KR20120071794A - High definition printing plate of liquid crystal display and method for manufacture using the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A cliche printing plate for a liquid crystal display plate and a manufacturing method thereof are provided to drastically increase pattern resolution and transfer features. CONSTITUTION: An adhesion layer(320) is formed on an insulating substrate(310). A reflecting layer(330) is formed on the adhesion layer. A photoresist film or a photosensitive film are formed on the reflecting layer. A pattern layer(341) is formed on the reflecting layer. The reflecting layer is formed by a sputtering process or an evaporator.

Description

액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법{High Definition Printing Plate of Liquid Crystal Display and Method for Manufacture using the same}High definition printing plate of liquid crystal display and method for manufacturing using the same}

본 발명은 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 미세패턴을 구현하고 그에 따라 패턴 해상도 및 전사 특성을 향상시키고 인쇄판의 제조 비용 및 인쇄판의 신뢰성과 수율을 향상시키기 위한 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a high-definition printing plate for a liquid crystal display and a manufacturing method thereof, and more particularly, to implement a fine pattern, thereby improving the pattern resolution and transfer characteristics, and to improve the manufacturing cost of the printing plate and the reliability and yield of the printing plate. A high-definition printing plate for a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

액정표시소자(Liquid Crystal Display Device)와 같은 평판표시소자에서는 각각의 화소에 박막트랜지스터와 같은 소자가 구비되어 평판표시소자를 구동하게 된다. 그런데, 액정표시소자와 같은 평판표시소자에 있어서 포토레지스트(photoresist, PR) 패턴 형성 공정은 제조된 소자의 성능에 크게 영향을 미치는 중요한 공정이다. 이에 따라 최근에는 소자의 성능을 향상시킬 수 있는 연구가 진행되고 있는데, 특히 미세금속패턴을 형성하여 소자의 성능을 향상시키고자 하는 다양한 시도가 전개되고 있다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래의 액정표시장치용 인쇄판의 제조 방법에 대해 설명한다.In a flat panel display device such as a liquid crystal display device, a device such as a thin film transistor is provided in each pixel to drive the flat panel display device. However, in a flat panel display device such as a liquid crystal display device, a photoresist (PR) pattern forming process is an important process that greatly affects the performance of the manufactured device. Accordingly, researches to improve the performance of devices have been recently conducted. In particular, various attempts have been made to improve the performance of devices by forming fine metal patterns. Hereinafter, a manufacturing method of a conventional printing plate for a liquid crystal display device will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 레지스트 프린팅 방법을 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining a conventional resist printing method.

종래의 레지스트 프린팅 방법은 도 1에 도시된 것처럼, 인쇄 패턴(P1)이 형성되어 인쇄판(cliche)으로 쓰이는 제 1 투명 절연 기판(110)에서 직접 피 인쇄물인 제 2 투명 절연 기판(120) 상에 포토 레지스트 패턴(P2)을 전사하지 않고, 표면이 실리콘 고무 등으로 이루어져 매개물의 역할을 하는 블랭킷(100)에 일단 포토 레지스트 패턴(P2)을 전이시킨 다음, 제 2 투명 절연 기판(120)을 피 전사체로 하여 다시 포토 레지스트 패턴(P2)을 전사시키는 것이다.In the conventional resist printing method, as shown in FIG. 1, a printing pattern P1 is formed on a second transparent insulating substrate 120 which is a substrate to be directly printed on the first transparent insulating substrate 110 used as a printing plate. Instead of transferring the photoresist pattern P2, the photoresist pattern P2 is once transferred to the blanket 100 serving as a medium having a surface made of silicon rubber or the like, and then the second transparent insulating substrate 120 is avoided. The photoresist pattern P2 is transferred again as a transfer body.

도 2 내지 도 7은 도 1의 인쇄판을 제조하는 방법을 단계별로 나타낸 공정 단면도로서, 제 1 투명 절연 기판(110) 상에 금속 막(111)을 증착하는 단계와, 금속 막(111)을 패터닝하기 위하여 포토 레지스트(112)를 도포하는 단계와, 습식 식각을 통하여 금속 막(111)을 식각하는 단계와, 포토 레지스트(112)를 제거(Strip)하는 단계와, 제 1 투명 절연 기판(110)을 식각하여 인쇄 패턴(P1)을 형성하는 단계와, 금속막(111)을 식각하여 제거하는 단계를 각각 도시하고 있다.2 to 7 are process cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the printing plate of FIG. 1, in which a metal film 111 is deposited on a first transparent insulating substrate 110, and the metal film 111 is patterned. Applying photoresist 112, etching the metal film 111 through wet etching, stripping the photoresist 112, and first transparent insulating substrate 110. Etching to form the print pattern (P1), and etching and removing the metal film 111, respectively.

상기 금속 막(111)은 도 6의 단계에서, 제 1 투명 절연 기판(110)을 식각할 때 마스크로 사용되므로, 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo) 등 제 1 투명 절연 기판(110)을 습식 식각할 때 사용되는 식각액(Etchant)에 대한 내성이 있는 물질을 사용한다.Since the metal film 111 is used as a mask when etching the first transparent insulating substrate 110 in the step of FIG. 6, the metal film 111 wets the first transparent insulating substrate 110 such as chromium (Cr) and molybdenum (Mo). Use materials that are resistant to etchant used for etching.

