KR20120065836A - 스티레네이티드 페놀의 제조방법 - Google Patents

스티레네이티드 페놀의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 잔류 페놀 및 잔류 스티렌을 최소화하면서 생성되는 스티레네이티드 페놀 화합물 조성 중에서 트리 α-메틸스티레네이티드 페놀(trimer) 화합물의 함량이 65중량% 이상 되도록 하여 조성 선택성이 높고 열안정성 및 변색 안정성이 높은 스티레네이티디 페놀을 제조하는 방법을 제공한다.

Description

스티레네이티드 페놀의 제조방법{Method of preparing styrenated phenol}
본 발명은 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 페놀을 스티렌으로 알킬화 반응시킴으로써 스티레네이티드 페놀을 제조하는 방법에 관한 것이다.
합성고무 및 수지는 우수한 화학적, 물리적 성질로 인해 산업용뿐만 아니라 일상 생활에도 널리 사용되고 있다. 이러한 합성고무 및 수지를 제조하기 위해서는 원료 및 첨가제가 여러 종류 사용되는데 첨가제 중에서 원료 물질의 산화안정성을 높이기 위한 첨가제로서 산화방지제가 사용되는 것이 일반적이다.
이러한 산화방지제로는 아민계 산화방지제, 페놀계 산화방지제 등이 사용되며, 페놀계 산화방지제는 특히 열안정성이 우수하고 아민계 산화방지제와는 달리 비오염성 산화방지제로서 널리 사용된다. 대표적인 페놀계 산화방지제는 스티렌이 알킬화 반응에 의하여 페놀의 수소에 치환된 형태인 스티레네이티드 페놀을 예로 들 수 있다. 이러한 스티레네이티드 페놀의 제조방법은 페놀과 스티렌에 촉매를 사용하여 제조하는 방법이다. 촉매로서는 브뢴스테드산, 루이스산, 등이 사용된다. 이러한 산들은 제품에 잔류하여 스티레네이티드 페놀 제품의 변색을 유발하고, 제조 중에 미반응된 잔류 페놀과 잔류 스티렌의 과량 잔존하는 문제점이 있고, 또한 생성되는 화합물의 조성비가 사용되는 원료물질 및 촉매의 양에 따라 달라지는 문제점이 있었다.
일반적으로 페놀의 알킬화 반응에 의해 생성되는 스티레네이티드 페놀은 스티렌을 페놀 대비 2 당량 사용시 생성물의 조성비 중 스티렌이 하나 결합된 모노 α-메틸스티레네이티드 페놀(mono α-methylstyrenated phenol, MSP), 스티렌이 두 개 결합된 디 α-메틸스티레네이티드 페놀(di α-methylstyrenated phenol, DSP), 및 스티렌이 세 개 결합된 트리 α-메틸스티레네이티드 페놀(tri α-methylstyrenated phenol, TSP) 화합물이 MSP:DSP:TSP = 10~15:30~45:35~45 중량비로 생성된다.
이 경우, 조성비 중 트리머(trimer)의 함량을 선택적으로 늘리기 위해서는 스티렌 당량비를 3당량까지 증가시켜야 하며, 이 반응 조건에서 생성되는 화합물의 조성비는 MSP:DSP:TSP = 2~25:20~45:40~73 중량비로 증가될 수 있다. 그러나, 이 경우, 사용되는 스티렌의 당량비에 따라 미반응된 잔류 페놀이 과량 존재하는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제를 해결하기 위하여 도출된 것으로서, 잔류 페놀 및 잔류 스티렌을 최소화하면서 생성되는 스티레네이티드 페놀 화합물 조성 중에서 트리 α-메틸스티레네이티드 페놀(trimer) 화합물의 함량이 65중량% 이상 되도록 제조하는 방법을 제공하는데 본 발명의 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은
(1) 페놀 화합물에 산 촉매를 가하고 온도를 70~170℃로 올린 후 스티렌 화합물을 적가하며 반응시키는 단계;
(2) 반응이 종료된 후 산 촉매를 페놀 화합물에 대하여 0.001 ~ 0.01당량 추가하여 후반응시키는 단계; 및
(3) 반응 생성물을 중화하고 석출물을 여과하는 단계
를 포함하는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 일 예에서, 상기 산 촉매는 황산, p-TSA(para-toluene sulfonic acid), MSA(methanesulfonic acid), 인산, 폴리인산, 클레이 고체산 또는 강산성 이온교환수지가 사용된다.
