KR20120080622A - 도전성 박막 구조체, 및 도전성 박막 구조체의 제조방법 - Google Patents

도전성 박막 구조체, 및 도전성 박막 구조체의 제조방법 Download PDF

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Abstract

종래보다 품질이 양호한 도전성 박막 구조체를 제공한다.
기판(1)과, 기판(1) 상에 형성된 세선(細線)구조(2)와, 세선구조(2)를 피복하도록 기판(1) 상에 형성된 투명전극(3)을 구비한 도전성 박막 구조체(5)에 있어서, 세선구조(2) 및 투명전극(3)은, 그라비어 롤(gravure roll)(21, 31) 및 오프셋 롤(offset roll)(22, 32)을 사용하여 기판(1)에 그라비어 오프셋 인쇄를 실시함으로써 연속적으로 형성된 것이며, 오프셋 롤(22, 23)은 블랭킷(blanket)재(22a, 32a)에 의해 표면이 피복된다.

Description

도전성 박막 구조체, 및 도전성 박막 구조체의 제조방법{ELECTRICALLY CONDUCTIVE THIN FILM STRUCTURE, AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME}
본 발명은, 기판과, 기판 상에 형성된 세선（細線）구조와, 세선구조를 피복하도록 기판 상에 형성된 투명전극을 구비한 도전성 박막 구조체, 및 이 도전성 박막 구조체의 제조방법에 관한 것이다.
근년, 태양전지페널을 이용하여 전력을 보완하는 태양광 발전 시스템이 보급되기 시작하고 있다. 특히 최근의 환경의식의 고조나, 정부에 의한 보조금제도가 추진됨에 따라, 태양광 발전 시스템의 수요는 일반가정용 및 산업용 모두 앞으로 더욱 늘어날 것으로 예상된다.
또 근년, 은행 ATM, 휴대형 정보단말, 카네비게이션 시스템, 복합기 등의 전자기기의 입력장치로서 터치패널이 많이 사용되고 있다. 터치패널은 화면에 표시되는 화상에 따라 조작하는 디바이스로, 노인들에게도 직감적으로 이해하기 쉬운 입력장치로서 보급되고 있다. 터치패널의 수요 또한 앞으로 더욱 늘어날 것으로 예상된다. 터치패널은 액정패널, 유기EL패널 등의 표시 디바이스와 조합되어 사용된다.
그런데, 태양전지패널에서는, 전자를 발생시키는 반도체기판에 태양광을 효율적으로 비추기 위하여 투명전극이 사용되고 있다. 이 투명전극에는 예를 들어 주석을 도핑한 산화인듐막(ITO) 등이 사용된다. 터치패널, 액정패널, 유기EL패널 등(이하, 터치패널 등으로 생략하는 경우가 있다.)에서도 디스플레이의 화상을 조작자에게 표시하기 위하여 태양전지와 마찬가지로 투명전극이 사용되고 있다. 따라서 태양전지패널 및 터치패널 등에서는, 투명전극의 투명도(광투과율)를 가능한 한 크게 하는 것이 요구되고 있다. 그 한편, 태양전지패널 및 터치패널 등에서 충분히 낮은 저항값을 실현하고자 하면 투명전극의 막 두께를 크게 해야 한다. 그리 하면 광투과율의 감소나 원료비용의 증대를 초래하게 된다. 이에 따라, 태양전지패널이나 터치패널 등에 사용되는 투명전극에는, 높은 광투과성과 낮은 저항값을 양립시키는 기술이 불가결해 진다.
이 점에 관하여, 종래기술로서, 기판 상에 투명 도전성 박막을 형성할 시에 양자 사이에 저항값이 낮은 보조전극을 형성한 것이 있었다(예를 들어 특허문헌 1을 참조).