건식 식각은 혼합 화학 가스나 아르곤 가스 등을 이용하여 플라즈마 상태에서 이온의 가속력과 화학 작용으로 식각을 하게 되므로 비등방성(Anisotropy) 식각 특성을 갖는 반면에, 습식 식각은 화학 용액에서 식각이 이루어지므로 등방성 식각(isotropic etch) 특성을 갖는다.Dry etching has anisotropy etching characteristics because the etching is performed by the acceleration and chemical action of ions in the plasma state using a mixed chemical gas or argon gas, whereas wet etching is isotropic because etching is performed in a chemical solution. Has an etched (isotropic etch) property.

이와 같이, 습식 식각은 결정면 방향에 상관없이 균일한 식각 특성을 보이는 등방성 식각 특성을 가지므로, 인쇄 패턴(P1)의 형성 시, 일괄적인 습식 식각으로 인하여 최소 선 폭(CD; Critical dimension)의 손실이 크게 발생하여 미세 패턴이 형성된 정밀한 인쇄판을 제작하기가 어렵다.As such, since the wet etching has an isotropic etching characteristic showing uniform etching characteristics regardless of the crystal plane direction, the loss of the minimum line width (CD) due to the collective wet etching during the formation of the printing pattern P1 is achieved. This greatly occurs and it is difficult to produce a precise printing plate having a fine pattern.

상기 제 1 투명 절연 기판(110) 상의 인쇄 패턴(P1)이 d1의 정확한 폭으로 형성되는 것이 이상적이나, 습식 식각을 통하여 인쇄판을 제조하게 되면, d2 만큼의 손실이 양측으로 발생하게 된다. 그 일례로, 습식 식각을 통하여 제조되는 인쇄판은 등방성 식각 특성으로 인하여 식각 깊이가 5㎛인 경우, 이론적으로 양측을 기준으로 10㎛ 이하의 최소 선폭 구현이 불가능하다.Ideally, the printing pattern P1 on the first transparent insulating substrate 110 is formed to have an accurate width of d1. However, when the printing plate is manufactured by wet etching, the loss as much as d2 occurs on both sides. For example, when the printing plate manufactured by wet etching has an etching depth of 5 μm due to an isotropic etching characteristic, it is theoretically impossible to realize a minimum line width of 10 μm or less based on both sides.

즉, 인쇄판에 식각되는 인쇄 패턴(P1)은 폭은 좁고 깊이는 깊을수록, 깊이와 폭의 비가 클수록 인쇄 특성이 우수해지나, 종래의 습식 식각을 이용하는 방법은 깊이를 깊게 식각할수록 폭도 넓어지기 때문에 미세 패턴을 갖는 인쇄판을 제작하기에 불리하여 패턴 해상도 및 전사 특성을 향상시키기 어렵다는 문제점이 있었다. That is, the printing pattern P1 etched on the printing plate has a narrower width, a deeper depth, and a greater ratio of depth and width, thereby improving printing characteristics. However, in the conventional wet etching method, the width becomes wider as the depth is deeper. There is a problem that it is difficult to improve the pattern resolution and transfer characteristics because it is disadvantageous to produce a printing plate having a fine pattern.

이러한 문제를 해결하기 위해 종래에는 다음과 같은 제조 방법이 제안되었다.In order to solve this problem, the following manufacturing method has been proposed.

도 8 내지 도 10은 종래 기술의 다른 실시 형태에 따른 액정표시장치용 인쇄판의 제조 공정 단면도이고, 도 11은 도 8 내지 도 10에 도시된 액정표시장치용 인쇄판의 제조 방법의 공정 흐름도이다.8 to 10 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a printing plate for a liquid crystal display device according to another embodiment of the prior art, and FIG. 11 is a process flowchart of the manufacturing method of the printing plate for a liquid crystal display device shown in FIGS. 8 to 10.

종래 기술에 따른 액정표시장치용 인쇄판의 제조 방법은 도 8 내지 도 11에 도시된 바와 같이, 투명 절연기판(200)의 전면에 건식 식각용 물질 막(210)을 형성하는 단계와, 상기 건식 식각용 물질 막(210)의 상부에 인쇄 패턴에 따라 포토 레지스트(PR)를 도포하는 단계와, 상기 포토 레지스트(PR)를 식각 마스크로 사용하여 상기 인쇄 패턴대로 상기 건식 식각용 물질 막(210)을 건식 식각하는 단계와, 상기 포토 레지스트(PR)를 제거하는 단계와, 상기 투명 절연기판(200) 상에 상기 건식 식각용 물질 막(210)을 형성한 이후에 상기 투명 절연기판(200)의 후면에 지지 막(220)을 형성하는 단계로 이루어져 있다. 여기서, 상기 건식 식각용 물질 막(210)은 비정질 실리콘, 질화 실리콘, 산화 실리콘 중 적어도 어느 하나의 물질로 이루어져 있다.According to the related art, a method of manufacturing a printing plate for a liquid crystal display device may include forming a dry etching material film 210 on a front surface of the transparent insulating substrate 200, as shown in FIGS. 8 to 11. Applying photoresist PR to the upper portion of the solvent material film 210 according to the printing pattern, and using the photoresist PR as an etching mask, applying the dry etching material film 210 to the printing pattern. After etching the dry, removing the photoresist (PR), and forming the dry etching material film 210 on the transparent insulating substrate 200, the back of the transparent insulating substrate 200 Forming a supporting film 220. Here, the dry etching material film 210 is made of at least one material of amorphous silicon, silicon nitride, and silicon oxide.

