 있으며, 이들 물질은 바인더로서 광촉매층의 강도 향상에 기여한다. 그러나, 경우에 따라 그 존재가 광촉매 활성의 발현 또는 유해 가스 분해성에 유리한 간극의 형성에 영향을 주는 일이 있다. 따라서, 본 발명에 있어서는, 유해 가스 분해성을 확보할 수 있는 정도이면 상기 바인더를 임의 성분으로서 함유하는 것은 허용되지만, 또 그 첨가는 자제하거나 또는 소량으로 하는 것이 바람직하다. 경우에 따라 전혀 포함하지 않는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 상기 바인더 성분의 함유량은 그 광촉매층 전체를 100질량%로 했을 때, 0질량% 이상 5.0질량% 미만이며, 바람직하게는 3.0질량% 이하, 가장 바람직하게는 0질량%이다.
가수분해성 실리콘의 건조물은, 예를 들어 2~4관능 가수분해성 실란 단위를 적어도 하나 포함하는 가수분해성 실란, 상기 가수분해성 실란의 적어도 일부를 가수분해?축합하여 얻어지는 오르가노 실리콘 올리고머 또는 액상의 오르가노 실리콘, 실리콘 에멀전의 군에서 선택되는 적어도 하나에, 임의 성분으로서, 오르가노 실리케이트 올리고머나 액상의 오르가노 실리케이트를 필요에 따라 첨가한 것을, 적어도 일부를 가수분해?축합시킴으로써 얻을 수 있다.
여기서, 무정형의 무기 산화물로서는, 입자 형상을 수반하지 않는 무정형 산화 티탄, 무정형 실리카, 무정형 알루미나 등이 적합하게 이용 가능하다. 무정형의 무기 산화물은, 예를 들어 금속 알콕시드, 금속 킬레이트, 금속 과산화물, 금속 무기산염, 금속 유기산염, 금속 할로겐 등을 가수분해?축합하여 얻을 수 있다.
또, 수지 바인더로서는, 불소 수지 바인더, 실리콘 변성 아크릴 바인더, 실리콘 변성 에폭시 바인더, 실리콘 변성 우레탄 바인더, 실리콘 변성 폴리에스테르 바인더 등의 내후성이 강한 바인더가 바람직하지만, 경우에 따라서는 아크릴 바인더, 에폭시 바인더 등도 이용 가능하다.
수지 바인더로서의 한 형태로서는, 예를 들어 수지 에멀전 중합체를 적합하게 이용할 수 있다. 수지 에멀전 중합체로서는, 실리콘 에멀전 중합체, 불소 수지 에멀전 중합체, 아크릴 실리콘 에멀전 중합체, 실리콘 변성 에멀전 중합체, 실리콘 변성 우레탄 에멀전 중합체, 실리콘 변성 폴리에스테르 에멀전 중합체 등의 내후성이 강한 공중합체가 바람직하지만, 경우에 따라서는 아크릴 에멀전 중합체 등도 이용 가능하다.
알칼리 실리케이트로서는, 예를 들어 규산 나트륨, 규산 칼륨, 규산 리튬 등이 적합하게 이용가능하다.
더욱이, 본 발명의 광촉매층에는, 바나듐, 철, 코발트, 니켈, 팔라듐, 아연, 루테늄, 로듐, 구리, 은, 백금 및 금으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 금속 또는 금속 화합물을 첨가함으로써, 더 높은 항균?곰팡이 방지 성능을 발현시킬 수 있다. 다만, 그 존재는 상술한 광촉매 입자 및 무기 산화물 입자에 의한 입자간의 간극의 형성에 영향을 주지 않는 것이 바람직한바, 따라서 그 첨가량은 미량으로 족하고, 또 그 작용의 발현에 필요한 양은 미량이다. 구체적으로는, 광촉매에 대해 0.01~10질량%, 보다 바람직하게는 0.05~5질량% 정도의 첨가량이 바람직하다. 또, 금속 화합물로서는, 예를 들어 상기 금속의 글루콘산염, 황산염, 사과산염, 젖산염, 황산염, 질산염, 개미산염, 초산염, 킬레이트 등을 적합하게 이용할 수 있다.
본 발명의 광촉매층에는, 광촉매 입자와 무기 산화물 입자와 임의의 성분으로서의 바인더에 더해, 난수용성 또는 비수용성 무기염이나 수지 입자가 더 함유되어도 좋고, 그 첨가량은 그 광촉매층 전체를 100질량%로 했을 때, 0질량% 이상 10질량% 미만이며, 바람직하게는 5질량% 이하, 가장 바람직하게는 0질량%로 함유되어 있어도 좋다. 다만, 그 존재는 상술한 광촉매 입자 및 무기 산화물 입자에 의한 입자간의 간극의 형성에 영향을 주지 않는 것이 바람직하다.
난수용성 또는 비수용성 무기염으로서는, 예를 들어 수산화 알루미늄, 베마이트(boehmite), 탄산 칼슘 등을 적합하게 이용할 수 있다.
수지 입자로서는, 구형상, 판형상 등의 입자를 이용함으로써 의장 상 광택(艶) 조정이 가능한 경우가 있고, 광촉매 성능과 내후성을 방해하지 않는 범위에서 첨가가 가능하다.