특허문헌 1의 태양전지용 전극에서는, 태양전지용 전극 전체로서의 저항값을 저감시키기 위하여 기판 상에 보조전극을 스퍼터링(sputtering)법으로 형성한다. 여기서 보조전극은, 후공정에서 형성하는 투명 도전성 박막의 투명성을 손상시키지 않도록 메쉬(mesh)형상으로 형성된다. 또 후공정에서 형성되는 투명 도전성 박막에 대해서도 보조전극과 마찬가지로 스퍼터링법이 실행된다.
일본국 특허 공개 2004-296669호 공보
그런데 특허문헌1과 같이 스퍼터링법을 이용하여 메쉬형상 보조전극을 형성할 경우, 기판에 대하여, 미리 메쉬형상에 맞춘 마스크처리를 실시하거나, 스퍼터링 처리 후에 메쉬형상에 맞추어 에칭처리를 실시하거나 할 필요가 있다. 따라서 태양전지용 전극을 효율적으로 제조하는 것은 어렵다. 또 특허문헌1과 같이 스퍼터링법으로 기판 상에 보조전극 및 투명 도전성 박막을 형성할 경우, 기판과 보조전극 및 투명 도전성 박막과의 위치조정 정밀도를 높이기 위해서는 마스크처리 및 에칭처리를 정밀하게 할 필요가 있어, 숙련을 필요로 한다.
또 스퍼터링법은, 감압 하에서, 타겟 전극재료에 아르곤 이온을 충돌시켜, 그 충격으로 인해 튀어나온 전극재료를 기판에 부착시켜 성막시키는 것인데, 이와 같은 과혹한 환경 하에서는 적용 가능한 기판의 종류가 한정된다. 그리고 스퍼터링법을 실시하기 위해서는 아르곤가스 공급원, 고압전원, 진공챔버, 진공펌프 등의 커다란 장치가 필요하게 된다. 따라서 설비비용 및 보수비용의 부담이 크다.
이와 같이, 현재, 기판과 보조전극 및 투명 도전성 박막과의 위치조정 정밀도를 양호하게 유지하면서, 효율적이면서도 저 비용으로 제조할 수 있는 도전성 박막 구조체는 아직 개발되고 있지 않는 상황이다. 본 발명은, 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 종래보다 품질이 양호한 도전성 박막 구조체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또 본 발명은, 종래보다 효율적이면서도 저 비용으로 실시 가능한 도전성 박막 구조체의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명에 관한 도전성 박막 구조체의 특징 구성은, 기판과, 상기 기판 상에 형성된 세선구조와, 상기 세선구조를 피복하도록 상기 기판 상에 형성된 투명전극을 구비한 도전성 박막 구조체로서, 상기 세선구조 및 상기 투명전극이, 그라비어 롤(gravure roll) 및 오프셋 롤(offset roll)을 사용하여 상기 기판에 그라비어 오프셋 인쇄를 실시함으로써 연속적으로 형성된 것이며, 상기 오프셋 롤이 블랭킷(blanket)재에 의해 표면이 피복되는 데에 있다.
배경기술의 항목에서 설명한 바와 같이, 종래의 도전성 박막 구조체는 스퍼터링법으로 제조되는 것이므로, 효율적인 제조가 어려움과 동시에, 기판과 세선구조(보조전극) 및 투명전극(투명 도전성 박막)과의 위치조정 정밀도를 높이기가 어려웠다. 또 기판의 종류가 한정됨과 동시에 커다란 설비를 필요로 하므로, 비용 증대의 원인이 되어 있었다.
이에 반해, 본 구성의 도전성 박막 구조체에서는 그라비어 롤 및 블랭킷재에 의해 표면이 피복된 오프셋 롤을 사용하여 그라비어 오프셋 인쇄가 실행되고, 기판 상에 세선구조와 이 세선구조를 피복하는 투명전극이 연속적으로 형성된다. 이 그라비어 오프셋 인쇄는 그라비어 롤 및 오프셋 롤의 회전에 의해 고속으로 실시할 수 있으므로, 효율적으로 기판 상에 세선구조와 투명전극을 형성할 수 있다. 또 그라비어 롤 및 오프셋 롤은 기계적인 조정이 용이함과 동시에 정밀하게 회전시킬 수 있으므로, 기판과 세선구조 및 투명전극과의 위치조정 정밀도를 양호한 것으로 할 수 있다.