상기 액정표시장치용 인쇄판의 제조 방법은 레지스트 프린팅 공정에 비해 미세 패턴을 구현하고 그에 따라 패턴 해상도 및 전사 특성을 향상시킬 수 있는 장점이 있지만, 패턴의 전사 특성을 향상시키기 위해 상기 건식 식각용 물질 막(210)을 코팅하는 공정이 추가로 필요한 단점이 있다. 또한, 상기 건식 식각용 물질 막(210) 상에 형성되는 포토 레지스트(PR)가 네가티브(Negative)인 경우 노광 공정에 의해 형성되는 패턴의 너비가 하부보다 상부가 더 크게 형성되기 때문에 미세패턴을 갖는 인쇄판을 제작하기가 불리하여 패턴 해상도 및 전사특성을 향상시키기 어려운 문제가 여전히 존재하고 있다.
The manufacturing method of the printing plate for the liquid crystal display device has an advantage of implementing a fine pattern and thereby improving pattern resolution and transfer characteristics compared to a resist printing process, but in order to improve transfer characteristics of the pattern, the dry etching material film There is a further disadvantage that the process of coating 210 is necessary. In addition, when the photoresist PR formed on the dry etching material film 210 is negative, since the width of the pattern formed by the exposure process is larger than the lower portion, the pattern has a fine pattern. There is still a problem that it is difficult to improve the pattern resolution and transfer characteristics because it is disadvantageous to manufacture a printing plate.

전술한 문제점을 해결하기 위하여 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 레지스트 하부에 반사층을 삽입하여 노광 및 현상에 의해 형성되는 클리쉐(Cliche)의 형상이 하부에서 상부로 갈수록 좁아지도록 형성함으로써, 미세패턴 형성이 가능하고 패턴 해상도와 전사 특성을 크게 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 인쇄판의 신뢰성과 수율을 향상시킬 수 있고 제조 비용을 줄일 수 있는 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.The technical problem to be solved by the present invention is to insert a reflective layer in the lower portion of the resist to form a fine pattern formed by exposure and development so that the narrower from the bottom to the upper, fine pattern formation The present invention provides a high-definition printing plate for a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, which can improve the pattern resolution and transfer characteristics, as well as improve the reliability and yield of the printing plate, and reduce the manufacturing cost.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 레지스트 하부에 형성된 반사층을 이용하여 클리쉐(Cliche) 패턴을 역 사다리꼴 형상으로 형성함으로써, 클리쉐(Cliche) 패턴의 무너짐을 방지할 수 있는 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to form a Cliche pattern in an inverted trapezoidal shape using a reflective layer formed under the resist, so that the Cliche pattern can be prevented from collapsing. A printing plate and its manufacturing method are shown.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 기존에 사용하던 습식 식각 및 건식 식각 공정에 비해 미세패턴의 구현이 쉽고 깊이와 폭의 비율을 높여 패턴의 전사특성을 향상시킬 수 있는 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is a liquid crystal display device that can improve the transfer characteristics of the pattern by increasing the ratio of depth and width, and easy to implement a fine pattern compared to the conventional wet etching and dry etching process The high-definition printing plate and its manufacturing method are presented.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 패턴층 아래에 반사층을 삽입하여 기존의 레지스트 인쇄용 클리쉐(Cliche)에 비해 구조적으로 안정적이며 인쇄시 많은 반복과 양산을 통해서도 불량을 제거할 수 있는 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법을 제시하는 데 있다.
In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to insert a reflective layer under the pattern layer is structurally stable compared to conventional resist printing Cliche (Cliche) and the liquid crystal display that can remove defects through many iterations and mass production during printing The high-definition printing plate for an apparatus, and its manufacturing method are provided.

본 발명의 해결과제는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해되어 질 수 있을 것이다.
The problem of the present invention is not limited to those mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명에 의한 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법은, (a) 절연기재상에 반사층을 형성하는 단계와, (b) 상기 반사층 상에 하부에서 상부로 갈수록 선 폭이 좁아지는 패턴층을 형성하는 단계를 포함하고 있다.As a means for solving the above-described technical problem, the manufacturing method of a high-definition printing plate for a liquid crystal display device according to the present invention comprises the steps of (a) forming a reflective layer on an insulating substrate, and (b) at the bottom on the reflective layer And forming a pattern layer having a narrower line width toward the top.

여기서, 상기 패턴층은 사다리꼴 구조로 형성되는 것이 바람직하다.Here, the pattern layer is preferably formed of a trapezoidal structure.

상기 반사층은 스퍼터링(Sputtering) 공정 또는 이배퍼레이터(Evaporator)를 이용하여 형성할 수 있으며, Cr, Ni, Ti, Al, Ta을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종의 금속에 O, N, Cox, Nox Cr, Cu, Ni, Mo을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종을 이용하여 형성하는 것이 바람직하다.The reflective layer may be formed using a sputtering process or an evaporator, and may be formed of one metal selected from the group including Cr, Ni, Ti, Al, and Ta, O, N, Cox, It is preferable to form using 1 type chosen from the group containing Nox Cr, Cu, Ni, and Mo.