그 밖에, 본 발명의 광촉매층에는, 광촉매 입자와 무기 산화물 입자와 임의 성분으로서의 바인더에 더해, 자외선 차폐제나 유기 곰팡이 방지제 등이 더 첨가되어도 좋고, 그 첨가량은 그 광촉매층 전체를 100질량%로 했을 때, 0질량% 이상 10질량% 미만이며, 바람직하게는 5질량% 이하, 가장 바람직하게는 0질량%로 함유되어 있어도 좋다. 다만, 그 존재는 상술한 광촉매 입자 및 무기 산화물 입자에 의한 입자간의 간극의 형성에 영향을 주지 않는 것이 바람직하다.
광촉매
코팅액
본 발명의 한 형태에 따르면, 광촉매 코팅액은 상술한 본 발명에 따른 광촉매 도장체의 형성을 위해 사용하는 것이다. 광촉매 코팅액의 건조물 질량을 100질량%로 했을 때, 그 조성은 용매와, 1.0질량%를 넘고 3.0질량% 미만의 광촉매 입자와, 92.0질량%를 넘고 99.0질량% 미만의 무기 산화물 입자와, 0질량% 이상 5.0질량% 미만의 바인더를 포함하여 이루어진다.
본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 광촉매 코팅액의 건조물 질량을 100질량%로 했을 때, 광촉매 입자를 1.1질량% 이상 2.9질량% 이하, 무기 산화물 입자를 92.1질량% 이상 98.9질량% 이하로 하여 이루어지는 조성이 더 바람직하다.
본 발명에 사용하는 광촉매 입자는, 광촉매 활성을 가지는 입자이면 특별히 한정되지 않지만, 그 바람직한 예로서는, 산화 티탄(TiO2), ZnO, SnO2, SrTiO3, WO3, Bi2O3, Fe2O3와 같은 금속 산화물 입자를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 산화 티탄 입자, 가장 바람직하게는 아나타제(anatase)형 이산화 티탄 입자이다. 또, 산화 티탄은 밴드 갭 에너지가 높은바, 따라서 광여기에는 자외선을 필요로 하고, 광여기의 과정에서 가시 광선을 흡수하지 않기 때문에, 보색 성분에 의한 발색이 일어나지 않는 점에서 유리하다. 산화 티탄은 분말 형상, 졸 형상, 용액 형상 등 다양한 형태로 입수할 수 있지만, 광촉매 활성을 나타내는 것이면, 어느 형태라도 사용 가능하다.
본 발명의 바람직한 태양에 따르면, 광촉매 입자는 10nm 이상 100nm 이하의 평균 입경을 갖는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10nm 이상 60nm 이하이다. 한편, 이 평균 입경은 주사 전자 현미경에 의해 20만배의 시야에 들어오는 임의의 100개의 입자의 길이를 측정한 개수 평균값으로서 산출된다. 입자의 형상으로서는 진구가 바람직하지만, 대략 원형이나 타원형이어도 좋고, 그 경우의 입자의 길이는 ((장경 + 단경)/2)로서 대략 산출된다.
본 발명에 사용하는 무기 산화물 입자는, 광촉매 입자와 함께 층을 구성할 수 있는 무기 산화물 입자이면 특별히 한정되지 않고, 그 바람직한 예로서는 실리카, 알루미나, 지르코니아, 셀리아, 이트리아, 보로니아, 마그네시아, 칼시아, 페라이트, 무정형 티타니아, 하프니아 등의 단일 산화물 입자; 및 티탄산 바륨, 규산 칼슘 등의 복합 산화물 입자를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 실리카 입자이다.
본 발명의 무기 산화물 입자는, 평균 입경이 5nm를 넘고 100nm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10nm 이상 50nm 이하이다. 한편, 이 평균 입경은 주사 전자 현미경에 의해 20만배의 시야에 들어오는 임의의 100개의 입자의 길이를 측정한 개수 평균값으로서 산출된다. 입자의 형상으로서는 진구가 가장 좋지만, 대략 원형이나 타원형이어도 좋고, 그 경우의 입자의 길이는 ((장경 + 단경)/2)로서 대략 산출된다.
본 발명의 광촉매 코팅액은, 가수분해성 실리콘, 가수분해성 실란, 무정형의 무기 산화물, 무정형의 무기 산화물을 형성하기 위한 전구체(前驅體), 수지 바인더, 알칼리 실리케이트의 군에서 선택되는 적어도 1종의 바인더를 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 전혀 포함하지 않는다. 이들 물질은 바인더로서 광촉매층의 강도 향상에 기여한다. 그렇지만, 경우에 따라 그 존재가 광촉매 활성의 발현 또는 유해 가스 분해성에 유리한 간극의 형성에 영향을 줄 수 있다. 따라서, 본 발명에 있어서는 유해 가스 분해성을 확보할 수 있는 정도이면 상기 바인더를 임의 성분으로서 함유하는 것은 허용되지만, 또 그 첨가는 자제하거나 또는 소량으로 하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 상기 바인더 성분의 함유량은 광촉매 코팅액의 건조물 질량을 100질량%로 했을 때, 0질량% 이상 5.0질량% 이하 미만, 바람직하게는 3.0질량% 이하, 가장 바람직하게는 0질량%이다.