또한, 본 발명의 일 예에서, 상기 (1)단계의 산 촉매는 반응물 페놀에 대하여 0.001 ~ 0.1당량 범위에서 사용된다.
또한, 본 발명의 일 예에서, 상기 (1)단계의 반응은 1 ~ 10시간 동안 진행된다..
또한, 본 발명의 일 예에서, 상기 (2)단계의 후반응은 0.1 ~ 2시간 동안 진행된다.
또한, 본 발명의 일 예에서, 상기 (3)단계의 중화는 탄산나트륨, 탄산칼슘, 수산화나트륨 및 수산화칼륨 중에서 선택된 1종 이상을 사용하여 진행된다.
또한, 본 발명의 일 예에서, 상기 얻어지는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol) 중에는 트리스티레네이티드 페놀의 함량이 65~85중량%이 포함된다.
본 발명에 따른 방법을 사용할 경우 트리스티레네이티드 페놀의 함량이 65% 이상되도록 선택적으로 합성이 가능하며, 이와 동시에 잔류 페놀 화합물 및 잔류 스티렌 화합물의 양을 최소화할 수 있어 최종 제품의 열안정성을 더욱 높일 수 있다. 아울러, 원료물질인 페놀 화합물 및 스티렌 화합물의 사용 비율에 따라 생성되는 조성비 변화를 최소화할 수 있으므로 균일한 생성물을 얻을 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 실시예 1에 따라 얻어진 생성물의 GC분석 결과이다.
도2는 본 발명에 따른 실시예 2에 따라 얻어진 생성물의 GC분석 결과이다. 도 3은 본 발명에 따른 실시예 3에 따라 얻어진 생성물의 GC분석 결과이다.
이하에서는 본 발명에 관하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명의 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법은
(1) 페놀 화합물에 산 촉매를 가하고 온도를 70~170℃로 올린 후 스티렌 화합물을 적가하며 반응시키는 단계;
(2) 반응이 종료된 후 산 촉매를 페놀에 대하여 0.001 ~ 0.01당량 추가하여 후반응시키는 단계; 및
(3) 반응 생성물을 중화하고 석출물을 여과하는 단계
를 포함하여 이루어진다.
본 발명의 원료 물질로는 페놀 화합물과 스티렌 화합물이 사용된다. 페놀 화합물로는 페놀 이외에 m-크레졸, p-크레졸, o-크레졸 등의 크레졸류, 2,5-크릴레놀, 3,5-크실레놀, 3,4-크실레놀, 2,3-크실레놀 등의 크실레놀류, m-에틸페놀, p-에틸페놀, o-에틸페놀, p-t-부틸페놀, p-옥틸페놀, 등의 알킬페놀류, p-메톡시페놀, m-메톡시페놀, 3,-디메톡시페놀, 2-메톡시-4-메틸페놀, m-에톡시페놀, p-에톡시페놀, m-프로폭시페놀, p-프로폭시페놀, m-부톡시페놀, p-부톡시페놀 등의 알코올시페놀류, 2-메틸-4-이소프로필레놀 등의 비스알킬페놀류, m-클로로페놀, p-클로로페놀, o-클로로페놀, 디히드록시비페닐, 비스페놀A, 페닐페놀, 레졸시놀, 나프톨 등의 방향족 히드록시 화합물 등이 페놀과 함께 단독 또는 혼합물로 사용될 수 있다.
또한, 스티렌 화합물로는 스티렌 이외에 α-메틸스티렌, o-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 3급-부틸스티렌, α-메틸비닐톨루엔, 디메틸스티렌, 클로로스티렌, 디클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 비닐나프탈렌 등이 스티렌과 함께 단독 또는 혼합물로 사용될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 산 촉매는 페놀 화합물과 스티렌 화합물의 알킬화 반응에 사용되는 일반적인 산 촉매는 제한없이 사용될 수 있으며, 예를 들어 황산, p-TSA(para-toluene sulfonic acid), MSA(methanesulfonic acid), 인산, 폴리인산, 클레이 고체산 또는 강산성 이온교환수지가 사용될 수 있고, 더욱 바람직하게는 황산이다.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 (1)단계의 산 촉매는 반응물 페놀 화합물에 대하여 0.001 ~ 0.1당량 범위에서 사용되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.001 ~ 0.05당량이다.