상기 절연기재는 글래스(Glass), 필름(Film), PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin)를 포함한 투과성 재질 중 하나로 형성되는 것이 바람직하다.The insulating substrate is preferably formed of one of a transparent material including glass, film, polycarbonate (PC), and polyethylene terephthalate resin (PET).

상기 고정세 인쇄판의 제조 방법은 상기 절연기재와 상기 반사층 사이에 밀착층을 형성할 수 있으며, 상기 밀착층은 스퍼터링(Sputtering) 공정 또는 이배퍼레이터(Evaporator)를 이용하여 형성할 수 있다. 이때, 상기 밀착층은 상기 절연기재와 상기 반사층의 밀착을 위해, Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함한 합금으로 형성되는 것이 바람직하다.The manufacturing method of the high-definition printing plate may form an adhesion layer between the insulating substrate and the reflective layer, and the adhesion layer may be formed using a sputtering process or an evaporator. In this case, the adhesion layer is at least one selected from the group consisting of Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn for adhesion between the insulating substrate and the reflective layer. It is preferably formed of a metal or an alloy containing these metals.

상기 패턴층은 상기 반사층 상에 감광막을 형성한 후 상기 감광막을 포토 마스크로 노광 및 현상하여 하부에서 상부로 갈수록 선 폭이 좁아지는 패턴을 형성하고 있다.The pattern layer forms a photoresist film on the reflective layer, and then exposes and develops the photoresist film with a photo mask to form a pattern in which the line width becomes narrower from the bottom to the top.

상기 감광막은 포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성되며, 상기 노광 공정 시 사용된 포토 마스크는 패턴이 담긴 필름 또는 글래스(Glass)를 사용할 수 있다. The photoresist layer is formed of a positive or negative photosensitive material, and the photo mask used in the exposure process may use a film or glass containing a pattern.

상기 고정세 인쇄판의 제조 방법은 상기 현상 공정 후 상기 패턴층과 상기 반사층의 표면 밀착력을 높여주기 위해 베이킹(baking)과 같은 후공정을 진행할 수도 있다.The manufacturing method of the high-definition printing plate may be subjected to a post-process such as baking to increase the surface adhesion between the pattern layer and the reflective layer after the developing process.

또한, 전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명에 의한 액정표시장치용 고정세 인쇄판, 절연기재상에 형성된 반사층과, 상기 반사층 상에 형성되며, 하부에서 상부로 갈수록 선 폭이 좁아지는 패턴층을 포함하고 있다.In addition, as a means for solving the above technical problem, a high-definition printing plate for a liquid crystal display device according to the present invention, a reflective layer formed on an insulating substrate, and formed on the reflective layer, the line width becomes narrower from the bottom to the top The pattern layer is included.

여기서, 상기 패턴층은 사다리꼴 구조로 형성된다. 그리고, 상기 밀착층은 상기 절연기재와 상기 반사층의 밀착을 위해, Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함한 합금으로 형성할 수 있다. 상기 반사층은 Cr, Ni, Ti, Al, Ta을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종의 금속에 O, N, Cox, Nox Cr, Cu, Ni, Mo을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종을 사용하여 형성하는 것이 바람직하다.Here, the pattern layer is formed in a trapezoidal structure. The adhesion layer may include at least one selected from the group consisting of Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, and Zn for adhesion between the insulating substrate and the reflective layer. It can be formed from a metal or an alloy containing these metals. The reflective layer is formed by using one selected from the group containing O, N, Cox, Nox Cr, Cu, Ni, and Mo for one metal selected from the group containing Cr, Ni, Ti, Al, Ta. It is preferable to form.

상기 고정세 인쇄판은 상기 절연기재와 상기 반사층 사이에 밀착층을 형성할 수 있으며, Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함한 합금으로 형성할 수 있다.
The high-definition printing plate may form an adhesion layer between the insulating substrate and the reflective layer, and selected from the group containing Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn. It can be formed of at least one metal or an alloy containing these metals.

본 발명에 따르면, 레지스트 하부에 반사층을 삽입하여 노광 및 현상에 의해 형성되는 클리쉐(Cliche)의 형상이 하부에서 상부로 갈수록 좁아지도록 형성함으로써, 미세패턴 형성이 가능하고 패턴 해상도와 전사 특성을 크게 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 인쇄판의 신뢰성과 수율을 향상시킬 수 있고 제조 비용을 줄일 수 있다.According to the present invention, the shape of the Cliche formed by exposure and development by inserting a reflective layer under the resist becomes narrower from the lower part to the upper part, thereby forming a fine pattern and greatly improving pattern resolution and transfer characteristics. In addition to improving the reliability and yield of the printing plate, the manufacturing cost can be reduced.

그리고, 레지스트 하부에 형성된 반사층을 이용하여 클리쉐(Cliche) 패턴을 역 사다리꼴 형상으로 형성함으로써, 클리쉐(Cliche) 패턴의 무너짐을 방지할 수 있다.The Cliche pattern may be formed in an inverted trapezoidal shape by using a reflective layer formed under the resist, thereby preventing the Cliche pattern from collapsing.

또한, 기존에 사용하던 습식 식각 및 건식 식각 공정에 비해 미세패턴의 구현이 쉽고 깊이와 폭의 비율을 높여 패턴의 전사특성을 향상시킬 수 있다.In addition, compared with the conventional wet etching and dry etching processes, it is easier to implement a micropattern and improve the transfer characteristics of the pattern by increasing the ratio of depth and width.