가수분해성 실리콘으로서는, 예를 들어 2~4관능 가수분해성 실란 단위를 적어도 하나 포함하는 가수분해성 실란의 적어도 일부를 가수분해?축합하여 얻어지는 오르가노 실리콘 올리고머 또는 액상의 오르가노 실리콘, 실리콘 에멀전의 그룹에서 선택되는 적어도 하나에, 임의 성분으로서, 오르가노 실리케이트 올리고머나 액상의 오르가노 실리케이트를 필요에 따라 첨가한 것을 적합하게 이용할 수 있다.
여기서, 산화물 환산의 무정형의 무기 산화물에 대해서는, 입자 형상을 수반하지 않는 무정형 산화 티탄, 무정형 실리카, 무정형 알루미나 등을 적합하게 이용할 수 있다. 무정형의 무기 산화물을 형성하기 위한 전구체로서는, 유기 금속 화합물, 무기 금속 화합물 등을 적합하게 이용할 수 있다. 유기 금속 화합물로서는, 티탄 알콕시드 등의 금속 알콕시드, 과산화 티탄 등의 금속 과산화물, 티탄 아세틸아세토네이트 등의 금속 킬레이트, 오르가노 실리케이트 등을 적합하게 이용할 수 있다.
또, 수지 바인더로서는, 불소 수지 바인더, 실리콘 변성 아크릴 바인더, 실리콘 변성 에폭시 바인더, 실리콘 변성 우레탄 바인더, 실리콘 변성 폴리에스테르 바인더 등의 내후성이 강한 바인더가 바람직하지만, 경우에 따라서는 아크릴 바인더, 에폭시 바인더 등도 이용 가능하다.
수지 바인더로서 수지 에멀전을 이용하면 물에 분산하기 쉬워 바람직하다. 수지 에멀전으로서는, 예를 들어 실리콘 에멀전, 불소 수지 에멀전, 아크릴 실리콘 에멀전, 실리콘 변성 에멀전, 실리콘 변성 우레탄 에멀전, 실리콘 변성 폴리에스테르 에멀전 등의 내후성이 강한 에멀전이 바람직하지만, 경우에 따라서는 아크릴 에멀전 등도 이용 가능하다.
알칼리 실리케이트로서는, 예를 들어 규산 나트륨, 규산 칼륨, 규산 리튬 등이 적합하게 이용가능하다.
더욱이, 본 발명의 광촉매 코팅액에는 바나듐, 철, 코발트, 니켈, 팔라듐, 아연, 루테늄, 로듐, 구리, 은, 백금 및 금으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 일종의 금속 또는 금속 화합물을 첨가함으로써, 더 높은 항균?곰팡이 방지 성능을 발현시킬 수 있다. 다만, 그 존재는 상술한 광촉매 입자 및 무기 산화물 입자에 의한 입자간의 간극의 형성에 영향을 주지 않는 것이 바람직한바, 따라서 그 첨가량은 미량으로 좋고, 또 그 작용의 발현에 필요한 양은 미량이다. 구체적으로는, 광촉매에 대해 0.01~10질량%, 보다 바람직하게는 0.05~5질량% 정도의 첨가량이 바람직하다. 또, 금속 화합물로서는, 예를 들어 상기 금속의 글루콘산염, 황산염, 사과산염, 젖산염, 황산염, 질산염, 개미산염, 초산염, 킬레이트 등을 적합하게 이용할 수 있다.
더욱이, 본 발명의 광촉매 코팅액에는, 광촉매 입자와 무기 산화물 입자와 임의의 성분으로서의 바인더에 더해, 난수용성 또는 비수용성 무기염이나 수지 입자가 더 함유되어도 좋고, 그 첨가량은 그 광촉매 코팅액의 건조물 질량을 100질량%로 했을 때, 0질량% 이상 10질량% 미만이며, 바람직하게는 5질량% 이하, 가장 바람직하게는 0질량%로 함유되어 있어도 좋다. 다만, 그 존재는 상술한 광촉매 입자 및 무기 산화물 입자에 의한 입자간의 간극의 형성에 영향을 주지 않는 것이 바람직하다.
난수용성 또는 비수용성 무기염으로서는, 예를 들어 수산화 알루미늄, 베마이트, 탄산 칼슘 등을 적합하게 이용할 수 있다.
수지 입자로서는, 구형상, 판형상 등의 입자를 이용함으로써 의장 상 광택 조정이 가능한 경우가 있고, 광촉매 성능이나 내후성을 방해하지 않는 범위에서의 첨가가 가능하다.
본 발명에 따른 광촉매 코팅액은, 광촉매층에 있어서 기재된 각 성분을, 상기 질량비율로 용매 중에 분산 또는 용해하여 제조된다. 여기서, 산화 티탄은 분말 형상, 졸 형상, 용액 형상 등 어느 것이어도 좋다. 또, 무기 산화물 입자는 물을 분산매로 한 수성 콜로이드; 또는 에틸 알코올, 이소프로필 알코올 또는 에틸렌 글리콜 등의 친수성 용매에 콜로이드 형상으로 분산시킨 오르가노졸의 형태인 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 콜로이달 실리카이다.