본 발명에서 “당량”이란 사용한 페놀 화합물의 무게를 그 분자량으로 나눈 것을 1당량으로 했을 때를 기준으로 스티렌 화합물과 산 촉매 등 다른 물질의 경우를 사용량 대비 분자량으로 나누어 페놀 화합물의 당량과 비교한 값을 말한다.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 (1)단계의 반응은 페놀 화합물과 스티렌 화합물의 반응이 충분히 이루어져 더 이상의 승온이 없을 때까지의 시간을 말하여, 바람직하게는 1 ~ 10시간 동안 진행된다..
또한, 본 발명에 있어서, 상기 (2)단계의 후반응은 추가되는 산 촉매에 따른 반응 시간으로써 후반응이 충분히 이루어질 수 있는 시간인 것이 바람직하고, 예를 들어 0.1 ~ 2시간 동안 진행된다.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 (3)단계의 중화는 산 촉매를 중화시키기 위하여 염기를 가하는 단계이다. 이 때, 사용되는 염기로는 특별히 한정하지 않으나, 탄산나트륨, 탄산칼슘, 수산화나트륨 및 수산화칼륨 중에서 선택된 1종 이상을 사용하여 진행될 수 있다.
본 발명의 제조방법에 따라 얻어지는 스티레네이티드 페놀의 일 예는 하기의 구조를 갖는다.
Figure pat00001
본 발명의 제조방법에 따라 제조된 화합물은 페놀 화합물에 스티렌 화합물 하나가 오로토 또는 파라 위치에 치환된 모노 스티레네이티드 페놀(MSP)과 두 개의 스티렌 화합물이 페놀 화합물의 오르토 파라, 오르토 오르토에 결합된 다이 스티레네이티드 페놀(DSP), 세 개의 스티렌 화합물이 페놀 화합물의 오르토 파라 위치에 결합된 트리 스티레네이티드 페놀(TSP)이 생성될 수 있으며, 각각의 생성물 비율은 사용되는 촉매의 종류나 반응온도에 따라 달라질 수 있다.
이와 같은 과정의 일 예를 화학식을 이용하면 도시하면 하기와 같다.
Figure pat00002

본 발명에서는 산 촉매를 사용하여 후반응을 시킴으로써 TSP의 비율을 65% 이상으로 선택적으로 합성할 수 있으며, 동시에 잔류 페놀을 최소화할 수 있다.
본 발명에서 산 촉매를 사용하여 페놀 화합물에 스티렌 화합물을 알킬화 반응시킬 때 반응온도에 따라 미반응 잔류 스티렌 화합물의 함량이 달라진다. 따라서 본 발명에서는 잔류 물질을 최소화하기 위하여 반응 종료 시점에 산 촉매를 소량 추가하여 미반응 물질을 최소화시킨다. 이 때 사용되는 추가 산 촉매는 페놀 원료에 대하여 0.001 ~ 0.01당량 사용되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.001 ~ 0.005당량이다.
본 발명의 방법에 의하여 생성되는 화합물은 사용되는 촉매와 사용되는 원료 물질인 스티렌 화합물의 사용량에 따라서 반응 후 미반응된 잔류 페놀 화합물과 잔류 스티렌 화합물의 비율이 달라지게 된다. 동량의 산 촉매를 사용하였을 경우 스티렌 화합물의 비율이 증가함에 따라 Trimer 함량이 증가한다. 반응물질인 스티렌 화합물의 비율을 페놀 대비 2.8 당량으로 사용하였을 경우 생성물 중 TSP의 양은 65~73% 생성되며, 미반응 페놀 화합물은 0%, 스티렌 화합물은 3% 이하로 잔존한다. 스티렌 화합물의 비율을 점차 낮추어 페놀 화합물 대비 2.5 당량으로 사용시 잔류 페놀 화합물은 1% 이하, 잔류 스티렌 화합물은 1% 이하의 비율로 잔존한다.
반응 전 잔존하는 미반응 스티렌 화합물을 완벽히 제거하기 위해서 반응 초기에 사용한 페놀 화합물 원료 대비 미량의 산 촉매를 추가하여 동일 반응 온도에서 후반응을 진행하면 미반응 스티렌 화합물이 1% 이하로 줄고 대신 Trimer의 함량은 증가된다.