또한, 패턴층 아래에 삽입된 반사층에 의해 기존의 레지스트 인쇄용 클리쉐(Cliche)에 비해 구조적으로 안정적이며 인쇄시 많은 반복과 양산을 통해서도 불량을 제거할 수 있고 수명을 기존대비 2배 이상 연장할 수 있다.
In addition, the reflective layer inserted under the pattern layer is structurally stable compared to the conventional resist printing Cliche, and can remove defects through many repetitions and mass production during printing, and can extend the service life more than twice. .

본 발명의 효과는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해되어 질 수 있을 것이다.
The effects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other effects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 종래 기술의 실시 형태에 따른 레지스트 프린팅 방법을 설명하기 위한 도면
도 2 내지 도 7은 종래 기술의 실시 형태에 따른 액정표시장치용 인쇄판의 제조 공정 단면도
도 8 내지 도 10은 종래 기술의 다른 실시 형태에 따른 액정표시장치용 인쇄판의 제조 공정 단면도
도 11은 도 8 내지 도 10에 도시된 액정표시장치용 인쇄판의 제조 방법의 공정 흐름도
도 12 내지 도 16은 본 발명의 바람직한 실시 예에 의한 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 공정 단면도
도 17 및 도 18은 종래 및 본 발명에 의한 인쇄판의 패턴 모양을 비교한 단면도
도 19는 종래 및 본 발명에 의한 인쇄판의 패턴 모양을 비교한 확대 사진1 is a view for explaining a resist printing method according to an embodiment of the prior art
2 to 7 are cross-sectional views of manufacturing steps of a printing plate for a liquid crystal display device according to an embodiment of the prior art.
8 to 10 are cross-sectional views of manufacturing steps of a printing plate for a liquid crystal display device according to another embodiment of the prior art.
FIG. 11 is a process flowchart of a manufacturing method of a printing plate for a liquid crystal display device illustrated in FIGS. 8 to 10.
12 to 16 are cross-sectional views of a manufacturing process of a high-definition printing plate for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
17 and 18 are cross-sectional views comparing the pattern shape of the printing plate according to the prior art and the present invention
Figure 19 is an enlarged photograph comparing the pattern shape of the printing plate according to the prior art and the present invention

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명되는 실시 예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙여 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In order to clearly explain the present invention in the drawings, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by similar reference numerals throughout the specification.

이하, 본 발명에서 실시하고자 하는 구체적인 기술내용에 대해 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

액정표시장치용 For liquid crystal display 고정세A fixed tax 인쇄판의 실시 예 Embodiment of the printing plate

도 12 내지 도 16은 본 발명의 바람직한 실시 예에 의한 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 공정 단면도이다.12 to 16 are cross-sectional views of a manufacturing process of a high-definition printing plate for a liquid crystal display according to a preferred embodiment of the present invention.

먼저, 도 12 및 도 13을 참조하여 설명하면, 스퍼터링(Sputtering) 공정이나 이배퍼레이터(Evaporator)를 이용하여 절연기재(310)상에 밀착층(320)을 형성한다. 여기서, 상기 스퍼터링(Sputtering)은 고전압에 의해 이온화된 아르곤 가스(Argon Gas)를 사용하여 타켓(Target)으로부터 금속입자를 떼어내어 금속 박막을 상기 절연기재(310)에 입히는 방법이고, 상기 이배퍼레이터(Evaporator)는 전자 빔(beam)이나 열저항 방식 등에 의해 금속박막을 상기 절연기재(310) 상에 입히는 장치이다.First, referring to FIGS. 12 and 13, the adhesion layer 320 is formed on the insulating substrate 310 using a sputtering process or an evaporator. Here, the sputtering is a method of removing a metal particle from a target by using an argon gas ionized by a high voltage to coat a metal thin film on the insulating base 310, and the evaporator An evaporator is a device for coating a metal thin film on the insulating base 310 by an electron beam, a heat resistance method, or the like.

상기 밀착층(320)은 상기 절연기재(310)와 이후 형성될 반사층(330)의 밀착을 위해 형성된 층으로, Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함하는 합금으로 형성할 수 있으며, 본 발명의 실시 예에서는 Cr으로 형성된 밀착층(320)을 예시로 제시한다. 상기 절연기재(310)는 통상적으로 유리 기판을 사용하는 것이 바람직하나 필름(Film), PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin)를 포함한 투과성 재질 중 하나를 사용할 수 있다.The adhesion layer 320 is a layer formed for adhesion between the insulating substrate 310 and the reflective layer 330 to be formed later. Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In , Zn may be formed of at least one metal selected from the group containing Zn or an alloy including these metals. In an embodiment of the present invention, the adhesion layer 320 formed of Cr is shown as an example. In general, the insulating substrate 310 preferably uses a glass substrate, but may be one of a transparent material including a film, a polycarbonate (PC), and a polyethylene terephthalate resin (PET).