그 밖에, 본 발명의 광촉매 코팅액에는, 광촉매 입자와 무기 산화물 입자와 임의의 성분으로서의 바인더에 더해, 자외선 차폐제, 유기 곰팡이 방지제, 계면 활성제, 소포제, PH 조정제, 색소, 증점제 등이 더 첨가되어 있어도 좋고, 그 첨가량은 그 광촉매 코팅액의 건조물 질량을 100질량%로 했을 때, 0질량% 이상 10질량% 미만이며, 바람직하게는 5질량% 이하, 가장 바람직하게는 0질량%로 함유되어 있어도 좋다. 다만, 그 존재는 상술한 광촉매 입자 및 무기 산화물 입자에 의한 입자간의 간극의 형성에 영향을 주지 않는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 광촉매 코팅액은, 임의 성분으로서 계면 활성제를 포함해도 좋고, 그 첨가량은 광촉매 코팅액의 건조물 질량을 100질량%로 했을 때, 0질량% 이상 10질량% 미만이며, 바람직하게는 0질량% 이상 8질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 0질량% 이상 6질량% 이하이다. 계면 활성제의 첨가에 의해, 레벨링(leveling) 즉 도공 표면의 평활화, 균일화를 도모할 수 있다. 또, 계면 활성제는 광촉매 코팅액의 젖음성을 개선하기 위해 유효한 성분이지만, 젖음성을 문제로 하지 않는 것이면 계면 활성제는 거의 또는 전혀 포함하지 않는 것이 바람직한 경우가 있다.
계면 활성제는, 광촉매나 무기 산화물 입자의 분산 안정성, 중간층 상에 도포했을 때의 젖음성을 감안하여 적절히 선택되어도 좋지만, 비이온성 계면 활성제가 바람직하고, 보다 바람직하게는 에테르형 비이온성 계면 활성제, 에스테르형 비이온성 계면 활성제, 폴리알킬렌 글리콜 비이온성 계면 활성제, 불소계 비이온성 계면 활성제, 실리콘 비이온성 계면 활성제를 들 수 있다.
용매는, 상기 구성 성분을 적절하게 분산 또는 용해 가능한 모든 용매가 사용 가능하며, 물 및/또는 유기 용매여도 좋다. 본 발명에 따른 광촉매 코팅액에 적용 가능한 용매로서는, 환경에 미치는 영향이 적은 물을 이용하는 것이 바람직하다. 더욱이, 성막시의 레벨링성 향상이나 건조성의 조정을 목적으로, 유기 용매를 이용해도 좋다. 유기 용매의 바람직한 예로서는, 알코올류, 에테르류, 아세톤, 2-부타논, 메틸 프로필 케톤, 메틸 부틸 케톤, 디프로필 케톤 등의 케톤류, 초산 에틸, 초산 프로필, 초산 이소프로필, 초산 부틸, 초산 아밀, 낙산 에틸 등의 에스테르류, 벤젠, 톨루엔, 키실렌, 클로로포름, 펜탄, 헥산, 시클로 헥산 등의 지방족, 방향족, 지환식의 탄화 수소, 석유류 등의 일반적인 용매를 들 수 있고, 이들을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있으며, 특히 수용성 용매가 바람직하다. 수용성 용매로서는, 메탄올, 에탄올, 변성 에탄올, n-프로파놀, 이소프로파놀, n-부타놀, 이소부타놀, s-부타놀, t-부타놀, 1, 3-부탄 디올, 2, 3-부탄 디올, 1, 4-부탄 디올, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노 에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노 이소프로필 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노 부틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노 에틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노 이소프로필 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노 부틸 에테르, 에틸렌 글리콜 디부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 디이소프로필 에테르, 트리 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 글리세린 모노 메틸 에테르, 트리 메틸렌 글리콜, N-메틸 피로리돈, 에틸렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노 에틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노 프로필 에테르, 3, 5-디메틸-1-헥신-3-올, 디아세톤 알코올, 3-메틸-3-메톡시 부타놀 등의 알코올류와 에테르류 및 케톤류 등을 들 수 있고, 이들을 단독으로 또는 여러 종류를 혼합하여 사용할 수 있다.
또, 본 발명의 광촉매 코팅액의 고형분 농도는 특별히 한정되지 않지만, 1~10질량%로 하는 것이 도포하기 쉬워 바람직하다. 한편, 광촉매 코팅 조성물 중의 구성성분 분석은 코팅액을 한외여과(限外濾過: 한계 밖 여과)에 의해 입자 성분과 여액으로 분리하여 각각을 적외 분광 분석, 겔 침투 크로마토그래피(gel permeation chromatography), 형광 X선 분광 분석 등으로 분석하고, 스펙트럼을 해석함으로써 평가할 수 있다.