또 본 구성에서는 종래의 스퍼터링법과 같은 고가의 커다란 설비도 필요 없으므로, 적용 가능한 기판의 종류가 광범위하며, 도전성 박막 구조체의 제조비용을 저감할 수 있다. 또 종래의 스퍼터링법에 비해, 사용할 에너지의 양도 저감시킬 수 있어, 세정수가 필요 없다는 이점도 있다.
본 발명에 관한 도전성 박막 구조체에 있어서, 상기 세선구조는 10㎛ 이하의 선폭을 가지며, 상기 블랭킷재는 두께 3㎜ 이상, 고무 쇼어경도(shore hardness) 20 이하로 설정되는 것이 바람직하다.
본 구성의 도전성 박막 구조체라면, 오프셋 롤의 표면을 피복하는 블랭킷재를 두께 3㎜ 이상, 고무 쇼어경도 20 이하로 설정함으로써, 10㎛ 이하의 선폭을 가진 미세한 세선구조를 효율적이면서도 확실하게 형성할 수 있다.
본 발명에 관한 도전성 박막 구조체는, 태양전지패널, 터치패널, 액정패널, 또는 유기EL패널의 부품으로서 사용되는 것이 바람직하다.
본 구성의 도전성 박막 구조체라면, 높은 광투과율과 낮은 저항값을 양립 시키는 고품질의 도전성 박막 구조체를 효율적이면서도 저 비용으로 제공할 수 있으므로, 앞으로 더욱 수요가 늘어날 것으로 예상되는 태양전지패널, 터치패널, 액정패널, 또는 유기EL패널의 부품으로서 적합하게 사용할 수 있다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명에 관한 도전성 박막 구조체의 제조방법의 특징 구성은, 기판 상에 세선구조를 형성하는 세선구조 형성공정과, 상기 세선구조를 형성한 기판 상에 상기 세선구조를 피복하는 투명전극을 형성하는 투명전극 형성공정을 포함하는 도전성 박막 구조체의 제조방법에 있어서, 상기 세선구조 및 상기 투명전극이, 그라비어 롤 및 오프셋 롤을 사용하여 상기 기판에 그라비어 오프셋 인쇄를 실시함으로써 연속적으로 형성되며, 상기 오프셋 롤이, 블랭킷재에 의해 표면이 피복되는 데에 있다.
본 구성의 도전성 박막 구조체의 제조방법은, 전술한 도전성 박막 구조체와 실질적으로 동일한 작용효과를 발휘한다. 즉, 본 구성의 도전성 박막 구조체의 제조방법은, 그라비어 롤 및 블랭킷재에 의해 표면이 피복된 오프셋 롤을 사용하여 그라비어 오프셋 인쇄가 실시되고, 기판 상에 세선구조와 이 세선구조를 피복하는 투명전극이 연속적으로 형성된다. 이 그라비어 오프셋 인쇄는 그라비어 롤 및 오프셋 롤의 회전에 의해 고속으로 실시할 수 있으므로, 효율적으로 기판 상에 세선구조와 투명전극을 형성할 수 있다. 또 그라비어 롤 및 오프셋 롤은 기계적인 조정이 용이함과 동시에 정밀하게 회전시킬 수 있으므로, 기판과 세선구조 및 투명전극과의 위치조정 정밀도를 양호한 것으로 할 수 있다.
또 본 구성에서는 종래의 스퍼터링법과 같은 고가의 커다란 설비가 필요 없으므로, 적용 가능한 기판의 종류가 광범위하며, 도전성 박막 구조체의 제조비용을 저감할 수 있다. 또 종래의 스퍼터링법에 비해, 사용할 에너지의 양을 저감시킬 수 있어, 세정수가 필요 없다는 이점도 있다.
본 발명에 관한 도전성 박막 구조체의 제조방법에 있어서, 상기 세선구조는 10㎛ 이하의 선폭을 가지며, 상기 블랭킷재는 두께 3㎜ 이상, 고무 쇼어경도 20 이하로 설정되는 것이 바람직하다.