그 다음, 도 14와 같이, 상기 밀착층(320) 상에 반사층(330)을 형성한다. 이때, 상기 반사층(330)은 이후의 노광 공정에서 조사되는 자외선을 반사하는 기능을 하며, Cr, Ni, Ti, Al, Ta을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종의 금속에 O, N, Cox, Nox Cr, Cu, Ni, Mo을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종을 포함하여 형성할 수 있으며, 스퍼터링(Sputtering) 공정이나 이배퍼레이터(Evaporator)를 이용하여 형성하는 것이 바람직하다.Next, as shown in FIG. 14, the reflective layer 330 is formed on the adhesion layer 320. In this case, the reflective layer 330 functions to reflect the ultraviolet rays irradiated in a subsequent exposure process, and includes O, N, Cox, and the like on one metal selected from the group consisting of Cr, Ni, Ti, Al, and Ta. It can be formed including one type selected from the group containing Nox Cr, Cu, Ni, and Mo, and it is preferable to form using a sputtering process or an evaporator.

이후, 도 15와 같이, 인쇄판의 패턴을 형성하기 위한 포토레지스트를 스핀(Spin)이나 스핀리스(Spinless)의 코터를 이용하여 상기 반사층(330) 상에 코팅한다. 이에 의해, 상기 반사층(330) 상부에 포토레지스트 막 또는 감광막(340)이 형성된다. 이때, 상기 감광막(340)은 포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성될 수 있다.Thereafter, as shown in FIG. 15, a photoresist for forming a pattern of a printing plate is coated on the reflective layer 330 by using a spin or spinless coater. As a result, a photoresist film or a photoresist film 340 is formed on the reflective layer 330. In this case, the photoresist 340 may be formed of a positive or negative photosensitive material.

이후, 상기 감광막(340) 상부에 조사장치를 이용하여 노광한 후 현상 및 커팅(Cutting) 공정을 진행하게 되면, 포토 마스크로 사용된 마스크 패턴과 상기 반사층(330)에서 반사된 빛에 의해 상기 감광막(340)이 제거되어 클리쉐(Cliche) 패턴층(341)을 형성하게 된다. 더 자세하게 설명하면, 노광 공정에서 자외선이 상기 감광막(340)을 통과하여 하부의 반사층(330)을 만나 상기 감광막(340) 하부에서 위쪽 방향으로 반사됨으로써, 도 16 및 도 18과 같이 패턴 상부로 갈수록 폭이 작아지는 사다리꼴 형상을 갖는 클리쉐(Cliche) 패턴층(341)을 형성하게 된다. 이와 같이, 본 발명에서는 상기 감광막(340)의 구조가 상부보다 하부가 선 폭이 커지는 효과를 볼 수 있어 인쇄판을 구조적으로 안정화할 수 있다.Subsequently, when the photosensitive layer 340 is exposed to an upper portion of the photoresist layer 340 by using an irradiation apparatus, and then a developing and cutting process is performed, the photoresist layer is formed by a mask pattern used as a photo mask and light reflected from the reflective layer 330. 340 is removed to form a Cliche pattern layer 341. In more detail, in the exposure process, ultraviolet rays pass through the photosensitive layer 340 to meet the lower reflective layer 330 and are reflected upward from the bottom of the photosensitive layer 340. A Cliche pattern layer 341 having a trapezoidal shape having a smaller width is formed. As described above, in the present invention, the structure of the photosensitive film 340 has a lower line width than an upper portion thereof, so that the width of the line may be structurally stabilized.

상기 클리쉐(Cliche) 패턴층(341)은 상기 감광막(340)의 감광성 물질과 상기 반사층(330)에 따라 다르게 노광 및 현상 되어 상기 감광성 물질에 따라 다른 모양을 가질 수 있다. 그리고, 상기 노광 공정 시 사용된 포토 마스크는 패턴이 담긴 필름 또는 글래스(Glass)를 사용할 수 있고, 상기 조사장치는 노광기, 얼라이너(Aligner), 레이저(Laser), 라이터(Writer), DMD(Digital Micromirror Device) 등을 포함한다.The Cliche pattern layer 341 may be exposed and developed differently according to the photosensitive material of the photoresist 340 and the reflective layer 330 to have a different shape according to the photosensitive material. The photomask used in the exposure process may use a film or glass containing a pattern, and the irradiation apparatus may include an exposure machine, an aligner, a laser, a writer, and a DMD (Digital). Micromirror Device) and the like.

한편, 본 발명에서는 상기 현상 및 제거 공정 후 상기 클리쉐(Cliche) 패턴층(341)과 상기 반사층(330)의 표면 밀착력을 높여주기 위해 베이킹(baking)과 같은 후공정을 진행할 수도 있다.
Meanwhile, in the present invention, after the developing and removing process, a post process such as baking may be performed to increase the surface adhesion between the Cliche pattern layer 341 and the reflective layer 330.

종래 및 본 발명의 패턴 형상 비교Comparison of Pattern Shapes of Conventional and Invention

도 17 및 도 18은 종래 및 본 발명에 의한 인쇄판의 패턴 모양을 비교한 단면도이고, 도 19는 종래 및 본 발명에 의한 인쇄판의 패턴 모양을 비교한 확대 사진이다.17 and 18 are cross-sectional views comparing the pattern shape of the printing plate according to the prior art and the present invention, and FIG. 19 is an enlarged photograph comparing the pattern shape of the printing plate according to the conventional and the present invention.