광촉매
도장체의
제조 방법
본 발명의 광촉매 도장체는, 본 발명의 광촉매 코팅액을 기재 위에 도포함으로써 제조할 수 있다. 도장 방법은, 쇄모(刷毛) 도장, 롤러, 스프레이, 롤코터, 플로우 코터, 딥 코트, 흐름 도포, 스크린 인쇄 등 일반적으로 널리 행해지고 있는 방법을 이용할 수 있다. 코팅액의 기재로의 도포 후는, 상온 건조시키면 좋고, 또는 필요에 따라 가열 건조해도 좋다. 그러나, 소결이 진행될 때까지 가열하면 입자 사이의 공극이 감소하여 충분한 광촉매 활성을 얻을 수 없게 될 우려가 있기 때문에, 공극 형성에 영향을 주지 않거나 혹은 영향이 적어지는 온도 및 시간을 선택하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 건조 온도는 10℃ 이상 500℃ 이하이며, 기재의 적어도 일부에 수지가 포함되는 경우, 수지의 내열 온도 등을 고려하여, 예를 들어 바람직한 건조 온도는 10℃ 이상 200℃ 이하이다.
본 발명에 따른 광촉매 도장체는, 상술한 바와 같이 기재와의 사이에 중간층을 개재시킬 필요가 없기 때문에, 그 제조에 필요한 시간과 비용을 줄일 수 있다고 하는 점에서 유리하다.
[실시예]
본 발명을 이하의 예에 기초하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들의예에 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1)
기재로서 50mm×100mm의 평판 모양의 착색 유기 도장체를 준비했다. 이 착색 유기 도장체는 실러(sealer) 처리한 요업계 사이딩 기재 상에, 카본 블랙 분말을 첨가한 아크릴 도료(실리콘 함유하지 않음)를 도포하고 충분히 건조 및 경화시킨 것이다.
이어서, 광촉매 코팅액을 준비했다. 이 광촉매 코팅액은 아나타제형 이산화 티탄 물분산체(평균 입경: 42nm, 염기성)와 물분산형 콜로이달 실리카(평균 입경: 14nm, 염기성)를 TiO2의 고형분과 SiO2의 고형분의 질량비가 1.10:98.90으로 되도록 용매로 물을 이용해 혼합하여 고형분 농도 5.5질량%로 조정한 것이다.
이 광촉매 코팅액을, 미리 가열한 상기 착색 유기 도장체에 20g/m2 스프레이 도포하고, 그 후 상온에서 건조하여 광촉매층을 형성시켜, 광촉매 도장체를 얻었다.
(실시예 2)
착색 유기 도장체 상으로의 광촉매 코팅액의 도포량을 30g/m2로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(실시예 3)
광촉매 코팅액으로서, 아나타제형 이산화 티탄 물분산체(평균 입경: 10nm, 산성)와 물분산형 콜로이달 실리카(평균 입경: 15nm, 산성, 알루미나 피복)와 테트라에톡시 실란의 중축합물(SiO2 환산 농도: 40질량%. 용매: 에탄올, 물)을, TiO2의 고형분과 콜로이달 실리카의 고형분과 테트라에톡시 실란의 중축합물(重縮合物) 중의 SiO2 환산의 건조 질량의 질량비가 1.10:97.90:1.00으로 되도록 용매로 물 및 에탄올을 이용해 혼합하여 고형분 농도 5.5질량%로 조정한 광촉매 코팅액을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(실시예 4)
광촉매 코팅액으로서, 아나타제형 이산화 티탄 물분산체(평균 입경: 10nm, 산성)와 물분산형 콜로이달 실리카(평균 입경: 15nm, 산성, 알루미나 피복)를 TiO2의 고형분과 콜로이달 실리카의 고형분과의 질량비가 2.00:98.00으로 되도록 용매로 물을 이용해 혼합하여 고형분 농도 5.5질량%로 조정한 광촉매 코팅액을 이용한 점, 및 착색 유기 도장체 상으로의 광촉매 코팅액의 도포량을 15g/m2로 점을 제외하고, 실시예 1과 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(실시예 5)
광촉매 코팅액으로서, 아나타제형 이산화 티탄 물분산체(평균 입경: 42nm, 염기성)와 물분산형 콜로이달 실리카(평균 입경: 14nm, 염기성)를 TiO2의 고형분과 SiO2의 고형분 질량비가 1.10:98.90으로 되도록 용매로 물을 이용해 혼합하여 고형분 농도 5.5질량%로 조정한 광촉매 코팅액를 이용한 점, 및 착색 유기 도장체 상으로의 광촉매 코팅액의 도포량을 20g/m2로 한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(실시예 6)
착색 유기 도장체 상으로의 광촉매 코팅액의 도포량을 30g/m2로 한 것 이외는, 실시예 5와 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(실시예 7)
광촉매 코팅액으로서, 아나타제형 이산화 티탄 물분산체(평균 입경: 10nm, 산성)와 물분산형 콜로이달 실리카(평균 입경: 15nm, 산성, 알루미나 피복)와 테트라에톡시 실란의 중축합물(SiO2 환산 농도: 40질량%, 용매 : 에탄올, 물)를 TiO2의 고형분과 콜로이달 실리카의 고형분과 테트라에톡시 실란의 중축합물의 SiO2 환산의 건조 질량의 질량비가 2.00:96.00:2.00으로 되도록 용매로 물 및 에탄올을 이용해 혼합하여 고형분 농도 5.5질량%로 조정한 광촉매 코팅액을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(실시예 8)