본 구성의 도전성 박막 구조체의 제조방법은, 전술한 도전성 박막 구조체와 실질적으로 동일한 작용효과를 발휘한다. 즉, 본 구성의 도전성 박막 구조체의 제조방법은, 오프셋 롤의 표면을 피복하는 블랭킷재를 두께 3㎜ 이상, 고무 쇼어경도 20 이하로 설정함으로써, 10㎛ 이하의 선폭을 가진 미세한 세선구조를 효율적이면서도 확실하게 형성할 수 있다.
도 1은 본 발명의 도전성 박막 구조체의 제조방법을 실시하기 위한 도전성 박막 구조체의 제조장치의 모식도.
도 2는 본 발명의 도전성 박막 구조체의 구조를 예시한 사시도이다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명한다. 먼저 본 발명의 도전성 박막 구조체의 제조방법에 대하여 도 1을 참조하면서 설명하고, 다음에 본 발명의 도전성 박막 구조체에 대하여 도 2를 참조하면서 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 설명하는 실시형태나 도면에 기재되는 구성에 한정되는 것을 의도하는 것은 아니며, 이들과 균등한 구성도 포함한다.
[도전성 박막 구조체의 제조방법]
도 1은 본 발명의 도전성 박막 구조체의 제조방법을 실시하기 위한 도전성 박막 구조체의 제조장치(100)의 모식도이다. 도전성 박막 구조체의 제조장치(100)는 벨트컨베이어 유닛(10), 세선구조 형성유닛(20), 및 투명전극 형성유닛(30)을 구비한다.
벨트컨베이어 유닛(10)은 모터에 의해 구동되는 구동롤러(11), 구동롤러(11)와 세트로 배치된 종동(從動)롤러(12), 및 구동롤러(11)와 종동롤러(12)를 연결하는 벨트(13)를 구비한다. 도1에서, 구동롤러(11) 및 종동롤러(12)는 시계방향으로 회전한다. 따라서 벨트(13) 위에 탑재된 기판(1)은, 도시(圖示)에 있어서는 왼쪽에서 오른쪽 방향으로 이동한다.
세선구조 형성유닛(20)은, 주된 구성요소로서 그라비어 롤(gravure roll) (21) 및 오프셋 롤(offset roll)(22)을 구비한다. 그라비어 롤(21)은 금속제의 원통체이며, 이 원통체 표면에, 세선구조의 형(型)이 되는 요판(凹版)(21a)이 형성된다. 그리고 이 요판(21a)에, 원료 공급원(도시 생략)으로부터 공급된 세선구조의 재료가 되는 도전성 페이스트가 충전된다. 요판(21a)에서 노출(overflow)된 여분의 도전성 페이스트는 블레이드(21b)에 의해 제거된다.
오프셋 롤(22)은, 그라비어 롤(21)과 마찬가지로 금속제의 원통체로 구성되며, 그 표면이 블랭킷(blanket)재(22a)에 의해 피복된다. 오프셋 롤(22)의 블랭킷재(22a)는 그라비어 롤(21)과 접해 있다. 이로써, 그라비어 롤(21)의 요판(21a)에 충전된 도전성 페이스트는 오프셋 롤(22)의 블랭킷재(22a) 표면에 전사된다. 그리고 전사된 도전성 페이스트는 벨트컨베이어 유닛(10)에 의해 운반되어 오는 기판(1)의 표면에 인쇄된다. 인쇄 시, 기판(1)은 오프셋 롤(22)과 압착 롤(23) 사이에서 압착된다. 특히, 기판(1)이 경질(硬質) 기판일 경우, 이 압착공정을 실시함으로써, 기판(1)의 표면에 확실하게 오프셋 인쇄를 실시할 수 있다. 이와 같이 하여 본 발명의 "세선구조 형성공정"이 실행된다. 기판(1)에 도전성 페이스트를 인쇄한 후, 오프셋 롤(22)은 금속제의 롤러 실린더(24)와 압접되고, 블랭킷재(22a)의 표면에 잔류한 도전성 페이스트가 정밀하게 제거된다.
투명전극 형성유닛(30)은 세선구조 형성유닛(20)과 실질적으로 동일 구조를 갖는다. 즉, 투명전극 형성유닛(30)은 주된 구성요소로서, 표면에 요판(31a)을 갖는 금속제의 원통체로 구성된 그라비어 롤(31), 및 금속제의 원통체로 구성되며, 그 표면이 블랭킷재(32a)에 의해 피복되는 오프셋 롤(32)을 구비한다. 먼저 원료 공급원(도시 생략)으로부터 공급되는 투명전극 재료(예를 들어 주석이 도핑된 산화인듐)가 그라비어 롤(32) 표면의 요판(31a)에 충전된다. 요판(31a)에 충전된 투명전극 재료는, 오프셋 롤(32)의 블랭킷재(32a) 표면에 전사된다. 그리고 전사된 투명전극 재료는, 벨트컨베이어 유닛(10)에 의해 운반되어 오는 기판(1)의 표면에 인쇄된다. 여기서, 기판(1)에는 세선구조 형성유닛(20)에 의해 이미 세선구조(2)가 인쇄되어 있다. 따라서 투명전극 재료의 인쇄는 세선구조(2) 상에서부터 실시된다. 인쇄 시, 기판(1)은 오프셋 롤(32)과 압착 롤(33) 사이에서 압착된다. 이로써, 세선구조(2)와 이를 피복하는 투명전극(3)이 기판(1) 상에 형성된다. 이와 같이 하여 본 발명의 "투명전극 형성공정"이 실행된다. 투명전극 형성공정 후에는 필요에 따라 건조공정이나 가열공정을 실시할 수 있다. 또 기판(1)에 투명전극 재료를 인쇄한 후, 오프셋 롤(32)은 금속제의 롤러 실린더(34)와 압접되고, 블랭킷재(32a)의 표면에 잔류하는 투명전극 재료가 정밀하게 제거된다.
본 발명의 제조장치(100)에 의하면, 그라비어 롤(21 및 31) 그리고 오프셋 롤(22 및 32)을 사용하여 기판(1)에 그라비어 오프셋 인쇄를 실시함으로써, 이 기판(1) 상에 세선구조(2) 및 투명전극(3)을 연속적으로 형성할 수 있다. 이 그라비어 오프셋 인쇄에 있어서는, 그라비어 롤(21 및 31) 그리고 오프셋 롤(22 및 32)을 고속으로 회전시킴으로써, 효율적으로 기판(1) 상에 세선구조(2)와 투명전극(3)을 형성할 수 있다. 또 그라비어 롤(21 및 31) 그리고 오프셋 롤(22 및 32)은 기계적인 조정이 용이함과 동시에 정밀하게 회전시킬 수 있으므로, 기판(1)과 세선구조(2) 및 투명전극(3)과의 위치조정 정밀도를 양호하게 할 수 있다. 예를 들어 세선구조(2)의 선폭이 10㎛ 이하인 미세배선이어도, 이 미세배선에 대하여 투명전극(3)을 적절한 위치에 인쇄하는 것이 가능해진다. 또 본 발명의 그라비어 오프셋 인쇄를 이용하는 방법에서는, 종래의 스퍼터링법과 같은 고가의 커다란 설비도 필요 없으므로, 적용 가능한 기판의 종류가 광범위하며, 태양전지패널, 터치패널, 액정패널, 또는 유기EL 패널 등의 부품으로서 적합하게 사용되는 도전성 박막 구조체의 제조비용을 저감할 수 있다. 또한 종래의 스퍼터링법에 비해, 사용할 에너지의 양을 저감할 수 있어, 세정수가 필요 없다는 이점도 있다.
도전성 박막 구조체를 제조하는데 있어서, 세선구조 형성유닛(20) 중, 오프셋 롤(22)의 표면을 피복하는 블랭킷재(22a)를 두께 3㎜ 이상, 고무 쇼어경도20 이하로 설정하는 것이 바람직하다. 이로써, 세선구조(2)의 선폭을 10㎛ 이하로까지 미세화하면서, 안정적으로 인쇄를 계속할 수 있다. 블랭킷재(22a)의 두께가 3㎜ 이하가 되면, 블랭킷재(22a)로 도전성 페이스트가 스며들어 조기에 포화점에 도달하기 쉬워지고, 오프셋 롤(22)의 보수작업 빈도가 늘어나, 도전성 박막 구조체의 생산효율이 저하될 우려가 있다. 블랭킷재(22a) 두께의 상한값은, 본 발명의 경우 30㎜ 이하인 것이 바람직하다. 블랭킷재의 두께가 30㎜를 초과하면 중량 증가로 인한 블랭킷재의 변형이 발생되어, 인쇄 시의 위치조정 정밀도가 저하될 우려가 있다. 고무 쇼어경도의 하한값은 2이다. 고무 쇼어경도가 2를 밑돌면 블랭킷재가 겔(gel) 상태로 되고, 그 결과 오프셋 롤(22)의 롤 형상이 변형되어 버릴 우려가 있다. 본 발명의 범위 내이면, 고품질의 세선구조(2)를 효율적이면서도 확실하게 형성할 수 있다.
투명전극 형성유닛(30) 중, 오프셋 롤(32)의 표면을 피복하는 블랭킷재(32a)에 대해서도, 세선구조 형성유닛(20)의 블랭킷재(22a)와 동일 조건으로 설정하는 것이 바람직하다. 이로써, 투명전극(3)의 두께를 가능한 한 얇게 하면서 세선구조(2)를 확실하게 피복할 수 있다. 그 결과, 고품질의 투명전극(3)을 효율적이면서도 확실하게 형성할 수 있다.
블랭킷재(22a 및 32a)에 사용 가능한 재료로는, 예를 들어 실리코온계 수지, 불소계 수지, 우레탄계 수지, 합성고무, 천연고무 등의 탄성재료를 채용할 수 있다. 특히 실리코온계 수지는 내구성, 내유(油)성이 높고, 또 충분한 탄성과 함께 적절한 경도(stiffness)를 가지므로, 특히 경질 기판에 대하여 그라비어 오프셋 인쇄를 실시하는 데에 적합하다. 본 실시형태에서 사용하는 블랭킷재는, 와커-케미(WACKER-Chemie)사제의 2액부가반응경화형 액상 실리코온고무 "에라스트질(Elastosil)(등록상표)"이다.
[도전성 박막 구조체]
도 2는 본 발명의 도전성 박막 구조체(5)의 구조를 예시하는 사시도이다. 도전성 박막 구조체(5)는 상기의 도전성 박막 구조체(5)의 제조방법에 의해 제조된다. 도전성 박막 구조체(5)는 기판(1), 이 기판(1) 상에 형성된 세선구조(2), 이 세선구조(2)를 피복하도록 기판(1) 상에 형성된 투명전극(3)을 구비한다. 기판(1)은 경질 기판(예를 들어 금속, 유리, 경질 수지 등)이어도 되며, 연질(軟質) 기판(예를 들어 금속, 유리, 연질 수지 등)이어도 된다.
세선구조(2) 및 투명전극(3)은, 전술한 그라비어 롤(21 및 31) 그리고 오프셋 롤(22 및 32)을 사용하여 기판(1)에 그라비어 오프셋 인쇄를 실시함으로써 연속적으로 형성된 것이다. 여기서 오프셋 롤(22 및 32)은 각각 블랭킷재(22a 및 32a)에 의해 표면이 피복된다. 블랭킷재(22a 및 32a)는 두께 3㎜ 이상, 고무 쇼어경도 20 이하로 설정되는 것이 바람직하다. 이로써, 세선구조(2)의 선폭을 10㎛ 이하로까지 미세화하는 것이 용이해진다. 또 이와 같은 미세한 세선구조(2)를 효율적이면서도 확실하게 형성할 수 있음과 동시에, 세선구조(2) 상에 투명전극(30)을 높은 위치조정 정밀도로 효율적이면서도 확실하게 형성할 수 있다. 또한 본 발명의 도전성 박막 구조체(5)는 높은 광투과율과 낮은 저항값을 양립 시키는 고품질의 도전성 박막 구조체이며, 특히 태양전지패널, 터치패널, 액정패널, 또는 유기EL패널 등의 부품으로서 적합하게 사용할 수 있다.
[다른 실시형태]
<1>상기 실시형태에서는, 기판(1) 상에 세선구조(2) 및 투명전극(3)을 형성하는 2층구조의 도전성 박막 구조체(5)에 대하여 설명하였다. 그러나 본 발명의 기술사상을 이용하면, 예를 들어 세선구조 상에 복수의 투명전극층을 적층하는 등 3층구조 이상의 도전성 박막 구조체를 제조하는 것도 가능하다. 이 경우, 도전성 박막 구조체의 제조장치에 있어서 그라비어 롤 및 오프셋 롤로 구성된 그라비어 오프셋 인쇄유닛을 적층 수에 따라 추가시키면 된다.
<2>상기 실시형태에서는, 세선구조(2) 및 투명전극(3)의 쌍방을 그라비어 오프셋 인쇄에 의해 형성하였다. 그러나 기판(1)에 대한 세선구조(2)의 위치조정 정밀도만이 요구될 경우에는 세선구조(2)를 그라비어 오프셋 인쇄로 형성하고, 투명전극(3)에 대해서는 다른 방법으로 형성하는 것도 가능하다.
1 : 기판 2 : 세선구조
3 : 투명전극 5 : 도전성 박막 구조체
21 : 세선구조 인쇄용 그라비어 롤 22 : 세선구조 인쇄용 오프셋 롤
22a : 세선구조 인쇄용 블랭킷재 31 : 투명전극 인쇄용 그라비어 롤
32 : 투명전극 인쇄용 오프셋 롤 32a : 투명전극 인쇄용 블랭킷재
100 : 도전성 박막 구조체의 제조장치

Claims (5)

  1. 기판과,
    상기 기판 상에 형성된 세선(細線)구조와,
    상기 세선구조를 피복하도록 상기 기판 상에 형성된 투명전극을 구비한 도전성 박막 구조체에 있어서,
    상기 세선구조 및 상기 투명전극은, 그라비어 롤(gravure roll) 및 오프셋 롤(offset roll)을 사용하여 상기 기판에 그라비어 오프셋 인쇄를 실시함으로써 연속적으로 형성된 것이며, 상기 오프셋 롤은 블랭킷(blanket)재에 의해 표면이 피복되는 도전성 박막 구조체.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 세선구조는 10㎛ 이하의 선폭을 가지며, 상기 블랭킷재는 두께 3㎜ 이상, 고무 쇼어경도(shore hardness) 20 이하로 설정되는 도전성 박막 구조체.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    태양전지패널, 터치패널, 액정패널, 또는 유기EL 패널의 부품으로서 사용되는 도전성 박막 구조체.
  4. 기판 상에 세선구조를 형성하는 세선구조 형성공정과,
    상기 세선구조를 형성한 기판 상에 상기 세선구조를 피복하는 투명전극을 형성하는 투명전극 형성공정을 포함하는 도전성 박막 구조체의 제조방법에 있어서,
    상기 세선구조 및 상기 투명전극은, 그라비어 롤 및 오프셋 롤을 사용하여 상기 기판에 그라비어 오프셋 인쇄를 실시함으로써 연속적으로 형성되며, 상기 오프셋 롤은 블랭킷재에 의해 표면이 피복되는 도전성 박막 구조체의 제조방법.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 세선구조는 10㎛ 이하의 선폭을 가지며, 상기 블랭킷재는 두께 3㎜ 이상, 고무 쇼어경도 20 이하로 설정되는 도전성 박막 구조체의 제조방법.
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