도 17을 참조하면, 투명 절연기판(410), 금속 층(420), 감광막(430)이 순차적으로 형성된 종래의 인쇄판은 상기 감광막(430)이 네가티브(Negative) 감광성 물질로 구성된 경우, 노광 및 현상 공정에 의해 형성된 클리쉐(Cliche) 패턴층(341)이 도 17과 같이 상부의 패턴 너비가 하부 패턴 너비보다 크게 형성된다. 즉, 하부에서 상부로 갈수록 패턴의 선 폭이 점점 더 넓게 형성되어 있다(도 19 참조). 이와 같이, 종래의 인쇄판은 깊이를 깊게 식각할수록 폭도 넓어지기 때문에 미세패턴을 갖는 인쇄판을 제작하기에 불리하여 패턴 해상도 및 전사 특성을 향상시키기 어렵다.Referring to FIG. 17, in the conventional printing plate in which the transparent insulating substrate 410, the metal layer 420, and the photosensitive film 430 are sequentially formed, when the photosensitive film 430 is formed of a negative photosensitive material, exposure and development are performed. In the Cliche pattern layer 341 formed by the process, an upper pattern width is formed larger than a lower pattern width as shown in FIG. 17. That is, the line width of the pattern is formed to become wider from the bottom to the top (see FIG. 19). As described above, the conventional printing plate has a wider width as it is etched deeper, which is disadvantageous in producing a printing plate having a fine pattern, and thus it is difficult to improve pattern resolution and transfer characteristics.

하지만, 본 발명의 인쇄판은 도 16과 같이 상기 클리쉐(Cliche) 패턴층(341)의 하부에 반사층(330)이 형성되어 있어 상기 반사층(330)에서 반사되는 빛에 의해 상기 감광막(330)이 추가로 식각되기 때문에 상기 클리쉐(Cliche) 패턴층(341)이 도 18과 같이 상부의 패턴 너비(b)가 하부 패턴 너비(a)보다 작게 형성된다. 즉, 패턴의 하부에서 상부로 갈수록 선 폭이 점점 좁아지게 된다(도 19 참조).However, in the printing plate of the present invention, as shown in FIG. 16, the reflective layer 330 is formed under the Cliche pattern layer 341 so that the photosensitive film 330 is added by the light reflected from the reflective layer 330. Since the Cliche pattern layer 341 is etched into, the upper pattern width b of the Cliche pattern layer 341 is smaller than the lower pattern width a, as shown in FIG. 18. In other words, the line width becomes narrower from the lower part of the pattern to the upper part (see FIG. 19).

이와 같이 구성된 본 발명의 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법은 레지스트 하부에 반사층을 삽입하여 노광 및 현상에 의해 형성되는 클리쉐(Cliche)의 형상이 하부에서 상부로 갈수록 좁아지도록 형성함으로써, 본 발명의 기술적 과제를 해결할 수가 있다.
The high-definition printing plate for a liquid crystal display device and the manufacturing method thereof of the present invention configured as described above are formed by inserting a reflective layer under the resist so that the shape of the Cliche formed by exposure and development becomes narrower from the bottom to the top. The technical problem of this invention can be solved.

이상에서 설명한 본 발명의 바람직한 실시 예들은 기술적 과제를 해결하기 위해 개시된 것으로, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자(당업자)라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가 등이 가능할 것이며, 이러한 수정 변경 등은 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.
Preferred embodiments of the present invention described above are disclosed to solve the technical problem, and those skilled in the art to which the present invention pertains (man skilled in the art) various modifications, changes, additions, etc. within the spirit and scope of the present invention. It will be possible to, and such modifications, changes, etc. will be considered to be within the scope of the following claims.

본 발명의 실시 예에서는 액정표시장치의 고정세 인쇄판을 예로 들어 설명하고 있으나, 이에 한정되지 않고 반도체 장치, 휴대용 단말기, TV 등의 모든 제품에 사용되는 인쇄판에도 동일하게 적용할 수 있다.
In the exemplary embodiment of the present invention, a high-definition printing plate of the liquid crystal display is described as an example, but the present invention is not limited thereto, and the same may be applied to the printing plate used in all products such as semiconductor devices, portable terminals, and TVs.

310 : 절연기재 320 : 밀착층
330 : 반사층
340 : 포토레지스트 층 또는 감광막 341 : 패턴층310: insulation substrate 320: adhesion layer
330: reflective layer
340 photoresist layer or photoresist 341 pattern layer

Claims (18)