광촉매 코팅액으로서, 아나타제형 이산화 티탄 물분산체(평균 입경: 42nm, 염기성)와 물분산형 콜로이달 실리카(평균 입경: 14nm, 염기성)를 TiO2의 고형분과 SiO2의 고형분과의 질량비가 2.90:97.10으로 되도록 용매로 물을 이용해 혼합하여 고형분 농도 5.5질량%로 조정한 광촉매 코팅액을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(비교예 1)
광촉매 코팅액으로서, 아나타제형 이산화 티탄 물분산체(평균 입경: 42nm, 염기성)와 물분산형 콜로이달 실리카(평균 입경: 14nm, 염기성)를 TiO2의 고형분과 SiO2의 고형분과의 질량비가 0.60:99.40으로 되도록 용매로 물을 이용해 혼합하여 고형분 농도 5.5질량%로 조정한 광촉매 코팅액을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(비교예 2)
광촉매 코팅액으로서, 아나타제형 이산화 티탄 물분산체(평균 입경: 42nm, 염기성)와 물분산형 콜로이달 실리카(평균 입경: 14nm, 염기성)를 TiO2의 고형분과 SiO2의 고형분과의 질량비가 3.00:97.00으로 되도록 용매로 물을 이용해 혼합하여 고형분 농도 5.5질량%로 조정한 광촉매 코팅액을 이용한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(비교예 3)
광촉매 코팅액으로서, 아나타제형 이산화 티탄 물분산체(평균 입경: 42nm, 염기성)와 물분산형 콜로이달 실리카(평균 입경: 14nm, 염기성)를 TiO2의 고형분과 SiO2의 고형분과의 질량비가 0.10:99.90으로 되도록 용매로 물을 이용해 혼합하여 고형분 농도 5.5질량%로 조정한 광촉매 코팅액을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(비교예 4)
광촉매 코팅액으로서, 아나타제형 이산화 티탄 물분산체(평균 입경: 42nm, 염기성)와 물분산형 콜로이달 실리카(평균 입경: 14nm, 염기성)를 TiO2의 고형분과 SiO2의 고형분과의 질량비가 4.60:95.40으로 되도록 용매로 물을 이용해 혼합하여 고형분 농도 5.5질량%로 조정한 광촉매 코팅액을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 조건으로 시료를 제작하였다.
(평가 실험 A)
실시예 1~8, 및 비교예 1~4에 대해, NOx 분해성 시험을 다음과 같은 방법으로 실시했다. 먼저, 상기 시료를 전처리로서 1mW/cm2의 휘선 스펙트럼을 351nm의 파장에 갖는 BLB광으로 5hr 이상 조사했다. 이어서 JIS R 1701-1에 기재된 반응 용기 내에 도장체 샘플을 2장 세트했다. 25℃, 50% RH로 조정한 공기에 약 1000ppb로 되도록 NO 가스를 혼합하고, 차광한 반응용기 내에 유량 1.5l/min으로 20분 공급했다. 그 후 가스를 도입한 채로 1mW/cm2로 조정한 휘선 스펙트럼을 351nm의 파장에 갖는 BLB광을 20분간 조사했다. 그 후 가스를 도입한 상태에서 재차 반응용기를 차광했다. NOx 제거량은 BLB광 조사 전후에서의 NO, NO2 농도로부터 다음의 식에 따라 계산했다.
NOx 제거량(ppb) = [NO(조사 후) - NO(조사시)] - [NO2(조사시) - NO2(조사 후)]
결과는 표 1에 나타낸 바와 같았다.
(평가 실험 B)
실시예 1~8 및 비교예 2 및 4에 대해, 미야코지마에서 JIS K 5600-7-6에 규정된 폭로가대를 이용해 남면으로 향하여 수평으로부터 20°의 각도로 옥외 폭로를 행했다. 12개월 후에 외관을 눈으로 확인했다.
얻어진 결과는 표 1에 나타낸 바와 같았다. 여기서, 표 중의 G는 거의 변화하지 않은 것을, NG는 약간 흰 가루(결정)가 생긴 것을 나타낸다.
(평가 실험 C)
실시예 4, 및 비교예 1, 3 및 4에 대해, JIS R 1703-2(광촉매 재료의 습식 분해성능)에 기초한 시험 방법(메틸렌 블루 9점법)을 실시하여 분해 활성 지수 R을 구했다. 그 결과는 다음과 같았다.
비교예 1 및 3의 R에 대해, 광촉매량과의 관계식을 구하면 R = 4.2X - 0.02(여기서 X는 광촉매량이다)이고, 또 실시예 4 및 비교예 4의 R에 대해, 광촉매량과의 관계식을 구하면 R = 1.1X + 3.4(여기서 X는 광촉매량이다)로 되어, 이 두 식의 교점의 X, 즉 광촉매량은 1.10이다. 따라서, 광촉매량 1.10중량% 부근에서 광촉매 활성이 변화하는 것을 이 실험으로부터도 확인할 수 있었다.
Claims (19)
- 기재와, 그 기재 상에 설치된 광촉매층을 갖추어 이루어진 광촉매 코팅체로서,
상기 광촉매층이 그 광촉매층 전체를 100질량%로 했을 때,
1질량%를 넘고 3질량% 미만의 광촉매 입자와,
92질량%를 넘고 99질량% 미만의 무기 산화물 입자와,
0질량% 이상 5질량% 미만의 바인더를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 광촉매 도장체.