반응이 종료된 후 중화를 위하여 염기를 사용한 산 촉매 당량 대비 약 1 당량을 물에 녹여 첨가한 후 중화하고 생성된 중화염은 여과필터를 통하여 제거한다.
이와 같은 과정에 의하여 생성되는 스티레네이티드 페놀은 미반응 잔류물이 거의 없고 Trimer의 비율이 최소 65% 이상이므로 조성물의 선택성이 우수하고 열안정성도 좋으며, 변색 가능성이 낮아지는 장점이 있다.
이하에서는 본 발명을 실시예에 의거하여 더욱 상세히 설명하나, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
< 실시예 1> 황산 촉매를 이용한 스티레네이티드 페놀의 제조
페놀(70g)에 황산 촉매 (0.525g, 0.0072eq)를 넣고 90℃까지 가열하고 스티렌 (217g, 2.8eq)을 90℃부터 120분 동안 서서히 적가하였다. 스티렌의 적가에 따라 반응 온도는 90℃부터 120℃까지 온도상승이 변화하였다. 스티렌 적가가 끝난 후 동일 반응온도에서 추가 1시간을 더 반응시킨 후 GC 분석을 하였다. GC 분석시 잔류페놀은 없으며 스티렌 잔량이 각각 3% 미만으로 잔존하기 때문에 미 반응물 스티렌을 제거하기 위하여 반응 온도를 110℃로 낮추고 반응물에 황산촉매를 초기 페놀 투입량 대비 0.001 당량 추가로 첨가하였다. 반응온도 110℃에서 60분간 더 반응시켰다. 잔류 스티렌은 추가 황산촉매에 의하여 반응이 추가적으로 진행되어 최소화됨을 GC분석을 통하여 확인하였다. (도 1 및 표 2 참조)
얻어진 화합물은 중화를 위하여 탄산나트륨을 사용한 황산 촉매 대비 1 당량(0.568g)을 증류수로 녹여 90-100℃에서 첨가한 후 60분간 중화하고 생성된 중화염은 감압농축을 통하여 수분을 제거한 후 여과필터를 사용하여 제거하였다. 이때 미량의 스티렌은 추가 반응 및 농축에 의해 제거됨을 확인하였다. 이와 같은 공정에 의하여 최종 화합물인 스티레네이티드 페놀 화합물을 얻을 수 있었으며, 각각의 조성비는 GC분석을 통하여 트리 스티레네이티드 페놀(TSP) 화합물이 전체 조성비 중 68-73%, 다이 스티레네이티드 페놀(DSP) 화합물이 20-25%, 모노 스티레네이티드 페놀(MSP) 화합물이 2-4%, 잔류페놀과 스티렌은 0%의 비율로 생성됨을(반응 전환율 99%이상, 순도 98% 이상) 확인하였다. 반응 조건을 조금씩 달리하여 여러 번의 실험을 하였으며, 각각의 반응 조건에 따른 생성물 비율은 표 1에 나타내었다.
황산촉매 사용 스티렌 사용량에 따른 생성물 조성물 변화비율 분석결과 (추가 황산 투입 전 결과)
분류 투입량 ( 당량 , eq ) 반응온도
(℃) 		GC 분석 (%)
페놀 스티렌 황산 스티렌 페놀 MSP DSP TSP Tetra -
#1 1 2.1 0.0036 90-100 0.18 0.4 13.45 43.55 42.21 -
#2 1 2.15 0.0036 90-100 0.10 0.51 13.30 42.14 43.76 -
#3 1 2.3 0.0036 90-100 2.46 0.36 11.87 37.77 47.37 -
#4 1 2.35 0.0072 110-120 0.03 0.21 8.64 36.47 54.36 -
#5 1 2.4 0.0072 110-120 0 0.34 7.26 34.12 58.28 -
#6 1 2.5 0.0072 110-120 0.13 0.22 5.95 34.25 59.24 -
#7 1 2.6 0.0072 110-120 0.41 0.13 4.62 28.49 62.48 -
#8 1 2.8 0.0072 110-120 1.75 0 3.60 23.36 66.75 4.55
< 실시예 2> p- TSA 촉매를 사용한 스티레네이티드 페놀 화합물의 제조
페놀(70g)에 p-TSA (1.02g, 0.0072eq)를 넣고 스티렌 (217g. 2.8eq)을 90℃부터 120분 동안 서서히 적가하였다. 스티렌의 적가에 따라 반응 온도는 90℃부터 100℃까지 온도상승이 변화하였다. 스티렌 적가가 끝난 후 동일 반응온도에서 추가 1시간을 더 반응시킨 후 GC 분석을 하였다. GC 분석시 잔류페놀은 없으며 스티렌 잔량이 각각 3% 미만으로 잔존하기 때문에 미 반응물 스티렌을 제거하기 위하여 반응물에 황산촉매를 초기 페놀 투입량 대비 0.001eq 추가로 첨가하였다. 반응온도 90℃에서 60분간 더 반응시켰다. 잔류 스티렌은 추가 황산촉매에 의하여 반응이 추가 진행되어 최소화됨을 GC분석을 통하여 확인하였다. (도 2 참조)
얻어진 화합물은 중화를 위하여 탄산나트륨을 사용한 황산촉매 대비 1 당량(0.568g)을 증류수로 녹여 90-100℃에서 첨가한 후 60분간 중화하고 생성된 중화염은 감압 농축을 통하여 수분을 제거한 후 여과필터를 사용하여 제거하였다. 이때 미량의 스티렌은 추가 반응 및 감압 농축에 의하여 제거됨을 확인하였다. 이와 같은 공정에 의하여 최종 화합물인 스티레네이티드 페놀 화합물을 얻을 수 있었으며, 각각의 조성비는 GC분석을 통하여 트리 스티레네이티드(TSP) 페놀 화합물이 전체 조성비 중 69.39%, 다이 스티레네이티드(DSP) 페놀 화합물이 22.13%, 모노 스티레네이티드(MSP) 페놀 화합물이 3.42%, 잔류페놀과 스티렌은 0%의 비율로 생성됨을(반응 전환율 99%이상, 순도 98% 이상) 확인하였다. 각각의 반응 조건에 따라 상기 비율은 차이가 있으며 정확한 생성물 비율은 표 2에 나타내었다.
< 실시예 3> MSA 촉매를 사용한 스티레네이티드 페놀 화합물의 제조
페놀(70g)에 MSA (0.515g, 0.0072eq)를 넣고 스티렌 (217g. 2.8eq)을 90℃부터 120분 동안 서서히 적가하였다. 스티렌의 적가에 따라 반응 온도는 90℃부터 100℃까지 온도 상승이 변화하였다. 스티렌 적가가 끝난 후 동일 반응온도에서 추가 1시간을 더 반응시킨 후 GC 분석을 하였다. GC 분석시 잔류페놀은 없으며 스티렌 잔량이 각각 3% 미만으로 잔존하기 때문에 미 반응물 스티렌을 제거하기 위하여 반응물에 황산촉매를 초기 페놀 투입량 대비 0.001eq 추가로 첨가였다. 반응온도 90℃에서 60분간 더 반응시켰다. 잔류 스티렌은 추가 황산촉매에 의하여 반응이 추가 진행되어 최소화됨을 GC분석을 통하여 확인하였다. (도 3 참조)
얻어진 화합물은 중화를 위하여 탄산나트륨을 사용한 황산촉매 대비 1 당량(0.568g)을 증류수로 녹여 90-100℃에서 첨가한 후 60분간 중화하고 생성된 중화염은 감압농축을 통하여 수분을 제거한 후 여과필터를 사용하여 제거하였다. 이때 미량의 스티렌은 추가 반응 및 농축에 의하여 제거됨을 확인하였다. 이와 같은 공정에 의하여 최종 화합물인 스티레네이티드 페놀 화합물을 얻을 수 있었으며, 각각의 조성비는 GC분석을 통하여 트리 스티레네이티드 페놀(TSP) 화합물이 전체 조성비 중 68.55%, 다이 스티레네이티드 페놀(DSP) 화합물이 20.15%, 모노 스티레네이티드 페놀 화합물(MSP)이 4.26%, 잔류 페놀과 스티렌은 0%의 비율로 생성됨을(반응 전환율 99%이상, 순도 98% 이상) 확인하였다. 각각의 반응 조건에 따라 상기 비율은 차이가 있으며 정확한 생성물 비율은 표 2에 나타내었다.
산촉매 변화시 스티레네이티드 페놀 화합물의 조성비 변화 분석결과
스티렌
( eq ) 		산촉매 반응온도 (℃) GC 분석 (%)
스티렌 페놀 MSP DSP TSP Tetra -
실시예 1 2.8 황산
0.0072eq		 90-120 0.53 0 3.80 22.42 68.06 5.18
추가 황산
0.001eq		 110 0 0 3.87 21.83 68.91 5.39
농축 후 130 0 0 3.48 21.63 69.29 5.60
실시예 2 2.8 p-TSA
0.0072eq		 90-100 1.60 0 3.88 22.86 66.88 4.73
추가 황산
0.001eq		 90 0.21 0 3.53 23.24 67.84 5.19
농축 후 130 0 0 3.42 22.13 69.39 5.06
실시예 3 2.8 MSA
0.0072eq		 90-100 2.23 0 4.64 21.32 66.58 5.24
추가 황산
0.001eq		 90 0.53 0 4.64 20.27 68.87 5.69
농축 후 130 0 0 4.33 20.45 69.48 5.74
상기에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의하여 제조된 스티레네이티드 페놀 화합물은 Trimer인 TSP의 함량이 65% 이상으로서 선택도가 매우 높으며, 이와 동시에 원료 물질인 페놀 및 스티렌의 잔류물을 최소화할 수 있음을 확인하였다. 이와 같이 제조된 스티레네이티드 페놀 화합물은 고무 및 플라시틱 제품의 산화방지제 분야와 고분자 첨가제 분야, 특히 유화제용 계면활성제 원료 등에 사용이 가능하다.

Claims (10)

  1. (1) 페놀 화합물에 산 촉매를 가하고 온도를 70~170℃로 올린 후 스티렌 화합물을 적가하며 반응시키는 단계;
    (2) 반응이 종료된 후 산 촉매를 페놀에 대하여 0.001 ~ 0.01당량 추가하여 후반응시키는 단계; 및
    (3) 반응 생성물을 중화하고 석출물을 여과하는 단계
    를 포함하는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 산 촉매는 황산, p-TSA(para-toluene sulfonic acid), MSA(methanesulfonic acid), 인산, 폴리인산, 클레이 고체산 또는 강산성 이온교환수지인 것을 특징으로 하는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 (1)단계의 산 촉매는 반응물 페놀에 대하여 0.001 ~ 0.1당량 범위에서 사용되는 것을 특징으로 하는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 (1)단계의 반응은 1 ~ 10시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 (2)단계의 후반응은 0.1 ~ 2시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 (3)단계의 중화는 탄산나트륨, 탄산칼슘, 수산화나트륨 및 수산화칼륨 중에서 선택된 1종 이상을 사용하여 진행되는 것을 특징으로 하는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 얻어지는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol) 중 트리스티레네이티드 페놀의 함량이 65~85중량%인 것을 특징으로 하는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 페놀 화합물은 페놀 이외에 m-크레졸, p-크레졸, o-크레졸, 2,5-크릴레놀, 3,5-크실레놀, 3,4-크실레놀, 2,3-크실레놀, m-에틸페놀, p-에틸페놀, o-에틸페놀, p-t-부틸페놀, p-옥틸페놀 p-메톡시페놀, m-메톡시페놀, 3,-디메톡시페놀, 2-메톡시-4-메틸페놀, m-에톡시페놀, p-에톡시페놀, m-프로폭시페놀, p-프로폭시페놀, m-부톡시페놀, p-부톡시페놀 등의 알코올시페놀류, 2-메틸-4-이소프로필레놀, m-클로로페놀, p-클로로페놀, o-클로로페놀, 디히드록시비페닐, 비스페놀A, 페닐페놀, 레졸시놀, 나프톨이 페놀과 함께 단독 또는 혼합물로 사용되는 것을 특징으로 하는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 스티렌 화합물은 스티렌 이외에 α-메틸스티렌, o-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 3급-부틸스티렌, α-메틸비닐톨루엔, 디메틸스티렌, 클로로스티렌, 디클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 비닐나프탈렌 등이 스티렌과 함께 단독 또는 혼합물로 사용되는 것을 특징으로 하는 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol)의 제조방법.
  10. 청구항 1 내지 청구항 9 항 중 어느 한 항에 의하여 제조된 스티레네이티드 페놀(styrenated phenol) 조성물.








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