(a) 절연기재상에 반사층을 형성하는 단계; 및
(b) 상기 반사층 상에 하부에서 상부로 갈수록 선 폭이 좁아지는 패턴층을 형성하는 단계;
를 포함하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
(a) forming a reflective layer on the insulating substrate; And
(b) forming a pattern layer on which the line width becomes narrower from the bottom to the top on the reflective layer;
Method for producing a high-definition printing plate for a liquid crystal display device comprising a.
제 1 항에 있어서, 상기 패턴층은:
사다리꼴 구조로 형성되는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the pattern layer is:
The manufacturing method of the high-definition printing plate for liquid crystal display devices formed in a trapezoidal structure.
제 1 항에 있어서, 상기 반사층은:
스퍼터링(Sputtering) 공정 또는 이배퍼레이터(Evaporator)를 이용하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the reflective layer is:
A method of manufacturing a high-definition printing plate for a liquid crystal display device formed by using a sputtering process or an evaporator.
제 1 항에 있어서, 상기 반사층은:
Cr, Ni, Ti, Al, Ta을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종의 금속에 O, N, Cox, Nox Cr, Cu, Ni, Mo을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종을 사용하여 형성되는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the reflective layer is:
Liquid crystal formed by using at least one metal selected from the group containing O, N, Cox, Nox Cr, Cu, Ni, and Mo in one metal selected from the group containing Cr, Ni, Ti, Al, Ta The manufacturing method of the high definition printing plate for display apparatuses.
제 1 항에 있어서, 상기 절연기재는:
글래스(Glass), 필름(Film), PC(Polycarbonate), PET(polyethylene terephthalate resin)를 포함한 투과성 재질 중 하나로 형성되는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the insulating substrate is:
A method of manufacturing a high definition printing plate for a liquid crystal display device, which is formed of one of a transparent material including glass, film, polycarbonate (PC), and polyethylene terephthalate resin (PET).
제 1 항에 있어서, 상기 고정세 인쇄판의 제조 방법은:
상기 절연기재와 상기 반사층 사이에 밀착층을 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the high-precision printing plate is manufactured by:
A method for manufacturing a high-definition printing plate for a liquid crystal display device, wherein an adhesion layer is formed between the insulating substrate and the reflective layer.
제 6 항에 있어서, 상기 밀착층은:
스퍼터링(Sputtering) 공정 또는 이배퍼레이터(Evaporator)를 이용하여 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 6, wherein the adhesive layer is:
A method of manufacturing a high-definition printing plate for a liquid crystal display device formed by using a sputtering process or an evaporator.
제 6 항에 있어서, 상기 밀착층은:
상기 절연기재와 상기 반사층의 밀착을 위해, Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함한 합금으로 형성되는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 6, wherein the adhesive layer is:
At least one metal selected from the group consisting of Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn or these metals for adhesion between the insulating substrate and the reflective layer The manufacturing method of the high-definition printing plate for liquid crystal display devices formed from the alloy containing.
제 1 항에 있어서, 상기 패턴층은:
상기 반사층 상에 감광막을 형성한 후 상기 감광막을 포토 마스크로 노광 및 현상하여 하부에서 상부로 갈수록 선 폭이 좁아지는 패턴을 형성하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the pattern layer is:
A method of manufacturing a high-definition printing plate for a liquid crystal display device, wherein after the photoresist film is formed on the reflective layer, the photoresist film is exposed and developed with a photo mask to form a pattern in which the line width becomes narrower from the bottom to the top.
제 9 항에 있어서, 상기 감광막은:
포지티브(Positive) 또는 네가티브(Negative) 감광성 물질로 형성되는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 9, wherein the photoresist film is:
A method of manufacturing a high-definition printing plate for a liquid crystal display device formed of a positive or negative photosensitive material.
제 9 항에 있어서,
상기 노광 공정 시 사용된 포토 마스크는 패턴이 담긴 필름 또는 글래스(Glass)를 사용하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 9,
The photomask used in the exposure process is a method of manufacturing a high-definition printing plate for a liquid crystal display device using a film or glass containing a pattern (Glass).
제 9 항에 있어서,
상기 현상 공정 후 상기 패턴층과 상기 반사층의 표면 밀착력을 높여주기 위해 베이킹(baking)과 같은 후공정을 진행하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판의 제조 방법.
The method of claim 9,
And a post-process such as baking to increase the surface adhesion between the pattern layer and the reflective layer after the developing process.
절연기재상에 형성된 반사층; 및
상기 반사층 상에 형성되며, 하부에서 상부로 갈수록 선 폭이 좁아지는 패턴층;
을 포함하는 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
A reflective layer formed on the insulating substrate; And
A pattern layer formed on the reflective layer and having a narrower line width from a lower portion to an upper portion;
High-definition printing plate for a liquid crystal display device comprising a.
제 13 항에 있어서, 상기 패턴층은:
사다리꼴 구조로 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
The method of claim 13, wherein the pattern layer is:
A high-definition printing plate for a liquid crystal display device formed in a trapezoidal structure.
제 13 항에 있어서, 상기 반사층은:
Cr, Ni, Ti, Al, Ta을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종의 금속에 O, N, Cox, Nox Cr, Cu, Ni, Mo을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종을 사용하여 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
The method of claim 13, wherein the reflective layer is:
Liquid crystal display formed using one kind selected from the group consisting of O, N, Cox, Nox Cr, Cu, Ni, and Mo in one metal selected from the group containing Cr, Ni, Ti, Al, Ta High-definition printing plate for the device.
제 13 항에 있어서, 상기 고정세 인쇄판은:
상기 절연기재와 상기 반사층 사이에 밀착층이 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
The printing plate of claim 13, wherein the high definition printing plate is:
A high-definition printing plate for a liquid crystal display device having an adhesion layer formed between the insulating substrate and the reflective layer.
제 16 항에 있어서, 상기 밀착층은:
Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함한 합금으로 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
The method of claim 16, wherein the adhesion layer is:
High-definition printing plate for liquid crystal display device formed of at least one metal selected from the group containing Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn or an alloy containing these metals .
제 16 항에 있어서, 상기 밀착층은:
상기 절연기재와 상기 반사층의 밀착을 위해, Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속 또는 이들 금속을 포함한 합금으로 형성된 액정표시장치용 고정세 인쇄판.
The method of claim 16, wherein the adhesion layer is:
At least one metal selected from the group consisting of Cu, Ag, Ni, Al, Cr, Ru, Re, Pb, Cr, Sn, In, Zn or these metals for adhesion between the insulating substrate and the reflective layer High-definition printing plate for liquid crystal display device formed of the alloy containing.
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