- 청구항 1에 있어서, 상기 광촉매층 전체를 100질량%로 했을 때, 상기 광촉매 입자를 1.1질량% 이상 2.9질량% 이하, 상기 무기 산화물 입자를 92.1질량% 이상 98.9질량% 이하로 하여 이루어진 것을 특징으로 하는 광촉매 도장체.
- 청구항 1 또는 2에 있어서, 상기 기재의 표면이 유기 물질을 포함하는 수지를 함유하고, 그 표면에 상기 광촉매층이 설치되어 이루어진 것을 특징으로 하는 광촉매 도장체.
- 청구항 3에 있어서, 상기 유기물질을 포함하는 수지가 비실리콘계 수지인 것을 특징으로 하는 광촉매 도장체.
- 청구항 1~4 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광촉매 입자가 산화 티탄 입자인 것을 특징으로 하는 광촉매 도장체.
- 청구항 1~5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기 산화물 입자가 실리카 입자인 것을 특징으로 하는 광촉매 도장체.
- 청구항 1~6 중 어느 한 항에 있어서, 상기 바인더가, 가수분해성 실리콘의 건조물, 무정형의 무기 산화물, 수지 바인더 및 알칼리 실리케이트로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 광촉매 도장체.
- 청구항 1~7 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광촉매 입자가, 주사형 전자 현미경에 의해 20만배의 시야에 들어오는 임의의 100개의 입자의 길이를 측정함으로써 산출되는 10nm 이상 100nm 이하의 개수 평균 입경을 갖는 것을 특징으로 하는 광촉매 도장체.
- 청구항 1~8 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기 산화물 입자가, 주사형 전자 현미경에 의해 20만배의 시야에 들어오는 임의의 100개의 입자의 길이를 측정함으로써 산출되는 5nm를 넘고 100nm 이하의 개수 평균 입경을 갖는 것을 특징으로 하는 광촉매 도장체.
- 청구항 1~9 중 어느 한 항에 있어서, 외장재로서 사용되는 것을 특징으로 하는 광촉매 도장체.
- 광촉매 코팅액의 건조물 질량을 100질량%로 했을 때,
용매와,
1질량%를 넘고 3질량% 미만의 광촉매 입자와,
92질량%를 넘고 99질량% 미만의 무기 산화물 입자와,
0질량% 이상 5질량% 미만의 바인더를 함유하여 이루어진 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅액. - 청구항 11에 있어서, 상기 광촉매 코팅액의 건조물 질량을 100질량%로 했을 때, 상기 광촉매 입자를 1.1질량% 이상 2.9질량% 이하, 상기 무기 산화물 입자를 92.1질량% 이상 98.9질량% 이하로 하여 이루어진 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅액.
- 청구항 11 또는 12에 있어서, 기재에 도장하여 사용되는 광촉매 코팅액으로서, 상기 기재의 표면이 유기 물질을 포함하는 수지를 함유하고, 그 표면에 상기 광촉매 코팅액을 도장하여 형성된 광촉매층이 설치되는 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅액.
- 청구항 13에 있어서, 상기 수지가 비실리콘계 수지인 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅액.
- 청구항 11~14 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광촉매 입자가 산화 티탄 입자인 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅액.
- 청구항 11~14 중 어느 한 항에 있어서, 상기 바인더가, 가수분해성 실리콘, 무정형의 무기 산화물의 전구체, 수지 바인더 및 알칼리 실리케이트로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅액.
- 청구항 11~16 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기 산화물 입자가 실리카 입자인 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅액.
- 청구항 11~17 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광촉매 입자가, 주사 전자 현미경에 의해 20만배의 시야에 들어오는 임의의 100개의 입자의 길이를 측정함으로써 산출되는 10nm 이상 100nm 이하의 개수 평균 입경을 갖는 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅액.
- 청구항 11~18 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기 산화물 입자가, 주사 전자 현미경에 의해 20만배의 시야에 들어오는 임의의 100개의 입자의 길이를 측정함으로써 산출되는 5nm를 넘고 100nm 이하의 개수 평균 입경을 갖는 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅액.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009228171A JP2012250134A (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 |
JPJP-P-2009-228171 | 2009-09-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120081984A true KR20120081984A (ko) | 2012-07-20 |
Family
ID=43826222
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127007344A KR20120081984A (ko) | 2009-09-30 | 2010-09-28 | 광촉매 도장체 및 그를 위한 광촉매 코팅액 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2484445A4 (ko) |
JP (1) | JP2012250134A (ko) |
KR (1) | KR20120081984A (ko) |
CN (1) | CN102574119A (ko) |
TW (1) | TW201119740A (ko) |
WO (1) | WO2011040406A1 (ko) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013198826A (ja) * | 2010-07-23 | 2013-10-03 | Toto Ltd | 光触媒層を備えてなる複合材の使用 |
CN105451882B (zh) * | 2013-03-12 | 2018-03-20 | 株式会社东芝 | 光催化剂及使用其的光催化剂分散液、光催化剂涂料、光催化剂膜和制品 |
WO2015064773A1 (en) * | 2013-11-04 | 2015-05-07 | Nitto Denko Corporation | Photocatalytic coating and method of making same |
CN106660344B (zh) * | 2014-09-22 | 2019-12-06 | 富士胶片株式会社 | 抗菌片、抗菌涂层、层叠体及抗菌液 |
WO2019065504A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | 株式会社フルヤ金属 | 分解材及びそれを用いた分解方法 |
JP7115900B2 (ja) * | 2018-04-26 | 2022-08-09 | シャープ株式会社 | 光触媒層、光触媒体、及び光触媒体の製造方法 |
JP7101570B2 (ja) * | 2018-08-31 | 2022-07-15 | シャープ株式会社 | 光触媒塗料、光触媒塗料の製造方法、及び光触媒体の製造方法 |
JP7096743B2 (ja) * | 2018-09-13 | 2022-07-06 | 株式会社東芝 | 光触媒複合材料、光触媒複合材料の製造方法および光触媒装置 |
CN112007698A (zh) * | 2019-05-28 | 2020-12-01 | 夏普株式会社 | 组成物、涂覆方法和多层结构体 |
CN111826002A (zh) * | 2019-09-23 | 2020-10-27 | 法国圣戈班玻璃公司 | 一种涂料分散液,其制备方法及应用 |
WO2023038681A1 (en) * | 2021-09-09 | 2023-03-16 | Pioneer Astronautics | Dust repellent silica and titania coatings |
CN114832803A (zh) * | 2022-04-08 | 2022-08-02 | 重庆城市综合交通枢纽(集团)有限公司 | 成膜组合物及其制备方法和复合光催化剂的用途 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6228480B1 (en) | 1995-06-19 | 2001-05-08 | Nippon Soda Co., Ltd. | Photocatalyst-carrying structure and photocatalyst coating material |
DE69735268T2 (de) | 1996-07-19 | 2006-10-12 | Toto Ltd., Kita-Kyushu | Photocatalytische und hydrophile beschichtungszusammnensetzung |
JP4112661B2 (ja) | 1997-12-11 | 2008-07-02 | 住友化学株式会社 | 光触媒体及びその用途 |
JP3717868B2 (ja) | 2001-08-30 | 2005-11-16 | 東陶機器株式会社 | 光触媒性コーティング剤及び光触媒性複合材並びにその製造方法 |
JP4092714B1 (ja) * | 2007-03-26 | 2008-05-28 | Toto株式会社 | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 |
JP4092434B1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-05-28 | Toto株式会社 | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 |
CN102105303B (zh) * | 2008-05-27 | 2014-07-09 | Toto株式会社 | 光催化剂涂装体 |
JP2012250133A (ja) * | 2009-09-30 | 2012-12-20 | Toto Ltd | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 |
-
2009
- 2009-09-30 JP JP2009228171A patent/JP2012250134A/ja active Pending
-
2010
- 2010-09-28 WO PCT/JP2010/066837 patent/WO2011040406A1/ja active Application Filing
- 2010-09-28 EP EP10820521.2A patent/EP2484445A4/en not_active Withdrawn
- 2010-09-28 CN CN2010800432077A patent/CN102574119A/zh active Pending
- 2010-09-28 KR KR1020127007344A patent/KR20120081984A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-09-30 TW TW099133305A patent/TW201119740A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2484445A4 (en) | 2013-05-22 |
WO2011040406A1 (ja) | 2011-04-07 |
TW201119740A (en) | 2011-06-16 |
JP2012250134A (ja) | 2012-12-20 |
EP2484445A1 (en) | 2012-08-08 |
CN102574119A (zh) | 2012-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20120081984A (ko) | 광촉매 도장체 및 그를 위한 광촉매 코팅액 | |
KR20120081985A (ko) | 광촉매 도장체 및 그를 위한 광촉매 코팅액 | |
JP4092714B1 (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
JP5835219B2 (ja) | 光触媒塗装体および光触媒コーティング液 | |
WO2009145209A1 (ja) | 光触媒塗装体 | |
JP2010099647A (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
WO2011118780A1 (ja) | 光触媒塗装体および光触媒コーティング液 | |
JP2010007088A (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
JP5361513B2 (ja) | 光触媒塗装体 | |
JP5305231B2 (ja) | 光触媒塗装体 | |
JP2011072935A (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
JP5614945B2 (ja) | 光触媒塗装体 | |
JP2011079980A (ja) | 外構および外構用コーティング液 | |
WO2012011415A1 (ja) | 光触媒層を備えてなる複合材の使用 | |
JP2011078916A (ja) | 外構および外構用コーティング液 | |
JP2010099645A (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
JP4897781B2 (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
JP2011080272A (ja) | 建築用外装材およびそのための建築外装用コーティング液 | |
JP2010005608A (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
JP2011080271A (ja) | 建築用外装材およびそのための建築外装用コーティング液 | |
JP2009285882A (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
JP2009285535A (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
JP2011078917A (ja) | 建築用外装材および建築外装用コーティング液 | |
JP2011078918A (ja) | 外構および外構用コーティング液 | |
JP2011006957A (ja) | 門扉 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |